JPH04234763A - Method of covering laminated type photosensitive body - Google Patents
Method of covering laminated type photosensitive bodyInfo
- Publication number
- JPH04234763A JPH04234763A JP21377191A JP21377191A JPH04234763A JP H04234763 A JPH04234763 A JP H04234763A JP 21377191 A JP21377191 A JP 21377191A JP 21377191 A JP21377191 A JP 21377191A JP H04234763 A JPH04234763 A JP H04234763A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- charge
- vacuum
- conductive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 48
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 37
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 41
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 36
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 238
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 38
- -1 perylene amides Chemical class 0.000 description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 20
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 12
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 12
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 9
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KIIFVSJBFGYDFV-UHFFFAOYSA-N 1h-benzimidazole;perylene Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1.C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 KIIFVSJBFGYDFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 6
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 6
- AHXBXWOHQZBGFT-UHFFFAOYSA-M 19631-19-7 Chemical compound N1=C(C2=CC=CC=C2C2=NC=3C4=CC=CC=C4C(=N4)N=3)N2[In](Cl)N2C4=C(C=CC=C3)C3=C2N=C2C3=CC=CC=C3C1=N2 AHXBXWOHQZBGFT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 2
- KLRHPHDUDFIRKB-UHFFFAOYSA-M indium(i) bromide Chemical compound [Br-].[In+] KLRHPHDUDFIRKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRZZLAGRKZIJJI-UHFFFAOYSA-N oxyvanadium phthalocyanine Chemical compound [V+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 YRZZLAGRKZIJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920006389 polyphenyl polymer Chemical group 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRURZXSWSCYVBN-UHFFFAOYSA-N 1-methylperylene Chemical group C1=CC(C=2C(C)=CC=C3C=2C2=CC=C3)=C3C2=CC=CC3=C1 QRURZXSWSCYVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLLGXSLBOPFWQV-UHFFFAOYSA-N MGK 264 Chemical compound C1=CC2CC1C1C2C(=O)N(CC(CC)CCCC)C1=O WLLGXSLBOPFWQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004425 Makrolon Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- 206010067482 No adverse event Diseases 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000004148 curcumin Substances 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical group C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001017 electron-beam sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M indium(1+);chloride Chemical compound [In]Cl APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- LBAIJNRSTQHDMR-UHFFFAOYSA-N magnesium phthalocyanine Chemical compound [Mg].C12=CC=CC=C2C(N=C2NC(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2N1 LBAIJNRSTQHDMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005226 mechanical processes and functions Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJOLVZJFMDVPGB-UHFFFAOYSA-N perylenediimide Chemical compound C=12C3=CC=C(C(NC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C4=CC=C3C1=C42 KJOLVZJFMDVPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-N sodium;4-[[4-(dimethylamino)phenyl]diazenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006617 triphenylamine group Chemical class 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005287 vanadyl group Chemical group 0.000 description 1
- XMDMAACDNUUUHQ-UHFFFAOYSA-N vat orange 1 Chemical compound C1=CC(C2=O)=C3C4=C1C1=CC=CC=C1C(=O)C4=CC=C3C1=C2C(Br)=CC=C1Br XMDMAACDNUUUHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012905 visible particle Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0525—Coating methods
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
- G03G5/047—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure characterised by the charge-generation layers or charge transport layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/104—Bases for charge-receiving or other layers comprising inorganic material other than metals, e.g. salts, oxides, carbon
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は電子写真、および、特に
電子写真画像形成部材および画像形成部材を形成するた
めの方法に関する。FIELD OF THE INVENTION This invention relates to electrophotography and, more particularly, to electrophotographic imaging members and methods for forming imaging members.
【0002】0002
【従来技術】電子写真では、導電層上に光導電性絶縁層
を含む電子写真版が、まず最初にその表面を均一に帯電
することによって画像形成される。その版はその後、光
のような活性化した電磁的な放射のパターンによって露
光される。その放射は光導電性絶縁層の照射領域の電荷
を選択的に散らし、非照射領域に静電潜像を残す。この
静電潜像がその後、光導電性絶縁層の表面上に微粉砕さ
れた検電顕像性粒子を堆積することによって、現像され
て可視像を形成する。生じた可視像はそれから電子写真
版から紙のような支持体に転写される。この画像形成過
程が再利用可能な光導電性絶縁層で何回も繰り返される
。BACKGROUND OF THE INVENTION In electrophotography, an electrophotographic plate containing a photoconductive insulating layer on a conductive layer is first imaged by uniformly charging its surface. The plate is then exposed to a pattern of activated electromagnetic radiation, such as light. The radiation selectively dissipates the charge in the illuminated areas of the photoconductive insulating layer and leaves an electrostatic latent image in the non-illuminated areas. This electrostatic latent image is then developed to form a visible image by depositing finely divided electroscopically visible particles on the surface of the photoconductive insulating layer. The resulting visible image is then transferred from the electrophotographic plate to a support such as paper. This imaging process is repeated many times with a reusable photoconductive insulating layer.
【0003】電子写真画像形成部材は多くの形態で提供
されうる。例えば、画像形成部材はガラス質のセレンの
ような単一材料の均質な層でもよく、または、それは光
導電体および別の材料を含む複合層でもよい。複合画像
形成部材はの1つの型は、電気的に絶縁性である有機樹
脂結合剤中に分散した光導電性無機化合物の微粉砕され
た粒子の層を含む。米国特許第4,265,990 号
は、分離した光生成層と電荷輸送層を有する積層型感光
体を開示している。その光生成層は正孔を光生成し、そ
の光生成された正孔を電荷輸送層へ注入することが可能
である。薄い電荷発生層および厚い電荷輸送層からなる
積層型感光体は、単層構造よりも多くの有利性を有する
。Electrophotographic imaging members can come in many forms. For example, the imaging member may be a homogeneous layer of a single material such as vitreous selenium, or it may be a composite layer including a photoconductor and another material. One type of composite imaging member includes a layer of finely divided particles of a photoconductive inorganic compound dispersed in an electrically insulating organic resin binder. U.S. Pat. No. 4,265,990 discloses a stacked photoreceptor having separate photogenerating and charge transport layers. The photogenerating layer is capable of photogenerating holes and injecting the photogenerated holes into the charge transport layer. Laminated photoreceptors consisting of a thin charge generating layer and a thick charge transport layer have many advantages over single layer structures.
【0004】積層型感光体の機能の鍵は、光生成された
電荷が移動しなけばならない距離を減少させ、かつ電荷
発生層で捕獲されうる光生成された電荷の量を減少させ
る非常に薄い電荷発生層にある。しかしながら、良好な
発生層として機能するために、電荷発生層はまた、画像
方式の露光中のほとんどの光を吸収するのに光学的に厚
くなければならない。これらの2つのパラメーターは、
高度に吸光性であり、結晶型の顔料を好む電荷発生層の
材料を要求する。The key to the function of layered photoreceptors is that they are very thin, reducing the distance that photogenerated charge must travel, and reducing the amount of photogenerated charge that can be captured in the charge generation layer. Located in the charge generation layer. However, to function as a good generating layer, the charge generating layer must also be optically thick to absorb most of the light during imagewise exposure. These two parameters are
Requires charge generating layer materials that are highly light absorbing and favor pigments in crystalline form.
【0005】電子写真画像形成システムにおいてベルト
として使用される多層感光体の1つのタイプは、基体、
導電層、ブロッキング層、接着剤層、電荷発生層、電荷
輸送層および画像形成層の一方の端に隣接した導電性下
引層(ground strip layer) を含
む。この感光体はまた、アンチカール層および任意の保
護皮膜層のような付加的な層を含んでもよい。このよう
な多層感光体を組み立てるためには、多様な層を互いに
その上に形成する必要がある。その材料を多様な層に堆
積することは、層を形成するために多様な方法を要する
。One type of multilayer photoreceptor used as a belt in electrophotographic imaging systems consists of a substrate,
It includes a conductive layer, a blocking layer, an adhesive layer, a charge generating layer, a charge transport layer, and a conductive ground strip layer adjacent one end of the imaging layer. The photoreceptor may also include additional layers such as an anti-curl layer and an optional protective coating layer. Assembling such multilayer photoreceptors requires forming various layers on top of each other. Depositing the material in various layers requires various methods to form the layers.
【0006】例えば、有機材料から電荷発生層を形成す
る1つの方法は溶液流延である。しかしながら、光生成
顔料、例えば、フタロシアニンおよびペリレンアミドは
、主として不溶性であり溶剤溶性の結合剤中の分散を必
要とする。ホール(Hor)等の米国特許第4,587
,189 号は導電性支持基体、高分子材料の接着剤層
、ペリレンジイミド顔料を含む真空蒸発された光生成層
、およびアリールアミンの正孔輸送層を含む積層型光感
応性画像形成部材を開示している。光導電性層は、ペリ
レン顔料の真空蒸着によって形成され、および樹脂結合
剤中のポリアリールジイミド材料の溶剤被覆層が続く。For example, one method for forming charge generating layers from organic materials is solution casting. However, photogenerated pigments such as phthalocyanines and perylene amides are primarily insoluble and require dispersion in solvent-soluble binders. U.S. Pat. No. 4,587 to Hor et al.
, 189 discloses a layered photosensitive imaging member comprising an electrically conductive support substrate, an adhesive layer of a polymeric material, a vacuum evaporated photogenerating layer comprising a perylene diimide pigment, and a hole transport layer of an arylamine. are doing. The photoconductive layer is formed by vacuum deposition of perylene pigment, followed by a solvent coated layer of polyaryldiimide material in a resin binder.
【0007】ボーセンベンジャー(Borsenben
ger)等の米国特許第4,578,334 号および
第4,618,560 号は、非常に高い電子写真スピ
ードを示す多層光導電性要素およびその製造方法を開示
している。N,N’− ビス(2− フェネチル) ペ
リレン−3,4:9,10 ビス( ジカルボキシイミ
ド) の電荷発生層および高分子結合剤中のアリールア
ミン物質からなる電荷輸送層が積層構造の中に設けられ
る。ペリレン顔料の層は該顔料の真空蒸着およびそれを
有機溶媒、高分子結合剤およびアリールアミンの溶液で
保護被覆すること、およびその層を硬化して溶媒を除去
することによって得られてもよい。スタウデンマイアー
(Staudenmaier)等の米国特許第4,57
8,333 号はさらに、導電性支持体と電荷発生層の
間にアクリロニトリル共重合体の接着剤中間層を有する
上記の多層感光体を開示している。[0007] Borsenben
U.S. Pat. No. 4,578,334 and U.S. Pat. No. 4,618,560 to Ger) et al. disclose multilayer photoconductive elements and methods of making the same that exhibit very high electrophotographic speeds. A charge generation layer of N,N'-bis(2-phenethyl) perylene-3,4:9,10 bis(dicarboximide) and a charge transport layer consisting of an arylamine substance in a polymeric binder are in a laminated structure. established in A layer of perylene pigment may be obtained by vacuum deposition of the pigment and protective coating it with a solution of an organic solvent, a polymeric binder and an arylamine, and curing the layer to remove the solvent. U.S. Pat. No. 4,57 to Staudenmaier et al.
No. 8,333 further discloses the above multilayer photoreceptor having an adhesive interlayer of acrylonitrile copolymer between the conductive support and the charge generating layer.
【0008】ホルドン(Hordon)等の米国特許第
4,780,386 号は、電荷発生層を真空蒸着すと
きにテルル分別を調節するセレン合金処理を開示してい
る。その処理は真空蒸着の前に合金の表面を研磨するこ
とを含む。セレンまたはセレン合金を含む電荷輸送層は
、セレン−テルル−ヒ素を含む電荷発生層と基体の間に
位置するように設けられてもよい。電荷発生層および電
荷輸送層は真空蒸着されてもよい。US Pat. No. 4,780,386 to Hordon et al. discloses a selenium alloy process to control tellurium fractionation during vacuum deposition of a charge generating layer. The process involves polishing the surface of the alloy prior to vacuum deposition. A charge transport layer containing selenium or a selenium alloy may be provided between the charge generation layer containing selenium-tellurium-arsenic and the substrate. The charge generation layer and charge transport layer may be vacuum deposited.
【0009】フェンダー(Fender) 等の米国特
許第4,770,965 号は、セレン合金が基体上に
真空蒸着されてガラス質の光導電性絶縁層を形成する方
法を開示している。
この絶縁層はその後、基体に隣接する層中のセレンが結
晶化するまで加熱される。酸化アルミニウム層が、真空
コーター中の基体のグロー放電処理によって基体上に形
成されてもよい。US Pat. No. 4,770,965 to Fender et al. discloses a method in which a selenium alloy is vacuum deposited onto a substrate to form a glassy photoconductive insulating layer. This insulating layer is then heated until the selenium in the layer adjacent to the substrate crystallizes. An aluminum oxide layer may be formed on the substrate by glow discharge treatment of the substrate in a vacuum coater.
【0010】バデシャ(Badesha)等の米国特許
第4,842,973 号は、真空容器中にセレンまた
はセレン合金の粒子を含む少なくとも1つの第1層のる
つぼ、および、セレンおよび別の合金成分を含有する合
金を含む少なくとも1つの第2層のるつぼを設けること
によって、複数のセレン合金層を真空蒸着する方法を開
示している。第1層のるつぼ中の粒子は、加熱されて基
体上の第1層に蒸着し、一方、第2層のるつぼ中の粒子
を蒸着温度以下に維持する。第2層のるつぼの粒子はそ
の後、急速に加熱され、基体上の第2層に蒸着する。US Pat. No. 4,842,973 to Badesha et al. discloses at least one first layer crucible containing particles of selenium or a selenium alloy in a vacuum vessel; A method of vacuum depositing a plurality of selenium alloy layers by providing a crucible with at least one second layer containing the alloy is disclosed. The particles in the crucible of the first layer are heated to deposit the first layer on the substrate while the particles in the crucible of the second layer are maintained below the deposition temperature. The particles in the second layer crucible are then rapidly heated and deposited into a second layer on the substrate.
【0011】多層感光体の他の例は、溶剤被覆された電
荷輸送層を有する電荷発生層として真空蒸着されるフタ
ロシアニンを含む。ボーセンベンジャー(Borsen
benger)等の米国特許第4,471,039 号
、ロウトフィー(Loutfy)等の米国特許第4,5
55,463 号およびカトー(Kato)等の米国特
許第4,731,312 号は、多くの真空蒸着される
フタロシアニンを開示している。特に、これらの特許は
基体上に真空蒸着されるインジウムフタロシアニンの光
導電体を開示している。Another example of a multilayer photoreceptor includes a vacuum deposited phthalocyanine as a charge generation layer with a solvent coated charge transport layer. Borsenbenger
U.S. Pat. No. 4,471,039 to Benger et al., U.S. Pat.
No. 55,463 and Kato et al., US Pat. No. 4,731,312, disclose a number of vacuum deposited phthalocyanines. In particular, these patents disclose indium phthalocyanine photoconductors that are vacuum deposited onto a substrate.
【0012】上述の製造方法は多くの不都合な点を有す
る画像形成部材を提供する。特に、上記の方法では、他
の被覆技術、例えば溶剤被覆が利用されて、感光体の接
着およびブロッキング層を被覆する。重合体基体上の導
電性金属層は真空蒸着されるので、このような付加的な
被覆技術は、形成された1または複数の層の真空蒸着容
器から別の被覆設備への移動、および真空蒸着容器へも
どすことを必要とする。これらの移動は製造時間を増加
させるだけでなく、増加した取扱による感光体の損傷ま
たは欠陥の確度をも増加させる。従って、電子写真画像
形成部材を製造するために要する時間を減少させ、同時
に、より少ない欠陥を有する画像形成部材を製造するこ
とが望ましい。The manufacturing methods described above provide imaging members with a number of disadvantages. In particular, the methods described above utilize other coating techniques, such as solvent coating, to coat the adhesion and blocking layers of the photoreceptor. Since the conductive metal layer on the polymeric substrate is vacuum deposited, such additive coating techniques involve the transfer of the formed layer or layers from the vacuum deposition vessel to another coating facility, and the vacuum deposition. Requires return to container. These movements not only increase manufacturing time, but also increase the likelihood of photoreceptor damage or defects due to increased handling. Accordingly, it is desirable to reduce the time required to manufacture electrophotographic imaging members while simultaneously manufacturing imaging members that have fewer defects.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、積層
型感光体の製造方法を提供することによって先行技術の
欠点を克服することである。本発明の目的は、より少な
いプリントアウトの欠点を作りだす感光体を組み立てる
ための被覆方法を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to overcome the drawbacks of the prior art by providing a method of manufacturing a laminated photoreceptor. It is an object of the present invention to provide a coating method for assembling photoreceptors that produces fewer printout defects.
【0014】本発明のさらに別の目的は、より少ない欠
点を有する多層感光体を提供することである。本発明の
別の目的は、電子写真画像形成部材を組み立てるための
効率のよい被覆方法を提供することである。本発明の目
的はまた、電子写真画像形成部材の表面に導電金属層、
酸化物層および光生成層を被覆する方法を提供すること
である。Yet another object of the present invention is to provide a multilayer photoreceptor with fewer drawbacks. Another object of the invention is to provide an efficient coating method for assembling electrophotographic imaging members. It is also an object of the present invention to provide a conductive metal layer on the surface of the electrophotographic imaging member.
It is an object of the present invention to provide a method of coating an oxide layer and a photogenerating layer.
【0015】本発明の目的はまた、多層電子写真画像形
成部材において層の接着性を改善することである。It is also an object of the present invention to improve layer adhesion in multilayer electrophotographic imaging members.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明は、基体を減圧環
境に置き、該基体上に導電層を形成し、該導電層上にブ
ロッキング層を形成し、および該ブロッキング層上に電
荷発生層を形成する工程、および、被覆過程中は減圧環
境を連続的に維持することを含む被覆方法を提供するこ
とによって先行技術の欠点を克服する。減圧環境におい
て蒸着される層は単回パスで形成されることができ、多
くの欠点を解消することができる。さらに、溶剤溶液を
介しては形成されない材料、例えば光生成材料は、本発
明によれば使用することができる。Means for Solving the Problems The present invention includes placing a substrate in a reduced pressure environment, forming a conductive layer on the substrate, forming a blocking layer on the conductive layer, and forming a charge generation layer on the blocking layer. The shortcomings of the prior art are overcome by providing a coating method that includes forming a coating and continuously maintaining a reduced pressure environment during the coating process. Layers deposited in a reduced pressure environment can be formed in a single pass, eliminating many drawbacks. Additionally, materials that are not formed via solvent solutions, such as photogenerating materials, can be used according to the invention.
【0017】本発明のより完全な理解は、本発明の多層
感光体の断面図である添付した図1を参照することで得
られる。本発明の電子写真画像形成部材は少なくとも導
電層、ブロッキング層および電荷発生層を含み、これら
はすべて連続的に保持される減圧環境内で形成される。
これらの層は、基体を減圧環境に置き、その後、続いて
それぞれの層を真空蒸着することによって形成される。A more complete understanding of the present invention may be obtained by reference to the accompanying FIG. 1, which is a cross-sectional view of a multilayer photoreceptor of the present invention. The electrophotographic imaging members of the present invention include at least a conductive layer, a blocking layer, and a charge generating layer, all of which are formed in a continuously maintained vacuum environment. These layers are formed by placing the substrate in a reduced pressure environment and then subsequently vacuum depositing the respective layer.
【0018】減圧環境で基体上に被覆される第1層は、
導電層である。蒸着が実施されて、適当な導電層厚さを
有する基体/導電層ウェブまたはドラムを提供する。こ
の導電層は例えば、基体上に真空蒸着される金属から形
成されてもよい。該導電層の蒸着後、基体/導電層ウェ
ブまたはドラムが減圧環境に残存している間に、ブロッ
キング層が該導電層上に形成される。該ブロッキング層
は直接、蒸発によって蒸着されるか、酸素分圧中で反応
的に金属を蒸発することによって蒸着されるか、または
先に適用された導電層の酸化によって蒸着される金属酸
化物層であってもよい。基体/導電層/ブロッキング層
ウェブが得られる。[0018] The first layer coated onto the substrate in a reduced pressure environment comprises:
It is a conductive layer. Vapor deposition is performed to provide a substrate/conductive layer web or drum with a suitable conductive layer thickness. This conductive layer may, for example, be formed from a metal that is vacuum deposited onto the substrate. After deposition of the conductive layer, a blocking layer is formed on the conductive layer while the substrate/conductive layer web or drum remains in a reduced pressure environment. The blocking layer may be a metal oxide layer deposited directly by evaporation, by reactive evaporation of the metal in a partial pressure of oxygen, or by oxidation of a previously applied conductive layer. It may be. A substrate/conductive layer/blocking layer web is obtained.
【0019】電荷発生層はそれから基体/導電層/ブロ
ッキング層ウェブに今までどおり減圧環境で適用される
。該電荷発生層はブロッキング層上に真空蒸着されて基
体/導電層/ブロッキング層/電荷発生層ウェブを得る
。蒸着は所望の厚さが得られるまで実施される。続いて
、もし望めば、減圧環境内でまたは他の被覆設備で、他
の層を基体/導電層/ブロッキング層/電荷発生層に適
用してもよい。例えば、電荷輸送層が適用されてもよく
、例えばそれは減圧環境での溶融押出によって適用され
、または他の被覆方法によってそのほかの場所で適用さ
れてもよい。The charge generating layer is then applied to the substrate/conductive layer/blocking layer web, still in a vacuum environment. The charge generating layer is vacuum deposited onto the blocking layer to obtain a substrate/conductive layer/blocking layer/charge generating layer web. Vapor deposition is carried out until the desired thickness is obtained. Subsequently, if desired, other layers may be applied to the substrate/conductive layer/blocking layer/charge generating layer in a vacuum environment or other coating equipment. For example, a charge transport layer may be applied, for example it may be applied by melt extrusion in a vacuum environment, or elsewhere by other coating methods.
【0020】本発明の電子写真画像形成部材の層を形成
するための適当な材料の記載は、図1に示される本発明
の電子写真画像形成部材の代表的な構造を参照して、後
述になされる。この画像形成部材は、アンチカール層1
、支持基体2、電気的な導電層3、ブロッキング層4、
任意な接着剤層5、電荷発生層6、電荷輸送層7および
保護皮膜層8とともに提供される。A description of suitable materials for forming the layers of the electrophotographic imaging members of the invention is provided below with reference to the representative structure of the electrophotographic imaging members of the invention shown in FIG. It will be done. This image forming member has an anti-curl layer 1
, a supporting substrate 2, an electrically conductive layer 3, a blocking layer 4,
Optional adhesive layer 5, charge generating layer 6, charge transport layer 7 and protective coating layer 8 are provided.
【0021】支持基体2は不透明でも実質的に透明でも
よく、充分な機械的特性を有する多数のいかなる材料を
含んでもよい。従って、基体は、例えば無機または有機
組成物のような電気的に不導性または導電性である材料
の層を含んでもよい。電気的に不導性の材料として、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレ
タン等を含む多様な樹脂のどれかを使用してもよい。電
気的に絶縁性または導電性基体は柔軟であり、例えばシ
ート、スクロール、柔軟なエンドレスベルト、およびシ
リンダー等のような多数の異なる形状のいずれでもよい
。好ましくは、基体は柔軟なエンドレスベルトの形状で
、E.I. du Pont de Nemours
& Co. から入手できるマイラー(Mylar)
、またはICI Americas Inc. から入
手できるメリネックス(Melinex)として知られ
ている市場で入手できる二軸延伸ポリエステルを含む。
代わりに、好ましい基体は、型または押出によって形成
される硬質シリンダーの形状であってもよい。Support substrate 2 may be opaque or substantially transparent and may include any number of materials with sufficient mechanical properties. Thus, the substrate may include a layer of electrically non-conducting or electrically conductive material, such as an inorganic or organic composition. Any of a variety of resins may be used as electrically non-conductive materials, including polyesters, polycarbonates, polyamides, polyurethanes, and the like. The electrically insulating or conductive substrate is flexible and may be in any of a number of different shapes, such as sheets, scrolls, flexible endless belts, cylinders, and the like. Preferably, the substrate is in the form of a flexible endless belt and is E. I. du Pont de Nemours
& Co. Mylar available from
, or ICI Americas Inc. including a commercially available biaxially oriented polyester known as Melinex available from Amazon. Alternatively, the preferred substrate may be in the form of a rigid cylinder formed by molding or extrusion.
【0022】基体の厚さの選択は、機械的機能および経
済的考慮および最終の形状が柔軟なベルトかまたは硬質
ドラムであるかを含む非常に多くの要因による。柔軟な
層の厚さは、好ましくは約25μm から約150μm
の範囲内であり、良好な柔軟性と小さな直径のローラ
ー、例えば19mmの直径のローラーの回りを循環する
ときに最小に減ざられる表面曲げ応力のために、好まし
くは約75μm から約125μm である。柔軟なベ
ルトの基体は、光導電性デバイスに対して悪い影響がな
い限り、例えば200μm を越える相当な厚さ、また
は例えば50μm より小さい最小の厚さを有してもよ
い。硬質ドラム基体の厚さは、ドラムの直径およびその
組成によって、約1mmから約数cmの範囲でよい。基
体層の表面は、蒸着される皮膜のより良い粘着を促進す
るために、好ましくは被覆の前に洗浄される。洗浄は基
体の表面をプラズマ放電、またはイオン衝撃等にさらす
ことによって実施される。The selection of substrate thickness depends on a large number of factors, including mechanical function and economic considerations and whether the final configuration is a flexible belt or a rigid drum. The thickness of the flexible layer is preferably from about 25 μm to about 150 μm
and preferably from about 75 μm to about 125 μm for good flexibility and minimally reduced surface bending stress when circulating around small diameter rollers, e.g. 19 mm diameter rollers. . The substrate of the flexible belt may have a substantial thickness, such as greater than 200 μm, or a minimum thickness, such as less than 50 μm, as long as there are no adverse effects on the photoconductive device. The thickness of the rigid drum substrate may range from about 1 mm to about several centimeters, depending on the diameter of the drum and its composition. The surface of the substrate layer is preferably cleaned before coating to promote better adhesion of the deposited coating. Cleaning is performed by exposing the surface of the substrate to plasma discharge, ion bombardment, or the like.
【0023】電気的な導電層3は基体2に隣接して設け
られる。電気的な導電層3は好ましくは、減圧環境で基
体2の上に形成される電気的に導電性である金属層を含
む。導電層は真空蒸着技術のどれかによって適用されう
る。真空蒸着技術は熱的蒸発、電子−ビーム衝撃、およ
びRFおよびDCスパッタリングを含む。真空蒸着され
てもよい代表的な金属はアルミニウム、ジルコニウム、
ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チタン、
ニッケル、ステンレス鋼、クロム、タングステン、モリ
ブデン、真鍮および金等、およびその混合物を含む。半
導体、例えば珪素、またはある種の金属酸化物、例えば
アンチモン−スズ−酸化物は導電性であり、これらもま
た真空蒸着されてもよい。An electrically conductive layer 3 is provided adjacent to the substrate 2 . The electrically conductive layer 3 preferably comprises an electrically conductive metal layer formed on the substrate 2 in a reduced pressure environment. The conductive layer can be applied by any vacuum deposition technique. Vacuum deposition techniques include thermal evaporation, electron-beam bombardment, and RF and DC sputtering. Typical metals that may be vacuum deposited are aluminum, zirconium,
Niobium, tantalum, vanadium, hafnium, titanium,
Including nickel, stainless steel, chromium, tungsten, molybdenum, brass and gold, etc., and mixtures thereof. Semiconductors, such as silicon, or certain metal oxides, such as antimony-tin-oxide, are conductive and may also be vacuum deposited.
【0024】導電層は好ましくは、広い範囲内の厚さを
有し、それらは電子写真画像形成部材に望ましい光学的
透明性と柔軟性による。従って、柔軟な感光体画像形成
デバイスのための導電層の厚さは、約2nmと約100
nm の間でもよく、電気導電性、柔軟性および光透過
性を最適にするために、さらに好ましくは約5nm か
ら約30nmである。The conductive layer preferably has a thickness within a wide range depending on the optical clarity and flexibility desired in the electrophotographic imaging member. Therefore, the conductive layer thickness for flexible photoreceptor imaging devices is about 2 nm and about 100 nm.
nm, more preferably from about 5 nm to about 30 nm for optimum electrical conductivity, flexibility and optical transparency.
【0025】電気的導電層3 の蒸着後、そこへブロッ
キング層4が適用される。正帯電した感光体のための電
子ブロッキング層は、感光体の画像形成表面からの正孔
が導電層に向けて移動するのを可能にする。負帯電した
感光体にとって、導電層から反対の光導電層への正孔注
入を防ぐ障壁を形成することのできる適当な正孔ブロッ
キング層のどれかが利用されてもよい。正孔ブロッキン
グ層は真空蒸着されうるいかなる材料を含んでもよい。
例えば、ブロッキング層は好ましくは、金属酸化物また
は窒化物である。酸化アルミニウムは良好はブロッキン
グ層を作り、および他の酸化物は適当であり、かつ電荷
発生層の接着のためによりよい表面を提供する。ブロッ
キング層4を形成するために使用されうる他の酸化物は
、例えば、珪素の酸化物、化学量論的なSiO2および
非化学量論的な SiOx の両者、化学量論的および
非化学量論的なチタンおよびジルコニウムの酸化物等を
含む。[0025] After the deposition of the electrically conductive layer 3, a blocking layer 4 is applied thereto. Electron blocking layers for positively charged photoreceptors allow holes from the imaging surface of the photoreceptor to migrate toward the conductive layer. For negatively charged photoreceptors, any suitable hole blocking layer capable of forming a barrier to prevent hole injection from the conductive layer to the opposite photoconductive layer may be utilized. The hole blocking layer may include any material that can be vacuum deposited. For example, the blocking layer is preferably a metal oxide or nitride. Aluminum oxide makes a good blocking layer, and other oxides are suitable and provide a better surface for adhesion of the charge generating layer. Other oxides that can be used to form the blocking layer 4 are, for example, oxides of silicon, both stoichiometric and non-stoichiometric SiOx, stoichiometric and non-stoichiometric SiOx. oxides of titanium and zirconium.
【0026】本発明のブロッキング層は、基体/導電層
ウェブまたはドラムが減圧環境に残存したままで、多く
の方法のどれでも形成される。1つの方法によれば、金
属の導電層が前述の工程で蒸着された後、金属酸化物層
が先に蒸着された金属層を酸素にさらすことによって形
成され、このように金属酸化物の薄層が酸素への暴露に
よってその金属層の外表面に形成する。酸素への暴露は
酸素分圧を減圧環境に導入することによって実施される
。The blocking layer of the present invention can be formed in any of a number of ways while the substrate/conductive layer web or drum remains in a vacuum environment. According to one method, after a conductive layer of metal has been deposited in the aforementioned process, a metal oxide layer is formed by exposing the previously deposited metal layer to oxygen, thus forming a thin layer of metal oxide. A layer forms on the outer surface of the metal layer upon exposure to oxygen. Exposure to oxygen is carried out by introducing a partial pressure of oxygen into the reduced pressure environment.
【0027】代わりに、本発明のブロッキング層は、例
えば金属酸化物から導電層上へ、電子ビーム蒸発または
スパッタリングによって直接に蒸発されてもよい。スパ
ッタリングは、好ましい酸化物または窒化物の直接スパ
ッタリング、または酸素または窒素分圧中の金属の反応
性スパッタリングを含んでもよく、これらは該化合物の
蒸着を生ずる。あるいは、反応性スパッタリングは金属
の直接スパッタリングと組合されてもよく、まずはじめ
に金属導電層が蒸着され、次に金属の酸化物または窒化
物が蒸着される。Alternatively, the blocking layer of the invention may be evaporated directly onto the conductive layer, for example from a metal oxide, by electron beam evaporation or sputtering. Sputtering may include direct sputtering of preferred oxides or nitrides, or reactive sputtering of metals in partial pressures of oxygen or nitrogen, which result in deposition of the compound. Alternatively, reactive sputtering may be combined with direct sputtering of the metal, first depositing a metal conductive layer and then the metal oxide or nitride.
【0028】ブロッキング層は好ましくは連続していて
、約0.5μm よりも小さい厚さを有する。より大き
い厚さは望ましくない高い残存電位を招く。約0.00
5 μm と約0.3 μm の間の厚さの正孔ブロッ
キング層は最適な電気的機能を達成するのに好ましい。
約0.03μm と約0.06μm の間の厚さが、最
適な電気的性質のためには最も好ましい。ブロッキング
層の材料、蒸着技術および厚さの選択はまた、導電層、
ブロッキング層および光生成層の間の良好な接着を有す
るという要求によって影響される。The blocking layer is preferably continuous and has a thickness of less than about 0.5 μm. Larger thicknesses lead to undesirably high residual potentials. Approximately 0.00
A hole blocking layer thickness between 5 μm and about 0.3 μm is preferred to achieve optimal electrical function. A thickness between about 0.03 μm and about 0.06 μm is most preferred for optimal electrical properties. The choice of material, deposition technique and thickness of the blocking layer also affects the conductive layer,
Influenced by the requirement to have good adhesion between the blocking layer and the photogenerating layer.
【0029】幾つかの場合、例えば、ブロッキング層4
と電荷発生層6の間の接着剤層5のような中間層は、よ
り強力な接着性のために望ましい。任意の接着剤層は、
ブロッキング層と電荷発生層の材料に適当な選択がなさ
れる限りは、任意の粘着層は必要でない。真空蒸着方法
は、例えば層が溶剤塗装された時に提供される接着性よ
りも、より強力な接着性を隣接した層の間に提供すると
思われている。接着剤層が利用される場合、それは好ま
しくは、約0.001 μmと約0.2 μm の間の
厚さを有し、かつ好ましくは減圧環境で、すなわち、導
電層の被覆から電荷発生層の被覆の間に真空を破ること
なく適用される。このような層を適用するために、真空
蒸着されうる接着材料が使用されなければならない。あ
るいは、接着剤層は溶剤塗装されてもよい。このような
場合、基体、導電層およびブロッキング層を含有するウ
ェブ材料は、溶剤の蒸発を該ウェブとの相互作用から防
ぐために隔離される。接着剤は、例えばポリエステル(
例えば、E.I. du Pont de Nemo
urs & Co. から入手可能なdu Pont
49,000樹脂; Goodyear Rubber
& Tire Co.から入手可能なVitel P
E−100およびVitel PE−200) 、ポリ
ビニルブチラル、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン
、ポリメチルメタクリレート、2−ビニルピリデン、4
−ビニルピリデン、ポリビニルアルコールおよびポリビ
ニルクロライド等の皮膜形成ポリマーを含む。In some cases, for example, the blocking layer 4
An intermediate layer such as adhesive layer 5 between charge generating layer 6 and charge generating layer 6 is desirable for stronger adhesion. Optional adhesive layer
An optional adhesive layer is not necessary as long as appropriate choices are made in the materials of the blocking layer and charge generating layer. Vacuum deposition methods are believed to provide stronger adhesion between adjacent layers than is provided, for example, when the layers are solvent coated. If an adhesive layer is utilized, it preferably has a thickness of between about 0.001 μm and about 0.2 μm and is preferably removed in a vacuum environment, i.e. from coating the conductive layer to the charge generating layer. applied without breaking the vacuum during coating. To apply such a layer, an adhesive material must be used that can be vacuum deposited. Alternatively, the adhesive layer may be solvent coated. In such cases, the web material containing the substrate, conductive layer and blocking layer is isolated to prevent solvent evaporation from interacting with the web. The adhesive is, for example, polyester (
For example, E. I. du Pont de Nemo
urs&co. du Pont available from
49,000 resin; Goodyear Rubber
& Tire Co. Vitel P available from
E-100 and Vitel PE-200), polyvinyl butyral, polyvinylpyrrolidone, polyurethane, polymethyl methacrylate, 2-vinylpylidene, 4
- Contains film-forming polymers such as vinylpylidene, polyvinyl alcohol and polyvinyl chloride.
【0030】ウェブ被覆にとって、電気的な導電層3お
よびブロッキング層4は一般的に、単回の蒸発反応で容
易に被覆される。発生層5が同じ蒸発反応で蒸着される
ことが可能だが、必要ではない。電荷発生層6は基体/
導電層/ブロッキング層上に、減圧環境が維持されなが
ら蒸着される。真空蒸着によって適用される電荷発生(
光生成)層のどれかが本発明によって利用されうる。
光生成層の材料の例は、真空蒸着に要求される温度にお
いて安定な無機および有機の光導電性顔料材料および色
素を含み、それらは無機および有機顔料、例えば、カル
コゲニド、II−VI およびIII−V 化合物、フ
タロシアニン、ペリレンおよびペリノン無水物のジアミ
ンおよび他の多環式顔料分子を含む。このように、光生
成層は米国特許第3,357,989 号および第3,
816,118 号に記載されている無金属フタロシア
ニンのようなフタロシアニン顔料; マグネシウム、亜
鉛および銅フタロシアニンのような金属フタロシアニン
;バナジル、チタニル、ジルコニルフタロシアニンのよ
うな酸化金属フタロシアニン;クロロ−インジウムおよ
びブロモ−インジウムフタロシアニンのような金属ハロ
ゲン化物フタロシアニン;および例えば米国特許第3,
816,118 号に記載されているフタロシアニンの
他の変形物および代用の変形物を含んでもよい。”Ph
thalocyanine Compounds”(F
.H. Moser and A.L.Thomas著
、Reinhold Co.(1963)出版) は、
フタロシアニンおよびそれらの合成の詳細な記載を含ん
でいる。他の材料は、ジブロモアンタンスロンのような
多環式分子、 du Pont社からMonastra
l Red 、Monastral Violetおよ
び Monastral Red Yの商品名で入手可
能なキナクリドン、Vat orange 1およびV
at orange 3の商品名で入手可能なジブロモ
アンタンスロン顔料、ベンズイミダゾール ペリレン
、Allied Chemical Corporat
ion からIndofast Double Sca
rlet 、Indofast Violet Lak
e B、Indofast Brilliant Sc
arletおよびIndofast Orange の
商品名で入手可能な多核芳香族キノン、およびアモルフ
ァスセレン、三晶方系セレン、および例えばセレン−テ
ルル、セレン−テルル−砒素および砒化セレン等のよう
なセレン合金を含む。多光生成層組成物は、光導電性層
が光生成層の特性を促進または減少するところに利用さ
れてもよい。この形状の型の例は、米国特許第4,41
5,639 号に記載されている。もし望めば、この分
野で公知の他の適当な光生成材料がまた、利用されても
よい。バナジルフタロシアニン、クロロ−インジウムフ
タロシアニン、チタニルフタロシアニン、無金属フタロ
シアニン、ベンズイミダゾール ペリレン、フェネチ
ルジイミドペリレン、N−ブチルおよびN−プロピルジ
イミドペリレン、三晶方系セレン、例えばセレン−テル
ル、セレン−テルル−砒素および砒化セレン等のような
セレン合金、およびその混合物のような光導電性材料を
含む電荷発生層は、それらの白光に対する感度のために
、特に好ましい。バナジルフタロシアニン、クロロ−イ
ンジウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ブ
ロモ−インジウムフタロシアニン、ジルコニウムフタロ
シアニン、マグネシウムフタロシアニン、無金属フタロ
シアニンおよびテルル合金はまた、これらの材料が赤外
線光に対して感度があるという付加的な利点を提供する
ので好ましい。For web coating, the electrically conductive layer 3 and the blocking layer 4 are generally easily coated in a single evaporation reaction. It is possible, but not necessary, that the generator layer 5 is deposited in the same evaporation reaction. The charge generation layer 6 is a substrate/
The conductive layer/blocking layer is deposited while maintaining a reduced pressure environment. Charge generation applied by vacuum evaporation (
(photogenerating) layer may be utilized according to the present invention. Examples of materials for the photogenerating layer include inorganic and organic photoconductive pigment materials and dyes that are stable at the temperatures required for vacuum deposition, including inorganic and organic pigments such as chalcogenides, II-VI and III- V compounds, including diamines and other polycyclic pigment molecules of phthalocyanine, perylene and perinone anhydrides. Thus, the photogenerating layer is described in U.S. Pat.
816,118; metal phthalocyanines such as magnesium, zinc and copper phthalocyanines; oxidized metal phthalocyanines such as vanadyl, titanyl, zirconyl phthalocyanines; chloro-indium and bromo-indium. metal halide phthalocyanines such as phthalocyanines; and e.g.
Other and substitute variations of the phthalocyanines described in US Pat. No. 816,118 may also be included. ”Ph
thalocyanine compounds” (F
.. H. Moser and A. L. Written by Thomas, Reinhold Co. (1963) publication) is
Contains a detailed description of phthalocyanines and their synthesis. Other materials include polycyclic molecules such as dibromoanthanthrone, Monastra from du Pont.
Quinacridone, Vat orange 1 and V, available under the trade names Monastral Red, Monastral Violet and Monastral Red Y
Dibromoanthanthrone pigment available under the trade name at orange 3, benzimidazole perylene, Allied Chemical Corporation
ion to Indofast Double Sca
rlet, Indofast Violet Lak
e B, Indofast Brilliant Sc
These include polynuclear aromatic quinones available under the tradenames arlet and Indofast Orange, and amorphous selenium, tricrystalline selenium, and selenium alloys such as selenium-tellurium, selenium-tellurium-arsenic, selenium arsenide, and the like. Multiple photogenerating layer compositions may be utilized where the photoconductive layer enhances or diminishes the properties of the photogenerating layer. An example of a mold of this shape is U.S. Pat.
No. 5,639. Other suitable light-generating materials known in the art may also be utilized, if desired. Vanadyl phthalocyanine, chloro-indium phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, metal-free phthalocyanine, benzimidazole perylene, phenethyldiimide perylene, N-butyl and N-propyldiimide perylene, tricrystalline selenium, such as selenium-tellurium, selenium-tellurium-arsenic and Charge generating layers comprising photoconductive materials such as selenium alloys, such as selenium arsenide, and mixtures thereof, are particularly preferred because of their sensitivity to white light. Vanadyl phthalocyanine, chloro-indium phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, bromo-indium phthalocyanine, zirconium phthalocyanine, magnesium phthalocyanine, metal-free phthalocyanine and tellurium alloys also offer the added advantage that these materials are sensitive to infrared light. Therefore, it is preferable.
【0031】本発明の光生成層は一般的に約0.1から
約2μm の範囲の厚さ、好ましくは約0.2から約0
.7μm の厚さを有する。本発明の目的が達成できる
限り、この範囲外の厚さも選ばれることができる。維持
された減圧環境の中での導電層、ブロッキング層、任意
な接着剤層、および光生成層の被覆の完了後、電荷輸送
層が適用される。電荷輸送層は比較的厚く、この層の形
成は真空蒸着以外の、例えば溶剤による被覆技術によっ
て真空蒸着容器外でなされてもよい。The photogenerating layer of the present invention generally has a thickness in the range of about 0.1 to about 2 μm, preferably about 0.2 to about 0 μm.
.. It has a thickness of 7 μm. Thicknesses outside this range can also be selected so long as the objectives of the invention are achieved. After completion of coating the conductive layer, blocking layer, optional adhesive layer, and photogenerating layer in a maintained vacuum environment, the charge transport layer is applied. The charge transport layer is relatively thick and the formation of this layer may be done outside the vacuum deposition vessel by other than vacuum deposition, for example by solvent coating techniques.
【0032】電荷輸送層7は電荷発生層6からの光生成
正孔または電子の注入を支持でき、かつこれらの正孔ま
たは電子の該層をとおしての輸送を可能とし、その表面
電荷を選択的に放電することのできる、適当な透明な有
機高分子または非高分子材料のどれかを含んでもよい。
電荷輸送層は正孔または電子を輸送するだけでなく、光
導電層を磨耗または化学的攻撃から守る役目を果たし、
それゆえ、感光体画像形成部材の作業寿命を延長する。
電荷輸送層は、ゼログラフィーにおいて有用な、例えば
400nmから900nmの波長の光にさらされたとき
に、もしあったとしても極わずかな放電を示さなければ
ならない。電荷輸送層は、光導電体が使用される領域に
おいての放射に対して、好ましくは実質的に透過性であ
る。
それは電荷発生層からの光生成された正孔または電子の
注入を支持する材料を含む。電荷輸送層は、そこをとお
して露光が実施されたときに入射光の大部分が下にある
電荷発生層によって利用されることを確実にするために
、通常は透明である。透明な基体が使用されたときは、
画像方式露光または消去がその基体を通ったすべての光
でその基体をとおしてなされてもよい。この場合、電荷
輸送材料は使用される波長領域の光を透す必要はない。
電荷発生層と結合した電荷輸送層は、その電荷輸送層上
に置かれた静電的電荷が照射がないときには導電されな
い程度に、絶縁体である。The charge transport layer 7 is capable of supporting the injection of photogenerated holes or electrons from the charge generation layer 6 and allows the transport of these holes or electrons through the layer, and has a selective surface charge. It may include any suitable transparent organic polymeric or non-polymeric material that can be electrically discharged. The charge transport layer not only transports holes or electrons, but also serves to protect the photoconductive layer from abrasion or chemical attack.
Therefore, the working life of the photoreceptor imaging member is extended. The charge transport layer must exhibit little, if any, discharge when exposed to light at wavelengths useful in xerography, such as from 400 nm to 900 nm. The charge transport layer is preferably substantially transparent to radiation in the areas where the photoconductor is used. It includes a material that supports injection of photogenerated holes or electrons from the charge generating layer. The charge transport layer is usually transparent to ensure that when exposure is performed therethrough, the majority of the incident light is utilized by the underlying charge generation layer. When a transparent substrate is used,
Imagewise exposure or erasure may be done through the substrate with all light passing through the substrate. In this case, the charge transport material does not need to be transparent to light in the wavelength range used. The charge transport layer associated with the charge generation layer is an insulator to the extent that electrostatic charges placed on the charge transport layer are not conductive in the absence of illumination.
【0033】電荷輸送層は、活性化合物または電荷輸送
分子を含んでもよく、それらは、それらの材料を電気的
に活性にするための通常電気的に不活性である皮膜形成
高分子材料中に分散されている。これらの電荷輸送分子
は、光生成された正孔または電子の注入を支持できない
、かつこれらの正孔または電子の輸送を可能とすること
のできない高分子材料に添加されてもよい。多層光導電
体に使われる特に好ましい輸送層は、約25重量%から
約75重量%の少なくとも1つの電荷輸送化合物、およ
び該電荷輸送化合物が溶ける約75重量%から約25%
重量の高分子皮膜形成樹脂を含む。あるいは、電荷輸送
部分はポリマーの主鎖に、またはポリマーの側基として
のいずれかに組み込まれていてもよい。The charge transport layer may include active compounds or charge transport molecules that are dispersed in normally electrically inactive film-forming polymeric materials to render those materials electrically active. has been done. These charge transport molecules may be added to polymeric materials that cannot support the injection of photogenerated holes or electrons and cannot allow the transport of these holes or electrons. Particularly preferred transport layers for use in multilayer photoconductors include from about 25% to about 75% by weight of at least one charge transport compound, and from about 75% to about 25% in which the charge transport compound is soluble.
Contains weight of polymeric film-forming resin. Alternatively, the charge transport moiety may be incorporated either into the backbone of the polymer or as a pendant group on the polymer.
【0034】正孔電荷輸送層は好ましくは、少なくとも
1つの下記の一般式で示される芳香族アミン化合物を含
む混合物から形成される。The hole charge transport layer is preferably formed from a mixture containing at least one aromatic amine compound represented by the general formula below.
【0035】[0035]
【化1】[Chemical formula 1]
【0036】上記式中、R1 およびR2 はそれぞれ
、置換されたまたは置換されていないフェニル基、ナフ
チル基、およびポリフェニル基からなる群から選ばれる
芳香族基であり、R3 は置換されたまたは置換されて
いないアリール基、炭素原子1〜18個を有するアルキ
ル基および炭素原子3〜18個を有する脂環基からなる
群から選ばれる。置換基はNO2 基およびCN基等の
ような電子吸引性基を持つべきではない。この構造式で
示される代表的な芳香族アミン化合物は、
I.次のようなトリフェニルアミン:In the above formula, R1 and R2 are each an aromatic group selected from the group consisting of substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group, and polyphenyl group, and R3 is substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group, and polyphenyl group. aryl groups, alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and alicyclic groups having 3 to 18 carbon atoms. Substituents should not have electron-withdrawing groups such as NO2 groups and CN groups. A typical aromatic amine compound represented by this structural formula is I. Triphenylamines such as:
【0037】[0037]
【化2】[Case 2]
【0038】II. 次のようなポリトリアリールアミ
ン:II. Polytriarylamines such as:
【0039】[0039]
【化3】[Chemical formula 3]
【0040】III.次のようなビスアリールアミンエ
ーテル:III. Bisarylamine ethers such as:
【0041】[0041]
【化4】[C4]
【0042】および IV. 次のようなビスアルキル−アリールアミン:[0042] and IV. Bisalkyl-arylamines such as:
【
0043】[
0043
【化5】[C5]
【0044】を含む。上記式中、Rは水素またはCH3
、C2 H5 等のようなアルキル基である。好まし
い芳香族アミン化合物は下記の一般式を有する。[0044] In the above formula, R is hydrogen or CH3
, C2 H5 and the like. Preferred aromatic amine compounds have the general formula below.
【0045】[0045]
【化6】[C6]
【0046】上記式中、R1 およびR2 は上記定義
のとおりであり、R4 は置換されたまたは置換されて
いないビフェノール基、ジフェニルエーテル基、炭素原
子1〜18個を有するアルキル基、および炭素原子3〜
12個を有する脂環基からなる群から選ばれる。置換基
はNO2 基およびCN基等のような電子吸引性基を持
つべきではない。In the above formula, R1 and R2 are as defined above, and R4 is a substituted or unsubstituted biphenol group, a diphenyl ether group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and a group having 3 to 18 carbon atoms.
selected from the group consisting of alicyclic groups having 12 alicyclic groups. Substituents should not have electron-withdrawing groups such as NO2 groups and CN groups.
【0047】上記構造式によって示される電荷輸送芳香
族アミンは、トリフェニルメタン、ビス(4−ジエチル
アミン−2−メチルフェニル)フェニルメタン;4’,
4”−ビス(ジエチルアミノ)−2’,2”−ジメチル
−トリフェニルメタン;N,N’−ビス(アルキルフェ
ニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミ
ン(式中、アルキルは例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、n−ブチル等である);およびN,N’−ジフェニ
ル−N,N’−ビス(3”−メチルフェニル)−(1,
1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン等の不活性樹
脂結合剤中に分散しているものを含む。The charge transporting aromatic amine represented by the above structural formula includes triphenylmethane, bis(4-diethylamine-2-methylphenyl)phenylmethane; 4',
4"-bis(diethylamino)-2',2"-dimethyl-triphenylmethane;N,N'-bis(alkylphenyl)-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine (in the formula, Alkyl is, for example, methyl, ethyl, propyl, n-butyl, etc.); and N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3''-methylphenyl)-(1,
Including those dispersed in an inert resin binder such as 1'-biphenyl)-4,4'-diamine.
【0048】塩化メチレンまたは他の適当な溶媒中に溶
解する、適当な不活性樹脂結合剤のどれかが使われても
よい。塩化メチレンに溶解する代表的な不活性樹脂結合
剤は、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、ポリフェ
ニレン、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリレ
ート、ポリエーテルおよびポリスルホン等を含む。分子
量は約20,000から約1,500,000 である
。これらの結合剤を溶かす他の溶剤は、テトラヒドロフ
ラン、トルエン、トリクロロエチレン、1,1,2−ト
リクロロエタンおよび1,1,1,− トリクロロエタ
ン等を含む。Any suitable inert resin binder dissolved in methylene chloride or other suitable solvent may be used. Typical inert resin binders that dissolve in methylene chloride include polycarbonate resins, polystyrene, polyphenylene, polyesters, polyarylates, polyacrylates, polyethers, polysulfones, and the like. The molecular weight is about 20,000 to about 1,500,000. Other solvents that dissolve these binders include tetrahydrofuran, toluene, trichloroethylene, 1,1,2-trichloroethane and 1,1,1,-trichloroethane, and the like.
【0049】好ましい電気的に不活性な樹脂材料は、約
20,000から約120,000 の分子量、さらに
好ましくは約50,000から約100,000 の分
子量を有するポリカーボネート樹脂である。電気的に不
活性な樹脂材料として最も好ましい材料は、Gener
al Electric CompanyからLexa
n 145 として入手可能な、約35,000から約
40,000の分子量のポリ( 4,4’−ジプロピリ
デン− ジフェニレン カーボネート) ;Gene
ral Electric Company からLe
xan 141 として入手可能な、約40,000か
ら約45,000の分子量のポリ( 4,4’−イソプ
ロピリデン− ジフェニレン カーボネート) ;F
arbenfabricken Bayer A.G.
からMakrolonとして入手可能な、約50,0
00から約100,000 の分子量を有するポリカー
ボネート樹脂;Mobay Chemical Com
pany からMerlonとして入手可能な約20,
000から約50,000の分子量を有するポリカーボ
ネート樹脂; ポリエーテルカーボネート; および4
,4’−シクロヘキシリデンジフェニルカーボネートで
ある。塩化メチレン溶剤は、全ての成分を十分に溶かす
こと、かつその低い沸点のために、電荷輸送層皮膜混合
物の望ましい成分である。Preferred electrically inert resin materials are polycarbonate resins having a molecular weight of about 20,000 to about 120,000, more preferably about 50,000 to about 100,000. The most preferable electrically inactive resin material is Gener
Lexa from al Electric Company
Poly(4,4'-dipropylidene-diphenylene carbonate) of molecular weight from about 35,000 to about 40,000 available as
Le from ral Electric Company
Poly(4,4'-isopropylidene-diphenylene carbonate) of molecular weight from about 40,000 to about 45,000, available as xan 141;
arbenfabricken Bayer A. G.
Approximately 50,0, available as Makrolon from
Polycarbonate resin having a molecular weight of 00 to about 100,000; Mobay Chemical Com
About 20, available as Merlon from pany.
a polycarbonate resin having a molecular weight of from 000 to about 50,000; a polyether carbonate; and 4
, 4'-cyclohexylidene diphenyl carbonate. Methylene chloride solvent is a desirable component of the charge transport layer coating mixture because of its ability to dissolve all components well and its low boiling point.
【0050】特に好ましい多層光導電体は、光導電性材
料の結合剤層を含有する電荷発生層、および約25重量
%から約75重量%の下記式を有する1またはそれ以上
の化合物をその中に分散させる約20,000から約1
20,000 の分子量を有するポリカーボネート樹脂
材料の正孔輸送層を含む。Particularly preferred multilayer photoconductors include a charge generating layer containing a binder layer of photoconductive material and from about 25% to about 75% by weight of one or more compounds having the formula: from about 20,000 to about 1
It includes a hole transport layer of polycarbonate resin material having a molecular weight of 20,000.
【0051】[0051]
【化7】[C7]
【0052】上記式中、XおよびYは炭素原子0〜4個
を有するアルキル基、および塩素からなる群から選ばれ
、光導電性層は正孔の光生成およびその正孔の注入の能
力を示し、正孔輸送層は光導電性層が光生成される正孔
を発生し注入するスペクトル領域では実質的に非吸収性
であり、しかし光生成された正孔の光導電層からの注入
を支持し該正孔輸送層を通して該正孔を輸送することが
可能である。In the above formula, X and Y are selected from the group consisting of alkyl groups having 0 to 4 carbon atoms, and chlorine, and the photoconductive layer has the ability to photogenerate and inject holes. , the hole transport layer is substantially non-absorbing in the spectral region where the photoconductive layer generates and injects photogenerated holes, but is substantially non-absorbing in the region of the spectrum where the photoconductive layer generates and injects photogenerated holes; It is possible to support and transport the holes through the hole transport layer.
【0053】電荷輸送層の厚さは好ましくは、約5μm
から約100μm の範囲内であり、好ましくは約2
0μm から約50μm である。最適な厚さは、電気
的安定性、寿命および電子写真スピードの特定な適用要
求に依存する。例えば、下引層、アンチ−カール層、ま
たは保護皮膜層のような任意な層は、上述の電子写真デ
バイスに適用されうる。The thickness of the charge transport layer is preferably about 5 μm.
to about 100 μm, preferably about 2
The range is from 0 μm to about 50 μm. The optimum thickness depends on the specific application requirements of electrical stability, lifetime, and xerographic speed. For example, optional layers such as subbing layers, anti-curl layers, or protective coating layers may be applied to the electrophotographic devices described above.
【0054】本発明はさらに次の限定しない実施例で説
明され、これらの実施例は単に実例となるものであり、
本発明は本明細書中に列挙された材料、条件およびプロ
セスパラメーター等に限定されないことが理解されるで
あろう。The invention is further illustrated by the following non-limiting examples, which are merely illustrative:
It will be understood that this invention is not limited to the materials, conditions, process parameters, etc. listed herein.
【0055】[0055]
【実施例】実施例1
電荷発生材料として米国特許第4,587,189 号
に記載されているペリレン二無水物とO−フェニレンジ
アミンとの縮合により形成されるベンズイミダゾールペ
リレン(BZP)を、および正孔輸送層として下記式の
トリアリールジアミンを利用して、多層画像形成部材を
製造した。EXAMPLES Example 1 Benzimidazole perylene (BZP), which is formed by condensation of perylene dianhydride and O-phenylene diamine described in U.S. Pat. No. 4,587,189, was used as a charge generating material, and A multilayer imaging member was manufactured using triaryldiamine of the following formula as a hole transport layer.
【0056】[0056]
【化8】
基体をポリ(エチレンテレフタレート)フィルム(IC
I からMerinex として入手可能) からなり
、1×10−5トルの圧力の真空容器内に設置する。電
子ビーム源を使って、約10nmの厚さのチタンの導電
層を蒸着する。これに約10nmの厚さの二酸化珪素層
が続く。最後に、真空を破ることなく、BZPの約0.
2 μm の厚さの層が抵抗的に500 ℃まで加熱さ
れたタンタルボードから蒸着された。[Chemical formula 8] The substrate is a poly(ethylene terephthalate) film (IC
(available as Merinex from I) and placed in a vacuum vessel at a pressure of 1 x 10-5 Torr. An electron beam source is used to deposit a conductive layer of titanium approximately 10 nm thick. This is followed by a silicon dioxide layer approximately 10 nm thick. Finally, without breaking the vacuum, approximately 0.
A 2 μm thick layer was deposited from a tantalum board resistively heated to 500°C.
【0057】真空蒸着された層を次に、トリアリールジ
アミン正孔輸送材料をポリカーボネートポリマー中に含
有する溶液で保護被覆する。トリアリールジアミンとポ
リマーの比は、1:1であり、溶剤は65%のジクロロ
メタンと35%の1,1,2 −トリクロロエタンの混
合物である。固形物と溶剤の比は、15μm の乾燥厚
さが得られるように調節する。溶剤を引き棒アプリケタ
ー(draw bar applicator)を使っ
て流延し、得られた皮膜を60℃で1時間乾燥する。The vacuum deposited layer is then protectively coated with a solution containing a triaryldiamine hole transport material in a polycarbonate polymer. The ratio of triaryldiamine to polymer is 1:1 and the solvent is a mixture of 65% dichloromethane and 35% 1,1,2-trichloroethane. The ratio of solids to solvent is adjusted to obtain a dry thickness of 15 μm. The solvent is cast using a draw bar applicator and the resulting film is dried at 60° C. for 1 hour.
【0058】上述の金属−酸化物−顔料の多層の製造は
、金属と顔料層の間に約400g/cmおよびより高い
高度な接着力を生ずる。接着力は接着性被覆テープを顔
料層に付着させ、Instron Model #60
22 接着テスターを使用することによって測定される
。電子写真特性は、負電圧にコロナ帯電し、650nm
の光で暗放電および光放電を観察することによって測
定される。帯電特性は初期の電位をプロットすることに
よって得られ、その初期の電位は10から250 ナノ
クローン/cm2 に変化する適用された陰電荷に対し
て、帯電後190msec に測定される。上記の方法
で製造した多層画像形成部材は、容量的に2000ボル
トを越えて帯電し、70ボルト/μm を越える電界に
おいてさえ、2 秒間で10%よりも小さい暗放電を示
す。光感度は、150ボルト/erg /cm2 の放
電スロープで、優れていて、1000ボルトから100
ボルトに放電するのに20ボルトよりも小さい残留電位
とともに7erg /cm2 より小さいエネルギーを
要する。The production of the metal-oxide-pigment multilayer described above results in a high degree of adhesion between the metal and pigment layers of about 400 g/cm and higher. Adhesion was achieved by attaching adhesive coated tape to the pigment layer and using Instron Model #60
22 Measured by using an adhesion tester. Electrophotographic characteristics include negative voltage corona charging, 650 nm
It is measured by observing dark discharge and light discharge in the light of . The charging characteristics are obtained by plotting the initial potential measured 190 msec after charging for an applied negative charge varying from 10 to 250 nanoclones/cm2. Multilayer imaging members prepared in the above manner charge capacitively to more than 2000 volts and exhibit less than 10% dark discharge in 2 seconds even at electric fields greater than 70 volts/μm. The light sensitivity is excellent, with a discharge slope of 150 volts/erg/cm2, and from 1000 volts to 100 volts/erg/cm2.
It takes less than 7 erg/cm2 of energy to discharge to volts with a residual potential of less than 20 volts.
【0059】実施例2
他の酸化物
多層画像形成部材を、二酸化珪素の代わりにジルコニウ
ム、アルミニウムおよびチタンの酸化物を使う以外は実
施例1と同じ方法で製造する。加えて、酸化物の厚さは
10nmに加えて、名目上30nmと100nmが作ら
れる。
得られた画像形成部材は実施例1のそれと機能において
実質的に同一である。Example 2 Another oxide multilayer imaging member is prepared in the same manner as in Example 1 except that zirconium, aluminum and titanium oxides are used in place of silicon dioxide. In addition, oxide thicknesses of nominally 30 nm and 100 nm are made in addition to 10 nm. The resulting imaging member is substantially identical in function to that of Example 1.
【0060】実施例3
他の基体
多層画像形成部材を、ポリ(エチレンテレフタレート)
基体の代わりにポリ(ビニリデンクロライド)およびポ
リ(エーテルスルホン)の基体を使う以外は実施例1と
同じ方法で製造する。得られた画像形成部材は実施例1
のそれと機能において実質的に同一である。Example 3 Another substrate multilayer imaging member was made of poly(ethylene terephthalate).
It is produced in the same manner as in Example 1 except that poly(vinylidene chloride) and poly(ether sulfone) substrates are used instead of the substrate. The obtained image forming member is Example 1
It is substantially the same in function as that of .
【0061】実施例4
幅18インチの長いウェブを、大型のロール真空コータ
ーの中に置き、10nmのチタン層に続いて、10nm
の酸化ジルコニウム層を1回のスパッタリングによって
適用する。該酸化物層は酸素分圧中の反応性スパッタリ
ングによって形成される。該ウェブを巻き取り、第二の
真空ロールコーターに移し、そこでは波長650nmに
おいて光密度1.0に相当する厚さのBZP顔料層が熱
的にステンレス鋼のるつぼの外へ蒸発する。そのるつぼ
の温度は550℃に制御されて、ウェブスピードは所望
する光密度がウェブの幅と長さに均一に与えられるよう
に調整される。その顔料の電荷発生層が蒸着された後、
巻き取られたウェブはウェブ溶剤コーターに移され、そ
こでは押出ダイを使って実施例1と同じ組成の電荷輸送
層が適用される。得られた乾燥厚さは25μm である
。得られた多層画像形成部材の電気的特性は、電荷輸送
層の厚さの容量性差異で評価すると、実施例1のそれと
同一であった。Example 4 A long web 18 inches wide was placed in a large roll vacuum coater and coated with a 10 nm layer of titanium followed by a 10 nm layer of titanium.
A layer of zirconium oxide is applied by one sputtering. The oxide layer is formed by reactive sputtering in a partial pressure of oxygen. The web is wound up and transferred to a second vacuum roll coater where a layer of BZP pigment with a thickness corresponding to an optical density of 1.0 at a wavelength of 650 nm is thermally evaporated out of the stainless steel crucible. The crucible temperature is controlled at 550° C. and the web speed is adjusted to provide the desired light density uniformly across the width and length of the web. After the pigment charge generating layer is deposited,
The wound web is transferred to a web solvent coater where a charge transport layer of the same composition as in Example 1 is applied using an extrusion die. The dry thickness obtained is 25 μm. The electrical properties of the resulting multilayer imaging member were the same as those of Example 1, as evaluated by the capacitive difference in charge transport layer thickness.
【0062】Xerox 4050 レーザープリン
ターは、画像形成部材上の−100 ボルトに相当する
放電領域はブラックトナーを現像し、一方、−500
ボルトに相当する帯電領域はトナーを現像しないように
特別に改良されている。このようにして得られた紙印刷
物は、レーザーが画像形成部材を放電した黒い画像と、
その他の白い部分からなる。この画像形成機構は、局所
的な電荷受容の欠乏または高度の暗放電を起こす画像形
成部材の欠陥に対して非常に敏感である。極めて微細な
欠陥でさえ、黒点として印字されかつ容易に検出される
。上述の方法によって製造される画像形成部材からの部
分を切断して、Xerox 4050プリンターによっ
て要求されるサイズのベルトに結合する。改良された4
050プリンターで作られたプリントは、上述の方法に
よって製造された画像形成部材には欠陥がないことを示
した。The Xerox 4050 laser printer has a discharge area corresponding to -100 volts on the imaging member that develops black toner, while a -500 volts discharge area on the imaging member develops black toner.
The charged area corresponding to the bolt is specially modified to not develop toner. The paper print thus obtained has a black image formed by the laser discharging the imaging member;
It consists of other white parts. This imaging mechanism is very sensitive to defects in the imaging member that cause localized lack of charge acceptance or high levels of dark discharge. Even the smallest defects are printed as black dots and are easily detected. Sections from the imaging member produced by the method described above are cut and bonded to a belt of the size required by the Xerox 4050 printer. improved 4
Prints made on the 050 printer showed that the imaging members produced by the method described above were free of defects.
【0063】実施例5
他の顔料
多層画像形成部材を、酸化珪素の代わりに酸化ジルコニ
ウムを、かつBZP顔料の代わりにクロロ−インジウム
フタロシアニン、ビスN−プロピルイミドペリレンおよ
びビスN−メチルイミドペリレンを使うこと以外は実施
例1と同様に製造する。そのクロロ−インジウムフタロ
シアニンは米国特許第4,555,465 号に記載さ
ているように調製され、一方、プロピルおよびメチルペ
リレンは、米国特許第4,587,189 号に記載さ
れているように、ペリレン3,4,9,10− 四カル
ボン酸またはそれに相当する無水物とキノリン中の適当
なアミンとの縮合によって調製される。Example 5 Another pigmented multilayer imaging member using zirconium oxide in place of silicon oxide and chloro-indium phthalocyanine, bisN-propylimidoperylene and bisN-methylimideperylene in place of BZP pigments. It is manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above. The chloro-indium phthalocyanine was prepared as described in U.S. Pat. No. 4,555,465, while propyl and methylperylene were prepared as perylene as described in U.S. Pat. No. 4,587,189. Prepared by condensation of a 3,4,9,10-tetracarboxylic acid or its corresponding anhydride with the appropriate amine in quinoline.
【0064】上述の方法によって製造された多層画像形
成部材は低い暗放電とともに優れた容量性帯電特性を示
した。クロロ−インジウムフタロシアニン画像形成部材
は550nmから800nmで高感度を示し;n−プロ
ピルペリレンジアミンは420nmから660nmで高
感度を示し、n−メチルペリレンジアミンは450nm
から580nmでやや低い感度を示した。Multilayer imaging members prepared by the method described above exhibited excellent capacitive charging characteristics with low dark discharge. Chloro-indium phthalocyanine imaging members exhibit high sensitivity from 550 nm to 800 nm; n-propylperylene diamine exhibits high sensitivity from 420 nm to 660 nm, and n-methylperylene diamine exhibits high sensitivity from 450 nm.
It showed slightly low sensitivity at 580 nm.
【0065】実施例6
多層画像形成部材を、成形された直径84mmのポリプ
ロピレンシリンダー基体上に製造する。そのシリンダー
を真空容器の中に置き、その軸を中心に回転し、その間
に、アルミニウムの厚さ20nmの層および酸化アルミ
ニウムの厚さ10nmの層が電子ビーム源によって蒸着
された。
その後に、実施例1に記載されている熱的に昇華された
BZP顔料の厚さ0.2μm の層が続く。そのシリン
ダーを真空容器から除去して、40/60比の1,1,
2−トリクロロエタンとジクロロメタンの混合物中の4
0/60比のビス−トリアリールアミンとポリカーボネ
ートの溶液を、シリンダーを回転しながらその上に吹き
付けた。
固体−液剤比は滑らかな皮膜を得るように調整され、反
応の回数は20μm の乾燥厚さを得るように選ばれる
。
吹付塗の後、その電荷輸送層を一夜、60℃で乾燥した
。Example 6 A multilayer imaging member is prepared on a molded 84 mm diameter polypropylene cylinder substrate. The cylinder was placed in a vacuum vessel and rotated about its axis, while a 20 nm thick layer of aluminum and a 10 nm thick layer of aluminum oxide were deposited by an electron beam source. This is followed by a 0.2 μm thick layer of thermally sublimated BZP pigment as described in Example 1. The cylinder was removed from the vacuum vessel and the 1,1, 40/60 ratio
4 in a mixture of 2-trichloroethane and dichloromethane
A solution of bis-triarylamine and polycarbonate in a 0/60 ratio was sprayed onto it while the cylinder was rotating. The solid-liquid ratio is adjusted to obtain a smooth film and the number of reactions is chosen to obtain a dry thickness of 20 μm. After spray coating, the charge transport layer was dried overnight at 60°C.
【0066】得られた画像形成部材をXerox 10
12複写機に取りつけ、その複写機の“コピーダーカー
(copy darker) ”スライドスイッチを使
って露光を減少させた後、優れた複写が得られた。本発
明は特定の好ましい実施態様を参照して記載されている
が、それらに限定されるものではなく、むしろ、この分
野に技能を有する者は、本発明の精神内で、かつ特許請
求の範囲内での変化と改良がなされうることを認めるで
あろう。[0066] The resulting imaging member was
12 copier and after reducing the exposure using the copier's "copy darker" slide switch, excellent copies were obtained. Although the invention has been described with reference to certain preferred embodiments, it is not intended to be limited thereto; rather, those skilled in the art will understand that the invention is within the spirit of the invention and as set forth in the claims. It will be recognized that changes and improvements can be made within the organization.
【図1】本発明の多層感光体の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer photoreceptor of the present invention.
1 アンチカール層 2 支持基体 3 導電層 4 ブロッキング層 5 接着剤層 6 電荷発生層 7 電荷輸送層 8 保護皮膜層 1. Anti-curl layer 2 Support base 3 Conductive layer 4 Blocking layer 5 Adhesive layer 6 Charge generation layer 7 Charge transport layer 8 Protective film layer
Claims (1)
であって、基体上に導電層を真空蒸着させ、前記導電層
上に電荷ブロッキング層を真空蒸着させ、および前記電
荷ブロッキング層上に電荷発生層を真空蒸着させること
を含む方法。1. A method of manufacturing an electrophotographic imaging member, comprising: vacuum depositing a conductive layer on a substrate; vacuum depositing a charge blocking layer on the conductive layer; and charge generation on the charge blocking layer. A method comprising vacuum depositing a layer.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US57563590A | 1990-08-31 | 1990-08-31 | |
US575635 | 1990-08-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04234763A true JPH04234763A (en) | 1992-08-24 |
Family
ID=24301110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21377191A Withdrawn JPH04234763A (en) | 1990-08-31 | 1991-08-26 | Method of covering laminated type photosensitive body |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0475644A3 (en) |
JP (1) | JPH04234763A (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3800227A1 (en) * | 1987-01-06 | 1988-07-14 | Minolta Camera Kk | Photosensitive part containing phthalocyanine pigments |
JPS63169654A (en) * | 1987-01-08 | 1988-07-13 | Minolta Camera Co Ltd | Photosensitive body |
US4780385A (en) * | 1987-04-21 | 1988-10-25 | Xerox Corporation | Electrophotographic imaging member containing zirconium in base layer |
-
1991
- 1991-08-26 JP JP21377191A patent/JPH04234763A/en not_active Withdrawn
- 1991-08-30 EP EP19910307956 patent/EP0475644A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0475644A3 (en) | 1992-05-20 |
EP0475644A2 (en) | 1992-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5830614A (en) | Multilayer organic photoreceptor employing a dual layer of charge transporting polymers | |
BRPI0505199B1 (en) | PROCESS FOR THE PREPARATION OF A TYPE VEHICLE TYTHANYLINE V | |
GB2226652A (en) | Preparing an electrophotographic member | |
US5521047A (en) | Process for preparing a multilayer electrophotographic imaging member | |
JPH04268565A (en) | Charge generating layer and charge transfer layer for electronic-photograph-image forming member and manufacture thereof | |
US5437950A (en) | Electrophotographic imagimg member with enhanced photo-electric sensitivity | |
US5089369A (en) | Stress/strain-free electrophotographic device and method of making same | |
JPH07150101A (en) | Cross-linked polyvinyl butyral binder for organic photoconductor | |
US5413886A (en) | Transport layers containing two or more charge transporting molecules | |
EP0573201B1 (en) | Infra-red electrophotographic photoreceptor based on octa-substituted phthalocyanines | |
JP3968120B2 (en) | Electrophotographic imaging member | |
US5418100A (en) | Crack-free electrophotographic imaging device and method of making same | |
US6383699B1 (en) | Photoreceptor with charge blocking layer containing quaternary ammonium salts | |
EP0585668B1 (en) | Photoconductors employing sensitized extrinsic photogenerating pigments | |
JP2001175007A (en) | Photosensitive body, image forming method and image forming device | |
GB2262993A (en) | Electrophotographic imaging member | |
US4927726A (en) | Photoreceptor with polynuclear bisoxazole or bisthizole | |
JPH04289867A (en) | Electrophotographic sensitive body | |
US8097387B2 (en) | Photoreceptors comprising aligned nano-sized domains of charge transport components that have significant intermolecular pi-pi orbital overlap | |
JPH04234763A (en) | Method of covering laminated type photosensitive body | |
US20050260512A1 (en) | Blue diode laser sensitive photoreceptor | |
US5476740A (en) | Multilayer electrophotographic imaging member | |
JPS58162955A (en) | Organic photoconductor | |
US5532103A (en) | Multilayer electrophotographic imaging member | |
US5108861A (en) | Evaporated cuprous iodide films as transparent conductive coatings for imaging members |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |