JPH04204534A - Film exposure device - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、レチクルに描かれた回路パターンを、フィル
ムに露光するフィルム露光装置に関するものであり、特
にその装置の中で、レチクルや投影レンズ及びフィルム
面に塵や埃か付着しないようにする構造に関するもので
ある。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a film exposure device that exposes a circuit pattern drawn on a reticle onto a film. It also relates to a structure that prevents dust and dirt from adhering to the film surface.
物体の表面に微細加工を施す技術としては、フォトリソ
クラフィの技術かある。最近では、この技術かフィルム
回路基板の制作にも応用されている。Photolithography is a technique for applying microfabrication to the surface of objects. Recently, this technology has also been applied to the production of film circuit boards.
この技術に使う露光装置は、光源を有する光源部と、光
源部からの放射光が照射され露光されるべき回路パター
ンを描かれたレチクルと、レチクルを通過した光をフィ
ルムに投影する投影レンズと、フィルムを保持するフィ
ルムステージと、フィルムステージへ露光するへきフィ
ルムの１コマを搬送する搬送機構等より構成される。The exposure equipment used in this technology consists of a light source unit that has a light source, a reticle that is irradiated with light emitted from the light source and has a circuit pattern to be exposed, and a projection lens that projects the light that has passed through the reticle onto a film. , a film stage that holds the film, and a transport mechanism that transports one frame of the film to be exposed to the film stage.
そして、この露光装置についても、露光するへき回路パ
ターンの微細化か要求されてきている。Also, with regard to this exposure apparatus, there has been a demand for miniaturization of the cleavage circuit patterns to be exposed.
このように、微細化か要求されている露光装置では、露
光線幅かかなり小さいレヘルまて実用化していくことか
検討されている。しかしなから露光装置周辺の雰囲気中
に塵、埃等の異物か浮遊して、パターンか描かれたレチ
クルの上面及び下面に塵埃か付着するとパターン欠陥を
生じることかある。このことはフィルムのレジスト面や
投影レンズについてもいえる。投影レンズの場合は長時
間使用すれば、その」−下面に塵埃か付着して像のボケ
や光量の現象を生じる。さらには光源部におけるコンデ
ンサレンズについても同様に光量減少等が生じる。As described above, in exposure apparatuses that are required to be miniaturized, consideration is being given to the practical use of a level with a considerably smaller exposure line width. However, if foreign matter such as dust or dirt floats in the atmosphere around the exposure apparatus and adheres to the upper and lower surfaces of the reticle on which a pattern is drawn, pattern defects may occur. This also applies to the resist surface of the film and the projection lens. If a projection lens is used for a long period of time, dust may accumulate on its lower surface, causing blurring of the image and problems with the amount of light. Furthermore, the amount of light decreases similarly with respect to the condenser lens in the light source section.
このような塵埃の影響を防止するためには、操作室全体
をクリーンルーム化すればよいか、設備費かかかり、採
算的に問題かある。また露光装置全体を加圧して、装置
の中に塵埃か侵入しない構造も考えられているか、装置
自体、特にフィルム搬送系、から発生する塵埃は防ぎき
れない。In order to prevent the influence of such dust, it would be better to turn the entire operation room into a clean room, which would be costly and unprofitable. Also, a structure has been considered in which the entire exposure apparatus is pressurized to prevent dust from entering the apparatus, but dust generated from the apparatus itself, especially the film transport system, cannot be prevented.
本発明は、このように装置周辺に浮遊する塵や埃の影響
を受けることなく、露光することができる露光装置を提
供することを目的とする。An object of the present invention is to provide an exposure apparatus that can perform exposure without being affected by dust and dirt floating around the apparatus.
このような課題を解決するために、本発明のフィルム露
光装置は、
光源部と、光源部から光が照射されるレチクルと、レチ
クルを保持して光軸方向に移動可能なレチクル保持台と
、レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパ
ターンを投影する投影レンズと、投影レンズによる像の
投影位置に、フィルムを載せて保持するフィルムステー
ジとを有し、第１の構成として、レチクルをその内部に
有し、光源部と繋かった第１のレチクルケースと、レチ
クル保持台に繋がった、第２のレチクルケースと第１の
投影レンズケースからなるレチクル加圧室とレチクル加
圧室に接続された圧力供給器とを有することを特徴とす
る。In order to solve such problems, the film exposure apparatus of the present invention includes: a light source section, a reticle that is irradiated with light from the light source section, a reticle holding table that holds the reticle and is movable in the optical axis direction; The first configuration includes a projection lens that connects the light that has passed through the reticle to the exposure surface and projects the pattern of the reticle, and a film stage that places and holds a film at the position where the image is projected by the projection lens. a reticle pressurizing chamber consisting of a first reticle case having a reticle case therein and connected to a light source, a second reticle case and a first projection lens case connected to a reticle holding stand; and a reticle pressurizing chamber. and a pressure supply device connected to.
さらに第２の構成として、投影レンズと繋がった、第２
の投影レンズケースと、フィルムステージに繋がったス
テージケースからなるステージ加圧室と、ステージ加圧
室に接続された圧力供給器とを有することを特徴とする
。Furthermore, as a second configuration, a second
The present invention is characterized by having a projection lens case, a stage pressurizing chamber made up of a stage case connected to a film stage, and a pressure supply device connected to the stage pressurizing chamber.
さらには第３の構成として、レチクルをその内部に有し
、光源部と繋がった第１のレチクルケースと、レチクル
保持台に繋かった、第２のレチクルケースと第１の投影
レンズケースからなるレチクル加圧室と、投影レンズと
繋かった第２の投影レンズケースと、フィルムステージ
に繋かったステージケースからなるステージ加圧室と、
レチクル加圧室及びステージ加圧室に接続された圧力供
給器とを有することを特徴とする。Furthermore, a third configuration includes a first reticle case that has a reticle therein and is connected to a light source, a second reticle case and a first projection lens case that are connected to a reticle holder. a stage pressurization chamber consisting of a reticle pressurization chamber, a second projection lens case connected to the projection lens, and a stage case connected to the film stage;
It is characterized by having a pressure supply device connected to a reticle pressurizing chamber and a stage pressurizing chamber.
本発明の装置では、回路パターンか描かれたレチクルは
、第１のレチクルケースと、第２のレチクルケースと、
第１の投影レンズケースからなるレチクル加圧室に配置
されている。そしてカスを′帛に供給することによって
、レチクル加圧室外部からの塵埃の混入を防止すること
かできる。さらには第２の投影レンズケースとステージ
ケースからなるステージ加圧室によって、同様に塵埃の
混入を防止することかできる。In the apparatus of the present invention, the reticle on which the circuit pattern is drawn is divided into a first reticle case, a second reticle case,
The reticle is arranged in a pressurizing chamber consisting of a first projection lens case. By supplying the debris to the film, it is possible to prevent dust from entering the reticle pressurizing chamber from outside. Furthermore, the stage pressurizing chamber made up of the second projection lens case and the stage case can similarly prevent dust from entering.
以下、本発明の詳細な説明する。第１図は本発明のフィ
ルム露光装置の全体の概略図である。The present invention will be explained in detail below. FIG. 1 is a schematic diagram of the entire film exposure apparatus of the present invention.
装置の働きを説明するために第１のレチクルケース、第
２のレチクルケース、第１の投影レンズケース、第２の
投影レンズケース、ステージケース及びこれらで構成さ
れる加圧室や圧力供給器は省略している。In order to explain the functions of the device, the first reticle case, second reticle case, first projection lens case, second projection lens case, stage case, and the pressurized chamber and pressure supply device made up of these are explained below. It is omitted.
フィルムＦには、フォトレジスト層か設けられて、この
レジストに、光源からのレジスト感光波長か照射される
。そしてフィルムＦは搬送系で露光位置５に１コマずつ
ステップ送りされる。Film F is provided with a photoresist layer, and this resist is irradiated with a resist-sensitive wavelength from a light source. Then, the film F is fed frame by frame step by step to the exposure position 5 by the transport system.
光源部１０は、超高圧水銀ランプのようなレジスト感光
波長を良好に放射するランプ１１と、この放射光を効率
よく反射集束する凹面鏡１２と、放射光を導く平面鏡１
４と、シャッター１５と、コンデンサレンズ１３等より
構成される。The light source unit 10 includes a lamp 11, such as an ultra-high pressure mercury lamp, that emits resist-sensitive wavelengths well, a concave mirror 12 that efficiently reflects and focuses the emitted light, and a plane mirror 1 that guides the emitted light.
4, a shutter 15, a condenser lens 13, and the like.
一方、光源部１０からの放射光を受ける投影系２０は、
レチクル２と、レチクル保持台２１、レチクル２を通過
した光を効率よくフィルムＦに投影する投影レンズ３と
投影レンズ保持台３１より構成される。On the other hand, the projection system 20 that receives the emitted light from the light source section 10 is
It is composed of a reticle 2, a reticle holder 21, a projection lens 3 for efficiently projecting light passing through the reticle 2 onto a film F, and a projection lens holder 31.
搬送系は、フィルムＦか巻かれていて、露光位置５に供
給するフィルム供給リール４１と、露光後のフィルムＦ
を巻き取るフィルム巻き取りり一ル４２と、レジストを
保護するためのスペイサ−のためのリール４３．４４を
それぞれに有する。The conveyance system includes a film supply reel 41 on which the film F is wound and is supplied to the exposure position 5, and a film supply reel 41 on which the film F is wound and supplied to the exposure position 5, and a film F after exposure.
Each of them has a film winding reel 42 for winding up the resist, and reels 43 and 44 for spacers for protecting the resist.
またフィルムＦの駆動ローラ４６と、これに従動される
ローラ４５かスプロケット式に構成される。Further, the drive roller 46 for the film F and the roller 45 driven by the drive roller 46 are constructed in the form of a sprocket.
そして補助ローラ４６．４７かある。And there are 46.47 auxiliary rollers.
５は露光位置であり、フィルムステージ５１上に構成さ
れる。またステージには、図示路のフィルム吸着機構や
、フィルムやレチクルの位置検出用センサ一部５２を有
する。ＦＩＯはフィルムＦの幅方向に２つ設けられた位
置検出用の穴であり、これによって露光されるへきｌコ
マか正しく搬送されたことを検出する。５３はフィルム
Ｆの搬送の度にフィルムステージ５１を昇降させる昇降
機構である。Reference numeral 5 denotes an exposure position, which is located on the film stage 51. The stage also includes a film suction mechanism along the illustrated path and a sensor part 52 for detecting the position of the film or reticle. The FIOs are two position detection holes provided in the width direction of the film F, and detect whether the exposed frame has been conveyed correctly. Reference numeral 53 denotes a lifting mechanism that lifts and lowers the film stage 51 every time the film F is conveyed.
このような露光装置において、露光位置５は、レチクル
２や投影レンズ３と正しい位置関係をもって、設定され
ている。特にこの間の距離は、焦点や倍率を決定するう
えて重要である。そして位置関係かずれた時は、レチク
ル２や投影レンズ３を専用の移動機構によって光軸方向
に移動させることによって制御できる。In such an exposure apparatus, the exposure position 5 is set in a correct positional relationship with the reticle 2 and the projection lens 3. In particular, this distance is important in determining focus and magnification. If the positional relationship deviates, it can be controlled by moving the reticle 2 and projection lens 3 in the optical axis direction using a dedicated movement mechanism.
第２図は、本発明を具体的に説明するための要部拡大図
である。光源部１０内のコンデンサレンズ１３は、コン
デンサレンズ保持部材１３０に保持される。一方レチク
ル２はレチクルカバー２′に載置されて、レチクル保持
部材２１に保持されている。レチクル保持部（Ａ２１は
カイト部（Ａ２４に沿って、光軸方向に移動する。この
移動は専用の移動機構、例えばモータよりなる、によっ
て行われる。ガイド部材２４は基板２５に固着されてい
る。一方投影レンズ３は第２の投影レンズケース３２に
よって保持されて、さらに第２の投影レンズケース３２
は投影レンズ保持台３１に保持される。投影レンズ保持
台３１はカイト部材２４に沿って、光軸方向に移動する
。FIG. 2 is an enlarged view of main parts for specifically explaining the present invention. The condenser lens 13 in the light source section 10 is held by a condenser lens holding member 130. On the other hand, the reticle 2 is placed on a reticle cover 2' and held by a reticle holding member 21. The reticle holding section (A21) moves in the optical axis direction along the kite section (A24). This movement is performed by a dedicated moving mechanism, such as a motor. The guide member 24 is fixed to the substrate 25. On the other hand, the projection lens 3 is held by a second projection lens case 32, and is further held by a second projection lens case 32.
is held on a projection lens holding stand 31. The projection lens holder 31 moves along the kite member 24 in the optical axis direction.
レチクル２に対しては、コンデンサレンズ保持部材１３
０に繋かった第１のレチクルケース２２とレチクル保持
部材２１に繋かった第２のレチクルケース２３、及び第
１の投影レンズケース３０によって、レチクル加圧室１
か形成される。For the reticle 2, the condenser lens holding member 13
0, the second reticle case 23 connected to the reticle holding member 21, and the first projection lens case 30, the reticle pressurizing chamber 1
or formed.
また投影レンズ３に対しては、第２の投影レンズケース
３２とステージケース３３によってステ−ジ加圧室１′
か形成される。Further, for the projection lens 3, a stage pressurizing chamber 1' is provided by a second projection lens case 32 and a stage case 33.
or formed.
これら加圧室（乙は、浄化作用も合わせて持つ、圧力供
給器６か管６０．６２によって接続されている。６１、
’、６３は流量調節器である。圧力供給器６としてはコ
ンプレッサか適用される。These pressurized chambers (B) are connected by a pressure supply device 6 or a pipe 60, 62, which also has a purifying effect. 61,
', 63 is a flow rate regulator. A compressor is used as the pressure supply device 6.
一方、各々の加圧室は、前述の如く光軸方向に移動する
ため、加圧室には隙間が設定される。例えばレチクル加
圧室１の場合、隙間から、外部向けて洗浄な空気Ａ、Ｂ
か流れる。またステージケースビの場合、空気Ｃ，Ｄか
流れる。これは加圧室内の方か圧力は高いためである。On the other hand, since each pressurizing chamber moves in the optical axis direction as described above, a gap is set between the pressurizing chambers. For example, in the case of reticle pressurizing chamber 1, cleaning air A and B are directed outward from the gap.
It flows. In the case of stage case Bi, either air C or D flows. This is because the pressure inside the pressurized chamber is higher.
このため塵埃が加圧室内に混入することはなく、その影
響を受けることもない。とくにレチクル２に塵埃か付着
しないので、（レチクルの上面、下面両方）パターン欠
陥を生じることかない。さらに投影レンズ３の上面及び
下面、さらにはコンデンサレンズ１３の下面１３′にお
いてもその影響は受けない。Therefore, dust does not enter the pressurized chamber and is not affected by it. In particular, since no dust adheres to the reticle 2, pattern defects (on both the top and bottom surfaces of the reticle) will not occur. Furthermore, the upper and lower surfaces of the projection lens 3, and even the lower surface 13' of the condenser lens 13, are not affected by this.
またステージケース１′については風りによって、フィ
ルムＦのレジスト面に付着した塵埃を吹き飛ばすことか
できる。Further, regarding the stage case 1', dust attached to the resist surface of the film F can be blown away by wind.
以上説明したように、加圧室はレチクル加圧室、ステー
ジ加圧室の両方を有するフィルム露光装置について説明
したか５、何れか一方でも可能である。As explained above, the pressurizing chamber may be either one of the reticle pressurizing chamber and the stage pressurizing chamber, as described above for the film exposure apparatus having both.
また圧力供給器６は、両方の加圧室に別々に設けてもよ
い。Further, the pressure supply device 6 may be provided separately in both pressurizing chambers.
以上説明したように、本考案のフィルム露光装置によれ
ば、レチクル、投影レンズ、コンデンサレンズ、フィル
ムのレジスト面に対して塵埃か付着しないように加圧室
の設けたので、投影像のボケや光量の減少を生じること
はない。As explained above, according to the film exposure apparatus of the present invention, the pressurized chamber is provided to prevent dust from adhering to the reticle, projection lens, condenser lens, and resist surface of the film. There is no reduction in the amount of light.
第１図は、本発明のフィルム露光装置の全体の概略図を
示す。
第２図は、本発明を説明するための要部拡大図である。
図中、
ｌ ニレチクル加圧室
１′：ステージ加圧室
２ ・レチクル
３ ：投影レンズ
１０：光源部
２１ニレチクル保持台
５１：フィルムステージ
２２：第１のレチクルケース
３０：第１の投影レンズケース
３２：第２の投影レンズケース
３３ ・ステージケース
６ ：圧力供給器FIG. 1 shows a schematic diagram of the entire film exposure apparatus of the present invention. FIG. 2 is an enlarged view of essential parts for explaining the present invention. In the figure, l Reticle pressurizing chamber 1': Stage pressurizing chamber 2 - Reticle 3: Projection lens 10: Light source section 21 Reticle holder 51: Film stage 22: First reticle case 30: First projection lens case 32 : Second projection lens case 33 ・Stage case 6 : Pressure supply device
Claims (3)
持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージと、 前記レチクルをその内部に有し、 光源部と繋がった第１のレチクルケースと レチクル保持台に繋がった、第２のレチク ルケースと第１の投影レンズケース からなるレチクル加圧室と レチクル加圧室に接続された圧力供給器と、を有するこ
とを特徴とするフィルム露光装置。(1) A light source unit, a reticle that is irradiated with light from the light source unit, a reticle holder that holds the reticle and is movable in the optical axis direction, and connects the light that has passed through the reticle to the exposure surface to form a pattern on the reticle. a projection lens for projecting an image; a film stage for mounting and holding a film at a position where an image is projected by the projection lens; a first reticle case having the reticle therein and connected to a light source, and a reticle holding base; A film exposure apparatus comprising: a reticle pressurizing chamber consisting of a second reticle case and a first projection lens case connected to each other; and a pressure supply device connected to the reticle pressurizing chamber.
持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージと、 前記投影レンズと繋がった、第２の投影レンズズケース
と、フィルムステージに繋がったステージケースからな
るステージ加圧室と、 ステージ加圧室に接続された圧力供給器と、を有するこ
とを特徴とするフィルム露光装置。(2) A light source unit, a reticle that is irradiated with light from the light source unit, a reticle holder that holds the reticle and is movable in the optical axis direction, and connects the light that has passed through the reticle to the exposure surface to form a pattern on the reticle. A projection lens for projecting images; a film stage for mounting and holding a film at the projection position of the image by the projection lens; a second projection lens case connected to the projection lens; and a stage case connected to the film stage. A film exposure apparatus comprising: a stage pressurizing chamber; and a pressure supply device connected to the stage pressurizing chamber.
持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージと、 前記レチクルをその内部に有し、 光源部と繋がった第１のレチクルケースと、レチクル保
持台に繋がった第２のレチクルケースと、第１の投影レ
ンズケースからなる レチクル加圧室と 前記投影レンズと繋がった第２の投影レンズケースと、
フィルムステージに繋がったステージケースからなるス
テージ加圧室と、 レチクル加圧室及びステージ加圧室に接続された圧力供
給器と、 を有することを特徴とするフィルム露光装置。(3) A light source unit, a reticle that is irradiated with light from the light source unit, a reticle holder that holds the reticle and is movable in the optical axis direction, and connects the light that has passed through the reticle to the exposure surface to form a pattern on the reticle. a film stage for mounting and holding a film at the position where the image is projected by the projection lens; a first reticle case having the reticle therein and connected to a light source; and a reticle holder. a second reticle case connected to a reticle pressurizing chamber consisting of a first projection lens case and a second projection lens case connected to the projection lens;
A film exposure apparatus comprising: a stage pressurizing chamber consisting of a stage case connected to a film stage; and a pressure supply device connected to the reticle pressurizing chamber and the stage pressurizing chamber.
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204534A true JPH04204534A (en) | 1992-07-24 |
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| JP2330551A Expired - Fee Related JP2891769B2 (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Film exposure equipment |
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|---|---|
| JP (1) | JP2891769B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101887217A (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | Exposure device |
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1990
- 1990-11-30 JP JP2330551A patent/JP2891769B2/en not_active Expired - Fee Related
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| CN101887217A (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | Exposure device |
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| JP2891769B2 (en) | 1999-05-17 |
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