JPH0430172A - Manufacture of thin film and electrophotographic sensitive body - Google Patents

Manufacture of thin film and electrophotographic sensitive body

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JPH0430172A
JPH0430172A JP13523790A JP13523790A JPH0430172A JP H0430172 A JPH0430172 A JP H0430172A JP 13523790 A JP13523790 A JP 13523790A JP 13523790 A JP13523790 A JP 13523790A JP H0430172 A JPH0430172 A JP H0430172A
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JP
Japan
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thin film
hydrophobic substance
substrate
aluminum
present
Prior art date
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Application number
JP13523790A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Komon
小門 宏
Katsuyoshi Hoshino
勝義 星野
Sakae Hiruta
蛭田 栄
Seiichiro Yokoyama
横山 清一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
Application filed by Idemitsu Kosan Co Ltd filed Critical Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To enhance uniformity and characteristics as a photosensitive body by heating a specified dispersion or solution to a specified temperature or higher. CONSTITUTION:A hydrophobic substance powder having an average particle diameter of <= 10mum, preferably, 1 - 0.01mum is dispersed or dissolved into an aqueous medium with a surfactant, except ferrocene, having an HLB value of 10.0 - 20.0, the obtained dispersion or solution is heated to >= 40 deg.C, and the thin film of the hydrophobic substance is formed on an aluminum substrate, and an electric charge generating material is used as the hydrophobic substance, thus permitting a thin uniform of the hydrophobic substance to be formed on a base metal, such as aluminum.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、薄膜および電子写真感光体の製造方法に関し
、詳しくは特定のHLB (親水性親油性バランス)値
を有する界面活性剤を用いるとともに加温処理すること
によって、均一な薄膜を効率よく製造する方法、ならび
にこの方法によってアルミニウム基板上に電荷発生層を
形成して、感光特性のすぐれた電子写真感光体を製造す
る方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for producing a thin film and an electrophotographic photoreceptor, and more particularly, the present invention relates to a method for producing a thin film and an electrophotographic photoreceptor, and more specifically, the present invention relates to a method for producing a thin film and an electrophotographic photoreceptor, and more specifically, the present invention relates to a method for producing a thin film and an electrophotographic photoreceptor, and more specifically, The present invention relates to a method for efficiently manufacturing a uniform thin film by heating treatment, and a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor with excellent photosensitive characteristics by forming a charge generation layer on an aluminum substrate using this method.

〔従来の技術および発明が解決しようとする課題〕従来
から、色素等の薄膜を製造する方法として、真空蒸着法
、熱CVD法、プラズマCVD法、超高真空(イオンビ
ーム、分子線エピタキシー)法。
[Prior art and problems to be solved by the invention] Conventionally, methods for manufacturing thin films of dyes, etc. include vacuum evaporation, thermal CVD, plasma CVD, and ultra-high vacuum (ion beam, molecular beam epitaxy) methods. .

LB腹膜法キャスト法などが知られている。しかしなが
ら、これらの方法はいずれも色素等の材料を有機溶媒に
溶解させたりあるいは加熱するなどの操作を必要とする
ため、熱に弱い疎水性の物質を薄膜化することができな
かった。
The LB peritoneal cast method is known. However, since all of these methods require operations such as dissolving materials such as dyes in organic solvents or heating them, they have not been able to form thin films of hydrophobic substances that are sensitive to heat.

また、各種の疎水性有機物質のIITf14を形成する
ミセル電解法も知られている(電気化学協会(第54回
)春季大会F201)(1987)。このミセルミ解法
は、様々な疎水性物質の薄膜を製造することができ、工
業的に有利な方法として注目されている。しかし、酸化
還元基としてフェロセン基を導入する必要があり、この
ようなフェロセン基を有する界面活性剤の合成には手間
を要し、もっと簡易な方法が望まれていた。また、ミセ
ル電解法の原理に従うと、陽極にしかil膜を形成する
ことができないため、陽分極によって溶解してしまうア
ルミニウム電極(陰極)には製膜が極めて困難であった
Micelle electrolysis methods for forming IITf14 of various hydrophobic organic substances are also known (Electrochemical Society (54th) Spring Conference F201) (1987). This micelle solution method can produce thin films of various hydrophobic substances, and is attracting attention as an industrially advantageous method. However, it is necessary to introduce a ferrocene group as a redox group, and synthesis of a surfactant having such a ferrocene group requires time and effort, and a simpler method has been desired. Furthermore, according to the principle of micellar electrolysis, an IL film can only be formed on the anode, so it has been extremely difficult to form a film on an aluminum electrode (cathode), which is dissolved by anodic polarization.

一方、感光材料の分野ではアルミニウム基板への製膜が
望まれ、アルミニウム上へ簡単な手法で薄膜を形成する
ことのできる方法の開発が期待されている。
On the other hand, in the field of photosensitive materials, film formation on aluminum substrates is desired, and the development of a simple method for forming thin films on aluminum is expected.

このような状況下で、近年、HLB値10.0〜20.
0の界面活性剤(フェロセン誘導体を除く)によって平
均粒子径10μm以下の疎水性物質粉末を水性媒体中に
分散あるいは可溶化することによって得られた分散液あ
るいは溶液を通電処理し、陰極電極上に前記疎水性物質
薄膜を形成する方法が提案されている(Chem、Le
tt、、1iii、 1137 )。
Under these circumstances, in recent years, HLB values have increased from 10.0 to 20.
A dispersion or solution obtained by dispersing or solubilizing a hydrophobic substance powder with an average particle size of 10 μm or less in an aqueous medium using a surfactant (excluding ferrocene derivatives) of A method of forming the hydrophobic substance thin film has been proposed (Chem, Le
tt,, 1iii, 1137).

しかしながら、この方法で形成される薄膜は、均一性が
必ずしも充分でなく、またこれを電子写真の感光体とし
て用いても、感光特性が不充分であって、実用に適した
ものではなかった。また、この方法では当然ながら、電
力が必要であり、基板は導電体でなければならなかった
。なお、上記方法で得られた薄膜を感光体に応用するこ
とによって、それ以前の製膜方法によるものよりも良好
な感光特性が得られたが、実用化するためには更に改善
が求められていた。このような特性改善の他に、従来の
ミセル電解法に基づく薄膜製造技術には、製膜時の電解
操作に伴う電極の接続、電力供給などの煩雑な手間も必
要であった。
However, the thin film formed by this method does not necessarily have sufficient uniformity, and even when used as a photoreceptor for electrophotography, the photosensitive characteristics are insufficient and it is not suitable for practical use. Furthermore, this method naturally requires power, and the substrate must be a conductor. By applying the thin film obtained by the above method to a photoreceptor, better photosensitive characteristics were obtained than those obtained by the previous film forming method, but further improvements are required for practical use. Ta. In addition to such property improvements, the conventional thin film manufacturing technology based on micelle electrolysis requires complicated efforts such as electrode connection and power supply associated with the electrolytic operation during film formation.

本発明者らは、上記ミセル電解による製膜法において、
電解操作が必要不可欠なものかなど残された問題点をさ
らに詳細に鋭意検討を重ねた。
The present inventors have discovered that in the film forming method using micellar electrolysis,
Remaining issues, such as whether electrolytic operation is essential, were investigated in more detail.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

その結果、上記分散液あるいは溶液を40°C以上、特
に40〜90°Cに加温するだけでアルミニウム板等の
基体上に製膜でき、得られる薄膜の均一性ならびに感光
体特性が飛躍的に向上することを見出した。本発明は、
この知見に基いて完成したものである。
As a result, a film can be formed on a substrate such as an aluminum plate by simply heating the dispersion or solution above 40°C, especially 40 to 90°C, and the uniformity of the resulting thin film and photoreceptor properties are dramatically improved. found that it improved. The present invention
It was completed based on this knowledge.

すなわち本発明は、平均粒径10μm以下の疎水性物質
粉末を水性媒体中でHLB値1O00〜20.0の界面
活性剤(フェロセン誘導体を除く)によって分散あるい
は可溶化し、次いで得られた分散液あるいは溶液を40
°C以上に加温し、基板上に前記疎水性物質、i!膜を
形成することを特徴とする薄膜の製造方法を提供するも
のである。さらにまた本発明は、基板としてアルミニウ
ム板を用い、疎水性物質として電荷発生物質(CGMと
略す)を用いて、上記の薄膜の製造方法により作製した
薄膜を電子写真感光体の電荷発生層(CGLと略す)と
することを特徴とする電子写真感光体の製造方法を提供
するものである。
That is, the present invention involves dispersing or solubilizing a hydrophobic substance powder with an average particle size of 10 μm or less in an aqueous medium with a surfactant (excluding ferrocene derivatives) having an HLB value of 1000 to 20.0, and then dispersing the resulting dispersion. Or add the solution to 40
Heating above °C, the hydrophobic substance, i! The present invention provides a thin film manufacturing method characterized by forming a film. Furthermore, the present invention provides a charge generating layer (CGL) of an electrophotographic photoreceptor using an aluminum plate as a substrate and a charge generating substance (abbreviated as CGM) as a hydrophobic substance. The present invention provides a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor, characterized in that:

本発明の方法における分散あるいは可溶化の対象、すな
わち薄膜の素材原料としては疎水性物質粉末を用いる。
Hydrophobic substance powder is used as the object to be dispersed or solubilized in the method of the present invention, that is, as the raw material for the thin film.

この疎水性物質粉末は、平均粒子径が10μm以下、好
ましくは1〜0.01μm程度のものである。平均粒子
径が10μmを超えるものでは、水性媒体中に分散、可
溶化するのに時間がかかり、また均一な分散、可溶化が
困難になるなど様々な問題が生じる。上記疎水性物質粉
末の種類は、形成すべき薄膜の用途、特に電子写真感光
体としての用途に応じて適宜選定すればよく、有機物質
、無機物質を問わず様々なものを挙げることができる0
本発明の電子写真感光体の製造方法にあっては、とりわ
けこの疎水性物質は、CGMであることが好都合である
。具体例を挙げると、有機物質としては、フタロシアニ
ン、フタロシアニンの金属錯体およびこれらの誘導体(
例えば、銅錯体、クロロアルミニウム錯体、バナジン酸
錯体、クロロインジウム錯体など)、ナフタロシアニン
、ナフタロシアニンの金属錯体およびこれらの誘導体、
ポルフィリン、ポルフィリンの金属錯体およびこれらの
誘導体、ペリレン、ペリレンの金属錯体およびこれらの
誘導体、アゾ色素、キナクリドン、ビオロゲン、スーダ
ンなどの光メモリー用色素や有機色素をはじめ1,1°
−ジヘプチルー4.4°−ビビリジニウムジブロマイド
This hydrophobic substance powder has an average particle diameter of 10 μm or less, preferably about 1 to 0.01 μm. If the average particle size exceeds 10 μm, various problems arise, such as it takes time to disperse and solubilize in an aqueous medium, and uniform dispersion and solubilization become difficult. The type of the hydrophobic substance powder may be appropriately selected depending on the use of the thin film to be formed, especially the use as an electrophotographic photoreceptor, and various types can be mentioned, regardless of whether it is an organic substance or an inorganic substance.
In the method for producing an electrophotographic photoreceptor of the present invention, it is particularly advantageous for the hydrophobic substance to be CGM. To give specific examples, examples of organic substances include phthalocyanine, metal complexes of phthalocyanine, and derivatives thereof (
For example, copper complexes, chloroaluminum complexes, vanadate complexes, chloroindium complexes, etc.), naphthalocyanine, metal complexes of naphthalocyanine and derivatives thereof,
Porphyrin, metal complexes of porphyrin and their derivatives, perylene, metal complexes of perylene and their derivatives, azo dyes, quinacridone, viologen, photomemory dyes such as sudan, and organic dyes, as well as 1,1°
-Diheptyl-4.4°-biviridinium dibromide.

1、 1”−ジドデシル−4,4°−ビピリジニウムジ
ブロマイドなどのエレクトロクロミック材料、6−ニト
ロ−1,3,3−1−リンチルスピロ(2°H−1°−
ベンゾビラン−2,2゛−インドリン)(通称スピロピ
ラン)などの感光材料(フォトクロミック材料)や光セ
ンサー材料、1−フェニルアゾ−2−ナフトールなどの
ジアゾタイプの感光材料をあげることができる。
Electrochromic materials such as 1,1''-didodecyl-4,4°-bipyridinium dibromide, 6-nitro-1,3,3-1-lynchylspiro (2°H-1°-
Examples include photosensitive materials (photochromic materials) such as benzobylane-2,2'-indoline (commonly known as spiropyran), optical sensor materials, and diazo type photosensitive materials such as 1-phenylazo-2-naphthol.

また、無機物質としては、Ti0g、C,CdS。In addition, examples of inorganic substances include Ti0g, C, and CdS.

W 031 F e、o 3+ Y to 3+ Zr
Ot、 A]zO3+ Cu S 。
W 031 F e, o 3+ Y to 3+ Zr
Ot, A]zO3+ CuS.

ZnS、TaOx、LiNb0+、Si:+N4など、
さらには各種の超電導酸化物など各種各様のものがある
ZnS, TaOx, LiNb0+, Si:+N4, etc.
Furthermore, there are various kinds of materials such as various superconducting oxides.

本発明の方法で用いる界面活性剤はフェロセン誘導体以
外のものであって、HLB値が10.0〜20.0.好
ましくは12〜18の界面活性剤である。非イオン性、
カチオン性およびアニオン性界面活性剤いずれも用いる
ことができる。このような界面活性剤の好適例をあげれ
ば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキル
フェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロ
ピレンアルキルエーテル等の4トイオン系界面活性剤を
初めとし、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸塩、塩化アルキルトリメチルアンモニウ
ム、脂肪酸ジエチルアミノエチルアミドなどをあげるこ
とができる。
The surfactant used in the method of the present invention is other than a ferrocene derivative, and has an HLB value of 10.0 to 20.0. Preferably it is a 12-18 surfactant. non-ionic,
Both cationic and anionic surfactants can be used. Preferred examples of such surfactants include four toionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylphenyl ether, and polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether. Examples include alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, alkyltrimethylammonium chlorides, and fatty acid diethylaminoethylamide.

本発明では、先ず上記の疎水性物質粉末および界面活性
剤を水性媒体中に混合する。この水性媒体としては、水
をはじめ、水とアルコールの混合液、水とアセトンの混
合液など様々な媒体をあげることができる。
In the present invention, first, the above-mentioned hydrophobic substance powder and surfactant are mixed into an aqueous medium. Examples of the aqueous medium include water, a mixture of water and alcohol, and a mixture of water and acetone.

この際の加える界面活性剤の量は、特に制限はないが、
最終的な濃度が10μM〜IM、好ましくは0.5mM
〜5mMの範囲になるように選定する。
The amount of surfactant added at this time is not particularly limited, but
Final concentration of 10 μM to IM, preferably 0.5 mM
It is selected to be in the range of ~5mM.

本発明の方法では、次に上記の界面活性剤、疎水性物質
粉末および水性媒体の混合物を、超音波。
In the method of the invention, the mixture of the above surfactant, hydrophobe powder and aqueous medium is then subjected to ultrasound treatment.

ホモジナイザーあるいは攪拌機等により、1時間〜7日
間程度充分に攪拌させる。この攪拌操作の間に、HLB
値10.0〜20.0を有する界面活性剤の作用によっ
て疎水性物質粉末が水性媒体中に均一に分散あるいは可
溶化して、分散液あるいは水溶液の状態にすることがで
きる。
Stir thoroughly using a homogenizer or a stirrer for about 1 hour to 7 days. During this stirring operation, HLB
By the action of the surfactant having a value of 10.0 to 20.0, the hydrophobic substance powder can be uniformly dispersed or solubilized in an aqueous medium to form a dispersion or an aqueous solution.

本発明の薄膜の製造方法では、上記のようにして得た均
一分散液あるいは水溶液に、所望に応じて支持塩を加え
ることもできる。この支持塩を加えない場合の方が支持
塩を含まない純度の高い薄膜を得ることができるが、製
膜過程および得られる薄膜の状況に応じて判断する。支
持塩を用いる場合、その支持塩の種類は、可溶化の進行
や基板への前記疎水性物質の析出を妨げないものであれ
ば特に制限はない。具体的には、一般広く支持塩として
用いられている硫酸塩(リチウム、カリウム、ナトリウ
ム、ルビジウム、アルミニウムなどの塩)、酢酸塩(リ
チウム、カリウム、ナトリウム。
In the thin film manufacturing method of the present invention, a supporting salt can be added to the homogeneous dispersion or aqueous solution obtained as described above, if desired. If this supporting salt is not added, a highly pure thin film containing no supporting salt can be obtained, but this is determined depending on the film forming process and the situation of the obtained thin film. When a supporting salt is used, the type of the supporting salt is not particularly limited as long as it does not hinder the progress of solubilization or precipitation of the hydrophobic substance onto the substrate. Specifically, sulfates (salts of lithium, potassium, sodium, rubidium, aluminum, etc.) and acetates (lithium, potassium, sodium, etc.) are commonly used as supporting salts.

ルビジウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、バリウム、アルミニウムなどの塩)、
ハロゲン化物塩(リチウム、カリウム。
rubidium, beryllium, magnesium, calcium,
salts such as strontium, barium, aluminum),
Halide salts (lithium, potassium.

ナトリウム、ルビジウム、カルシウム、マクネシウム、
アルミニウムなどの塩)、水溶性酸化物塩(リチウム、
カリウム、ナトリウム、ルビジウム。
Sodium, rubidium, calcium, magnesium,
salts such as aluminum), water-soluble oxide salts (lithium,
potassium, sodium, rubidium.

カルシウム、マグネシウム、アルミニウムなどの塩)が
好適である。この支持塩の添加量は、可溶化あるいは分
散している疎水性物質の析出を妨げない範囲であればよ
く、通常は上記界面活性剤のθ〜300倍程度の濃度、
好ましくは10〜200倍程度の濃度を目安とする。
salts of calcium, magnesium, aluminum, etc.) are preferred. The amount of this supporting salt to be added may be within a range that does not interfere with the precipitation of the hydrophobic substance that has been solubilized or dispersed, and is usually at a concentration of about θ to 300 times that of the above-mentioned surfactant.
Preferably, the concentration is about 10 to 200 times higher.

また均一分散液あるいは水溶液の状況に応じて過剰の疎
水性物質を遠心分離、デカンチーシラン。
In addition, depending on the situation of a homogeneous dispersion or aqueous solution, excess hydrophobic substances are centrifuged and decanthisilane is used.

静止沈降等にて除去した後、得られた液体中に基板を浸
して、静置したままあるいは若干の攪拌を加えなから製
膜処理する。製膜処理中に疎水性物質粉末を上記均一液
体に補充添加してもよく、あるいはその一部を系外へ抜
き出し、抜き出した液に疎水性物質粉末を加えて充分に
混合撹拌し、しかる後にこの液を系内へ戻す循環回路を
併設してもよい。
After removal by static sedimentation or the like, the substrate is immersed in the obtained liquid, and film formation is performed while it is left standing or without being slightly stirred. During the film forming process, the hydrophobic substance powder may be supplemented and added to the above homogeneous liquid, or a part of it may be extracted from the system, and the hydrophobic substance powder is added to the extracted liquid, thoroughly mixed and stirred, and then A circulation circuit for returning this liquid to the system may also be provided.

この除用いる基板としては、各種のものが使用可能であ
るが、卑金属、例えばアルミニウム、亜鉛、錫、鉄、ニ
ッケル、マグネシウム等の金属やステンレス鋼等の合金
が好ましく、またそのほか銅、白金、金、銀、グラジ−
カーボン、導電性金属酸化物、有機ポリマー導電体等及
び結晶シリコン、アモルファスシリコン等の半導体を充
当することもできる。特にアルミニウム基板を用いるの
が好適である。
Various materials can be used as the substrate to be removed, but base metals, such as metals such as aluminum, zinc, tin, iron, nickel, and magnesium, and alloys such as stainless steel are preferable, and copper, platinum, and metal alloys are preferable. , silver, gray
Carbon, conductive metal oxides, organic polymer conductors, etc. and semiconductors such as crystalline silicon, amorphous silicon, etc. can also be used. In particular, it is suitable to use an aluminum substrate.

本発明に方法における製膜条件は、基板上に前記疎水性
物質の薄膜が生成する条件下に設定すればよい、このよ
うな条件は、状況に応じて様々に異なるが、具体的には
液温を40°C以上、好ましくは40〜90℃の範囲に
設定すればよい。
The film forming conditions in the method of the present invention may be set to conditions that produce a thin film of the hydrophobic substance on the substrate.Such conditions vary depending on the situation, but specifically, The temperature may be set at 40°C or higher, preferably in the range of 40 to 90°C.

本発明の方法で得られた薄膜には、さらに必要に応じて
、溶媒洗浄、100〜300℃テノヘーキング処理等の
後処理を行うことも有効である。
It is also effective to further perform post-treatments on the thin film obtained by the method of the present invention, such as solvent washing and tenohake treatment at 100 to 300° C., if necessary.

本発明では、以上のようにして得られた前記疎水性物質
の薄膜をCGLとして用いて、その上層に電荷移動層(
CTLと略す)を形成することも可能である。このCT
Lはバーコード、スピンコード法により作製することが
できる。またCTLの素材としては、PVK、  ヒド
ラゾン、ビストリフェニルアミンなどが挙げられる。
In the present invention, the thin film of the hydrophobic substance obtained as described above is used as a CGL, and a charge transfer layer (
It is also possible to form a CTL (abbreviated as CTL). This CT
L can be produced by a barcode or spin code method. Further, examples of CTL materials include PVK, hydrazone, bistriphenylamine, and the like.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明を実施例及び比較例によりさらに詳しく説
明する。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例1 250 ccの水に銅フタロシアニン(東京化成製)。Example 1 Copper phthalocyanine (manufactured by Tokyo Kasei) in 250 cc of water.

ポリオキシエチレンラウリルエーテル(花王■製。Polyoxyethylene lauryl ether (manufactured by Kao ■).

商品名:Br1j 35 、 HLB値18.0)及び
臭化リチウムをそれぞれ7mM、2mM、0.1Mにな
るように加えた。この混合液を超音波で30分間分散し
、その後、室温にて一昼夜攪拌した。さらに−昼夜静置
しこのち、その上澄液50ccを電解セルに入れ、基板
としてアルミニウム板を挿入し、セルの温度を室温から
90℃まで昇温しで薄膜を形成した。
(trade name: Br1j 35, HLB value 18.0) and lithium bromide were added to the solution at concentrations of 7 mM, 2 mM, and 0.1 M, respectively. This mixed solution was dispersed with ultrasonic waves for 30 minutes, and then stirred at room temperature all day and night. Further, the cell was allowed to stand for a day and night, after which 50 cc of the supernatant liquid was put into an electrolytic cell, an aluminum plate was inserted as a substrate, and the temperature of the cell was raised from room temperature to 90° C. to form a thin film.

実施例2〜5 実施例1において、セルの最終温度をそれぞれ80℃、
70℃、60℃、50℃としたこと以外は、すべて実施
例1と同様の操作を行った。
Examples 2 to 5 In Example 1, the final temperature of the cell was 80°C,
The same operations as in Example 1 were performed except that the temperatures were 70°C, 60°C, and 50°C.

実施例6 実施例4において臭化リチウムを入れなかったこと以外
は、実施例4と同様の操作を行った。
Example 6 The same operation as in Example 4 was performed except that lithium bromide was not added.

比較例1及び2 実施例1において、セルの最終温度をそれぞれ20℃、
30℃としたこと以外は、すべて実施例1と同様の操作
を行った。
Comparative Examples 1 and 2 In Example 1, the final temperature of the cell was 20°C and 20°C, respectively.
All operations were performed in the same manner as in Example 1 except that the temperature was 30°C.

以上の実施例1〜6及び比較例1. 2で得られた各薄
膜について、それぞれ製膜性、光沢1表面の均一性、吸
収ピーク波長、結晶系の観測結果並びに測定結果を、第
1表に示す。
Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 above. Table 1 shows the observation and measurement results of film formability, gloss 1 surface uniformity, absorption peak wavelength, and crystal system for each thin film obtained in step 2.

実施例7 実施例1で形成した薄膜をエタノールで充分洗浄した後
に、乾燥し、これを電荷発生層(CGL)として用いて
、このCGL上にポリビニルカルバゾールのクロロベン
ゼン溶液(濃度11重量%)をスピンコードし、厚さ6
〜8μmの電荷移動層(CTL)を形成した。このよう
にして、ポリビニルカルバゾールCTL/銅フタロシア
ニンCGL/アルミニウム電極からなる感光体を作成し
た。
Example 7 The thin film formed in Example 1 was thoroughly washed with ethanol and then dried. This was used as a charge generation layer (CGL), and a chlorobenzene solution of polyvinyl carbazole (concentration 11% by weight) was spun on the CGL. cord, thickness 6
A charge transport layer (CTL) of ~8 μm was formed. In this way, a photoreceptor consisting of polyvinylcarbazole CTL/copper phthalocyanine CGL/aluminum electrode was produced.

この感光体の性能評価を5P42B型試験機(川口電機
製)を用いて、下記の如く行った。
The performance of this photoreceptor was evaluated using a 5P42B tester (manufactured by Kawaguchi Electric) as described below.

即ち、上記感光体に一7kVでコロナ放電を30秒間行
って、感光体表面を負に帯電させた。
That is, corona discharge was applied to the photoreceptor at -7 kV for 30 seconds to negatively charge the surface of the photoreceptor.

この時の表面電位(Vd)が波長610nmまたは63
0nmの光(出力5μW)を照射して、半分の値(Vd
/2)になるまでの時間(秒)を求め、その間の光量(
光強度X時間、単位:μJ/d)を波長610nmまた
は63onmの光に対する感光体の指標とした。第2表
にこの性能評価結果を示す。
At this time, the surface potential (Vd) is at a wavelength of 610 nm or 63 nm.
By irradiating 0nm light (output 5μW), half the value (Vd
/2), and find the amount of light (in seconds) during that time.
Light intensity x time (unit: μJ/d) was used as an index of the photoreceptor for light with a wavelength of 610 nm or 63 onm. Table 2 shows the results of this performance evaluation.

実施例8〜1I CGLとしてそれぞれ実施例2〜5の薄膜を用いたこと
以外は、実施例6と同様の操作を行った。
Examples 8 to 1I The same operation as in Example 6 was performed except that the thin films of Examples 2 to 5 were used as CGLs, respectively.

それぞれの性能評価結果を第2表に示す。The performance evaluation results for each are shown in Table 2.

(以下余白) 〔発明の効果〕 以上の如く、本発明の方法によれば、アルミニウム等の
卑金属上に疎水性物質の均一な薄膜を形成することがで
き、感光材料等への応用が可能となった。
(The following is a blank space) [Effects of the Invention] As described above, according to the method of the present invention, a uniform thin film of a hydrophobic substance can be formed on base metals such as aluminum, and it can be applied to photosensitive materials, etc. became.

また、本発明の方法は、一般に汎用されている界面活性
剤を使用することができ、さらに所望の素材の均一なC
GLを有する感度の良好な電子写真感光体を容易かつ安
価に製造することができ、実用上極めて利用価値が高い
In addition, the method of the present invention can use commonly used surfactants, and furthermore, the method of the present invention can achieve uniform C of the desired material.
An electrophotographic photoreceptor having GL and good sensitivity can be manufactured easily and inexpensively, and has extremely high practical value.

さらに、本発明は、温度を加えるだけで製膜可能な薄膜
生成技術を提供するものであり、この薄膜生成技術を応
用することによって電子写真感光体の製造方法の格段の
発展が期待できるものである。しかも、電気を印加する
ことなく製膜できるため、電解装置や取出電極が不要で
あり、その結果感光体の製造工程が簡略化され、省エネ
ルギー化が可能となるだけでなく、製造コストを著しく
軽減でき、また絶縁性の基板にも製膜可能であるので光
メモリディスク等のポリマー基板にも薄膜形成を実際に
可能にならしめる。
Furthermore, the present invention provides a thin film production technology that can be formed simply by applying temperature, and by applying this thin film production technology, it is expected that the method of manufacturing electrophotographic photoreceptors will be significantly developed. be. Moreover, since the film can be formed without applying electricity, there is no need for an electrolytic device or extraction electrode, which simplifies the photoreceptor manufacturing process, making it possible to save energy and significantly reduce manufacturing costs. Furthermore, since it is possible to form a film on an insulating substrate, it actually becomes possible to form a thin film on a polymer substrate such as an optical memory disk.

したがって、本発明の方法で得られる電子写真感光体は
、複写機においては従来よりもはるかに鮮明に画像を複
写でき、複写時間の短縮、露光光源の省エネ化が可能と
なる。また、レーザープリンタにおいても同様にプリン
ト時間の短縮、露光光源の省エネルギー化が可能となる
Therefore, the electrophotographic photoreceptor obtained by the method of the present invention can copy images much more clearly than before in a copying machine, making it possible to shorten the copying time and save energy for the exposure light source. Further, in a laser printer as well, printing time can be similarly shortened and exposure light source energy can be saved.

この本発明の方法によって形成される薄膜および電子写
真感光体は、上記の複写機、レーザープリンタばかりで
なく、アルミニウムを電極として応用する電子デバイス
素子(EL、センサ、太陽電池、EC,LCDデイスプ
レィ、FDPデイスプレィ表示電極)、機能性薄膜を利
用する素子(光メモリディスク、PHB素子、超伝導素
子、2次非線型光学素子、3次非線型光学素子)等に幅
広く有効に利用できる。
The thin film and electrophotographic photoreceptor formed by the method of the present invention can be used not only in the above-mentioned copiers and laser printers, but also in electronic device elements (EL, sensors, solar cells, EC, LCD displays, etc.) that use aluminum as an electrode. It can be effectively used in a wide range of applications such as FDP display display electrodes), elements using functional thin films (optical memory disks, PHB elements, superconducting elements, second-order nonlinear optical elements, third-order nonlinear optical elements), etc.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)平均粒径10μm以下の疎水性物質粉末を水性媒
体中でHLB値10.0〜20.0の界面活性剤(フェ
ロセン誘導体を除く)によって分散あるいは可溶化し、
次いで得られた分散液あるいは溶液を40℃以上に加温
し、基板上に前記疎水性物質薄膜を形成することを特徴
とする薄膜の製造方法。
(1) Dispersing or solubilizing a hydrophobic substance powder with an average particle size of 10 μm or less in an aqueous medium with a surfactant (excluding ferrocene derivatives) having an HLB value of 10.0 to 20.0,
A method for producing a thin film, comprising: heating the resulting dispersion or solution to 40° C. or higher to form the hydrophobic substance thin film on the substrate.
(2)基板が卑金属である請求項1記載の薄膜の製造方
法。
(2) The method for producing a thin film according to claim 1, wherein the substrate is a base metal.
(3)基板としてアルミニウム板を用い、疎水性物質と
して電荷発生物質を用いて、請求項1の方法により作製
した薄膜を電子写真感光体の電荷発生層とすることを特
徴とする電子写真感光体の製造方法。
(3) An electrophotographic photoreceptor characterized in that the thin film produced by the method of claim 1 using an aluminum plate as a substrate and a charge generating substance as a hydrophobic substance is used as a charge generation layer of the electrophotographic photoreceptor. manufacturing method.
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