JPH04207091A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

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JPH04207091A
JPH04207091A JP2340373A JP34037390A JPH04207091A JP H04207091 A JPH04207091 A JP H04207091A JP 2340373 A JP2340373 A JP 2340373A JP 34037390 A JP34037390 A JP 34037390A JP H04207091 A JPH04207091 A JP H04207091A
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JP
Japan
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semiconductor laser
light
laser element
mold
resin
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Japanese (ja)
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Hideto Furuyama
英人 古山
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To enable various kinds of problems in an airtight mold due to resin to be solved, production cost to be reduced, and element characteristic and reliability to be improved by providing a multilayer film reflection mirror consisting of a dielectric or a semiconductor at a light output part of a semiconductor laser element. CONSTITUTION:A semiconductor laser element 2 is mounted to a metal stem 1 by using a conductive paste or soldering materials such as AuSn, AuSi, PbSn, and In. Then, the semiconductor laser element 2 and an external connection electrode 3 are connected by a bonding wire 4. A metal wire or a metal ribbon such as Au, Cu, and Al are used for the bonding wire 4 and bonding is performed by supersonic connection, thermocompression, etc. After this, molding is performed by a resin with a flow behavior and resin is cured by heating, emitting light, leaving alone at a low temperature, etc. The semiconductor laser element 2 uses multilayer film reflection mirrors 6A and 6B according to a dielectric or a semiconductor for a reflection mirror at light output part.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は低価格化により汎用性及び応用性を高めた半導
体レーザ装置に係わり、特に半導体レーザ素子をマウン
トしたステム及び外部接続電極を樹脂モールドにより一
体化した半導体レーザ装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a semiconductor laser device that has improved versatility and applicability through lower costs, and particularly relates to a stem and an external device on which a semiconductor laser element is mounted. The present invention relates to a semiconductor laser device in which connection electrodes are integrated by resin molding.

(従来の技術) 半導体レーザは、光伝送、光情報処理等の光源として重
要であり、コヒーレント性、高速性。
(Conventional technology) Semiconductor lasers are important as light sources for optical transmission, optical information processing, etc., and are coherent and high-speed.

高出力性等の特長を利用した応用が展開されている。光
伝送においては発光ダイオードより遥かに高速、高出力
な直接変調光源として用いられ、光情報処理においては
狭ビームの得られる小型光源として重要視されている。
Applications are being developed that take advantage of features such as high output. In optical transmission, they are used as directly modulated light sources that are much faster and have higher output than light-emitting diodes, and in optical information processing, they are regarded as important as small light sources that can provide narrow beams.

また、センサシステムに適用した場合、発光ダイオード
より高速、高感度、高精度なシステムを構成することが
でき、その検討が活発に行われている。
Furthermore, when applied to a sensor system, it is possible to construct a system that is faster, more sensitive, and more accurate than a light emitting diode, and studies are actively being conducted on this topic.

第29図は従来の半導体レーザ装置の一例であり、コン
パクトディスクプレーヤ等で用いられる比較的普及型の
半導体レーザ装置である。
FIG. 29 shows an example of a conventional semiconductor laser device, which is a relatively popular semiconductor laser device used in compact disc players and the like.

101は半導体レーザマウントのための金属基体、10
2は半導体レーザ素子である。103は半導体レーザ素
子102への電気信号入力端子であり、ボンディングワ
イヤ104によって半導体レーザ素子102に接続され
る。105はハーメチックシールのための金属キャップ
、106はレーザ光出力のためのガラス窓、107は光
出力モニタ用のフォトダイオード、104゛はボンディ
ングワイヤ、108はフォトダイオード107からのモ
ニタ出力端子、109は接地電極端子である。
101 is a metal base for a semiconductor laser mount, 10
2 is a semiconductor laser element. 103 is an electrical signal input terminal to the semiconductor laser element 102, and is connected to the semiconductor laser element 102 by a bonding wire 104. 105 is a metal cap for hermetic sealing, 106 is a glass window for laser light output, 107 is a photodiode for monitoring optical output, 104゛ is a bonding wire, 108 is a monitor output terminal from photodiode 107, 109 is a This is a ground electrode terminal.

ここに示したような半導体レーザ装置は、モニタ用のフ
ォトダイオードを内蔵しているため外部からの電気的な
操作のみにより駆動できること、半導体レーザ素子のハ
ーメチックシールが行われているため周囲の湿度等によ
り劣化が加速され難いこと、光学系が外部取り付けであ
るため用途の限定が比較的少ないこと、等の特徴を持っ
ている。また、構成する部品点数を極力少なくしている
ため、電気的な操作のみによる駆動とハーメチックシー
ルの両方の特徴を兼ね備えた半導体レーザ装置としては
、最も低価格な部類に属するものとなっている。
The semiconductor laser device shown here has a built-in photodiode for monitoring, so it can be driven only by external electrical operation, and the semiconductor laser element is hermetically sealed, so it does not need to be affected by ambient humidity, etc. It has the characteristics that deterioration is not easily accelerated due to heat transfer, and because the optical system is externally attached, there are relatively few limitations on its uses. In addition, because the number of components is minimized, it is one of the lowest-priced semiconductor laser devices that combines the features of both electrically operated drive and hermetic sealing.

しかしながら、このような半導体レーザ装置においても
、一般の普及型発光ダイオード(Light Emit
ting Diode、以下LEDと記す)と比較する
と非常に高価であり、しかもその取扱いはLEDはど容
易ではない。一般に、半導体レーザを光源とするシステ
ムは高額システムであり、LEDを光源とするセンサシ
ステムやリモコンシステム等のような普及性が少ない。
However, even in such a semiconductor laser device, a general popular light emitting diode (Light Emit
ting diodes (hereinafter referred to as LEDs), and moreover, it is not as easy to handle as LEDs. Generally, systems using semiconductor lasers as light sources are expensive systems and are not as popular as sensor systems, remote control systems, etc. that use LEDs as light sources.

これは、第29図に示したような半導体レーザ装置では
、その実装が半導体レーザ素子の太きさに比して非常に
大きいことや機構か複雑であること、使用する部品が比
較的高価であり組み立てコストも高い等の問題かあり、
さらに外部に取り付ける光学系も高価でありその調整が
複雑で組み立てコストが高いことが主な要因となってい
る。
This is because the semiconductor laser device shown in Fig. 29 is mounted very large compared to the thickness of the semiconductor laser element, has a complicated mechanism, and uses relatively expensive parts. Yes, there are problems such as high assembly costs,
Furthermore, the optical system installed externally is also expensive, its adjustment is complicated, and the assembly cost is high.

第30図は従来の半導体レーザ装置の他の例である(特
開平2−125887号公報)。この例では、高価な部
品を用いず、また組み立てコストが低下するよう気密封
止を樹脂による気密モールドで行っている。図中、10
7’はモニタ用のフォトダイオードであり、一般に良く
知られているように半導体レーザ素子のサブマウントを
兼ねてコンパクト化をはかったものである。また、11
0は透光性の樹脂による樹脂モールドであり、流動成型
の後に硬化処理を行ったものである。
FIG. 30 shows another example of a conventional semiconductor laser device (Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-125887). In this example, hermetic sealing is performed using an airtight resin mold to avoid using expensive parts and to reduce assembly costs. In the figure, 10
Reference numeral 7' denotes a photodiode for monitoring, which is designed to be compact and also serves as a submount for a semiconductor laser element, as is generally well known. Also, 11
0 is a resin mold made of a translucent resin, which was subjected to a curing treatment after flow molding.

このような半導体レーザ装置では使用する部品があまり
高価ではなく、また組み立て工程も簡略化できるため安
価な半導体レーザ装置を作成できる。
In such a semiconductor laser device, the parts used are not very expensive, and the assembly process can be simplified, so that an inexpensive semiconductor laser device can be manufactured.

ところが、第30図に示すような半導体レーザ装置では
、コストの低減は可能となるものの、第29図のような
半導体レーザ装置と同等の素子特性は得難い。即ち、第
30図の従来例では、一般の半導体レーザ装置にLED
等で用いられている樹脂モールドを単に組み合わせたに
過ぎず、半導体レーザ特有の問題点が考慮されていない
。このため、次の■〜■のような問題点が生じ易い。
However, in the semiconductor laser device as shown in FIG. 30, although it is possible to reduce the cost, it is difficult to obtain device characteristics equivalent to those of the semiconductor laser device as shown in FIG. 29. That is, in the conventional example shown in FIG. 30, an LED is added to a general semiconductor laser device.
It is simply a combination of resin molds used in other devices, and the problems specific to semiconductor lasers are not taken into account. For this reason, the following problems (1) to (4) are likely to occur.

■半導体レーザは光共振器によるコヒーレントな光増幅
を必要とし、最低限1次元的な相対反射鏡を必要とする
。端面放射型の半導体レーザで特に低価格のものは結晶
へき界面を利用して光共振器とすることか多く、この場
合、モールドする樹脂の屈折率が空気より高いため結晶
へき界面を利用することが困難である。即ち、外部屈折
率が高まることによって結晶へき界面での反射率が低下
し、半導体レーザにとってはミラー損失が大きくなる。
■Semiconductor lasers require coherent optical amplification using an optical resonator, and require at least a one-dimensional relative reflector. Especially low-priced edge-emitting semiconductor lasers often use crystal cleavage interfaces to create optical resonators; in this case, since the refractive index of the molding resin is higher than air, it is necessary to use crystal cleavage interfaces. is difficult. That is, as the external refractive index increases, the reflectance at the crystal cleavage interface decreases, and mirror loss increases for the semiconductor laser.

例えば、樹脂の屈折率が1.5の場合、GaAs系、I
nP系等半導体レーザてはへき界面反射率が10〜15
%となり、空気の場合の30%前後より大幅に低下する
。この結果、半導体レーザ素子の発振しきい値が大幅に
上昇し、駆動電流が大きくなるばかりでなく、場合によ
っては素子のレーザ動作を不可能にする場合がある。
For example, if the refractive index of the resin is 1.5, GaAs-based, I
For nP-based semiconductor lasers, the interface reflectance is 10 to 15.
%, which is significantly lower than the approximately 30% for air. As a result, the oscillation threshold of the semiconductor laser device increases significantly, not only does the drive current increase, but in some cases, the laser operation of the device becomes impossible.

■樹脂モールドでは、モールド内が周囲の空気より高屈
折率であるため光の閉じこもりが起き易く、半導体レー
ザの後面ミラーからの出力が前面ミラーからの出力に重
畳されることがある。このことは位相の異なる光が存在
するため光出力の雑音成分を増加させ、場合によっては
光ホモダインによる光出力のビート揺らぎを生じさせる
■In resin molds, the inside of the mold has a higher refractive index than the surrounding air, so light tends to become trapped, and the output from the rear mirror of the semiconductor laser may be superimposed on the output from the front mirror. This increases the noise component of the optical output due to the presence of lights with different phases, and in some cases causes beat fluctuations of the optical output due to optical homodyne.

■半導体レーザは前記したように光共振器が必要であり
、その共振器モードで動作する。このため、外部からの
光、特に自己放射した光の帰還があると等価的に複数の
光共振器で動作するような状態となり、それぞれの光共
振器モード間をモード結合強度により往来する動作、い
わゆるモードジャンプを引き起こして雑音を発生し易く
なる。従って、自己放射の光が極力帰還されないことが
望ましいが、第30図の例では光出力部での反射が8夙
に帰還されるという問題がある。樹脂モールドでは、温
度の変動によりモールド樹脂の膨脂、変形が起こり易く
、その結果、光出力部での反射量や反射方向が僅かに揺
らぐため半導体レーザへの光帰還量が揺らぎ易く、モー
ドジャンプによる雑音の発生も複雑に変動する。
(2) As mentioned above, a semiconductor laser requires an optical resonator and operates in the resonator mode. Therefore, when light from the outside, especially self-emitted light, returns, it becomes equivalent to operating in multiple optical resonators, and the operation of going back and forth between the respective optical resonator modes depending on the mode coupling strength, This tends to cause so-called mode jumps and generate noise. Therefore, it is desirable that the self-emitted light is not fed back as much as possible, but in the example shown in FIG. 30, there is a problem in that eight times the light reflected at the light output section is fed back. In resin molds, the mold resin tends to swell and deform due to temperature fluctuations, and as a result, the amount and direction of reflection at the light output part fluctuates slightly, causing the amount of light returned to the semiconductor laser to fluctuate, resulting in mode jumps. The generation of noise due to this also varies in a complex manner.

■半導体レーザは応力により特性変化や素子劣化を起こ
し易く、熱膨張による応力や歪みに対する考慮が必要で
ある。一般に、樹脂モールドの材料には透湿性の少ない
材料が用いられ、これらの材料で、半導体材料に近い熱
膨張率と透光性を兼ね持たせることは容易ではない。こ
のため、LEDにおいても極度に環境条件が厳しい場合
には樹脂モールドを用いておらず、LEDにおける樹脂
モールド技術を単純に半導体レーザに応用することは困
難である。この他、半導体レーザは高電流密度注入の素
子であり発熱密度が高いため、放熱に関する注意も必要
である。
■Semiconductor lasers are prone to characteristic changes and element deterioration due to stress, and consideration must be given to stress and distortion caused by thermal expansion. Generally, materials with low moisture permeability are used as materials for resin molds, and it is not easy to make these materials have both a coefficient of thermal expansion and light transmittance close to those of semiconductor materials. For this reason, even in LEDs, resin molds are not used when the environmental conditions are extremely severe, and it is difficult to simply apply resin molding technology for LEDs to semiconductor lasers. In addition, since a semiconductor laser is a device that uses high current density injection and has a high heat generation density, care must be taken regarding heat dissipation.

(発明が解決しようとする課題) このように従来、半導体レーザ素子を樹脂モールドした
半導体レーザ装置においては、樹脂モールド特有の各種
の問題が発生し、特にミラー損失が大きくなって発振し
きい値か上昇する、戻り光によるモードジャンプやモー
ルド樹脂の膨脂、変形等により雑音が発生するという問
題がある。このため、樹脂モールドにより製造コストの
低減が達成できる反面、素子特性及び信頼性が低下する
という欠点かあった。
(Problems to be Solved by the Invention) Conventionally, in semiconductor laser devices in which a semiconductor laser element is molded in resin, various problems peculiar to resin molding occur, and in particular, the mirror loss increases and the oscillation threshold value decreases. There is a problem in that noise is generated due to mode jumps due to rising and returning light, swelling and deformation of the mold resin, etc. Therefore, although resin molding can reduce manufacturing costs, it has the drawback of deteriorating device characteristics and reliability.

本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目
的とするところは、樹脂による気密モールドにおける各
種の問題点を解決し、樹脂モールドによる製造コストの
低減と共に、素子特性及び信頼性の向上をはかり得る半
導体レーザ装置を提供することにある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to solve various problems in airtight resin molds, reduce manufacturing costs by resin molds, and improve element characteristics and reliability. The object of the present invention is to provide a semiconductor laser device that can be improved.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、上述した目的を達成するために、次のような
構成を採用している。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above-mentioned object, the present invention employs the following structure.

即ち本発明(請求項1)は、ステムにマウントされた半
導体レーザ素子か外部接続電極に電気的に接続され、該
半導体レーサ素子と共にステム及び外部電極の一部が透
光性樹脂によりモールドされた半導体レーザ装置におい
て、半導体レーザ素子の光出力部に誘電体又は半導体か
らなる多層膜反射鏡を設けることを特徴としている。
That is, the present invention (claim 1) provides that a semiconductor laser element mounted on a stem is electrically connected to an external connection electrode, and a part of the stem and the external electrode are molded with a transparent resin together with the semiconductor laser element. The semiconductor laser device is characterized in that a multilayer reflector made of a dielectric or a semiconductor is provided at the light output portion of the semiconductor laser element.

また、本発明(請求項2)は、ステムにマウントされた
半導体レーザ素子が外部接続電極に電気的に接続され、
該半導体レーザ素子と共にステム及び外部電極の一部が
透光性樹脂によりモールドされた半導体レーザ装置にお
いて、半導体レーザ素子は内部に屈折率又は利得の周期
構造を有し、主に該周期構造による光帰還てレーザ動作
が行われることを特徴としている。
Further, the present invention (claim 2) provides that the semiconductor laser element mounted on the stem is electrically connected to the external connection electrode,
In a semiconductor laser device in which the stem and part of the external electrode are molded with a transparent resin together with the semiconductor laser element, the semiconductor laser element has a periodic structure of refractive index or gain inside, and the periodic structure mainly allows light to be emitted. It is characterized in that the laser operation is performed upon return.

また、本発明(請求項9)は、ステムにマウントされた
半導体レーザ素子が外部接続電極に電気的に接続され、
該半導体レーザ素子と共にステム及び外部電極の一部が
透光性樹脂によりモールドされた半導体レーザ装置にお
いて、透光性樹脂によるモールドは、少なくとも軟質性
の樹脂からなる第1モールドと、その周囲を囲む硬質性
の樹脂からなる第2モールドが含まれた多重モールドで
あることを特徴としている。
Further, the present invention (claim 9) provides that the semiconductor laser element mounted on the stem is electrically connected to the external connection electrode,
In the semiconductor laser device in which the stem and part of the external electrode are molded together with the semiconductor laser element using a translucent resin, the mold made of the translucent resin includes at least a first mold made of a soft resin and surrounding the first mold. It is characterized by being a multi-layer mold including a second mold made of hard resin.

(作用) 本発明(請求項1,2)によれば、半導体レーザ素子と
して、レーザ反射鏡に誘電体又は半導体による多層膜反
射鏡を設けたもの、或いは素子内部に屈折率又は利得の
周期構造を有したものを用いているので、樹脂モールド
で半導体レーザ素子周囲の屈折率上昇が起こった場合で
も、素子の特性変化が大きくならない。従って、半導体
レーザ素子の特性低下を最小限に抑制でき、雑音等の問
題も少ない樹脂モールドが可能となり、汎用性、高信頼
性、低価格性に優れた半導体レーザ装置を実現すること
が可能となる。
(Function) According to the present invention (claims 1 and 2), the semiconductor laser element is a laser reflector in which a multilayer reflector made of a dielectric or a semiconductor is provided, or a periodic structure of refractive index or gain inside the element. Since a semiconductor laser device having the above characteristics is used, even if the refractive index around the semiconductor laser device increases in the resin mold, the characteristics of the device will not change significantly. Therefore, it is possible to minimize the deterioration of the characteristics of the semiconductor laser element, and it is possible to use resin molding with fewer problems such as noise, making it possible to realize a semiconductor laser device with excellent versatility, high reliability, and low cost. Become.

また、本発明(請求項9)によれば、軟質性の樹脂によ
る第1モールドで歪みを吸収し、硬質性の樹脂による第
2モールドで本来の気密封止を行うことにより、半導体
レーザ素子の確実な気密封止と共に、該素子への歪や応
力を軽減させることが可能となる。
Further, according to the present invention (claim 9), the first mold made of a soft resin absorbs distortion, and the second mold made of a hard resin performs the original airtight sealing, so that the semiconductor laser element can be sealed. In addition to ensuring hermetic sealing, it is possible to reduce strain and stress on the element.

(実施例) 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

〈実施例1−1〉 第1図及び第2図は本発明の第1の実施例に係わる半導
体レーザ装置の概略構成を示すもので、第1図は斜視図
、第2図は断面図である。
<Example 1-1> Figures 1 and 2 show a schematic configuration of a semiconductor laser device according to a first example of the present invention, with Figure 1 being a perspective view and Figure 2 being a sectional view. be.

図中1は良熱伝導性の金属ステム(例えばNiメツキC
u)、2は半導体レーザ素子、3は外部接続電極、4は
ボンディングワイヤ、5は透光性樹脂による気密モール
ドである。この実施例では、半導体レーザ素子2は誘電
体又は半導体による多層膜反射鏡を有しており、樹脂モ
ールドによる端面反射率低下の影響を抑制している。な
お、この半導体レーザ素子2の具体的構造については後
述する。
In the figure, 1 is a metal stem with good thermal conductivity (for example, Ni-plated C
u), 2 is a semiconductor laser element, 3 is an external connection electrode, 4 is a bonding wire, and 5 is an airtight mold made of translucent resin. In this embodiment, the semiconductor laser element 2 has a multilayer reflector made of dielectric or semiconductor, and suppresses the influence of a decrease in end face reflectance due to resin molding. Note that the specific structure of this semiconductor laser element 2 will be described later.

本装置は、次のようにして組み立てられる。This device is assembled as follows.

まず、半導体レーザ素子2を金属ステム1上に導電性ペ
ースト、又はAuSn、AuSi。
First, the semiconductor laser element 2 is placed on the metal stem 1 using conductive paste, AuSn, or AuSi.

Pb5n、In等のハンダ材を用いてマウントする。こ
のとき、半導体レーザ素子2の放熱を考慮してハンダ材
を用いてマウントを用いるのか好ましいが、非常に低い
電流で動作できる素子の場合は導電性ペーストでマウン
トすることも可能である。また、ここではL字型の金属
ステム1に直接マウントしているが、熱伝導性の高いサ
ブマウントを中間に用いてもよく、金属ステム1もその
形状2材質、大きさ等は目的と用途に応じて任意に設定
可能である。
Mount using solder material such as Pb5n or In. At this time, it is preferable to use a mount using a solder material in consideration of heat dissipation of the semiconductor laser element 2, but in the case of an element that can operate with a very low current, it is also possible to mount it with a conductive paste. In addition, although it is mounted directly on the L-shaped metal stem 1 here, a submount with high thermal conductivity may be used in the middle, and the shape, material, size, etc. of the metal stem 1 are determined by its purpose and application. It can be set arbitrarily depending on the situation.

次いで、半導体レーザ素子2と外部接続電極3とをボン
ディングワイヤ4により接続する。
Next, the semiconductor laser element 2 and the external connection electrode 3 are connected using the bonding wire 4.

ボンディングワイヤ4にはAu、Cu、A1等の金属線
又は金属リボンを用い、ボンディングは超音波接続、熱
圧着等を用いて行う。このとき外部接続電極3は、半導
体レーザ素子2の光出力を遮らない状態であれば、形状
、材質、大きさ、取出し位置等を任意に設定できる。ま
た、金属ステム1と外部接続電極3は同一材料でも異な
る材料でもよく、組み立て工程の間はリードフレーム等
で固定しておいて最後に切断してもよい。
The bonding wire 4 is a metal wire or metal ribbon made of Au, Cu, A1, etc., and bonding is performed using ultrasonic connection, thermocompression bonding, or the like. At this time, the shape, material, size, extraction position, etc. of the external connection electrode 3 can be arbitrarily set as long as it does not block the optical output of the semiconductor laser element 2. Further, the metal stem 1 and the external connection electrode 3 may be made of the same material or different materials, and may be fixed with a lead frame or the like during the assembly process and then cut at the end.

この後、流動性の樹脂によりモールドを行い、加熱、光
照射、低温放置等の方法で樹脂の硬化を行う。流動性樹
脂はモールド樹脂の前駆体や溶剤による流動化体等であ
り、後に硬化処理の可能な物を用いる。モールド樹脂の
例としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン
樹脂。
Thereafter, molding is performed using a fluid resin, and the resin is cured by heating, light irradiation, leaving at low temperature, or the like. The fluid resin is a precursor of a mold resin or a fluidized material using a solvent, and a material that can be cured later is used. Examples of mold resins are epoxy resin, acrylic resin, and silicone resin.

ポリイミド樹脂等を用途に応じて用いればよい。Polyimide resin or the like may be used depending on the purpose.

なお、第1図、第2図のパッケージ形態はあくまでも実
施例を説明のための一例であり、目的と用途に応じて任
意に設定可能なことは述べるまでもないことである。パ
ッケージ形態の異なる物については例を後述する。
It should be noted that the package form shown in FIGS. 1 and 2 is merely an example for explaining the embodiment, and it goes without saying that it can be arbitrarily set depending on the purpose and use. Examples of products with different package formats will be described later.

第3図は第1図の実施例に用いる半導体レーザ素子2の
概略構造を示す斜視図であり、第4図はその構成断面図
である。この半導体レーザ素子2は、前述したように光
出力部の反射ミラーに、誘電体又は半導体による多層膜
反射鏡6A、6Bを用いている。半導体レーザ素子2の
例として、ここでは光通信で用いられるGaInAsP
/InP系素子を示す。
3 is a perspective view showing a schematic structure of the semiconductor laser device 2 used in the embodiment of FIG. 1, and FIG. 4 is a sectional view of the structure. As described above, this semiconductor laser element 2 uses multilayer film reflecting mirrors 6A and 6B made of dielectric or semiconductor for the reflecting mirror of the light output section. As an example of the semiconductor laser device 2, GaInAsP used in optical communication is used here.
/InP-based element.

第4図において、7はn型InP基板、8はn型InP
バッファ層、9はGaInAsP活性層、10はp型1
nPクラッド層、11はp型Ga I nAsPコンタ
クト層、12.13は電極である。また、801,60
2,603は多層膜反射鏡を構成する誘電体又は半導体
膜であり、それぞれ半導体レーザ素子2の発振波長λに
対して光学長(膜厚)がλ/4.λ/2等になるよう形
成する。例えば、601を5in2のλ/4膜、602
をSiのλ/4膜、603をSiO2のλ/2膜とし、
601と602の繰り返し構造を形成する。このとき、
603はλ/2膜であるため光学的にはその有無が反射
率等に影響しないが、ここでは602のSi膜を保護す
る表面保護膜の意味で設けられている。形成方法として
は、スパッタ法、  CV D (Chemical 
Vapor Deosition)法2電子ビーム蒸着
法等を用いればよい。
In FIG. 4, 7 is an n-type InP substrate, 8 is an n-type InP substrate, and 8 is an n-type InP substrate.
Buffer layer, 9 is GaInAsP active layer, 10 is p-type 1
An nP cladding layer, 11 a p-type Ga I nAsP contact layer, and 12 and 13 electrodes. Also, 801,60
Reference numerals 2 and 603 denote dielectric or semiconductor films constituting the multilayer film reflecting mirror, each of which has an optical length (film thickness) of λ/4 to the oscillation wavelength λ of the semiconductor laser element 2. It is formed to be λ/2 grade. For example, 601 is a 5in2 λ/4 film, 602
is a λ/4 film of Si, 603 is a λ/2 film of SiO2,
A repeating structure of 601 and 602 is formed. At this time,
Since 603 is a λ/2 film, optically its presence or absence does not affect the reflectance, etc., but here it is provided as a surface protective film to protect the Si film 602. Formation methods include sputtering, CVD (Chemical
Vapor Deposition method 2, electron beam evaporation method, etc. may be used.

ここで、半導体レーザ素子2の等価屈折率をn O% 
S 102膜601の屈折率をnl、Si膜602の屈
折率を02、外部の屈折率をnEとし、601と 60
2の対の数をNとすると反射率RNはRN −[fl−
(n E/n O)(n +/n 2 ) 2N1/ 
fl+(n  I!/n  O>(n  +/n  2
  )2Nl]  2・・・・・・・・・ (1) と表わすことができる。
Here, the equivalent refractive index of the semiconductor laser element 2 is n O%
The refractive index of the S102 film 601 is nl, the refractive index of the Si film 602 is 02, the external refractive index is nE, and 601 and 60
When the number of pairs of 2 is N, the reflectance RN is RN − [fl−
(n E/n O) (n +/n 2 ) 2N1/
fl+(n I!/n O>(n +/n 2
)2Nl] 2...... (1) It can be expressed as follows.

例として、λ −1,3μmのときno−3,2゜nl
−1,5、n2−2.8とすると、N−1の場合で R+ −(nh −1,0) −70%R+ −(nE
−1,5)−58% N−=2の場合で R2−(n+: −1,0) −90%R2= (n 
E −1,5) −86%となる。n 、 = 1.0
は周囲が空気の通常の場合、nH−1,5は比較的高い
屈折率を持つ樹脂でモールドした場合に相当し、多層膜
反射鏡を用いない場合(N−0)は前述したように Ro ”’ (nt −1,0) −27%R0−(r
+H−1,5)= 13% となる。
As an example, when λ -1,3μm, no-3,2゜nl
-1,5, n2-2.8, R+ -(nh -1,0) -70%R+ -(nE
-1,5) -58% When N-=2, R2-(n+: -1,0) -90%R2= (n
E -1,5) -86%. n, = 1.0
corresponds to the normal case where the surrounding is air, nH-1,5 corresponds to the case when molded with a resin with a relatively high refractive index, and when a multilayer reflector is not used (N-0), as mentioned above, Ro ”' (nt −1,0) −27%R0−(r
+H-1,5)=13%.

この結果、樹脂モールドで低下する反射率の割合が、多
層膜反射鏡を用いない場合で50%以上、多層膜反射鏡
を付けた場合20%未満、特にN≧2の場合では5%以
下の値となることか分かる。従って、半導体レーザ装置
の樹脂による気密モールドを行う場合、半導体レーザ素
子2に多層膜反射鏡を用いることが有効であり、レーザ
共振器の反射率低下を抑制して、しきい電流の上昇によ
る消費電力増加を防止できる利点を持っている。また、
これにより樹脂モールドで特に大きい内部発熱による自
己熱歪を小さくでき、樹脂モールドにおいても信頼性の
高い半導体レーザ装置が実現できる。
As a result, the percentage of reflectance that decreases due to resin molding is 50% or more when a multilayer reflector is not used, less than 20% when a multilayer reflector is attached, and especially 5% or less when N≧2. I know it's worth it. Therefore, when airtightly molding a semiconductor laser device with resin, it is effective to use a multilayer reflector for the semiconductor laser element 2, suppressing the decrease in the reflectance of the laser resonator and reducing the consumption due to the increase in threshold current. It has the advantage of preventing power increase. Also,
As a result, self-thermal distortion caused by internal heat generation, which is particularly large in a resin mold, can be reduced, and a highly reliable semiconductor laser device can be realized even in a resin mold.

なお、多層膜反射鏡の反射率は、構成する誘電体膜又は
半導体膜の材料、構成9層数等によって異なり、またレ
ーザ光の波長によっても異なるため、半導体レーザ素子
2の材料や構成、或いは低電力動作や高出力動作等の使
用目的によりそれぞれ最適化か可能である。さらに、多
層膜の構成(厚さ、屈折率等)を徐々に変化させて、反
射波長域を拡大すること等も可能である。
Note that the reflectance of the multilayer film reflector varies depending on the material of the dielectric film or semiconductor film, the number of nine layers, etc., and also varies depending on the wavelength of the laser beam. Optimization is possible depending on the purpose of use, such as low power operation or high output operation. Furthermore, it is also possible to expand the reflection wavelength range by gradually changing the configuration (thickness, refractive index, etc.) of the multilayer film.

〈実施例1−2〉 第5図、第6図は第1図の実施例に用いる半導体レーザ
素子2の他の例であり、内部にレーザ発振波長と同等又
はその整数倍に相当する屈折率又は利得の周期的構造を
有し、その周期的構造によりレーザ発振を行わせる半導
体レーザ素子の例である。ここでは、屈折率の周期的構
造を有する例を示してあり、それぞれ第5図は分布帰還
型半導体レーザ、第6図は分布反射型半導体レーザと呼
ばれている。
<Example 1-2> FIGS. 5 and 6 show other examples of the semiconductor laser device 2 used in the example of FIG. Alternatively, this is an example of a semiconductor laser element that has a periodic structure of gain and causes laser oscillation due to the periodic structure. Here, examples having a periodic structure of refractive index are shown, and FIG. 5 is called a distributed feedback semiconductor laser, and FIG. 6 is called a distributed reflection semiconductor laser.

第5図、第6図中14は光ガイド層であり、活性層9よ
り吸収端波長が短く、クラッド層(ここでは7及び10
)より屈折率の高い結晶(例えば前述したGa I n
As P結晶で活性層より吸収端波長の短い組成の混晶
)で構成される。この光ガイド層14の上又は下、或い
は側面に周期的凹凸を設け、等価的な屈折率の変動を与
えることで波長選択的な光帰還を行わせている。これら
の半導体レーザ素子では原理的に外部の反射鏡が不要で
あり、半導体レーザ素子の内部構造だけでレーザ発振か
可能な特徴を持つため、特に多層膜反射鏡を設けずに樹
脂による気密モールドの半導体レーザ装置が実現できる
特徴を持っている。
Reference numeral 14 in FIGS. 5 and 6 is a light guide layer, which has a shorter absorption edge wavelength than the active layer 9, and has a cladding layer (7 and 10 in this case).
) with a higher refractive index (for example, the above-mentioned Ga I n
It is composed of an AsP crystal (a mixed crystal with a composition whose absorption edge wavelength is shorter than that of the active layer). Periodic unevenness is provided on the top, bottom, or side surface of this optical guide layer 14 to provide equivalent fluctuations in the refractive index, thereby performing wavelength-selective optical feedback. In principle, these semiconductor laser devices do not require an external reflector and are capable of laser oscillation using only the internal structure of the semiconductor laser device. It has characteristics that can be realized by semiconductor laser devices.

これらの半導体レーザ素子では周期的構造により単一縦
モードでの発振が可能であり、特に内部に適切な位相調
整機構を設ける構造、例えば第5図において屈折率の周
期的構造を途中てλ/4だけシフトさせる構造を用いて
安定な単−縦モード発振を行わせることができる。この
内部の位相調整機構は、屈折率の周期的構造による反射
光が入射光に対して異なる位相を持つことからその位相
変化を補償するためのものであり、λは屈折率の周期的
構造によるブラッグ反射波長である。実際には、これら
の半導体レーザ素子を安定な単一縦モード発振で動作さ
せるため、素子出力端の反射率を低下させる工夫が必要
である。これは、上記のような半導体レーザ素子では、
出力端反射による一種の複合共振器状態が発振縦モード
の不安定化を引き起こし易いためである。
These semiconductor laser elements are capable of oscillation in a single longitudinal mode due to their periodic structure, and in particular, structures with appropriate internal phase adjustment mechanisms, for example, in FIG. Stable single-longitudinal mode oscillation can be achieved using a structure in which the signal is shifted by 4. This internal phase adjustment mechanism is to compensate for the phase change of the reflected light due to the periodic structure of the refractive index, which has a different phase from the incident light, and λ is due to the periodic structure of the refractive index. Bragg reflection wavelength. In practice, in order to operate these semiconductor laser devices with stable single longitudinal mode oscillation, it is necessary to take measures to reduce the reflectance at the output end of the device. This means that in a semiconductor laser device like the one above,
This is because a kind of complex resonator state due to output end reflection tends to cause instability of the oscillation longitudinal mode.

本実施例は、このような場合において別の効果が発揮さ
れる特徴を持っている。即ち、本実施例では半導体レー
ザ素子を樹脂で気密モールドするため、前述のようにそ
の光出力部反射率は周囲が空気の場合より低下する。こ
のため、実施例として上記のような位相調整機構を有す
る半導体レーザ素子を適用した場合、出力端反射による
複合共振器状態を抑制して、安定な単−縦モード発振が
比較的容易に得られるという効果を持っている。また、
単に樹脂モールドを行った場合、光…力部反射率は前述
したように10〜15%に低下する程度であるが、光出
力部にコーティングを行ってからモールドすれば、1%
以下の反射率を容易に得ることができる。
This embodiment has a feature that provides other effects in such a case. That is, in this embodiment, since the semiconductor laser element is hermetically molded with resin, the reflectance of its light output portion is lower than when the surrounding area is air, as described above. Therefore, when a semiconductor laser device having a phase adjustment mechanism as described above is applied as an example, the complex resonator state due to output end reflection can be suppressed and stable single-longitudinal mode oscillation can be obtained relatively easily. It has this effect. Also,
If the light output part is simply molded with resin, the reflectance of the light output part will be reduced to 10 to 15% as mentioned above, but if the light output part is coated and then molded, the reflectance of the light output part will be reduced to 1%.
The following reflectance can be easily obtained.

このようなコーティングは通常の半導体レーザ装置でも
行われるが、本実施例では従来に無い新たな効果が現れ
てくる。低反射化のコーティングでは屈折率か(no 
nE)”2となる透明材料をλ/4となる光学厚に一層
形成する方法が一般的である。ここで、noは半導体レ
ーザ素子の等価屈折率、nEは外部の屈折率である。例
えば、no−3,2,nE −1(空気)とすると屈折
率1.79となる材料を用いればよく、GaInAsP
/InP系半導体レーザでは窒化シリコンがこのような
低反射コーティング材料として用いられている。このと
き、nEはほぼ1に固定されるため使用する材料が限定
され、必ずしも半導体レーザに適した材料が用いられて
いるとは言えない。
Such coating is also performed in ordinary semiconductor laser devices, but in this embodiment, a new effect not seen before appears. For low-reflection coatings, the refractive index (no
A common method is to form a single layer of a transparent material with an optical thickness of λ/4 with nE)"2. Here, no is the equivalent refractive index of the semiconductor laser element, and nE is the external refractive index. For example, , no-3,2, nE -1 (air), a material with a refractive index of 1.79 may be used, and GaInAsP
/InP-based semiconductor lasers use silicon nitride as such a low-reflection coating material. At this time, since nE is fixed to approximately 1, the material to be used is limited, and it cannot be said that a material suitable for a semiconductor laser is necessarily used.

例えば、前記の窒化シリコンの場合5t3N4が化学的
に安定な組成であるが、そのときの屈折率が必ずしも所
望の値ではないため化学的に不安定な領域に組成をずら
して用いる場合が多い。このため、半導体レーザ素子表
面にリーク電流を生じさせたり、経時的な素子劣化を引
き起こすことがしばしばあった。
For example, in the case of silicon nitride, 5t3N4 is a chemically stable composition, but since the refractive index at that time is not necessarily a desired value, the composition is often shifted to a chemically unstable region. For this reason, leakage current is often generated on the surface of the semiconductor laser element and the element deteriorates over time.

これに対し本実施例では、nEがモールドする樹脂の屈
折率となるため、コーティングに用いる材料を半導体レ
ーザ素子の材料や最適なコーティング方法に合わせて選
択し、nEの値を樹脂材料によって調整1選択すること
ができるという利点がある。これにより、化学的に安定
で半導体レーザに適した材料を用いて、1%以下の低反
射コーティングを行うことができるようになる。また、
このコーティングにより半導体レーザ素子を樹脂モール
ドによる影響から保護することが可能であり、高性能且
つ高信頼性の半導体レーザ装置とすることができる。
On the other hand, in this example, nE is the refractive index of the molding resin, so the material used for coating is selected according to the material of the semiconductor laser element and the optimal coating method, and the value of nE is adjusted by adjusting the resin material. The advantage is that you can choose. This makes it possible to provide a coating with a low reflection of 1% or less using a material that is chemically stable and suitable for semiconductor lasers. Also,
With this coating, it is possible to protect the semiconductor laser element from the effects of the resin mold, and a high performance and highly reliable semiconductor laser device can be obtained.

〈実施例1−3〉 第7図は第1図の実施例に用いる半導体レーザ素子2の
他の例であり、樹脂モールドにより生じ易くなる前面(
生先出力部)の出力光に後面出力が重畳して発生する雑
音を防止するための実施例である。この例では、前面に
第3図と同様な多層膜反射鏡6Aを用い、後面に中間絶
縁膜15及び金属反射膜16による金属反射鏡を用いて
いる。一般に、金属は自由電子のプラズマ周波数より低
い振動数(プラズマ周波数の波長より長い波長)の光に
対して非常に高い反射率を持ち、その光に対しては金属
膜が極端に薄い場合を除いて不透明である。
<Example 1-3> FIG. 7 shows another example of the semiconductor laser device 2 used in the example of FIG.
This is an embodiment for preventing noise caused by the rear output being superimposed on the output light of the receiver output section). In this example, a multilayer film reflecting mirror 6A similar to that shown in FIG. 3 is used on the front surface, and a metal reflecting mirror with an intermediate insulating film 15 and a metal reflecting film 16 is used on the rear surface. In general, metals have a very high reflectivity for light with a frequency lower than the plasma frequency of free electrons (a wavelength longer than the wavelength of the plasma frequency), and unless the metal film is extremely thin, It is opaque.

第8図は第7図半導体レーザの素子の構成断面図であり
、601,602.603は第4図と同様に構成された
多層膜反射鏡、15は中間絶縁膜、16は金属反射膜で
ある。中間絶縁膜15はSiO2,Al103.Si3
N4等の半導体レーザ素子の発振波長に対して透明な材
料からなり、金属反射膜16によるpn接合の短絡を防
止する機能を持つ。また、後述するように金属反射膜1
6からの反射光位相の調整を行うことも可能である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of the structure of the semiconductor laser element shown in FIG. 7, in which 601, 602, and 603 are multilayer reflective mirrors configured in the same manner as in FIG. 4, 15 is an intermediate insulating film, and 16 is a metal reflective film. be. The intermediate insulating film 15 is made of SiO2, Al103. Si3
It is made of a material transparent to the oscillation wavelength of the semiconductor laser element, such as N4, and has a function of preventing short-circuiting of the pn junction due to the metal reflective film 16. In addition, as described later, the metal reflective film 1
It is also possible to adjust the phase of the reflected light from 6.

中間絶縁膜15として例えばS i O2を用い、前述
したCVD法等の方法により約200n−の厚さに形成
する。また、金属反射膜16としては例えばAu、Ag
、Cu等の金属を真空蒸着。
For example, SiO2 is used as the intermediate insulating film 15, and it is formed to a thickness of about 200 nm by a method such as the above-mentioned CVD method. Further, as the metal reflective film 16, for example, Au, Ag
, vacuum evaporation of metals such as Cu.

スパッタ等の方法により 1100n以上設ける。この
とき、金属反射膜16の中間絶縁膜15に対する付着強
度が必ずしも強くない場合があり、Ti、Cr等の金属
を含むオーバーコーテイングを行ってもよい。逆に、比
較的付着強度の強いT i、Cr、Mo、W等を金属反
射膜16としてもよく、このときは酸化腐食防止のため
Au、Pt等のカバーを付けることが望ましい。
Provide a thickness of 1100n or more using a method such as sputtering. At this time, the adhesion strength of the metal reflective film 16 to the intermediate insulating film 15 may not necessarily be strong, so overcoating containing metals such as Ti and Cr may be performed. Conversely, the metal reflective film 16 may be made of Ti, Cr, Mo, W, etc., which have relatively strong adhesion strength, and in this case, it is desirable to attach a cover of Au, Pt, etc. to prevent oxidation corrosion.

これらの金属は工程コストと所望反射率によって適時選
択すればよい。
These metals may be appropriately selected depending on process cost and desired reflectance.

本実施例の半導体レーザ素子を用いることで、樹脂モー
ルドにおいても後面反射鏡からの出力が前面反射鏡から
の出力光に重畳することが無く、出力光の雑音、特に位
相雑音やビート雑音等が生じない利点がある。また、後
部の金属反射鏡は外部の屈折率の影響を受は難いため、
樹脂による気密モールドの前後で反射率が変動し難いと
いう利点もある。なお、後部の金属反射鏡は反射率の非
常に高い誘電体又は半導体による多層膜反射“鏡であっ
てもよく、その際、前面出力に対する後面出力の比が1
0%以下となれば比較的雑音問題は少なくなる。
By using the semiconductor laser device of this example, even in a resin mold, the output from the rear reflector will not be superimposed on the output light from the front reflector, and noise in the output light, especially phase noise and beat noise, will be reduced. There are benefits that do not arise. In addition, the rear metal reflector is not easily affected by external refractive index, so
Another advantage is that the reflectance does not change easily before and after the airtight resin molding. Note that the rear metal reflector may be a multilayer reflective mirror made of a dielectric or semiconductor with a very high reflectance, in which case the ratio of the rear output to the front output is 1.
If it is 0% or less, the noise problem will be relatively small.

〈実施例1−4〉 第9図、第10図は第1図の実施例に用いる半導体レー
ザ素子2の他の例であり、内部に周期的構造を有し、第
7図と同様に樹脂モールドにより生じ易くなる前面の出
力光に後面出力が重畳して発生する雑音を防止するため
の実施例である。ここでは、第5図、第6図と同様に屈
折率の周期的構造による例で、また第7図と同様に金属
による後部反射鏡による例で示すが、周期的構造は利得
の周期的構造でもよく、また後部反射鏡は高反射の多層
膜反射鏡であってもよい。これらのことは、前述してき
た実施例と同様である。
<Example 1-4> FIGS. 9 and 10 show other examples of the semiconductor laser device 2 used in the example of FIG. 1, which has a periodic structure inside and is made of resin as in FIG. This embodiment is intended to prevent noise caused by superimposing the rear output light on the front output light, which is likely to occur due to the mold. Here, an example using a periodic structure of refractive index as in FIGS. 5 and 6, and an example using a metal rear reflector as in FIG. 7 are shown, but the periodic structure is a periodic structure of gain. Alternatively, the rear reflector may be a highly reflective multilayer reflector. These matters are similar to the embodiments described above.

第9図、第10図の半導体レーザ素子では、光出力部側
の反射率を第5図、第6図の場合と同様に十分に低下さ
せておくが、後部反射鏡が高反射になるため、第5図、
第6図の場合と同様な扱いでは発振縦モードの安定性や
再現性を確保することが困難になる。従って、この例に
特有な留意が必要であり、後部反射鏡(15及び16)
からの反射光位相か内部の周期的構造に対して特定の位
相整合を有することが必要である。
In the semiconductor laser devices shown in FIGS. 9 and 10, the reflectance on the light output side is sufficiently reduced as in the case of FIGS. 5 and 6, but the rear reflector becomes highly reflective. , Figure 5,
If treated in the same manner as in the case of FIG. 6, it will be difficult to ensure the stability and reproducibility of the oscillation longitudinal mode. Therefore, special care must be taken in this example and the rear reflector (15 and 16)
It is necessary for the phase of the reflected light from to have a certain phase matching with respect to the internal periodic structure.

即ち、後部反射鏡での位相変化が周期的構造による反射
波の位相変化と等価な値になればよい。この場合、周期
的構造による反射はいわゆるブラッグ反射であり、後部
反射鏡での反射光位相の変化が(1+2m)π/2(m
″″o、1゜2.3.・・・)となればよい。この後、
部反射鏡の反射位相は15の中間絶縁膜の厚さを調節す
ることで変化させることができる。
That is, it is sufficient that the phase change at the rear reflector has a value equivalent to the phase change of the reflected wave due to the periodic structure. In this case, the reflection due to the periodic structure is the so-called Bragg reflection, and the change in the phase of the reflected light at the rear reflector is (1+2m)π/2(m
″″o, 1°2.3. ). After this,
The reflection phase of the partial reflecting mirror can be changed by adjusting the thickness of the intermediate insulating film 15.

ここで、半導体レーザ素子側の等価屈折率を01、中間
絶縁膜15の屈折率をnz、厚さをd1金属膜16の複
素屈折率を03 (−u3十iv3、iは虚数単位)、
真空中のレーザ発振波長をλ。とじ、以下の関係を定義
しておく。
Here, the equivalent refractive index on the semiconductor laser element side is 01, the refractive index of the intermediate insulating film 15 is nz, the thickness is d1, and the complex refractive index of the metal film 16 is 03 (-u30iv3, i is an imaginary unit).
λ is the laser oscillation wavelength in vacuum. Then, define the following relationships.

β−2πdn2/λo        −(2)ρ2i
−t(nz−u3 ) 2+v3 ” 1/1(nz 
+u3) 2+v32)−(3)φ23″tan−’ 
+2 n 2 V 。
β−2πdn2/λo −(2)ρ2i
-t(nz-u3) 2+v3 ” 1/1(nz
+u3) 2+v32)-(3)φ23''tan-'
+2 n 2 V.

/ (u 32+v 3’  n 2’)l・・・ (
4)r lz−(n+−n 2 )/  (nl十n2
  )    −(5)これらの値を用いれば、第8図
、第9図、第10図の後部反射鏡の反射率Rm及び反射
光位相φmを次のように表せる。
/ (u 32+v 3' n 2') l... (
4) r lz-(n+-n 2 )/(nl ten n2
) - (5) Using these values, the reflectance Rm and the reflected light phase φm of the rear reflecting mirrors in FIGS. 8, 9, and 10 can be expressed as follows.

Rm =  1rs22+p  zx24p2r+zl
)23  C08(llzi+2β))/ (l+r+
22 ρ 2i’+2r+2ρ 23  Co9(φ2
3+2β))・・・・・・ (6) φm −tan−’[lρ23(1−rtz2)sin
(φ2.+2β月/ (rtz(1+p23’)+p2
i(1+r+□2) Co5(φ2.+2β月]・・・
・・・ (7) 従って、これらの式を用いて後部反射鏡の反射率及び反
射光位相を設計、最適化することができ、第9図、第1
0図の場合、φm〜(1+2m)π/2 (m−0,1
,2,3・・・)となるよう設定すればよい。
Rm = 1rs22+p zx24p2r+zl
)23 C08(llzi+2β))/(l+r+
22 ρ 2i'+2r+2ρ 23 Co9(φ2
3+2β))... (6) φm -tan-'[lρ23(1-rtz2)sin
(φ2.+2β month/ (rtz(1+p23')+p2
i(1+r+□2) Co5(φ2.+2β month)...
... (7) Therefore, the reflectance of the rear reflector and the reflected light phase can be designed and optimized using these equations, and as shown in Fig. 9 and 1.
In the case of figure 0, φm~(1+2m)π/2 (m-0,1
, 2, 3...).

〈実施例2−1〉 第11図は本発明の第2の実施例の概略構成を示す斜視
図であり、樹脂による気密モールドを行った際の、樹脂
モールドと外部(空気)との境界での反射光に対する対
策を施した実施例である。
<Example 2-1> Fig. 11 is a perspective view showing a schematic configuration of a second example of the present invention. This is an example in which measures are taken against reflected light.

先に説明した第1図の実施例では樹脂モールドの光出力
部が平坦であるため、半導体レーザ素子2へのいわゆる
近端反射戻り光が生じ易い。
In the embodiment shown in FIG. 1 described above, since the light output portion of the resin mold is flat, so-called near-end reflected light returning to the semiconductor laser element 2 is likely to occur.

例えば、モールド樹脂の屈折率を1,5、半導体レーザ
素子2の光出力部反射率を70%と仮定すると、半導体
レーザ素子2への戻り光結合量はモールド樹脂の厚さが
70μmで一30dB程度となる。一般に、半導体レー
ザ素子への戻り光は一30dB以下とすることが望まし
く 、−60dB以下になれば殆ど支障がなくなる。従
って第1図の場合、半導体レーザ素子2からモールド樹
脂出内端までの距離を70μm以上とすればよいが、あ
まり厚くなるとビームの拡がりで光ファイバ等への直接
結合が難しくなる。
For example, assuming that the refractive index of the molding resin is 1.5 and the reflectance of the optical output part of the semiconductor laser element 2 is 70%, the amount of light coupled back to the semiconductor laser element 2 is -30 dB when the thickness of the molding resin is 70 μm. It will be about. Generally, it is desirable that the return light to the semiconductor laser element is -30 dB or less, and if it is -60 dB or less, there is almost no problem. Therefore, in the case of FIG. 1, the distance from the semiconductor laser element 2 to the inner and outer ends of the molded resin may be set to 70 μm or more, but if it becomes too thick, the beam will spread and direct coupling to an optical fiber or the like will become difficult.

上記モールド樹脂の厚さを最大200μm以下とすれば
、通常の光ファイバでは問題が少ない。
If the thickness of the molding resin is at most 200 μm or less, there will be little problem with ordinary optical fibers.

しかしながら、半導体レーザ素子の先出内端反射率が低
い場合、例えば第5図、第6図の半導体レーザ素子のよ
うな場合、第1図の実施例では反射戻り光の抑制が困難
である。
However, when the reflectance of the leading inner end of the semiconductor laser device is low, for example, in the case of the semiconductor laser devices shown in FIGS. 5 and 6, it is difficult to suppress the reflected return light in the embodiment shown in FIG.

そこで、第1図の実施例では反射戻り光対策としてモー
ルド樹脂の光出射面を傾斜加工する方法を用いることが
可能である。これは、第1図の実施例のモールド樹脂出
射面を半導体レーザ素子の光出力光軸に対して傾けるも
のであり、樹脂モールドと外部(空気)との境界での反
射光が半導体レーザ素子の位置に戻らないようにするも
のである。これにより、半導体レーザ素子の先出刃端反
射率が低い場合においても反射戻り光を抑制することが
できるが、この場合、放射されるレーザ光が傾斜部で波
面変換を受けるため、傾斜面の傾斜方向とそれに直交す
る方向とでビームの波面が異なってくるという問題があ
る。これは、非点収差を生じさせる場合があるため用途
によって使い分ける必要があり、−船釣な用途には向い
ていない。
Therefore, in the embodiment shown in FIG. 1, it is possible to use a method of slanting the light emitting surface of the mold resin as a countermeasure against reflected return light. This is because the mold resin output surface of the embodiment shown in FIG. This prevents it from returning to its original position. This makes it possible to suppress reflected return light even when the reflectance at the leading edge of the semiconductor laser element is low. There is a problem in that the wavefront of the beam differs depending on the direction and the direction perpendicular to the direction. Since this may cause astigmatism, it is necessary to use it depending on the purpose, and it is not suitable for boat fishing.

第11図の実施例はこのような背景によるものであり、
モールド樹脂の光出力部を球面加工して半導体レーサ素
子2への反射戻り光を低減させるものである。第12図
は、第11図の実施例の構成断面図であり、図中実線矢
印と破線矢印は光の進行方向を模式的に示したものであ
る。なお、第12図では2次元的な表現をしているが、
これは第11図に示すように球面加工であるため光出力
光軸に対してほぼ回転対称的な光学系である。例として
第12図では平行光を作る光学系を示しており、この場
合、半導体レーザ素子光出力部が球面加工部17の焦点
位置になるように配置する。その結果、半導体レーザ素
子2の出力光はほぼ平行な光となってモールド樹脂外部
へ出力される(実線矢印)。
The embodiment shown in FIG. 11 is based on this background,
The light output portion of the molded resin is processed into a spherical shape to reduce the amount of light reflected back to the semiconductor laser element 2. FIG. 12 is a cross-sectional view of the structure of the embodiment shown in FIG. 11, and solid arrows and broken arrows in the figure schematically indicate the traveling direction of light. Although Fig. 12 shows a two-dimensional representation,
As shown in FIG. 11, this is an optical system that is approximately rotationally symmetrical with respect to the light output optical axis because it is processed into a spherical surface. As an example, FIG. 12 shows an optical system that generates parallel light, and in this case, the semiconductor laser element is arranged so that the light output section is at the focal point of the spherical processing section 17. As a result, the output light from the semiconductor laser element 2 becomes substantially parallel light and is output to the outside of the mold resin (solid arrow).

一方、モールド樹脂境界で反射された光は図中破線矢印
で示したように一旦集光されたのち拡がり、半導体レー
ザ素子2の位置まで反射される間には大きく拡大される
。このため、反射された光の密度が下がり、半導体レー
ザ素子2への戻り光量は非常に小さなものとなる。この
ようにモールド樹脂の出力面を球面加工することにより
、半導体レーザ素子2への戻り光量を大きく減少させる
ことができ、従来技術の項で述べたようなモードホップ
雑音等の少ない低雑音な樹脂モールド半導体レーザ装置
を実現することができる。また、球面加工部17はレン
ズとしての効果も持っているため外部光学系の簡略化や
システム全体の低価格化にも有効である。
On the other hand, the light reflected at the mold resin boundary is once condensed and then spread as shown by the broken line arrow in the figure, and is greatly expanded while being reflected to the position of the semiconductor laser element 2. Therefore, the density of the reflected light decreases, and the amount of light returning to the semiconductor laser element 2 becomes extremely small. By processing the output surface of the molding resin into a spherical surface in this way, the amount of light returning to the semiconductor laser element 2 can be greatly reduced, making it possible to use a low-noise resin with little mode hop noise as described in the prior art section. A molded semiconductor laser device can be realized. Furthermore, since the spherical surface processing portion 17 also has the effect of a lens, it is effective in simplifying the external optical system and reducing the cost of the entire system.

〈実施例3〉 ここまでは端面放射型の半導体レーザ素子について記述
してきたが、これは表面放射型の半導体レーザ素子であ
っても同様に実施可能である。第13図は表面放射型の
半導体レーザ素子2′を用いた第3の実施例であり、第
12図の実施例と同様な実装形態で示しである。
<Embodiment 3> Up to this point, an edge-emitting type semiconductor laser device has been described, but this can be implemented in the same manner even with a surface-emitting type semiconductor laser device. FIG. 13 shows a third embodiment using a surface-emitting type semiconductor laser element 2', and is shown in the same mounting form as the embodiment of FIG. 12.

また、第14図は表面放射型半導体レーザ素子2′の構
成構成断面図であり、7はn型InP基板、8′はn型
1nPクラッド層、9はGaInAsP活性層、10′
はp型InPクラッド層、18Aはn型半導体による多
層膜反射鏡、18Bはp型半導体による多層膜反射鏡、
19はFeドープの半絶縁性1nP埋め込み層、20は
n型1nPキャリアブロッキング層、21はp型1nP
コンタクト層、22は絶縁保護膜である。18A、18
Bの多層膜反射鏡は、例えばI nP、A l l n
As、Ga1nAsP(活性層9より吸収端波長の短い
組成)等の積層膜であり、第4図の場合と同様に光学長
λ/4の厚さで交互に積層したものである。
FIG. 14 is a cross-sectional view of the structure of the surface-emitting semiconductor laser device 2', in which 7 is an n-type InP substrate, 8' is an n-type 1nP cladding layer, 9 is a GaInAsP active layer, and 10'
is a p-type InP cladding layer, 18A is a multilayer reflector made of an n-type semiconductor, 18B is a multilayer reflector made of a p-type semiconductor,
19 is an Fe-doped semi-insulating 1nP buried layer, 20 is an n-type 1nP carrier blocking layer, and 21 is a p-type 1nP layer.
The contact layer 22 is an insulating protective film. 18A, 18
The multilayer film reflecting mirror B is, for example, I nP, A l l n
These are laminated films of As, Ga1nAsP (composition having a shorter absorption edge wavelength than the active layer 9), etc., and are alternately laminated with a thickness of optical length λ/4 as in the case of FIG. 4.

ここで、18Aのn型半導体による多層膜反射鏡をIn
P及びGa I nAsP118Bのp型半導体による
多層膜反射鏡をInP及びA I I nAsで構成す
るとキャリアの注入を効率的に行うことができる。また
、8’、  9.10’は合計した厚さがλ/2の整数
倍の光学長を有するように構成され、8’、10’ の
厚さがほぼ同一となるようにする。このとき、活性層9
は1層だけでなく18A、18Bの間の領域で光学長で
λ/4毎に複数層設けてもよい。絶縁保護膜22は例え
ば5in2を用い、半導体レーザ素子側面の結晶成長界
面を覆うように形成することで、素子側面のリーク電流
を抑制することができる。
Here, a multilayer reflector made of an 18A n-type semiconductor is
When a multilayer film reflecting mirror made of p-type semiconductors such as P and Ga I nAsP118B is composed of InP and A I I nAs, carrier injection can be performed efficiently. Further, 8', 9.10' are configured so that the total thickness has an optical length that is an integral multiple of λ/2, and the thicknesses of 8' and 10' are made to be approximately the same. At this time, the active layer 9
Not only one layer but also a plurality of layers may be provided for each optical length of λ/4 in the region between 18A and 18B. The insulating protective film 22 is formed using, for example, 5 in 2 so as to cover the crystal growth interface on the side surface of the semiconductor laser element, thereby suppressing leakage current on the side surface of the element.

表面放射型の半導体レーザ素子2′の場合、半導体レー
ザ素子マウント面法線方向に光出力が得られ、端面放射
型の半導体レーザ素子2の場合に比し組立工程簡略化や
組立精度向上が可能となる。これは、まず表面放射型半
導体レーザ素子2′の場合、半導体レーザ素子2′のマ
ウント、ワイヤボンディング等の取付工程と樹脂による
気密モールド工程を全て平面的に行うことができ、リー
ドフレーム等を用いて組立工程を連続的に行い易いこと
、さらに半導体レーザ素子2′の取付精度がマウント面
の平坦性とマウント位置精度のみてほとんど決まるため
、組立精度を低下させる要因が基本的に少ないことによ
る。
In the case of the surface-emitting type semiconductor laser element 2', optical output can be obtained in the normal direction of the semiconductor laser element mount surface, making it possible to simplify the assembly process and improve assembly accuracy compared to the case of the edge-emitting type semiconductor laser element 2. becomes. First of all, in the case of the surface-emitting semiconductor laser device 2', the mounting process of the semiconductor laser device 2', the mounting process such as wire bonding, and the airtight molding process with resin can all be performed on a flat surface, using a lead frame etc. This is because it is easy to carry out the assembly process continuously, and because the mounting accuracy of the semiconductor laser element 2' is almost determined only by the flatness of the mounting surface and the mounting position accuracy, there are basically few factors that reduce the assembly accuracy.

端面放射型半導体レーザ2の場合、取付精度かマウント
面の平坦性とマウント位置精度の他に、金属ステム1の
直角精度や素子のマウント角度精度が重要因子となって
いる。また、表面放射型の半導体レーザ素子2′では第
14図に示したように素子周辺部をエツチングして絶縁
保護膜を設けることが容易であり、素子の取扱いが容易
になることやマウントのためのハンダ又は導電性ペース
トの盛り上がりによる素子短絡不良を大幅に低減できる
こと、さらにウェハ状態で素子の性能検査が容易に行え
ること等の利点を持っている。従って、表面放射型の半
導体レーザ素子2′を用いることにより、より低価格化
が可能となり、本発明の目的を効果的に達成することが
可能となる。
In the case of the edge-emitting semiconductor laser 2, in addition to the mounting accuracy, the flatness of the mounting surface, and the mounting position accuracy, the perpendicularity accuracy of the metal stem 1 and the mounting angle accuracy of the element are important factors. In addition, in the case of a surface-emitting type semiconductor laser device 2', it is easy to provide an insulating protective film by etching the periphery of the device as shown in FIG. This method has advantages such as being able to significantly reduce device short-circuit failures due to swelling of solder or conductive paste, and also being able to easily test device performance in the wafer state. Therefore, by using the surface-emitting type semiconductor laser element 2', it is possible to further reduce the cost, and it is possible to effectively achieve the object of the present invention.

なお、以下の実施例では再び端面放射型の半導体レーザ
素子2を用いて説明を行うが、これは比較的不利な条件
の半導体レーザ素子であっても本発明の効果が損なわれ
ないことを示すためであり、表面放射型の半導体レーザ
素子2′に対しても実施可能なことは容易に理解できる
In the following examples, the explanation will be made again using the edge-emitting type semiconductor laser device 2, which shows that the effects of the present invention are not impaired even with a semiconductor laser device under relatively unfavorable conditions. Therefore, it is easy to understand that the present invention can also be applied to a surface-emitting type semiconductor laser device 2'.

〈実施例2−2〉 第15図は樹脂による気密モールドの光出力部での反射
戻り光を抑制した実施例である。この実施例ではモール
ド樹脂の光出力部に凹凸23による非平坦化処理を施し
、反射光を散逸させて反射戻り光を抑制している。
<Example 2-2> FIG. 15 shows an example in which reflected return light at the light output portion of the airtight resin mold is suppressed. In this embodiment, the light output portion of the molded resin is subjected to a non-flattening process using unevenness 23 to dissipate reflected light and suppress reflected return light.

第16図はその構成断面図であり、非平坦化処理として
フレネルレンズ又はグレーティングレンズ23を用いる
ことができる。非平坦化処理としてフレネルレンズ又は
グレーティングレンズ23を形成する利点として、凹凸
部の高さを比較的小さくでき、その凸面を同一面上に位
置させることができるため見かけ上平坦面と同様に扱う
ことが可能であること、凹凸面からの出力光がレンズで
あるため出力ビームの光学的な設計ができること、また
、外部の光学系の構成が簡略化できること等である。
FIG. 16 is a cross-sectional view of the structure, and a Fresnel lens or grating lens 23 can be used for the non-flattening process. An advantage of forming the Fresnel lens or grating lens 23 as a non-flattening process is that the height of the uneven portion can be made relatively small, and the convex surfaces can be positioned on the same surface, so that they can be handled in the same way as a flat surface in appearance. Since the output light from the uneven surface is a lens, the output beam can be optically designed, and the configuration of the external optical system can be simplified.

〈実施例4−1〉 第17図は本発明の第4の実施例であり、半導体レーザ
素子2をマウントするステム1及び外部接続ピン3をリ
ード状にした実施例である。
<Embodiment 4-1> FIG. 17 shows a fourth embodiment of the present invention, and is an embodiment in which the stem 1 for mounting the semiconductor laser element 2 and the external connection pins 3 are shaped like leads.

図中1は金属ステムを兼ねた主リードであり、24は放
熱器への取付を行うための通し穴である。通し穴24は
必要に応じて設ければよく、不要な場合必ずしも設ける
必要はない。また、17はモールド樹脂の反射防止加工
であり、ここでは球面加工を例にとっている。
In the figure, 1 is a main lead that also serves as a metal stem, and 24 is a through hole for attachment to a heat sink. The through hole 24 may be provided as needed, and it is not necessarily necessary to provide it if unnecessary. Further, numeral 17 indicates anti-reflection processing of the mold resin, and here, spherical processing is taken as an example.

この実施例の特徴は、組立工程において連続的な組立が
容易なことであり、1及び3のり一部はリードフレーム
によって固定して組立可能である。また、第18図に示
すように半導体レーザ素子2のマウント面がリード1の
先端面であるため、組立時に圧力を加える方向が各リー
ド1.3の軸方向であり、リードの変形やマウント、ワ
イヤボンディングの不良を少なくできる特徴を持ってい
る。
A feature of this embodiment is that it is easy to perform continuous assembly in the assembly process, and parts of glues 1 and 3 can be assembled by being fixed by a lead frame. Further, as shown in FIG. 18, since the mounting surface of the semiconductor laser element 2 is the tip end surface of the lead 1, the direction in which pressure is applied during assembly is the axial direction of each lead 1.3, which may cause deformation of the lead, mounting, etc. It has the feature of reducing wire bonding defects.

〈実施例4−2〉 第19図は本発明の第4の実施例で、第17図とは実装
形態の異なる例であり、半導体レーザ素子2をマウント
するステム1を金属又は熱伝動性絶縁体のブロックとし
、その−側面をモールド樹脂とほぼ同一の面で露出した
実施例である。図中25は絶縁ポストであり、外部接続
ビン3の固定を行うためのものである。
〈Example 4-2〉 Fig. 19 shows a fourth embodiment of the present invention, which is an example of a mounting form different from Fig. 17, in which the stem 1 on which the semiconductor laser element 2 is mounted is made of metal or thermally conductive insulation. This is an embodiment in which a body block is used, and the side surface thereof is exposed on almost the same plane as the mold resin. In the figure, 25 is an insulating post, which is used to fix the external connection bin 3.

この例では、第20図に示すようにステム1の露出面を
大きく取れるため、放熱器への取付の際に放熱器とステ
ム1の接触面積を大きくてき、半導体レーザ素子2の放
熱を効果的に行うことができる。
In this example, as shown in FIG. 20, since the exposed surface of the stem 1 can be made large, the contact area between the heat sink and the stem 1 is increased when it is attached to the heat sink, thereby effectively dissipating the heat from the semiconductor laser element 2. can be done.

〈実施例4−3〉 第21図、第22図は第19図、第20図に対応して同
様な実装形態で光出力の取出し方向を変えた例であり、
その効果は第19図の例と同様に得られる。なお、これ
らの実施例で外部接続ビン3は絶縁ポスト25を介して
予めステム1に固定されている例を示したが、これは第
17図のように別個のリードで形成してもよく、また、
ステム1が熱伝導性絶縁体の場合ステム1にメタライズ
配線を行ったものであってもよい。
<Example 4-3> FIGS. 21 and 22 correspond to FIGS. 19 and 20, and are examples in which the direction of light output is changed in the same mounting form,
The effect is obtained in the same way as in the example shown in FIG. Note that in these embodiments, the external connection pin 3 is fixed to the stem 1 in advance through the insulating post 25, but this may be formed with a separate lead as shown in FIG. 17. Also,
When the stem 1 is a thermally conductive insulator, the stem 1 may be provided with metallized wiring.

〈実施例5〉 第23図はモニタ用フォトダイオードを内蔵させた第5
の実施例であり、第11図の実施例と同様な実装形態で
示している。図中26はモニタ用フォトダイオード、2
7はモニタ出力端子、28はボンディングワイヤであり
、半導体レーザ素子2からの出力光モニタをモールド樹
脂境界での反射光を受光して行うものである。
<Example 5> Figure 23 shows a fifth example with a built-in monitor photodiode.
This embodiment is shown in a similar implementation form to the embodiment of FIG. In the figure, 26 is a monitor photodiode, 2
7 is a monitor output terminal, and 28 is a bonding wire, which monitors the output light from the semiconductor laser element 2 by receiving reflected light at the mold resin boundary.

第24図は第23図の実施例の構成断面図であり、ここ
では半導体レーザ素子2とモニタ用フォトダイオード2
6を球面加工部17の共焦点配置とした例である。第1
2図で示したように単純球面で平行光出力とした時の反
射光は、焦点に達するまでに拡大散逸しやすいが、半導
体レーザ素子2の取付位置を球面部の光軸上から僅かに
ずらし、且つ焦点からずらすことで図のような構成が可
能である。但し、このときの出力光は平行光にはならな
い。逆に、平行光出力を重視する場合、フォトダイオー
ド26の受光面積を大きくすることで光出力のモニタが
可能であり、必ずしも共焦点配置とする必要はない。ま
た、半導体レーザ素子2.モニタ用フォトダイオード2
6のそれぞれの取付位置、さらに樹脂屈折率及び球面形
状を適切に選ぶことで効率的な光出力モニタの設計が可
能である。
FIG. 24 is a cross-sectional view of the structure of the embodiment shown in FIG. 23, in which a semiconductor laser element 2 and a monitor photodiode 2 are
6 is an example in which the spherical processing portion 17 is arranged confocal. 1st
As shown in Figure 2, when a simple spherical surface outputs parallel light, the reflected light tends to expand and dissipate before reaching the focal point. , and by shifting the focus from the focal point, the configuration shown in the figure is possible. However, the output light at this time does not become parallel light. Conversely, when emphasis is placed on parallel light output, the light output can be monitored by increasing the light receiving area of the photodiode 26, and a confocal arrangement is not necessarily required. Moreover, semiconductor laser device 2. Monitor photodiode 2
An efficient optical output monitor can be designed by appropriately selecting the mounting position of each of the elements 6, the resin refractive index, and the spherical shape.

〈実施例6−1〉 第25図はモールド樹脂の歪による半導体レーザ素子2
の劣化を防止するための第6の実施例である。図中29
は軟質性樹脂による第1モールドであり、5は他の実施
例と同様の樹脂モールド(第2モールド)である。ここ
で、第1モールドとして例えば硬化後も柔軟性の大きな
透光性シリコーン樹脂を用い、第2モールドとして例え
ば耐湿性の高い透光性エポキシ樹脂を用いる。作成方法
としては、まず半導体レーザ素子2のマウント、ワイヤ
ボンディングを行い、次に第1モールド29をボッティ
ング法により付着させ硬化させる。その後、他の実施例
と同様に第2モールド5により気密モールドを行う。
<Example 6-1> Figure 25 shows semiconductor laser device 2 due to distortion of mold resin.
This is a sixth embodiment for preventing the deterioration of. 29 in the diagram
5 is a first mold made of soft resin, and 5 is a resin mold (second mold) similar to the other embodiments. Here, the first mold is made of, for example, a translucent silicone resin that is highly flexible even after curing, and the second mold is made of, for example, a translucent epoxy resin that is highly moisture resistant. As a manufacturing method, first the semiconductor laser element 2 is mounted and wire bonded, and then the first mold 29 is attached by a botting method and hardened. Thereafter, airtight molding is performed using the second mold 5 as in the other embodiments.

この実施例の特徴は、樹脂モールド時或いは発熱による
樹脂と半導体レーザ素子2との間の歪を第1モールド2
9で吸収し、モールド本来の目的である気密封止は第2
モールド5により行うため樹脂モールドの特徴を生かし
たまま、歪、応力に敏感な半導体レーザ素子2を保護し
、高信頼性樹脂モールド型半導体レーザ装置が実現でき
ることである。
The feature of this embodiment is that the strain between the resin and the semiconductor laser element 2 due to resin molding or heat generation is eliminated by the first mold 2.
9, and the original purpose of the mold, hermetic sealing, is the second.
Since this is carried out using the mold 5, the semiconductor laser element 2, which is sensitive to strain and stress, can be protected while maintaining the characteristics of the resin mold, and a highly reliable resin mold type semiconductor laser device can be realized.

〈実施例6−2〉 第26図は第25図の実施例の改良を図ったものであり
、第1モールド29と第2モールド5との屈折率が異な
る場合にも適用できる例である。第25図の実施例では
第1モールド29をボッティング法で形成するためその
形状が不確定であり、第1モールド29と第2モールド
5との間でレーザビームの変形が起き易い。そこで、こ
こでは第1モールド29も成型法により作成し、光出力
部の平坦化をはかっている。
<Example 6-2> FIG. 26 is an improvement of the embodiment shown in FIG. 25, and is an example that can be applied even when the first mold 29 and the second mold 5 have different refractive indexes. In the embodiment shown in FIG. 25, since the first mold 29 is formed by a botting method, its shape is uncertain, and the laser beam is likely to be deformed between the first mold 29 and the second mold 5. Therefore, here, the first mold 29 is also created by a molding method in order to flatten the light output portion.

この場合、第1モールド29と第2モールド5の屈折率
が異なる場合でも、その屈折率差分たけ焦点距離を補正
するだけで、他の実施例と同様に実施することかできる
In this case, even if the first mold 29 and the second mold 5 have different refractive indexes, the present invention can be implemented in the same way as the other embodiments by simply correcting the focal length by the refractive index difference.

〈実施例6−3〉 %!27図は第1モールド29と第2モールド5との屈
折率が異なる場合にその屈折率差を積極的に利用した実
施例である。ここでは、第1モールド29の屈折率が第
2モールド5の屈折率より低い場合を想定しており、第
1モールド29の光出力部に凹形の球面加工17′を施
しておき、第2モールド5の光出力部を凸形の球面加工
17′を施して2つの球面を形成したものである。この
ようにすることで、jfW251ffl。
<Example 6-3> %! FIG. 27 shows an example in which when the first mold 29 and the second mold 5 have different refractive indexes, the difference in refractive index is actively utilized. Here, it is assumed that the refractive index of the first mold 29 is lower than the refractive index of the second mold 5, and the light output part of the first mold 29 is processed with a concave spherical surface 17', and the second mold 29 is The light output portion of the mold 5 is processed into a convex spherical surface 17' to form two spherical surfaces. By doing this, jfW251ffl.

第26図の実施例の特徴のほかに光学的な設計自由度が
大きくなることや、第1モールド29と第2モールド5
との間での反射戻り光を低減できるという特徴を持って
いる。
In addition to the features of the embodiment shown in FIG. 26, the degree of freedom in optical design is increased, and the
It has the characteristic that it can reduce the amount of reflected light between the two.

〈実施例6−4〉 第28図は第27図の実施例の第1モールド29と第2
モールド5との屈折率関係が逆転した場合を示したもの
であり、第1モールド29の光出力部球面加工を凸形の
17°°゛としたものである。この実施例においてもそ
の効果は、第27図の実施例と同様に得ることができる
<Example 6-4> Fig. 28 shows the first mold 29 and the second mold of the embodiment shown in Fig. 27.
This shows a case where the refractive index relationship with the mold 5 is reversed, and the light output portion of the first mold 29 is spherically processed to have a convex shape of 17°. In this embodiment as well, the same effect as in the embodiment shown in FIG. 27 can be obtained.

なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
なく、その形状、材質等は種々の変形が可能であり、さ
らに応用として例えば光アイソレータの内蔵や光コネク
タの一体成型等も可能である。
Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and its shape, material, etc. can be modified in various ways, and further applications include, for example, incorporating a built-in optical isolator or integrally molding an optical connector. be.

[発明の効果コ 以上詳述したように本発明によれば、性能、信頼性等が
樹脂モールドしない半導体レーザ装置と遜色がなく、ま
た新たな機能性の付加を可能としながら、樹脂モールド
による大幅な低価格化が可能な半導体レーザ装置を実現
することが可能となる。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, the performance and reliability are comparable to those of semiconductor laser devices that are not molded with resin, and while making it possible to add new functionality, This makes it possible to realize a semiconductor laser device that can be manufactured at a low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第10図は本発明の第1の実施例を説明する
ため図、第11図及び第12図は本発明の第2の実施例
を説明するための図、第13及び第14図は本発明の第
3の実施例を説明するための図、第15図及び第16図
は本発明の第2の実施例を説明するための図、第17図
乃至第22図は本発明の第4の実施例を説明するための
図、第23図及び第24図は本発明の第5の実施例を説
明するための図、第25図乃至第28図は本発明の第6
の実施例を説明するための図、第29図及び第30図は
従来技術の問題点を説明するための図である。 1・・・ステム、 2.2′・・・半導体レーザ素子、 3・・・外部接続電極、 4・・・ボンディングワイヤ、 5・・・樹脂による気密モールド、 6A、6B・・・多層膜反射鏡、 14・・・光ガイド層、 15・・・中間絶縁膜、 16・・・金属反射膜、 17・・・球面加工部、 23・・・凹凸加工部、 26・・・モニタ用フォトダイオード。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦介 第1図 第3図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図 第11図 第13図 第14図 第15図 第16図 第18図 第19図 第20図 第21図 第22図 第23図 第24図 第25図 第27図 第29図 第30図
1 to 10 are diagrams for explaining a first embodiment of the present invention, FIGS. 11 and 12 are diagrams for explaining a second embodiment of the present invention, and FIGS. 13 and 14 are diagrams for explaining a second embodiment of the present invention. The figure is a diagram for explaining the third embodiment of the present invention, Figures 15 and 16 are diagrams for explaining the second embodiment of the invention, and Figures 17 to 22 are diagrams for explaining the second embodiment of the present invention. FIGS. 23 and 24 are diagrams for explaining the fifth embodiment of the present invention, and FIGS. 25 to 28 are diagrams for explaining the fourth embodiment of the present invention.
FIGS. 29 and 30 are diagrams for explaining the embodiment of FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Stem, 2.2'... Semiconductor laser element, 3... External connection electrode, 4... Bonding wire, 5... Airtight mold with resin, 6A, 6B... Multilayer film reflection Mirror, 14... Light guide layer, 15... Intermediate insulating film, 16... Metal reflective film, 17... Spherical surface processing part, 23... Uneven processing part, 26... Photodiode for monitor . Applicant's Representative Patent Attorney Hikosuke Takeshi Suzue Figure 1 Figure 3 Figure 5 Figure 6 Figure 7 Figure 8 Figure 9 Figure 11 Figure 13 Figure 14 Figure 15 Figure 16 Figure 18 Fig. 19 Fig. 20 Fig. 21 Fig. 22 Fig. 23 Fig. 24 Fig. 25 Fig. 27 Fig. 29 Fig. 30

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ステムにマウントされた半導体レーザ素子が外部
接続電極に電気的に接続され、該半導体レーザ素子と共
にステム及び外部電極の一部が透光性樹脂によりモール
ドされた半導体レーザ装置において、 前記半導体レーザ素子の光出力部に誘電体又は半導体か
らなる多層膜反射鏡を設けてなることを特徴とする半導
体レーザ装置。
(1) A semiconductor laser device in which a semiconductor laser element mounted on a stem is electrically connected to an external connection electrode, and a part of the stem and the external electrode are molded with a transparent resin together with the semiconductor laser element, 1. A semiconductor laser device characterized in that a multilayer reflector made of a dielectric or a semiconductor is provided at a light output portion of a laser element.
(2)ステムにマウントされた半導体レーザ素子が外部
接続電極に電気的に接続され、該半導体レーザ素子と共
にステム及び外部電極の一部が透光性樹脂によりモール
ドされた半導体レーザ装置において、 前記半導体レーザ素子は内部に屈折率又は利得の周期構
造を有し、主に該周期構造による光帰還でレーザ動作が
行われることを特徴とする半導体レーザ装置。
(2) A semiconductor laser device in which a semiconductor laser element mounted on a stem is electrically connected to an external connection electrode, and a part of the stem and the external electrode are molded with a transparent resin together with the semiconductor laser element, A semiconductor laser device characterized in that a laser element has a periodic structure with a refractive index or gain inside, and a laser operation is performed mainly by optical feedback by the periodic structure.
(3)前記半導体レーザ素子は、光共振器方向の一方に
レーザ光漏洩防止のための高反射鏡或いは金属反射鏡が
設けられてなることを特徴とする請求項1又は2に記載
の半導体レーザ装置。
(3) The semiconductor laser according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor laser element is provided with a high reflection mirror or a metal reflection mirror for preventing laser light leakage on one side of the optical resonator direction. Device.
(4)前記透光性樹脂によるモールドの光出射部は、半
導体レーザ素子への戻り光低減のための傾斜加工、球面
加工又は非平坦化加工が施されてなることを特徴とする
請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
(4) The light emitting part of the mold made of the transparent resin is subjected to an inclined process, a spherical process, or a non-flattening process to reduce light returning to the semiconductor laser element. 4. The semiconductor laser device according to any one of 3 to 3.
(5)前記ステムがリードからなり、該リードの先端面
に前記半導体レーザ素子がマウントされてなることを特
徴とする請求項1乃至4のいずれか記載の半導体レーザ
装置。
(5) The semiconductor laser device according to any one of claims 1 to 4, wherein the stem comprises a lead, and the semiconductor laser element is mounted on the tip end surface of the lead.
(6)前記ステムが金属ブロックからなり、該金属ブロ
ックの先端面若しくは先端側面に前記半導体レーザ素子
がマウントされ、該金属ブロックの少なくとも1側面若
しくは相対する2側面が露出し、且つ該金属ブロックの
露出面の少なくとも1面が前記透光性樹脂によるモール
ド面とほぼ同一の平面を形成してなることを特徴とする
請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
(6) The stem is made of a metal block, the semiconductor laser element is mounted on a tip end surface or a tip side surface of the metal block, and at least one side surface or two opposing sides of the metal block are exposed; 5. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein at least one of the exposed surfaces forms substantially the same plane as a mold surface made of the light-transmitting resin.
(7)前記透光性樹脂内に前記半導体レーザ素子と共に
光出力モニタ用の受光素子がモールドされており、該透
光性樹脂によるモールドの光出射部で反射されたレーザ
出力光を該受光素子により受光することを特徴とする請
求項1乃至6のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
(7) A light-receiving element for monitoring optical output is molded together with the semiconductor laser element in the light-transmitting resin, and the laser output light reflected by the light emitting part of the mold made of the light-transmitting resin is transmitted to the light-receiving element. 7. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device receives light.
(8)前記透光性樹脂によるモールドは、少なくとも前
記半導体レーザ素子をモールドする軟質性の第1モール
ドと、該第1モールド、前記ステム及び外部接続電極の
一部をモールドする硬質性の第2モールドと、からなる
ものであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか
に記載の半導体レーザ装置。
(8) The mold made of the light-transmitting resin includes a first soft mold that molds at least the semiconductor laser element, and a second hard mold that molds the first mold, the stem, and a part of the external connection electrode. 8. The semiconductor laser device according to claim 1, comprising: a mold.
(9)ステムにマウントされた半導体レーザ素子が外部
接続電極に電気的に接続され、該半導体レーザ素子と共
にステム及び外部電極の一部が透光性樹脂によりモール
ドされた半導体レーザ装置において、 前記透光性樹脂によるモールドは、少なくとも軟質性の
樹脂からなる第1モールドと、その周囲を囲む硬質性の
樹脂からなる第2モールドが含まれた多重モールドであ
ることを特徴とする半導体レーザ装置。
(9) A semiconductor laser device in which a semiconductor laser element mounted on a stem is electrically connected to an external connection electrode, and a part of the stem and the external electrode are molded with a transparent resin together with the semiconductor laser element, A semiconductor laser device characterized in that the mold made of photoresist is a multi-layer mold including at least a first mold made of a soft resin and a second mold made of a hard resin surrounding the first mold.
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