JPH04231052A - 過酸とプラズマを用いる殺菌方法 - Google Patents

過酸とプラズマを用いる殺菌方法

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JPH04231052A
JPH04231052A JP3135835A JP13583591A JPH04231052A JP H04231052 A JPH04231052 A JP H04231052A JP 3135835 A JP3135835 A JP 3135835A JP 13583591 A JP13583591 A JP 13583591A JP H04231052 A JPH04231052 A JP H04231052A
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plasma
peracid
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oxygen
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Bryant A Campbell
ブライアント エイ. カンブル
Kern A Moulton
カーン エイ. モルトン
Ross A Caputo
ロス エイ. カプト
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    • A61L2/00Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
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    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
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    • A61L2/20Gaseous substances, e.g. vapours

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、抗菌性過酸類とガスプ
ラズマを用いるプラズマ殺菌方法に関する。さらに詳し
くいえば、本発明は殺菌されるべき物品を、その物品に
ついている微生物や胞子を殺すために、抗菌性過酸類と
ガスプラズマに逐次曝露する方法に関する。
【0002】
【発明の背景】過去から、数々のガス殺菌法についての
調査がなされてきている。医薬品の準備から外科用具の
消毒に至るまでの医療製品の広い範囲に渡る殺菌に渡っ
てエチレンオキシドやその他の消毒用のガスを用いる方
法が行なわれてきた。照射のみによるかまたは殺菌用の
ガスと一緒に用いる方法についても同様に調査されてき
て、それはラッセル等による“バクテリアの胞子の破壊
”に要約されており、出版社はニューヨークのアカデミ
ックプレス(1982年発行)である。殺菌方法は胞子
を含む全ての有機体を殺菌されるべき物質や商品に損傷
を与えることなく効果的に殺す必要がある。なぜならば
この範疇にある多くの殺菌性のガス,例えばエチレンオ
キシドと照射方法は作業者を照射し環境に対する安全上
の障害があると認識されるに至った。州または連邦の法
制が作業環境において、例えばエチレンオキシド(カル
シノーゲン,発癌性物質)のような有害ガスの総量と毒
性の残留物とか排出物を生成するようないかなるシステ
ムや方法の使用に対して厳密な制限を施している。これ
らが病院とかその他の健康の領域において大変な危機を
もたらしている。
【0003】
【従来の技術】殺菌性のプラズマは非常に多岐に渡るガ
スから発生させられ、アルゴン,ヘリウム,またはキセ
ノン(米国特許No.3,851,436)、アルゴン
,窒素,酸素,ヘリウム,またはキセノン(米国特許N
o.3,948,601)、グルタールアルデヒド(米
国特許No.4,207,286)、酸素(米国特許N
o.4,321,232)、酸素,窒素,ヘリウム,ア
ルゴン,またはフレオンをパルス圧的に発生させるもの
(米国特許No.4,348,357)、および過酸化
水素(米国特許No.4,643,876と4,756
,882)。高周波電界において発生させられるオゾン
と単一酸素による殺菌については米国特許No.4,6
40,782に記述されている。対抗力を持っている胞
子を殺すために必要だと見なされているプラズマ処理は
パッケージング材料の多くのもののためには強すぎるこ
とがわかった。
【0004】典型的なプラズマの発生と殺菌室と結合さ
せたプラズマ殺菌システムの典型的な先行技術として米
国特許No.4,643,876を挙げることができる
。これらのシステムにおいて、プラズマは過酸化水素蒸
気またはその残留物から発生させられ、そして殺菌され
るべき物質は直接にプラズマを発生させる電磁界に晒さ
れる。物品の表面の近傍におけるその場所におけるイオ
ンとこのイオンと自由基の発生はこの静的なプロセスの
最も重要な部分とみなされている。残存する過酸化水素
を除去するために抗菌性の過酸化水素前処理が物質の電
磁界プラズマ発生環境への露出と組み合わされて用いら
れてきている。この過程は静的である。すなわち、プラ
ズマは当初閉じられた室内のガス中に発生させられる。 そして物品は本発明の過程のように水素と酸素と不活性
ガスの混合器から発生されたプラズマに晒されない。こ
のシステムはイオンと自由基がこのプロセスの高温状態
に存在することによる強力な酸化性質によりプラスチッ
クやセルローズの容器を分解する傾向がある。容器の破
壊を防ぐための処理時間の制限は胞子の不完全な殺菌率
を発生することになる。
【0005】米国特許No.3,851,436および
3,948,601に記述されているプラズマガス殺菌
システムは分離された高周波プラズマ発生室と殺菌室と
を備えている。アルゴン,ヘリウム,窒素,酸素,また
はキセノンが存在するプラズマ発生室中で発生させられ
たガスプラズマは別に設けられている殺菌されるべき物
体が含まれている真空容器に送られる。これらのシステ
ムはセルローズ容器の内部の殺菌を行なうために不十分
であって、その理由は酸化性のプラズマ生成物が容器材
料の品質を損なうからである。それらは容器を損なうこ
となしに満足すべき胞子の殺傷率を得ることができない
【0006】オゾンを用いることによりプラズマガスを
用いない殺菌工程は(米国特許No.3,704,09
6)に、過酸化水素を用いたものは(米国特許No.4
,169,123、4,169,124、4,230,
663、4,289,728、4,366,125、4
,437,567および4,643,876)に示され
ている。しかしながら、これらの工程は完全に効果的な
ものであるとは言いがたいし、また殺菌された物質上に
有害な残留物を残す。
【0007】過酸物質を用いた殺菌工程は例えば東独特
許出願番号No.268,396、EPO特許出願公開
No.109,352A1および英国特許No.2,2
14,081に示されている。過酢酸単独またはそれら
とエタノールと過酸化水素を含む結合物との組み合わせ
の殺胞子的な組み合わせについてはリーパー,Sによっ
て、フッドマイクロバイオロジー1:199−203(
1984年);およびリーパー,S.その他によりジャ
ーナル  オブ  アプライド  バイオロジー64:
183−186(1988年)、リーパー,Sのジャー
ナル  オブフッドテクノロジー  19:695−7
02(1984年)に示されている。これらの方法はセ
ルローズとかその他の過酸類に対して反応性を示す材料
1容器の中の内容物を殺菌するのには効果的ではない。
【0008】前述した装置と方法は、多くの殺菌対象に
対して、100%の有効殺菌率を達成することができな
い。多くの場合,高い殺胞子率を得ようとする過程にお
いて物品や容器に損傷を与える。その結果として、それ
らは全ての目的,100%の効果的な殺菌システムとプ
ロセスを提供するという必然的な目標に到達することが
できない。
【0009】
【発明の要約と目的】本発明によるプラズマ殺菌の過程
は、殺菌されるべき物質を過酸抗微生物剤により前処理
をして、それから殺菌用のガスプラズマに露出させる。 過酸抗菌性剤は飽和また不飽和の過アルカノイックアシ
ド(脂肪族過酸)であって、1〜8の炭素を含むものお
よびそれらのハロゲン化誘導体から選ばれたものであり
、好ましくは過酢酸蒸気である。過酸前処理時間は全て
の物質の表面を過酸に晒すことによって成され、好まし
くは部分的な真空状態における5から15分の蒸気処理
が好ましい。それらのガスはアルゴン,ヘリウム,窒素
,酸素,水素,それらの混合物の中のグループであり、
プラズマへの曝露は0.1から10トールの圧力で室内
の温度が80℃以下で行なわれる。
【0010】好ましい工程においてはプラズマはプラズ
マ発生装置によって生成され、それは殺菌室に導かれる
。殺菌されるべき物体は殺菌室の中に配置されている。 過酸抗微生物剤の蒸気はそこに存在する物質を晒すため
に殺菌室に導かれて前処理がなされ、殺菌室の圧力は1
0トールを越えないように減圧させられ、プラズマはそ
の後に殺菌室に導かれる。
【0011】好ましいガスプラズマはアルゴン,ヘリウ
ム,窒素,またはこれらの混合物,1〜20%の酸素か
ら1〜20%の水素の混合物、好ましくは1〜10%(
V/V)の酸素と3〜7%(V/V)の水素からの混合
物から発生させられる。物品は多孔性の容器の中にしま
われることができて、その容器は処理の間中プラズマガ
スによって囲まれている。多孔性の容器は含水炭素の組
成を含むことができる。健康関連の環境下において使用
されるあらゆる物品であって、金属性の物品と多孔性の
セルローズ性の材料から形成された無菌容器の中に含ま
れる物品を使用して全ての物品を100%の胞子殺菌率
を提供することができる工程を提供することである。 本発明のさらに他の目的は低い圧力で低い温度のプラズ
マ殺菌プロセスであって、容器の安全性を損なうことな
く100%の効率を上げることができる工程を提供する
ことにある。
【0012】
【実施例】病院では本来的に殺菌の手段として殺菌剤と
か蒸気圧力釜に頼っていた。ごく最近になって、エチレ
ンオキシドガスが包装された品物や薬品や医療品の殺菌
に利用されるようになってきたので、病院はこれらの手
続きに多く依存するようになってきた。ところが、エチ
レンオキシドは現在は危険な発癌物質であるということ
が知られるようになり、多くの州の法律は作業者の安全
と環境を守るために病院内においてエチレンオキシドの
これ以上の使用を避けるように規定している。
【0013】多種類のガスを使用するガスプラズマ殺菌
について多くの文献が書かれている。しかしながら、ほ
とんど商業化されていない。例えば米国特許4,643
,876に記述されている1つのシステムは、物品を殺
菌されるべきそれが電磁界が生成するプラズマの中に置
かれる前に過酸化水素で前処理をするものである。この
方法は過酸化水素の残留が電磁界の中に存在し、過酸化
水素からの活性化された生成物が製造され、引続き過酸
化水素の残留物を除去しなければならない。このシステ
ムは非金属の物品の処理に適しており、その理由は集中
された金属性の物品の熱がプラズマ生成電磁界の中で金
属材料の影響により不安定になるからである。この特許
されたシステムは第1次的に非金属の包装されたパッケ
ージのために設計されたものである。しかしながら、過
酸化水素の前処理を行なっても包装材料を著しく損なう
ほどの処理をしない限りにおいて100%の殺菌率は得
られない。
【0014】過酢酸のような過酸は、それらの残留物が
耐えられるものであるか、または簡単に除去されるか,
あるいは十分な曝露時間が与えられる場合においては、
殺菌剤としてよく知られている。しかしながら、それら
は過酸化よりは活性でない。それらは通常のセルローズ
の殺菌容器,通常の健康関連の分野において殺菌容器と
して使用されるセルローズの容器中に入れられた殺菌さ
れるべき品物に対しては効果がないということが知られ
ている。
【0015】本発明は包装されたものも包装されない物
質でも過酸抗微生物剤,好ましくは過酸蒸気によって前
処理を行なうならば、包装材料を破壊することなく引き
続く殺菌プラズマガスにその物品を晒すことにより、そ
れらの容器包装を破損することなく100%の殺菌が可
能であるという発見に基づいている。ここにおいて使用
される前処理という言葉は、少なくとも本発明の工程に
おいて過酸で物品を1回処理し、この処理に引き続いて
ガス状のプラズマ生成品によって処理される。この過酸
で行なわれる前処理は1またはそれ以上のプラズマ処理
が続き、1回以上のプラズマ処理が行なわれることがあ
る。過酸およびプラズマガス処理の任意の数の繰り返し
は胞子の全殺傷および最も抵抗力のあるものが用いられ
た場合の全殺傷が行なわれる。過酸およびプラズマガス
処理の組み合わせは、胞子の殺傷率の達成において相乗
的であり、過酸だけまたはプラズマガスだけによって達
成されるものを越えるものであるが、材料の包装の安全
性を保全している。
【0016】本発明で用いられるプラズマはガスヘリウ
ム,窒素,酸素または水素,好ましくは不活性ガスと炭
酸ガスを含むガスの混合物から製造されたプラズマが用
いられる。窒素はそれが毒性を持つ残留物となることか
ら好ましくない。排気ガス製品は完全に現在の環境と労
働安全の問題を満足しており、プラズマの生成品はほと
んど水蒸気である。水蒸気,二酸化炭素と毒性を持たな
いガスであり、それらは通常,大気中に存在するもので
ある。
【0017】ここで用いられる“プラズマ”という言葉
は、加えられる電解または電磁界,それらから派生的に
発生する放射によって発生させられる電子,イオン,自
由基,解離分離されるかまたは励起された原子または分
子を含むいかなるガス,または蒸気を含むものである。 電磁界は広い周波数帯域を含むものであって、それらは
マグネトロン,クライストロンまたは高周波コイルによ
って生成される。実態を明確にし,制限的な意味ではな
くて、ここでは電磁界発生源としてマグネトロンを使用
するものについて記述するが、プラズマの生成に必要で
ある電磁界発生源として本発明ではマグネトロン,クラ
イストロン管,高周波コイル等々を利用することができ
る。
【0018】ここで用いられる“パーアシッド(過酸類
)”は、良く知られている過酸抗微生物剤、例えば飽和
または不飽和の過酸(ペルオキシ)脂肪類であって、過
酸(ペルオキシ)芳香族を含み1〜8の炭素原子を持つ
もの、およびそれらのハロゲン化誘導体を含むものであ
る。
【0019】適当な過酸類の例としては、良く知られて
いる過酢酸,ハロゲン化された過酢酸,過ギ酸,過プロ
ピオン酸,ハロゲン化された過プロピオン酸,過ブタン
酸とそのハロゲン化誘導体,イリ吉草酸とそのハロゲン
化誘導体,過カプロン酸とそのハロゲン化誘導体,カル
トン酸,モノペルコハク酸,モノペルグルタル酸,過安
息香がある。ハロゲン化された過酸は1またはそれ以上
のクロロ,ブロム,ヨウドまたはフルオロ群を含む。好
ましい過酸類は効果的な殺胞子蒸気を80℃以下の温度
によって蒸気密度が得られるように、十分揮発性を持つ
ものであることが望ましい。
【0020】ここで用いる“スターリゼイション(殺菌
)”という言葉は、全てそこに生存する形の微生物を破
壊するか,またはそれから除去するプロセスをさす。 微生物は化学機械的なエネルギーによって一時的に殺さ
れるが、これは通常生存の可能性という言葉の中で殺傷
率を規定する。現実的な殺菌過程の目的は通常確率的な
ものとして測定され(例えば10−3,10−6,10
−12 )というように測定されるが、この確率は特定
の殺菌投与または支配の致死効果を示すものである。一
連の殺菌条件における露出時間を増加することは生存の
確率を減少させることに繋がる。殺菌時間を理想的な条
件の2倍にすることは確率の項を指数関数的に2倍する
ことになり、例えば10−6の場合には10−12 に
なる。
【0021】本発明におけるプロセスは殺菌されるべき
物品を過酸抗微生物剤により前処理を行い、それからプ
ラズマガスに晒すことを含んでいる。過酸による前処理
は説明を明確にするために過酢酸について行なわれるが
、これは限定的な意味ではなく、全ての適当な過酸抗微
生物剤はこの発明の範囲内に含まれるものである。
【0022】過酸処理は物品を抗微生物濃度を持つ過酸
の水溶液または過酸の蒸気に接触させることによって可
能である。好ましくは過酸前処理は殺菌されるべき物品
を1〜35%(V/V)に接触させ、好ましくは6〜1
2%(V/V)の過酸に全ての物品をしばらくの間,そ
の蒸気が全ての物品の表面に接触するように、その物品
が包装されていようがいまいが接触させるようにする。 露出時間は好ましくは5〜15分間である。過酸の曝露
は20℃〜80℃、好ましくは40℃〜60℃の範囲で
行なわれる。
【0023】ある過酸類はある濃度にあるときには上昇
された温度下において爆発性を持っている。この理由に
より、過酢酸は通常は水溶液の状態で35重量%以下に
おいて輸送されたり、貯蔵されたりしている。過酢酸溶
液は容易に揮発するものであって、本発明における物品
の効果的な処理のために物品は過酢酸蒸気に1〜8トー
ルの圧力範囲内で触れさせられ、圧力の下限は過酢酸の
濃度が効果的である限度に一致する。
【0024】本発明の好ましい工程によれば、過酸前処
理は殺菌室に蒸気を導入することにより成され、物品は
プラズマに晒される前に前処理される。本発明を実施す
るために好ましいプラズマ殺菌システムは同時に出願さ
れている米国特許出願No.07/475,602、1
990年2月6日出願のものにその全容が示されている
【0025】図1に装置の具体例が示されている。図1
は平面図であって、図2はこの発明による単一導波管プ
ラズマ殺菌装置の正面図である。このプラズマ殺菌装置
は、プラズマ発生器2と殺菌室4を持っている。プラズ
マ発生器2は電磁界発生器,例えばマグネトロン6と導
波管8を持っており、導波管8は電磁界を導く。プラズ
マ発生源となるガスはプラズマ発生および配送管10,
12,14に制御バルブの複合体20に接続されている
ガス配送管16,18,20によって供給されている。 ここのガスは図示されていない加圧されたガス源から線
24,25および26によって導かれている。弁複合体
22中における制御バルブの操作は標準的な手続きに基
づいて中央処理装置(CPU)28によって行なわれる
。制御弁と中央処理装置はプラズマ発生装置におけるガ
ス流制御に通常用いられている標準的な装置に使用され
ている通常の従来装置を利用できる。
【0026】殺菌室4は上板30,側板32と34,底
板36,裏板37と表面の密封ドア38を含んでおり、
殺菌されるべき材料はその密封用のドアのところから室
内に配置される。それらの板等は密封して真空室を形成
するために、例えば溶接等によって機密構造に接続され
ている。ドア38は密封室に対して密封状態を形成する
関係で取付けられている。ドアは上か横かまたは底で、
通常のヒンジピン(構造は図示されていない)横と上と
下の板にそれぞれ設けられているOリングシール材の表
面に揺動して突き当てられて止まるように設けられ、内
部真空容器の圧力と外部の大気圧の差によってぴったり
と所定の位置に保たれる。
【0027】板とドアは容器が真空にされたときに、外
部の大気圧に耐えるような力を持つ適当な材料から作ら
れている。ステンレス鋼とかアルミの板やドアが好まし
い。室内の外表面の材料が非常に重要であって、それが
室内の殺菌に非常な影響を与える。理想的な材料は純粋
なアルミニウム(98%)であり、それはライナまたは
火炎溶射によってステンレス鋼の室内の全ての壁に形成
される。代替の材料としてニッケルをあげることができ
る。
【0028】抗微生物,添加物は溶液または気体の形で
導管25から供給ポート39(図示せず)に導入される
。ガスは殺菌室から排出口42から遮断弁43と排気管
45(図示せず)から通常の真空ポンプシステム(図示
されていない)を介して排出される。
【0029】図3は図1および図2に示したプラズマ殺
菌の具体例の平面図であって、図2の線3−3に沿って
切断して示された平面断面図である。図4は図1と図3
に示されているプラズマ殺菌機の実施例の側断面図であ
って、図3の線4−4に沿って切断して示されている。 各々のプラズマ発生器10,12と14はガス導入ポー
ト46,48,45を持つキャップ44を含んでおり、
それぞれのガス発生管51,52,53につながってお
り、それらのガス発生管は導波管8の中を通っている。 導波管8の中でガスは励起されて管51,52,53へ
プラズマに変換されて管51,52,53に送られる。 ガス発生管はプラズマをガス分配管54,56,58に
導き、それからプラズマは殺菌室60に供給される。ガ
ス発生管は、円筒状の金属の冷却管62と64に囲まれ
ている。キャップ44と冷却管62と64は好ましくは
溝または冷却ひれ(図示せず)が通常の方法によってそ
れらからガス発生装置からの熱を効果的に除去するため
に設けられている。ガス分配管54,56,58の終端
部は側板32に設けられているばね付勢による支持体6
6によって支持されている。
【0030】ドア38は側板32,34と上板と底板3
0と36(図示されていない)から延びているフランジ
41上に設けられているOリングシール40に対して大
気圧によって密着させられ保持されている。必要ならば
通常の閉じクランプまたはラッチ装置をこの殺菌室が当
初排気される以前の安全のために設けることができる。
【0031】図5,図6および図7はガス分配管54,
58,56の断面図であって、ガス分配の分配口が設け
られている角度位置を示している。排出口は殺菌される
物が配置される殺菌室60の下側の部分の全てにプラズ
マが流れていくように設けられている。図5に示されて
いる管54は裏板37に近接して設けられているもので
あり、プラズマガスを下側と容器の下側の中心部に向け
るように排出ポート70と72が設けられている。図6
に示されている管58はドア38に近接して設けられて
いるものであり、プラズマガスを下側と殺菌室の中央底
部に導くための排出ポート74と76がそれぞれ設けら
れている。図7に示されている管56は、殺菌室6の中
央の部分に配置されているものであり、プラズマガスを
横方向に向けるための排出口78と80を備えている。 分配管に設けられている排出ポートは代表的なものを示
したものであって、他のいかなる形状にも変えることが
できるものであって、室内の殺菌領域または複数の殺菌
領域に理想的にプラズマの分布を作る形状となし得る。 1つの円周方向の配列のみを示したが、各々の管は1以
上の角度方向の排出ポートの配列が可能であって、各々
は管の長さ方向に沿って異なる角度になし得るものであ
る。排出ポートの角度の配列と位置は殺菌されるべき物
品が容器にどのようにして殺菌されるかによって選択さ
れるべきである。
【0032】プラズマは殺菌室に放出される前に方向、
好ましくは90度方向、に変えられる。これによって、
高温のプラズマが殺菌中の物品に直接突入することを妨
げ、プラズマ中の活性化された酸素によって壊れやすい
容器の材料の酸化を大幅に減少させることができる。こ
の装置は酸素の混合物から殺菌プラズマを発射するのに
用いられる,すなわちアルゴン,ヘリウム,およびまた
は窒素または水素または空気と水素の混合物であって、
好ましい比を得るために酸素または窒素を補充する。殺
菌は0.1から10トールの真空状態において行なわれ
、より好ましくは1〜3トールである。殺菌室の温度は
80℃以下に維持され、好ましくは40℃から60℃に
維持される。この状況下において、有効な殺菌がその中
に殺菌されるべき材料が封入されて殺菌室に配置される
かなり壊れやすい容器を損なうことなく、有効な殺菌が
可能である。
【0033】過酸の処理に引き続いて、殺菌室は10ト
ール以下に配置される。それから物品はアルゴン,ヘリ
ウム,または酸素または水素と混合された窒素から0.
1から10トールの圧力下で処置時間が少なくとも5,
好ましくは10から15分間晒される。殺菌のために包
装されている品物にプラズマが発生させられたガスの混
合物は1〜21%(V/V)の酸素と1〜20%(V/
V)の水素がアルゴン,ヘリウムおよび窒素と適宜入れ
られる不活性ガスを含んでいる。容器を殺菌するための
プラズマが発生するガス混合物は好ましくは1〜10%
(V/V)の酸素と2〜8%(V/V)の水素と、理想
的には2〜8%(V/V)の酸素と3〜7%(V/V)
の水素を含んでいる。容器は少なくとも15分間,好ま
しくは1〜5時間処理される。本発明による、好適な実
施例の過程は殺菌室内に殺菌されるべき材料を置いてか
ら次の工程を含むものである。 1.殺菌室は0.1トールまで排気された後に真空ポン
プと殺菌室間の遮断バルブが閉じられる。 2.過酢酸1ml,10重量%の溶液の形で室内に蒸気
を形成するために入れられるか、または2mg/L過酢
酸の密度を持つに十分な過酢酸蒸気が導入される。 3.過酢酸蒸気による曝露は拡散物質が十分に浸透する
時間続けられる。例えば5〜120分である。通常は5
〜15分の曝露で十分である。 4.部屋は0.1トールまで排気される。 5.プラズマ容器の中に処理ガス(プロセスガス)が導
入される。好ましくは1分間5リットルの流量率で理想
的には1分間3〜4リットルである。 6.マグネトロンが付勢されることにより、プラズマ物
質が生成されて殺菌室に流し込まれる。 7.プラズマ処理が5〜30分間続けられ、最適なのは
5〜10分である。 8.マグネトロンが滅勢されて処置ガスのプラズマ室へ
流し込みが止められる。 9.ステップ1〜8が全ての胞子が殺菌されるまで繰り
返される。 10. ポンプと室間の遮断弁が閉じられ、室は大気に
流通させられる。殺菌室はポンプでひかれて部分的に排
気され、酸性の蒸気を大気中に排出させる前に除去する
【0034】
【発明の効果】上記の方法による殺菌はプラズマだけ,
または過酸だけを用いるものに比べて少ない回数で可能
であり、さらにプラズマと過酢酸それぞれだけでは制限
されていたのに対してあらゆる材料に対して効果的であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるプラズマ殺菌機の平面図である。
【図2】図1のプラズマ殺菌機の正面図である。
【図3】図1と,図2のプラズマ殺菌機を図2の線3−
3で切断して示した断面図である。
【図4】図3の線4−4によって切断されたプラズマ殺
菌機の断面図である。
【図5】図3の線5−5に沿って切断したチューブ54
の断面図である。
【図6】図3の線6−6に沿って管58を切断して示し
た断面図である。
【図7】図3の線7−7に沿って管56を切断して示し
た断面図である。
【符号の説明】 2  プラズマ発生器 4  殺菌室 6  マグネトロン 8  導波管 10,12,14  発生管(給送管)16,18,2
0  給送管 22  制御弁複合体 24,25,26  配管 28  中央処理装置(CPU) 30  上板 32,34  側板 36  底板 37  裏板 38  ドア 40  Oリング(シール) 41  フランジ 42  排出口(ポート) 43  遮断弁 44  キャップ(入口) 46,48,50  入口ポート 51,52,53  ガス発生管 54,56,58  ガス分配管 60  殺菌室 62,64  金属の冷却管 66  支持体(ばね)

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  プラズマ殺菌の方法であって、以下の
    プロセスを含む、殺菌されるべき物品を過酸抗菌剤にそ
    の物品の表面が過酸に曝露されるべき十分な時間前処理
    を行ない、それからその物品をアルゴン,ヘリウム,窒
    素,酸素,水素,またはそれらの混合物から選ばれたガ
    スから発生されたプラズマに晒し、前記プラズマへの曝
    露は0.1から10トールで室内の温度が80℃であり
    殺菌効果が十分に得られる期間である過酸とプラズマを
    用いる殺菌方法。
  2. 【請求項2】  請求項1記載の方法において前記過酸
    抗菌剤は1から8の炭素原子を含む飽和または不飽和の
    過酸脂肪類とそれらのハロゲン化誘導体から選ばれたも
    のである過酸とプラズマを用いる殺菌方法。
  3. 【請求項3】  請求項2記載の方法において前記過酸
    抗菌剤は過酢酸である過酸とプラズマを用いる殺菌方法
  4. 【請求項4】  請求項3記載の方法において前記過酢
    酸は蒸気である過酸とプラズマを用いる殺菌方法。
  5. 【請求項5】  請求項4記載の方法において前記前処
    理は5〜15分間部分的な真空下において行なわれる過
    酸とプラズマを用いる殺菌方法。
  6. 【請求項6】  請求項1記載の方法において前記プラ
    ズマはプラズマ発生器により発生させられ、殺菌室に供
    給され、その殺菌室には殺菌されるべき物品が配置され
    ている過酸とプラズマを用いる殺菌方法。
  7. 【請求項7】  請求項6記載の方法において前記過酸
    抗菌剤蒸気はそこに配置されている予め処理された物品
    を曝露するために殺菌室に導かれる過酸とプラズマを用
    いる殺菌方法。
  8. 【請求項8】  請求項7記載の方法において前記前処
    理の後で殺菌室の圧力は10トールを越えない圧力に減
    圧され、その後にプラズマが殺菌室に導かれる過酸とプ
    ラズマを用いる殺菌方法。
  9. 【請求項9】  請求項1記載の方法において前記プラ
    ズマは実質的にアルゴン,ヘリウム,窒素またはそれら
    の混合物,気体から発生させられ1〜20%(V/V)
    の酸素と1〜20%(V/V)の水素である過酸とプラ
    ズマを用いる殺菌方法。
  10. 【請求項10】  請求項9記載の方法において前記ガ
    スプラズマは1〜10%(V/V)の酸素と3〜10%
    (V/V)の水素の混合気体から発生させられるもので
    ある過酸とプラズマを用いる殺菌方法。
  11. 【請求項11】  請求項1記載の方法において前記物
    品は多孔性の容器の中にしまわれており、前記容器は処
    置の間、ガスプラズマによって包囲される過酸とプラズ
    マを用いる殺菌方法。
  12. 【請求項12】  請求項11記載の方法において前記
    多孔性の容器は炭化水素の組成を持つものである過酸と
    プラズマを用いる殺菌方法。
JP3135835A 1990-05-11 1991-05-10 過酸とプラズマを用いる殺菌方法 Pending JPH04231052A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0928774A (ja) * 1995-07-17 1997-02-04 Toyo Netsu Kogyo Kk 滅菌方法および装置
US6585934B1 (en) 1998-10-01 2003-07-01 Minntech Corporation Endoscope reprocessing and sterilization system
JP2007527254A (ja) * 2003-06-27 2007-09-27 ソシエテ プール ラ コンセプシオン デ アプリカシオン デ テクニク エレクトロニク−サテレク ポスト・ディスチャージのプラズマによる殺菌機器及び方法
JP2017074374A (ja) * 2015-10-13 2017-04-20 サントリーホールディングス株式会社 殺菌装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2253144B (en) * 1991-03-01 1995-07-05 Atomic Energy Authority Uk Gas sterilisation
WO2002007788A1 (en) * 2000-07-26 2002-01-31 Jacques Protic A sterilisation process and apparatus therefor
ES2762448T3 (es) * 2011-01-20 2020-05-25 Peroxychem Llc Esterilización con vapor de ácido peracético preferiblemente de recipientes para comida y bebida
WO2018005715A1 (en) 2016-06-30 2018-01-04 3M Innovative Properties Company Plasma sterilization system and methods

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0928774A (ja) * 1995-07-17 1997-02-04 Toyo Netsu Kogyo Kk 滅菌方法および装置
US6585934B1 (en) 1998-10-01 2003-07-01 Minntech Corporation Endoscope reprocessing and sterilization system
US7061597B2 (en) 1998-10-01 2006-06-13 Minntech Corporation Endoscope reprocessing and sterilization system
JP2007527254A (ja) * 2003-06-27 2007-09-27 ソシエテ プール ラ コンセプシオン デ アプリカシオン デ テクニク エレクトロニク−サテレク ポスト・ディスチャージのプラズマによる殺菌機器及び方法
JP2010012274A (ja) * 2003-06-27 2010-01-21 Soc Pour La Conception Des Applications Des Techniques Electroniques-Satelec ポスト・ディスチャージのプラズマによる殺菌機器及び方法
JP4798790B2 (ja) * 2003-06-27 2011-10-19 ソシエテ プール ラ コンセプシオン デ アプリカシオン デ テクニク エレクトロニク−サテレク ポスト・ディスチャージのプラズマによる殺菌機器及び方法
JP2017074374A (ja) * 2015-10-13 2017-04-20 サントリーホールディングス株式会社 殺菌装置

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