JPH04252299A - Detergent composition for liquid crystal cell - Google Patents

Detergent composition for liquid crystal cell

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JPH04252299A
JPH04252299A JP2959591A JP2959591A JPH04252299A JP H04252299 A JPH04252299 A JP H04252299A JP 2959591 A JP2959591 A JP 2959591A JP 2959591 A JP2959591 A JP 2959591A JP H04252299 A JPH04252299 A JP H04252299A
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Japan
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liquid crystal
acid
cleaning
eop
crystal cell
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Hirotoshi Ushiyama
広俊 牛山
Kenji Yokoi
健二 横井
Kazuhiko Yoshizawa
吉沢 和彦
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Lion Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide the subject aqueous composition containing a specified nonionic surfactant, a silicate and a chelating agent, capable of effectively cleaning stains of a liquid crystal cell generated in encapsulation of a liquid crystal without requirement of a fluorocarbon-based solvent and excellent in environmental health. CONSTITUTION:An objective composition containing (A) a nonionic surfactant represented by the formula (R1 is 6-12C alkyl or alkenyl; n is 2-4; m is >=3) preferably in an amount of 10-60wt.% (especially 20-60wt.%), (B) a silicate such as sodium orthosilicate preferably in an amount of 1-20wt.% (especially 5-20wt.%) and (C) a chelating agent such as nitrilotriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid or hydroxyethanediphosphonic acid preferably in an amount of 0.05-20wt.% (especially 1.0-20wt.%).

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板などを用い
た液晶セル用の洗浄剤組成物に関する。 【0002】 【従来の技術】ガラス基板を用いた液晶セルは、10μ
m以下の適切な関隔を保って2枚のガラス基板を内部が
中空になるよう接着剤によってその周囲を貼り合わせた
後、この中空部に液晶を封入したものである。2枚のガ
ラス基板内面には、透明導電膜で構成された文字、画像
表示用電極を有し、この電極に制御用電気信号を印加す
ることにより、文字、画像等を表示することができる。 【0003】液晶セルは、元来消費電力が少なく、かつ
近年高コントラスト化等の技術改良が進んだ結果、コン
ピュータ端末表示用、テレビジョン用等、より繊細で多
様な画像表示が可能となり、これにつれて用途が拡大し
つつある。 【0004】しかし、繊細な画像表示をするためには、
上記電気制御信号を印加するためにガラス基板端面に形
成される電極端子を、3〜10本/mmの間隔で、1個
の表示セルに数千本配置しなければならないことから、
高密度配線化が進んでいる。これらの電極端子配線の配
置例を挙げれば、導体端子部の導体幅100〜300μ
mに対し、数千本並んだ導体端子を、それぞれ電気的に
絶縁して独立させる為の端子配線間隔は、画像表示品位
を保つ必要上10〜30μmと非常に狭く配置せねばな
らない。 【0005】このため、端子配線間の絶縁を維持するこ
とが容易でなく、わずかな汚染物質が端子面上に存在す
るだけでも、絶縁不良による画像表示欠陥を生じたり、
湿度が加わると電蝕によって断線事故を生じて液晶セル
の表示機能を破壊してしまうなどの問題を生じる。 【0006】特に液晶セルにおいては、液晶セル注入時
に液晶室外の基板間に吸引された液晶が、汚染の原因と
なる。 【0007】液晶セルの製造に際しては、透明電極が形
成された2枚の基板間に液晶を封入すべく、一部開口を
残して上下基板をその周縁部で接着剤により貼り合わせ
て液晶室を形成し、空の液晶セルを作成する。この空セ
ルは、真空にした注入室内で開口部が液晶物質中に浸さ
れ、ついで、注入室を大気に開放することにより、液晶
物質が基板間(液晶室内)に吸引され、開口部をシール
することにより、基板間に液晶物質の封入された液晶セ
ルが形成される。 【0008】しかしながら、2枚の液晶セル基板の接着
部の外側には、液晶セル基板が微小ギャップで対向する
空隙部の生じることが避けられない。そのため、上記の
空セルへの液晶の注入時に、毛細管現象により液晶がこ
の空隙部に入り込む。この液晶をそのままにしておくと
、液晶が大気中の汚染物質を溶解して絶縁不良を起こし
やすいため、液晶を洗浄除去する必要がある。しかし、
この空隙部のギャップは10μm以下と狭いため、入り
込んだ液晶を洗浄除去することは困難である。 【0009】以上のような理由から、従来、完成された
液晶セルの洗浄剤としては、高度な洗浄能力を有し、汚
染残渣を残すことのないフロン系溶剤あるいは塩素系溶
剤が用いられていた。しかしながら、これらの溶剤は優
れた洗浄性能を有する反面、環境への安全性に大きな問
題を有しており、近年、水系の洗浄剤への要望が高まっ
ている。 【0010】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶セルに
対して極めて優れた洗浄性能を発揮し、しかも環境汚染
のない洗浄剤組成物を提供するものである。 【0011】 【発明の構成】本発明の液晶セル用洗浄剤は以下の(a
)〜(c)成分を含有することを特徴とする。 (a) 以下の化2で示される非イオン界面活性剤。 (b) ケイ酸塩。 (c) キレート剤。 【0012】 【化2】 (R1:炭素数6〜12のアルキル基またはアルケニル
基n:2〜4 m:アルキレンオキシドの付加モル数を表わし、3以上
の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加し
ていてもよく、2種以上のアルキレンオキシドが混合し
て付加していてもよい。) 【0013】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。 (a)成分の非イオン界面活性剤は、アルキルまたはア
ルケニルフェノールのアルキレンオキシド付加物であり
、アルキルまたはアルケニル基の炭素数は、8〜9が特
に好ましい。 【0014】アルキレンオキシドとしては、エチレンオ
キシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドが付加
され、特にエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド
が好ましい。これらアルキレンオキシドは、1種類のも
のが単独で付加してもよく、2種以上が混合して付加し
てもよい。混合付加の場合は、ブロック付加でもランダ
ム付加でもよい。 【0015】アルキレンオキシドの付加モル数は、3以
上であり、好ましくは5〜15である。(b)成分のケ
イ酸塩としては、以下の化3で表わされるものが好適で
ある。 【0016】 【化3】aM2O・bSiO2 (M:Na,K等のアルカリ金属塩 a:1〜3、好ましくは1〜2 b:1〜5、好ましくは1〜2 b/a:0.3〜4、好ましくは0.5〜1)【001
7】(c)成分のキレート剤としては、エチレンジアミ
ン4酢酸、ジエチレントリアミン5酢酸、ニトリロ3酢
酸、ヒドロキシエタンジホスホン酸またはこれらの塩が
好適である。 【0018】本発明の液晶セル用洗浄剤組成物は、上記
(a),(b),(c)成分を配合して調製される。こ
こで、(a)成分の非イオン界面活性剤は、10〜60
重量%配合することが好ましく、より好ましくは20〜
60重量%である。 【0019】(b)成分のケイ酸塩は、1〜20重量%
配合することが好ましく、より好ましくは5〜20重量
%である。また、(c)成分のキレート剤は、0.05
〜20重量%配合することが好ましく、さらに好ましく
は1.0〜20重量%である。 【0020】本発明の液晶セル用洗浄剤組成物は、液体
、粉体等の種々の剤型をとることができるが、通常、水
で希釈して5〜70重量%の透明な組成物として調製さ
れ、水で10倍程度に希釈して洗浄液とする。その際必
要に応じてエチレングリコール、プロピレングリコール
、メタノール、エタノール、プロパノール、トルエンス
ルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩等の液安定化剤を配
合することができ、また、ベンゾトリアゾール等の防錆
剤、安息香酸塩等の防腐剤などを添加することもできる
。 【0021】 【発明の効果】本発明の液晶セル用洗浄剤組成物によれ
ば、特定の非イオン界面活性剤、ケイ酸塩およびキレー
ト剤を併用することにより、水系の洗浄液により、液晶
セルの汚れを効果的に洗浄することができる。 【0022】 【実施例】後記の実施例1〜43において各洗浄剤を調
製し、以下の評価方法で洗浄力を評価した。 【0023】[洗浄力評価方法] ガラス基板液晶セルの空隙部に液晶を塗布し、5分間静
置する。空隙部が液晶で満たされていることを偏光顕微
鏡(20倍)で確認し、洗浄サンプルとする。調製した
各々の洗浄剤を純水を用いて10希釈し、洗浄液とする
。 【0024】洗浄液を恒温槽内で40℃(±0.5℃)
に保ち、被洗浄セルを入れ、5分間浸漬洗浄を行なう。 洗浄後25℃の純水に入れ、10回振りすすぎを行ない
、自然乾燥する。 【0025】偏光顕微鏡(×20)で、ギャップ部の観
察を行ない、洗浄度合を次の評価基準により評価する。 ここで3点以上を合格する。 5:完全に洗浄される 4:非常に良好 3:かなり良好 2:不良 1:ほとんど洗浄されない 【0026】実施例1 以下の表1および表2に示したNo.1〜15の洗浄剤
組成物を調製し、水で10倍に希釈し、洗浄力を評価し
た。以下、非イオン界面活性剤は、アルキレンオキシド
が付加される骨格構造(フェノール等)と、アルキレン
オキシドの付加モル数で示す。また、EOpはエチレン
オキシドの平均付加モル数を示す。EDTAはエチレン
ジアミン四酢酸を示す。 【0027】 【表1】 表1:共通組成   非イオン界面活性剤(表2中に記載)      
      20wt%  オルソ珪酸ソーダ    
                         
 5wt%  (2Na2O・SiO2・xH2O,b
/a=0.5)  EDTA−2Na        
                      5wt
%  水                     
                       残部
     【0028】 【表2】 表2:非イオン界面活性剤の種類、評価結果No.  
         非イオン界面活性剤       
          洗浄力  1   ノニルフェノ
ール              EOp= 3   
    32   ノニルフェノール        
      EOp= 5       4  3  
 ノニルフェノール              EO
p=10       44   ノニルフェノール 
             EOp=15      
 45   ノニルフェノール           
   EOp=20       36   ノニルフ
ェノール              EOp=25 
      37   オクチルフェノール     
       EOp= 3       38   
オクチルフェノール            EOp=
 5       4  9   オクチルフェノール
            EOp=10       
510   オクチルフェノール          
  EOp=15       411   オクチル
フェノール            EOp=20  
     312   オクチルフェノール     
       EOp=25       313* 
 ラウリルアルコール            EOp
=10       214*  ラウリルアミン  
              EOp=10     
  215*  ラウリルモノエタノールアミド  E
Op=10       2     * No.13,14,15は、比較例【0029】実
施例2 以下の表3および表4に示したNo.16〜26の洗浄
剤組成物を調製し、10倍に希釈して洗浄力を評価した
。 【0030】 【表3】 表3:共通組成   オクチルフェノールEOp=10        
          20wt%  アルカリ剤(表4
に記載)                     
  5wt%  EDTA−2Na         
                     5wt%
  水                      
                      残部 
    【0031】 【表4】 表4:アルカリ剤の種類、評価結果 No.             アルカリ剤    
                  洗浄力  16
   オルソ珪酸ソーダ      2Na2O・Si
O2・xH2O       517   セスキ珪酸
ソーダ      3Na2O・2SiO2・xH2O
      418   メタ珪酸ソーダ      
  Na2O・SiO2・xH2O        4
19   1号珪酸ソーダ        Na2O・
2SiO2・aq*1       320   2号
珪酸ソーダ        2Na2O・5SiO2・
aq*1      321   3号珪酸ソーダ  
      Na2O・3SiO2・aq*1    
   322   4号珪酸ソーダ        N
a2O・4SiO2・aq*1       323*
  苛性ソーダ                  
                  224*  モ
ノエタノールアミン                
          225*  ジエタノールアミン
                         
   226*  トリエタノールアミン      
                    1     *)  No.23,24,25,26は比較例*1)
 aqは水溶液を示す。なお、表3中の配合量は純分(
固形分)として 【0032】実施例3 以下の表5および表6に示したNo.27〜30の洗浄
剤組成物を調製し、水で10倍に希釈して洗浄力を評価
した。 【0033】 【表5】 表5:共通組成   オクチルフェノールEOp=10        
          20wt%  オルソ珪酸ソーダ
                         
      5wt%  キレート剤(表6中に記載)
                      5wt
%  水                     
                       残部
     【0034】 【表6】 表6:キレート剤の種類、評価結果 No.           キレート剤      
                   洗浄力  2
7  ニトリロ3酢酸−3Na           
              528  ジエチレント
リアミン5酢酸−5Na             5
29  エチレンジアミン4酢酸−4Na      
           530  ヒドロキシエタンジ
ホスホン酸−4Na           5     【0035】実施例4 以下の表7および表8に示したNo.31〜36の洗浄
剤組成物を調製し、水で10倍に希釈して洗浄力を評価
した。 【0036】 【表7】 表7:共通組成   オクチルフェノールEOp=10        
      表8中に記載  オルソ珪酸ソーダ   
                         
   5wt%  EDTA−2Na        
                       5w
t%  水                    
                        残
部     【0037】 【表8】 表8:オクチルフェノールEOp=10の配合量、評価
結果   No.    オクチルフェノールEOp=
10の配合量     洗浄力    31     
              1wt%       
                332      
             5wt%        
               333       
           10wt%         
              434        
          20wt%          
             535         
         50wt%           
            536          
        60wt%            
           5       【0038】実施例5 以下の表9および表10に示したNo.37〜41の洗
浄剤組成物を調製し、水で10倍に希釈して洗浄力を評
価した。 【0039】 【表9】 表9:共通組成   オクチルフェノールEOp=10        
           20wt%  オルソ珪酸ソー
ダ                        
  表10中に記載  EDTA−2Na      
                         
5wt%  水                  
                         
   残部   【0040】 【表10】       【0041】実施例6 以下の表11および表12に示したNo.42〜47の
洗浄剤組成物を調製し、水で10倍に希釈して洗浄力を
評価した。 【0042】 【表11】 表11:共通組成   オクチルフェノールEOp=10        
           20wt%  オルソ珪酸ソー
ダ                        
       5wt%  EDTA−2Na    
                      表10
中に記載  水                  
                        バ
ランス   【0043】 【表12】       【0044】実施例7 以下の表13および表14に示したNo.48,49の
洗浄剤組成物を調製し、10倍に希釈して洗浄力を評価
した。 【0045】 【表13】 表13:共通組成   非イオン界面活性剤              
                (種類、配合量は表
12に記載)   オルソ珪酸ソーダ               
                5wt%  EDT
A−2Na                    
           5wt%  水       
                         
              残部   【0046】 【表14】 表14:非イオン界面活性剤の種類、評価結果No. 
           非イオン界面活性剤     
           洗浄力  48    オクチ
ルフェノールEOp=8  10wt%       
             +           
                  5      
オクチルフェノールEOp=10  10wt%   
       49    オクチルフェノールEOp
=15・POp=3*1     4     *1) エチレンオキシド15モルとプロピレンオキシ
ド3モルの混合ブロック付加物
Description: [0001] The present invention relates to a cleaning composition for liquid crystal cells using glass substrates and the like. [Prior Art] A liquid crystal cell using a glass substrate has a thickness of 10 μm.
Two glass substrates are bonded together using an adhesive to form a hollow interior while maintaining an appropriate distance of less than m, and then a liquid crystal is sealed in the hollow portion. The inner surfaces of the two glass substrates have electrodes for displaying characters and images made of transparent conductive films, and by applying control electrical signals to these electrodes, characters, images, etc. can be displayed. [0003] Liquid crystal cells inherently consume less power, and as a result of technological improvements such as higher contrast in recent years, it has become possible to display more delicate and diverse images, such as for computer terminal displays and televisions. As time goes by, its uses are expanding. However, in order to display delicate images,
In order to apply the above-mentioned electrical control signals, several thousand electrode terminals formed on the end surface of the glass substrate must be arranged in one display cell at intervals of 3 to 10 terminals/mm.
High-density wiring is progressing. To give an example of the arrangement of these electrode terminal wirings, the conductor width of the conductor terminal part is 100 to 300 μm.
In order to electrically insulate and separate several thousand conductor terminals from one another, the terminal wiring spacing must be very narrow, 10 to 30 μm, in order to maintain image display quality. For this reason, it is not easy to maintain insulation between terminal wirings, and even the presence of even a small amount of contaminants on the terminal surface may cause image display defects due to poor insulation.
When humidity is added, electrolytic corrosion causes problems such as wire breakage and destruction of the display function of the liquid crystal cell. Particularly in a liquid crystal cell, liquid crystal sucked between the substrates outside the liquid crystal chamber when the liquid crystal cell is injected causes contamination. [0007] When manufacturing a liquid crystal cell, in order to seal liquid crystal between two substrates on which transparent electrodes are formed, a liquid crystal chamber is created by bonding the upper and lower substrates together at their peripheries with an adhesive, leaving a partial opening. form and create an empty liquid crystal cell. The opening of this empty cell is immersed in liquid crystal material in a vacuumed injection chamber, and then the injection chamber is opened to the atmosphere, which draws the liquid crystal material between the substrates (inside the liquid crystal chamber) and seals the opening. By doing so, a liquid crystal cell is formed in which a liquid crystal substance is sealed between the substrates. [0008] However, it is unavoidable that a gap is formed outside the bonded portion of the two liquid crystal cell substrates, where the liquid crystal cell substrates face each other with a small gap. Therefore, when liquid crystal is injected into the empty cell, the liquid crystal enters the gap due to capillary action. If this liquid crystal is left as is, it is likely to dissolve pollutants in the atmosphere and cause insulation failure, so it is necessary to wash and remove the liquid crystal. but,
Since the gap of this cavity is narrow, 10 μm or less, it is difficult to clean and remove the liquid crystal that has entered. [0009] For the above reasons, CFC-based solvents or chlorinated solvents, which have a high degree of cleaning ability and do not leave contaminating residues, have conventionally been used as cleaning agents for completed liquid crystal cells. . However, while these solvents have excellent cleaning performance, they have serious environmental safety problems, and in recent years, there has been an increasing demand for water-based cleaning agents. OBJECTS OF THE INVENTION The present invention provides a cleaning composition that exhibits extremely excellent cleaning performance for liquid crystal cells and does not cause environmental pollution. Structure of the Invention The cleaning agent for liquid crystal cells of the present invention has the following (a)
) to (c). (a) A nonionic surfactant represented by the following chemical formula 2. (b) Silicates. (c) Chelating agent. [0012] (R1: Alkyl group or alkenyl group having 6 to 12 carbon atoms n: 2 to 4 m: Represents the number of moles of alkylene oxide added, a number of 3 or more. However, the same alkylene oxide is The present invention will be explained in more detail below. The nonionic surfactant as component (a) is an alkylene oxide adduct of an alkyl or alkenylphenol, and the alkyl or alkenyl group preferably has 8 to 9 carbon atoms. As the alkylene oxide, ethylene oxide, propylene oxide, and butylene oxide are added, and ethylene oxide or propylene oxide is particularly preferred. These alkylene oxides may be added singly or in a mixture of two or more. In the case of mixed addition, block addition or random addition may be used. The number of moles of alkylene oxide added is 3 or more, preferably 5 to 15. As the silicate of component (b), those represented by the following chemical formula 3 are suitable. [0016] aM2O.bSiO2 (M: alkali metal salt such as Na, K, etc. a: 1 to 3, preferably 1 to 2 b: 1 to 5, preferably 1 to 2 b/a: 0.3 ~4, preferably 0.5~1) 001
7] As the chelating agent for component (c), ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, nitrilotriacetic acid, hydroxyethanediphosphonic acid, or salts thereof are suitable. The liquid crystal cell cleaning composition of the present invention is prepared by blending the above components (a), (b), and (c). Here, the nonionic surfactant as component (a) has a concentration of 10 to 60
It is preferable to mix it in weight%, more preferably 20~
It is 60% by weight. Component (b) silicate is 1 to 20% by weight
It is preferably blended, and more preferably 5 to 20% by weight. In addition, the chelating agent (c) component is 0.05
The content is preferably from 1.0 to 20% by weight, more preferably from 1.0 to 20% by weight. The cleaning composition for liquid crystal cells of the present invention can take various forms such as liquid and powder, but it is usually diluted with water to form a transparent composition of 5 to 70% by weight. It is prepared and diluted about 10 times with water to make a cleaning solution. At that time, liquid stabilizers such as ethylene glycol, propylene glycol, methanol, ethanol, propanol, toluene sulfonate, xylene sulfonate, etc. can be added as necessary, and rust preventive agents such as benzotriazole, Preservatives such as benzoates and the like may also be added. Effects of the Invention According to the liquid crystal cell cleaning composition of the present invention, by using a specific nonionic surfactant, silicate and chelating agent in combination, liquid crystal cells can be cleaned by an aqueous cleaning solution. Dirt can be effectively cleaned. [Example] In Examples 1 to 43 described later, each cleaning agent was prepared, and its cleaning power was evaluated using the following evaluation method. [Cleaning power evaluation method] Liquid crystal is applied to the gap of a glass substrate liquid crystal cell and left to stand for 5 minutes. Confirm that the void is filled with liquid crystal using a polarizing microscope (20x magnification) and use it as a cleaning sample. Each of the prepared cleaning agents was diluted 10 times using pure water to prepare a cleaning solution. [0024] The cleaning solution was kept at 40°C (±0.5°C) in a constant temperature bath.
Place the cell to be cleaned and soak for 5 minutes. After washing, place in pure water at 25°C, shake and rinse 10 times, and air dry. The gap portion was observed using a polarizing microscope (×20), and the degree of cleaning was evaluated using the following evaluation criteria. Pass with a score of 3 or more. 5: Completely cleaned 4: Very good 3: Fairly good 2: Poor 1: Hardly cleaned Example 1 No. 1 shown in Tables 1 and 2 below. Cleaning compositions Nos. 1 to 15 were prepared, diluted 10 times with water, and their cleaning power was evaluated. Hereinafter, nonionic surfactants are indicated by the skeletal structure (such as phenol) to which alkylene oxide is added and the number of moles of alkylene oxide added. Moreover, EOp indicates the average number of added moles of ethylene oxide. EDTA refers to ethylenediaminetetraacetic acid. [Table 1] Table 1: Common composition Nonionic surfactant (listed in Table 2)
20wt% Sodium orthosilicate

5wt% (2Na2O・SiO2・xH2O,b
/a=0.5) EDTA-2Na
5wt
% water
Remainder [Table 2] Table 2: Types of nonionic surfactants, evaluation result No.
nonionic surfactant
Cleaning power 1 Nonylphenol EOp = 3
32 Nonylphenol
EOp= 5 4 3
Nonylphenol EO
p=10 44 nonylphenol
EOp=15
45 Nonylphenol
EOp=20 36 Nonylphenol EOp=25
37 Octylphenol
EOp= 3 38
Octylphenol EOp=
5 4 9 Octylphenol EOp=10
510 Octylphenol
EOp=15 411 Octylphenol EOp=20
312 Octylphenol
EOp=25 313*
Lauryl alcohol EOp
=10 214* laurylamine
EOp=10
215* Lauryl monoethanolamide E
Op=10 2 * No. Comparative Examples Nos. 13, 14, and 15 are Nos. 1 and 2 shown in Tables 3 and 4 below in Example 2. Cleaning compositions 16 to 26 were prepared, diluted 10 times, and their cleaning power was evaluated. [Table 3] Table 3: Common composition Octylphenol EOp=10
20wt% alkaline agent (Table 4
)
5wt% EDTA-2Na
5wt%
water
remainder
[Table 4] Table 4: Types of alkaline agents, evaluation result No. alkaline agent
Cleaning power 16
Sodium orthosilicate 2Na2O・Si
O2・xH2O 517 Sodium sesquisilicate 3Na2O・2SiO2・xH2O
418 Sodium metasilicate
Na2O・SiO2・xH2O 4
19 No. 1 Sodium Silicate Na2O・
2SiO2・aq*1 320 No. 2 Sodium Silicate 2Na2O・5SiO2・
aq*1 321 No. 3 Sodium Silicate
Na2O・3SiO2・aq*1
322 No. 4 Sodium Silicate N
a2O・4SiO2・aq*1 323*
caustic soda
224* Monoethanolamine
225* Diethanolamine
226* Triethanolamine
1 *) No. 23, 24, 25, 26 are comparative examples *1)
aq indicates an aqueous solution. In addition, the compounding amount in Table 3 is the pure content (
Example 3 No. 3 shown in Tables 5 and 6 below. Cleaning compositions No. 27 to 30 were prepared, diluted 10 times with water, and their cleaning power was evaluated. [Table 5] Table 5: Common composition Octylphenol EOp=10
20wt% Sodium orthosilicate
5wt% chelating agent (listed in Table 6)
5wt
% water
Remainder [Table 6] Table 6: Types of chelating agents, evaluation result No. chelating agent
Cleaning power 2
7 Nitrilotriacetic acid-3Na
528 Diethylenetriamine pentaacetic acid-5Na 5
29 Ethylenediaminetetraacetic acid-4Na
530 Hydroxyethanediphosphonic acid-4Na 5 Example 4 No. 4 shown in Tables 7 and 8 below. Cleaning compositions Nos. 31 to 36 were prepared, diluted 10 times with water, and their cleaning power was evaluated. [Table 7] Table 7: Common composition Octylphenol EOp=10
Listed in Table 8 Sodium orthosilicate

5wt% EDTA-2Na
5w
t% water
Remainder [Table 8] Table 8: Blend amount of octylphenol EOp=10, evaluation results No. Octylphenol EOp=
Blend amount of 10 Cleaning power 31
1wt%
332
5wt%
333
10wt%
434
20wt%
535
50wt%
536
60wt%
Example 5 No. 5 shown in Tables 9 and 10 below. Cleaning compositions Nos. 37 to 41 were prepared, diluted 10 times with water, and their cleaning power was evaluated. [Table 9] Table 9: Common composition Octylphenol EOp=10
20wt% Sodium orthosilicate
Listed in Table 10 EDTA-2Na

5wt% water

Remainder [0040] [Table 10] [0041] Example 6 No. 1 shown in Table 11 and Table 12 below. Cleaning compositions Nos. 42 to 47 were prepared, diluted 10 times with water, and their cleaning power was evaluated. [Table 11] Table 11: Common composition Octylphenol EOp=10
20wt% Sodium orthosilicate
5wt% EDTA-2Na
Table 10
Water listed inside
Balance [Table 12] Example 7 No. 1 shown in Table 13 and Table 14 below. Cleaning compositions No. 48 and 49 were prepared, diluted 10 times, and their cleaning power was evaluated. [Table 13] Table 13: Common composition Nonionic surfactant
(Types and amounts are listed in Table 12) Sodium orthosilicate
5wt% EDT
A-2Na
5wt% water

Remainder [Table 14] Table 14: Types of nonionic surfactants, evaluation result No.
nonionic surfactant
Cleaning power 48 Octylphenol EOp=8 10wt%
+
5
Octylphenol EOp=10 10wt%
49 Octylphenol EOp
=15・POp=3*1 4 *1) Mixed block adduct of 15 moles of ethylene oxide and 3 moles of propylene oxide

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a) 化1で示される非イオン界面活性
剤【化1】 (R1:炭素数6〜12のアルキル基またはアルケニル
基n:2〜4 m:アルキレンオキシドの付加モル数を表わし、3以上
の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加し
ていてもよく、2種以上のアルキレンオキシドが混合し
て付加していてもよい。) (b) ケイ酸塩 (c) キレート剤 を含有することを特徴とする液晶セル用洗浄剤組成物。
Claim 1: (a) A nonionic surfactant represented by formula 1 (R1: alkyl group or alkenyl group having 6 to 12 carbon atoms, n: 2 to 4 m: number of moles of alkylene oxide added) (Represented by a number of 3 or more. However, the same alkylene oxide may be added alone, or two or more types of alkylene oxides may be added as a mixture.) (b) Silicate (c) A cleaning composition for liquid crystal cells, characterized by containing a chelating agent.
【請求項2】  キレート剤が、ニトリロ3酢酸、エチ
レンジアミン4酢酸、ジエチレントリアミン5酢酸、ヒ
ドロキシエタンジホスホン酸、およびそれらの塩の1種
以上である請求項1に記載の液晶セル用洗浄剤組成物。
2. The liquid crystal cell cleaning composition according to claim 1, wherein the chelating agent is one or more of nitrilotriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, hydroxyethane diphosphonic acid, and salts thereof. .
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JP2002069492A (en) * 2000-08-30 2002-03-08 Toho Chem Ind Co Ltd Detergent formation for removing fine-grain
KR100381729B1 (en) * 2001-02-13 2003-04-26 주식회사 아담스테크놀로지 Detergent Composition of Water-Soluble System for Liquid Crystal Display Panel
KR20040012356A (en) * 2002-08-02 2004-02-11 주식회사 엘지생활건강 Alkali detergent composition

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