JPH04302895A - Dynamic semiconductor storage device - Google Patents

Dynamic semiconductor storage device

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JPH04302895A
JPH04302895A JP3091707A JP9170791A JPH04302895A JP H04302895 A JPH04302895 A JP H04302895A JP 3091707 A JP3091707 A JP 3091707A JP 9170791 A JP9170791 A JP 9170791A JP H04302895 A JPH04302895 A JP H04302895A
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peripheral circuit
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circuit section
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  • Dram (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To provide a large capacity DRAM without sharply increasing the chip area and to improve a production yield of the peripheral circuit section. CONSTITUTION:Plural peripheral circuit sets 71 and 72 are provided as a peripheral circuit section 7 of the DRAM chip. Each of the sets 71 and 72 are divided into plural blocks Pij which can be replaced by the corresponding block of the other set and also by selecting the combination of the block Pij, which operates normally, a normally operating peripheral circuit section is configured.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

[発明の目的] [Purpose of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミック型メモリ
セルを集積した半導体記憶装置(DRAM)に係り、特
に周辺回路部の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device (DRAM) with integrated dynamic memory cells, and more particularly to improvements in peripheral circuitry.

【0002】0002

【従来の技術】DRAMは、半導体記憶装置の中で最も
大容量化に適しており、現在0.5μm デザインルー
ルを用いた16MビットDRAMがサンプル出荷され、
0.35〜0.4μm デザインルールを用いた64M
ビットDRAMが試作段階にある。今後更に高集積化が
進むと、21世紀初頭には、0.1μm デザインルー
ルを用いた4GMビットDRAMが出現するものと予想
される。
BACKGROUND OF THE INVENTION DRAM is the most suitable for increasing capacity among semiconductor memory devices, and currently samples of 16 Mbit DRAM using 0.5 μm design rule are being shipped.
64M using 0.35-0.4μm design rule
Bit DRAM is in the prototype stage. As the degree of integration continues to advance, it is expected that 4GM bit DRAMs using the 0.1 μm design rule will appear in the early 21st century.

【0003】デザインルールが0.1μm 以下になる
4Mビットレベル以上のDRAMでは、ゲート長0.1
μm 以下のMOSトランジスタが用いられ、そのチャ
ネル部の不純物数が102 のオーダーになる。この結
果、統計的揺らぎのためにしきい値電圧は設定値より大
きくずれ、トランジスタは正常動作しなくなる。コンタ
クト部も0.1μm 角以下になると、不純物数の揺ら
ぎによってその抵抗が無限大になる確率が大きくなる。
[0003] In a DRAM of 4 Mbit level or higher where the design rule is 0.1 μm or less, the gate length is 0.1 μm or less.
A MOS transistor with a size of less than μm is used, and the number of impurities in its channel portion is on the order of 10 2 . As a result, the threshold voltage deviates significantly from the set value due to statistical fluctuations, and the transistor no longer operates normally. When the contact portion is also less than 0.1 μm square, the probability that its resistance becomes infinite increases due to fluctuations in the number of impurities.

【0004】DRAMチップの中でこの様なMOSトラ
ンジスタの歩留まり低下の影響を最も受けるのは、メモ
リセルアレイ部やロウデコーダ,カラムデコーダ,セン
スアンプ等のコア部ではなく、周辺回路部である。その
理由は、メモリセルアレイ部やコア回路部は、同一回路
の繰り返しが多いために、所謂冗長回路技術により僅か
の面積増加で不良部分を正常動作部で置き換えることが
できるのに対し、周辺回路部は本質的にランダムロジッ
クであるためにこれが難しいからである。すなわち周辺
回路部に冗長技術を適用しようとすると、複数セットの
周辺回路部が必要となり、あるセット内に1箇所でもト
ランジスタ不良があるとそのセットは不良として他のセ
ットに置換しなければならないため、大容量化した場合
にはチップ面積の大幅な増加をもたらす。
In a DRAM chip, it is the peripheral circuit section, not the core section such as the memory cell array section, row decoder, column decoder, sense amplifier, etc., that is most affected by such a decrease in the yield of MOS transistors. The reason for this is that the same circuits are often repeated in the memory cell array section and core circuit section, so while it is possible to replace a defective section with a normally functioning section with a slight increase in area using so-called redundant circuit technology, the peripheral circuit section This is difficult because it is essentially random logic. In other words, if we try to apply redundancy technology to the peripheral circuit section, multiple sets of peripheral circuit sections are required, and if there is a defective transistor at even one place in a set, that set is considered defective and must be replaced with another set. , if the capacity is increased, the chip area will increase significantly.

【0005】図7はその様子を示している。図7は、周
辺回路を複数セット設けた場合に、各世代で周辺回路部
の歩留まりがどの様になるかを示している。横軸は、1
セットの周辺回路の不良率であり、DRAMの世代に対
応する。これによると、16Gビットレベルでは、1個
の周辺回路の不良率は40%にのぼるため、周辺回路が
3ないし4セット以上ないと歩留まり90%以上を確保
できない。
FIG. 7 shows this situation. FIG. 7 shows how the yield of the peripheral circuit section changes for each generation when a plurality of sets of peripheral circuits are provided. The horizontal axis is 1
This is the failure rate of peripheral circuits in a set, and corresponds to the generation of DRAM. According to this, at the 16 Gbit level, the failure rate of one peripheral circuit is as high as 40%, so a yield of 90% or more cannot be ensured unless there are three or four sets or more of peripheral circuits.

【0006】しかも、周辺回路1セット当りのチップに
対する面積は約8%と大きいため、セット数をこれだけ
増やすことは、20〜30%というチップ面積増につな
がる(図5の破線参照)。その結果、周辺回路部の面積
を周辺回路の動作確率で除した値、すなわち周辺回路の
コストに比例する値は、周辺回路の冗長がない場合と比
較して75%程度にしかならない(図6の破線参照)。
Moreover, since the area of one set of peripheral circuits relative to the chip is as large as about 8%, increasing the number of sets by this amount leads to an increase in the chip area of 20 to 30% (see the broken line in FIG. 5). As a result, the value obtained by dividing the area of the peripheral circuit section by the operating probability of the peripheral circuit, that is, the value proportional to the cost of the peripheral circuit, is only about 75% compared to the case where there is no redundancy in the peripheral circuit (Figure 6 ).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、デザイ
ンルール0.1μm という大容量DRAMでは、周辺
回路を構成するMOSトランジスタの歩留まり低下によ
り周辺回路部の歩留まりが低下し、周辺回路部を複数セ
ット設けると歩留まりは若干向上するもののチップ面積
が大きく増大する、という問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, in a large capacity DRAM with a design rule of 0.1 μm, the yield of the peripheral circuit section decreases due to the decrease in the yield of MOS transistors that constitute the peripheral circuit, and it is necessary to increase the number of peripheral circuit sections. Although providing a set slightly improves the yield, there is a problem in that the chip area increases significantly.

【0008】本発明は、チップ面積の大幅な増加をもた
らすことなく周辺回路部の歩留まり向上を図ったDRA
Mを提供することを目的とする。
The present invention provides a DRA that improves the yield of peripheral circuitry without significantly increasing the chip area.
The purpose is to provide M.

【0009】[発明の構成][Configuration of the invention]

【0010】0010

【課題を解決するための手段】本発明に係るDRAMは
、周辺回路部が複数セット設けられ、各セットは互いに
他のセット内の対応するブロックで代替可能な複数のブ
ロックに分割され、かつ、正常動作するブロックの組合
わせを選択することにより正常動作する周辺回路部が構
成されるようにしたことを特徴としている。
[Means for Solving the Problems] A DRAM according to the present invention is provided with a plurality of sets of peripheral circuit sections, each set is divided into a plurality of blocks that can be replaced with corresponding blocks in other sets, and The present invention is characterized in that a peripheral circuit section that operates normally is constructed by selecting a combination of blocks that operate normally.

【0011】[0011]

【作用】本発明によれば、1セットの周辺回路が複数の
ブロックに分割されて、ブロック単位で他のセットとの
間で代替可能としている。したがって、1セット内で1
箇所のトランジスタ不良があってもそのセット全体が不
良とされる従来の冗長回路方式に比べて、チップ面積の
大幅な増大をもたらすことなく周辺回路部の歩留まり向
上を図ることができる。
According to the present invention, one set of peripheral circuits is divided into a plurality of blocks, and each block can be replaced with another set. Therefore, within one set, 1
Compared to conventional redundant circuit systems in which the entire set is considered defective even if a transistor is defective in one location, it is possible to improve the yield of peripheral circuits without significantly increasing the chip area.

【0012】0012

【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明する
Embodiments Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.

【0013】図1は本発明の一実施例に係るDRAMチ
ップの全体構成を示す。
FIG. 1 shows the overall configuration of a DRAM chip according to an embodiment of the present invention.

【0014】メモリセルアレイ1は周知のように、1ト
ランジスタ/1キャパシタのダイナミック型メモリセル
がマトリクス配列されて構成されている。メモリセルア
レイ1には、複数本ずつのワード線とビット線が互いに
交差して配設され,メモリセルはワード線により駆動さ
れてビット線との間でデータの授受を行う。ロウデコー
ダ2はワード線選択を行うものであり、外部アドレスを
取り込んでロウデコーダ2の入力信号を発生するのがア
ドレスバッファ3(部分デコーダを含む)である。
As is well known, the memory cell array 1 is composed of one transistor/one capacitor dynamic memory cells arranged in a matrix. In the memory cell array 1, a plurality of word lines and bit lines are arranged to cross each other, and the memory cells are driven by the word lines and exchange data with the bit lines. The row decoder 2 selects a word line, and the address buffer 3 (including a partial decoder) takes in an external address and generates an input signal for the row decoder 2.

【0015】メモリセルアレイ1のビット線端部には読
み出されるデータを増幅するセンスアンプ4が設けられ
、またビット線のデータを選択的にデータ入出力線に伝
達するためのカラム選択信号を発生するカラムデコーダ
5が設けられている。データ入出力回路6はデータ入出
力線とデータ入出力ピンの間でデータの授受を行うバッ
ファ回路である。
A sense amplifier 4 is provided at the end of the bit line of the memory cell array 1 for amplifying read data, and also generates a column selection signal for selectively transmitting the data on the bit line to the data input/output line. A column decoder 5 is provided. The data input/output circuit 6 is a buffer circuit that exchanges data between the data input/output line and the data input/output pin.

【0016】周辺回路部7は、ロウアドレス・ストロー
ブ信号/RAS,カラムアドレス・ストローブ信号/C
AS,ライト・イネーブル信号/WE等の外部制御信号
により制御されて、アドレスバッファ3,ロウデコーダ
2,センスアンプ4,カラムデコーダ5およびデータ入
出力回路6を駆動する信号を順次発生するもので、その
基本構成はインバータチェーンによるクロック発生器で
ある。
The peripheral circuit section 7 receives a row address strobe signal /RAS and a column address strobe signal /C.
It is controlled by external control signals such as AS and write enable signal /WE, and sequentially generates signals that drive the address buffer 3, row decoder 2, sense amplifier 4, column decoder 5, and data input/output circuit 6. Its basic configuration is a clock generator using an inverter chain.

【0017】ここで周辺回路部7は、各セットがそれぞ
れ複数ブロックに分割された複数の周辺回路セットによ
り構成されている。
The peripheral circuit section 7 is composed of a plurality of peripheral circuit sets, each of which is divided into a plurality of blocks.

【0018】図2は、複数セットにより構成された周辺
回路部7の具体例を示している。図示の場合周辺回路部
7は、第1の周辺回路セット71 と第2の周辺回路セ
ット72 により構成されている。
FIG. 2 shows a specific example of the peripheral circuit section 7 composed of a plurality of sets. In the illustrated case, the peripheral circuit section 7 includes a first peripheral circuit set 71 and a second peripheral circuit set 72 .

【0019】第1の周辺回路セット71 は、5個のブ
ロックP11,P12,…,P15に分割されている。 最初のブロックP11は、/RAS入力(φIN) 後
、ある遅延をもってロウアドレスバッファ駆動信号(φ
out1) を発生する部分である。2番目のブロック
P12はロウアドレスバッファ3が活性化された後ある
遅延をもってロウデコーダ駆動信号(φout2) を
発生する部分である。3番目のブロックP13はロウデ
コーダ2が活性化された後、ある遅延をもってワード線
駆動信号(φout3) を発生する部分である。4番
目のブロックP14はワード線駆動信号が出力された後
、ある遅延をもってセンスアンプ4を活性化する信号(
φout4) を発生する部分である。5番目のブロッ
クP15は、RAS系の動作終了信号(φout5) 
を発生する部分である。
The first peripheral circuit set 71 is divided into five blocks P11, P12, . . . , P15. The first block P11 receives the row address buffer drive signal (φIN) with a certain delay after /RAS input (φIN).
This is the part that generates out1). The second block P12 is a portion that generates a row decoder drive signal (φout2) with a certain delay after the row address buffer 3 is activated. The third block P13 is a portion that generates a word line drive signal (φout3) with a certain delay after the row decoder 2 is activated. The fourth block P14 outputs a signal (
This is the part that generates φout4). The fifth block P15 is a RAS system operation end signal (φout5)
This is the part that generates.

【0020】第2の周辺回路72 は、同様に5個のブ
ロックP21,P22,…,P25に分割されている。
The second peripheral circuit 72 is similarly divided into five blocks P21, P22, . . . , P25.

【0021】以上に示したブロックPijのiはセット
番号,jはブロック番号であって、第1,第2の周辺回
路セット71 ,72 の間で、ブロック番号jが同じ
ものは、同じ機能を有し、セット間で代替できるもので
ある。
In the block Pij shown above, i is the set number and j is the block number, and between the first and second peripheral circuit sets 71 and 72, those with the same block number j have the same function. and can be substituted between sets.

【0022】第1,第2の周辺回路セット71 ,72
 内の各ブロックPijの良否をあらかじめテストする
ために、テスト回路8が設けられている。各ブロックP
ijを個々にテスト回路8に接続するために、スイッチ
回路SWiI,SWiO、およびSWTI,SWTO 
が設けられている。
First and second peripheral circuit sets 71 and 72
A test circuit 8 is provided in order to test the quality of each block Pij in advance. Each block P
In order to connect ij individually to the test circuit 8, switch circuits SWiI, SWiO and SWTI, SWTO are used.
is provided.

【0023】第1,第2の周辺回路セット71 ,72
 の対応する二つのブロックのうちいずれか一方を選択
して所望の周辺回路を構成できるように、各ブロックP
ijの入出力端子部にそれぞれフューズSWijI ,
SWijO が設けられている。フューズSWijI 
,SWijO は、正常動作するブロックを各駆動信号
φout1〜φout5の出力端子に接続し、正常動作
しないブロックは切り離すように、テスト回路8による
テスト結果に応じて不要な部分が切断される。これらフ
ューズSWijI,SWijO は、現実のフューズで
はなく、テスト回路8がその機能をもっていてもよい。
First and second peripheral circuit sets 71 and 72
Each block P can be selected to configure a desired peripheral circuit by selecting one of the two corresponding blocks
Fuse SWijI,
SWijO is provided. Fuse SWijI
, SWijO connects blocks that operate normally to the output terminals of the drive signals φout1 to φout5, and disconnects unnecessary portions according to the test results by the test circuit 8, so that blocks that do not operate normally are disconnected. These fuses SWijI and SWijO may not be actual fuses, but the test circuit 8 may have their functions.

【0024】具体的に例えば、ブロックP12,P15
,P24が正常動作しない場合には、φIN−P11−
φout1−P22−φout2−P13−φout3
−P14−φout4−P25−φout5という接続
によって正常動作する周辺回路が構成される。これによ
り周辺回路部から発生されるクロックのタイミングは、
図4のようになる。
Specifically, for example, blocks P12 and P15
, P24 does not operate normally, φIN-P11-
φout1-P22-φout2-P13-φout3
The connections -P14-φout4-P25-φout5 constitute a peripheral circuit that operates normally. As a result, the timing of the clock generated from the peripheral circuit section is
The result will be as shown in Figure 4.

【0025】この実施例の場合、各ブロックPijはそ
れ自身増幅機能を有するディメンジョンに設計されてお
り、セット数が1個増えると、DRAMチップ面積が約
9%増える。
In this embodiment, each block Pij is designed to have a dimension that has an amplification function, and when the number of sets increases by one, the DRAM chip area increases by about 9%.

【0026】この実施例による周辺回路セット数と、チ
ップ面積増加および周辺回路部の動作確率との関係を図
5に示し、同じく周辺回路セット数と周辺回路部のコス
トの関係を図6に示す。これらの図で従来の冗長回路方
式により周辺回路セットを設けた場合を破線で示してあ
る。図5から明らかなように、この実施例によれば周辺
回路セット数が従来と同じでも周辺回路部の動作確率す
なわち歩留まりは大幅に向上する。
FIG. 5 shows the relationship between the number of peripheral circuit sets and the increase in chip area and the operation probability of the peripheral circuit section according to this embodiment, and FIG. 6 shows the relationship between the number of peripheral circuit sets and the cost of the peripheral circuit section. . In these figures, the case where a peripheral circuit set is provided using a conventional redundant circuit system is indicated by a broken line. As is clear from FIG. 5, according to this embodiment, even if the number of peripheral circuit sets is the same as the conventional one, the operating probability of the peripheral circuit section, that is, the yield, is significantly improved.

【0027】また、図6から明らかなようにこの実施例
では、周辺回路が2セットの時、コストに比例する値が
最小(その値は68)となり、その時の周辺回路部のト
ータルの面積は、DRAMチップ全体の面積の9[%]
×2=18[%]となる。これに対して従来例では、3
セットで最小(その値は75)となり、その時の周辺回
路部のトータルの面積は、8[%]×3=24[%]と
なるから、この実施例では従来と比較して6%小さいチ
ップ面積で7%安いコストが実現できる。
Furthermore, as is clear from FIG. 6, in this embodiment, when there are two sets of peripheral circuits, the value proportional to cost is the minimum (the value is 68), and the total area of the peripheral circuit section at that time is , 9% of the entire DRAM chip area
×2=18[%]. In contrast, in the conventional example, 3
The set is the smallest (its value is 75), and the total area of the peripheral circuit section at that time is 8 [%] x 3 = 24 [%], so in this example, the chip is 6% smaller than the conventional one. A cost reduction of 7% can be achieved based on area.

【0028】図3は、本発明の第2の実施例の周辺回路
部の構成である。図2の実施例と対応する部分には図2
と同一符号を付して詳細な説明は省略する。この実施例
の場合、周辺回路部は3個のセット71 ,72 およ
び73により構成されている。各周辺回路セットが5個
のブロックPijにより構成される事は先の実施例と同
様であるが、この実施例では各ブロックPijはそれ自
身は増幅機能を持つディメンジョンにはなく、2個のブ
ロックを並列に接続して初めて動作が可能になる。した
がって予めテスト回路8により各ブロックPijの良否
をチェックして、対応する3個のブロックのうち正常動
作する2個のブロックを用いて、周辺回路を構成する。
FIG. 3 shows the configuration of a peripheral circuit section according to a second embodiment of the present invention. The parts corresponding to the embodiment in FIG. 2 are shown in FIG.
The same reference numerals will be used to omit the detailed explanation. In this embodiment, the peripheral circuit section consists of three sets 71, 72 and 73. The fact that each peripheral circuit set is composed of five blocks Pij is the same as in the previous embodiment, but in this embodiment, each block Pij itself is not in the dimension that has the amplification function, but is composed of two blocks. Operation becomes possible only when connected in parallel. Therefore, the quality of each block Pij is checked in advance by the test circuit 8, and the peripheral circuit is constructed using two normally operating blocks among the three corresponding blocks.

【0029】例えば、ブロックP12,P24,P15
が正常動作しない場合、この実施例では次のような接続
を行う。かっこ内が並列接続されるブロックを示してい
る。
For example, blocks P12, P24, P15
If it does not operate normally, the following connection is made in this embodiment. Blocks in parentheses indicate blocks connected in parallel.

【0030】φIN−(P11/P21)−φout1
−(P22/P32)−φout2−(P13/P23
)−φout3−(P14/P34)−φout4−(
P25/P35)−φout5この実施例によっても、
先の実施例とほぼ同様の効果が得られる。
[0030]φIN-(P11/P21)-φout1
-(P22/P32)-φout2-(P13/P23
)-φout3-(P14/P34)-φout4-(
P25/P35)-φout5 Also according to this example,
Almost the same effects as in the previous embodiment can be obtained.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、周辺
回路セットをブロック分割してブロック単位で良否を判
断してそれらの組み合わせにより最終的な周辺回路を構
成するから、周辺回路セットの数が従来と同じでも、周
辺回路部の歩留まりを従来より大幅に向上させたDRA
Mを得ることができる。
As described above, according to the present invention, the peripheral circuit set is divided into blocks, the quality of each block is determined, and the final peripheral circuit is constructed by combining them. Although the number is the same as the conventional one, the yield of the peripheral circuit section is significantly improved compared to the conventional DRA.
You can get M.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明のDRAMの概略構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a DRAM of the present invention.

【図2】第1の実施例の周辺回路部の構成を示す図。FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a peripheral circuit section of the first embodiment.

【図3】第2の実施例の周辺回路部の構成を示す図。FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a peripheral circuit section of a second embodiment.

【図4】周辺回路部により得られる出力クロックのタイ
ミングを示す図。
FIG. 4 is a diagram showing the timing of an output clock obtained by a peripheral circuit section.

【図5】第1の実施例によるセット数とチップ面積およ
び周辺回路動作確率の関係を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the number of sets, chip area, and peripheral circuit operation probability according to the first embodiment.

【図6】第1の実施例によるセット数と周辺回路部コス
トの関係を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the number of sets and peripheral circuit cost according to the first embodiment.

【図7】従来の冗長回路技術を用いたDRAMの周辺回
路の歩留まりを示す図。
FIG. 7 is a diagram showing the yield of DRAM peripheral circuits using conventional redundant circuit technology.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリセルアレイ、 2…ロウデコーダ、 3…アドレスバッファ、 4…センスアンプ、 5…カラムデコーダ、 6…入出力回路、 7…周辺回路部、 71 ,72 ,73 …周辺回路セット、8…テスト
回路、 Pij…ブロック。 SWijI ,SWijO …フューズ、SWiI,S
WiO,SWTI ,SWTo …スイッチ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Memory cell array, 2...Row decoder, 3...Address buffer, 4...Sense amplifier, 5...Column decoder, 6...Input/output circuit, 7...Peripheral circuit section, 71, 72, 73...Peripheral circuit set, 8...Test Circuit, Pij…block. SWijI, SWijO...Fuse, SWijI,S
WiO, SWTI, SWTo...Switch.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ワード線とビット線が互いに交差して配設
され,ワード線により駆動されてビット線との間でデー
タの授受を行うダイナミック型メモリセルがマトリクス
配列されたメモリセルアレイと、前記ワード線を選択す
るロウデコーダと、前記ロウデコーダの入力信号を発生
するアドレスバッファと、前記ビット線に読み出される
データを増幅するセンスアンプと、前記ビット線のデー
タを選択的にデータ入出力線に伝達するためのカラム選
択信号を発生するカラムデコーダと、前記データ入出力
線とデータ入出力ピンの間でデータの授受を行うデータ
入出力回路と、外部制御信号により制御されて前記アド
レスバッファ,ロウデコーダ,センスアンプ,カラムデ
コーダおよびデータ入出力回路を活性化する信号を順次
発生する周辺回路部とを備え、前記周辺回路部は複数セ
ット設けられ、各セットは互いに他のセット内の対応す
るブロックで代替可能な複数のブロックに分割され、か
つ、正常動作するブロックの組合わせを選択することに
より正常動作する周辺回路部が構成される、ことを特徴
とするダイナミック型半導体記憶装置。
1. A memory cell array in which word lines and bit lines are arranged to cross each other, and dynamic memory cells are arranged in a matrix and are driven by the word lines and exchange data with the bit lines; A row decoder that selects a word line, an address buffer that generates an input signal for the row decoder, a sense amplifier that amplifies data read to the bit line, and selectively transfers data on the bit line to a data input/output line. A column decoder that generates a column selection signal for transmission, a data input/output circuit that exchanges data between the data input/output line and the data input/output pin, and an external control signal that controls the address buffer and row. A peripheral circuit section that sequentially generates signals for activating a decoder, a sense amplifier, a column decoder, and a data input/output circuit, and a plurality of sets of the peripheral circuit section are provided, and each set corresponds to a corresponding block in the other set. What is claimed is: 1. A dynamic semiconductor memory device comprising: a peripheral circuit section which is divided into a plurality of blocks that can be replaced with each other; and a peripheral circuit section that operates normally is configured by selecting a combination of blocks that operate normally.
【請求項2】前記周辺回路部は、インバータチェーンに
より構成されて、/RAS入力によりロウアドレスバッ
ファ駆動信号を発生するブロック、このブロックの出力
を受けてロウデコーダ駆動信号を発生するブロック、こ
のブロックの出力を受けてワード線駆動信号を発生する
ブロック、このブロックの出力を受けてセンスアンプ活
性化信号を発生するブロックおよびこのブロックの出力
を受けてRAS系動作終了信号を発生するブロックに分
割され、複数セットに跨がって任意のブロックを選択し
て接続するためのフューズが各ブロックの入出力端子に
設けられていることを特徴とする請求項1記載のダイナ
ミック型半導体記憶装置。
2. The peripheral circuit section is configured of an inverter chain, and includes a block that generates a row address buffer drive signal in response to an /RAS input, a block that generates a row decoder drive signal in response to an output of this block, and this block. It is divided into a block that receives the output of this block and generates a word line drive signal, a block that receives the output of this block and generates a sense amplifier activation signal, and a block that receives the output of this block and generates a RAS system operation end signal. 2. The dynamic semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a fuse for selecting and connecting an arbitrary block across a plurality of sets at the input/output terminal of each block.
【請求項3】各ブロックの良否を判定するテスト回路を
有することを特徴とする請求項1記載のダイナミック型
半導体記憶装置。
3. The dynamic semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a test circuit for determining the quality of each block.
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