JPH04218533A - Silane derivative, polysilane compound, their production and use - Google Patents

Silane derivative, polysilane compound, their production and use

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JPH04218533A
JPH04218533A JP7127091A JP7127091A JPH04218533A JP H04218533 A JPH04218533 A JP H04218533A JP 7127091 A JP7127091 A JP 7127091A JP 7127091 A JP7127091 A JP 7127091A JP H04218533 A JPH04218533 A JP H04218533A
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浄治 大下
Toru Yamanaka
徹 山中
Tsuneaki Koike
小池 恒明
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Abstract

PURPOSE:To obtain a new bis(halogen-substituted thienyl)silane derivative capable of readily providing a new polysilane compound useful as an electrically conductive material due to excellent electric conductivity with good reproducibility. CONSTITUTION:A bis(5-halogen-substituted thienyl) silane derivative expressed by formula I (R and R<2> are alkyl, aryl, etc.; R<3> to R<6> are H, alkyl, etc.; X and X<2> are halogen; m is >=1), e.g. bis [(5-bromothienyl)]dimethylsilane. The aforementioned compound is obtained by reacting a compound expressed by formula II (R<7> and R<8> are H, alkoxy, etc.; X<3> and X<4> are halogen) with Mg in a solvent such as diethyl ether while cooling the reaction mixture with ice, providing a 2-halogen-substituted-5-halogen magnesium thiophene derivative, then adding a compound expressed by formula III at ordinary temperature and subsequently carrying out reaction while stirring and heating the mixture. Furthermore, the new polysilane compound is obtained by reacting the compound expressed by formula I with Mg and then polymerizing the resultant product in the presence of a transition metallic complex catalyst.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は新規かつ有用なシラン誘
導体およびポリシラン化合物、ならびにこれらの製造方
法およびこのポリシラン化合物からなる導電性材料に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to novel and useful silane derivatives and polysilane compounds, methods for their production, and conductive materials made of these polysilane compounds.

【0002】0002

【従来の技術】従来、導電性を必要とする材料には専ら
金属が用いられており、有機高分子化合物は一般には絶
縁材料として取扱われている。ところが近年、絶縁材料
として認識されていた有機高分子化合物のうち、ケイ素
原子を含む高分子化合物が導電性を有していることが見
出され、このようなケイ素含有高分子化合物を導電性材
料として用いる試みがなされている。
2. Description of the Related Art Hitherto, metals have been used exclusively as materials requiring electrical conductivity, and organic polymer compounds have generally been treated as insulating materials. However, in recent years, it has been discovered that among organic polymer compounds that were recognized as insulating materials, those containing silicon atoms have electrical conductivity. Attempts are being made to use it as a

【0003】例えば1981年には、ポリシランの1種
であるメチルフェニルポリシランに光照射して架橋構造
を有する化合物を得、これにドーパント(ドーピングエ
ージェント)を添加することにより、高い電導度を有す
る化合物が得られることが見出されている。上記ドーパ
ントとしてはAsF5のような化合物が用いられており
、このようなドーパントを用いることにより、上記ケイ
素含有化合物は、0.5S/cm程度の導電率を示すこ
とが開示されている(J.Amer.Chem.Soc
.,103,7352−7354(1981))。
For example, in 1981, methylphenylpolysilane, a type of polysilane, was irradiated with light to obtain a compound with a crosslinked structure, and by adding a dopant (doping agent) to this, a compound with high electrical conductivity was created. It has been found that this can be obtained. A compound such as AsF5 is used as the dopant, and it is disclosed that by using such a dopant, the silicon-containing compound exhibits a conductivity of about 0.5 S/cm (J. Amer.Chem.Soc
.. , 103, 7352-7354 (1981)).

【0004】しかし、上記のようなケイ素含有化合物を
導電性材料として用いるには、ドーパントとして毒性の
高いAsF5を用いなければならない。また上記のよう
なケイ素含有化合物を製造する際、光照射の制御が難し
く、良好な特性を有する化合物を再現性よく製造するこ
とが難しいという問題点もある。
However, in order to use the above silicon-containing compound as a conductive material, highly toxic AsF5 must be used as a dopant. Furthermore, when producing the silicon-containing compounds as described above, there are also problems in that it is difficult to control light irradiation and it is difficult to produce compounds with good properties with good reproducibility.

【0005】また、特開昭62−59632号公報には
、AsF5を用いることなく、優れた導電性を示すマト
リックス状のポリアルキルシランが開示されている。 ここではポリアルキルシラン中にドーパントとして硫酸
イオンを含有させることにより、ポリアルキルシランは
10−5〜10S/cm程度の導電率を有することが示
されている。
[0005] Furthermore, JP-A-62-59632 discloses a matrix-like polyalkylsilane that exhibits excellent conductivity without using AsF5. It has been shown here that by incorporating sulfate ions as a dopant into polyalkylsilane, polyalkylsilane has an electrical conductivity of about 10-5 to 10 S/cm.

【0006】しかし、上記のようなポリアルキルシラン
からなる導電性材料においても、導電率等の特性や製造
方法などに、なお改善の余地が残されている。
However, even in the conductive material made of polyalkylsilane as described above, there is still room for improvement in characteristics such as conductivity and manufacturing method.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
かつ有用なシラン誘導体およびポリシラン化合物を提供
することである。本発明の他の目的は、容易かつ効率よ
く上記シラン誘導体およびポリシラン化合物を製造する
ための製造方法を提案することである。本発明の別の目
的は、優れた導電性を示し、しかも再現性もよく、製造
も容易な上記ポリシラン化合物からなる導電性材料を提
供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide new and useful silane derivatives and polysilane compounds. Another object of the present invention is to propose a manufacturing method for easily and efficiently manufacturing the above-mentioned silane derivatives and polysilane compounds. Another object of the present invention is to provide a conductive material made of the above polysilane compound that exhibits excellent conductivity, has good reproducibility, and is easy to manufacture.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、次のシラン誘
導体およびポリシラン化合物、ならびにこれらの製造方
法およびこのポリシラン化合物からなる導電性材料であ
る。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides the following silane derivatives and polysilane compounds, methods for producing them, and conductive materials comprising the polysilane compounds.

【0009】(1)一般式〔1〕(1) General formula [1]

【化12】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲン置換チエニ
ル)シラン誘導体。 (2)一般式〔2〕
embedded image (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group, R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. ) A bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative. (2) General formula [2]

【化13】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲンマグネシウ
ムチエニル)シラン誘導体。 (3)一般式〔3〕
embedded image (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group, R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. ) Bis(5-halogenmagnesiumthienyl)silane derivative. (3) General formula [3]

【化14】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、mは1以上の
数を示し、nは2以上の数を示す。)で表わされるポリ
シラン化合物。 (4)一般式〔4〕
embedded image (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group, R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, m represents a number of 1 or more, and n represents a number of 2 or more. show. ) A polysilane compound represented by (4) General formula [4]

【化15】 (式中、R7およびR8はそれぞれ独立に水素原子、ま
たはアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアル
コキシ基からなる群から選ばれる基を示し、X3および
X4はそれぞれ独立にハロゲン原子を示す。)で表わさ
れる2,5−ジハロゲン置換チオフェン誘導体とマグネ
シウムとを反応させて得られる2−ハロゲン置換−5−
ハロゲンマグネシウムチオフェン誘導体、または前記一
般式〔4〕で表わされる2,5−ジハロゲン置換チオフ
ェン誘導体とリチオ化試剤とを反応させて得られる2−
ハロゲン置換−5−リチウムチオフェン誘導体に、一般
式〔5〕
(In the formula, R7 and R8 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an alkoxy group, and X3 and X4 each independently represent a halogen atom. 2-halogen-substituted-5- obtained by reacting the 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by ) with magnesium.
2-2, which is obtained by reacting a halogen magnesium thiophene derivative or a 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by the general formula [4] with a lithiation reagent.
The halogen-substituted 5-lithium thiophene derivative has the general formula [5]

【化16】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、X5お
よびX6はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1
以上の数を示す。)で表わされるジハロゲン置換シラン
類を反応させることを特徴とする前記一般式〔1〕で表
わされるビス(5−ハロゲン置換チエニル)シラン誘導
体の製造方法。 (5)前記一般式〔1〕で表わされるビス(5−ハロゲ
ン置換チエニル)シラン誘導体とマグネシウムとを反応
させることを特徴とする前記一般式〔2〕で表わされる
ビス(5−ハロゲンマグネシウムチエニル)シラン誘導
体の製造方法。 (6)前記一般式〔1〕で表わされるビス(5−ハロゲ
ン置換チエニル)シラン誘導体とマグネシウムとを反応
させて得られるビス(5‐ハロゲンマグネシウムチエニ
ル)シラン誘導体を、遷移金属錯体触媒の存在下に重合
させることを特徴とする前記一般式〔3〕で表わされる
ポリシラン化合物の製造方法。 (7)主鎖が、前記一般式〔3〕で表わされる、シラニ
レンジチエニレン単位の繰返し単位を有するポリシラン
化合物からなることを特徴とする導電性材料。
embedded image (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group, and X5 and X6 each independently represent a halogen atom) and m is 1
Indicates the above number. ) A method for producing a bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative represented by the general formula [1], which comprises reacting a dihalogen-substituted silane represented by the formula [1]. (5) Bis(5-halogenmagnesium thienyl) represented by the general formula [2], which is produced by reacting a bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative represented by the general formula [1] with magnesium. A method for producing a silane derivative. (6) A bis(5-halogen magnesium thienyl) silane derivative obtained by reacting a bis(5-halogen-substituted thienyl) silane derivative represented by the general formula [1] with magnesium in the presence of a transition metal complex catalyst. A method for producing a polysilane compound represented by the general formula [3], which comprises polymerizing the polysilane compound. (7) A conductive material whose main chain is composed of a polysilane compound having a repeating unit of silanylene dithienylene unit represented by the general formula [3].

【0010】前記一般式〔1〕〜〔3〕のRおよびR2
はアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルシ
リル基およびアリールシリル基からなる群から選ばれる
基であり、RとR2は同一でも異なっていてもよい。
R and R2 in the general formulas [1] to [3]
is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group, and R and R2 may be the same or different.

【0011】前記一般式〔1〕〜〔3〕のRおよびR2
で示されるアルキル基としては、通常炭素数が1〜6、
好ましくは1〜3のものをあげることができる。アルキ
ル基は直鎖状のものでも分岐状のものでもよい。このよ
うなアルキル基として具体的には、例えばメチル基、エ
チル基、n−プロピル基、n−ブチル基等の直鎖状アル
キル基;イソプロピル基、sec−ブチル基、sec−
アミル基等の二級アルキル基;tert−ブチル基、t
ert−アミル基等の三級アルキル基などをあげること
ができる。
R and R2 in the general formulas [1] to [3]
The alkyl group represented by usually has 1 to 6 carbon atoms,
Preferably, 1 to 3 can be mentioned. The alkyl group may be linear or branched. Specifically, such alkyl groups include linear alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, and n-butyl group; isopropyl group, sec-butyl group, sec-
Secondary alkyl group such as amyl group; tert-butyl group, t
Examples include tertiary alkyl groups such as ert-amyl groups.

【0012】前記一般式〔1〕〜〔3〕のRおよびR2
で示されるアリール基としては、少なくとも1つの芳香
族環を有する一価のアリール基をあげることができる。 この芳香族環は置換基を有していてもよい。このような
アリール基の具体的なものとしては、例えばフェニル基
、ナフチル基、トリル基、キシリル基などをあげること
ができる。
R and R2 in the general formulas [1] to [3]
Examples of the aryl group represented by the above include monovalent aryl groups having at least one aromatic ring. This aromatic ring may have a substituent. Specific examples of such aryl groups include phenyl, naphthyl, tolyl, and xylyl groups.

【0013】前記一般式〔1〕〜〔3〕のRおよびR2
で示されるアラルキル基としては、脂肪族炭化水素に少
なくとも1つの芳香族環が置換した一価のアラルキル基
をあげることができる。この芳香族環は置換基を有して
いてもよい。このようなアラルキル基の具体的なものと
しては、例えばベンジル基、フェネチル基、α‐メチル
ベンジル基、トリルメチル基などをあげることができる
R and R2 in the general formulas [1] to [3]
Examples of the aralkyl group represented by the above include monovalent aralkyl groups in which an aliphatic hydrocarbon is substituted with at least one aromatic ring. This aromatic ring may have a substituent. Specific examples of such aralkyl groups include benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, and tolylmethyl group.

【0014】前記一般式〔1〕〜〔3〕のRおよびR2
で示されるアルキルシリル基としては、少なくとも1つ
のアルキル基を有する一価のアルキルシリル基をあげる
ことができる。このアルキル基としては、炭素数が1〜
8、好ましくは1〜6のものをあげることができる。ア
ルキル基は直鎖状のものでも分岐状のものでもよい。こ
のようなアルキルシリル基の具体的なものとしては、例
えばメチルシリル基、エチルシリル基、n−プロピルシ
リル基、n−ブチルシリル基等の直鎖状アルキルシリル
基;イソプロピルシリル基、sec−ブチルシリル基、
sec−アミルシリル基等の二級アルキルシリル基;t
ert−ブチルシリル基、tert−アミルシリル基等
の三級アルキルシリル基などをあげることができる。
R and R2 in the general formulas [1] to [3]
Examples of the alkylsilyl group represented by the formula include monovalent alkylsilyl groups having at least one alkyl group. This alkyl group has 1 to 1 carbon atoms.
8, preferably 1 to 6. The alkyl group may be linear or branched. Specific examples of such alkylsilyl groups include linear alkylsilyl groups such as methylsilyl group, ethylsilyl group, n-propylsilyl group, and n-butylsilyl group; isopropylsilyl group, sec-butylsilyl group,
Secondary alkylsilyl group such as sec-amylsilyl group; t
Examples include tertiary alkylsilyl groups such as ert-butylsilyl group and tert-amylsilyl group.

【0015】前記一般式〔1〕〜〔3〕のRおよびR2
で示されるアリールシリル基としては、少なくとも1つ
の芳香族環を有する一価のアリールシリル基をあげるこ
とができる。この芳香族環は置換基を有していてもよい
。このようなアリールシリル基の具体的なものとして、
例えばフェニルシリル基、ナフチルシリル基、トリルシ
リル基、キシリルシリル基などをあげることができる。
R and R2 in the above general formulas [1] to [3]
Examples of the arylsilyl group represented by include monovalent arylsilyl groups having at least one aromatic ring. This aromatic ring may have a substituent. Specific examples of such arylsilyl groups include:
Examples include phenylsilyl group, naphthylsilyl group, tolylsilyl group, and xylylsilyl group.

【0016】前記一般式〔3〕で表わされる本発明のポ
リシラン化合物を導電性材料として用いる場合は、Rお
よびR2がメチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル
基、メチルシリル基、エチルシリル基およびフェニルシ
リル基からなる群から選ばれる基の組合せが好ましく、
特にメチル基同士の組合せ、メチル基とフェニル基との
組合せ、およびメチル基とトリメチルシリル基との組合
せが好ましい。
When the polysilane compound of the present invention represented by the general formula [3] is used as a conductive material, R and R2 are a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylsilyl group, an ethylsilyl group, and a phenylsilyl group. A combination of groups selected from the group consisting of groups is preferred;
Particularly preferred are combinations of methyl groups, combinations of methyl groups and phenyl groups, and combinations of methyl groups and trimethylsilyl groups.

【0017】前記一般式〔1〕〜〔3〕のR3〜R6は
水素原子、またはアルキル基、アリール基、アラルキル
基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基であり
、R3〜R6はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
R3 to R6 in the general formulas [1] to [3] are hydrogen atoms, or groups selected from the group consisting of alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, and alkoxy groups, and R3 to R6 may be the same or the same. May be different.

【0018】前記一般式〔1〕〜〔3〕のR3〜R6で
示されるアルキル基としては、通常炭素数が1〜8、好
ましくは1〜6のものをあげることができる。アルキル
基は直鎖状のものでも分岐状のものでもよい。このよう
なアルキル基として具体的には、例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、n−ブチル基等の直鎖状アルキ
ル基;イソプロピル基、sec−ブチル基、sec−ア
ミル基等の二級アルキル基;tert−ブチル基、te
rt−アミル基等の三級アルキル基などをあげることが
できる。
The alkyl groups represented by R3 to R6 in the above general formulas [1] to [3] usually have 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched. Specific examples of such alkyl groups include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, and n-butyl groups; alkyl group; tert-butyl group, te
Examples include tertiary alkyl groups such as rt-amyl group.

【0019】前記一般式〔1〕〜〔3〕のR3〜R6で
示されるアリール基としては、少なくとも1つの芳香族
環を有する一価のアリール基をあげることができる。こ
の芳香族環は置換基を有していてもよい。このようなア
リール基の具体的なものとしては、例えばフェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基などをあげることが
できる。
The aryl groups represented by R3 to R6 in the general formulas [1] to [3] include monovalent aryl groups having at least one aromatic ring. This aromatic ring may have a substituent. Specific examples of such aryl groups include phenyl groups,
Examples include naphthyl group, tolyl group, and xylyl group.

【0020】前記一般式〔1〕〜〔3〕のR3〜R6で
示されるアラルキル基としては、脂肪族炭化水素に少な
くとも1つの芳香族環が置換した一価のアラルキル基を
あげることができる。この芳香族環は置換基を有してい
てもよい。このようなアラルキル基の具体的なものとし
ては、例えばベンジル基、フェネチル基、α‐メチルベ
ンジル基、トリルメチル基などをあげることができる。
The aralkyl groups represented by R3 to R6 in the general formulas [1] to [3] include monovalent aralkyl groups in which an aliphatic hydrocarbon is substituted with at least one aromatic ring. This aromatic ring may have a substituent. Specific examples of such aralkyl groups include benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, and tolylmethyl group.

【0021】前記一般式〔1〕〜〔3〕のR3〜R6で
示されるアルコキシ基としては、通常炭素数が1〜8、
好ましくは1〜6のものをあげることができる。アルコ
キシ基は直鎖状のものでも分岐状のものでもよい。この
ようなアルコキシ基として具体的には、例えばメトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等
の直鎖状アルコキシ基;イソプロポキシ基、sec−ブ
トキシ基、sec−アミロキシ基等の二級アルコキシ基
;tert‐ブトキシ基、tert‐アミロキシ基等の
三級アルコキシ基などをあげることができる。
The alkoxy groups represented by R3 to R6 in the general formulas [1] to [3] usually have 1 to 8 carbon atoms,
Preferably, 1 to 6 can be mentioned. The alkoxy group may be linear or branched. Specific examples of such alkoxy groups include linear alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, and n-butoxy; isopropoxy, sec-butoxy, and sec-amyloxy groups; Secondary alkoxy groups; examples include tertiary alkoxy groups such as tert-butoxy and tert-amyloxy groups.

【0022】前記一般式〔3〕で表わされる本発明のポ
リシラン化合物を導電性材料として用いる場合は、R3
〜R6が水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ベンジル基およびメトキシ基からなる群から選ばれる組
合せが好ましい。
When the polysilane compound of the present invention represented by the general formula [3] is used as a conductive material, R3
~R6 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a phenyl group,
A combination selected from the group consisting of benzyl group and methoxy group is preferred.

【0023】前記一般式〔3〕のmは1以上の数、nは
2以上の数である。本発明のポリシラン化合物を導電性
材料として用いる場合は、mが1以上、nが10以上で
、平均分子量が1000以上、好ましくは3000以上
のものが望ましい。
In the general formula [3], m is a number of 1 or more, and n is a number of 2 or more. When the polysilane compound of the present invention is used as a conductive material, it is desirable that m is 1 or more, n is 10 or more, and the average molecular weight is 1000 or more, preferably 3000 or more.

【0024】前記一般式〔1〕および〔2〕のXおよび
X2で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素などをあげることができる。前記一般式〔
1〕で表わされるビス(5−ハロゲン置換チエニル)シ
ラン誘導体または前記一般式〔2〕で表わされるビス(
5−ハロゲンマグネシウムチエニル)シラン誘導体を、
前記一般式〔3〕で表わされるポリシラン化合物の製造
原料として利用する場合は、XおよびX2は塩素または
臭素であることが好ましい。
The halogen atoms represented by X and X2 in the general formulas [1] and [2] include fluorine, chlorine,
Examples include bromine and iodine. The general formula [
1] or the bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative represented by the general formula [2].
5-halogen magnesium thienyl) silane derivative,
When used as a raw material for producing a polysilane compound represented by the general formula [3], X and X2 are preferably chlorine or bromine.

【0025】前記一般式〔1〕で表わされるビス(5−
ハロゲン置換チエニル)シラン誘導体の具体例としては
、例えばmが1のものとしてビス(5−ハロゲン置換チ
エニル)ジメチルシラン、ビス(5−ハロゲン置換チエ
ニル)メチルエチルシラン、ビス(5−ハロゲン置換チ
エニル)メチルフェニルシラン、ビス(5−ハロゲン置
換チエニル)メチルトリルシラン、ビス(5−ハロゲン
置換−4−メチルチエニル)メチルフェニルシラン、ビ
ス(5−ハロゲン置換チエニル)メチルトリメチルシリ
ルシランなどを、mが2のものとして1,2−ビス(5
−ハロゲン置換チエニル)テトラメチルジシラン、1,
2−ビス(5−ハロゲン置換チエニル)ジメチルジエチ
ルジシラン、1,2−ビス(5−ハロゲン置換チエニル
)ジメチルジフェニルジシラン、1,2−ビス(5−ハ
ロゲン置換チエニル)ジメチルジトリルジシラン、1,
2−ビス(5−ハロゲン置換−3−メチルチエニル)ジ
メチルジフェニルジシランなどを、mが3以上のものと
して1,3−ビス(5−ハロゲン置換チエニル)ヘキサ
メチルトリシラン、1,3−ビス(5−ハロゲン置換チ
エニル)トリエチルトリメチルトリシラン、1,3−ビ
ス(5−ハロゲン置換チエニル)トリメチルトリフェニ
ルトリシラン、1,3−ビス(5−ハロゲン置換チエニ
ル)トリメチルトリ(トリル)トリシラン、1,3−ビ
ス(5−ハロゲン置換−4−メチルチエニル)トリメチ
ルトリフェニルトリシランなどをあげることができる。 これらの化合物のハロゲンとしては、臭素、塩素などを
あげることができる。
Bis(5-
Specific examples of halogen-substituted thienyl)silane derivatives include bis(5-halogen-substituted thienyl)dimethylsilane, bis(5-halogen-substituted thienyl)methylethylsilane, and bis(5-halogen-substituted thienyl)silane, where m is 1. Methylphenylsilane, bis(5-halogen-substituted thienyl)methyltolylsilane, bis(5-halogen-substituted-4-methylthienyl)methylphenylsilane, bis(5-halogen-substituted thienyl)methyltrimethylsilylsilane, etc., where m is 2. 1,2-bis(5
-halogen-substituted thienyl)tetramethyldisilane, 1,
2-bis(5-halogen-substituted thienyl)dimethyldiethyldisilane, 1,2-bis(5-halogen-substituted thienyl)dimethyldiphenyldisilane, 1,2-bis(5-halogen-substituted thienyl)dimethylditolyldisilane, 1,
2-bis(5-halogen-substituted-3-methylthienyl)dimethyldiphenyldisilane, etc., where m is 3 or more, 1,3-bis(5-halogen-substituted thienyl)hexamethyltrisilane, 1,3-bis( 5-halogen substituted thienyl)triethyltrimethyltrisilane, 1,3-bis(5-halogen substituted thienyl)trimethyltriphenyltrisilane, 1,3-bis(5-halogen substituted thienyl)trimethyltri(tolyl)trisilane, 1, Examples include 3-bis(5-halogen-substituted-4-methylthienyl)trimethyltriphenyltrisilane. Examples of the halogen in these compounds include bromine and chlorine.

【0026】前記一般式〔1〕で表わされるビス(5−
ハロゲン置換チエニル)シラン誘導体は、例えば前記一
般式〔4〕で表わされる2,5−ジハロゲン置換チオフ
ェン誘導体とマグネシウムとを反応させて得られる2−
ハロゲン置換−5−ハロゲンマグネシウムチオフェン誘
導体に、前記一般式〔5〕で表わされるジハロゲン置換
シラン類を反応させることにより製造することができる
。また別の方法として、前記一般式〔4〕で表わされる
2,5−ジハロゲン置換チオフェン誘導体とリチオ化試
剤とを反応させて得られる2−ハロゲン置換−5−リチ
ウムチオフェン誘導体に、前記一般式〔5〕で表わされ
るジハロゲン置換シラン類を反応させることにより製造
することもできる。前記リチオ化試剤としては、例えば
ブチルリチウムなどの有機リチウム化合物をあげること
ができる。
Bis(5-
The halogen-substituted thienyl)silane derivative is obtained by reacting, for example, the 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by the general formula [4] with magnesium.
It can be produced by reacting a halogen-substituted 5-halogen magnesium thiophene derivative with a dihalogen-substituted silane represented by the general formula [5]. As another method, a 2-halogen-substituted-5-lithium thiophene derivative obtained by reacting a 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by the general formula [4] with a lithiation reagent is added to a 2-halogen-substituted-5-lithium thiophene derivative represented by the general formula [4]. It can also be produced by reacting dihalogen-substituted silanes represented by [5]. Examples of the lithiation reagent include organic lithium compounds such as butyllithium.

【0027】前記一般式〔1〕で表わされるビス(5−
ハロゲン置換チエニル)シラン誘導体の好ましい製造方
法としては、前記一般式〔4〕で表わされる2,5−ジ
ハロゲン置換チオフェン誘導体とマグネシウムとを、氷
冷下にジエチルエーテル等の溶媒中で反応させて2−ハ
ロゲン置換−5−ハロゲンマグネシウムチオフェン誘導
体を合成し、続いて常温下に前記一般式〔5〕で表わさ
れるジハロゲン置換シラン類を添加した後、加熱下に攪
拌しながら反応させる方法をあげることができる。
Bis(5-
A preferred method for producing the halogen-substituted thienyl)silane derivative is to react the 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by the general formula [4] with magnesium in a solvent such as diethyl ether under ice cooling. An example of a method is to synthesize a -halogen-substituted-5-halogen magnesium thiophene derivative, then add a dihalogen-substituted silane represented by the general formula [5] at room temperature, and then react with stirring while heating. can.

【0028】また別の好ましい製造方法としては、前記
一般式〔4〕で表わされる2,5−ジハロゲン置換チオ
フェン誘導体を冷却した後、tert−ブチルリチウム
のヘキサン溶液を滴下し、その後常温下で撹拌しながら
反応させて2−ハロゲン置換−5−リチウムチオフェン
誘導体を合成し、続いて常温下に前記一般式〔5〕で表
わされるジハロゲン置換シラン類を添加した後、加熱下
に撹拌しながら反応させる方法をあげることができる。 いずれの製造方法も、反応終了後は、加水分解して油層
分離後、油層を乾燥した後、減圧蒸留等の方法により溶
媒を除去することにより、目的とするビス(5−ハロゲ
ン置換チエニル)シラン誘導体が得られる。
Another preferable production method is to cool the 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by the general formula [4], dropwise add a hexane solution of tert-butyllithium, and then stir at room temperature. A 2-halogen-substituted-5-lithium thiophene derivative is synthesized by reacting while stirring, and then a dihalogen-substituted silane represented by the general formula [5] is added at room temperature, and the reaction is carried out while stirring while heating. I can give you a method. In either production method, after the reaction is completed, the target bis(5-halogen-substituted thienyl)silane A derivative is obtained.

【0029】前記一般式〔4〕のR7およびR8で示さ
れるアルキル基、アリール基、アラルキル基またはアル
コキシ基としては、前記一般式〔1〕と同じものをあげ
ることができる。また前記一般式〔5〕のRおよびR2
で示されるアルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
ルキルシリル基またはアリールシリル基としては、前記
一般式〔1〕と同じものをあげることができる。X3〜
X6のハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などをあげることができる。
As the alkyl group, aryl group, aralkyl group or alkoxy group represented by R7 and R8 in the above general formula [4], the same groups as in the above general formula [1] can be mentioned. Also, R and R2 in the general formula [5]
Examples of the alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkylsilyl group, or arylsilyl group represented by are the same as those in the general formula [1] above. X3~
Examples of the halogen atom for X6 include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

【0030】前記一般式〔2〕で表わされるビス(5−
ハロゲンマグネシウムチエニル)シラン誘導体は、例え
ば前記一般式〔1〕で表わされるビス(5−ハロゲン置
換チエニル)シラン誘導体とマグネシウムとを反応させ
ることにより製造することができる。この反応において
は、マグネシウムは少なくともビス(5−ハロゲン置換
チエニル)シラン誘導体〔1〕中のハロゲン原子と反応
するような量で用いることが望ましく、通常ビス(5−
ハロゲン置換チエニル)シラン誘導体〔1〕1モルに対
して0.8〜1.2モル、好ましくは0.9〜1.1モ
ルの範囲で使用するのが望ましい。
Bis(5-
The halogen magnesium thienyl) silane derivative can be produced, for example, by reacting the bis(5-halogen substituted thienyl) silane derivative represented by the general formula [1] with magnesium. In this reaction, it is preferable to use magnesium in an amount such that it reacts with at least the halogen atom in the bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1];
It is desirable to use it in an amount of 0.8 to 1.2 mol, preferably 0.9 to 1.1 mol, per 1 mol of the halogen-substituted thienyl)silane derivative [1].

【0031】ビス(5−ハロゲン置換チエニル)シラン
誘導体〔1〕とマグネシウムとの反応は、通常溶媒を用
いた液相反応として行われる。溶媒としては、マグネシ
ウムに対して反応性を持たず、不活性であるとともに、
原料であるビス(5−ハロゲン置換チエニル)シラン誘
導体〔1〕に対しても不活性な溶媒を使用するのが好ま
しい。さらに後述の遷移金属錯体触媒に対しても不活性
な溶媒を使用するのが好ましい。このような溶媒として
は、例えば芳香族炭化水素系溶媒、飽和炭化水素系溶媒
、不飽和炭化水素系溶媒およびエーテル系溶媒などをあ
げることができる。これらの中ではテトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、
2−メトキシエチルエーテル等のエーテル系溶媒が好ま
しく、特にテトラヒドロフランを用いるのが好ましい。 これらの溶媒は1種単独で、または2種以上を混合して
使用することができる。
The reaction between the bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1] and magnesium is usually carried out as a liquid phase reaction using a solvent. As a solvent, it has no reactivity towards magnesium and is inert.
It is preferable to use a solvent that is also inert to the bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1] as a raw material. Furthermore, it is preferable to use a solvent that is also inert to the transition metal complex catalyst described below. Examples of such solvents include aromatic hydrocarbon solvents, saturated hydrocarbon solvents, unsaturated hydrocarbon solvents, and ether solvents. Among these, tetrahydrofuran, diethyl ether, dibutyl ether, dioxane,
Ether solvents such as 2-methoxyethyl ether are preferred, and tetrahydrofuran is particularly preferred. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0032】反応は、反応温度が通常−20〜100℃
、好ましくは0〜50℃の範囲で行うのが望ましい。 また反応は、減圧下でも、加圧下でも行うことができ、
反応圧力は限定されないが、通常減圧ないし60kg/
cm2・G、好ましくは0〜30kg/cm2・Gが望
ましい。反応時間は反応温度および反応圧力などを考慮
して適宜に設定されるが、通常5分〜100時間、好ま
しくは1〜20時間が望ましい。また反応は、通常不活
性雰囲気下で行うのが望ましい。不活性雰囲気としては
、例えばアルゴンや窒素雰囲気などが用いられる。
[0032] The reaction temperature is usually -20 to 100°C.
, preferably at a temperature in the range of 0 to 50°C. The reaction can also be carried out under reduced pressure or increased pressure.
The reaction pressure is not limited, but is usually reduced pressure to 60 kg/
cm2·G, preferably 0 to 30 kg/cm2·G. The reaction time is appropriately set in consideration of reaction temperature, reaction pressure, etc., and is usually 5 minutes to 100 hours, preferably 1 to 20 hours. Further, the reaction is usually preferably carried out under an inert atmosphere. As the inert atmosphere, for example, argon or nitrogen atmosphere is used.

【0033】以上のようにして得られるビス(5−ハロ
ゲン置換チエニル)シラン誘導体〔1〕およびビス(5
−ハロゲンマグネシウムチエニル)シラン誘導体〔2〕
は、前記一般式〔3〕で表わされるポリシラン化合物の
製造原料または中間体として利用される。
Bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1] and bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1] obtained as described above.
-Halogen magnesium thienyl) silane derivative [2]
is used as a raw material or intermediate for producing the polysilane compound represented by the general formula [3].

【0034】前記一般式〔3〕で表わされるポリシラン
化合物は、例えば前記一般式〔1〕で表わされるビス(
5−ハロゲン置換チエニル)シラン誘導体とマグネシウ
ムとを反応させて得られるビス(5−ハロゲンマグネシ
ウムチエニル)シラン誘導体〔2〕を、遷移金属錯体触
媒の存在下に重合させることにより製造することができ
る。
[0034] The polysilane compound represented by the general formula [3] is, for example, a bis(
Bis(5-halogenmagnesiumthienyl)silane derivative [2] obtained by reacting a 5-halogen-substituted thienyl)silane derivative with magnesium can be produced by polymerizing it in the presence of a transition metal complex catalyst.

【0035】本発明のポリシラン化合物を導電性材料と
して用いる場合は、ビス(5−ハロゲン置換チエニル)
シラン誘導体〔1〕としては、特にビス(5−ブロモチ
エニル)ジメチルシラン、ビス(5−ブロモチエニル)
メチルフェニルシラン、ビス(5−ブロモチエニル)メ
チルトリメチルシラン、1,2−ビス(5−ブロモチエ
ニル)テトラメチルジシラン、1,2−ビス(5−ブロ
モチエニル)ジメチルジフェニルジシランまたは1,3
−ビス(5−ブロモチエニル)ヘキサメチルシランを用
いるのが好ましい。
When the polysilane compound of the present invention is used as a conductive material, bis(5-halogen-substituted thienyl)
As the silane derivative [1], particularly bis(5-bromothienyl)dimethylsilane, bis(5-bromothienyl)
Methylphenylsilane, bis(5-bromothienyl)methyltrimethylsilane, 1,2-bis(5-bromothienyl)tetramethyldisilane, 1,2-bis(5-bromothienyl)dimethyldiphenyldisilane or 1,3
-Bis(5-bromothienyl)hexamethylsilane is preferably used.

【0036】ビス(5−ハロゲン置換チエニル)シラン
誘導体〔1〕は、通常単独で用いられるが、例えば得ら
れるポリシラン化合物の導電性を調整することなどを目
的として、2種以上のものを組合せて用いることもでき
る。
[0036] The bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1] is usually used alone, but two or more types may be combined for the purpose of, for example, adjusting the conductivity of the resulting polysilane compound. It can also be used.

【0037】前記遷移金属錯体触媒としては、例えばグ
リニャール試薬と有機ハロゲン化物のクロスカップリン
グ反応に使用されるニッケル錯体などを用いることがで
き、具体的にはジクロロ(2,2′−ビピリジン)ニッ
ケル、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)ニッケ
ル、ジクロロ(1,2−ビスジフェニルホスフィノエタ
ン)ニッケルおよびジクロロ(1,2−ビスジメチルホ
スフィノエタン)ニッケルなどをあげることができる。 さらに塩化ニッケルビピリジル、塩化ニッケル(ジフェ
ニルホスフィノエタン)、塩化パラジウムおよび酢酸パ
ラジウムなどをあげることができる。これらの中ではジ
クロロ(2,2′−ビピリジン)ニッケルまたは塩化ニ
ッケル(ジフェニルホスフィノエタン)を用いるのが好
ましい。
As the transition metal complex catalyst, for example, a nickel complex used in a cross-coupling reaction between a Grignard reagent and an organic halide can be used, and specifically, dichloro(2,2'-bipyridine) nickel can be used. , dichlorobis(triphenylphosphine)nickel, dichloro(1,2-bisdiphenylphosphinoethane)nickel, and dichloro(1,2-bisdimethylphosphinoethane)nickel. Further examples include nickel bipyridyl chloride, nickel chloride (diphenylphosphinoethane), palladium chloride and palladium acetate. Among these, dichloro(2,2'-bipyridine)nickel or nickel chloride (diphenylphosphinoethane) is preferably used.

【0038】遷移金属錯体触媒は、ビス(5−ハロゲン
置換チエニル)シラン誘導体〔1〕1モルに対して1×
10−4〜1×10−2モル、好ましくは2×10−4
〜1×10−3モルの範囲で使用するのが望ましい。遷
移金属錯体触媒は1種単独で使用することもできるし、
2種以上を混合して使用することもできる。
The transition metal complex catalyst is used in an amount of 1× per mole of bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1].
10-4 to 1 x 10-2 mol, preferably 2 x 10-4
It is desirable to use it in a range of 1 x 10-3 mol. One type of transition metal complex catalyst can be used alone, or
A mixture of two or more types can also be used.

【0039】本発明のポリシラン化合物の製造に係る反
応の例を次に示す。
Examples of reactions related to the production of the polysilane compound of the present invention are shown below.

【化17】 (式中、R〜R6、mおよびnは前記一般式〔3〕と同
じである。)
embedded image (In the formula, R to R6, m and n are the same as in the general formula [3] above.)

【0040】上記一般式〔6〕の反応機構からすると、
前記一般式〔3〕で表わされるポリシラン化合物は下記
一般式〔7〕または〔8〕のように表わすことができる
が、重合体として見ると実質的に同じである。
According to the reaction mechanism of the above general formula [6],
The polysilane compound represented by the general formula [3] can be represented by the following general formula [7] or [8], which are substantially the same when viewed as a polymer.

【0041】[0041]

【化18】[Chemical formula 18]

【化19】 (式中、R〜R6、mおよびnは前記一般式〔3〕と同
じである。pおよびqはp+q=mを満たす数である。 )
embedded image (In the formula, R to R6, m and n are the same as in the above general formula [3]. p and q are numbers satisfying p+q=m.)

【0042】本発明のポリシラン化合物は、例えば前記
ビス(5−ハロゲンマグネウシムチエニル)シラン誘導
体〔2〕の製造方法と同様にして、ビス(5−ハロゲン
置換チエニル)シラン誘導体〔1〕とマグネシウムとを
反応させ、反応液からビス(5−ハロゲンマグネシウム
チエニル)シラン誘導体〔2〕を分離することなく、反
応液に前記遷移金属錯体触媒を添加して重合させること
により製造することができる。
The polysilane compound of the present invention can be prepared by, for example, producing the bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative [1] and magnesium in the same manner as the method for producing the bis(5-halogenmagneusimthienyl)silane derivative [2]. The bis(5-halogenmagnesiumthienyl)silane derivative [2] can be produced by adding the transition metal complex catalyst to the reaction solution and polymerizing it without separating the bis(5-halogenmagnesiumthienyl)silane derivative [2] from the reaction solution.

【0043】重合反応は、反応温度が通常−20〜25
0℃、好ましくは0〜230℃の範囲で行うのが望まし
い。また重合反応は、減圧下でも、加圧下でも行うこと
ができ、反応圧力は限定されないが、通常減圧ないし6
0kg/cm2・G、好ましくは0〜30kg/cm2
・G、特に好ましくは0〜5kg/cm2・Gの範囲が
望ましい。反応時間は反応温度および反応圧力などを考
慮して適宜に設定されるが、通常5分〜150時間、好
ましくは1〜100時間が望ましい。
[0043] In the polymerization reaction, the reaction temperature is usually -20 to -25
It is desirable to carry out at 0°C, preferably in the range of 0 to 230°C. Further, the polymerization reaction can be carried out under reduced pressure or increased pressure, and the reaction pressure is not limited, but it is usually reduced pressure to 6°C.
0 kg/cm2・G, preferably 0 to 30 kg/cm2
-G, particularly preferably in the range of 0 to 5 kg/cm2.G. The reaction time is appropriately set in consideration of the reaction temperature, reaction pressure, etc., and is usually 5 minutes to 150 hours, preferably 1 to 100 hours.

【0044】重合反応は超音波を照射しながら行うこと
もできる。この場合、反応温度は通常−20〜250℃
、好ましくは0〜230℃、反応時間は通常5分〜50
時間、好ましくは1〜20時間、反応圧力は通常0〜3
0kg/cm2・G、好ましくは0〜5kg/cm2・
Gが望ましい。また重合反応は、通常不活性雰囲気下で
行うのが望ましい。不活性雰囲気としては、例えばアル
ゴンや窒素雰囲気などが用いられる。
[0044] The polymerization reaction can also be carried out while irradiating with ultrasonic waves. In this case, the reaction temperature is usually -20 to 250℃
, preferably 0 to 230°C, reaction time usually 5 minutes to 50
time, preferably 1 to 20 hours, reaction pressure usually 0 to 3
0 kg/cm2・G, preferably 0 to 5 kg/cm2・
G is preferable. Further, the polymerization reaction is usually preferably carried out under an inert atmosphere. As the inert atmosphere, for example, argon or nitrogen atmosphere is used.

【0045】このようにして製造されたポリシラン化合
物は、繰返し単位としては前記一般式〔3〕で表わされ
るものを、末端基としては使用した原料および前記一般
式〔6〕の反応に由来するものを有する。末端基は水素
またはハロゲンであると思われるが、不確定なものが多
い。
The polysilane compound thus produced has repeating units represented by the above general formula [3], and terminal groups derived from the raw materials used and the reaction of the above general formula [6]. has. The terminal group is thought to be hydrogen or halogen, but many are uncertain.

【0046】反応終了後は、溶媒留去後クロロホルムと
エタノール、イソプロパノール等の溶媒を加えて再沈澱
させるなどの方法によりポリシラン化合物が得られる。
After the reaction is completed, a polysilane compound can be obtained by distilling off the solvent and adding chloroform and a solvent such as ethanol or isopropanol for reprecipitation.

【0047】このようにして、本発明によって得られる
前記一般式〔3〕で表わされるポリシラン化合物は、導
電率σが通常10−8S/cm以下であるが、ドーパン
トを添加することにより、導電率σは通常0.01〜5
0S/cm程度になる。従って本発明のポリシラン化合
物は導電性材料として用いることができる。
In this way, the polysilane compound represented by the general formula [3] obtained by the present invention usually has a conductivity σ of 10 −8 S/cm or less, but by adding a dopant, the conductivity can be increased. σ is usually 0.01 to 5
It will be about 0S/cm. Therefore, the polysilane compound of the present invention can be used as a conductive material.

【0048】本発明のポリシラン化合物が導電性を示す
理由は明らかではないが、ケイ素−ケイ素結合およびチ
オフェン環の両者を有しているためと推定される。
The reason why the polysilane compound of the present invention exhibits electrical conductivity is not clear, but it is presumed that it is because it has both a silicon-silicon bond and a thiophene ring.

【0049】本発明のポリシラン化合物はドーパントを
添加することにより、より良好な導電性を示すようにな
る。このため本発明のポリシラン化合物を導電性材料と
して使用する場合は適当なドーパントを添加して使用す
るのが一般的である。ドーパントとしては特に制限はな
く、従来知られているハロゲン;ルイス酸;遷移金属ハ
ロゲン化物等の電子吸引性化合物;アルカリ金属等の電
子供与性化合物などを用いることができる。ドーパント
の具体的なものとしては、例えばI2、SO3、AsF
5、SbF5、SbCl5などをあげることができる。 これらの中ではSbF5が好ましい。これらのドーパン
トは1種単独で、または2種以上を組合せて用いること
ができる。
The polysilane compound of the present invention exhibits better electrical conductivity by adding a dopant. Therefore, when the polysilane compound of the present invention is used as a conductive material, it is generally used with the addition of an appropriate dopant. The dopant is not particularly limited, and conventionally known halogens; Lewis acids; electron-withdrawing compounds such as transition metal halides; and electron-donating compounds such as alkali metals can be used. Specific dopants include, for example, I2, SO3, AsF.
5, SbF5, SbCl5, etc. Among these, SbF5 is preferred. These dopants can be used alone or in combination of two or more.

【0050】ポリシラン化合物にドーパントを添加する
方法は特に制限されず、例えばポリシラン化合物を任意
の形状、例えば膜状に成形した後、この成形体にドーパ
ントを塗布する方法、成形体を気体状のドーパントと接
触させる方法、ポリシラン化合物にドーパントを添加し
た後任意の形状に成形する方法など、種々の方法を採用
することができる。この時の成形方法および成形体の形
状は特に限定されず、目的とする導電性材料の形状に応
じて、公知の方法により膜状、線状など任意の形状に成
形することができる。
The method of adding a dopant to a polysilane compound is not particularly limited, and examples include a method of molding a polysilane compound into an arbitrary shape, such as a film shape, and then applying a dopant to the molded product, a method of adding a dopant to the molded product, and a method of adding a dopant to the molded product. Various methods can be employed, such as a method in which a dopant is added to a polysilane compound and then molded into an arbitrary shape. The molding method and the shape of the molded body at this time are not particularly limited, and depending on the shape of the intended conductive material, it can be molded into any shape such as a film shape or a linear shape by a known method.

【0051】本発明のポリシラン化合物は、上記のよう
に導電性材料として使用できるほか、例えばケイ素−ケ
イ素結合またはケイ素−芳香族炭素結合の有する光機能
性を利用して感光材料などとしても使用することができ
る。
The polysilane compound of the present invention can be used not only as a conductive material as described above, but also as a photosensitive material by utilizing the optical functionality of the silicon-silicon bond or the silicon-aromatic carbon bond. be able to.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、前記一般
式〔1〕で表わされる新規かつ有用なシラン誘導体、前
記一般式〔2〕で表わされる新規かつ有用なシラン誘導
体、および前記一般式〔3〕で表わされる新規かつ有用
なポリシラン化合物が得られる。前記一般式〔1〕で表
わされるシラン誘導体は、前記一般式〔4〕で表わされ
る2,5−ジハロゲン置換チオフェン誘導体とマグネシ
ウムまたはリチオ化試剤とを反応させて得られる2−ハ
ロゲン置換−5−ハロゲンマグネシウムチオフェン誘導
体または2−ハロゲン置換−5−リチウムチオフェン誘
導体に、前記一般式〔5〕で表わされるジハロゲン置換
シラン類を反応させることにより、容易にかつ効率よく
製造することができる。前記一般式〔2〕で表わされる
シラン誘導体は、前記一般式〔1〕で表わされるビス(
5−ハロゲン置換チエニル)シラン誘導体とマグネシウ
ムとを反応させることにより、容易にかつ効率よく製造
することができる。前記一般式〔3〕で表わされるポリ
シラン化合物は前記一般式〔1〕で表わされるビス(5
−ハロゲン置換チエニル)シラン誘導体とマグネシウム
とを反応させて得られるビス(5−ハロゲンマグネシウ
ムチエニル)シラン誘導体を、遷移金属錯体触媒の存在
下に重合させることにより、容易にかつ効率よく製造す
ることができる。さらに本発明によれば、優れた導電性
を示す導電性材料が再現性よく容易に得られる。
As described above, according to the present invention, there are provided a novel and useful silane derivative represented by the general formula [1], a new and useful silane derivative represented by the general formula [2], and a novel and useful silane derivative represented by the general formula [2]. A novel and useful polysilane compound represented by formula [3] is obtained. The silane derivative represented by the general formula [1] is a 2-halogen-substituted-5- silane derivative obtained by reacting the 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by the general formula [4] with magnesium or a lithiation reagent. It can be easily and efficiently produced by reacting a halogen magnesium thiophene derivative or a 2-halogen-substituted-5-lithium thiophene derivative with a dihalogen-substituted silane represented by the general formula [5]. The silane derivative represented by the general formula [2] is a bis(
It can be easily and efficiently produced by reacting a 5-halogen-substituted thienyl)silane derivative with magnesium. The polysilane compound represented by the general formula [3] is a bis(5) compound represented by the general formula [1].
- A bis(5-halogenmagnesiumthienyl)silane derivative obtained by reacting a halogen-substituted thienyl)silane derivative with magnesium can be easily and efficiently produced by polymerizing it in the presence of a transition metal complex catalyst. can. Further, according to the present invention, a conductive material exhibiting excellent conductivity can be easily obtained with good reproducibility.

【0053】[0053]

【実施例】次に実施例をあげて本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではな
い。
EXAMPLES Next, the present invention will be explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples in any way.

【0054】実施例1 {ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕ジメチルシラン
の合成}50mlのナス型フラスコにエーテル20ml
と2,5−ジブロモチオフェン10.0g(41.3m
mol)を入れた。これを−80℃に冷却して、ter
t−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(1.7M)25.
0ml(42.5mmol)を1時間で滴下し、そのま
まゆっくりと常温に戻した。さらに12時間室温で撹拌
した後、ジクロロジメチルシラン2.6g(20.0m
mol)を滴下し、3時間還流した。
Example 1 {Synthesis of bis[2-(5-bromothienyl)]dimethylsilane} 20 ml of ether was placed in a 50 ml eggplant-shaped flask.
and 10.0 g (41.3 m
mol) was added. This was cooled to -80℃ and ter
t-Butyllithium-hexane solution (1.7M) 25.
0 ml (42.5 mmol) was added dropwise over 1 hour, and the temperature was slowly returned to room temperature. After stirring for an additional 12 hours at room temperature, 2.6 g (20.0 m
mol) was added dropwise, and the mixture was refluxed for 3 hours.

【0055】加水分解した後、油層を分離し、水で洗浄
し、水層をヘキサンで抽出し、油層を合せて無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。その後、溶媒を留去し、減圧蒸
留(0.1℃/0.1mmHg)を行い、さらにカラム
(シリカゲル、ヘキサン)で精製し、ビス〔2−(5−
ブロモチエニル)〕ジメチルシラン5.5g(14.4
mmol、収率72%)を得た。この化合物の沸点は1
15℃/0.1mmHgであり、機器分析の結果を以下
に示す。
After hydrolysis, the oil layer was separated, washed with water, extracted with hexane, and the oil layers were combined and dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, the solvent was distilled off, vacuum distillation (0.1°C/0.1mmHg) was performed, and further purification was performed using a column (silica gel, hexane).
bromothienyl)]dimethylsilane 5.5g (14.4
mmol, yield 72%). The boiling point of this compound is 1
The temperature was 15° C./0.1 mmHg, and the results of instrumental analysis are shown below.

【0056】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.49(s,6H,Si
CH3)、      6.94(d,2H,ring
  protons,J=4Hz)、      6.
99(d,2H,ring  protons,J=4
Hz)  13C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶
媒中で測定、δppm)      −0.6,118
.2,131.4,135.9,139.6  マスス
ペクトル       m/e:380(M+)   元素分析(C10H10Si1S2Br2として)
      実測値  C:31.24,H:2.70
      計算値  C:31.43,H:2.64
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.49 (s, 6H, Si
CH3), 6.94(d,2H,ring
protons, J=4Hz), 6.
99 (d, 2H, ring protons, J=4
Hz) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) -0.6,118
.. 2,131.4,135.9,139.6 Mass spectrum m/e: 380 (M+) Elemental analysis (as C10H10Si1S2Br2)
Actual value C: 31.24, H: 2.70
Calculated value C: 31.43, H: 2.64

【0057】実施例2 {ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕ジメチルシラン
の重合}枝付の長さ15cm、内径10mmのパイレッ
クス管の底を封じ、ミクロ回転子とマグネシウム24.
3mg(1.0mmol)を入れ、真空下で加熱して乾
燥させた。その後テトラヒドロフラン2mlと1,1−
ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕ジメチルシラン3
82mg(1.0mmol)を入れ、50℃に加熱して
グリニャール試薬を調製した。放冷した後、枝からニッ
ケルジクロリド(1,2−ビスジフェニルホスフィノエ
タン)6.9mg(0.013mmol、1.3mol
%)を入れ、脱気封管し、230℃で100時間加熱し
た。
Example 2 {Polymerization of bis[2-(5-bromothienyl)]dimethylsilane} The bottom of a Pyrex tube with a branched length of 15 cm and an inner diameter of 10 mm was sealed, and a micro rotor and a magnesium 24.
3 mg (1.0 mmol) was added and heated under vacuum to dry. Then add 2 ml of tetrahydrofuran and 1,1-
Bis[2-(5-bromothienyl)]dimethylsilane 3
82 mg (1.0 mmol) was added and heated to 50°C to prepare a Grignard reagent. After cooling, 6.9 mg (0.013 mmol, 1.3 mol) of nickel dichloride (1,2-bisdiphenylphosphinoethane) was extracted from the branch.
%), the tube was degassed and sealed, and heated at 230°C for 100 hours.

【0058】反応終了後加水分解を行い、クロロホルム
で抽出し、不溶性成分の濾過を行った後、クロロホルム
/エタノールで再沈澱を行い、175mg(0.79m
mol  units)のポリ〔(ジメチルシリレン)
−2,2′−ビチエニレン〕を収率79%で得た。この
ポリマーの融点は168〜172℃/0.1mmHgで
あり、GPCによって得られた重量平均分子量(Mw)
は7800であった。機器分析の結果を以下に示す。
After completion of the reaction, hydrolysis was carried out, extraction with chloroform, insoluble components were filtered, reprecipitation was carried out with chloroform/ethanol, and 175 mg (0.79 m
mol units) of poly[(dimethylsilylene)
-2,2'-bithienylene] was obtained in a yield of 79%. The melting point of this polymer is 168-172°C/0.1 mmHg, and the weight average molecular weight (Mw) obtained by GPC
was 7,800. The results of the instrumental analysis are shown below.

【0059】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.63(s,6H,Si
CH3)、      7.20(s,4H,ring
  protons)  13C核磁気共鳴スペクトル
(CDCl3溶媒中で測定、δppm)      −
2.7,125.4,133.9,134.4,140
.8  元素分析〔(C10H10Si1S2)nとし
て〕      実測値  C:53.00,  H:
4.45      計算値  C:53.06,  
H:4.45
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.63 (s, 6H, Si
CH3), 7.20(s,4H,ring
protons) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) -
2.7, 125.4, 133.9, 134.4, 140
.. 8 Elemental analysis [as (C10H10Si1S2)n] Actual value C: 53.00, H:
4.45 Calculated value C: 53.06,
H:4.45

【0060】実施例3 {ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕メチルフェニル
シランの合成}50mlのナス型フラスコにエーテル2
0mlと2,5−ジブロモチオフェン10.0g(41
.3mmol)を入れた。これを−80℃に冷却して、
tert−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(1.7M)
25.0ml(42.5mmol)を1時間で滴下し、
そのままゆっくりと常温に戻した。さらに12時間室温
で撹拌した後、ジクロロメチルフェニルシラン3.8g
(20.0mmol)を適下し、3時間還流した。
Example 3 {Synthesis of bis[2-(5-bromothienyl)]methylphenylsilane} Ether 2 was placed in a 50 ml eggplant-shaped flask.
0 ml and 10.0 g of 2,5-dibromothiophene (41
.. 3 mmol) was added. Cool this to -80℃,
tert-butyllithium-hexane solution (1.7M)
25.0 ml (42.5 mmol) was dropped over 1 hour,
The temperature was then slowly returned to room temperature. After stirring for a further 12 hours at room temperature, 3.8 g of dichloromethylphenylsilane
(20.0 mmol) was added dropwise and refluxed for 3 hours.

【0061】加水分解した後、油層を分離し、水で洗浄
し、水層をヘキサンで抽出し、油層を合せて無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。その後、溶媒を留去し、減圧蒸
留(155℃/0.1mmHg)を行い、さらにカラム
(シリカゲル、ヘキサン)で精製し、ビス〔2−(5−
ブロモチエニル)〕メチルフェニルシラン4.2g(9
.5mmol、収率47%)を得た。この化合物の沸点
は155℃/0.1mmHgであり、機器分析の結果を
以下に示す。
After hydrolysis, the oil layer was separated, washed with water, extracted with hexane, and the oil layers were combined and dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, the solvent was distilled off, vacuum distillation (155°C/0.1 mmHg) was performed, and further purification was performed using a column (silica gel, hexane).
bromothienyl)] methylphenylsilane 4.2g (9
.. 5 mmol, yield 47%). The boiling point of this compound is 155° C./0.1 mmHg, and the results of instrumental analysis are shown below.

【0062】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.84(s,2H,Si
CH3)、      7.04(d,2H,Thie
nyl  ring  protons,J=4Hz)
、       7.11(d,2H,Thienyl  
ring  protons,J=4Hz)、       7.34−7.57(m,5H,Phen
yl  ring  protons)   13C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で
測定、δppm)      −1.6,119.0,
128.2,130.4,131.5,      1
34.1,134.6,137.5,137.7  マ
ススペクトル       m/e:422(M+)   元素分析(C15H12Si1S2Br2として)
      実測値  C:40.66,  H:2.
90      計算値  C:40.55,  H:
2.72
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.84 (s, 2H, Si
CH3), 7.04(d,2H,Thie
nyl ring protons, J=4Hz)
, 7.11(d,2H,Thienyl
ring protons, J=4Hz), 7.34-7.57(m, 5H, Phen
yl ring protons) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) -1.6,119.0,
128.2, 130.4, 131.5, 1
34.1, 134.6, 137.5, 137.7 Mass spectrum m/e: 422 (M+) Elemental analysis (as C15H12Si1S2Br2)
Actual measurement value C: 40.66, H: 2.
90 Calculated value C: 40.55, H:
2.72

【0063】実施例4 {ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕メチルフェニル
シランの重合}枝付の長さ15cm、内径10mmのパ
イレックス管の底を封じ、ミクロ回転子とマグネシウム
24.3mg(1.0mmol)を入れ、真空下で加熱
して乾燥させた。その後テトラヒドロフラン2mlと1
,1−ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕メチルフェ
ニルシラン444mg(1.0mmol)を入れ、50
℃に加熱してグリニャール試薬を調製した。放冷した後
、枝からニッケルジクロリド(1,2−ビスジフェニル
ホスフィノエタン)6.9mg(0.013mmol、
1.3mol%)を入れ、脱気封管し、230℃で50
時間加熱した。
Example 4 {Polymerization of bis[2-(5-bromothienyl)]methylphenylsilane} The bottom of a Pyrex tube with a branched length of 15 cm and an inner diameter of 10 mm was sealed, and a micro rotor and 24.3 mg of magnesium ( 1.0 mmol) and heated and dried under vacuum. Then add 2 ml of tetrahydrofuran and 1
, 444 mg (1.0 mmol) of 1-bis[2-(5-bromothienyl)]methylphenylsilane were added, and 50
A Grignard reagent was prepared by heating to . After cooling, 6.9 mg (0.013 mmol) of nickel dichloride (1,2-bisdiphenylphosphinoethane) was extracted from the branch.
1.3 mol%), degassed and sealed the tube, and heated at 230℃ for 50 minutes.
heated for an hour.

【0064】反応終了後加水分解を行い、クロロホルム
で抽出し、不溶性成分の濾過を行った後、クロロホルム
/エタノールで再沈澱を行い、280mg(0.99m
mol  units)のポリ〔(メチルフェニルシリ
レン)−2,2′−ビチエニレン〕を収率99%で得た
。 このポリマーの融点は148〜155℃/0.1mmH
gであり、GPCによって得られた重量平均分子量(M
w)は30000であった。機器分析の結果を以下に示
す。
After completion of the reaction, hydrolysis was carried out, extraction with chloroform, insoluble components were filtered, reprecipitation was carried out with chloroform/ethanol, and 280 mg (0.99 m
mol units) of poly[(methylphenylsilylene)-2,2'-bithienylene] was obtained in a yield of 99%. The melting point of this polymer is 148-155℃/0.1mmH
g, and the weight average molecular weight (M
w) was 30,000. The results of the instrumental analysis are shown below.

【0065】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.87(s,3H,Si
CH3)、      7.18−7.61(m,9H
,ring  protons)  13C核磁気共鳴
スペクトル(CDCl3溶媒中で測定、δppm)  
    −1.4,125.6,130.1,134.
7,134.9,      135.0,137.8
,143.9  元素分析〔(C15H12Si1S2
)nとして〕      実測値  C:63.24,
  H:4.38      計算値  C:63.3
3,  H:4.25
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.87 (s, 3H, Si
CH3), 7.18-7.61 (m, 9H
, ring protons) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm)
-1.4, 125.6, 130.1, 134.
7,134.9, 135.0, 137.8
, 143.9 Elemental analysis [(C15H12Si1S2
) as n] Actual measurement value C: 63.24,
H: 4.38 Calculated value C: 63.3
3, H: 4.25

【0066】実施例5 {1,1−ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕テトラ
メチルジシランの合成}50mlのナス型フラスコにエ
ーテル20mlと2,5−ジブロモチオフェン5.4g
(22.3mmol)を入れた。これを−80℃に冷却
して、tert−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(1.
7M)13.2ml(22.4mmol)を1時間で滴
下し、そのままゆっくりと常温に戻した。さらに12時
間室温で撹拌した後、1,1−ジクロロテトラメチルジ
シラン2.1g(11.2mmol)を滴下し、3時間
還流した。
Example 5 {Synthesis of 1,1-bis[2-(5-bromothienyl)]tetramethyldisilane} 20 ml of ether and 5.4 g of 2,5-dibromothiophene were placed in a 50 ml eggplant-shaped flask.
(22.3 mmol) was added. This was cooled to -80°C, and a tert-butyllithium-hexane solution (1.
7M) was added dropwise over 1 hour, and the temperature was slowly returned to room temperature. After further stirring at room temperature for 12 hours, 2.1 g (11.2 mmol) of 1,1-dichlorotetramethyldisilane was added dropwise, and the mixture was refluxed for 3 hours.

【0067】加水分解した後、油層を分離し、水で洗浄
し、水層をヘキサンで抽出した。その後、油層を合せて
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。続い
てカラム(シリカゲル、ヘキサン)で精製し、1,1−
ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕テトラメチルジシ
ラン3.7g(8.4mmol、収率75%)を得た。 機器分析の結果を以下に示す。
After hydrolysis, the oil layer was separated, washed with water, and the aqueous layer was extracted with hexane. Thereafter, the oil layers were combined and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. Subsequently, the 1,1-
3.7 g (8.4 mmol, yield 75%) of bis[2-(5-bromothienyl)]tetramethyldisilane was obtained. The results of the instrumental analysis are shown below.

【0068】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.20(s,9H,Si
CH3)、      0.63(s,3H,SiCH
3)、      7.02(d,2H,ring  
protons,J=4Hz)、      7.11
(d,2H,ring  protons,J=4Hz
)  13C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中
で測定、δppm)      −3.1,−2.2,
117.8,131.5,136.0,138.7  
マススペクトル       m/e:423(M+−CH3)  元素
分析(C12H16Si2S2Br2として)    
  実測値  C:32.70,  H:3.66  
    計算値  C:32.73,  H:3.66
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.20 (s, 9H, Si
CH3), 0.63(s,3H,SiCH
3), 7.02(d,2H,ring
protons, J=4Hz), 7.11
(d, 2H, ring protons, J=4Hz
) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) -3.1, -2.2,
117.8, 131.5, 136.0, 138.7
Mass spectrum m/e: 423 (M+-CH3) Elemental analysis (as C12H16Si2S2Br2)
Actual value C: 32.70, H: 3.66
Calculated value C: 32.73, H: 3.66

【0069】実施例6 {1,1−ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕テトラ
メチルジシランの重合}枝付の長さ15cm、内径10
mmのパイレックス管の底を封じ、ミクロ回転子とマグ
ネシウム24.3mg(1.0mmol)を入れ、真空
下で加熱して乾燥させた。その後テトラヒドロフラン2
mlと1,1−ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕テ
トラメチルジシラン440mg(1.0mmol)を入
れ、50℃に加熱してグリニャール試薬を調製した。放
冷した後、枝からニッケルジクロリド(1,2−ビスジ
フェニルホスフィノエタン)6.9mg(0.013m
mol、1.3mol%)を入れ、脱気封管し、230
℃で100時間加熱した。
Example 6 {Polymerization of 1,1-bis[2-(5-bromothienyl)]tetramethyldisilane} Branch length 15 cm, inner diameter 10
The bottom of a mm Pyrex tube was sealed, a micro rotor and 24.3 mg (1.0 mmol) of magnesium were put therein, and the tube was heated and dried under vacuum. Then tetrahydrofuran 2
ml and 440 mg (1.0 mmol) of 1,1-bis[2-(5-bromothienyl)]tetramethyldisilane were added and heated to 50°C to prepare a Grignard reagent. After cooling, 6.9 mg (0.013 m
mol, 1.3 mol%), degassed and sealed the tube, and
It was heated at ℃ for 100 hours.

【0070】反応終了後加水分解を行い、クロロホルム
で抽出し、不溶性成分の濾過を行った後、クロロホルム
/エタノールで再沈澱を行い、216mg(0.77m
mol  units)のポリ〔(メチルトリメチルシ
リルシリレン)−2,2′−ビチエニレン〕を収率77
%で得た。このポリマーの融点は102〜107℃/0
.1mmHgであり、GPCによって得られた重量平均
分子量(Mw)は11000であった。機器分析の結果
を以下に示す。
After completion of the reaction, hydrolysis was carried out, extraction with chloroform, insoluble components were filtered, reprecipitation was carried out with chloroform/ethanol, and 216 mg (0.77 m
mol units) of poly[(methyltrimethylsilylsilylene)-2,2'-bithienylene] with a yield of 77.
Obtained in %. The melting point of this polymer is 102-107℃/0
.. The weight average molecular weight (Mw) obtained by GPC was 11,000. The results of the instrumental analysis are shown below.

【0071】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.20(s,9H,Si
(CH3)3)、      0.67(s,3H,S
iCH3)、      7.17(d,2H,rin
g  protons  J=3.0Hz)、    
  7.26(d,2H,ring  protons
  J=3.0Hz)  13C核磁気共鳴スペクトル
(CDCl3溶媒中で測定、δppm)      −
2.9,−2.2,125.4,135.7,136.
3,143.2
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.20 (s, 9H, Si
(CH3)3), 0.67(s,3H,S
iCH3), 7.17(d,2H,rin
g protons J=3.0Hz),
7.26 (d, 2H, ring protons
J=3.0Hz) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) -
2.9, -2.2, 125.4, 135.7, 136.
3,143.2

【0072】実施例7 実施例2で得られたポリ〔(ジメチルシリレン)〕−2
,2′−ビチエニレン(前記一般式〔3〕中のRおよび
R2がメチル基、R3、R4、R5およびR6が水素原
子、mが1)1mgを0.1mlのジクロロメタン溶媒
に溶解した。この溶液を用いてスピンコート法により絶
縁基板上に1300Åの厚さの膜を形成した。この膜に
SbF5を気相にて供給してドーピングを行った後、膜
の導電性を測定した。導電性は四探針法を採用して、膜
に電圧を印加して流れる電流および電圧を測定すること
により評価した。その結果、この膜の導電率は1.2S
/cmであった。
Example 7 Poly[(dimethylsilylene)]-2 obtained in Example 2
, 2'-bithienylene (R and R2 in the above general formula [3] are methyl groups, R3, R4, R5 and R6 are hydrogen atoms, m is 1) was dissolved in 0.1 ml of dichloromethane solvent. Using this solution, a film with a thickness of 1300 Å was formed on an insulating substrate by spin coating. After doping this film by supplying SbF5 in a gas phase, the conductivity of the film was measured. Conductivity was evaluated by applying a voltage to the membrane and measuring the flowing current and voltage using the four-probe method. As a result, the conductivity of this film was 1.2S
/cm.

【0073】実施例8 実施例4で得られたポリ〔(メチルフェニルシリレン〕
−2,2′−ビチエニレン(前記一般式〔3〕中のRが
メチル基、R2がフェニル基、R3、R4、R5および
R6が水素原子、mが1)1mgを0.1mlのジクロ
ロメタン溶媒に溶解した。この溶液を用いてスピンコー
ト法により絶縁基板上に1620Åの厚さの膜を形成し
た。 この膜にSbF5を気相にて供給してドーピングを行っ
た後、実施例7と同様にして膜の導電性を測定した結果
、この膜の導電率は0.038S/cmであった。
Example 8 Poly[(methylphenylsilylene] obtained in Example 4)
-2,2'-bithienylene (R in the above general formula [3] is a methyl group, R2 is a phenyl group, R3, R4, R5 and R6 are hydrogen atoms, m is 1) in 0.1 ml of dichloromethane solvent. Dissolved. Using this solution, a film with a thickness of 1620 Å was formed on an insulating substrate by spin coating. After doping this film by supplying SbF5 in a vapor phase, the conductivity of the film was measured in the same manner as in Example 7. As a result, the conductivity of this film was 0.038 S/cm.

【0074】実施例9 実施例6で得られたポリ〔(メチルトリメチルシリルシ
リレン)〕−2,2′−ビチエニレン(前記一般式〔3
〕中のRがトリメチルシリル基、R2がメチル基、R3
、R4、R5およびR6が水素原子、mが1)1mgを
0.1mlのジクロロメタン溶媒に溶解した。この溶液
を用いてスピンコート法により絶縁基板上に2000Å
の厚さの膜を形成した。この膜にSbF6を気相にて供
給してドーピングを行った後、実施例7と同様にして膜
の導電性を測定した結果、この膜の導電率は0.001
3S/cmであった。
Example 9 Poly[(methyltrimethylsilylsilylene)]-2,2'-bithienylene obtained in Example 6 (the general formula [3
] R is trimethylsilyl group, R2 is methyl group, R3
, R4, R5 and R6 are hydrogen atoms, and m is 1) 1 mg was dissolved in 0.1 ml of dichloromethane solvent. Using this solution, a layer of 2000 Å was coated on an insulating substrate by spin coating.
A film with a thickness of . After doping this film by supplying SbF6 in the vapor phase, the conductivity of the film was measured in the same manner as in Example 7. As a result, the conductivity of this film was 0.001.
It was 3S/cm.

【0075】実施例10 {1,2−ビス(5−ブロモチエニル)テトラメチルジ
シランの合成}氷冷下ジエチルエーテル30ml中、2
,5−ジブロモチオフェン5.0ml(0.044モル
)とマグネシウム1.07g(0.044モル)から合
成したモノグリニャール試薬に、室温で1,2−ジクロ
ロテトラメチルジシラン4.15g(0.022モル)
を滴下した後、3時間還流下で攪拌した。
Example 10 {Synthesis of 1,2-bis(5-bromothienyl)tetramethyldisilane} In 30 ml of diethyl ether under ice cooling, 2
, 5-dibromothiophene (5.0 ml) and 1.07 g (0.044 mol) of magnesium were added with 4.15 g (0.022 g of 1,2-dichlorotetramethyldisilane) at room temperature. mole)
was added dropwise, and the mixture was stirred under reflux for 3 hours.

【0076】冷却後、加水分解して油層分離後、水で洗
浄した後、水層をヘキサン抽出し、油層を合せて、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥後、溶媒を留去し、減圧蒸留
して1,2−ビス(5−ブロモチエニル)テトラメチル
ジシラン3.5g(0.0795モル、収率36%)を
得た。この化合物の沸点は125℃/0.1mmHgで
あり、機器分析の結果を以下に示す。
After cooling, the oil layer was separated by hydrolysis, washed with water, the aqueous layer was extracted with hexane, the oil layers were combined, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off, and the mixture was distilled under reduced pressure. 3.5 g (0.0795 mol, yield 36%) of 1,2-bis(5-bromothienyl)tetramethyldisilane was obtained. The boiling point of this compound is 125° C./0.1 mmHg, and the results of instrumental analysis are shown below.

【0077】   1H核磁気共鳴スペクトル(CCl4溶媒中で測定
、δppm)      0.39(s,12H,CH
3Si)、      6.82(d,2H,ring
  protons,J=12Hz)、      6
.89(d,2H,ring  protons,J=
12Hz)  13C核磁気共鳴スペクトル  (CD
Cl3溶媒中で測定、δppm)      −2.9
6,117.0,131.4,135.0,140.6
  マススペクトル       m/e:438(M+)   元素分析(C12H16Br2S2Si2として)
      実測値  C:32.70,  H:3.
66      計算値  C:32.73,  H:
3.66
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CCl4 solvent, δppm) 0.39 (s, 12H, CH
3Si), 6.82(d,2H,ring
protons, J=12Hz), 6
.. 89 (d, 2H, ring protons, J=
12Hz) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (CD
Measured in Cl3 solvent, δppm) -2.9
6,117.0,131.4,135.0,140.6
Mass spectrum m/e: 438 (M+) Elemental analysis (as C12H16Br2S2Si2)
Actual value C: 32.70, H: 3.
66 Calculated value C: 32.73, H:
3.66

【0078】実施例11 〔1,2−ビス(5−ブロモチエニル)テトラメチルジ
シランの重合〕室温でテトラヒドロフラン10ml中、
1,2−ビス(5−ブロモチエニル)テトラメチルジシ
ラン3.5g(0.0795モル)とマグネシウム0.
193g(0.0795モル)から合成したグリニャー
ル試薬にNiCl2(ビピリジン錯体)12.3mg(
0.0000436モル)を加えて室温で15時間攪拌
した。テトラヒドロフラン留去後クロロホルム/エタノ
ールにより再沈を行い、ポリ〔(テトラメチルジシラニ
レン)ジチエニレン〕0.25g(収率11%)を得た
。このポリマーの融点は300℃以上で、GPCによっ
て得られた重量平均分子量(Mw)は9050であった
。機器分析の結果を以下に示す。
Example 11 [Polymerization of 1,2-bis(5-bromothienyl)tetramethyldisilane] In 10 ml of tetrahydrofuran at room temperature,
3.5 g (0.0795 mol) of 1,2-bis(5-bromothienyl)tetramethyldisilane and 0.0 g of magnesium.
12.3 mg (bipyridine complex) of NiCl2 (bipyridine complex) was added to the Grignard reagent synthesized from 193 g (0.0795 mol).
0.0000436 mol) and stirred at room temperature for 15 hours. After distilling off tetrahydrofuran, reprecipitation was performed using chloroform/ethanol to obtain 0.25 g (yield: 11%) of poly[(tetramethyldisilanylene)dithienylene]. The melting point of this polymer was 300° C. or higher, and the weight average molecular weight (Mw) obtained by GPC was 9,050. The results of the instrumental analysis are shown below.

【0079】   1H核磁気共鳴スペクトル(CCl4溶媒中で測定
、δppm)      0.42(br  s,12
H,CH3Si)、      7.25(br  s
,4H,ring  protons)  13C核磁
気共鳴スペクトル  (CDCl3溶媒中で測定、δp
pm)      −2.82,125.2,135.
4,137.4,142.7
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CCl4 solvent, δppm) 0.42 (br s, 12
H, CH3Si), 7.25(br s
, 4H, ring protons) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δp
pm) -2.82, 125.2, 135.
4,137.4,142.7

【0080】実施例12 実施例11で得たポリ〔(テトラメチルジシラニレン)
ジチエニレン〕(前記一般式〔3〕中のRおよびR2が
メチル基、R3、R4、R5およびR6が水素原子、m
が2)1mgを0.1mlのジクロロエタンとトルエン
との1対1の混合溶媒に溶解した。この溶液を用いてス
ピンコート法により絶縁基板上に2100Åの厚さの膜
を形成した。この膜にSbF5を気相にて供給してドー
ピングを行った後、実施例7と同様にして膜の導電性を
測定した結果、この膜の導電率σは1.89S/cmで
あった。
Example 12 Poly[(tetramethyldisilanylene) obtained in Example 11
dithienylene] (R and R2 in the above general formula [3] are methyl groups, R3, R4, R5 and R6 are hydrogen atoms, m
2) 1 mg was dissolved in 0.1 ml of a 1:1 mixed solvent of dichloroethane and toluene. Using this solution, a film with a thickness of 2100 Å was formed on an insulating substrate by spin coating. After doping this film by supplying SbF5 in a vapor phase, the conductivity of the film was measured in the same manner as in Example 7. As a result, the conductivity σ of this film was 1.89 S/cm.

【0081】実施例13 {1,3−ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕ヘキサ
メチルトリシランの合成}50mlのナス型フラスコに
エーテル20mlと2,5−ジブロモチオフェン11.
1g(45.5mmol)を入れた。これを−80℃に
冷却して、tert−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(
1.7M)27.0ml(45.9mmol)を1時間
で滴下し、そのままゆっくりと常温に戻した。さらに1
2時間室温で攪拌した後、1,3−ジクロロヘキサメチ
ルトリシラン5.6g(22.9mmol)を滴下し、
3時間還流した。
Example 13 {Synthesis of 1,3-bis[2-(5-bromothienyl)]hexamethyltrisilane} 20 ml of ether and 2,5-dibromothiophene 11.
1 g (45.5 mmol) was added. This was cooled to -80°C, and the tert-butyllithium-hexane solution (
27.0 ml (45.9 mmol) of 1.7 M) was added dropwise over 1 hour, and the temperature was slowly returned to room temperature. 1 more
After stirring at room temperature for 2 hours, 5.6 g (22.9 mmol) of 1,3-dichlorohexamethyltrisilane was added dropwise.
It was refluxed for 3 hours.

【0082】加水分解した後、油層を分離し、水で洗浄
し、水層をヘキサンで抽出した。油層を合せて無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。その後減圧蒸
留(140℃/0.1mmHg)を行い、さらにオープ
ンカラム(シリカゲル、ヘキサン)で精製し、1,3−
ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕ヘキサメチルトリ
シラン2.6g(5.2mmol、収率23%)を得た
。この化合物の沸点は140℃/0.1mmHgであり
、機器分析の結果を以下に示す。
After hydrolysis, the oil layer was separated, washed with water, and the aqueous layer was extracted with hexane. The oil layers were combined and dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off. After that, vacuum distillation (140℃/0.1mmHg) was performed, and further purification was performed using an open column (silica gel, hexane).
2.6 g (5.2 mmol, yield 23%) of bis[2-(5-bromothienyl)]hexamethyltrisilane was obtained. The boiling point of this compound is 140° C./0.1 mmHg, and the results of instrumental analysis are shown below.

【0083】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.17(s,6H,Si
Si(CH3)2Si)、      0.35(s,
12H,(CH3)2SiSi(CH3)2)、   
   6.87(d,2H,ring  proton
s,J=4Hz)、      7.09(d,2H,
ring  protons,J=4Hz)  13C
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測定、δp
pm)      −2.1,−1.4,116.6,
131.3,134.5,141.8  マススペクト
ル       m/e:496(M+)   元素分析(C14H22Si3S2Br2として)
      実測値  C:33.69,  H:4.
41      計算値  C:33.73,  H:
4.45
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.17 (s, 6H, Si
Si(CH3)2Si), 0.35(s,
12H, (CH3)2SiSi(CH3)2),
6.87 (d, 2H, ring proton
s, J=4Hz), 7.09(d, 2H,
ring protons, J=4Hz) 13C
Nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δp
pm) -2.1, -1.4, 116.6,
131.3, 134.5, 141.8 Mass spectrum m/e: 496 (M+) Elemental analysis (as C14H22Si3S2Br2)
Actual value C: 33.69, H: 4.
41 Calculated value C: 33.73, H:
4.45

【0084】実施例14 {1,3−ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕ヘキサ
メチルトリシランの重合}枝付の長さ15cm、内径1
0mmのパイレックス管の底を封じ、ミクロ回転子とマ
グネシウム24.3mg(1.0mmol)を入れ、真
空下で加熱して乾燥させた。その後テトラヒドロフラン
2mlと1,3−ビス〔2−(5−ブロモチエニル)〕
ヘキサメチルトリシラン498mg(1.0mmol)
を入れ、50℃に加熱してグリニャール試薬を調製した
。放冷した後、枝からニッケルジクロリド(1,2−ビ
スジフェニルホスフィノエタン)6.9mg(0.01
3mmol、1.3mol%)を入れ、脱気封管し、2
30℃で100時間加熱した。
Example 14 {Polymerization of 1,3-bis[2-(5-bromothienyl)]hexamethyltrisilane} Branch length 15 cm, inner diameter 1
The bottom of a 0 mm Pyrex tube was sealed, a micro rotator and 24.3 mg (1.0 mmol) of magnesium were placed therein, and the tube was heated and dried under vacuum. Then add 2 ml of tetrahydrofuran and 1,3-bis[2-(5-bromothienyl)]
Hexamethyltrisilane 498mg (1.0mmol)
was added and heated to 50°C to prepare a Grignard reagent. After cooling, 6.9 mg (0.01
3 mmol, 1.3 mol%), degassed and sealed the tube,
It was heated at 30°C for 100 hours.

【0085】反応終了後加水分解を行い、クロロホルム
で抽出し、不溶性成分の濾過を行った後、クロロホルム
/エタノールで再沈澱を行い55mg(0.16mmo
lunits)のポリ〔(ヘキサメチルトリシラニレン
)−2,2′−ビチエニレン〕を収率16%で得た。 このポリマーの融点は74〜78℃であり、GPCによ
って得られた重量平均分子量(Mw)は10500であ
った。機器分析の結果を以下に示す。
After completion of the reaction, hydrolysis was performed, extraction with chloroform, insoluble components were filtered, and reprecipitation was performed with chloroform/ethanol to obtain 55 mg (0.16 mmol).
lunits) poly[(hexamethyltrisilanylene)-2,2'-bithienylene] was obtained in a yield of 16%. The melting point of this polymer was 74 to 78°C, and the weight average molecular weight (Mw) obtained by GPC was 10,500. The results of the instrumental analysis are shown below.

【0086】   1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中で測
定、δppm)      0.16(s,6H,Si
Si(CH3)2Si)、      0.35(s,
12H,Si(CH3)2SiSi(CH3)2)、 
     6.99(d,2H,ring  prot
ons,J=3.3Hz)、      7.19(d
,2H,ring  protons,J=3.3Hz
)  13C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒中
で測定、δppm)      −6.7,−2.0,
125.1(2C),134.9,142.6  元素
分析(C14H22Si3S2として)      実
測値  C:48.49,  H:6.58     
 計算値  C:49.65,  H:6.55
1H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) 0.16 (s, 6H, Si
Si(CH3)2Si), 0.35(s,
12H, Si(CH3)2SiSi(CH3)2),
6.99(d,2H,ring prot
ons, J=3.3Hz), 7.19(d
, 2H, ring protons, J=3.3Hz
) 13C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl3 solvent, δppm) -6.7, -2.0,
125.1 (2C), 134.9, 142.6 Elemental analysis (as C14H22Si3S2) Actual value C: 48.49, H: 6.58
Calculated value C: 49.65, H: 6.55

【00
87】実施例15 実施例14で得られたポリ〔(ヘキサメチルトリシラニ
レン)〕−2,2′−ビチエニレン(前記一般式〔3〕
中のRおよびR2がメチル基、R3、R4、R5および
R6が水素原子、mが3)1mgを0.1mlのジクロ
ロメタン溶媒に溶解した。この溶液を用いてスピンコー
ト法により絶縁基板上に2000Åの厚さの膜を形成し
た。 この膜にSbF5を気相にて供給してドーピングを行っ
た後、実施例7と同様にして膜の導電性を測定した結果
、この膜の導電率は1.31S/cmであった。
00
87] Example 15 Poly[(hexamethyltrisilanylene)]-2,2'-bithienylene obtained in Example 14 (the general formula [3]
R and R2 are methyl groups, R3, R4, R5 and R6 are hydrogen atoms, and m is 3) 1 mg was dissolved in 0.1 ml of dichloromethane solvent. Using this solution, a film with a thickness of 2000 Å was formed on an insulating substrate by spin coating. After doping this film by supplying SbF5 in a vapor phase, the conductivity of the film was measured in the same manner as in Example 7. As a result, the conductivity of this film was 1.31 S/cm.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  一般式〔1〕 【化1】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲン置換チエニ
ル)シラン誘導体。
Claim 1: General formula [1] [Formula 1] (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group) ,R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. ) A bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative.
【請求項2】  一般式〔2〕 【化2】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲンマグネシウ
ムチエニル)シラン誘導体。
[Claim 2] General formula [2] [Formula 2] (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group) ,R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. ) Bis(5-halogenmagnesiumthienyl)silane derivative.
【請求項3】  一般式〔3〕 【化3】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、mは1以上の
数を示し、nは2以上の数を示す。)で表わされるポリ
シラン化合物。
[Claim 3] General formula [3] [Formula 3] (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group) ,R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, m represents a number of 1 or more, and n represents a number of 2 or more. show. ) A polysilane compound represented by
【請求項4】  一般式〔4〕 【化4】 (式中、R7およびR8はそれぞれ独立に水素原子、ま
たはアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアル
コキシ基からなる群から選ばれる基を示し、X3および
X4はそれぞれ独立にハロゲン原子を示す。)で表わさ
れる2,5−ジハロゲン置換チオフェン誘導体とマグネ
シウムとを反応させて得られる2−ハロゲン置換−5−
ハロゲンマグネシウムチオフェン誘導体、または前記一
般式〔4〕で表わされる2,5−ジハロゲン置換チオフ
ェン誘導体とリチオ化試剤とを反応させて得られる2−
ハロゲン置換−5−リチウムチオフェン誘導体に、一般
式〔5〕 【化5】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、X5お
よびX6はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1
以上の数を示す。)で表わされるジハロゲン置換シラン
類を反応させることを特徴とする一般式〔1〕【化6】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲン置換チエニ
ル)シラン誘導体の製造方法。
[Claim 4] General formula [4] [Formula 4] (wherein R7 and R8 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and an alkoxy group, 2-halogen-substituted-5- obtained by reacting a 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by (X3 and X4 each independently represent a halogen atom) with magnesium.
2-2, which is obtained by reacting a halogen magnesium thiophene derivative or a 2,5-dihalogen-substituted thiophene derivative represented by the general formula [4] with a lithiation reagent.
The halogen-substituted 5-lithium thiophene derivative has the general formula [5] [Chemical formula 5] (wherein R and R2 are each independently selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group). represents a selected group, X5 and X6 each independently represent a halogen atom, m is 1
Indicates the above number. General formula [1] [Chemical formula 6] characterized by reacting dihalogen-substituted silanes represented by Represents a group selected from the group consisting of silyl groups, R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. ) A method for producing a bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative.
【請求項5】  一般式〔1〕 【化7】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲン置換チエニ
ル)シラン誘導体とマグネシウムとを反応させることを
特徴とする一般式〔2〕 【化8】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲンマグネシウ
ムチエニル)シラン誘導体の製造方法。
[Claim 5] General formula [1] [Formula 7] (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group) ,R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. General formula [2] characterized by reacting a bis(5-halogen-substituted thienyl)silane derivative represented by , represents a group selected from the group consisting of an aralkyl group, an alkylsilyl group and an arylsilyl group, R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. ) A method for producing a bis(5-halogenmagnesiumthienyl)silane derivative.
【請求項6】  一般式〔1〕 【化9】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、XおよびX2
はそれぞれ独立にハロゲン原子を示し、mは1以上の数
を示す。)で表わされるビス(5−ハロゲン置換チエニ
ル)シラン誘導体とマグネシウムとを反応させて得られ
るビス(5‐ハロゲンマグネシウムチエニル)シラン誘
導体を、遷移金属錯体触媒の存在下に重合させることを
特徴とする一般式〔3〕 【化10】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、mは1以上の
数を示し、nは2以上の数を示す。)で表わされるポリ
シラン化合物の製造方法。
[Claim 6] General formula [1] [Chemical formula 9] (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group) ,R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, and X and X2
each independently represents a halogen atom, and m represents a number of 1 or more. ) A bis(5-halogen magnesium thienyl) silane derivative obtained by reacting a bis(5-halogen-substituted thienyl) silane derivative represented by ) with magnesium is polymerized in the presence of a transition metal complex catalyst. General formula [3] [Formula 10] (wherein R and R2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group, R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, m represents a number of 1 or more, and n represents a number of 2 or more. show. ) A method for producing a polysilane compound represented by
【請求項7】  主鎖が、一般式〔3〕【化11】 (式中、RおよびR2はそれぞれ独立にアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルキルシリル基およびアリ
ールシリル基からなる群から選ばれる基を示し、R3、
R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、また
はアルキル基、アリール基、アラルキル基およびアルコ
キシ基からなる群から選ばれる基を示し、mは1以上の
数を示し、nは2以上の数を示す。)で表わされる、シ
ラニレンジチエニレン単位の繰返し単位を有するポリシ
ラン化合物からなることを特徴とする導電性材料。
7. The main chain has the general formula [3] [Chemical formula 11] (wherein R and R2 are each independently selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsilyl group, and an arylsilyl group) R3,
R4, R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an alkoxy group, m represents a number of 1 or more, and n represents a number of 2 or more. show. ) A conductive material comprising a polysilane compound having repeating units of silanylene dithienylene units.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5489662A (en) * 1993-09-01 1996-02-06 Toshiba Silicone Co., Ltd. Process for the preparation of organosilicon polymer
JP2017509138A (en) * 2013-12-11 2017-03-30 フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング Method and apparatus for the polymerization of a composition comprising hydridosilane and subsequent use of the polymer for the production of a silicon-containing layer

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US5489662A (en) * 1993-09-01 1996-02-06 Toshiba Silicone Co., Ltd. Process for the preparation of organosilicon polymer
JP2017509138A (en) * 2013-12-11 2017-03-30 フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング Method and apparatus for the polymerization of a composition comprising hydridosilane and subsequent use of the polymer for the production of a silicon-containing layer

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