JPH04285796A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH04285796A
JPH04285796A JP3074487A JP7448791A JPH04285796A JP H04285796 A JPH04285796 A JP H04285796A JP 3074487 A JP3074487 A JP 3074487A JP 7448791 A JP7448791 A JP 7448791A JP H04285796 A JPH04285796 A JP H04285796A
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JP
Japan
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cell array
cells
storage area
word
chip information
Prior art date
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Application number
JP3074487A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Takemae
義博 竹前
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To store a large capacity chip information without significantly increasing the required area of a semiconductor storage device especially the storage device which has, in addition to an ordinary storage section, an excess storage region within a chip to store an information such as semiconductor chip information. CONSTITUTION:Right next to a cell array 10, which is used to store the data of a semiconductor storage device, a cell group, which has the same kind of cells of the above mentioned cell array, is provided and a storage region 20, which is accessible by a word decoder 12 of the cell array and/or a column decoder 14 through the use of a special operation, is provided and a chip information is written into the cells of the storage region and the data are read out by the special operation. Thus, a large capacity chip information is stored without increasing the required area.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置特に、
通常の記憶部分に加えて、半導体チップに関する等の情
報を蓄えるための余分の記憶領域をチップ内に備える記
憶装置に関する。EPROMなどではそのシリコンシグ
ネチャーに関する情報(半導体チップに関する情報)を
チップ上の回路に記憶しており、必要時にこれを読出し
て使用する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor memory device, in particular,
The present invention relates to a memory device that includes, in addition to a normal memory portion, an extra memory area within the chip for storing information such as information related to a semiconductor chip. In an EPROM or the like, information regarding the silicon signature (information regarding the semiconductor chip) is stored in a circuit on the chip, and this information is read out and used when necessary.

【0002】0002

【従来の技術】図4に従来例を示す。10はEPROM
のセルアレイ、12はそのワード線WLの選択を行なう
ワードデコーダ、14はビット線BLの選択を行なうコ
ラムデコーダ(センスアンプを含む)、16は周辺回路
で外部からアドレスADDと制御信号SC を取込み、
入/出力装置I/Oとデータの授受を行なう。例えば書
込みに際してはSC として/WEなどを、ADDとし
て書込みアドレスを、I/Oとして書込みデータを周辺
回路16へ供給し、これでワードデコーダ12にワード
線WLを選択させ、コラムデコーダ14にビット線BL
を選択させ、これらの交点部のメモリセルMCに上記書
込みデータを書込ませる。書込みデータの伝送経路はI
/O,16,14,BL,MCである。また読出しに際
してはSC として/WEの反転を、ADDとして読出
しアドレスを与え、これでワードデコーダ、コラムデコ
ーダにワード線、ビット線の選択をさせ、これらの交点
部のメモリセルMCの記憶データをBL,14,16,
I/Oの経路で取出す。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a conventional example. 10 is EPROM
12 is a word decoder that selects the word line WL; 14 is a column decoder (including a sense amplifier) that selects the bit line BL; 16 is a peripheral circuit that receives an address ADD and a control signal SC from the outside;
It exchanges data with the input/output device I/O. For example, when writing, supply /WE etc. as SC, the write address as ADD, and the write data as I/O to the peripheral circuit 16, which causes the word decoder 12 to select the word line WL, and the column decoder 14 to select the bit line. BL
are selected, and the write data is written into the memory cells MC at the intersections thereof. The write data transmission path is I.
/O, 16, 14, BL, MC. In addition, when reading, the inversion of /WE is given as SC and the read address is given as ADD, which causes the word decoder and column decoder to select the word line and bit line, and the data stored in the memory cell MC at the intersection of these is sent to BL. ,14,16,
Extract via I/O route.

【0003】このような記憶装置でチップ情報を、セル
アレイ10などとは別の記憶手段18に書込んでおき、
ある端子ピンを高電圧を印加する等の特殊操作によりチ
ップ情報CIを読出す。チップ情報CIは例えばこの記
憶装置のテストで使用され、この場合I/Oには記憶装
置の試験装置が接続されて、該CIは18,16,I/
Oの経路で試験装置に取込まれてテスト方法の決定など
に用いられる。記憶手段18は具体的にはマスクROM
であり、記憶装置の製造段階でこれを作製し、データを
書込んでおく。
In such a memory device, chip information is written in a memory means 18 separate from the cell array 10, etc.
Chip information CI is read out by a special operation such as applying a high voltage to a certain terminal pin. The chip information CI is used, for example, in testing this storage device. In this case, a storage device testing device is connected to the I/O, and the CI is 18, 16, I/O.
It is taken into the test equipment via the route O and used for determining the test method. Specifically, the storage means 18 is a mask ROM.
This is created at the manufacturing stage of the storage device and data is written therein.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】チップ情報は現状では
数バイト程度であり、大容量ではない。数バイトなら、
データ線は8本、1バイトとしても、8個の1ビット記
憶素子が数組あればよく、これらをセレクタによりデー
タ線へ接続し、バイト単位で読出すことができる。この
ようにチップ情報が小容量であれば回路的に記憶するこ
とで充分であるが、これらの情報は今後増えることが予
想される。数百バイト、数キロバイトと増えた場合は、
これらを周辺回路の一部として蓄える事は所要面積が大
になり、集積度の低下を招く恐れがある。本発明はかゝ
る点を改善し、所要面積をそれほど増加することなく、
大容量チップ情報を格納できるようにすることを目的と
するものである。
[Problems to be Solved by the Invention] Currently, chip information is about several bytes, and does not have a large capacity. If it's a few bytes,
Even if there are 8 data lines and 1 byte, several sets of 8 1-bit storage elements are sufficient, and these can be connected to the data lines by a selector and read out in byte units. If the chip information has a small capacity as described above, it is sufficient to store it in a circuit, but it is expected that the amount of such information will increase in the future. If the size increases to hundreds of bytes or kilobytes,
Storing these as part of the peripheral circuit increases the required area, which may lead to a decrease in the degree of integration. The present invention improves these points without significantly increasing the required area.
The purpose is to be able to store large amounts of chip information.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】図1に示すように本発明
では、チップ情報の記憶領域20を通常のデータ記憶用
のセルアレイ10に隣接して設ける。記憶領域20のメ
モリセルはセルアレイ10のそれと同じであり、同じビ
ット線BLに接続し従ってコラムデコーダ14により選
択される。図1(a)ではかゝるメモリセルが1ワード
線分設けられ、図1(b)では複数ワード線分設けられ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION As shown in FIG. 1, in the present invention, a chip information storage area 20 is provided adjacent to a cell array 10 for normal data storage. The memory cells in storage area 20 are the same as those in cell array 10, are connected to the same bit line BL, and are therefore selected by column decoder 14. In FIG. 1(a), such memory cells are provided for one word line, and in FIG. 1(b), such memory cells are provided for a plurality of word lines.

【0006】[0006]

【作用】この図1の構成では、大きな面積を必要とする
ことなく簡単に大容量のチップ情報記憶領域を作ること
ができる。例えばセルアレイ10が1024×1024
=1048576ビットとして、(a)では1ワード線
分であるから1024ビットの、また(b)では4ワー
ド線分とすればその4倍の4096ビットの記憶領域が
簡単に得られる。
[Operation] With the configuration shown in FIG. 1, a large capacity chip information storage area can be easily created without requiring a large area. For example, the cell array 10 is 1024×1024
Assuming that =1048576 bits, in (a) it is one word line, so 1024 bits can be easily obtained, and in (b) if it is four word lines, a storage area of 4096 bits, which is four times that amount, can easily be obtained.

【0007】これらのメモリセルを選択するに必要なコ
ラムデコーダは、通常のセルアレイ10のコラムデコー
ダ14を利用できるまた(b)ではワード線選択もワー
ドデコーダ12を利用してできる。(a)では記憶領域
20のワード線WLa は、ワードデコーダでは選択し
ないが、ある端子ピンへ高電圧を加える等の特殊操作で
選択状態(Hレベル)にすることができる。また(b)
ではワードデコーダ12で記憶領域20のワード線WL
a 〜WLnを選択するが、これも特殊操作で行なうこ
とができる。例えばある信号が入ったときワードデコー
ダ12は、セルアレイ10のワード線でなく記憶領域2
0のワード線を、入力アドレスビットに従って選択する
ようにすることができる。上記のある信号は、セルアレ
イのアドレスはA0 〜A16としてその次のA17ビ
ットとすることができる。記憶領域20のメモリセルは
セルアレイ10のメモリセルと全く同じでなくてもよく
、同じワード線、ビット線で選択できるものであればよ
い。勿論不揮発性である必要はある。
The column decoder necessary to select these memory cells can be the column decoder 14 of the normal cell array 10. In (b), word line selection can also be performed using the word decoder 12. In (a), the word line WLa of the storage area 20 is not selected by the word decoder, but it can be brought into a selected state (H level) by a special operation such as applying a high voltage to a certain terminal pin. Also (b)
Then, the word decoder 12 selects the word line WL of the storage area 20.
A to WLn are selected, but this can also be done by special operation. For example, when a certain signal is input, the word decoder 12 selects the memory area 2 instead of the word line of the cell array 10.
The zero word line may be selected according to the input address bits. For the certain signal mentioned above, the address of the cell array can be set to A0 to A16 and the next A17 bit. The memory cells in the storage area 20 do not have to be exactly the same as the memory cells in the cell array 10, as long as they can be selected by the same word line and bit line. Of course, it needs to be non-volatile.

【0008】[0008]

【実施例】図1の記憶装置を更に説明すると、この記憶
装置のデータ線は本例では8本で、セルアレイ10への
書込み/読取りはバイト単位で行なわれる。これに合わ
せて記憶領域20の書込み/読取りもバイト単位で行な
われ、選択セル群の変更は図1(a)ではコラムアドレ
スを変えることにより、また図1(b)ではこれに加え
てワードアドレスを変えることにより行なわれる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS To further explain the memory device shown in FIG. 1, this memory device has eight data lines in this example, and writing/reading to/from the cell array 10 is performed in units of bytes. In line with this, writing/reading of the storage area 20 is also performed in byte units, and the selected cell group can be changed by changing the column address in FIG. 1(a), and in addition to this by changing the column address in FIG. This is done by changing the .

【0009】記憶領域20へのアクセスのための特殊操
作の一方式はある端子ピンへの高電圧印加であるが、図
2(a)では該端子ピンとしてアドレス端子ピンを使用
する。即ち本例の記憶装置にはVSS端子、VCC端子
、/CE端子、16ビットのアドレスの各端子A0 〜
A16、及び8ビットデータ入出力用の各端子I/O0
〜7があるが、チップ情報リード時にはこれらのうちの
A16端子に高電圧を印加して記憶領域20を選択する
。また図2(b)では記憶領域20用の特別の端子/C
Iを設け、通常はこの端子にHレベルを印加するが、記
憶領域20へのアクセス時には該端子にLレベルを印加
する。
One method of special operation for accessing the storage area 20 is to apply a high voltage to a certain terminal pin, and in FIG. 2(a), an address terminal pin is used as the terminal pin. That is, the storage device of this example has a VSS terminal, a VCC terminal, a /CE terminal, and 16-bit address terminals A0 to A0.
A16 and each terminal I/O0 for 8-bit data input/output
7 to 7, and when reading chip information, a high voltage is applied to the A16 terminal of these to select the storage area 20. In addition, in FIG. 2(b), a special terminal /C for the storage area 20 is
Normally, H level is applied to this terminal, but when accessing the storage area 20, L level is applied to this terminal.

【0010】図3は他の実施例を示す。図1ではチップ
情報用の記憶領域20はワード線方向に設けるが、図3
(a)ではビット線方向に設ける。記憶領域20の容量
は1ワード線分または複数ワード線分とする。セルアレ
イ10はやはり1024×1024ビットとすると、記
憶領域20の容量は1ワード線分で1024ビット、複
数ワード線分でその複数倍である。記憶領域20のセル
選択は、前者ならワードアドレスを変えて、後者ならワ
ードアドレスとコラムアドレスを変えて行なう。記憶領
域20のセルはセルアレイ10のセルと同じでないこと
もあり、この場合セルアレイ10のセルより大型である
こともある。例えばセルアレイ10のメモリセルはSR
AMまたはDRAMセル、記憶領域20のメモリセルは
EPROMセル、などの場合がそれである。大型である
と同じピッチで配列するのは容易でない。図3(b)は
かゝる場合に対処するもので、記憶領域20ではセルア
レイ10のワード線のうち、2本に1本しか記憶領域2
0へ延びない。このようにすれば記憶領域20ではスペ
ースが広くなるから、大型のメモリセルも充分収容でき
る。この場合、記憶領域20をアクセスするワードアド
レスは、セルアレイ10をアクセスするそれに比べて、
例えば最下位のワードアドレスビットを除いたものとす
ればよい。
FIG. 3 shows another embodiment. In FIG. 1, the storage area 20 for chip information is provided in the word line direction, but in FIG.
In (a), it is provided in the bit line direction. The capacity of the storage area 20 is assumed to be one word line or multiple word lines. Assuming that the cell array 10 is 1024×1024 bits, the capacity of the storage area 20 is 1024 bits for one word line, and multiple times that amount for multiple word lines. Cell selection in the storage area 20 is performed by changing the word address in the former case, and by changing the word address and column address in the latter case. The cells of storage area 20 may not be the same as the cells of cell array 10, and in this case may be larger than the cells of cell array 10. For example, the memory cells of the cell array 10 are SR
Such cases include AM or DRAM cells, memory cells in the storage area 20 are EPROM cells, and the like. If they are large, it is not easy to arrange them at the same pitch. FIG. 3B deals with such a case; in the storage area 20, only one out of every two word lines of the cell array 10 is connected to the storage area 20.
It does not extend to 0. In this way, the space in the storage area 20 becomes larger, so that large-sized memory cells can be accommodated sufficiently. In this case, the word address for accessing the storage area 20 is smaller than that for accessing the cell array 10.
For example, the lowest word address bit may be removed.

【0011】[0011]

【発明の効果】以上説明したように本発明では、簡単に
大容量のチップ情報格納用記憶領域を確保することがで
きる。格納情報が大容量になるとメモリセルはマトリク
ス状に配列するのが有利であるが、この場合は該マトリ
クスの縦/横線(ワード/ビット線)を選択するデコー
ダが必要になるが、本発明ではこれらは既設のメモリセ
ルアレイのそれを利用するので、この点でも所要面積の
節減ができる。
As explained above, according to the present invention, a large capacity storage area for storing chip information can be easily secured. When storing a large amount of information, it is advantageous to arrange memory cells in a matrix, but in this case a decoder is required to select the vertical/horizontal lines (word/bit lines) of the matrix. Since these utilize the existing memory cell array, the required area can also be reduced in this respect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の原理図である。FIG. 1 is a diagram showing the principle of the present invention.

【図2】本発明の実施例の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of another embodiment of the present invention.

【図4】従来例の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10  セルアレイ 12  ワードデコーダ 14  コラムデコーダ 16  周辺回路 20  記憶領域 WL  ワード線 BL  ビット線 10 Cell array 12 Word decoder 14 Column decoder 16 Peripheral circuit 20 Storage area WL word line BL bit line

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  チップ情報を具備する半導体記憶装置
において、データ記憶用のセルアレイ(10)に隣接し
て、該セルアレイのセルと同種のセル群を有し、特殊操
作を施すことで該セルアレイのワードデコーダ(12)
及び又はコラムデコーダ(14)でアクセス可能な記憶
領域(20)を設け、該記憶領域のセルにチップ情報を
書込んでおき、特殊操作でそれを読出し可能にしたこと
を特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device equipped with chip information, which has a group of cells of the same type as the cells of the cell array adjacent to a cell array (10) for data storage, and which has a group of cells of the same type as the cells of the cell array by performing a special operation. Word decoder (12)
A semiconductor memory device characterized in that a storage area (20) accessible by a column decoder (14) is provided, chip information is written in the cells of the storage area, and it is made readable by a special operation. .
【請求項2】  記憶領域(20)は、セルアレイのワ
ード線方向に延び、該セルアレイの1または複数ワード
線分のメモリセルを有することを特徴とする請求項1記
載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the storage area (20) extends in the word line direction of the cell array and has memory cells for one or more word lines of the cell array.
【請求項3】  記憶領域(20)は、セルアレイのビ
ット線方向に延び、該セルアレイの1または複数ビット
線分のメモリセルを有することを特徴とする請求項1記
載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the storage area (20) extends in the bit line direction of the cell array and has memory cells for one or more bit lines of the cell array.
【請求項4】  記憶領域(20)へはセルアレイのワ
ード線が1ないし複数本置きに延び、該記憶領域のセル
密度はセルアレイのセル密度の複数分の1であることを
特徴とする請求項3記載の半導体記憶装置。
4. A cell array according to claim 1, wherein one or more word lines of the cell array extend to the memory area (20) every other word line, and the cell density of the memory area is a plurality of the cell density of the cell array. 3. The semiconductor storage device according to 3.
JP3074487A 1991-03-14 1991-03-14 Semiconductor storage device Pending JPH04285796A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013030269A (en) * 2012-11-08 2013-02-07 Spansion Llc Nonvolatile storage device
JP2015179561A (en) * 2015-06-10 2015-10-08 ラピスセミコンダクタ株式会社 Semiconductor storage device

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Effective date: 20010424