JPH04274808A - Grinding device and method for circular member, columnar or cylindrical member and material to be rolled - Google Patents

Grinding device and method for circular member, columnar or cylindrical member and material to be rolled

Info

Publication number
JPH04274808A
JPH04274808A JP3032787A JP3278791A JPH04274808A JP H04274808 A JPH04274808 A JP H04274808A JP 3032787 A JP3032787 A JP 3032787A JP 3278791 A JP3278791 A JP 3278791A JP H04274808 A JPH04274808 A JP H04274808A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
polished
polishing
pad
cylindrical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3032787A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2696276B2 (en
Inventor
Norihiko Okochi
大河内 敬彦
Hiromi Kagohara
楮原 広美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP3032787A priority Critical patent/JP2696276B2/en
Publication of JPH04274808A publication Critical patent/JPH04274808A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2696276B2 publication Critical patent/JP2696276B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Reduction Rolling/Reduction Stand/Operation Of Reduction Machine (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

PURPOSE:To maintain specified cutting quality as grinding is executed by a slurry 4 contg. an abrasive and consequently to prevent working flaws, such as feed marks and to greatly enhance roundness. CONSTITUTION:This device has a driving device for rotating a cylindrical material 1 to be ground, a pad 3 to be pressed to this material to be ground, a pressing means for pressing this pad to the material to be ground, and a slurry supplying means 11 for supplying the slurry 4 contg. the abrasive between the material to be ground and the pad.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、圧延用ロール等の円形
部材の研磨装置及び方法さらに円形部材及び被圧延材に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and method for polishing circular members such as rolling rolls, and also to circular members and rolled materials.

【0002】0002

【従来の技術】従来の円形部材の研磨装置は、大きく分
けて以下の3つのものがあった。1つは研削を主目的と
するバイトを用いた旋盤加工である。2つめは回転砥石
を用いた円筒研削及び円筒研磨である(特開昭61−7
1953号公報、特開平1−199705号公報)。3
つめは特に小物品で真円度の優れたセンタレス加工であ
る。
2. Description of the Related Art Conventional polishing devices for circular members can be roughly divided into the following three types. One is lathe processing using a cutting tool whose main purpose is grinding. The second method is cylindrical grinding and cylindrical polishing using a rotating grindstone (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-7
1953, JP-A-1-199705). 3
The pawl is a centerless process that provides excellent roundness, especially for small items.

【0003】0003

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、いず
れも研磨装置のガタや振動などが加工精度を低下させ、
特に真円度の低下や送りマーク等の加工傷を発生させて
いた。ここで、真円度とは円形部材の円形外表面の最外
径と最小径との差を言い、小さいほど真円度は優れてい
ることになる。すなわち真円度が優れていると前記外表
面の周方向うねりが小さいことになる。最も一般的に用
いられる回転砥石による円形部材の研磨においては、被
研磨物と回転砥石の軸が、いずれも固定されているので
、回転砥石の動バランスの不完全による砥石振れ、また
主軸及び砥石軸のベアリングのガタ、更にスライドテー
ブルのガタ等が真円度を低下させ、また送りマーク等の
加工傷を生じさせる原因となっていた。
[Problems to be Solved by the Invention] In all of the above-mentioned conventional techniques, backlash and vibration of the polishing device reduce machining accuracy.
In particular, it caused a decrease in roundness and machining scratches such as feed marks. Here, roundness refers to the difference between the outermost diameter and the minimum diameter of the circular outer surface of a circular member, and the smaller the difference, the better the roundness. That is, when the roundness is excellent, the circumferential waviness of the outer surface is small. When polishing a circular member using a rotary whetstone, which is the most commonly used method, both the workpiece to be polished and the shaft of the rotary whetstone are fixed. The play in the shaft bearing and the slide table reduce roundness and cause machining scratches such as feed marks.

【0004】特に被研磨物が硬質になつた場合には、研
磨面圧が高くなり、前記のような不良現象は増加する傾
向にあった。また回転砥石による円形部材の研磨では、
研磨時間が長くなると砥石の切れが悪くなったり、砥石
の偏摩耗が起こるため、かじり等による加工傷が発生し
ていた。そのため、所定時間毎に砥石の目立て等を行な
ったり、また熟練した作業者のみが加工するといった作
業性低下の原因となっていた。例えば従来の回転砥石を
用いた研磨では真円度は1〜2μm程度であり、送りマ
ークを完全に除去することは困難であった。
[0004] Particularly when the object to be polished becomes hard, the polishing surface pressure increases, and the above-mentioned defective phenomena tend to increase. In addition, when polishing circular parts with a rotating whetstone,
As the polishing time becomes longer, the grindstone becomes harder to sharpen and wears unevenly, resulting in scratches caused by galling. Therefore, the grindstone has to be sharpened at predetermined intervals, and only skilled workers are required to process the grindstone, resulting in a decrease in work efficiency. For example, in conventional polishing using a rotating grindstone, the roundness is about 1 to 2 μm, and it is difficult to completely remove the feed marks.

【0005】本発明の目的は、研磨装置のガタや振動、
また砥石の切れ味の低下等による加工精度の低下を本質
的に改善し、真円度に優れ即ち円形部材の外表面の周方
向うねりが小さく、送りマーク等の加工傷の少ない円形
部材の研磨装置及び方法、更に円形部材及び被圧延材を
提供することにある。
[0005] The purpose of the present invention is to reduce backlash and vibration of polishing equipment,
In addition, it essentially improves the reduction in processing accuracy due to reductions in sharpness of the grindstone, etc., and has excellent roundness, i.e., small circumferential waviness on the outer surface of the circular member, and a polishing device for circular members with fewer processing scratches such as feed marks. The object of the present invention is to provide a method, a circular member, and a rolled material.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
、本発明は、円柱又は円筒状被研磨物を円周方向に回転
させる駆動装置と、該被研磨物の円周面に押し当てられ
る当て物と、この当て物を前記被研磨物に押し当てる押
圧手段と、研磨剤を含むスラリーを前記被研磨物と当て
物との間に供給するスラリー供給手段とを備えた円形部
材の研磨装置である。ここで、当て物は、被研磨物の研
磨面より軟質材で形成されているものがよい。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a drive device that rotates a cylindrical or cylindrical object to be polished in the circumferential direction, and a drive device that is pressed against the circumferential surface of the object to be polished. This is a polishing device for a circular member, comprising a pad, a pressing means for pressing the pad against the object to be polished, and a slurry supply means for supplying slurry containing an abrasive between the object to be polished and the pad. Here, the pad is preferably made of a material softer than the polished surface of the object to be polished.

【0007】また、本発明は、円柱又は円筒状の被研磨
物を円周方向に回転させると共に軸方向に平行に往復移
動させる駆動装置と、該被研磨物円周面に押し当てられ
円周面の少なくとも2個所で接触する当て物と、該当て
物を前記被研磨物に押し当てる押圧手段と、研磨砥粒を
含むスラリーを前記被研磨物と当て物との間に供給する
スラリー供給手段とを備えたことを特徴とする円形部材
の研磨装置である。
The present invention also provides a drive device that rotates a columnar or cylindrical object to be polished in the circumferential direction and reciprocates it parallel to the axial direction, and A pad that contacts at least two places on the surface, a pressing means for pressing the corresponding object against the object to be polished, and a slurry supply means for supplying a slurry containing abrasive grains between the object to be polished and the pad. A polishing apparatus for a circular member is characterized in that it is equipped with the following features.

【0008】前記研磨装置において、当て物は、被研磨
物の半径方向の動きに追従して揺動可能で且つ非回転で
接触しているものがよい。また、当て物は、被研磨物と
の接触面が凹曲面に形成されているものがよい。また前
記当て物は被研磨物の同一円周面上で少なくとも2個所
で接触する構造を有するものがよい。
[0008] In the above-mentioned polishing apparatus, it is preferable that the pad is swingable to follow the radial movement of the object to be polished and is in contact with the object in a non-rotating manner. Further, it is preferable that the pad has a concave curved surface in contact with the object to be polished. Further, it is preferable that the pad has a structure in which it contacts at least two places on the same circumferential surface of the object to be polished.

【0009】前記研磨装置において、押圧手段は、当て
物を保持する保持部と、該保持部を一端に回動自在に支
持する支持棒と、この支持棒の他端に設けられた荷重受
け部と、前記支持棒を中間で支持する支点とを備えたも
のがよい。また、押圧手段は、当て物を保持する保持部
と、該保持部をばね力又は磁気力により付勢する付勢手
段とを備えたものがよい。
In the polishing device, the pressing means includes a holding part that holds the pad, a support rod that rotatably supports the holding part at one end, and a load receiving part provided at the other end of the support rod. , and a fulcrum that supports the support rod in the middle. Further, the pressing means preferably includes a holding part that holds the pad, and an urging means that urges the holding part by a spring force or magnetic force.

【0010】前記研磨装置において、スラリー供給手段
は、前記被研磨物と当て物との間を連続的にスラリーを
通過させるものがよい。
[0010] In the polishing apparatus, it is preferable that the slurry supply means continuously passes the slurry between the object to be polished and the pad.

【0011】また本発明は、周方向に回転する円柱又は
円筒状被研磨物の円周面に非回転の当て物を押し当てな
がら研磨砥粒を含むスラリーを前記被研磨物と当て物と
の間に供給して研磨する円形部材の研磨方法である。
[0011] Further, in the present invention, while pressing a non-rotating pad against the circumferential surface of a cylinder or cylindrical object rotating in the circumferential direction, a slurry containing abrasive grains is applied between the object to be polished and the pad. This is a method of polishing a circular member by supplying and polishing it.

【0012】また本発明は、回転しながら軸方向に平行
に往復移動する円柱又は円筒状の被研磨物の円周面の少
なくとも2個所に当て物を接触させて押圧すると共に、
前記当て物を被研磨物の半径方向の動きに応じて押圧方
向に自在に移動可能にし且つ研磨砥粒を含むスラリーを
前記被研磨物と当て物との間に供給して研磨することを
特徴とする円形部材の研磨方法である。ここで、前記研
磨砥粒を研磨初期に粗く、順次細かい砥粒によって研磨
するのがよい。また、研磨剤を含むスラリーを前記被研
磨物と当て物との間に連続的に通過させるのがよい。ま
た、被研磨物の表面を1〜5μm削るのがよい。
[0012] Further, the present invention provides a method of bringing a pad into contact with and pressing at least two places on the circumferential surface of a columnar or cylindrical object to be polished that reciprocates in parallel with the axial direction while rotating.
The polishing is performed by making the pad freely movable in the pressing direction according to the movement of the object to be polished in the radial direction, and supplying slurry containing abrasive grains between the object to be polished and the pad. This is a method of polishing a circular member. Here, it is preferable to use coarse abrasive grains at the initial stage of polishing, and then use finer abrasive grains in sequence. Further, it is preferable to continuously pass a slurry containing an abrasive between the object to be polished and the pad. Further, it is preferable to shave the surface of the object to be polished by 1 to 5 μm.

【0013】また本発明はセラミックス焼結体より成り
、外表面の周方向うねりが、0.3μm以下に形成され
ていることを特徴とする円柱状又は円筒状部材である。 また本発明は、金属部材より成り、外表面の周方向うね
りが、1μm以下に形成されていることを特徴とする円
柱状又は円筒状部材である。ここで、全長にわたってほ
ぼ同じ研磨面を有するものがよい。また、前記セラミッ
クス又は金属部材は圧延用ロールであるものがよい。ま
た、ロール表面は研削条痕の方向性がなくランダムであ
るものがよい。
The present invention also provides a cylindrical or cylindrical member made of a ceramic sintered body, characterized in that the outer surface has a circumferential waviness of 0.3 μm or less. The present invention also provides a cylindrical or cylindrical member made of a metal member, characterized in that the outer surface has a circumferential waviness of 1 μm or less. Here, it is preferable that the polishing surface be approximately the same over the entire length. Further, the ceramic or metal member is preferably a rolling roll. Further, it is preferable that the grinding marks on the roll surface be random and have no directionality.

【0014】また本発明は、芯材の外周を外層材で覆っ
た金属圧延用複合ロールにおいて、前記芯材はシヨア硬
さが35以上で前記外層材より低い硬さを有する低合金
鋼よりなり、前記外層材はショア硬さが80以上及び残
留オーステナイト量が15体積%以下のマルテンサイト
組織で、外表面周方向うねりが1μm以下、最外表面に
圧縮残留応力を有し、ロール軸方向に凝固した高合金鋼
からなることを特徴とする金属圧延用複合ロールである
The present invention also provides a composite roll for metal rolling in which the outer periphery of a core material is covered with an outer layer material, wherein the core material is made of low alloy steel having a shore hardness of 35 or more and lower hardness than the outer layer material. , the outer layer material has a martensitic structure with a Shore hardness of 80 or more and a residual austenite content of 15% by volume or less, has an outer surface circumferential waviness of 1 μm or less, has compressive residual stress on the outermost surface, and has a compressive residual stress in the roll axis direction. This is a composite roll for metal rolling, characterized by being made of solidified high-alloy steel.

【0015】また本発明は、芯材の外周を外層材で覆っ
た金属圧延用複合ロールにおいて、前記芯材は重量でC
0.5〜1.0%、Si1%以下、Mn1%以下、Cr
1〜5%、Mo0.5%以下を含み前記外層材より低い
硬さを有する低合金鋼よりなり、前記外層材は重量でC
0.5〜1.5%、Si0.5〜3.0%、Mn1.5
%以下、Cr2〜10%、Mo1〜12%、V0.5〜
2.0%、W0.1〜20%以下を含む高合金鋼からな
リロール軸方向に凝固した溶着層で、外表面周方向うね
りが1μm以下であることを特徴とする金属圧延用複合
ロールである。
The present invention also provides a composite roll for metal rolling in which the outer periphery of a core material is covered with an outer layer material, wherein the core material has a weight of C.
0.5-1.0%, Si 1% or less, Mn 1% or less, Cr
1 to 5%, and less than 0.5% of Mo, and has a lower hardness than the outer layer material, and the outer layer material has a C content of 0.5% or less by weight.
0.5-1.5%, Si0.5-3.0%, Mn1.5
% or less, Cr2~10%, Mo1~12%, V0.5~
A composite roll for metal rolling, characterized by a weld layer solidified in the axial direction of the re-roll made of high alloy steel containing 2.0% and W0.1 to 20% or less, and an outer surface circumferential waviness of 1 μm or less. be.

【0016】また本発明は、ロール圧延された金属の被
圧延材表面のうねりが0.3μm以下に形成されている
ことを特徴とする被圧延材である。
The present invention also provides a rolled metal material, characterized in that the surface of the rolled metal material has waviness of 0.3 μm or less.

【0017】また本発明は、中間ロールあるいは補強ロ
ールの回転駆動により作業ロールが従回転して圧延を行
う圧延機において、前記作業ロールは長尺丸棒状のセラ
ミックス製ロールからなり、該ロール外表面の周方向う
ねりが0.3μm以下であり、前記作業ロールの各端面
に接して軸受を配設して前記作業ロールの軸方向の動き
を拘束すると共に、前記作業ロールの圧延方向の前後に
前記作業ロールに接して支持ロールを配設して前記作業
ロールの圧延方向の動きを拘束したことを特徴とする圧
延機である。ここで、中間ロール、補強ロール、作業ロ
ール、支持ロールのうち少なくとも1種のロールにクラ
ウンを設けたものがよい。
[0017] The present invention also provides a rolling mill in which a work roll is rotated sub-rotated by the rotational drive of an intermediate roll or a reinforcing roll, wherein the work roll is a ceramic roll in the shape of a long round bar, and the outer surface of the roll is The circumferential waviness of the work roll is 0.3 μm or less, bearings are disposed in contact with each end surface of the work roll to restrain the axial movement of the work roll, and the work roll has a circumferential waviness of 0.3 μm or less, The rolling mill is characterized in that a support roll is disposed in contact with the work roll to restrain movement of the work roll in the rolling direction. Here, it is preferable that at least one of the intermediate roll, reinforcing roll, work roll, and support roll is provided with a crown.

【0018】また本発明は、金属溶湯中で軸受に支持さ
れて回転するロールを備えた溶融金属メッキ装置におい
て、前記ロールの軸摺動部及び軸受の摺動部がセラミッ
クス焼結体からなり、前記ロールは金属からなり、その
軸部外周部が円筒状セラミックス焼結体が嵌合しており
、該焼結体の外表面うねりが0.3μm以下であること
を特徴とする連続溶融金属メッキ装置である。
The present invention also provides a molten metal plating apparatus equipped with a roll that rotates in molten metal while being supported by a bearing, wherein the shaft sliding part of the roll and the sliding part of the bearing are made of a ceramic sintered body, Continuous molten metal plating characterized in that the roll is made of metal, a cylindrical ceramic sintered body is fitted on the outer circumference of the shaft, and the outer surface waviness of the sintered body is 0.3 μm or less. It is a device.

【0019】また本発明は、金属溶湯中で軸受に支持さ
れて回転するシンクロール及びサポートロールを備えた
溶湯金属メッキ装置において、前記シンクロール及びサ
ポートロールの少なくとも一方の前記ロールは金属から
なり、その軸部外周部が固体潤滑剤を含む円筒状セラミ
ックス焼結体が嵌合しており、該焼結体の外表面うねり
が0.3μm以下であることを特徴とする連続溶融金属
メッキ装置である。
The present invention also provides a molten metal plating apparatus equipped with a sink roll and a support roll that rotate while being supported by bearings in the molten metal, wherein at least one of the sink roll and the support roll is made of metal; A continuous hot-dip metal plating apparatus, characterized in that a cylindrical ceramic sintered body containing a solid lubricant is fitted on the outer periphery of the shaft, and the outer surface waviness of the sintered body is 0.3 μm or less. be.

【0020】[0020]

【作用】回転する被研磨物と当て物との間に、研磨材を
含むスラリーを通過させて研磨するので、すなわち研磨
材が流動状態にあって固定されていないため、該研磨材
が多方向に自由度をもって動くことができ研削条痕が発
生しにくい。従って従来の回転砥石で見られたような円
周方向の研磨傷の発生を防止することができる。また研
磨時間の経過による切れ味の低下はなく常に一定の切れ
味を保つことができ、場所による研磨むらや研磨傷の発
生を防止することができる。スラリーに含まれる前記研
磨材の種類としては、SiC、Al2O3、炭化珪素等
のセラミックス粉体やダイヤ等が挙げられるが、被研磨
物を研磨できる硬さのものであればよい。粒径は100
μm以下、望ましくは20μm以下がよい。スラリーに
するため溶媒としては水がよい。防錆剤分散材を添加し
てもよい。
[Operation] Polishing is performed by passing a slurry containing an abrasive between the rotating workpiece and the abutment, that is, the abrasive is in a fluid state and is not fixed, so the abrasive is spread in multiple directions. It can move with a degree of freedom, and grinding marks are less likely to occur. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of polishing scratches in the circumferential direction as seen with conventional rotary grindstones. In addition, the sharpness does not deteriorate with the passage of polishing time, and a constant sharpness can be maintained at all times, and the occurrence of uneven polishing and scratches depending on the location can be prevented. Examples of the abrasive material contained in the slurry include ceramic powders such as SiC, Al2O3, and silicon carbide, and diamond, but any material having a hardness that can polish the object to be polished may be used. Particle size is 100
The thickness is preferably 20 μm or less, preferably 20 μm or less. Water is a good solvent for making a slurry. A rust preventive dispersant may be added.

【0021】また、用いる研磨材の粒度や硬度を変える
ことにより、研磨面の面粗度を適宜変えることができる
。また、前記当て物は、被研磨物より軟質材であるため
、研磨初期において自然に凹部が形成され、均一に被研
磨物に押し当てられ、片当たり等による研磨傷を防止す
ることができる。
Furthermore, by changing the particle size and hardness of the abrasive used, the surface roughness of the polished surface can be changed as appropriate. Further, since the pad is made of a softer material than the object to be polished, a concave portion is naturally formed in the initial stage of polishing, and it is evenly pressed against the object to be polished, thereby preventing polishing scratches due to uneven contact or the like.

【0022】更に、前記当て物は、前記被研磨物の回転
及び軸方向トラバース時に発生する振動などによる軸変
位に対して、押し当て圧力一定で追従できる構造である
ため、真円度を向上させ、送りマーク等の研磨傷の発生
を防止することができる。
Furthermore, the pad has a structure that allows it to follow the axial displacement due to vibrations generated during rotation and axial traverse of the polished object with a constant pressing pressure, so that the roundness is improved. It is possible to prevent the occurrence of polishing scratches such as feed marks.

【0023】更に、本発明に係る円形部材を圧延用ロー
ルとして用いれば、外表面の周方向うねりが小さいため
、それで圧延された被圧延材の表面に前記うねりがほと
んど転写されず、いわゆるチャタマークのない被圧延材
に仕上げることができる。
Furthermore, when the circular member according to the present invention is used as a rolling roll, since the circumferential waviness of the outer surface is small, the waviness is hardly transferred to the surface of the material to be rolled, resulting in so-called chatter marks. It is possible to finish the rolled material without any cracks.

【0024】圧延用ロールとしてはサイアロン、ジルコ
ニア、炭化珪素(SiC)及び窒化珪素(Si3N4)
等からなるセラミックロールや、超硬ロール及びハイス
ロール等の難研削性メタルからなる金属ロールがある。
[0024] As rolling rolls, sialon, zirconia, silicon carbide (SiC) and silicon nitride (Si3N4) are used.
There are ceramic rolls made of such materials, and metal rolls made of hard-to-grind metals such as carbide rolls and high-speed steel rolls.

【0025】芯材として、C0.5〜1.0%、Si≦
1%、Mn≦1%、Cr1〜5%、Mo≦0.5%を含
有する鍛鋼に以下の成分の外層材をエレクトロスラグ溶
接、遠心鋳造、溶射等によって形成させる。Cは耐摩耗
性向上のための炭化物の形成及び基地硬さ確保に必要で
ある。その量が0.5%未満の場合、炭化物量が少なく
、耐摩耗性の点で十分でない。一方Cが1.5%を超え
ると、粒界に析出する網目状炭化物が増加し耐肌荒性及
び強靭性の点で劣るようになる。特に、0.8〜1.2
%が好ましい。Siは脱酸剤として必要な元素であり、
0.5%以上有し、また焼戻し抵抗性を高める。しかし
、その量が3.0%を超えると脆化が生じやすくなる。 特に、1〜3%が好ましく、1.5〜2.5%がより好
ましい。Mnは脱酸作用とともに不純物であるSをMn
Sとして固定する作用があるが、その量が1.5%を超
えると残留オーステナイトが増え安定して十分な硬さを
維持できないとともに、靭性が低下する。特に、0.2
〜1.0%が好ましく、0.2〜0.5%がより好まし
い。Crは2%未満では焼き入れ性に劣り、10%を超
えるとCr系炭化物が過多となるため不都合である。特
に、3〜7%が好ましく、3.5〜5%がより好ましい
。MoおよびWはそれぞれCと結合してM2Cあるいは
M5C系炭化物を生成させ、かつ基地中にも固溶して基
地を強化し耐摩耗性や焼戻し抵抗性を向上させる。しか
し、過剰になるとM6C系炭化物が増加し靭性及び耐肌
荒性が低下する。Mo及びWの上限はそれぞれ12%及
び20%であり、W及びMoの下限は1%以上とすべき
である。Moはセミハイス鋼が1.5〜4.5%又はハ
イスが7〜10%が好ましく、また、Wはセミハイス鋼
が0.1〜1%又はハイス鋼が0.5〜5%が好ましい
。 VはMC系炭化物を形成し耐摩耗性向上に寄与するが、
0.5%未満では十分な効果がなく、5%を超えると、
研削性を著しく阻害する。特に、0.7〜2.0%が好
ましい。Coは基地に固溶し高温焼戻して高硬度を得る
ための元素であるが、5%未満でその効果は不十分であ
る。15%を超えると靭性が低下する。特に6〜10%
が好ましい。特に、外層としてセミハイスは前述のC,
Si,Mn及びCrを含み、W0.1〜1%,V0.5
〜2.0%及びMo1〜5%又はハイスはW0.5〜3
%,5〜11%又は12〜20%,Mo4〜12%,V
:0.5〜1.5%又は1.5〜5%と、又はこれらの
組合せにCo:4〜20%含むことができる。Hotを
基準に考えた組成では炭化物量が耐摩耗性と耐焼付性を
考えるので、炭化物量が多くなっている。そして、この
炭化物量が多いほど研削で仕上げしづらくなり、靭性も
低く、冷間作業ロールのように高い局部圧力に耐えられ
なくなる。そのため、冷間作業ロールの合金組成として
は耐摩耗性を損わない程度まで炭化物量(炭素量)を少
なくし、マトリックスの強化(マルテンサイト特に焼戻
しマルテンサイト)で局部圧(圧延圧力)に耐えるよう
にしている。このマトリックス強化としてCoは有効で
あり、高い硬度が得られる。なお、本発明の外層に用い
る高合金鋼はNi5%以下含むことができる。
[0025] As a core material, C0.5 to 1.0%, Si≦
1%, Mn≦1%, Cr1-5%, Mo≦0.5%, and an outer layer material having the following components is formed by electroslag welding, centrifugal casting, thermal spraying, etc. C is necessary for forming carbides to improve wear resistance and ensuring base hardness. When the amount is less than 0.5%, the amount of carbide is small and the wear resistance is not sufficient. On the other hand, if C exceeds 1.5%, network carbides precipitate at grain boundaries increase, resulting in poor roughness resistance and toughness. In particular, 0.8 to 1.2
% is preferred. Si is an element necessary as a deoxidizing agent,
It has 0.5% or more and also improves tempering resistance. However, if the amount exceeds 3.0%, embrittlement tends to occur. In particular, 1 to 3% is preferable, and 1.5 to 2.5% is more preferable. Mn has a deoxidizing effect and also removes S which is an impurity.
S has a fixing effect, but if its amount exceeds 1.5%, retained austenite increases, making it impossible to maintain stable and sufficient hardness, and reducing toughness. In particular, 0.2
-1.0% is preferable, and 0.2-0.5% is more preferable. If Cr is less than 2%, the hardenability is poor, and if it exceeds 10%, there will be too much Cr-based carbide, which is disadvantageous. In particular, 3 to 7% is preferable, and 3.5 to 5% is more preferable. Mo and W combine with C to form M2C or M5C carbides, and also form a solid solution in the matrix to strengthen the matrix and improve wear resistance and tempering resistance. However, when it is excessive, M6C carbides increase and toughness and roughness resistance decrease. The upper limits of Mo and W should be 12% and 20%, respectively, and the lower limits of W and Mo should be 1% or more. Mo is preferably 1.5 to 4.5% in semi-high speed steel or 7 to 10% in high speed steel, and W is preferably 0.1 to 1% in semi-high speed steel or 0.5 to 5% in high speed steel. V forms MC-based carbides and contributes to improving wear resistance, but
If it is less than 0.5%, there is no sufficient effect, and if it exceeds 5%,
Significantly inhibits grindability. In particular, 0.7 to 2.0% is preferable. Co is an element for obtaining high hardness by solid solution in the matrix and high temperature tempering, but if it is less than 5%, its effect is insufficient. If it exceeds 15%, toughness decreases. Especially 6-10%
is preferred. In particular, as the outer layer, semi-high-speed steel has the above-mentioned C,
Contains Si, Mn and Cr, W0.1-1%, V0.5
~2.0% and Mo1~5% or high speed steel W0.5~3
%, 5-11% or 12-20%, Mo4-12%, V
Co: 0.5 to 1.5% or 1.5 to 5%, or a combination thereof may contain Co: 4 to 20%. In a composition based on Hot, the amount of carbide is considered to be important for wear resistance and seizure resistance, so the amount of carbide is large. The larger the amount of carbide, the more difficult it is to finish by grinding, the lower the toughness, and the less able it is to withstand high local pressures like cold work rolls. Therefore, the alloy composition of cold work rolls is designed to reduce the amount of carbide (carbon content) to an extent that does not impair wear resistance, and strengthens the matrix (martensite, especially tempered martensite) to withstand local pressure (rolling pressure). That's what I do. Co is effective for reinforcing this matrix, and high hardness can be obtained. Note that the high alloy steel used for the outer layer of the present invention can contain 5% or less of Ni.

【0026】[0026]

【実施例】実施例1 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。図1
は本発明に係る研磨装置の拡大部分側面図、図2は同研
磨装置の概略側面図、図3は同平面図を示す。円形の被
研磨物1が図示しない駆動装置により回転及び軸方向に
往復移動可能に保持されている。駆動装置は、前記往復
移動を繰り返すことにより研磨時間が被研磨物1の全長
にわたってどの部分もほぼ一定となるように形成されて
いる。回転時の周速は1〜10m/min程度である。 この被研磨物1は加工されて圧延用ロール等になるもの
である。本実施例はセラミックスロールであり、両端に
金属軸2が嵌合されている。
EXAMPLES Example 1 Examples of the present invention will be described below with reference to the drawings. Figure 1
2 shows a schematic side view of the polishing device, and FIG. 3 shows a plan view thereof. A circular object 1 to be polished is held by a drive device (not shown) so that it can rotate and move back and forth in the axial direction. The drive device is configured so that the polishing time is approximately constant over the entire length of the object 1 by repeating the reciprocating movement. The circumferential speed during rotation is about 1 to 10 m/min. This object to be polished 1 is processed into a rolling roll or the like. This embodiment is a ceramic roll, and metal shafts 2 are fitted at both ends.

【0027】その被研磨物1の下面側にV字状の当て物
3の2面がが接触している。このV字状当て物3は、被
研磨物1より軟質な材料で形成されている。これにより
自然に凹曲面形状の凹部5が形成され、均一に被研磨物
1に押し当てられ、片当たり等による研磨傷を防止する
ことができる。尚、前記凹部は予め形成しておいてもよ
い。前記当て物3は押圧手段の保持部すなわち支持ブロ
ック6内に保持されている。
Two surfaces of the V-shaped pad 3 are in contact with the lower surface of the object 1 to be polished. This V-shaped pad 3 is made of a material softer than the object 1 to be polished. As a result, a concave portion 5 having a concave curved surface shape is naturally formed, and it is evenly pressed against the object to be polished 1, thereby preventing polishing scratches due to uneven contact or the like. Note that the recess may be formed in advance. The pad 3 is held in a holding part or support block 6 of the pressing means.

【0028】前記押圧手段は、当て物3を保持する保持
部すなわち支持ブロック6と、この支持ブロック6を一
端に回動自在に支持する支持棒8と、この支持棒8の他
端に設けられた荷重10の受け部と、前記支持棒8を中
間で支持する支点9とからなる。従って、支点9を支持
点として支持棒8が揺動できるため、研磨中、被研磨物
1が微小振動しても、当て物3と被研磨物1の接触圧力
はほぼ一定となる。尚、この接触圧力を一定にする手段
としては、前記荷重10及び支持棒8等に替えてばね力
または磁気力により前記支持ブロック6を直接付勢する
ものであってもよい。支持ブロック6は回転軸7により
支持棒8と結合されており、これにより、前記当て物3
は被研磨物1に対して研磨中のその動きに追従して揺動
するようになっている。従って、前記当て物3は、被研
磨物1の凸凹に応じて押圧方向に自在に移動し、且つ非
回転で接触する。
The pressing means includes a holding portion, that is, a support block 6 that holds the pad 3, a support rod 8 that rotatably supports the support block 6 at one end, and a support rod 8 provided at the other end of the support rod 8. It consists of a receiving part for the load 10 and a fulcrum 9 that supports the support rod 8 in the middle. Therefore, since the support rod 8 can swing around the fulcrum 9, the contact pressure between the pad 3 and the workpiece 1 remains almost constant even if the workpiece 1 vibrates minutely during polishing. In addition, as a means for making this contact pressure constant, the support block 6 may be directly biased by a spring force or magnetic force instead of the load 10, the support rod 8, etc. The support block 6 is connected to a support rod 8 by a rotating shaft 7, so that the support 3
is adapted to swing to follow the movement of the object 1 to be polished during polishing. Therefore, the pad 3 freely moves in the pressing direction according to the unevenness of the object 1 to be polished, and comes into contact with the object 1 without rotation.

【0029】前記被研磨物1と当て物3との間に研磨材
を含むスラリー4を供給するスラリー供給手段11が設
けられている。本実施例では、タンクよりスラリー4を
滴下して連続的に供給できるようになっている。従来の
装置でも真円度を3μm程度に仕上げることができるた
め、本発明に係る装置では1〜5μm程度削るのがよい
。この程度の研削により、外表面の周方向平均うねりが
、0.3μm以下のセラミックロールを製造することが
できる。この周方向うねりが0.3μm以下であれば、
そのロールで圧延された被圧延材表面には0.3μm以
下の研削条痕しか転写されないため、いわゆるチャタマ
ークが生じない。好ましくはうねりは0.1μm以下が
よい。表面のうねりが0.3μm以下の被圧延材は、研
削条痕がほとんどないため、表面性状が優れている。
A slurry supply means 11 for supplying a slurry 4 containing an abrasive is provided between the object to be polished 1 and the pad 3. In this embodiment, the slurry 4 can be dripped from a tank and continuously supplied. Since the conventional device can also finish the roundness to about 3 μm, the device according to the present invention preferably cuts the roundness by about 1 to 5 μm. By grinding to this extent, it is possible to manufacture a ceramic roll whose outer surface has an average circumferential waviness of 0.3 μm or less. If this circumferential waviness is 0.3 μm or less,
Since only grinding scratches of 0.3 μm or less are transferred to the surface of the rolled material rolled by the rolls, so-called chatter marks are not generated. Preferably, the waviness is 0.1 μm or less. A rolled material with surface waviness of 0.3 μm or less has excellent surface properties because it has almost no grinding marks.

【0030】図3に基づいて、サイアロンセラミックス
製ロ−ル(以下サイアロンロ−ルという)の円筒研磨方
法を説明する。このロールは以下の方法により製造され
たものである。出発原料は、85wt% Si3N4,
7wt% Y2O3,5wt% Al2O3及び3wt
% AlNである。これに原料粉に対して1.4wt%
のPVB(ポリビニルブチラール)と40wt%の工業
用メタノールを加えて、ポットミルで4hの湿式混合を
したのち、遠心噴霧式スプレードライヤーを用いて、平
均粒径65μmの造粒粉を得た。成形は冷間静水圧プレ
スを用いて100MPaの圧力で行った。次に500℃
脱脂炉を用いて成形体中の樹脂分を除去し仮焼成た後、
一次切削加工を施し、表面粗さを3μm程度とし、次い
で黒鉛誘導加熱式の焼成炉内に軸方向に懸垂させて、0
.9MPaの加圧窒素ガス中1750℃で焼成を行った
。焼成後のサイアロンはSi5.5Al0.5O0.5
N7.5の化学式で示される組成を持つものである。最
後に焼結体を研削、研磨加工して所定のロール寸法に仕
上げた。このように研削、研磨加工により真円度がほぼ
3μmに仕上げられた外径40mm、長さ500mmの
サイアロンロ−ル1を通常の円筒研磨装置に両センタ固
定でセットする。次いで、このロールより軟らかい巾5
0mm、長さ40mm、厚さ10mmの窒化アルミニウ
ム製の当て物3を金属製支持ブロック6に90℃の角度
で2枚固定する。支持ブロック6は支持棒8と回転軸7
により連結されている。また、支持棒8は支点9で固定
されている。サイアロンロールの硬さは16GPa、当
て物の硬さは13〜14GPa、砥粒の炭化珪素粉の硬
さは24GPaである。研磨は、先づ、サイアロンロ−
ル1を周速2m/minで回転させた後、ウエイト10
を載せて、当て物3をサイアロンロ−ル1に押し当てる
。さらに粒径15〜20μmの炭化ケイ素粉末と水との
スラリ−4を、サイアロンロ−ル1と当て物3との接触
部に連続的に滴下供給する。さらに、サイアロンロ−ル
は左右にトラバ−ス移動させる。トラバ−ス速度は10
0mm/min程度がよい。用いる炭化ケイ素スラリ−
は、目的の表面粗度に応じて、順に微細にする。 本実施例では、炭化ケイ素粉末の粒度を15〜20μm
、10〜15μm、5〜8μm、1〜2μmの4種類を
順に用い、それぞれ約10分間の研磨をした。また周速
も粒度が細かくなるに従い上げ、例えば1〜2μmの粒
度の場合7m/minの周速とした。その結果、真円度
0.1μm以下で、送りマ−ク等の加工キズの全く無い
サイアロンロ−ルを得ることができた。尚、以上の説明
においては円形部材の外表面を研磨するほ実施例を示し
たが円筒物の内表面も、当て物を内表面に押し当てるこ
とにより、同様に研磨することができる。
A method of cylindrical polishing of a sialon ceramic roll (hereinafter referred to as sialon roll) will be explained based on FIG. 3. This roll was manufactured by the following method. The starting material was 85wt% Si3N4,
7wt% Y2O3, 5wt% Al2O3 and 3wt
% AlN. Add to this 1.4wt% based on the raw material powder.
PVB (polyvinyl butyral) and 40 wt % of industrial methanol were added, wet mixed for 4 hours in a pot mill, and then a granulated powder with an average particle size of 65 μm was obtained using a centrifugal spray dryer. The molding was performed using a cold isostatic press at a pressure of 100 MPa. Then 500℃
After removing the resin in the molded body using a degreasing furnace and pre-firing,
Primary cutting is performed to obtain a surface roughness of approximately 3 μm, and then suspended in the axial direction in a graphite induction heating type firing furnace.
.. Firing was performed at 1750° C. in pressurized nitrogen gas of 9 MPa. Sialon after firing is Si5.5Al0.5O0.5
It has a composition shown by the chemical formula N7.5. Finally, the sintered body was ground and polished to the desired roll dimensions. A sialon roll 1 having an outer diameter of 40 mm and a length of 500 mm, which has been ground and polished to a roundness of approximately 3 μm, is set in an ordinary cylindrical polishing device with both centers fixed. Next, a width 5 that is softer than this roll
Two aluminum nitride pads 3 having a diameter of 0 mm, a length of 40 mm, and a thickness of 10 mm are fixed to a metal support block 6 at an angle of 90°. The support block 6 includes a support rod 8 and a rotating shaft 7.
are connected by. Further, the support rod 8 is fixed at a fulcrum 9. The hardness of the sialon roll is 16 GPa, the hardness of the pad is 13 to 14 GPa, and the hardness of the abrasive silicon carbide powder is 24 GPa. For polishing, first use the Sialon roller.
After rotating the wheel 1 at a circumferential speed of 2 m/min, the weight 10
, and press the pad 3 against the Sialon roll 1. Further, a slurry 4 of silicon carbide powder having a particle size of 15 to 20 μm and water is continuously dripped into the contact area between the sialon roll 1 and the pad 3. Furthermore, the sialon roll is traversed left and right. Traverse speed is 10
Approximately 0 mm/min is preferable. Silicon carbide slurry used
are made finer in order according to the desired surface roughness. In this example, the particle size of silicon carbide powder was 15 to 20 μm.
, 10 to 15 μm, 5 to 8 μm, and 1 to 2 μm, and polishing was performed for about 10 minutes each. Further, the peripheral speed was increased as the particle size became finer, and for example, in the case of a particle size of 1 to 2 μm, the peripheral speed was set to 7 m/min. As a result, it was possible to obtain a sialon roll with a circularity of 0.1 μm or less and no processing flaws such as feed marks. In the above description, the outer surface of the circular member is polished, but the inner surface of the cylindrical member can also be polished in the same manner by pressing a pad against the inner surface.

【0031】図4は本発明に係る研磨装置で製造された
セラミックロール表面12のうねりの測定結果を示す。 図5は従来例の表面12のうねりを示す。本発明に係る
ロール表面は前記うねりが極めて小さいことがわかり、
それは全長にわたってそうであり同じ研磨面であった。 また、研削条痕はあってもその方向性がなくランダムで
あった。
FIG. 4 shows the measurement results of the waviness of the ceramic roll surface 12 manufactured by the polishing apparatus according to the present invention. FIG. 5 shows the waviness of the surface 12 of the conventional example. It can be seen that the roll surface according to the present invention has extremely small waviness,
It was the same polished surface throughout its entire length. Furthermore, even if there were grinding marks, they were random and had no directionality.

【0032】次に本発明に係る圧延用ロールを備えた圧
延機を図8及び図9に基づいて説明する。図において、
13は曲げ強度80kgf/mm2の高強度サイアロン
からなる作業ロールであって、直径が20mm、長さが
100mmの丸棒状をしている。この作業ロール13は
両端に金属キャップが嵌合(接着剤にて接合)された丸
棒状のものを前述の方法によって製作されている。作業
ロール13の寸法精度及び表面精度は金属製ロールのも
のと同等の精度になっている。作業ロール13には軸部
と胴部とからなる補強ロール14が押し付けられ、補強
ロール14の回転駆動により作業ロール13が従回転す
るようになっている。補強ロール14の軸部はユニバー
サルジョイント(図示せず)、減速歯車(図示せず)を
介して電動機(図示せず)によって回転駆動させられて
いる。また補強ロール14の軸部は圧延反力を軸部に設
けた軸受(図示せず)に伝達している。作業ロール13
の各端面には端面の中心と接するように鋼球18が配置
され、その鋼球18は鋼球支持体19によって回動自在
に支持されている。そのため、作業ロール13の軸方向
の動きは拘束されている。また作業ロール13と鋼球1
8とのすべり速度は小さくなっており、焼付けなどが生
じないようになっている。作業ロール13の圧延方向の
前後には作業ロール13に接して支持ロール15aが配
設され、更に支持ロール15aに接して別の支持ロール
15bが配設されている。別の支持ロール15bは支持
ロール15aを補強する役割を果している。支持ロール
15aと別の支持ロール15bとは軸受17によって支
承されている。軸受17は軸受箱16に収納されている
。作業ロール13の圧延方向の前後に作業ロール13に
接して支持ロール15aが配設されているので、作業ロ
ール13の圧延方向の動きは拘束されている。20は作
業ロール13によって圧延される圧延材であって、板幅
50mm、板厚0.2mmのステンレス鋼板(SUS3
04)が使用されている。
Next, a rolling mill equipped with rolling rolls according to the present invention will be explained based on FIGS. 8 and 9. In the figure,
Reference numeral 13 denotes a work roll made of high-strength sialon with a bending strength of 80 kgf/mm2, and is in the shape of a round bar with a diameter of 20 mm and a length of 100 mm. The work roll 13 is a round bar shape with metal caps fitted at both ends (bonded with adhesive) and manufactured by the method described above. The dimensional accuracy and surface accuracy of the work roll 13 are equivalent to those of a metal roll. A reinforcing roll 14 consisting of a shaft portion and a body portion is pressed against the work roll 13, and the work roll 13 is rotated by rotation of the reinforcing roll 14. The shaft portion of the reinforcing roll 14 is rotationally driven by an electric motor (not shown) via a universal joint (not shown) and a reduction gear (not shown). Further, the shaft portion of the reinforcing roll 14 transmits rolling reaction force to a bearing (not shown) provided on the shaft portion. Work roll 13
A steel ball 18 is arranged on each end face of the steel ball 18 so as to be in contact with the center of the end face, and the steel ball 18 is rotatably supported by a steel ball support 19. Therefore, the movement of the work roll 13 in the axial direction is restricted. Also, work roll 13 and steel ball 1
The sliding speed with respect to No. 8 is low, so that burning etc. does not occur. A support roll 15a is disposed in contact with the work roll 13 before and after the work roll 13 in the rolling direction, and another support roll 15b is further disposed in contact with the support roll 15a. Another support roll 15b serves to reinforce support roll 15a. Support roll 15a and another support roll 15b are supported by bearings 17. The bearing 17 is housed in a bearing box 16. Since support rolls 15a are disposed in contact with the work roll 13 before and after the work roll 13 in the rolling direction, movement of the work roll 13 in the rolling direction is restrained. 20 is a rolled material rolled by the work rolls 13, which is a stainless steel plate (SUS3) with a width of 50 mm and a thickness of 0.2 mm.
04) is used.

【0033】補強ロール14を毎分30回転の速度で回
転駆動させて圧延実験を行った結果、圧延材20は十分
に圧延された。図6は図4の本発明に係る圧延用ロール
を備えた後述する図8及び図9に示した圧延機で圧延さ
れた、SUS304厚さ0.2mmの被圧延材表面の5
0倍拡大図であり、図7は図5の従来の圧延用ロールで
圧延された被圧延材表面の50倍拡大図である。従来例
の場合は研削条痕が転写されているが、本発明の場合は
それがほとんどない。なお、この場合セラミックス製の
作業ロール13を損傷させることなく、光沢度の良好な
圧延材を得ることができた。
[0033] As a result of conducting a rolling experiment with the reinforcing roll 14 rotated at a speed of 30 revolutions per minute, the rolled material 20 was sufficiently rolled. FIG. 6 shows the surface of a rolled material of SUS304 with a thickness of 0.2 mm, which was rolled by a rolling mill shown in FIGS. 8 and 9 described later and equipped with a rolling roll according to the present invention shown in FIG.
This is a 0x enlarged view, and FIG. 7 is a 50x enlarged view of the surface of a rolled material rolled by the conventional rolling roll of FIG. In the case of the conventional example, grinding marks are transferred, but in the case of the present invention, there are almost no such marks. In this case, a rolled material with good gloss could be obtained without damaging the ceramic work roll 13.

【0034】実施例2 金属ロールの場合は、前記周方向うねりは1μm以下で
あればよい。金属ロールの場合は前記うねりが被圧延材
表面に縮小されて転写されるため、この程度でよい。好
ましくは0.5μm以下がよい。金属ロールの構造及び
製造方法の一例を以下に具体的に示す。胴径750mm
、胴長1480mmのロールを直径665mmの軸材を
用いて次のようにエレクトロ再溶解法にて複合ロール用
インゴットとして外径850mmのものを製造した。
Example 2 In the case of a metal roll, the circumferential waviness may be 1 μm or less. In the case of a metal roll, the waviness is reduced and transferred to the surface of the material to be rolled, so this level is sufficient. The thickness is preferably 0.5 μm or less. An example of the structure and manufacturing method of the metal roll will be specifically shown below. Body diameter 750mm
An ingot for a composite roll having an outer diameter of 850 mm was manufactured by electro-remelting a roll having a body length of 1480 mm and a shaft member having a diameter of 665 mm as follows.

【0035】エレクトロスラグ肉盛法による複合ロール
を製造する装置は、溶接機、増幅器、通電用配線、カー
ボンブラシ、測温用熱電対、直流モータおよびマニュピ
ュレータを含む。マニュピュレータが、直流モータによ
って動かされ、マニュピュレータの腕によって支えられ
た高速度工具鋼から成る消耗電極である管状消耗電極が
、上方へ動かされるようになっている。低合金鋼材製芯
軸が回転定盤上に設置されている。この芯軸と同心的に
水冷モールドが設置されており、両者の間隔部において
、環状点火板(すなわち、モールド底)が芯軸の下端部
に近く設置されている。芯軸および水冷モールドは、円
周方向に5rpm回転させた。マニュピュレータによっ
て支えられた管状電極が、芯軸と水冷モールドとで画成
される前記間隔部、すなわち溶解室内に差し込まれ、配
線を介して芯軸と管状電極との間に供給される交流電流
により、管状電極が溶融消耗する。定盤にはカーボンブ
ラシが周囲に5個均等に配置され、管状電極にも配線を
複数に配置し、各部に均等に電流が流れるようにして通
電によってアークが発生すると、スラグがその抵抗発熱
により溶融するとともに、溶融金属が形成され、水冷モ
ールドとの接触で冷却されて凝固し、芯軸の表面に均一
な肉盛層が形成される。この間、水冷モールドは芯軸に
対して同軸的に上方へ移動せしめられる。スラグは、常
時厚さ50〜60mmに調整される。また、溶融金属は
環状底板によって下方への滴下が防止される。電流電圧
は一定に保持されるようにコントロールしながら溶解さ
れ、肉盛層の厚さと芯材への溶け込み深さが一定になる
ようにコントロールされる。
The apparatus for manufacturing a composite roll by the electroslag overlay method includes a welding machine, an amplifier, current supply wiring, a carbon brush, a thermocouple for temperature measurement, a DC motor, and a manipulator. The manipulator is moved by a DC motor such that a tubular consumable electrode, a consumable electrode made of high speed tool steel, supported by the arm of the manipulator is moved upwardly. A core shaft made of low-alloy steel is installed on a rotating surface plate. A water-cooled mold is installed concentrically with this core shaft, and an annular ignition plate (i.e., mold bottom) is installed close to the lower end of the core shaft in the space between the two. The core shaft and water-cooled mold were rotated at 5 rpm in the circumferential direction. A tubular electrode supported by a manipulator is inserted into the space defined by the core shaft and the water-cooled mold, that is, the melting chamber, and an alternating current is supplied between the core shaft and the tubular electrode via wiring. As a result, the tubular electrode is melted and consumed. Five carbon brushes are placed evenly around the surface plate, and multiple wires are placed on the tubular electrode so that the current flows evenly through each part.When an arc is generated due to energization, the slag is heated by the resistance. As it melts, molten metal is formed, which is cooled and solidified by contact with the water-cooled mold, and a uniform build-up layer is formed on the surface of the core shaft. During this time, the water-cooled mold is moved upward coaxially with respect to the core axis. The slag is always adjusted to a thickness of 50 to 60 mm. Furthermore, the annular bottom plate prevents the molten metal from dripping downward. The current and voltage are controlled to be kept constant during melting, and the thickness of the overlay layer and the depth of penetration into the core material are controlled to be constant.

【0036】かくして、得られた複合ロールの肉盛層に
1100℃で鍛造が施され、外径780mm、外層の厚
さを42.5mmとした。更に該肉盛層に焼入れ焼戻し
熱処理が施され、もって肉盛層の表面硬さHs90以上
を得ることができる。熱処理後、切削加工及び研摩によ
って仕上げて外径750mmとなるように直径で約2〜
3mmで切削し、次いで前述した装置を用いて同様に研
摩した。 平均表面あらさを約0.5μmとなるように研磨した。
[0036] The overlay layer of the thus obtained composite roll was forged at 1100°C to have an outer diameter of 780 mm and an outer layer thickness of 42.5 mm. Furthermore, the built-up layer is subjected to quenching and tempering heat treatment, thereby making it possible to obtain a surface hardness of Hs90 or more of the built-up layer. After heat treatment, it is finished by cutting and polishing to have an outer diameter of 750mm.
It was cut to 3 mm and then similarly polished using the equipment described above. It was polished to an average surface roughness of about 0.5 μm.

【0037】外層材質の化学成分を下記表1(重量%)
に示す。このロールは更に1000〜1200℃からの
焼入れ及び120〜520℃,10〜20時間の焼戻し
の熱処理を施した。熱処理はこの材質に適した熱処理を
した。なお、本発明ロールの軸材にはC0.9%,3%
Cr鍛鋼を用い、その硬さはHS40であった。
[0037] The chemical composition of the outer layer material is shown in Table 1 below (wt%).
Shown below. This roll was further heat treated by quenching at 1000-1200°C and tempering at 120-520°C for 10-20 hours. Heat treatment was carried out in a manner appropriate for this material. The shaft material of the roll of the present invention contains 0.9% and 3% C.
Cr forged steel was used, and its hardness was HS40.

【0038】[0038]

【表1】[Table 1]

【0039】実施例3 連続溶融めっき装置は、被めっき処理材である鋼ストリ
ップがペイオフリールに巻き取られており、レベラー、
シャー、ウェルダーを経て、更に電解洗浄槽、スクレイ
パー、リンス槽を経て焼鈍炉に入り、焼鈍された後溶融
めっき槽にてめっきされる。浸漬めっきが施されたスト
リップは、真上に高速走行しながら表面調整装置、ブラ
イドルロール装置、スキンパスミル、テンションレベラ
ー、化成処理装置等を経て、ルーパを通りテンションリ
ールに巻き取られる。ストリップに付加されるテンショ
ンはロール装置及びテンションブライドルによってコン
トロールされる。
Example 3 In a continuous hot-dip plating apparatus, a steel strip, which is a material to be plated, is wound around a payoff reel, and a leveler,
After passing through a shear and a welder, it passes through an electrolytic cleaning tank, a scraper, and a rinsing tank before entering an annealing furnace, where it is annealed and then plated in a hot-dip plating tank. The dip-plated strip travels directly upwards at high speed, passes through a surface conditioning device, bridle roll device, skin pass mill, tension leveler, chemical conversion treatment device, etc., and then passes through a looper and is wound onto a tension reel. The tension applied to the strip is controlled by a roll device and tension bridle.

【0040】このテンションの大きさはストリップ21
のワイピングノズル27を通過した直後に設けられ、振
動検出器によって測定された振幅の大きさによって一定
になるようにコントロールされる。テンションブライド
ルは各処理の段階に設けられる。図10は、めっき装置
を拡大して示したものである。スナウト31を経て供給
されるストリップ21はめっき槽30の中でシンクロー
ル装置24により方向を変えられ、サポートロール装置
25によりストリップの動きが安定にさせられる。スト
リップ21は50〜100m/分のスピードで高速走行
される。更にめっき浴26から引き出されたストリップ
はストリップの両側に設けられたワイピングノズル27
より高速ガスが吹き付けられ、そのガス圧力、吹き付け
角度の調整によってめっき厚みが調整される。溶融金属
めっき浴中で使用されるサポートロール装置25及びシ
ンクロール装置24のロール及びロール軸受シェル29
は、溶融金属により潤滑されるのでロール軸受シェル2
9はすべり軸受構造となっている。図10においてロー
ル軸受の摩耗は矢印で示した方向、すなわち、ストリッ
プ21がシンクロール装置24によって曲げられた際に
発生する力のベクトル方向に進行することが従来のシン
クロール軸受の摩耗状況を観察することによりわかった
The magnitude of this tension is determined by the strip 21
It is provided immediately after passing through the wiping nozzle 27, and is controlled to be constant based on the magnitude of the amplitude measured by a vibration detector. Tension bridles are provided at each processing stage. FIG. 10 shows an enlarged view of the plating apparatus. The strip 21 fed through the snout 31 is deflected in the plating bath 30 by a sink roll device 24, and the movement of the strip is stabilized by a support roll device 25. The strip 21 is run at a high speed of 50 to 100 m/min. Furthermore, the strip drawn out from the plating bath 26 is passed through wiping nozzles 27 provided on both sides of the strip.
Gas is sprayed at a higher velocity, and the plating thickness is adjusted by adjusting the gas pressure and spray angle. Rolls and roll bearing shells 29 of support roll apparatus 25 and sink roll apparatus 24 used in hot dip metal plating baths
is lubricated by molten metal, so the roll bearing shell 2
9 has a sliding bearing structure. In Fig. 10, it is observed that the wear of the roll bearing progresses in the direction indicated by the arrow, that is, in the vector direction of the force generated when the strip 21 is bent by the sink roll device 24. I found out by doing this.

【0041】図11は、本発明よりなるシンクロールの
断面図を示したものである。ロール軸33に装着した4
分割されたセラミックス32は、溶融金属に対し優れた
耐食性を示し、高強度高硬度特性を有したサイアロンセ
ラミックスを選定した。サイアロンセラミックスの化学
式は下式で表される。
FIG. 11 shows a sectional view of a sink roll according to the present invention. 4 attached to the roll shaft 33
As the divided ceramics 32, Sialon ceramics were selected which exhibited excellent corrosion resistance against molten metal and had high strength and high hardness characteristics. The chemical formula of Sialon ceramics is expressed by the following formula.

【0042】[0042]

【化1】[Chemical formula 1]

【0043】ここで、zは0〜4.2の間で任意のもの
が可能であり、これはβサイアロンと呼ばれるものであ
る。本実施例ではZ=0.5の組成のサイアロン粉を用
い、小量のバインダーを添加した後メタノール中で湿式
混し、スプレードライ法により造粒した。次いで、冷却
静水圧のプレス法で外径210mm,内径145mm,
長さ50mmの円筒状成形体を4ヶ成形した。焼成温度
は1750℃とし、前述と同様に窒素雰囲気により焼成
した。 さらに焼結体は仕上加工して、外径150mm,内径1
18mm,長さ40mmとした。尚、外径摺動面の面粗
度はRmax0.8μmとした。このものの研磨は内部
に金属の棒を嵌合させて前述と同様にして行った。
[0043] Here, z can be any value between 0 and 4.2, and this is called β-sialon. In this example, SiAlON powder having a composition of Z=0.5 was used, and after adding a small amount of binder, it was wet mixed in methanol and granulated by a spray drying method. Next, using a cooling isostatic press method, the outer diameter was 210 mm, the inner diameter was 145 mm,
Four cylindrical molded bodies each having a length of 50 mm were molded. The firing temperature was 1750°C, and the firing was performed in a nitrogen atmosphere in the same manner as described above. Furthermore, the sintered body was finished to an outer diameter of 150 mm and an inner diameter of 1.
The length was 18 mm and the length was 40 mm. Note that the surface roughness of the outer diameter sliding surface was Rmax 0.8 μm. This material was polished in the same manner as described above by fitting a metal rod inside.

【0044】また、ロール軸33は比較的耐食性のある
ステンレス系のAISI316を用い、外径を111.
15mm仕上げた。緩衝材34は焼きもどし処理をし、
降伏点を5kgf/mm2程度にした銅板を用い、板厚
は3.2mmで平面形状に示す様にスリット40と突起
41を施した。さらに銅製緩衝板34は図11の様に円
筒状のそれぞれのセラミックスに対応するロール軸33
に巻回した。次いで、ロール軸に円筒状のサイアロン焼
結体を挿入し、図11に示す様に押え板35、キャップ
36、インコネル製バネ37、及びボルトネジ38でセ
ラミックス2を軸方向に約600kgfの力で押し付け
固定することにより、セラミックス32とロール軸33
との間への溶融Znの浸入を防止した。
The roll shaft 33 is made of relatively corrosion-resistant stainless steel AISI316, and has an outer diameter of 111mm.
15mm finished. The buffer material 34 is tempered,
A copper plate having a yield point of about 5 kgf/mm2 was used, the plate thickness was 3.2 mm, and slits 40 and protrusions 41 were formed as shown in the plan view. Furthermore, the copper buffer plate 34 is attached to a roll shaft 33 corresponding to each cylindrical ceramic as shown in FIG.
wrapped around. Next, a cylindrical sialon sintered body is inserted into the roll shaft, and as shown in FIG. 11, the ceramics 2 is pressed in the axial direction with a force of about 600 kgf using a holding plate 35, a cap 36, an Inconel spring 37, and a bolt screw 38. By fixing the ceramics 32 and the roll shaft 33
This prevents molten Zn from entering between the two.

【0045】ところで、サイアロンセラミックス、銅、
ステンレス製ロール軸の熱膨脹係数はそれぞれ3.2×
10 ̄6/℃、13×10 ̄6/℃、18×10 ̄6/
℃であるので、図11のロールを溶湯温度450℃の溶
融Zn中に浸漬すると、サイアロンセラミックス32の
内径は118.17mm、ステンレス製ロール軸33の
外径は112.05mmとなり、そのギャップは3.0
6mmとなる。 一方、銅製緩衝板からなる中間材34は3.22mmと
なる為、ギャップとの差0.16mmは銅製緩衝板34
の塑性変形代となる。塑性変形量は、約5%となるので
、少なくとも5%以上の体積に相当するスリット等を施
しておいた。その結果、使用温度では緩衝材34は塑性
変形を受けロール軸33とセラミックス32とは密着し
たものとなり、嵌合によるセラミックス32の割れは全
く生じなかった。これは、緩衝材34は使用温度状態で
もギャップ内に変形できる空間が存在するためと思われ
る。 円筒体のセラミックス32とロール軸33との間の緩衝
板34が銅製の場合、Znと濡れ易く、そのギャップ内
に侵入し、空間を埋めてしまうとセラミックス32の割
れが生じる心配があるので、端部にはZnの浸入を防ぐ
材料の緩衝材とするのがよい。ステンレス鋼線を用いる
のがよい。ステンレス製軸受の内周面に固体潤滑性、及
び溶融Znに対する耐食性に優れたSiC−C複合セラ
ミックスを装着した。
By the way, sialon ceramics, copper,
The coefficient of thermal expansion of each stainless steel roll shaft is 3.2×
10 ̄6/℃, 13×10 ̄6/℃, 18×10 ̄6/
11 is immersed in molten Zn with a molten metal temperature of 450°C, the inner diameter of the sialon ceramic 32 is 118.17 mm, the outer diameter of the stainless steel roll shaft 33 is 112.05 mm, and the gap is 3. .0
It will be 6mm. On the other hand, since the intermediate material 34 made of a copper buffer plate is 3.22 mm, the difference with the gap is 0.16 mm.
This is the plastic deformation allowance. Since the amount of plastic deformation is approximately 5%, slits or the like corresponding to at least 5% of the volume were provided. As a result, at the operating temperature, the buffer material 34 was plastically deformed, and the roll shaft 33 and the ceramics 32 came into close contact with each other, and no cracking of the ceramics 32 occurred due to the fitting. This seems to be because there is a space in the gap where the cushioning material 34 can be deformed even at the operating temperature. If the buffer plate 34 between the cylindrical ceramic 32 and the roll shaft 33 is made of copper, it is likely to get wet with Zn, and if Zn enters the gap and fills the space, there is a risk that the ceramic 32 will crack. It is preferable to use a buffer material at the end to prevent Zn from entering. It is better to use stainless steel wire. SiC-C composite ceramics, which has excellent solid lubricity and corrosion resistance against molten Zn, was attached to the inner peripheral surface of the stainless steel bearing.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明によれば、研磨剤を含むスラリー
による研磨であるため、切れ味を一定に保つことができ
、従って送りマーク等の加工傷を防止でき、真円度を大
幅に高めることができる。また研磨材の粒度を変えるこ
とにより、容易に研磨面の表面祖度を変えることができ
る。
[Effects of the Invention] According to the present invention, since the polishing is performed using a slurry containing an abrasive, the sharpness can be kept constant, and processing scratches such as feed marks can be prevented, and the roundness can be greatly improved. Can be done. Furthermore, by changing the particle size of the abrasive, the surface roughness of the polished surface can be easily changed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明に係る研磨装置の一部拡大側面図である
FIG. 1 is a partially enlarged side view of a polishing apparatus according to the present invention.

【図2】同研磨装置の概略側面図である。FIG. 2 is a schematic side view of the polishing apparatus.

【図3】同研磨装置の概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of the polishing apparatus.

【図4】本発明に係る研磨装置で製造されたロール表面
のうねりの測定結果を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing measurement results of waviness on the surface of a roll manufactured by the polishing apparatus according to the present invention.

【図5】従来例のロール表面のうねりを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing waviness on the roll surface of a conventional example.

【図6】本発明に係る圧延用ロールで圧延された被圧延
材表面の50倍拡大図である。
FIG. 6 is a 50 times enlarged view of the surface of a rolled material rolled by the rolling roll according to the present invention.

【図7】従来の圧延用ロールで圧延された被圧延材表面
の50倍拡大図である。
FIG. 7 is a 50 times enlarged view of the surface of a rolled material rolled with a conventional rolling roll.

【図8】本発明にかかる圧延機のロールの配置を示す説
明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing the arrangement of rolls of a rolling mill according to the present invention.

【図9】図8のA−A線断面図である。9 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 8. FIG.

【図10】連続溶融めっき装置の拡大断面図である。FIG. 10 is an enlarged sectional view of a continuous hot-dip plating apparatus.

【図11】本発明よりなるシンクロールの断面図である
FIG. 11 is a sectional view of a sink roll according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  被研磨材 3  当て物 4  スラリー 5  凹部 6  支持ブロック 7  回転軸 8  支持棒 9  支点 10  ウェイト 11  タンク 12  表面 1 Material to be polished 3 Guessing item 4 Slurry 5 Recess 6 Support block 7 Rotation axis 8 Support rod 9 Fulcrum 10 Weight 11 Tank 12 Surface

Claims (25)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  円柱又は円筒状被研磨物を円周方向に
回転させる駆動装置と、該被研磨物の円周面にに押し当
てられる当て物と、この当て物を前記被研磨物に押し当
てる押圧手段と、研磨剤を含むスラリーを前記被研磨物
と当て物との間に供給するスラリー供給手段とを備えた
ことを特徴とする円形部材の研磨装置。
1. A drive device that rotates a cylindrical or cylindrical object to be polished in the circumferential direction, a pad that is pressed against the circumferential surface of the object to be polished, and a press that presses the pad against the object to be polished. An apparatus for polishing a circular member, comprising: a means for polishing a circular member; and a slurry supply means for supplying a slurry containing an abrasive between the object to be polished and the pad.
【請求項2】  請求項1において、当て物は、被研磨
物の研磨面より軟質材で形成されている円形部材の研磨
装置。
2. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the pad is made of a material softer than the polishing surface of the object to be polished.
【請求項3】  円柱又は円筒状の被研磨物を円周方向
に回転させると共に軸方向に平行に往復移動させる駆動
装置と、該被研磨物円周面に押し当てられ円周面の少な
くとも2個所で接触する当て物と、該当て物を前記被研
磨物に押し当てる押圧手段と、研磨砥粒を含むスラリー
を前記被研磨物と当て物との間に供給するスラリー供給
手段とを備えたことを特徴とする円形部材の研磨装置。
3. A drive device that rotates a cylindrical or cylindrical object to be polished in the circumferential direction and reciprocates in parallel with the axial direction; It is equipped with a pad that contacts the object at a certain point, a pressing means for pressing the corresponding object against the object to be polished, and a slurry supply means for supplying a slurry containing abrasive grains between the object to be polished and the object. Features: Polishing device for circular parts.
【請求項4】  請求項1〜3のいずれかにおいて、当
て物は、被研磨物の半径方向の動きに追従して揺動可能
で且つ非回転で接触している円形部材の研磨装置。
4. A polishing apparatus for a circular member according to claim 1, wherein the pad is swingable to follow the radial movement of the object to be polished and is in non-rotating contact with the object.
【請求項5】  請求項1〜4のいずれかにおいて、当
て物は、被研磨物との接触面が凹曲面に形成されている
円形部材の研磨装置。
5. The polishing device according to claim 1, wherein the pad is a circular member whose contact surface with the object to be polished is formed into a concave curved surface.
【請求項6】  請求項1〜5のいずれかにおいて、前
記当て物は被研磨物の同一円周面上で少なくとも2個所
で接触する構造を有する円形部材の研磨装置。
6. An apparatus for polishing a circular member according to claim 1, wherein the pad has a structure in which the pad contacts at least two places on the same circumferential surface of the object to be polished.
【請求項7】  請求項1〜6のいずれかにおいて、押
圧手段は、当て物を保持する保持部と、該保持部を一端
に回動自在に支持する支持棒と、この支持棒の他端に設
けられた荷重受け部と、前記支持棒を中間で支持する支
点とを備えた円形部材の研磨装置。
7. In any one of claims 1 to 6, the pressing means includes a holding part that holds the pad, a support rod that rotatably supports the holding part at one end, and a support rod that rotatably supports the holding part at one end. A polishing device for a circular member, comprising a load receiving portion and a fulcrum that supports the support rod in the middle.
【請求項8】  請求項1〜7のいずれかにおいて、押
圧手段は、当て物を保持する保持部と、保持部をばね力
又は磁気力により付勢する付勢手段とを備えた円形部材
の研磨装置。
8. In any one of claims 1 to 7, the pressing means is used for polishing a circular member comprising a holding part for holding the pad and a biasing means for urging the holding part by a spring force or magnetic force. Device.
【請求項9】  請求項1〜8のいずれかにおいて、ス
ラリー供給手段は、前記被研磨物と当て物との間を連続
的にスラリーを通過させるものである円形部材の研磨装
置。
9. The apparatus for polishing a circular member according to claim 1, wherein the slurry supply means continuously passes the slurry between the object to be polished and the pad.
【請求項10】  周方向に回転する円柱又は円筒状被
研磨物の円周面に非回転の当て物を押し当てながら研磨
砥粒を含むスラリーを前記被研磨物と当て物との間に供
給して研磨することを特徴とする円形部材の研磨方法。
10. A non-rotating pad is pressed against the circumferential surface of a cylinder or cylindrical object to be polished that rotates in the circumferential direction, and a slurry containing abrasive grains is supplied between the object to be polished and the pad. A method for polishing a circular member, the method comprising polishing.
【請求項11】  回転しながら軸方向に平行に往復移
動する円柱又は円筒状の被研磨物の円周面の少なくとも
2個所に当て物を接触させて押圧すると共に、前記当て
物を被研磨物の半径方向の動きに応じて押圧方向に自在
に移動可能にし且つ研磨砥粒を含むスラリーを前記被研
磨物と当て物との間に供給して研磨することを特徴とす
る円形部材の研磨方法。
11. A pad is brought into contact with and pressed at least two places on the circumferential surface of a columnar or cylindrical object to be polished, which reciprocates in parallel with the axial direction while rotating, and the pad is moved to a radius of the object to be polished. A method for polishing a circular member, characterized in that the slurry is movable in the pressing direction according to the movement in the direction and is polished by supplying a slurry containing abrasive grains between the object to be polished and the pad.
【請求項12】  請求項10又は11において、前記
研磨砥粒を研磨初期に粗く、順次細かい砥粒によって研
磨する円形部材の研磨方法。
12. The method of polishing a circular member according to claim 10, wherein the abrasive grains are coarsely used in the initial stage of polishing, and the abrasive grains are sequentially finely polished.
【請求項13】  請求項10、11又は12において
、被研磨物の表面を1〜5μm削る円形部材の研磨方法
13. The method of polishing a circular member according to claim 10, 11 or 12, wherein the surface of the object to be polished is shaved by 1 to 5 μm.
【請求項14】  セラミックス焼結体より成り、外表
面の周方向うねりが、0.3μm以下に形成されている
ことを特徴とする円柱状又は円筒状部材。
14. A cylindrical or cylindrical member made of a ceramic sintered body, characterized in that the outer surface has a circumferential waviness of 0.3 μm or less.
【請求項15】  金属部材より成り、外表面の周方向
うねりが、1μm以下に形成されていることを特徴とす
る円柱状又は円筒状部材。
15. A cylindrical or cylindrical member made of a metal member, characterized in that the outer surface has a circumferential waviness of 1 μm or less.
【請求項16】  請求項14又は15において、全長
にわたってほぼ同じ研磨面を有する円柱状又は円筒状部
材。
16. A cylindrical or cylindrical member according to claim 14 or 15, having substantially the same polishing surface over its entire length.
【請求項17】  請求項14又は15において、前記
セラミックス又は金属部材は圧延用ロールである円柱状
又は円筒状部材。
17. The columnar or cylindrical member according to claim 14 or 15, wherein the ceramic or metal member is a rolling roll.
【請求項18】  請求項17において、ロール表面は
研削条痕の方向性がなくランダムである円柱状又は円筒
状部材。
18. The cylindrical or cylindrical member according to claim 17, wherein the roll surface has grinding scratches that are random without directionality.
【請求項19】  芯材の外周を外層材で覆った金属圧
延用複合ロールにおいて、前記芯材はシヨア硬さが35
以上で前記外層材より低い硬さを有する低合金鋼よりな
り、前記外層材はショア硬さが80以上及び残留オース
テナイト量が15体積%以下のマルテンサイト組織で、
外表面周方向うねりが1μm以下、最外表面に圧縮残留
応力を有し、ロール軸方向に凝固した高合金鋼からなる
ことを特徴とする金属圧延用複合ロール。
19. A composite roll for metal rolling in which the outer periphery of a core material is covered with an outer layer material, wherein the core material has a shore hardness of 35.
The outer layer material is made of a low alloy steel having a hardness lower than that of the outer layer material, and the outer layer material has a martensitic structure with a Shore hardness of 80 or more and a retained austenite amount of 15% by volume or less,
A composite roll for metal rolling, characterized in that the outer surface has circumferential waviness of 1 μm or less, has compressive residual stress on the outermost surface, and is made of high alloy steel solidified in the roll axis direction.
【請求項20】  芯材の外周を外層材で覆った金属圧
延用複合ロールにおいて、前記芯材は重量でC0.5〜
1.0%、Si1%以下、Mn1%以下、Cr1〜5%
、Mo0.5%以下を含み前記外層材より低い硬さを有
する低合金鋼よりなり、前記外層材は重量でC0.5〜
1.5%、Si0.5〜3.0%、Mn1.5%以下、
Cr2〜10%、Mo1〜12%、V0.5〜2.0%
、W0.1〜20%以下を含む高合金鋼からなリロール
軸方向に凝固した溶着層で、外表面周方向うねりが1μ
m以下であることを特徴とする金属圧延用複合ロール。
20. A composite roll for metal rolling in which the outer periphery of a core material is covered with an outer layer material, wherein the core material has a weight of C0.5 to
1.0%, Si 1% or less, Mn 1% or less, Cr 1-5%
, is made of low alloy steel that contains Mo0.5% or less and has lower hardness than the outer layer material, and the outer layer material has a C0.5 to C0.5% by weight.
1.5%, Si 0.5-3.0%, Mn 1.5% or less,
Cr2~10%, Mo1~12%, V0.5~2.0%
, a weld layer solidified in the axial direction of the re-roll made of high alloy steel containing W0.1~20% or less, and the outer surface circumferential waviness is 1μ
A composite roll for metal rolling, characterized in that the roll is less than m.
【請求項21】  ロール圧延された金属の被圧延材表
面のうねりが、0.3μm以下に形成されていることを
特徴とする被圧延材。
21. A rolled metal material, characterized in that the surface of the rolled metal material has waviness of 0.3 μm or less.
【請求項22】  中間ロールあるいは補強ロールの回
転駆動により作業ロールが従回転して圧延を行う圧延機
において、前記作業ロールは長尺丸棒状のセラミックス
製ロールからなり、該ロール外表面の周方向うねりが0
.3μm以下であり、前記作業ロールの各端面に接して
軸受を配設して前記作業ロールの軸方向の動きを拘束す
ると共に、前記作業ロールの圧延方向の前後に前記作業
ロールに接して支持ロールを配設して前記作業ロールの
圧延方向の動きを拘束したことを特徴とする圧延機。
22. A rolling mill in which a work roll is rotated sub-rotated by the rotational drive of an intermediate roll or a reinforcing roll, and the work roll is a ceramic roll in the shape of a long round bar, and the outer surface of the roll is rotated in the circumferential direction. Swell is 0
.. 3 μm or less, bearings are disposed in contact with each end surface of the work roll to restrain the movement of the work roll in the axial direction, and support rolls are provided in contact with the work roll before and after the rolling direction of the work roll. A rolling mill characterized in that movement of the work rolls in the rolling direction is restrained by arranging the work rolls.
【請求項23】  請求項22において、中間ロール、
補強ロール、作業ロール、支持ロールのうち少なくとも
1種のロールにクラウンを設けたことを特徴とする圧延
機。
23. The intermediate roll according to claim 22,
A rolling mill characterized in that at least one of a reinforcing roll, a work roll, and a support roll is provided with a crown.
【請求項24】  金属溶湯中で軸受に支持されて回転
するロールを備えた溶融金属メッキ装置において、前記
ロールの軸摺動部及び軸受の摺動部がセラミックス焼結
体からなり、前記ロールは金属からなり、その軸部外周
部が円筒状セラミックス焼結体が嵌合しており、該焼結
体の外表面うねりが0.3μm以下であることを特徴と
する連続溶融金属メッキ装置。
24. A molten metal plating apparatus comprising a roll that rotates while being supported by a bearing in molten metal, wherein the shaft sliding part of the roll and the sliding part of the bearing are made of a ceramic sintered body, and the roll is 1. A continuous hot-dip metal plating device made of metal, having a cylindrical ceramic sintered body fitted to the outer periphery of its shaft, and having an outer surface waviness of 0.3 μm or less.
【請求項25】  金属溶湯中で軸受に支持されて回転
するシンクロール及びサポートロールを備えた溶湯金属
メッキ装置において、前記シンクロール及びサポートロ
ールの少なくとも一方の前記ロールは金属からなり、そ
の軸部外周部が固体潤滑剤を含む円筒状セラミックス焼
結体が嵌合しており、該焼結体の外表面うねりが0.3
μm以下であることを特徴とする連続溶融金属メッキ装
置。
25. A molten metal plating apparatus comprising a sink roll and a support roll that rotate while being supported by bearings in molten metal, wherein at least one of the sink roll and the support roll is made of metal, and the shaft portion thereof A cylindrical ceramic sintered body whose outer periphery contains a solid lubricant is fitted, and the outer surface waviness of the sintered body is 0.3.
A continuous hot-dip metal plating device characterized by a plating thickness of μm or less.
JP3032787A 1991-02-27 1991-02-27 Apparatus and method for polishing circular member, columnar or cylindrical member, and material to be rolled Expired - Lifetime JP2696276B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3032787A JP2696276B2 (en) 1991-02-27 1991-02-27 Apparatus and method for polishing circular member, columnar or cylindrical member, and material to be rolled

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3032787A JP2696276B2 (en) 1991-02-27 1991-02-27 Apparatus and method for polishing circular member, columnar or cylindrical member, and material to be rolled

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04274808A true JPH04274808A (en) 1992-09-30
JP2696276B2 JP2696276B2 (en) 1998-01-14

Family

ID=12368564

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3032787A Expired - Lifetime JP2696276B2 (en) 1991-02-27 1991-02-27 Apparatus and method for polishing circular member, columnar or cylindrical member, and material to be rolled

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2696276B2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5752190A (en) * 1980-09-13 1982-03-27 Nitto Electric Ind Co Method of producing substrate for circuit with resistor
JPS582722A (en) * 1981-06-30 1983-01-08 Omron Tateisi Electronics Co Road surface discriminating device
JPS59113903A (en) * 1982-12-22 1984-06-30 Kawasaki Steel Corp Hot rolling method of steel plate by work roll moving type rolling mill
JPS62101304A (en) * 1985-10-26 1987-05-11 Nippon Light Metal Co Ltd Production of metallic rolling material having smooth surface
JPS63255320A (en) * 1987-04-11 1988-10-21 Nippon Steel Corp Steel sheet having high reflectivity
JPH0323004A (en) * 1989-06-19 1991-01-31 Nisshin Steel Co Ltd Multistage cold rolling mill

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5752190A (en) * 1980-09-13 1982-03-27 Nitto Electric Ind Co Method of producing substrate for circuit with resistor
JPS582722A (en) * 1981-06-30 1983-01-08 Omron Tateisi Electronics Co Road surface discriminating device
JPS59113903A (en) * 1982-12-22 1984-06-30 Kawasaki Steel Corp Hot rolling method of steel plate by work roll moving type rolling mill
JPS62101304A (en) * 1985-10-26 1987-05-11 Nippon Light Metal Co Ltd Production of metallic rolling material having smooth surface
JPS63255320A (en) * 1987-04-11 1988-10-21 Nippon Steel Corp Steel sheet having high reflectivity
JPH0323004A (en) * 1989-06-19 1991-01-31 Nisshin Steel Co Ltd Multistage cold rolling mill

Also Published As

Publication number Publication date
JP2696276B2 (en) 1998-01-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2638375B2 (en) Continuous molten metal plating equipment and bearings for continuous molten metal plating equipment
JP3070757B2 (en) Continuous molten metal plating device, method of manufacturing continuous molten metal plating device, bearing for continuous molten metal plating device, and roll for continuous molten metal plating device
US20140144972A1 (en) Friction processing tool, and friction processing apparatus and friction processing method using the same
JP2679510B2 (en) Continuous molten metal plating equipment
Ruzzi et al. MQL with water in cylindrical plunge grinding of hardened steels using CBN wheels, with and without wheel cleaning by compressed air
CN103820780A (en) Preparation method of wear-resistant coating on surface of roller
KR100338572B1 (en) Compound roll for thin cold rolled steel strip and method of manufacturing same
US6886986B1 (en) Nitinol ball bearing element and process for making
CN110952060A (en) Surface treatment method and coating for power transmission shaft of speed reducer
JP2708611B2 (en) Composite roll for cold rolling and production method thereof
CN113235087A (en) Process for zinc pot roller shaft sleeve surface laser cladding
CN112795916A (en) Laser cladding alloy powder and laser cladding method for roller step pad
JP2696276B2 (en) Apparatus and method for polishing circular member, columnar or cylindrical member, and material to be rolled
JP2687732B2 (en) Composite roll for metal rolling, its manufacturing method and rolling mill
CA2381785A1 (en) Nitinol ball bearing element and process for making
CN100534719C (en) Grinding wheel spindle of centerless grinding machine and processing method therefor
JP2668054B2 (en) Roll for continuous molten metal plating equipment and continuous molten metal plating equipment
JPH07266215A (en) Device and method for polishing circular member, columnar or cylindrical member and material to be rolled
US20090205470A1 (en) Coated guided pad for saw blades
CN109366375A (en) A kind of cylinder head for motorcycle engine robot polishing bistrique
JP7087441B2 (en) Cutting method
JP2500854B2 (en) Rolling roll
JP3178465B2 (en) Continuous molten metal plating equipment, bearings for continuous molten metal plating equipment, and rolls for continuous molten metal plating equipment
JP3127650B2 (en) Tandem rolling mill
US3117042A (en) Heat-treatment of metals

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070919

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919

Year of fee payment: 14