JPH04274091A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH04274091A
JPH04274091A JP3034810A JP3481091A JPH04274091A JP H04274091 A JPH04274091 A JP H04274091A JP 3034810 A JP3034810 A JP 3034810A JP 3481091 A JP3481091 A JP 3481091A JP H04274091 A JPH04274091 A JP H04274091A
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JP
Japan
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line
memory cell
transistor
voltage
drain
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JP3034810A
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Inventor
Akihiro Harada
晃宏 原田
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To enlarge a difference between the output voltage of a sense line to a differential amplifier circuit and the output voltage of a reference line, by connecting the drain of the load transistor(Tr) of a memory cell with the gate electrode o the load Tr of a dummy cell and mutually connecting the drains of a first and a second load Tr of the dummy cell. CONSTITUTION:When the logic state of the memory cell 201 is zero, namely, when a data is written on the memory cell 201, the potential value Vsin of the sense line SL becomes a voltage VB at the intersected points of a drain voltage-current characteristic line (line 2) of the cell 201 and the static characteristic line (line 3). The potential value VR of the reference line RL becomes a voltage VA at the intersected points of the drain voltage-current characteristic line (line 1) when the logic state of the memory cell 201 is one and the line 3. By the differential amplifier circuit 217, Vsin and VR are compared, the logic state of the cell 201 is judged, and the result is outputted Vsout. Meantime, when the logic state of the cell 201 is '1', the value of Vin is VA, and the load Tr 215 is on continuity as a potential difference is generated among the source drains. The VR becomes a voltage VD at the intersected points of the line 1 and the load curve of the reference side.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、メモリセルを有する半
導体装置、特にセンスアンプに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a memory cell, and particularly to a sense amplifier.

【0002】0002

【従来の技術】図2は従来のセンスアンプの回路図を示
す。この図2を用いて、従来の技術を説明する。
2. Description of the Related Art FIG. 2 shows a circuit diagram of a conventional sense amplifier. The conventional technology will be explained using FIG. 2.

【0003】まず、従来のセンスアンプの構成を示すと
、メモリセルトランジスタ201(以下、メモリセルと
言う)は、実際は複数のメモリセルが並列接続されてい
るが、この場合、1ビットのメモリセルのみを示す。 参照用のダミーセルトランジスタ203(以下、ダミー
セルと言う)はメモリセル201と同一特性のものであ
る。このメモリセル201は浮遊ゲート型のnチャンネ
ルMOSトランジスタ(以下NMOSと言う)であり、
ゲート電極はワード線(WL)に、ドレインはビット線
に、ソースはグランド(GND)にそれぞれ接続されて
いる。メモリセル201は、データが書込まれている時
は、閾値が高くなるため、非導通状態になるか、または
、電流量が小さくなる。ダミーセル203には常に書き
込まれていない状態となっている。この場合、データが
書き込まれていない状態の論理を“1”、データが書き
込まれている状態の論理を“0”と表す。トランジスタ
205は、デコード信号(Y)によりスイッチされるト
ランスファトランジスタであり、トランジスタ211は
これに対応するトランジスタである。トランジスタ20
9は定電圧(VBB)をゲート電極に入力するトランス
ファトランジスタで、ビット線に高電圧が印加されて、
メモリセル201に誤まってデータが書込されるのを防
止するものである。トランジスタ211は、これに対応
するトランジスタである。
First, to show the configuration of a conventional sense amplifier, a memory cell transistor 201 (hereinafter referred to as a memory cell) is actually a plurality of memory cells connected in parallel, but in this case, a 1-bit memory cell Only shown. A reference dummy cell transistor 203 (hereinafter referred to as dummy cell) has the same characteristics as the memory cell 201. This memory cell 201 is a floating gate type n-channel MOS transistor (hereinafter referred to as NMOS),
The gate electrode is connected to a word line (WL), the drain is connected to a bit line, and the source is connected to ground (GND). When data is being written to the memory cell 201, the threshold value becomes high, so the memory cell 201 becomes non-conductive or the amount of current becomes small. The dummy cell 203 is always in an unwritten state. In this case, the logic state in which no data is written is represented as "1", and the logic state in which data is written is represented as "0". Transistor 205 is a transfer transistor that is switched by a decode signal (Y), and transistor 211 is a corresponding transistor. transistor 20
9 is a transfer transistor that inputs a constant voltage (VBB) to the gate electrode, and when a high voltage is applied to the bit line,
This is to prevent data from being written into the memory cell 201 by mistake. The transistor 211 is a corresponding transistor.

【0004】トランジスタ205、207、209、2
11はいずれも、NMOSが用いられている。メモリセ
ル201の負荷トランジスタ213、およびダミーセル
203の負荷トランジスタ215はPチャンネルMOS
トランジスタ(以下PMOSと言う)が用いられており
、PMOS215の相互コンダクタンスgm をPMO
S213のgm よりも大きくすることによって、参照
線(RL)の電圧(VR )は読み出しセルの論理状態
に対して発生するセンス線(SL)の電圧(Vsin 
)の最大電圧と最小電圧の間に位置する。
Transistors 205, 207, 209, 2
No. 11 uses NMOS. The load transistor 213 of the memory cell 201 and the load transistor 215 of the dummy cell 203 are P-channel MOS.
A transistor (hereinafter referred to as PMOS) is used, and the mutual conductance gm of PMOS215 is expressed as PMO
By making gm of S213 larger than gm, the voltage (VR) of the reference line (RL) is equal to the voltage (Vsin) of the sense line (SL) generated for the logic state of the read cell.
) between the maximum and minimum voltages.

【0005】一般に読み出しスピードと、差動アンプ入
力としての電圧の整合性により、上記負荷トランジスタ
はダイオード結合されており、電源電圧マージンを考慮
して、メモリセルの負荷トランジスタとダミーセルの負
荷トランジスタの相互コンダクタンス比は1:2に設定
されている。差動増幅回路217は一般的なものである
In general, the load transistors are diode-coupled for read speed and voltage consistency as a differential amplifier input, and the load transistors of the memory cell and the load transistor of the dummy cell are connected to each other in consideration of the power supply voltage margin. The conductance ratio is set to 1:2. The differential amplifier circuit 217 is a common one.

【0006】次に従来のセンスアンプの回路動作特性に
ついて図3を用いて説明する。
Next, the circuit operating characteristics of the conventional sense amplifier will be explained with reference to FIG.

【0007】図3はメモリセル201、負荷トランジス
タ213及び負荷トランジスタ215の静特性を示すグ
ラフである。
FIG. 3 is a graph showing the static characteristics of the memory cell 201, the load transistor 213, and the load transistor 215.

【0008】この場合、横軸は、センス線(SL)の電
圧(Vsin )または参照線(RL)の電位(VR 
)を示し、縦軸は負荷トランジスタ213、または負荷
トランジスタ215を流れる電流を示す。実線■及び■
はゲート電圧(VCC)で、メモリセル201のドレイ
ン電圧−ソース・ドレイン電流特性を示し、実線■は論
理状態“1”の時、すなわちデータが書き込まれていな
い時、実線■は論理状態“0”の時、すなわちデータが
書込まれた状態での特性で横軸と同一線である。また、
破線■は負荷トランジスタ213の特性、一点鎖線■は
負荷トランジスタ215の特性を表しており、この時、
負荷トランジスタ213と215の相互コンダクタンス
比は1:2である。負荷トランジスタ213を流れる電
流は、メモリセル201を流れる電流と等しいため、セ
ンス線(SL)の電圧(Vsin )の値はメモリセル
201の論理状態が“1”の時、実線■と破線■との交
点Aの横座標に相当する電圧VA となり、メモリセル
201の論理状態が“0”の時、実線■と破線■との交
点Bの横座標に相当する電圧VB となる。また、VT
Pは、負荷トランジスタ213及び215の閾値である
In this case, the horizontal axis represents the voltage (Vsin) of the sense line (SL) or the potential (VR) of the reference line (RL).
), and the vertical axis indicates the current flowing through the load transistor 213 or the load transistor 215. Solid line ■ and ■
is the gate voltage (VCC), which indicates the drain voltage-source-drain current characteristics of the memory cell 201, where the solid line ■ indicates the logic state "1", that is, when no data is written, the solid line ■ indicates the logic state "0". ”, that is, when data is written, it is on the same line as the horizontal axis. Also,
The broken line ■ represents the characteristics of the load transistor 213, and the dashed line ■ represents the characteristics of the load transistor 215.
The mutual conductance ratio of load transistors 213 and 215 is 1:2. Since the current flowing through the load transistor 213 is equal to the current flowing through the memory cell 201, the value of the voltage (Vsin) of the sense line (SL) is the same as the solid line ■ and the broken line ■ when the logic state of the memory cell 201 is "1". When the logic state of the memory cell 201 is "0", the voltage VB corresponds to the abscissa of the intersection B between the solid line (2) and the broken line (2). Also, VT
P is the threshold of load transistors 213 and 215.

【0009】一方、ダミーセル203の論理状態は常に
“1”なので、参照線(RL)の電圧(VR )は実線
■と、負荷トランジスタ215の一点鎖線■との交点C
の横座標に相当する電圧Vc となる。
On the other hand, since the logic state of the dummy cell 203 is always "1", the voltage (VR) of the reference line (RL) is the intersection point C between the solid line ■ and the dot-dash line ■ of the load transistor 215.
The voltage Vc corresponds to the abscissa of .

【0010】差動増幅回路217は、センス線(SL)
の電圧(Vsin )と参照線の電圧(VR )とを比
較し、セルの論理状態が“1”であるか“0”であるか
を判断し、その結果を出力Vsoutする。
The differential amplifier circuit 217 has a sense line (SL)
The voltage (Vsin) of the cell is compared with the voltage (VR) of the reference line to determine whether the logic state of the cell is "1" or "0", and the result is outputted as Vsout.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】以上、説明したように
、メモリセル201の負荷トランジスタ213およびダ
ミーセル203の負荷トランジスタ215は、通常、相
互コンダクタンス比は1:2に設定する。この相互コン
ダクタンス比は、デバイスの電源電圧マージンに大きな
関りがある。
As described above, the mutual conductance ratio of the load transistor 213 of the memory cell 201 and the load transistor 215 of the dummy cell 203 is usually set to 1:2. This mutual conductance ratio has a great deal to do with the power supply voltage margin of the device.

【0012】図4は、メモリセル201のゲートーソー
ス間電圧(VGS)とドレイン−ソース間電流(IDS
)の関係を直線近似でプロットしたものであり、論理状
態“0”のグラフ■は、論理状態“1”のグラフ■を横
軸方向に△Vだけ平行移動したものである。
FIG. 4 shows the gate-source voltage (VGS) and drain-source current (IDS) of the memory cell 201.
) is plotted by linear approximation, and the graph (2) for the logic state "0" is obtained by translating the graph (2) for the logic state "1" by ΔV in the horizontal axis direction.

【0013】一方、論理状態“1”のメモリセル201
で相互コンダクタンスgm を1/nにした状態のVG
S−IDS特性をプロットすると、図3の破線■のよう
になる。この図4において、電源電圧の最大値(Vcc
max )は、論理状態“0”の実線■と、破線■との
交点であり、nが小さい方がVccmax は大きくな
る。
On the other hand, the memory cell 201 in the logic state "1"
VG with the mutual conductance gm reduced to 1/n
When the S-IDS characteristics are plotted, they look like the broken line ■ in FIG. In FIG. 4, the maximum value of the power supply voltage (Vcc
max) is the intersection of the solid line (2) with the logic state "0" and the broken line (2), and the smaller n is, the larger Vccmax is.

【0014】逆に、電源電圧の最小値Vccmin は
、差動増幅回路217がVR とVsin の差分を検
出できるところで決まるため、nが大きい方が小さくな
る。
Conversely, the minimum value Vccmin of the power supply voltage is determined by the point at which the differential amplifier circuit 217 can detect the difference between VR and Vsin, so the larger n is, the smaller it is.

【0015】これらのことより、良好な電源電圧(Vc
c)マージンを得るために通常、メモリセル負荷トラン
ジスタとダミーセルの負荷トランジスタの相互コンダク
タンス(gm )比は1:2に設定される。
From these facts, a good power supply voltage (Vc
c) To obtain a margin, the transconductance (gm) ratio of the memory cell load transistor and the dummy cell load transistor is usually set to 1:2.

【0016】ところが、負荷トランジスタはダイオード
結合されているので図3に示すように、VR はVA 
とVB の中間の電圧(VA +VB )/2でなくV
A 側に寄ってしまう。
However, since the load transistor is diode-coupled, as shown in FIG.
and VB instead of the intermediate voltage (VA + VB)/2
I lean towards the A side.

【0017】さらに、Vsin はVR を基準電圧と
してメモリセルの論理状態に応じて、高いもしくは低い
電圧をとるだけなので、差動増幅回路217の入力とし
ては、電圧差が小さいという問題があった。
Furthermore, since Vsin only takes a high or low voltage depending on the logic state of the memory cell using VR as a reference voltage, there is a problem that the voltage difference is small when used as an input to the differential amplifier circuit 217.

【0018】しかも、これらの問題点は負荷トランジス
タのgm での調整が困難であるため、センスアンプ設
計の自由度を著しく小さくするものである。
Moreover, these problems make it difficult to adjust the gm of the load transistor, which significantly reduces the degree of freedom in designing the sense amplifier.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は、メモリセルの
論理状態を検出するセンスアンプにおいて、メモリセル
の負荷トランジスタのドレインとダミーセルの第1の負
荷トランジスタのゲート電極を接続し、かつ前記第1の
負荷トランジスタのドレインとダミーセルの第2の負荷
トランジスタのドレインを接続することで前述の課題を
解決するものである。
Means for Solving the Problems The present invention provides a sense amplifier for detecting a logic state of a memory cell, in which the drain of a load transistor of a memory cell is connected to the gate electrode of a first load transistor of a dummy cell, and The above problem is solved by connecting the drain of the first load transistor and the drain of the second load transistor of the dummy cell.

【0020】[0020]

【作用】本発明は、以上のような構成を用いたことで、
メモリセル201の論理状態が“0”の時、すなわちデ
ータが書き込まれている時、第3の負荷トランジスタ2
15のソース・ドレイン間の電位差がないため、第3の
負荷トランジスタ215は非導通となり、センス線SL
の電圧Vsin と参照線VR の電圧VR は図5の
第2の負荷トランジスタ219の静特性■とメモリセル
の各論理状態の静特性■および■からそれぞれVsin
 =VB 、VR =VA となり、差動増幅回路21
7に入力する電圧振幅が大きくなる。
[Operation] By using the above configuration, the present invention has the following features:
When the logic state of the memory cell 201 is “0”, that is, when data is being written, the third load transistor 2
Since there is no potential difference between the source and drain of the third load transistor 215, the third load transistor 215 becomes non-conductive, and the sense line SL
The voltage Vsin of the reference line VR and the voltage VR of the reference line VR are determined from the static characteristics (■) of the second load transistor 219 and the static characteristics (■) and (■) of each logic state of the memory cell in FIG.
=VB, VR =VA, and the differential amplifier circuit 21
7 becomes larger.

【0021】一方、メモリセルの論理状態が“1”の時
、すなわちデータが書き込まれてない時、第3の負荷ト
ランジスタ215のソース・ドレイン間に電位差が生じ
、第3の負荷トランジスタ215は導通となるため、セ
ンス線SLの電圧Vsin と参照線VR の電圧VR
 は、図5の第2の負荷トランジスタ219と第3の負
荷トランジスタ215を合成した静特性■とメモリセル
の各論理状態の静特性■および■から、それぞれVsi
n =VA 、VR =VD となり、差動増幅回路2
17に入力する電圧振幅が大きくなる。
On the other hand, when the logic state of the memory cell is "1", that is, when no data is written, a potential difference occurs between the source and drain of the third load transistor 215, and the third load transistor 215 becomes conductive. Therefore, the voltage Vsin of the sense line SL and the voltage VR of the reference line VR
From the static characteristics (■) which is a combination of the second load transistor 219 and the third load transistor 215 in FIG. 5, and the static characteristics (■) and (■) of each logic state of the memory cell, Vsi
n = VA, VR = VD, and the differential amplifier circuit 2
The voltage amplitude input to 17 becomes larger.

【0022】[0022]

【実施例】図1は本発明の実施例を示す回路図である。 図1のセンスアンプの構成は図2の従来のセンスアンプ
のダミーセル203の負荷トランジスタに、新たにPM
OS219を設けたものである。図2の従来のセンスア
ンプと同一部分は、同一符号を付し、説明を省略する。
Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention. The configuration of the sense amplifier in FIG. 1 is such that a new PM is added to the load transistor of the dummy cell 203 of the conventional sense amplifier in FIG.
It is equipped with an OS 219. Components that are the same as those of the conventional sense amplifier shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0023】前記PMOS219は、ソースが電源VC
Cにドレインが参照線RLに接続される。また、ゲート
電極はセンス線SLが接続される。
The PMOS 219 has a source connected to the power supply VC.
The drain of C is connected to the reference line RL. Further, the gate electrode is connected to a sense line SL.

【0024】この場合、PMOS213、215、およ
び219の相互コンダクタンスgm は同じであるとす
る。
In this case, it is assumed that the mutual conductances gm of PMOSs 213, 215, and 219 are the same.

【0025】また、図5は、この回路の動作特性を示す
グラフで、メモリセル201、メモリセル201の負荷
トランジスタ213、およびダミーセル203の負荷ト
ランジスタ215と219の静特性を示す。
FIG. 5 is a graph showing the operating characteristics of this circuit, and shows the static characteristics of the memory cell 201, the load transistor 213 of the memory cell 201, and the load transistors 215 and 219 of the dummy cell 203.

【0026】この場合、横軸はセンス線SLの電位Vs
in または、参照線RLの電位VR を示し、縦軸は
各トランジスタを流れる電流を示す。
In this case, the horizontal axis represents the potential Vs of the sense line SL.
in or the potential VR of the reference line RL, and the vertical axis indicates the current flowing through each transistor.

【0027】図5の実線■は、メモリセル201の論理
状態が“1”の時、すなわちデータが書き込まれていな
い時、実線■は、メモリセル201の論理状態が“0”
の時、すなわちデータが書き込まれている時のメモリセ
ル201のドレイン電圧−電流特性をそれぞれ示す。ま
た、破線■は、負荷トランジスタ219の静特性を示し
、一点鎖線■は負荷トランジスタ215の静特性を示し
、二点鎖線■は破線■と一点鎖線■を合成したもので、
各負荷トランジスタが導通の場合である。
The solid line (■) in FIG. 5 indicates when the logic state of the memory cell 201 is "1", that is, when no data is written, and the solid line (■) indicates that the logic state of the memory cell 201 is "0".
The drain voltage-current characteristics of the memory cell 201 when data is being written are shown. Furthermore, the dashed line ■ indicates the static characteristics of the load transistor 219, the dashed-dotted line ■ shows the static characteristics of the load transistor 215, and the dashed-double line ■ is a combination of the dashed line ■ and the dashed-dotted line ■.
This is the case when each load transistor is conductive.

【0028】メモリセル201の論理状態が“0”の時
、すなわち、メモリセル201にデータが書き込まれて
いる時、Vsin の値は実線■と破線■との交点Bの
横座標に相当する電圧VB となる。また、VR の値
は、実線■と破線■との交点Aの横座標に相当する電圧
VA となる。
When the logic state of the memory cell 201 is "0", that is, when data is written in the memory cell 201, the value of Vsin is a voltage corresponding to the abscissa of the intersection B of the solid line ■ and the broken line ■. It becomes VB. Further, the value of VR is the voltage VA corresponding to the abscissa of the intersection point A between the solid line (■) and the broken line (■).

【0029】ここで、差動増幅回路217は、Vsin
 とVR とを比較し、メモリセル201の論理状態を
判断し、その結果を出力Vsoutする。VTPは負荷
トランジスタ219の閾値である。
Here, the differential amplifier circuit 217 has Vsin
and VR are compared to determine the logic state of the memory cell 201, and the result is outputted as Vsout. VTP is the threshold of load transistor 219.

【0030】一方、メモリセル201の論理状態が“1
”の時、すなわち、メモリセル201にデータが書き込
まれてない時、Vsin の値は実線■と破線■との交
点の横座標に相当するVA であり、この時、負荷トラ
ンジスタ215は、ソース・ドレイン間で電位差が生じ
導通となるため、参照側の負荷曲線は二点鎖線■により
表わされる。よって、VR は実線■と二点鎖線■との
交点Dの横座標に相当する電圧VD となる。
On the other hand, the logic state of the memory cell 201 is “1”.
”, that is, when no data is written to the memory cell 201, the value of Vsin is VA corresponding to the abscissa of the intersection of the solid line 2 and the broken line 2, and at this time, the load transistor 215 is connected to the source Since a potential difference occurs between the drains and conduction occurs, the load curve on the reference side is represented by the two-dot chain line ■.Therefore, VR is the voltage VD corresponding to the abscissa of the intersection D between the solid line ■ and the two-dot chain line ■. .

【0031】ここで、差動増幅回路217は、Vsin
 とVR とを比較し、メモリセル201の論理状態を
判断しその結果を出力Vsoutする。
Here, the differential amplifier circuit 217 has Vsin
and VR are compared, the logic state of the memory cell 201 is determined, and the result is outputted as Vsout.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、参照線RLの出力電圧VR を、センス線SL
の出力電圧Vsin とは逆の動きをするようにしたの
で、差動増幅回路への入力電圧振幅が約2倍になると同
時に、メモリセル201の論理状態が“1”、“0”に
かかわらず、同様な電圧レベルで動くため、広い電源電
圧マージン、及び差動増幅回路設計自由度の拡大ができ
る。
As described above in detail, according to the present invention, the output voltage VR of the reference line RL is changed from the output voltage VR of the reference line RL to the sense line SL.
Since the output voltage Vsin moves in the opposite direction to the output voltage Vsin of , operate at similar voltage levels, allowing for a wide power supply voltage margin and greater freedom in differential amplifier circuit design.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明のセンスアンプの構成を示す回路図。FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a sense amplifier of the present invention.

【図2】従来のセンスアンプの構成を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of a conventional sense amplifier.

【図3】メモリセル201、負荷トランジスタ213お
よび215の静特性を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing static characteristics of a memory cell 201 and load transistors 213 and 215.

【図4】メモリセル201のゲート−ソース間電圧(V
GS)とドレイン−ソース間電流(IDS)の関係を直
線近似で示した図。
FIG. 4: Gate-source voltage (V
GS) and a drain-source current (IDS) using a linear approximation.

【図5】メモリセル201、負荷トランジスタ215お
よび219の静特性を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing static characteristics of a memory cell 201 and load transistors 215 and 219.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

201    メモリセル 203    ダミーセル 213    メモリセルの負荷トランジスタ215,
219    ダミーセルの負荷トランジスタ217 
   差動増幅回路
201 Memory cell 203 Dummy cell 213 Memory cell load transistor 215,
219 Dummy cell load transistor 217
differential amplifier circuit

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  第1と第2の端子を有し、第1または
第2の論理レベルを記憶するメモリセルであって、前記
第1の論理レベルを記憶した時、前記第1の端子と前記
第2の端子間は前記第1の抵抗状態であり、前記第2の
論理レベルを記憶した時、前記第1の端子と前記第2の
端子間は前記第1の抵抗状態と異なる第2の抵抗状態で
あるメモリセルと、第1の電源から電位が与えられるソ
ースと前記メモリセルの第1の端子に接続するドレイン
とを有する第1のトランジスタであって、前記ドレイン
が前記第1のトランジスタのゲート電極に接続される第
1のトランジスタと、前記第1の電源とは異なる電位の
第2の電源から電位を与えられる第1の端子と、第2の
端子とを有する負荷参照素子と、前記第1の電源から電
位が与えられるソースと前記負荷参照素子の第2の端子
に接続するドレインとを有する第2のトランジスタであ
って、前記第1のトランジスタのドレインが前記第2の
トランジスタのゲート電極に接続する第2のトランジス
タと、前記第1のトランジスタのドレインおよび前記第
2のトランジスタのドレインと接続する差動増幅回路と
を有することを特徴とする半導体装置。
1. A memory cell having a first and a second terminal and storing a first or second logic level, wherein when the first logic level is stored, the memory cell has a first terminal and a second terminal. The state between the second terminals is the first resistance state, and when the second logic level is stored, the state between the first terminal and the second terminal is the second resistance state different from the first resistance state. a first transistor having a memory cell in a resistance state of , a source to which a potential is applied from a first power supply, and a drain connected to a first terminal of the memory cell, the drain being in a resistance state of the first transistor; a load reference element having a first transistor connected to a gate electrode of the transistor, a first terminal to which a potential is applied from a second power source having a potential different from the first power source, and a second terminal; , a second transistor having a source supplied with a potential from the first power supply and a drain connected to the second terminal of the load reference element, wherein the drain of the first transistor is connected to the second transistor. A semiconductor device comprising: a second transistor connected to a gate electrode of the first transistor; and a differential amplifier circuit connected to a drain of the first transistor and a drain of the second transistor.
【請求項2】  前記第1の抵抗状態は前記メモリセル
の第1の端子と第2の端子間が導通状態であり、前記第
2の抵抗状態は前記メモリセルの第1の端子と第2の端
子間が実質的に非導通状態であることを特徴とする請求
項1記載の半導体装置。
2. The first resistance state is a conduction state between the first terminal and the second terminal of the memory cell, and the second resistance state is a state where the first terminal and the second terminal of the memory cell are electrically connected. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the terminals of the semiconductor device are substantially non-conductive.
【請求項3】  前記負荷参照素子は前記メモリセルと
同一特性のダミーセルと、前記第1の電源から電位が与
えられるソースと前記第2のトランジスタのドレインと
接続するドレインとを有する第3のトランジスタであっ
て、前記ドレインが前記第3のトランジスタのゲート電
極に接続される第3のトランジスタとを有することを特
徴とする請求項1記載の半導体装置。
3. The load reference element includes a dummy cell having the same characteristics as the memory cell, a third transistor having a source supplied with a potential from the first power supply, and a drain connected to the drain of the second transistor. 2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a third transistor, the drain of which is connected to the gate electrode of the third transistor.
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