JPH04234732A - Liquid crystal electrooptical device - Google Patents

Liquid crystal electrooptical device

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Publication number
JPH04234732A
JPH04234732A JP41866590A JP41866590A JPH04234732A JP H04234732 A JPH04234732 A JP H04234732A JP 41866590 A JP41866590 A JP 41866590A JP 41866590 A JP41866590 A JP 41866590A JP H04234732 A JPH04234732 A JP H04234732A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
thickness
δnd
optical anisotropy
Prior art date
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Pending
Application number
JP41866590A
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Japanese (ja)
Inventor
Shunpei Yamazaki
舜平 山崎
Akira Mase
晃 間瀬
Michio Shimizu
清水 美知緒
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Publication date
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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the liquid crystal optical device of a black and white display which is lighter in weight at a low cost. CONSTITUTION:A stretched polycarbonate substrate 4 having 500mum thickness is used as a 1st substrate 2 and electrodes 5 are provided thereon by forming the thin film of indium oxide tin and patterning the film. Further, an oriented film consisting of the thin film of polyimide is provided. On the other hand, a ferroelectric liquid crystal 11 and spacers 10 are inserted between the two substrates 2 and 3 and the circumference is fixed by an adhesive. The value of the product of the value n of the optical anisotropy possessed by the respective substrates 2, 3 and the thickness d of the substrates is specified, by which the inexpensive and light liquid crystal electrooptical device is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、複屈折モードを示す液
晶表示装置(FLC:強誘電性液晶、STN:スーパー
ツイストネマチック液晶等)の白黒化色補償を行なう手
段を有する装置を提案するものであります。
[Industrial Application Field] The present invention proposes a device having means for black-and-white color compensation of a liquid crystal display device (FLC: ferroelectric liquid crystal, STN: super twisted nematic liquid crystal, etc.) exhibiting birefringence mode. It is.

【0002】0002

【従来の技術】従来コンピューター、ワードプロセッサ
ー等の表示画面にはSTN(スーパーツイストネマチッ
ク)型の液晶表示装置が多く用いられている。STNは
以前のTN(ツイストネマチック)型の液晶表示装置に
比べて、液晶材料の電気光学特性に急峻性があるために
、TNでは難しかった情報量の多い高時分割駆動が可能
となり、現在のノートパソコン、ノートワープロの火付
け役となった。
2. Description of the Related Art Conventionally, STN (super twisted nematic) type liquid crystal display devices have been widely used for display screens of computers, word processors, etc. Compared to previous TN (twisted nematic) type liquid crystal display devices, STN has steeper electro-optical characteristics of the liquid crystal material, which makes it possible to perform high time-division driving with a large amount of information, which was difficult with TN. It sparked the rise of notebook computers and notebook word processors.

【0003】電子時計、卓上計算機等への応用から始ま
った従来のTN液晶表示装置は、液晶セル中での液晶分
子のツイスト角度は図1に示す様に概略90°であった
。そのために、複屈折モードが起きることなく液晶層通
過の位相差に伴う色の変化はなかった。従って、白と黒
の2階調を容易に作ることが出来た。
In the conventional TN liquid crystal display device, which was first applied to electronic watches, desktop calculators, etc., the twist angle of liquid crystal molecules in the liquid crystal cell was approximately 90° as shown in FIG. Therefore, no birefringence mode occurred and there was no change in color due to the phase difference when passing through the liquid crystal layer. Therefore, it was possible to easily create two gradations of white and black.

【0004】しかしながら、STNモードにした場合、
ツイスト角度を図2に示す様に概略210〜270°に
設計するため複屈折モードが起き、光が液晶層を通過す
る際に位相差による色の変化が起きるという不具合が生
じていた。通常、その設計値から光の透過/非透過の色
が黄色/深緑(イエローグリーンモード)または淡青/
濃青(ブルーモード)となっており、情報量の増加に伴
うカラー化には不向きな物であった。
However, when set to STN mode,
Since the twist angle is designed to be approximately 210 to 270 degrees as shown in FIG. 2, a birefringence mode occurs, causing a problem in which color changes occur due to phase difference when light passes through the liquid crystal layer. Normally, the color of light transmission/non-transmission is yellow/dark green (yellow-green mode) or light blue/non-transmissive based on the design value.
It was dark blue (blue mode) and was not suitable for colorization as the amount of information increased.

【0005】そこで考案された手段に、ずれた位相を元
に近い状態に戻すために、表示セルと逆向きのツイスト
をさせた位相差補償用のセルを光路上に設けて白黒化す
る方法、またはプラスティックによる位相差補償用のフ
ィルムを光路上に設けて白黒化する方法等がある。
[0005] Accordingly, in order to return the shifted phase to a state close to the original state, a method of creating black and white by providing a phase difference compensating cell twisted in the opposite direction to the display cell on the optical path; Alternatively, there is a method in which a plastic phase difference compensating film is provided on the optical path to make the image black and white.

【0006】また、複屈折モードを利用したその他の液
晶表示装置としてクラーク・ラグァウォールらによって
提案されたものに、強誘電性液晶を用いたディスプレイ
があった。図3にその概念図を示す。
[0006] Another liquid crystal display device using birefringence mode, proposed by Clark Lagarwal et al., was a display using ferroelectric liquid crystal. Figure 3 shows its conceptual diagram.

【0007】強誘電性液晶は自発分極を有するために、
螺旋がほどけるまで液晶層の厚みを薄くした場合、界面
安定状態(SSFLC)が出来、一度電界を加えたあと
は、その電界を取り去っても透過または非透過の状態が
継続するメモリー効果を得ることが出来た。このメモリ
ー状態を利用することによって、TFTのアクティブマ
トリックスLCDと同じような、スタティック的な表示
品質が可能になっている。
Since ferroelectric liquid crystals have spontaneous polarization,
When the thickness of the liquid crystal layer is thinned until the spiral unwinds, a stable interfacial state (SSFLC) is created, and once an electric field is applied, a memory effect is obtained in which the transparent or non-transparent state continues even if the electric field is removed. I was able to do it. By utilizing this memory state, static display quality similar to that of a TFT active matrix LCD is possible.

【0008】前記パネルに使用するカイラルスメクティ
ック系の強誘電性を示す液晶組成物は、その光学異方性
の値(Δn)がおおよそ0.14近辺であるので、光の
三原色をすべて均等に透過させるには液晶組成物の厚み
(d)を2μm前後まで薄くする必要があった。そうす
ることで液晶組成物の持つ光学異方性の値(Δn)と液
晶組成物の厚み(d)の積(Δnd)が280nm付近
に合わせることができた。(Δnd)が280nmの時
の分光特性を図4に示す。これからも判るるように、4
50nm付近の青光と、550nm付近の緑光と、65
0nm付近の赤光がほぼ均一に透過していることが判る
The liquid crystal composition exhibiting chiral smectic ferroelectricity used in the panel has an optical anisotropy value (Δn) of approximately 0.14, so it transmits all three primary colors of light equally. In order to achieve this, it was necessary to reduce the thickness (d) of the liquid crystal composition to around 2 μm. By doing so, the product (Δnd) of the optical anisotropy value (Δn) of the liquid crystal composition and the thickness (d) of the liquid crystal composition could be adjusted to around 280 nm. FIG. 4 shows the spectral characteristics when (Δnd) is 280 nm. As we will see, 4
Blue light around 50 nm, green light around 550 nm, and 65
It can be seen that red light around 0 nm is transmitted almost uniformly.

【0009】しかしながら、液晶組成物の厚み(d)を
2μm前後まで薄くする必要があるために、第一の基板
と第二の基板上の電極間に導電性の異物が混入すること
によって、電気的短絡が生じ正常な表示が不可能となっ
てしまい、工程歩留りを極端に低下させていた。そのた
め歩留り向上のためにも、液晶組成物の厚み(d)を3
μm前後まで厚くする必要が出てきた。
However, since it is necessary to reduce the thickness (d) of the liquid crystal composition to around 2 μm, conductive foreign matter may get mixed in between the electrodes on the first and second substrates, causing electrical problems. Short-circuiting occurred, making normal display impossible and extremely reducing process yield. Therefore, in order to improve the yield, the thickness (d) of the liquid crystal composition should be increased by 3.
It became necessary to increase the thickness to around μm.

【0010】液晶組成物の厚み(d)を3μm前後まで
厚くすると、光学異方性の値(Δn)が約0.14付近
であるので、それらの積(Δnd)が420nmとなる
ために、液晶セルの分光特性は図5に示す様に、青色付
近の光が透過していない黄色の画面となってしまってい
るため、情報量の増加に伴うカラー化には不向きな物で
あった。
When the thickness (d) of the liquid crystal composition is increased to around 3 μm, the value of optical anisotropy (Δn) is around 0.14, so the product (Δnd) of these becomes 420 nm. As shown in FIG. 5, the spectral characteristics of the liquid crystal cell result in a yellow screen that does not transmit light in the vicinity of blue, making it unsuitable for colorization as the amount of information increases.

【0011】そこで考案された手段に、ずれた位相を元
に近い状態に戻すために、STN液晶表示装置と同様に
、図6に示す様に、プラスティックによる位相差補償用
のフィルム(1)を光路上に設けて白黒化する方法等が
ある。
In order to return the shifted phase to a state close to its original state, the devised means includes a plastic phase difference compensation film (1) as shown in FIG. 6, similar to the STN liquid crystal display device. There are methods such as providing it on the optical path and converting it into black and white.

【0012】0012

【発明が解決しようとする課題】まず、第1に従来の液
晶電気光学装置では重量が重かった。2枚のガラス基板
で構成された従来の液晶表示装置は、A4サイズのパネ
ルの場合、基板部分だけで約400gある。近年、ノー
トパソコン、ノートワープロ等で求められている重量の
軽量化に障害となっていた。またSTNにおいて、位相
差補償を液晶パネルで行う場合にはさらに400gの追
加となり、障害に拍車をかけていた。
Problems to be Solved by the Invention First of all, conventional liquid crystal electro-optical devices are heavy. In the case of a conventional liquid crystal display device composed of two glass substrates, the substrate portion alone weighs approximately 400 g in the case of an A4 size panel. In recent years, this has become an obstacle to reducing the weight of notebook computers, notebook word processors, and the like. In addition, in STN, when phase difference compensation is performed using a liquid crystal panel, an additional 400 g is added, which adds to the problem.

【0013】次の問題点として、白黒化を行なうことに
よりコストの上昇につながった。液晶表示装置の製造コ
ストにおける材料費のうち、ガラス基板および位相差フ
ィルムおよび偏光フィルムの占める割合はそれぞれ約1
5%、25%、20%となっており、1位の駆動ICに
次いで、2位、3位、4位を占めている。これらの内の
何点かを削減して、コストダウンを図れるように求めら
れていた。
[0013] The next problem is that black-and-white conversion leads to an increase in cost. Glass substrates, retardation films, and polarizing films each account for approximately 1% of the material costs in the manufacturing cost of liquid crystal display devices.
They are 5%, 25%, and 20%, and are in second, third, and fourth place after drive IC, which ranks first. There was a need to reduce costs by eliminating some of these points.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】そこで本発明においては
、液晶表示装置を構成する基板に位相差補償の機能を持
たせることを、特徴としている。
[Means for Solving the Problems] Therefore, the present invention is characterized in that a substrate constituting a liquid crystal display device is provided with a phase difference compensation function.

【0015】具体的にはSTNの場合、光学異方性の値
(Δn)と基板の厚さ(d)の積(Δnd)が450n
m〜700nmである基板上に、ITO(インジューム
酸化錫)薄膜等からなる電極及びリードと、ネマチック
液晶組成物を一軸配向させる手段とを有す第1の基板と
、少なくとも400nm〜700nmの光を透過する基
板上に、電極およびリードとTN液晶組成物を一軸配向
させる手段とを有する第2の基板によって、光学異方性
の値(Δn)と層の厚さ(d)の積(Δnd)が450
nm〜900nmであるネマチック液晶組成物を挟持す
る。この場合、反射タイプの液晶表示装置として有効に
使うことが出来る。
Specifically, in the case of STN, the product (Δnd) of the optical anisotropy value (Δn) and the substrate thickness (d) is 450n.
a first substrate having electrodes and leads made of an ITO (indium tin oxide) thin film or the like, and a means for uniaxially aligning a nematic liquid crystal composition, on a substrate having a wavelength of at least 400 nm to 700 nm; The product of the optical anisotropy value (Δn) and the layer thickness (d) (Δnd ) is 450
A nematic liquid crystal composition having a wavelength of nm to 900 nm is sandwiched. In this case, it can be effectively used as a reflective type liquid crystal display device.

【0016】または、光学異方性の値(Δn)と基板の
厚さ(d)の積(Δn・d)が250nm〜450nm
である基板上に、電極およびリードとネマチック液晶組
成物を一軸配向させる手段とを有する第1の基板と、光
学異方性の値(Δn)と基板の厚さ(d)の積(Δnd
)が250nm〜450nm  である基板上に、電極
およびネマチック液晶組成物を一軸配向させる手段とを
有する第2の基板によって光学異方性の値(Δn)と層
の厚さ(d)の積(Δnd)が450nm〜900nm
であるネマチック液晶組成物を挟持する。この場合、透
過タイプの液晶表示装置として有効に使うことが出来る
Alternatively, the product (Δn·d) of the optical anisotropy value (Δn) and the substrate thickness (d) is 250 nm to 450 nm.
a first substrate having electrodes, leads, and means for uniaxially aligning a nematic liquid crystal composition, and a product (Δn) of the optical anisotropy value (Δn) and the thickness (d) of the substrate;
) is 250 nm to 450 nm, and the product ( Δnd) is 450 nm to 900 nm
A nematic liquid crystal composition is sandwiched therebetween. In this case, it can be effectively used as a transmissive type liquid crystal display device.

【0017】さらにFLCの場合、光学異方性の値(Δ
n)と基板厚さ(d)の積(Δnd)が250nm〜5
00nmである基板上に、電極およびリードを有する第
一の基板と少なくとも400nm〜700nmの光を透
過する基板上に、電極およびリードを有する第二の基板
によって、強誘電性を示す液晶組成物、および前記液晶
組成物の少なくとも初期における配向を行わせる手段を
挟持する。
Furthermore, in the case of FLC, the value of optical anisotropy (Δ
The product (Δnd) of n) and substrate thickness (d) is 250 nm to 5
A liquid crystal composition exhibiting ferroelectricity by a first substrate having electrodes and leads on a substrate of 00 nm and a second substrate having electrodes and leads on a substrate that transmits light of at least 400 nm to 700 nm. and a means for performing at least initial orientation of the liquid crystal composition.

【0018】または、光学異方性の値(Δn)と基板厚
さ(d)の積(Δnd)が100nm〜500nmであ
る基板上に、電極およびリードを有する第一の基板と光
学異方性の値(Δn)と基板厚さ(d)の積(Δnd)
が100nm〜500nmである基板上に、電極および
リードを有する第二の基板によって強誘電性を示す液晶
組成物および前記液晶組成物の少なくとも初期における
配向を行わせる手段を挟持させる。
Alternatively, a first substrate having electrodes and leads and an optical anisotropy on a substrate whose product (Δnd) of the optical anisotropy value (Δn) and the substrate thickness (d) is 100 nm to 500 nm. The product (Δnd) of the value (Δn) and the substrate thickness (d)
A liquid crystal composition exhibiting ferroelectricity and a means for orienting the liquid crystal composition at least initially are sandwiched between a second substrate having electrodes and leads on a substrate having a diameter of 100 nm to 500 nm.

【0019】[0019]

【実施例1】本実施例では図7に示す様に、第一の基板
(2)として500μm厚の延伸ポリカーボネイト基板
(4)を用いた。この基板の持つ光学異方性の値(Δn
)と基板厚さ(d)の積(Δnd)は315nmとした
Example 1 In this example, as shown in FIG. 7, a stretched polycarbonate substrate (4) with a thickness of 500 μm was used as the first substrate (2). The optical anisotropy value (Δn
) and the substrate thickness (d) (Δnd) was 315 nm.

【0020】この基板上に、DCスパッタ法によってI
TO(インジューム酸化錫)薄膜を1000Å成膜した
。その後、フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方
の辺と、概略同一寸法とする幅のストライプ状に、パタ
ーニングをして、第一の電極(5)とした。その後、印
刷法によりポリイミド薄膜を200Å印刷焼成、成膜し
、その後,ラビング法によって、液晶分子をある一定方
向に並べる手段として配向膜(6)を設けて第一の基板
とした。
I was deposited on this substrate by DC sputtering.
A TO (indium tin oxide) thin film was formed to a thickness of 1000 Å. Thereafter, using a photolithography method, patterning was performed in a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode, thereby forming a first electrode (5). Thereafter, a polyimide thin film of 200 Å was printed and fired by a printing method, and then an alignment film (6) was provided by a rubbing method as a means for arranging liquid crystal molecules in a certain direction, thereby forming a first substrate.

【0021】他方第二の基板(3)としては、  1.
1mmのソーダライムガラス(7)に、DCスパッタ法
によって、ITOを1000Å成膜した。  その後、
フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方の辺と、概
略同一寸法とする幅のストライプ状に、パターニングを
して、第一の電極(8)とした。
On the other hand, the second substrate (3) includes: 1.
A 1000 Å film of ITO was formed on 1 mm soda lime glass (7) by DC sputtering. after that,
A first electrode (8) was patterned using a photolithography method into a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode.

【0022】第1の基板(2)と第2の基板(3)の間
に、強誘電性液晶(11)、および樹脂からなる基板間
の間隔を保持するための2.6μmの径を有する酸化珪
素によるスペーサー(10)を入れ、その周囲をエポキ
シ系の接着剤(9)で固定した。この時の強誘電性液晶
のもつ光学異方性の値(Δn)は0.124であり、(
Δnd)は324nmであった。
A ferroelectric liquid crystal (11) is placed between the first substrate (2) and the second substrate (3), and has a diameter of 2.6 μm to maintain the distance between the substrates made of resin. A spacer (10) made of silicon oxide was inserted, and the periphery thereof was fixed with an epoxy adhesive (9). The optical anisotropy value (Δn) of the ferroelectric liquid crystal at this time is 0.124, and (
Δnd) was 324 nm.

【0023】その後,第1の電極(2)、第3の電極(
4)につながるリードに、COG法を用いて液晶駆動用
LSIを接続し、更に基板の外側に偏光フィルムを貼付
して液晶表示装置を得た。
After that, the first electrode (2) and the third electrode (
A liquid crystal driving LSI was connected to the leads connected to 4) using the COG method, and a polarizing film was further attached to the outside of the substrate to obtain a liquid crystal display device.

【0024】図8に本実施例における偏光軸、位相差軸
、液晶分子方向の構成を示す。(Δnd)が324nm
のとき、位相差補償をしないばあいは図9に示すような
分光特性をとることが判っている。本実施例での分光特
性は図10の様になり、白黒化が実現されている。
FIG. 8 shows the configuration of the polarization axis, retardation axis, and liquid crystal molecule direction in this embodiment. (Δnd) is 324 nm
It is known that when phase difference compensation is not performed, spectral characteristics as shown in FIG. 9 are obtained. The spectral characteristics in this example are as shown in FIG. 10, and black and white has been realized.

【0025】また、重量面では両基板にガラスを用いた
時と比較して、45%の削減となっている。
Furthermore, in terms of weight, the weight is reduced by 45% compared to when glass is used for both substrates.

【0026】[0026]

【実施例2】本実施例では図11に示す様に、第一の基
板(12)として182μm厚の延伸ポリカーボネイト
基板(13)を用いた。この基板の持つ光学異方性の値
(Δn)と基板厚さ(d)の積(Δnd)は115nm
とした。
Example 2 In this example, as shown in FIG. 11, a stretched polycarbonate substrate (13) with a thickness of 182 μm was used as the first substrate (12). The product (Δnd) of the optical anisotropy value (Δn) of this substrate and the substrate thickness (d) is 115 nm.
And so.

【0027】この基板上に、DCスパッタ法によってI
TO(インジューム酸化錫)薄膜を1000Å成膜した
。その後、フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方
の辺と、概略同一寸法とする幅のストライプ状に、パタ
ーニングをして、第一の電極(14)とした。その後、
印刷法によりポリイミド薄膜を200Å印刷焼成、成膜
し、その後,ラビング法によって、液晶分子をある一定
方向に並べる手段として配向膜(15)を設けて第一の
基板とした。
I was deposited on this substrate by DC sputtering.
A TO (indium tin oxide) thin film was formed to a thickness of 1000 Å. Thereafter, using a photolithography method, it was patterned into a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode, thereby forming a first electrode (14). after that,
A polyimide thin film of 200 Å was printed and fired by a printing method, and then an alignment film (15) was provided by a rubbing method as a means for arranging liquid crystal molecules in a certain direction, thereby forming a first substrate.

【0028】他方第二の基板(16)としては、320
μm厚の延伸ポリカーボネイト基板(17)を用いた。 この基板の持つ光学異方性の値(Δn)と基板厚さ(d
)の積(Δnd)は200nmとした。
On the other hand, as the second substrate (16), 320
A stretched polycarbonate substrate (17) with a μm thickness was used. The optical anisotropy value (Δn) of this substrate and the substrate thickness (d
) product (Δnd) was 200 nm.

【0029】この基板上に、DCスパッタ法によって、
ITOを1000Å成膜した。その後、フォトリソ法を
用いて、表示画素電極の一方の辺と、概略同一寸法とす
る幅のストライプ状に、パターニングをして、第二の電
極(18)とした。
[0029] On this substrate, by DC sputtering,
ITO was deposited to a thickness of 1000 Å. Thereafter, using a photolithography method, it was patterned into a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode, thereby forming a second electrode (18).

【0030】第1の基板(12)と第2の基板(16)
の間に、強誘電性液晶(19)、および樹脂からなる基
板間の間隔を保持するための2.6μmの径を有する酸
化珪素によるスペーサー(20)を入れ、その周囲をエ
ポキシ系の接着剤(21)で固定した。この時の強誘電
性液晶のもつ光学異方性の値(Δn)は0.124であ
り、(Δnd)は324nmであった。
[0030] First substrate (12) and second substrate (16)
A silicon oxide spacer (20) with a diameter of 2.6 μm is placed between the ferroelectric liquid crystal (19) and the resin substrate, and the periphery is covered with epoxy adhesive. (21) was fixed. The optical anisotropy value (Δn) of the ferroelectric liquid crystal at this time was 0.124, and (Δnd) was 324 nm.

【0031】その後,第一の電極(14)、第二の電極
(18)につながるリードに、COG法を用いて液晶駆
動用LSIを接続し、更に基板の外側に偏光フィルムを
貼付して液晶表示装置を得た。
[0031] After that, a liquid crystal driving LSI is connected to the leads connected to the first electrode (14) and the second electrode (18) using the COG method, and a polarizing film is attached to the outside of the substrate to connect the liquid crystal. Obtained a display device.

【0032】図12に本実施例における偏光軸、位相差
軸、液晶分子方向の構成を示す。(Δnd)が324n
mのとき、位相差補償をしない場合は図9に示すような
分光特性をとることが判っている。本実施例での分光特
性は図13の様になり、白黒化が実現されている。
FIG. 12 shows the configuration of the polarization axis, retardation axis, and liquid crystal molecule direction in this example. (Δnd) is 324n
It is known that when m, the spectral characteristics as shown in FIG. 9 are obtained when phase difference compensation is not performed. The spectral characteristics in this example are as shown in FIG. 13, and black and white is realized.

【0033】また、重量面では両基板にガラスを用いた
時と比較して、90%の削減となっている。
Furthermore, in terms of weight, the weight is reduced by 90% compared to when glass is used for both substrates.

【0034】[0034]

【実施例3】本実施例では図14に示す様に、第一の基
板(20)として500μm厚の延伸ポリカーボネイト
基板(21)を用いた。この基板の持つ光学異方性の値
(Δn)と基板厚さ(d)の積(Δnd)は315nm
とした。
Example 3 In this example, as shown in FIG. 14, a stretched polycarbonate substrate (21) with a thickness of 500 μm was used as the first substrate (20). The product (Δnd) of the optical anisotropy value (Δn) of this substrate and the substrate thickness (d) is 315 nm.
And so.

【0035】この基板上に、DCスパッタ法によってI
TO(インジューム酸化錫)薄膜を1000Å成膜した
。その後、フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方
の辺と、概略同一寸法とする幅のストライプ状に、パタ
ーニングをして、第一の電極(22)とした。その後、
印刷法によりポリイミド薄膜を200Å印刷焼成、成膜
し、その後,ラビング法によって、液晶分子をある一定
方向に並べる手段として配向膜(23)を設けて第一の
基板とした。
I was deposited on this substrate by DC sputtering.
A TO (indium tin oxide) thin film was formed to a thickness of 1000 Å. Thereafter, using a photolithography method, it was patterned into a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode, thereby forming a first electrode (22). after that,
A polyimide thin film of 200 Å was printed and fired by a printing method, and then an alignment film (23) was provided by a rubbing method as a means for arranging liquid crystal molecules in a certain direction, thereby forming a first substrate.

【0036】他方第二の基板(24)としては、  P
VAよりなる一軸性偏光をする基板(25)に、DCス
パッタ法によって、ITOを1000Å成膜した。その
後、フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方の辺と
、概略同一寸法とする幅のストライプ状に、パターニン
グをして、第二の電極(26)とした。
On the other hand, as the second substrate (24), P
ITO was deposited to a thickness of 1000 Å on a uniaxially polarized substrate (25) made of VA by DC sputtering. Thereafter, using a photolithography method, patterning was performed in a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode, thereby forming a second electrode (26).

【0037】第1の基板(20)と第2の基板(24)
の間に、強誘電性液晶(27)、および樹脂からなる基
板間の間隔を保持するための2.6μmの径を有する酸
化珪素によるスペーサー(28)を入れ、その周囲をエ
ポキシ系の接着剤(29)で固定した。この時の強誘電
性液晶のもつ光学異方性の値(Δn)は0.124であ
り、(Δnd)は324nmであった。
[0037] First substrate (20) and second substrate (24)
A silicon oxide spacer (28) with a diameter of 2.6 μm is placed between the ferroelectric liquid crystal (27) and the resin substrate, and an epoxy adhesive is placed around it. (29) was fixed. The optical anisotropy value (Δn) of the ferroelectric liquid crystal at this time was 0.124, and (Δnd) was 324 nm.

【0038】その後,第一の電極(22)、第二の電極
(26)につながるリードに、COG法を用いて液晶駆
動用LSIを接続し、更に第一の基板の外側に偏光フィ
ルムを貼付して液晶表示装置を得た。
[0038] After that, a liquid crystal driving LSI was connected to the leads connected to the first electrode (22) and the second electrode (26) using the COG method, and a polarizing film was attached to the outside of the first substrate. A liquid crystal display device was obtained.

【0039】本実施例における液晶表示装置の光学特性
は実施例1とほぼ同様であった。また、重量面では両基
板にガラスを用いた時と比較して、90%の削減となっ
ている。
The optical characteristics of the liquid crystal display device in this example were almost the same as in Example 1. Furthermore, in terms of weight, the weight is reduced by 90% compared to when glass is used for both substrates.

【0040】[0040]

【実施例4】本実施例では図15に示す様に、第一の基
板(27)として500μm厚の延伸ダイアセテート基
板(28)を用いた。この基板の持つ光学異方性の値(
Δn)と基板厚さ(d)の積(Δnd)は780nmと
した。
Example 4 In this example, as shown in FIG. 15, a stretched diacetate substrate (28) with a thickness of 500 μm was used as the first substrate (27). The optical anisotropy value of this substrate (
The product (Δnd) of Δn) and substrate thickness (d) was 780 nm.

【0041】この基板上に、DCスパッタ法によってI
TO(インジューム酸化錫)薄膜を1000Å成膜した
。その後、フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方
の辺と、概略同一寸法とする幅のストライプ状に、パタ
ーニングをして、第一の電極(29)とした。その後、
印刷法によりポリイミド薄膜を200Å印刷焼成、成膜
し、その後,ラビング法によって、液晶分子をある一定
方向に並べる手段として配向膜(30)を設けて第一の
基板とした。
I was deposited on this substrate by DC sputtering.
A TO (indium tin oxide) thin film was formed to a thickness of 1000 Å. Thereafter, using a photolithography method, it was patterned into a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode, thereby forming a first electrode (29). after that,
A polyimide thin film of 200 Å was printed and fired by a printing method, and then an alignment film (30) was provided by a rubbing method as a means for arranging liquid crystal molecules in a certain direction, thereby forming a first substrate.

【0042】他方第二の基板(31)としては、1.1
mmのソーダライムガラス(32)に、DCスパッタ法
によって、ITOを1000Å成膜した。  その後、
フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方の辺と、概
略同一寸法とする幅のストライプ状に、パターニングを
して、第二の電極(33)とした。その後、印刷法によ
りポリイミド薄膜を200Å厚さに印刷し、焼成して成
膜し、その後,ラビング法によって、液晶分子をある一
定方向に並べる手段として配向膜(34)を設けて第二
の基板とした。
On the other hand, as the second substrate (31), 1.1
ITO was deposited to a thickness of 1000 Å on soda lime glass (32) with a diameter of 10 mm by DC sputtering. after that,
A second electrode (33) was patterned using a photolithography method into a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode. After that, a polyimide thin film is printed to a thickness of 200 Å using a printing method, and then baked to form a film, and then, using a rubbing method, an alignment film (34) is provided as a means of arranging liquid crystal molecules in a certain direction, and the second substrate is formed. And so.

【0043】第1の基板(27)と第2の基板(31)
の間に、ネマチック液晶(35)、および樹脂からなる
基板間の間隔を保持するための6.8μmの径を有する
酸化珪素によるスペーサー(36)を入れ、その周囲を
エポキシ系の接着剤(37)で固定した。この時の液晶
のもつ光学異方性の値(Δn)は0.121であり、(
Δnd)は820nmであった。
[0043] First substrate (27) and second substrate (31)
A silicon oxide spacer (36) with a diameter of 6.8 μm is placed between the nematic liquid crystal (35) and the resin substrate, and an epoxy adhesive (37) is placed around it. ) was fixed. The optical anisotropy value (Δn) of the liquid crystal at this time is 0.121, and (
Δnd) was 820 nm.

【0044】その後,第一の電極(29)、第二の電極
(33)につながるリードに、COG法を用いて液晶駆
動用LSIを接続し、更に基板の外側の一方に反射タイ
プの偏光フィルム(38)を、他方に透過タイプの偏光
フィルム(39)を貼付して液晶表示装置を得た。
[0044] After that, a liquid crystal driving LSI was connected to the leads connected to the first electrode (29) and the second electrode (33) using the COG method, and a reflective type polarizing film was also attached to one of the outer sides of the substrate. (38) and a transmission type polarizing film (39) was attached to the other side to obtain a liquid crystal display device.

【0045】図16に本実施例における偏光軸、位相差
軸、液晶分子方向の構成を示す。(Δnd)が820n
mのとき、位相差補償をしないばあいは図17に示すよ
うな分光特性をとることが判っている。本実施例での分
光特性は図18の様になり、白黒化が実現されている。
FIG. 16 shows the configuration of the polarization axis, retardation axis, and liquid crystal molecule direction in this example. (Δnd) is 820n
It is known that when m, the spectral characteristics as shown in FIG. 17 are obtained if phase difference compensation is not performed. The spectral characteristics in this example are as shown in FIG. 18, and black and white is realized.

【0046】また、重量面では両基板にガラスを用いた
時と比較して、45%の削減となっている。
Furthermore, in terms of weight, the weight is reduced by 45% compared to when glass is used for both substrates.

【0047】[0047]

【実施例5】本実施例では図19に示す様に、第一の基
板(40)として500μm厚の延伸ダイアセテート基
板(41)を用いた。この基板の持つ光学異方性の値(
Δn)と基板厚さ(d)の積(Δnd)は305nmと
した。
Example 5 In this example, as shown in FIG. 19, a stretched diacetate substrate (41) with a thickness of 500 μm was used as the first substrate (40). The optical anisotropy value of this substrate (
The product (Δnd) of Δn) and substrate thickness (d) was 305 nm.

【0048】他方第二の基板(42)としては、500
μm厚の延伸ダイアセテート基板(43)を用いた。こ
の基板の持つ光学異方性の値(Δn)と基板厚さ(d)
の積(Δnd)は390nmとした。その他の工程は実
施例4と同様である。
On the other hand, as the second substrate (42), 500
A stretched diacetate substrate (43) with a μm thickness was used. The optical anisotropy value (Δn) of this substrate and the substrate thickness (d)
The product (Δnd) was 390 nm. Other steps are the same as in Example 4.

【0049】結果、重量面では両基板にガラスを用いた
時と比較して、90%の削減となっている。
As a result, the weight is reduced by 90% compared to when glass is used for both substrates.

【0050】[0050]

【実施例6】本実施例では図20に示す様に、第一の基
板(43)として500μm厚の延伸ダイアセテート基
板(44)を用いた。この基板の持つ光学異方性の値(
Δn)と基板厚さ(d)の積(Δnd)は780nmと
した。
Example 6 In this example, as shown in FIG. 20, a stretched diacetate substrate (44) with a thickness of 500 μm was used as the first substrate (43). The optical anisotropy value of this substrate (
The product (Δnd) of Δn) and substrate thickness (d) was 780 nm.

【0051】他方第二の基板(45)としては、PVA
よりなる一軸性偏光をする基板(46)に、DCスパッ
タ法によって、ITOを1000Å成膜した。その後、
フォトリソ法を用いて、表示画素電極の一方の辺と、概
略同一寸法とする幅のストライプ状に、パターニングを
して、第二の電極(47)とした。その後、印刷法によ
りポリイミド薄膜を200Å印刷焼成、成膜し、その後
,ラビング法によって、液晶分子をある一定方向に並べ
る手段として配向膜(48)を設けて第二の基板とした
。その他の工程は実施例4と同様である。
On the other hand, as the second substrate (45), PVA
A 1000 Å film of ITO was formed on a uniaxially polarized substrate (46) by DC sputtering. after that,
A second electrode (47) was patterned using a photolithography method into a stripe shape having a width approximately the same as one side of the display pixel electrode. Thereafter, a polyimide thin film of 200 Å was printed and fired by a printing method, and then an alignment film (48) was provided by a rubbing method as a means for arranging liquid crystal molecules in a certain direction, thereby forming a second substrate. Other steps are the same as in Example 4.

【0052】結果、重量面では両基板にガラスを用いた
時と比較して、90%の削減となっている。
As a result, the weight is reduced by 90% compared to when glass is used for both substrates.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明の構成によって、従来のガラス基
板を用いた液晶表示装置に比べて、重量では45〜90
%の削減が実現したとともに、製造コスト面では、15
〜25%の削減が可能になり、より軽く、安い液晶表示
装置が供給可能になった。
[Effects of the Invention] With the structure of the present invention, the weight is reduced by 45 to 90% compared to a liquid crystal display device using a conventional glass substrate.
% reduction was realized, and in terms of manufacturing costs, 15% was achieved.
A reduction of ~25% has become possible, making it possible to supply lighter and cheaper liquid crystal display devices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】TN液晶表示装置の基本概念を示す。FIG. 1 shows the basic concept of a TN liquid crystal display device.

【図2】STN液晶表示装置の基本概念を示す。FIG. 2 shows the basic concept of an STN liquid crystal display device.

【図3】FLC液晶表示装置の基本概念を示す。FIG. 3 shows the basic concept of an FLC liquid crystal display device.

【図4】Δndが280nmのときの分光特性を示す。FIG. 4 shows spectral characteristics when Δnd is 280 nm.

【図5】Δndが420nmのときの分光特性を示す。FIG. 5 shows spectral characteristics when Δnd is 420 nm.

【図6】プラスティックフィルムによる位相差補償をし
た液晶表示装置の構造を示す。
FIG. 6 shows the structure of a liquid crystal display device with phase difference compensation using a plastic film.

【図7】実施例の液晶表示装置の構造を示す。FIG. 7 shows the structure of a liquid crystal display device according to an example.

【図8】実施例の光学軸の構成を示す。FIG. 8 shows the configuration of the optical axis of the example.

【図9】Δndが324nmのときの分光特性を示す。FIG. 9 shows spectral characteristics when Δnd is 324 nm.

【図10】実施例の分光特性を示す。FIG. 10 shows spectral characteristics of Examples.

【図11】実施例の液晶表示装置の構造を示す。FIG. 11 shows the structure of a liquid crystal display device according to an example.

【図12】実施例の光学軸の構成を示す。FIG. 12 shows the configuration of the optical axis of the example.

【図13】実施例の分光特性を示す。FIG. 13 shows spectral characteristics of Examples.

【図14】実施例の液晶表示装置の構造を示す。FIG. 14 shows the structure of a liquid crystal display device according to an example.

【図15】実施例の液晶表示装置の構造を示す。FIG. 15 shows the structure of a liquid crystal display device according to an example.

【図16】実施例の光学軸の構成を示す。FIG. 16 shows the configuration of the optical axis of the example.

【図17】Δndが820nmのときの分光特性を示す
FIG. 17 shows spectral characteristics when Δnd is 820 nm.

【図18】実施例の分光特性を示す。FIG. 18 shows spectral characteristics of Examples.

【図19】実施例の液晶表示装置の構造を示す。FIG. 19 shows the structure of a liquid crystal display device according to an example.

【図20】実施例の液晶表示装置の構造を示す。FIG. 20 shows the structure of a liquid crystal display device according to an example.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光学異方性の値(Δn)と基板厚さ(d)
の積(Δnd)が250nm〜500nmである基板上
に、電極およびリードを有する第一の基板と少なくとも
400nm〜700nmの光を透過する基板上に、電極
およびリードを有する第二の基板によって、強誘電性を
示す液晶組成物、および前記液晶組成物の少なくとも初
期における配向を行わせる手段を挟持することを特徴と
する液晶光学装置。
Claim 1: Value of optical anisotropy (Δn) and substrate thickness (d)
A first substrate having electrodes and leads on a substrate whose product (Δnd) of 1. A liquid crystal optical device comprising a liquid crystal composition exhibiting dielectric properties and a means for orienting the liquid crystal composition at least initially.
【請求項2】光学異方性の値(Δn)と基板厚さ(d)
の積(Δnd)が100nm〜500nmである基板上
に、電極およびリードを有する第一の基板と光学異方性
の値(Δn)と基板厚さ(d)の積(Δnd)が100
nm〜500nmである基板上に、電極およびリードを
有する第二の基板によって強誘電性を示す液晶組成物お
よび前記液晶組成物の少なくとも初期における配向を行
わせる手段を挟持することを特徴とする液晶光学装置。
Claim 2: Value of optical anisotropy (Δn) and substrate thickness (d)
The product (Δnd) of the first substrate having electrodes and leads and the optical anisotropy value (Δn) and the substrate thickness (d) is 100 nm to 500 nm.
A liquid crystal characterized in that a liquid crystal composition exhibiting ferroelectricity and a means for performing at least initial orientation of the liquid crystal composition are sandwiched between a substrate having a diameter of nm to 500 nm and a second substrate having electrodes and leads. optical equipment.
【請求項3】光学異方性の値(Δn)と基板厚さ(d)
の積(Δnd)が250nm〜500nmである基板上
に、電極およびリードを有する第一の基板と一軸の偏光
方向を有する基板上に、電極およびリードを有する第二
の基板によって、強誘電性を示す液晶組成物、および前
記液晶組成物の少なくとも初期における配向を行わせる
手段を挟持することを特徴とする液晶光学装置。
Claim 3: Value of optical anisotropy (Δn) and substrate thickness (d)
A first substrate having electrodes and leads on a substrate with a product (Δnd) of 250 nm to 500 nm, and a second substrate having electrodes and leads on a substrate having a uniaxial polarization direction. 1. A liquid crystal optical device comprising: a liquid crystal composition as shown in FIG.
【請求項4】光学異方性の値(Δn)と基板の厚さ(d
)の積(Δnd)が450nm〜900nmである基板
上に、電極及びリードと、ネマチック液晶組成物を一軸
配向させる手段とを有す第1の基板と、少なくとも40
0nm〜700nmの光を透過する基板上に、電極およ
びリードとネマチック液晶組成物を一軸配向させる手段
とを有する第2の基板によって、光学異方性の値(Δn
)と層の厚さ(d)の積(Δnd)が450nm〜90
0nmであるネマチック液晶組成物を挟持することを特
徴とする液晶光学装置。
Claim 4: Optical anisotropy value (Δn) and substrate thickness (d
) having a product (Δnd) of 450 nm to 900 nm, a first substrate having electrodes and leads, and means for uniaxially aligning a nematic liquid crystal composition;
The optical anisotropy value (Δn
) and layer thickness (d) (Δnd) is 450 nm to 90
A liquid crystal optical device characterized by sandwiching a nematic liquid crystal composition having a thickness of 0 nm.
【請求項5】光学異方性の値(Δn)と基板の厚さ(d
)の積(Δn・d)が250nm〜450nmである基
板上に、電極およびリードとネマチック液晶組成物を一
軸配向させる手段とを有する第1の基板と、光学異方性
の値(Δn)と基板の厚さ(d)の積(Δnd)が25
0nm〜450nm  である基板上に、電極およびネ
マチック液晶組成物を一軸配向させる手段とを有する第
2の基板によって光学異方性の値(Δn)と層の厚さ(
d)の積(Δnd)が450nm〜900nmであるネ
マチック液晶組成物を挟持することを特徴とする液晶光
学装置
5. Optical anisotropy value (Δn) and substrate thickness (d
) has a product (Δn d) of 250 nm to 450 nm, a first substrate having an electrode, a lead, and a means for uniaxially aligning a nematic liquid crystal composition; The product (Δnd) of the substrate thickness (d) is 25
The optical anisotropy value (Δn) and the layer thickness (
A liquid crystal optical device characterized by sandwiching a nematic liquid crystal composition having a product (Δnd) of d) of 450 nm to 900 nm.
【請求項6】光学異方性の値(Δn)と基板の厚さ(d
)の積(Δnd)が450nm〜900nmである基板
上に、電極及びリードと、ネマチック液晶組成物を一軸
配向させる手段とを有す第1の基板と、一軸の偏光方向
を有する基板上に、電極およびリードとネマチック液晶
組成物を一軸配向させる手段とを有する第2の基板によ
って、光学異方性の値(Δn)と層の厚さ(d)の積(
Δnd)が450nm〜900nmであるネマチック液
晶組成物を挟持することを特徴とする液晶光学装置。
Claim 6: Optical anisotropy value (Δn) and substrate thickness (d
) has a product (Δnd) of 450 nm to 900 nm, a first substrate having electrodes and leads, and means for uniaxially aligning a nematic liquid crystal composition; and a substrate having a uniaxial polarization direction; By means of a second substrate having electrodes and leads and means for uniaxially aligning the nematic liquid crystal composition, the product of the optical anisotropy value (Δn) and the layer thickness (d) (
A liquid crystal optical device characterized in that a nematic liquid crystal composition having a Δnd) of 450 nm to 900 nm is sandwiched therebetween.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5534675A (en) * 1988-11-01 1996-07-09 Sodick Co., Ltd. Power supply system for electric discharge machines

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01217316A (en) * 1988-02-26 1989-08-30 Hitachi Ltd Liquid crystal display element
JPH02228628A (en) * 1989-03-01 1990-09-11 Canon Inc Ferroelectric high polymer liquid crystal element
JPH02247616A (en) * 1989-03-22 1990-10-03 Canon Inc High-polymer liquid crystal element
JPH0416919A (en) * 1990-05-11 1992-01-21 Ricoh Co Ltd Optical phase plate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01217316A (en) * 1988-02-26 1989-08-30 Hitachi Ltd Liquid crystal display element
JPH02228628A (en) * 1989-03-01 1990-09-11 Canon Inc Ferroelectric high polymer liquid crystal element
JPH02247616A (en) * 1989-03-22 1990-10-03 Canon Inc High-polymer liquid crystal element
JPH0416919A (en) * 1990-05-11 1992-01-21 Ricoh Co Ltd Optical phase plate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5534675A (en) * 1988-11-01 1996-07-09 Sodick Co., Ltd. Power supply system for electric discharge machines

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