JPH0429201B2 - - Google Patents
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
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Description
産業上の利用分野
本発明は、固定チツプ抵抗器あるいは回路配線
基板等設けられる厚膜タイプの電気抵抗体、特に
非酸化性雰囲気中で焼成して得られることが可能
な前記抵抗体及びその製造方法に関する。
従来の技術
電子機器や電気回路は、抵抗、コンデンサ、ダ
イオード、トランジスタ等の各種電気素子が回路
基板に実装されて構成されることが良く行われて
いるが、電子機器の小型化に伴つてこれらの電気
素子の実装密度をさらに高めることができる回路
基板が多く用いられるようになつてきた。
これらの回路基板に設けられる抵抗体には、抵
抗体材料ペーストを回路上に直接印刷して焼付け
ることにより形成した厚膜抵抗体、あるいは角板
状セラミツクチツプの両端に一対の電極を形成
し、双方の電極に跨がるように前記厚膜抵抗体を
形成した固定チツプ抵抗器等がある。
このような厚膜抵抗体を回路基板に設けるに
は、従来、例えば1500℃前後で焼成して得られた
アルミナ基板の表面にAgあるいはAg−Pd等の導
体材料ペーストを塗布し、焼付けした後、例えば
RuO2を抵抗体材料として含有するペーストをス
クリーン印刷等により塗布し、ついで750〜850℃
で焼付け、さらに必要に応じてトリミング等によ
り抵抗値の調整を来なうやり方が一般的である。
しかしながら近年、電子機器等に対する軽薄・
短小化、低コスト化の要求がさらに強まつてきて
おり、回路基板に対しても一層の小型化、低コス
ト化の検討が行われるようになつてきた。
前者の小型化のための具体的な対応としては、
第1に回路基板の多層化、第2の抵抗体の内装化
が行なわれている。回路基板を多層化した例とし
ては、AgあるいはAg−Pd系等の導体材料ペース
トを印刷したセラミツクグリーンシート(生シー
ト)を積層、圧着した後、大気中800〜1100℃で
同時焼成して得られる多層配線基板が挙げられ、
また、抵抗体を内装化した例としては、前記導体
材料ペーストを印刷したセラミツクグリーンシー
ト上にさらにRuO2系抵抗体材料ペーストを印刷
し、前記と同様に積層、圧着した後、同時焼成し
て得られる抵抗体内装多層配線基板等が知られて
いる。
また、後者の低コスト化のための具体的な対応
としては、AgあるいはAg−Pd系材料のような高
価な貴金属系の導体材料に代わつて、安価なNi
あるいはCu等の卑金属系の導体材料を用い、こ
れらを窒素ガスあるいは水素を含む窒素ガス中
等、その酸化による高抵抗化を避けることができ
るような中性あるいは還元性の非酸化性雰囲気
中、800〜1100℃でグリーンセラミツクと同時焼
成して得られる多層配線基板が実用化されてい
る。また、特開昭56−153702号公報に記載されて
いるように、MoSi2−TaSi2及びガラスからなる
抵抗体材料を、銅(Cu)導体を有するアルミナ
基板上に塗布し、熱処理して得られる厚膜抵抗体
等も知られている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、回路基板の小型化と低コスト化
を同時に行なうようにすると、RuO2系抵抗体材
料は窒素ガスあるいは水素を含む窒素ガス雰囲気
中でグリーンセラミツクと同時焼成したときに還
元反応が起こり、抵抗値が低くなつて抵抗体とし
ての特性を示さなくなる。
また、MoSi2−TaSi2及びガラスからなる抵抗
体材料を非酸化性雰囲気中でグリーンセラミツク
シートと同時焼成すると、両者の膨張率、収縮率
の相違によるずれにより焼成体に反りが生じた
り、MoSi2−TaSi2の分解反応によりガスが発生
して焼成体にふくれが生じ易いと云い問題点があ
る。これを改善するために、特開昭60−198703号
公報に記載されているように、MoSl2−弗化金属
塩(例えば弗化カルシウム)及びガラスよりなる
抵抗体材料を用いる例か知られており、これにつ
いては上記のような焼成時の反りやふくれは見ら
れない。
しかしながら、このMoSl2−弗化金属塩及びガ
ラスよりなる抵抗体材料をグリーンセラミツクシ
ートに塗布し、同時焼成して得られた厚膜抵抗体
は、95%相対湿度中に1000時間放置すると、5〜
10%の抵抗値の増加が見られ、抵抗体としての所
定の機能を果たすことができない。
本発明の目的は、固定チツプ抵抗器あるいは一
般に回路基板等に使用できるのみならず、卑金属
導体材料とともに積層して多層基板に内装化する
ことのできる電気抵抗体であつて、抵抗値の安定
な電気抵抗体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記電気抵抗体の
特性をより一層向上させることのできる製造法を
提供することにある。
問題点を解決するための手段
本発明は、上記問題点を解決するために、下記
(A)ないし(G)の内の少なくとも2つの群から選ばれ
た各群少なくとも1つのモリブデン酸塩を含有す
る焼成体を有することを特徴とする電気抵抗体を
提供するものである。
(A) アルカリ土類金属のモリブデン酸塩
(B) 亜鉛のモリブデン酸塩
(C) Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luの各元素のモリ
ブデン酸塩及びこれらの複数元素の複合モリブ
デン酸塩
(D) アルミニウムのモリブデン酸塩
(E) ジルコニウム、ハフニウムの各元素のモリブ
デン酸塩及びこれらの複合モリブデン酸塩
(F) ニオブ、タンタルの各元素のモリブデン酸塩
及びこれらの複合モリブデン酸塩
(G) マンガンのモリブデン酸塩
また、本発明は、主成分に下記(A)ないし(G)の内
の少なくとも2つの群から選ばれた各群少なくと
も1種のモリブデン酸塩及びその前駆体の内の少
なくとも一種を含有する抵抗体材料を熱処理し、
この熱処理して得られた抵抗体材料を用いて焼成
し、下記の内の少なくとも2つの群から選ばれた
各群少なくとも1つのモリブデン酸塩を含有する
焼成体からなる電気抵抗体を得ることを特徴とす
る電気抵抗体の製造方法を提供するものである。
(A) アルカリ土類金属のモリブデン酸塩
(B) 亜鉛のモリブデン酸塩
(C) Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luの各元素のモリ
ブデン酸塩及びこれらの複数元素の複合モリブ
デン酸塩
(D) アルミニウムのモリブデン酸塩
(E) ジルコニウム、ハフニウムの各元素のモリブ
デン酸塩及びこれらの複合モリブデン酸塩
(F) ニオブ、タンタルの各元素のモリブデン酸塩
及びこれらの複合モリブデン酸塩
(G) マンガンのモリブデン酸塩
次に本発明を詳細に説明する。
本発明における前記(A)〜(G)の各群に属するモリ
ブデン酸塩には次のものが挙げられる。
(A) アルカリ土類金属のモリブデン酸塩
Meをアルカリ土類金属とすると、一般式
MeMoO4、Me3MoO6、Me2MoO5、Me2Mo7、
MeMo4O13、MeMo7O24、MeMe3O10、
Me2MoO5、Me2Mo3O11等で表されるものが好
ましい。具体的には、例えばMgMoO4、
CaMoO4、SrMoO4、BaMoO4、BaMo2O7、
BaMo4O13、BaMo7O24、BaMo3O10、
Ca3MoO6、Sr3MoO6、Ba3MoO6、Ba2MoO5、
Mg2Mo3O11等が挙げられる。
また、次の複合モリブデン酸塩も例示され
る。
(Mgx Cay)MoO4、但し、x+y=1、
(Cax Sry)MoO4、但し、x+y=1、
(Mgx Bay)MoO4、但し、x+y=1、
(Mgx Cay Baz)MoO4、但し、x+y+z
=1、
(Cax Sry Baz)MoO4、但し、x+y+z
=1、
MGx Cay Srz BawMoO4、但し、x+y+
z+z+=1、
(Cax Sry)MoO6、但し、x+y=3、
(Sry Bay)MoO6、但し、x+y=3、
(B) 亜鉛のモリブデン酸塩
例えばZnMoO4、ZnMo2O7、Zn3Mo2O9が挙
げられる。
(C) Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luの各元素のモリ
ブデン酸塩及びこれらの複数元素の複合モリブ
デン酸塩
例えば次のものが例示される。
INDUSTRIAL APPLICATION FIELD The present invention relates to a thick film type electrical resistor provided on a fixed chip resistor or a circuit wiring board, particularly the resistor which can be obtained by firing in a non-oxidizing atmosphere, and the production thereof. Regarding the method. BACKGROUND TECHNOLOGY Electronic equipment and electrical circuits are often constructed by mounting various electrical elements such as resistors, capacitors, diodes, and transistors on circuit boards, but as electronic equipment becomes smaller, these Circuit boards that can further increase the packaging density of electrical elements have come into widespread use. The resistors installed on these circuit boards are either thick-film resistors formed by printing and baking resistor material paste directly onto the circuit, or a pair of electrodes formed at both ends of a square ceramic chip. There is also a fixed chip resistor in which the thick film resistor is formed so as to span both electrodes. Conventionally, in order to install such a thick film resistor on a circuit board, a conductive material paste such as Ag or Ag-Pd is applied to the surface of an alumina substrate obtained by firing at around 1500℃, and after baking, ,for example
A paste containing RuO 2 as a resistor material is applied by screen printing, and then heated at 750 to 850℃.
The common method is to bake the resistor and then adjust the resistance value by trimming, etc., if necessary. However, in recent years, frivolous and
The demand for shorter, smaller, and lower costs is becoming stronger, and studies are being conducted to further reduce the size and cost of circuit boards. For the former, specific measures for downsizing include:
Firstly, circuit boards are becoming more multi-layered and secondly resistors are being built internally. An example of multi-layered circuit boards is obtained by laminating and pressing ceramic green sheets (raw sheets) printed with conductive material paste such as Ag or Ag-Pd, and then simultaneously firing them in the atmosphere at 800-1100℃. Examples include multilayer wiring boards,
In addition, as an example of internally incorporating a resistor, a RuO2 -based resistor material paste is further printed on a ceramic green sheet printed with the conductor material paste, laminated and crimped in the same manner as above, and then co-fired. The resulting resistor-incorporated multilayer wiring board and the like are known. In addition, as a specific measure to reduce the cost of the latter, we will use inexpensive Ni to replace expensive noble metal conductor materials such as Ag or Ag-Pd materials.
Alternatively, base metal-based conductive materials such as Cu are used, and they are heated at 800°C in a neutral or reducing non-oxidizing atmosphere such as nitrogen gas or hydrogen-containing nitrogen gas to avoid high resistance due to oxidation. A multilayer wiring board obtained by co-firing with green ceramic at ~1100℃ has been put into practical use. Furthermore, as described in JP-A No. 56-153702, a resistor material made of MoSi 2 -TaSi 2 and glass is coated on an alumina substrate having a copper (Cu) conductor and heat-treated. Thick film resistors and the like are also known. Problems to be Solved by the Invention However, in order to reduce the size and cost of circuit boards at the same time, RuO 2 -based resistor materials have been co-fired with green ceramics in nitrogen gas or hydrogen-containing nitrogen gas atmospheres. Sometimes a reduction reaction occurs, resulting in a low resistance value and no longer exhibiting properties as a resistor. Furthermore, when a resistor material made of MoSi 2 - TaSi 2 and glass is co-fired with a green ceramic sheet in a non-oxidizing atmosphere, the fired body may warp due to differences in the expansion and contraction rates of the two, and the MoSi There is a problem in that the decomposition reaction of 2 -TaSi 2 generates gas, which tends to cause blistering in the fired product. In order to improve this, there is a known example of using a resistor material made of MoSl 2 -metal fluoride (e.g. calcium fluoride) and glass, as described in JP-A-60-198703. There is no warping or blistering during firing as mentioned above. However, a thick film resistor obtained by coating a resistor material made of MoSl 2 -metal fluoride and glass on a green ceramic sheet and co-firing it will show a ~
A 10% increase in resistance value was observed, and the resistor could no longer perform its intended function. An object of the present invention is to provide an electrical resistor that can not only be used in fixed chip resistors or circuit boards in general, but also can be laminated with base metal conductive materials and incorporated into multilayer boards, and which has a stable resistance value. The purpose of the present invention is to provide an electrical resistor. Another object of the present invention is to provide a manufacturing method that can further improve the characteristics of the electrical resistor. Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention aims to solve the following problems.
The present invention provides an electrical resistor characterized by having a fired body containing at least one molybdate from each group selected from at least two groups (A) to (G). (A) Alkaline earth metal molybdate (B) Zinc molybdate (C) Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb,
Molybdates of the elements Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, and composite molybdates of multiple of these elements (D) Molybdates of aluminum (E) Molybdates of the elements zirconium, hafnium, and These composite molybdates (F) molybdates of each element such as niobium and tantalum, and these composite molybdates (G) molybdates of manganese. ) heat treating a resistor material containing at least one molybdate of each group selected from at least two groups and at least one of its precursors;
The resistor material obtained by this heat treatment is fired to obtain an electrical resistor consisting of a fired body containing at least one molybdate in each group selected from at least two groups listed below. The present invention provides a method for manufacturing a characteristic electrical resistor. (A) Alkaline earth metal molybdate (B) Zinc molybdate (C) Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb,
Molybdates of the elements Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, and composite molybdates of multiple of these elements (D) Molybdates of aluminum (E) Molybdates of the elements zirconium, hafnium, and These composite molybdates (F) molybdates of each element such as niobium and tantalum, and their composite molybdates (G) molybdates of manganese Next, the present invention will be explained in detail. The molybdates belonging to each group (A) to (G) in the present invention include the following. (A) Alkaline earth metal molybdate If Me is an alkaline earth metal, the general formula
MeMoO4 , Me3MoO6 , Me2MoO5 , Me2Mo7 ,
MeMo4O13 , MeMo7O24 , MeMe3O10 ,
Those represented by Me 2 MoO 5 , Me 2 Mo 3 O 11 , etc. are preferred. Specifically, for example, MgMoO 4 ,
CaMoO4 , SrMoO4 , BaMoO4 , BaMo2O7 ,
BaMo4O13 , BaMo7O24 , BaMo3O10 ,
Ca 3 MoO 6 , Sr 3 MoO 6 , Ba 3 MoO 6 , Ba 2 MoO 5 ,
Examples include Mg 2 Mo 3 O 11 and the like. Further, the following complex molybdates are also exemplified. (Mg x Ca y )MoO 4 , however, x+y=1, (Ca x Sr y )MoO 4 , however, x+y=1, (Mg x Ba y )MoO 4 , however, x+y=1, (Mg x Ca y Ba z ) MoO 4 , however, x+y+z
=1, (Ca x Sr y Ba z )MoO 4 , where x+y+z
=1, MG x Ca y Sr z Ba w MoO 4 , however, x+y+
z+z+=1, (Ca x Sry )MoO 6 , x+y=3, ( SryBa y )MoO 6 , x+y=3, (B) Zinc molybdate For example, ZnMoO 4 , ZnMo 2 O 7 , Zn 3 Mo 2 O 9 . (C) Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb,
Molybdates of each element Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, and composite molybdates of multiple of these elements Examples include the following:
【表】
また、(Yx Cey)MoO12、但しx+y=6、
(Prx Euy)MoO12 但しx+y=6、
(Gdx Dyy)MoO12 但しx+y=6、
(Lax Ndy Tbz)MoO12 但しx+y+z
=6
(Hox Tmy Ybz)MoO12 但しx+y+z
=6
等の複数元素からなる複合モリブデン酸塩も挙
げられる。
(D) アルミニウムのモリブデン酸塩
例えばAl2Mo3O12が挙げられる。
(E) ジルコニウム、ハフニウムの各元素のモリブ
デン酸塩及びこれらの複合モリブデン酸塩
例えばZrMo2O8、HfMo2O8、(Zrx Hy)
Mo2O8但し、x+y=1が挙げられる。
(F) ニオブ、タンタルの各元素のモリブデン酸塩
例えばNb2Mo3O14、Ta2Mo3O14、(Nbx
Tay)Mo3O14、但し、x+y=1が挙げられ
る。
(G) マンガンのモリブデン酸塩
例えばMnMoO4が挙げられる。
これらの各群のモリブデン酸塩は少なくとも2
つの群から各群少なくとも1つのモリデン酸塩が
使用されるが、その該当する群で複数選ばれると
きは単独元素のモリブデン酸塩、複合元素のモリ
ブデン酸塩の各々又はその両方を選択できる。
上記各群に属するモリブデン酸塩は、それぞれ
の元素の酸化物と酸化モリブデン(MoO3)の熱
処理によつて合成することができるが、その前駆
体を用いて熱処理することにより合成することも
できる。また、例えばアルカリ土類金属のモリブ
デン酸塩は、アルカリ土類金属の各々の金属酸化
物の前駆体となる物質と酸化モリブデン
(MoO3)又はその前駆体とを所定のモル比で混
合し、熱処理することにより合成することができ
る。例えばCaOの前駆体となる、例えば炭酸カル
シウム(CaCO3)又は水酸化カルシウム(Ca
(OH)2)と酸化モリブデン(MoO3)又はその前
駆体となる、例えばモリブデン酸(H2MoO4)と
を所定モル比混合し、熱処理する。このときの熱
処理条件としては、600〜1000℃、1〜3時間が
挙げられ。
本発明においてはバインダーを用いることが好
ましく、これにはガラスが挙げられが、このガラ
スとしては一般に知られているガラスが用いら
れ、特定の組成のガラスに限定されるものではな
いが、Pb3O4、Bi2O3、SnO2、CdOのような酸化
物は、これらを含む抵抗体材料を非酸化性雰囲気
中で焼成するときに還元されて金属化することが
あり、この金属は抵抗値を変化させるので、この
ようなことが起こることが好ましくない場合には
これらの酸化物を含有しないことが好ましい。
ガラス成分としては、SiO2、B2O3、ZnO、
CaO、SrO、ZrO2などが好ましく、これらの酸
化物の組成比は、
SiO212〜33 重量%
B2O320〜35 重量%
ZnO又はSr13〜33 重量%
CaO10〜25 重量%
が好ましい。
これら酸化物の組成物からガラスを製造するに
は、前記組成比になるようにそれぞれの酸化物を
秤量し、混合する。この混合物を坩堝に入れ、
1200〜1500℃に温度にて有した後、溶融液を例え
ば水中に投入し、急冷させ、ガラス粗粉を得る。
この粗粉を例えばボールミル、振動ミルなどの粉
砕手段を用いて所望の粒土(例えば10μm以下)
になるまで粉砕すうと、ガラス粉末が得られる。
前記は純粋の酸化物を混合して用いたが、これ
に限らず結果的に各酸化物の混合物からなるガラ
スになれば良く、各酸化物の前駆体をその一部又
は全部に用い、これを溶融してガラスにしても良
い。例えばCaO(酸化カルシウム)はCaCO3(炭
酸カルシウム)、B2O3(酸化硼素)はホウ酸
(H3BO3)の熱処理により得られるので、CaO、
B2O3の一部又はその全部の代わりにそれぞれ
CaCO3、H3BO3を用いることができる。その他
の成分の酸化物についても同様である。
前記のようにして得られる前記元素群の元素の
モリブデン酸塩、ガラス粉末は混合され、そのま
ま抵抗体材料として用いても良いが、これを熱処
理して粉砕したものを抵抗体材料とすることがこ
れを焼成して得た抵抗体の抵抗温度特性の上で好
ましい。この熱処理温度としては、800℃〜1200
℃が好ましく、これより外れると抵抗体材料を電
気抵抗体に加工する各工程の作業条件等による組
成比の微妙な変動に対し、出来上がつた抵抗体の
抵抗値が影響を受け易く、所望の抵抗値を安定し
て得ることが難しい。この熱処理は非酸化性雰囲
気が望ましく、窒素ガスその他不活性ガス、ある
いはこれらに水素ガスを含有させた混合ガスを用
いることが好ましい。
抵抗体材料の各成分の組成比は、前記(A)ないし
(G)の群の選択される元素のモリブデン酸塩50〜96
重量%、ガラス粉末4〜50重量%が好ましい。こ
の範囲より該当する元素のモリブデン酸塩が少な
過ぎ、ガラスが多過ぎると、焼成して出来上がつ
た電気抵抗体の抵抗値が高くなり過ぎ好ましくな
い場合があり、また、逆に当該モリブデン酸塩が
多過ぎ、ガラスが少な過ぎると焼成時の焼結性が
悪くなり回路基板に安定に保持できないことがあ
る。しかし、抵抗体を回路基板を積層して埋め込
むような場合には当該元素のモリブデン酸塩が上
記範囲より多い場合のみならず、100%でも良い。
このようにして得られた抵抗体材料粉末から固
定チツプ抵抗器あるいは厚膜抵抗体のための抵抗
体を作成するには、例えばセラミツクグリーンシ
ートにこれらの抵抗体材料粉末を塗布し、焼成す
るが、この塗布を行うためには例えばシルクスク
リーン印刷ができるようにこれら抵抗体材料粉末
にビヒクルが混合され塗液が調整される。このビ
ヒクルは、焼成の前段階で焼失できるようなもの
が好ましく、このためには有機物ビヒクル、すな
わち有機溶剤に樹脂を溶解又は分散させ、必要に
応じて可塑剤、分散剤等の各種添加剤を加えたも
のが好ましい。この有機溶剤にはブチルカービト
ールアセテート、ブチルカービトール、テレピン
油などが挙げられ、樹脂としてはエチルセルロー
ズ、ニトロセルローズ等のセルローズ誘導体、そ
の他の樹脂が挙げられる。
この有機物ビヒクルと抵抗体材料粉末との使用
の割合は使用する有機溶剤、樹脂等により変わる
が、有機溶剤と樹脂との使用割合は前者が20〜50
重量%、後者が80〜50重量%が適当である。これ
らの成分は例えば三本ロールミル、らいかい器な
どの混合手段を用いてペースト状にされる。
このようにして得られた抵抗体材料ペーストが
基板に塗布され、これがさらに後述の処理を施さ
れて抵抗体が作成されるが、この基板にはセラミ
ツクグリーンシートを導体材料や抵抗体材料とと
もに焼成して作成するもののみならず、予めセラ
ミツクグリーンシートを焼成し、これにさらに抵
抗体材料、導体材料を塗布した後焼成する方法で
も良い。これらは積層体を形成する場合にも適用
できる。
前記セラミツクグリーンシートとしては、例え
ば酸化アルミニウム(Al2O3)35〜45重量%、酸
化珪素(SiO2)25〜35重量%、酸化硼素(B2O3)
10〜15重量%、酸化カルシウム(CaO)7〜13重
量%、酸化マグネシウム(MgO)7〜10重量%
等のセラミツク構成成分の酸化物混合物を有機物
ビヒクルとボールミル等で混合したスラリーをド
クターブレード等によりシート化したものが挙げ
られる。この際、前記元素群の元素のモリブデン
酸塩にガラスを併用しないときは、前記セラミツ
クグリーンシートにガラス分を多く含ませガラス
を併用したと同様の効果を出すようにしても良
い。前記有機物ビヒクルには、アカルリ酸エステ
ル等のアクリル樹脂、ポリビニルブチラール等の
樹脂、グリセリン、フタル酸ジエチル等の可塑
剤、カルボン酸塩等の分散剤、水、有機溶剤等の
溶剤から構成される。
前記抵抗体材料ペーストはセラミツクグリーン
シートに例えばシルクスクリーン印刷等の手段に
より塗布され、乾燥後、400〜500℃で熱処理され
て樹脂成分が分解・燃焼されるのが好ましい。
この際、同時にNiあるいはCu等の卑金属導体
材料あるいはAg−Pdの貴金属導体材料のペース
トも抵抗体材料ペースト塗膜と同時にセラミツク
グリーンシートに塗布され、抵抗体材料ペースト
の塗布物と同様に処理される。
このNiあるいはCu等の卑金属導体材料おるい
はAg又はAg−Pdの貴金属導体材料のペースト組
成物としては、各々の金属粉末98〜85重量%にガ
ラスフリツトを2〜15重量%添加したものが例示
される。
このようにしてセラミツクグリーンシートに抵
抗体材料及び/又は導体材料が組み込まれるが、
固定チツプ抵抗器の場合にはこの未焼成基板の表
面のみ、多層基板の厚膜抵抗体の場合には前記抵
抗体材料、導体材料を未焼成状態で組み込んだも
のをさらに積層して所定の回路を構成するように
してから焼成する。この焼成により導体材料及
び/又は厚膜抵抗体材料を基板と同時に焼成体に
することができる。
この場合、NiあるいはCu等の卑金属導体材料
が導体材料に用いられるときは、その酸化による
高抵抗値化を防止するために、非酸化性雰囲気中
で焼成することが好ましく、その焼成温度は、例
えば800℃〜1100℃、0.5時間〜2時間が例示され
る。非酸化性雰囲気としては、窒素ガスその他不
活性ガス、これらに水素ガスを含有させた混合ガ
スも用いられる。また、Ag又はAg−Pdの貴金属
導体材料を用いるときは空気等の酸化性雰囲気中
で焼成することもできる。
前記のようにして導体及び/又は抵抗体を組み
込んだ回路配線基板が出来上がるが、焼成基板と
導体の間は勿論のこと、焼成基板と抵抗体との間
にも焼成に伴つてクラツク、歪み、ふくれ等を生
じることがないとともに、抵抗体は25℃で10〜90
%相対湿度変化に対して抵抗値変化が±0.1%以
下であり、高温高湿度雰囲気中に1000時間以上放
置されてもその抵抗値が±2%以内の変化に抑制
される。これは抵抗体が導体及び焼成基板と良く
マツチングするためと、前記元素群の元素のモリ
ブデン酸塩とガラスの焼成体からなる抵抗体の独
特の耐湿性に基づくものと考えられるが詳細は明
らかではない。なお、X線回折分析により抵抗体
中のモリブデン酸塩を認めることができる。
本発明においては、上記の如く選択した元素の
モリブデン酸塩を用いても良いが、これらのモリ
ブデン酸塩の代わりに熱処理によりこれらのモリ
ブデン酸塩となる前駆体を一部又は全部用いるこ
ともできる。これらのいずれの場合もガラスと混
合して熱処理したものを粉砕し、抵抗体材料とす
ることが好ましいが、この熱処理を行わず上述の
有機物ビヒクル等と混合して作成したペーストを
例えばグリーンセラミツクシートに塗布してか
ら、有機物除去の加熱処理を経て焼成し。直接抵
抗体を作成することもできる。
また、ガラスはこれを構成する酸化物の混合材
料が選択した元素のモリブデン酸塩とともに結果
的に焼成される状態におかれれば良く、これらの
酸化物の前駆体を選択した元素のモリブデン酸塩
及び/又はその前駆体とともにこの酸化物の一部
又は全部を上述したようにペースト状態にし、こ
れを基板に塗布して有機物の燃焼、その後の焼成
のいずれの過程で上記のガラス成分からなるガラ
スになり、これと選択した元素のモリブデン酸塩
及び/又はその前駆体と焼成されことにより抵抗
体を作製できるものであれば良い。例えば、ガラ
スの材の成分であるCaO(酸化カルシウム)は
CaCO3(炭酸カルシウム)の加熱、B2O3(酸化硼
素)はホウ酸(H2BO3)の加熱から得られるの
で、CaO、B2O3の一部又は全部の代わりにそれ
ぞれCaCO3、H3BO3を用いることができる。本
発明における抵抗体材料とはその処理の過程で結
果的に選択された元素のモリブデン酸塩とガラス
とを主成分にするものであれば良い。
実施例
次に本発明の実施例を説明する。
酸化物に換言して表1に示される組成になるよ
うに各成分を秤量し、混合した。[Table] Also, (Y x Ce y ) MoO 12 , however, x+y=6, (Pr x Eu y ) MoO 12 , however, x+y=6, (Gd x Dy y ) MoO 12 , however, x+y=6, (La x Nd y Tb z ) MoO 12 However, x + y + z
=6 (Ho x Tm y Yb z )MoO 12However , x+y+z
Composite molybdates consisting of multiple elements such as =6 are also included. (D) Aluminum molybdate For example, Al 2 Mo 3 O 12 is mentioned. (E) Molybdates of each element such as zirconium and hafnium, and composite molybdates thereof For example, ZrMo 2 O 8 , HfMo 2 O 8 , (Zr x H y )
Mo 2 O 8 However, x+y=1 is mentioned. (F) Molybdates of each element such as niobium and tantalum For example, Nb 2 Mo 3 O 14 , Ta 2 Mo 3 O 14 , (Nb x
Ta y ) Mo 3 O 14 , provided that x+y=1. (G) Manganese molybdate Examples include MnMoO 4 . Each of these groups contains at least 2 molybdates.
At least one molybdate from each group is used, but when more than one molybdate is selected from the corresponding group, single-element molybdates, each or both of multi-element molybdates can be selected. Molybdates belonging to each of the above groups can be synthesized by heat treatment of oxides of the respective elements and molybdenum oxide (MoO 3 ), but they can also be synthesized by heat treatment using their precursors. . In addition, for example, a molybdate of an alkaline earth metal is prepared by mixing a substance serving as a precursor of each metal oxide of an alkaline earth metal and molybdenum oxide (MoO 3 ) or its precursor at a predetermined molar ratio. It can be synthesized by heat treatment. For example, calcium carbonate (CaCO 3 ) or calcium hydroxide (CaO) is a precursor of CaO.
(OH) 2 ) and molybdenum oxide (MoO 3 ) or its precursor, such as molybdic acid (H 2 MoO 4 ), are mixed in a predetermined molar ratio and heat treated. The heat treatment conditions at this time include 600 to 1000°C for 1 to 3 hours. In the present invention, it is preferable to use a binder, and examples thereof include glass, and this glass may be a commonly known glass, and is not limited to a glass with a specific composition, but may include Pb 3 Oxides such as O 4 , Bi 2 O 3 , SnO 2 , and CdO can be reduced and metallized when resistor materials containing them are fired in a non-oxidizing atmosphere; If it is undesirable for this to occur, it is preferable not to contain these oxides since they change the value. Glass components include SiO 2 , B 2 O 3 , ZnO,
CaO, SrO, ZrO 2 and the like are preferred, and the composition ratio of these oxides is preferably SiO 2 12-33% by weight, B 2 O 3 20-35% by weight ZnO or Sr 13-33% by weight, CaO 10-25% by weight. In order to manufacture glass from a composition of these oxides, the respective oxides are weighed and mixed to achieve the above composition ratio. Put this mixture into a crucible,
After maintaining the temperature at 1200 to 1500°C, the melt is poured into water, for example, and rapidly cooled to obtain coarse glass powder.
This coarse powder is crushed into desired granular soil (for example, 10 μm or less) using a crushing means such as a ball mill or a vibration mill.
Glass powder is obtained by grinding until it becomes . In the above, a mixture of pure oxides was used, but the glass is not limited to this, as long as the result is a mixture of each oxide. It may be melted to make glass. For example, CaO (calcium oxide) can be obtained from CaCO 3 (calcium carbonate) and B 2 O 3 (boron oxide) can be obtained by heat treatment of boric acid (H 3 BO 3 ), so CaO,
each in place of part or all of B 2 O 3
CaCO 3 and H 3 BO 3 can be used. The same applies to oxides of other components. The molybdate of the element of the above element group and the glass powder obtained as described above may be mixed and used as is as a resistor material, but it is also possible to heat-treat and pulverize it and use it as a resistor material. This is preferable in view of the resistance temperature characteristics of a resistor obtained by firing this. The heat treatment temperature is 800℃~1200℃.
℃ is preferable; if it deviates from this range, the resistance value of the finished resistor will be easily affected by slight fluctuations in the composition ratio due to the working conditions of each step of processing the resistor material into an electrical resistor, and the resistance value will be less than the desired value. It is difficult to obtain a stable resistance value. This heat treatment is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere, and it is preferable to use nitrogen gas or other inert gas, or a mixed gas containing these gases and hydrogen gas. The composition ratio of each component of the resistor material is the above (A) or
Molybdates of selected elements of group (G) 50-96
% by weight, preferably 4 to 50% by weight of glass powder. If the amount of molybdate of the element falling within this range is too small and the amount of glass is too large, the resistance value of the electrical resistor obtained by firing may become too high, which is undesirable. If there is too much salt and too little glass, the sinterability during firing may deteriorate and it may not be possible to stably hold it on the circuit board. However, when a resistor is embedded in a laminated circuit board, the molybdate content of the element may not only be greater than the above range, but may also be 100%. To create a resistor for a fixed chip resistor or a thick film resistor from the resistor material powder obtained in this way, for example, the resistor material powder is applied to a ceramic green sheet and fired. In order to perform this coating, a vehicle is mixed with these resistor material powders to prepare a coating liquid so that silk screen printing can be performed, for example. This vehicle is preferably one that can be burned out in the pre-firing stage.For this purpose, the resin is dissolved or dispersed in an organic vehicle, that is, an organic solvent, and various additives such as plasticizers and dispersants are added as necessary. Preferably added. Examples of the organic solvent include butyl carbitol acetate, butyl carbitol, turpentine oil, etc., and examples of the resin include cellulose derivatives such as ethyl cellulose and nitrocellulose, and other resins. The ratio of the organic vehicle to the resistor material powder varies depending on the organic solvent, resin, etc. used, but the ratio of the organic solvent to the resin is 20 to 50.
The latter is preferably 80 to 50% by weight. These components are made into a paste using a mixing means such as a three-roll mill or a sieve. The resistor material paste obtained in this way is applied to a substrate, which is further processed as described below to create a resistor. In addition to a method in which a ceramic green sheet is fired in advance, a resistor material and a conductor material are further coated on the ceramic green sheet, and then fired. These can also be applied when forming a laminate. The ceramic green sheet includes, for example, 35 to 45% by weight of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), 25 to 35% by weight of silicon oxide (SiO 2 ), and boron oxide (B 2 O 3 ).
10-15% by weight, calcium oxide (CaO) 7-13% by weight, magnesium oxide (MgO) 7-10% by weight
For example, a slurry prepared by mixing an oxide mixture of ceramic constituents with an organic vehicle using a ball mill or the like is formed into a sheet using a doctor blade or the like. At this time, when glass is not used in combination with the molybdate of the element in the element group, the ceramic green sheet may contain a large amount of glass to produce the same effect as when glass is used in combination. The organic vehicle is comprised of an acrylic resin such as an acarlic acid ester, a resin such as polyvinyl butyral, a plasticizer such as glycerin or diethyl phthalate, a dispersant such as a carboxylic acid salt, and a solvent such as water or an organic solvent. Preferably, the resistor material paste is applied to a ceramic green sheet by means such as silk screen printing, and after drying, it is heat treated at 400 to 500°C to decompose and burn the resin component. At this time, a paste of a base metal conductor material such as Ni or Cu or a noble metal conductor material such as Ag-Pd is simultaneously applied to the ceramic green sheet at the same time as the resistor material paste coating, and is treated in the same manner as the resistor material paste coating. Ru. Examples of paste compositions of base metal conductor materials such as Ni or Cu or noble metal conductor materials such as Ag or Ag-Pd include those in which 2 to 15 weight % of glass frit is added to 98 to 85 weight % of each metal powder. be done. In this way, the resistor material and/or conductor material is incorporated into the ceramic green sheet, but
In the case of a fixed chip resistor, only the surface of this unfired substrate is used, and in the case of a thick film resistor of a multilayer board, the resistor material and conductor material incorporated in the unfired state are further laminated to form a predetermined circuit. It is then fired. By this firing, the conductor material and/or the thick film resistor material can be made into a fired body at the same time as the substrate. In this case, when a base metal conductor material such as Ni or Cu is used as the conductor material, it is preferable to sinter it in a non-oxidizing atmosphere in order to prevent the resistance value from increasing due to oxidation, and the sintering temperature is as follows: For example, 800°C to 1100°C for 0.5 hours to 2 hours. As the non-oxidizing atmosphere, nitrogen gas, other inert gases, and mixed gases containing these gases and hydrogen gas may also be used. Furthermore, when using a noble metal conductor material such as Ag or Ag-Pd, it can also be fired in an oxidizing atmosphere such as air. A circuit wiring board incorporating a conductor and/or a resistor is completed as described above, but cracks, distortions, etc. occur not only between the fired board and the conductor, but also between the fired board and the resistor due to firing. It does not cause any blistering, and the resistance of the resistor is 10 to 90 at 25℃.
The change in resistance value is less than ±0.1% with respect to the change in % relative humidity, and even if it is left in a high temperature and high humidity atmosphere for more than 1000 hours, the change in resistance value is suppressed to within ±2%. This is thought to be due to the resistor's good matching with the conductor and the fired substrate, and the unique moisture resistance of the resistor, which is made of a molybdate of an element from the above element group and a fired glass body, but the details are not clear. do not have. Note that molybdate in the resistor can be observed by X-ray diffraction analysis. In the present invention, molybdates of the elements selected as described above may be used, but instead of these molybdates, some or all of the precursors that become these molybdates by heat treatment can also be used. . In any of these cases, it is preferable to mix it with glass and heat treat it, then crush it and use it as a resistor material. However, a paste made by mixing it with the above-mentioned organic vehicle, etc. without performing this heat treatment can be used, for example, as a green ceramic sheet. After coating, it is heated to remove organic matter and then fired. It is also possible to create a resistor directly. Additionally, the glass may be placed in a state where the mixed material of the oxides constituting it is eventually fired together with the molybdates of the selected elements, and the precursors of these oxides are combined with the molybdates of the selected elements. A part or all of this oxide together with salt and/or its precursor is made into a paste state as described above, and this is applied to a substrate, and in the process of burning the organic material and subsequent firing, it is made of the above glass component. Any material may be used as long as it becomes glass and can be baked with a molybdate of a selected element and/or its precursor to produce a resistor. For example, CaO (calcium oxide), a component of glass material,
Heating CaCO 3 (calcium carbonate), B 2 O 3 (boron oxide) is obtained from heating boric acid (H 2 BO 3 ), so CaCO 3 can be used instead of CaO, some or all of B 2 O 3 , respectively. , H 3 BO 3 can be used. The resistor material in the present invention may be any material whose main components are a molybdate of an element selected as a result of the treatment process and glass. Examples Next, examples of the present invention will be described. Each component was weighed and mixed to have the composition shown in Table 1 in terms of oxide.
【表】
表中、単位は重量%。
ガラスA、ガラスBのそれぞれの混合物を各別
にアルミナ坩堝中で1400℃で溶融し、その溶融液
を水中に投入し、急冷させた。この急冷物を取り
出してエタノールとともにポツトミルの中に入
れ、アルミナボールで24時間粉砕し、粒径10μm
以下のガラス粉末を得た。
また、上記(A)ないし(G)に属する各々のモリブデ
ン酸塩を冷えば酸化モリブデンと各々の元素の酸
化物から合成した。
次に、前記で得たガラスA、ガラスBのそれぞ
れのガラス粉末と前記で得たモリブデン酸塩を表
2の各欄に示す割合になるように秤量し、混合し
た。
表2の各試料を窒素(N2)98.5vol%、水素
(H2)1.5vol%のガス雰囲気中、1000℃、1時間
熱処理し、しかる後にエタノールとともにポツト
ミにて粉砕し、乾燥して10μm以下のガラスと該
当する元素のモリブデン酸塩の熱処理粉末の抵抗
体材料粉末を得た。
次に各試料の抵抗体材料粉末100重量部に有機
物ビヒクル(ブチルカービトール90重量部、エチ
ルセルローズ10重量部)25重量部を加え、ロール
ミルで混合し、抵抗体材料ペーストを得た。
一方、Al2O340.0重量%、SiO235.0重量%、
B2O313.0重量%、CaO7.0重量%、MgO5.0重量%
からなるセラミツク原料粉末100重量部にポリビ
ニルブチラール8重量部、フタル酸ジエチル8重
量部、オレイン酸0.5重量部、アセトン10重量部、
イソプルピルアルコール20重量部及びメチルエチ
ルケトン20重量部を加えてボールミルにより混合
してスラリーを作製し、脱泡処理した後にドクタ
ーブレード法により厚さ200μmの長尺のセラミ
ツクグリーンシートを作製した。このセラミツク
グリーンシートから縦9mm横9mmのグリーンシー
ト片と、縦6mm横9mmのグリーンシート片とを切
り抜いた。
次に第1図に示す如く、上記の縦9mm横9mmの
グリーンシート片1上に、銅粉末95重量部、ガラ
スフリツト5重量部に有機物ビヒクルとしてブチ
ルカルビトール20重量部、エチルセルロース5重
量部を加え、これらを三本ロールミルにより混合
した導体材料ペーストをシルクスクリーン印刷
し、125℃、10分間乾燥させて導体材料塗膜2を
形成した。次いで、上記で得た抵抗体材料ペース
トを上記グリーンシート片1に上記と同様にシル
クスクリーン印刷し、125℃で、10分間乾燥させ
て厚膜抵抗体用塗膜3を形成した。
次にグリーンシート片1上に前記で得た縦6mm
横9mmのグリーンシート片4を図示鎖線で示すよ
うに重ね、100℃、150Kg/cm2で熱圧着する。次い
で、これを大気等の酸化性雰囲気中、400〜500℃
で加熱してグリーンシート片1,4、導体材料塗
膜2、抵抗体材料塗膜3のそれぞれの残留有機物
を分解・焼成させる。
このようにして有機物を除去し後、N298.5vol
%、H21.5vol%の混合ガス中で、95℃、1時間焼
成し、第2図に示すようにグリーンシート片1の
焼成体の磁器層1a、グリーンシート片4の焼成
体の磁器層4aの間に導体材料塗膜2の焼成体の
厚膜導体2a、抵抗体材料塗膜3の焼成体の厚膜
抵抗体3aを有する多層セラミツク基板を完成さ
せた。この多層セラミツク基板には、後述する第
3図、第4図に示されるような反り、ふくれは見
られなかつた。
このようにして得られた焼成体の多層セラミツ
ク基板を層方向に研磨して抵抗体層を露出させ、
この露出した抵抗体層をX線回折(Cu K α
線)により分析した。得られた結果をNo.1の試料
について第5図に示す。これにより該当する元素
のモリブデン酸塩を確認することができた。他の
試料についても同様に確認できるがここでは省略
した。
次にこの多層セラミツク基板3aの25℃におけ
る抵抗値(R25)と、125℃に加熱したときの抵
抗値(R125)をデジタルマルチメータで測定し、
抵抗の温度係数(TCR)を次式により求めた。
TCR=R125−R25/R25×1000(ppm/℃)
上記のR25の測定抵抗値及びTCRの計算値を表
3に示した。
また、上記で得られた多層セラミツク基板を60
℃、95%相対湿度のもとに1000時間放置した後の
25℃の抵抗値を測定し、その変化率を求めた結果
を表3に示す。[Table] In the table, the unit is weight%.
Each of the mixtures of Glass A and Glass B was individually melted at 1400° C. in an alumina crucible, and the melt was poured into water and rapidly cooled. This quenched material was taken out and put into a pot mill with ethanol, and ground with an alumina ball for 24 hours to a particle size of 10 μm.
The following glass powder was obtained. In addition, each of the molybdates belonging to (A) to (G) above was synthesized from cold molybdenum oxide and oxides of each element. Next, the glass powders of Glass A and Glass B obtained above and the molybdate salts obtained above were weighed and mixed in the proportions shown in each column of Table 2. Each sample in Table 2 was heat-treated at 1000°C for 1 hour in a gas atmosphere containing 98.5 vol% nitrogen (N 2 ) and 1.5 vol% hydrogen (H 2 ), then crushed in a pot with ethanol and dried to a size of 10 μm. Resistor material powders of the following glasses and heat-treated powders of molybdates of the corresponding elements were obtained. Next, 25 parts by weight of an organic vehicle (90 parts by weight of butyl carbitol, 10 parts by weight of ethyl cellulose) was added to 100 parts by weight of the resistor material powder of each sample and mixed in a roll mill to obtain a resistor material paste. On the other hand, Al 2 O 3 40.0% by weight, SiO 2 35.0% by weight,
B2O3 13.0 % by weight, CaO7.0% by weight, MgO5.0% by weight
100 parts by weight of ceramic raw material powder consisting of 8 parts by weight of polyvinyl butyral, 8 parts by weight of diethyl phthalate, 0.5 parts by weight of oleic acid, 10 parts by weight of acetone,
20 parts by weight of isopropyl alcohol and 20 parts by weight of methyl ethyl ketone were added and mixed in a ball mill to prepare a slurry. After defoaming, a long ceramic green sheet with a thickness of 200 μm was prepared by a doctor blade method. A green sheet piece measuring 9 mm in length and 9 mm in width and another green sheet piece measuring 6 mm in length and 9 mm in width were cut out from this ceramic green sheet. Next, as shown in Figure 1, on top of the green sheet piece 1 measuring 9 mm in length and 9 mm in width, 95 parts by weight of copper powder, 5 parts by weight of glass frit, 20 parts by weight of butyl carbitol and 5 parts by weight of ethyl cellulose as an organic vehicle were added. A conductive material paste obtained by mixing these materials using a three-roll mill was silk screen printed and dried at 125° C. for 10 minutes to form a conductive material coating film 2. Next, the resistor material paste obtained above was silk screen printed on the green sheet piece 1 in the same manner as above and dried at 125° C. for 10 minutes to form a thick film resistor coating 3. Next, on the green sheet piece 1, the length 6 mm obtained above was
Green sheet pieces 4 each having a width of 9 mm are stacked as shown by the chain lines in the figure and heat-pressed at 100° C. and 150 kg/cm 2 . Next, this is heated at 400 to 500℃ in an oxidizing atmosphere such as air.
The green sheet pieces 1 and 4, the conductor material coating film 2, and the resistor material coating film 3 are heated to decompose and sinter the residual organic matter. After removing organic matter in this way, N 2 98.5vol
%, H 2 1.5 vol% in a mixed gas at 95°C for 1 hour, and as shown in FIG. 4a, a multilayer ceramic substrate having a thick film conductor 2a as a fired body of conductor material coating 2 and a thick film resistor 3a as a fired body of resistor material coating 3 was completed. In this multilayer ceramic substrate, no warping or blistering as shown in FIGS. 3 and 4, which will be described later, was observed. The multilayer ceramic substrate of the fired body thus obtained is polished in the layer direction to expose the resistor layer,
This exposed resistor layer was analyzed by X-ray diffraction (Cu K α
line). The results obtained are shown in FIG. 5 for sample No. 1. As a result, we were able to confirm the molybdate of the corresponding element. Similar confirmation can be made for other samples, but they are omitted here. Next, the resistance value (R 25 ) of this multilayer ceramic substrate 3a at 25°C and the resistance value (R 125 ) when heated to 125°C were measured with a digital multimeter.
The temperature coefficient of resistance (TCR) was calculated using the following formula. TCR=R 125 −R 25 /R 25 ×1000 (ppm/°C) Table 3 shows the measured resistance value of R 25 and the calculated value of TCR. In addition, the multilayer ceramic substrate obtained above was
After standing for 1000 hours under ℃, 95% relative humidity
Table 3 shows the results of measuring the resistance value at 25°C and determining the rate of change.
【表】【table】
【表】【table】
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【表】【table】
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【表】【table】
【表】【table】
【表】
比較例 1
(MoSi2−TaSi2ガラス系抵抗体材料)
MoSi216重量部、TaSi29重量部の混合物を真
空中1400℃で加熱し、その生成物をエタノールと
ともにポツトミル中にアルミナボールで24時間粉
砕し、乾燥させて10μm以下の微粉末を得た。こ
のようにして得た微粉末25重量部に対し、BaO、
B2O3、MgO、CaO、SiO2からなるガラスフリツ
ト75重量部と、有機物ビヒクル(ブチルカルビト
ール20重量部、エチルセルロース5重量部)25重
量部とを加え、ロールミルで混合して抵抗体材料
ペーストを得た。
この抵抗体材料ペーストを用いた以外は実施例
と同様にして多層セラミツク基板を得た。
その結果、セラミツクグリーンシートに抵抗体
材料塗膜を形成し、これを加熱処理して有機物を
除去した後に同時焼成して得たものは、両者の焼
成体に膨張率、収縮率が異なることにより第3図
に示すように反りが見られ、また、MoSi2、
TaSi2の分解反応でSiO2気体が発生することによ
り第4図に示すようにふくれが生じ、実用に供す
ることができなかつた。なお、11aは上記磁器
層1a,14aは上記磁器層4a,13aは上記
厚膜抵抗体3aにそれぞれ対応する磁器層、厚膜
抵抗体である。
比較例 2
(MoSi2−BaF2ガラス系抵抗体材料)
MoSi270重量部、BaF220重量部と、SiO2、
ZnO、ZrO2、CaO、Al2O3からなるガラスフリツ
ト10重量部とをボールミルで混合し、得られた粉
末をアルゴン(Ar)ガス雰囲気中1200℃で熱処
理した後、これをエタノールとともにポツトミル
中アルミナボールで24時間粉砕し、乾燥させて
10μm以下の微粉末を得た。
この抵抗体材料ペーストを用いた以外は実施例
1と同様にして多層セラミツク基板を得た。この
多層セラミツク基板の厚膜抵抗体についても実施
例1と同様にして求めたR25、TCR及び抵抗値の
変化率を表4に示す。[Table] Comparative Example 1 (MoSi 2 - TaSi 2 glass-based resistor material) A mixture of 16 parts by weight of MoSi 2 and 9 parts by weight of TaSi 2 was heated at 1400°C in vacuum, and the product was mixed with alumina in a pot mill with ethanol. It was ground with a ball for 24 hours and dried to obtain a fine powder of 10 μm or less. For 25 parts by weight of the fine powder thus obtained, BaO,
75 parts by weight of glass frit consisting of B 2 O 3 , MgO, CaO, SiO 2 and 25 parts by weight of an organic vehicle (20 parts by weight of butyl carbitol, 5 parts by weight of ethyl cellulose) were added and mixed in a roll mill to form a resistor material paste. I got it. A multilayer ceramic substrate was obtained in the same manner as in the example except that this resistor material paste was used. As a result, we formed a resistor material coating on a ceramic green sheet, heat-treated it to remove organic matter, and then fired it simultaneously. As shown in Figure 3, warpage is observed, and MoSi 2 ,
The decomposition reaction of TaSi 2 generated SiO 2 gas, which caused blistering as shown in Figure 4, making it impossible to put it to practical use. Note that 11a is the ceramic layer 1a, 14a is the ceramic layer 4a, and 13a is the ceramic layer and thick film resistor corresponding to the thick film resistor 3a, respectively. Comparative Example 2 (MoSi 2 -BaF 2 glass-based resistor material) 70 parts by weight of MoSi 2 , 20 parts by weight of BaF 2 , SiO 2 ,
10 parts by weight of glass frit consisting of ZnO, ZrO 2 , CaO, and Al 2 O 3 are mixed in a ball mill, and the resulting powder is heat-treated at 1200°C in an argon (Ar) gas atmosphere. Grind in a bowl for 24 hours and dry
A fine powder of 10 μm or less was obtained. A multilayer ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that this resistor material paste was used. Table 4 shows the R 25 , TCR, and rate of change in resistance value obtained for the thick film resistor of this multilayer ceramic substrate in the same manner as in Example 1.
【表】
上記結果より、実施例の多層セラミツク基板は
いずれも反り、ふくれがなく、抵抗値の変化率も
±2%以内であるのに対し、比較例1の多層セラ
ミツク基板は反りが見られ、比較例2の多層セラ
ミツク基板は抵抗値の変化率が4倍も大きいこと
がわかる。
なお、上記はモリブデン酸塩の混合物について
述べたが、上記各単独元素のモリブデン酸塩、複
数元素の複合モリブデン酸塩を単独、あるいは各
群内のそれぞれを各々においてあるいは両方を混
合して使用した場合にも同様の効果が得られるこ
とは勿論である。
発明の効果
本発明によれば、上記(A)ないし(G)の少なくとも
2つの群の各群少なくとも1種のモリブデン酸塩
を含有する電気抵抗体を提供できるので、例えば
これらのモリブデン酸塩及びガラスを主成分とす
る組成の抵抗体材料を用いて、例えば卑金属導体
材料とともに非酸化性雰囲気中でセラミツクグリ
ーシートとともに焼成することにより抵抗体を形
成するようにすると、焼成することにより焼成体
に反りやふくれが生じるようなことはなく、ま
た、抵抗体の特に高湿度下の経時変化を小さくで
きる。
これにより、抵抗体を組み込んだ回路基板の小
型化、コストの低減の両方の要求を満たし、回路
基板の一層の性能の向上に寄与できる。
また、前記の該当する原子のモリブデン酸塩を
例えばガラスと熱処理し、この熱処理した抵抗体
材料を焼成して抵抗体にすると、抵抗の温度変化
係数の絶対値を小さくすることができ、回路の性
能をさらに向上することができる。[Table] From the above results, the multilayer ceramic substrates of Examples have no warping or blistering, and the rate of change in resistance value is within ±2%, whereas the multilayer ceramic substrate of Comparative Example 1 shows no warping. It can be seen that the multilayer ceramic substrate of Comparative Example 2 has a rate of change in resistance value that is four times larger. In addition, although the above described a mixture of molybdates, the molybdates of each single element and the composite molybdates of multiple elements may be used alone, each of each group may be used individually, or both may be mixed. Of course, similar effects can be obtained in other cases as well. Effects of the Invention According to the present invention, it is possible to provide an electrical resistor containing at least one type of molybdate in each group of at least two groups (A) to (G). If a resistor is formed by using a resistor material whose main component is glass and firing it together with a base metal conductor material and a ceramic grease sheet in a non-oxidizing atmosphere, the fired body will be formed by firing. Warping or blistering does not occur, and changes in the resistor over time, especially under high humidity conditions, can be reduced. This satisfies the demands for both miniaturization and cost reduction of a circuit board incorporating a resistor, and contributes to further improvement in the performance of the circuit board. Furthermore, if the molybdate of the above-mentioned corresponding atoms is heat-treated with glass, for example, and the heat-treated resistor material is fired to make a resistor, the absolute value of the temperature change coefficient of resistance can be reduced, and the circuit Performance can be further improved.
第1図は本発明の電気抵抗体を製造するときの
焼成前の抵抗体材料塗膜と導体材料塗膜を基板に
形成し、多層構造にしようとする状態の一例を示
す図、第2図はその焼成体の断面図、第3図は従
来の抵抗体材料を使用して多層構造にしたときの
焼成体の断面図、第4図はさらにその焼成体にガ
スが発生した状態を示す説明図、第5図は本発明
の実施例の試料No.1の電気抵抗体から該当するモ
リブデン酸塩を検出したときのX線回折図であ
る。
図中、1,4はグリーンシート片、2は導体材
料塗膜、3は抵抗体材料塗膜、1a,4aは磁器
層、2aは厚膜導体、3aは厚膜抵抗体である。
Fig. 1 is a diagram showing an example of a state in which a resistor material coating film and a conductor material coating film before firing are formed on a substrate to form a multilayer structure when manufacturing the electrical resistor of the present invention, and Fig. 2 is a cross-sectional view of the fired body, Figure 3 is a cross-sectional view of the fired body when it has a multilayer structure using conventional resistor materials, and Figure 4 is an explanation showing the state in which gas is generated in the fired body. FIG. 5 is an X-ray diffraction diagram when the corresponding molybdate was detected from the electrical resistor of sample No. 1 of the example of the present invention. In the figure, 1 and 4 are green sheet pieces, 2 is a conductor material coating, 3 is a resistor material coating, 1a and 4a are ceramic layers, 2a is a thick film conductor, and 3a is a thick film resistor.
Claims (1)
ら選ばれた各群少なくとも1種のモリブデン酸塩
を含有する焼成体を有することを特徴とする電気
抵抗体。 (A) アルカリ土類金属のモリブデン酸塩 (B) 亜鉛のモリブデン酸塩 (C) Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luの各元素のモリ
ブデン酸塩及びこれらの複数元素の複合モリブ
デン酸塩 (D) アルミニウムのモリブデン酸塩 (E) ジルコニウム、ハフニウムの各元素のモリブ
デン酸塩及びこれらの複合モリブデン酸塩 (F) ニオブ、タンタルの各元素のモリブデン酸塩
及びこれらの複合モリブデン酸塩 (G) マンガンのモリブデン酸塩 2 焼成体は(A)ないし(G)の該当する群の該当する
モリブデン酸塩及びその前駆体の内の少なくとも
一種を主成分に含有する抵抗体材料から焼成され
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
電気抵抗体。 3 抵抗体材料の主成分は(A)ないし(G)の該当する
群の該当するモリブデン酸塩及びその前駆体の内
の少なくとも一種を当該モリブデン酸塩に換算し
て50〜96重量%と、ガラス4〜50重量%とからな
ることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の
電気抵抗体。 4 主成分に下記(A)ないし(G)の内の少なくとも2
つの群から選ばれた各群少なくとも1種のモリブ
デン酸塩及びその前駆体の内の少なくとも一種を
含有する抵抗体材料を熱処理し、この熱処理して
得られた抵抗体材料を用いて焼成し、下記の内の
少なくとも2つの群から選ばれた各群少なくとも
1つのモリブデン酸塩を含有する焼成体からなる
電気抵抗体を得ることを特徴とする電気抵抗体の
製造方法。 (A) アルカリ土類金属のモリブデン酸塩 (B) 亜鉛のモリブデン酸塩 (C) Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luの各元素のモリ
ブデン酸塩及びこれらの複数元素の複合モリブ
デン酸塩 (D) アルミニウムのモリブデン酸塩 (E) ジルコニウム、ハフニウムの各元素のモリブ
デン酸塩及びこれらの複合モリブデン酸塩 (F) ニオブ、タンタルの各元素のモリブデン酸塩
及びこれらの複合モリブデン酸塩 (G) マンガンのモリブデン酸塩 5 熱処理前の抵抗体材料の主成分は(A)ないし(G)
の該当する群の該当するモリブデン酸塩及びその
前駆体の内の少なくとも一種を当該モリブデン酸
塩に換算して50〜96重量%と、ガラス4〜50重量
%とからなることを特徴とする特許請求の範囲第
4項記載の電気抵抗体の製造方法。[Scope of Claims] 1. An electrical resistor characterized by having a fired body containing at least one type of molybdate from each group selected from at least two of the following groups (A) to (G): . (A) Alkaline earth metal molybdate (B) Zinc molybdate (C) Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb,
Molybdates of the elements Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu, and composite molybdates of multiple of these elements (D) Molybdates of aluminum (E) Molybdates of the elements zirconium and hafnium, and These composite molybdates (F) Molybdates of each element such as niobium and tantalum, and these composite molybdates (G) Molybdates of manganese 2 The fired product is made of molybdates of the corresponding groups (A) to (G). The electrical resistor according to claim 1, wherein the electrical resistor is fired from a resistor material containing as a main component at least one of the corresponding molybdate and its precursor. 3. The main component of the resistor material is 50 to 96% by weight of at least one of the molybdates and precursors thereof in the relevant groups (A) to (G), calculated as molybdates; The electrical resistor according to claim 2, characterized in that the electrical resistor comprises 4 to 50% by weight of glass. 4 At least two of the following (A) to (G) as the main component
heat-treating a resistor material containing at least one molybdate of each group selected from the three groups and at least one of its precursors, and firing the resistor material obtained by the heat treatment, A method for producing an electrical resistor, which comprises obtaining an electrical resistor comprising a fired body containing at least one molybdate from each group selected from at least two of the following groups. (A) Alkaline earth metal molybdate (B) Zinc molybdate (C) Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb,
Molybdates of the elements Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu, and composite molybdates of multiple of these elements (D) Molybdates of aluminum (E) Molybdates of the elements zirconium and hafnium, and These composite molybdates (F) Molybdates of each element such as niobium and tantalum and their composite molybdates (G) Manganese molybdate 5 The main components of the resistor material before heat treatment are (A) or ( G)
A patent characterized in that at least one of the molybdates and precursors thereof in the relevant group is comprised of 50 to 96% by weight in terms of the molybdate, and 4 to 50% by weight of glass. A method for manufacturing an electrical resistor according to claim 4.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62104413A JPS63272002A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Electric resistor and manufacture thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62104413A JPS63272002A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Electric resistor and manufacture thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63272002A JPS63272002A (en) | 1988-11-09 |
JPH0429201B2 true JPH0429201B2 (en) | 1992-05-18 |
Family
ID=14380008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62104413A Granted JPS63272002A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Electric resistor and manufacture thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63272002A (en) |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP62104413A patent/JPS63272002A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63272002A (en) | 1988-11-09 |
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