JPH04199726A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH04199726A
JPH04199726A JP2332847A JP33284790A JPH04199726A JP H04199726 A JPH04199726 A JP H04199726A JP 2332847 A JP2332847 A JP 2332847A JP 33284790 A JP33284790 A JP 33284790A JP H04199726 A JPH04199726 A JP H04199726A
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diagnosis
diagnosed
diagnostic
wafer
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Hideki Hayashi
秀樹 林
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Hitachi Ltd
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To allow operation diagnosis without damaging an electrode pad by a method wherein it is made possible that the diagnosis starting instruction is given from outside and the diagnosis results is fed to outside, with non- contacting state by means of an interface section contained in a diagnosis circuit. CONSTITUTION:A plurality of a circuit to be diagnosed 3A and a circuit for diagnosis 3B that allows this operational diagnosis of the circuit to be diagnosed 3A are formed on the same wafer. A circuit for diagnosis 3B is formed, including a memory section 5 storing the information for diagnosis, a logic circuit section that makes evaluation of acceptance or rejection by comparing the output result from the circuit to be diagnosed 3A with its expected value when the information for diagnosis is given to the circuit to be diagnosed 3A, and an interface section 90 that allows the taking in of the diagnosis start instruction signal from outside and the output of the diagnosis results to outside with non-contacting state with respect to the wafer 1, thereby making it possible to perform operational diagnosis without damaging an electrode pad such as bonding pad.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、診断対象回路と、それの動作診断を可能とす
る診断用回路とを含むウェーハ状若しくはチップ状の半
導体集積回路、さらにはそれに含まれる診断対象回路の
ウェーハプロービング試験と同等の診断を非接触状態で
可能とする技術に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in the form of a wafer or a chip that includes a circuit to be diagnosed and a diagnostic circuit that makes it possible to diagnose the operation of the circuit, and furthermore, This invention relates to a technology that enables non-contact diagnosis equivalent to a wafer probing test of a circuit to be diagnosed.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体集積回路の動作診断は、診断対象とされる半導体
集積回路に試験パターンあるいは信号などの診断用情報
を人力し、半導体集積回路からのだ出力値と期待値と比
較して半導体集積回路の機能の良否を判定したり、入出
力信号を測定するもので、そのひとつにウェーハブロー
ビング試験がある。このウェーハブロービング試験は、
チップ切り出し前のウェーハ状態で半導体集積回路のポ
ンディングパッドなどに探針を機械的に接触させて電気
的特性を測定する試験であり、この試験においては試験
装置と接続して使用されるウエーハプローバが必要とさ
れる。このウェーハプローバによって、上記ポンディン
グパッドに接触された探釦を介して試験装置からの信号
の入出力、電源の供給が可能とされ、この探針を順次移
動させることによってウェーハ上の複数の半導体集積1
回路を次々と試験することができる。
Operational diagnosis of semiconductor integrated circuits involves manually applying diagnostic information such as test patterns or signals to the semiconductor integrated circuit to be diagnosed, and comparing the output value from the semiconductor integrated circuit with the expected value to determine the function of the semiconductor integrated circuit. Wafer blobbing tests are used to judge the quality of wafers and measure input/output signals. This wafer blobbing test
This is a test in which the electrical characteristics are measured by mechanically contacting a probe to the bonding pad of a semiconductor integrated circuit in the wafer state before chip cutting. is required. With this wafer prober, it is possible to input and output signals from the test equipment and supply power through the probe button that is in contact with the bonding pad, and by sequentially moving the probe, multiple semiconductors on the wafer can be detected. Accumulation 1
Circuits can be tested one after another.

尚、ウェーハブロービング試験について記載された文献
の例としては、昭和59年]−1月30日にオーム礼よ
り発行されたrLSIハンドブンクjがある。
An example of a document describing a wafer blobbing test is rLSI Handbook J published by Ohm Rei on January 30, 1982.

C発明が解決しようとする課題〕 上記従来技術について本発明者が検討したところによれ
ば、以下のような問題点のあることが見いだされた。
Problems to be Solved by the Invention] According to the inventor's study of the above-mentioned prior art, the following problems were found.

上記ウェーハブロービング試験においては、ボンディン
グバットに探針を接触させることになるので、それによ
ってポンディングパッドに傷を与える虞がある。また、
同時に試験できるのは現在探金1が接触されているただ
ひとつの半導体集積回路のみであり、その試験が終了す
る毎に探針の移動が必要とされるので、一つのウェーハ
におけるすへての半導体集積回路の試験を完了するのに
長時間を要する。
In the above-mentioned wafer probing test, the probe comes into contact with the bonding pad, which may cause damage to the bonding pad. Also,
Only one semiconductor integrated circuit, which is currently in contact with the probe 1, can be tested at the same time, and the probe must be moved each time the test is completed. It takes a long time to complete testing of semiconductor integrated circuits.

本発明の目的は、電極バットに損傷を与えることがなく
、また、一つのウェーハにおけるすべての半導体集積回
路の動作診断を短時間で完了することができる技術を提
供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique that can complete the operation diagnosis of all semiconductor integrated circuits on one wafer in a short time without damaging the electrode butts.

本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細
書の記述並びに添付図面から明らかにな=3− るであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、診断対象回路と、この診断対象回路の動作診
断を可能とする診断用回路とが同一のウェーハに複数形
成されるとき、診断用情報を記憶する記憶部と、この診
断用情報が上記診断対象回路に与えられた場合の当該診
断対象回路の出力結果とその期待値とを比較することに
より当該診断対象回路の良否判断を可能とする論理回路
部と、外部からの診断開始指示信号の取り込み及び診断
結果の外部出力を当該ウェーハに対して非接触状態で可
能とするインタフェース部とを含んで」二足診断用回路
を形成するものである。さらに具体的な態様では、外部
から光学的に与えられる診断開始指示を感知する受光部
と、上記診断結果を光学的に出力する発光部とを含んで
上記インタフェース部を形成することができる。このと
き、動作診断において外部から当該半導体集積回路への
電源供給を不要とするには、動作診断のための電源とさ
れる太陽電池を上記ウェーハに設けるようにすると良い
。動作診断後において上記診断用回路は、特別な場合を
除いて不要とされるため、それを診断対象回路とは別チ
ップとして切り出し可能に形成することもできるが、上
記診断対象回路をウェーハから切り出した後においても
上記インタフェース部を積極的に利用可能とする場合、
あるいは当該インタフェース部が含まれることによって
特に問題を生じない場合には、ウェーハから一つの診断
用回路とそれに対応する診断用回路とを一つの半導体チ
ップとして切り出し可能に形成することもできる。
That is, when a plurality of circuits to be diagnosed and a plurality of diagnostic circuits that enable operation diagnosis of the circuit to be diagnosed are formed on the same wafer, a storage section that stores diagnostic information, and a memory section that stores diagnostic information, A logic circuit unit that makes it possible to judge whether the circuit to be diagnosed is good or bad by comparing the output result of the circuit to be diagnosed with its expected value when given to the circuit to be diagnosed, and the reception of a diagnosis start instruction signal from the outside. and an interface section that enables external output of diagnostic results to the wafer in a non-contact state, thereby forming a two-legged diagnostic circuit. In a more specific embodiment, the interface section may include a light receiving section that senses a diagnosis start instruction optically given from the outside and a light emitting section that optically outputs the diagnosis result. At this time, in order to eliminate the need for external power supply to the semiconductor integrated circuit during operation diagnosis, it is preferable to provide the wafer with a solar cell that serves as a power source for operation diagnosis. After the operation diagnosis, the above-mentioned diagnostic circuit is unnecessary except in special cases, so it can be formed so that it can be cut out as a separate chip from the circuit to be diagnosed. If you want to make the above interface part actively available even after
Alternatively, if the inclusion of the interface section does not cause any particular problem, one diagnostic circuit and the corresponding diagnostic circuit can be cut out from the wafer as one semiconductor chip.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、」二足診断用回路に含まれるイ
ンタフェース部は、外部からの診断開始指示及び診断結
果の外部認識を、当該半導体集積回路が含まれるウェー
ハに対して比接触状態で可能とし、このことが、ポンデ
ィングパッドなどの電極パッドに損傷を与えずに動作診
断を可能とする。
According to the above-mentioned means, the interface unit included in the bipedal diagnostic circuit is capable of receiving an external diagnosis start instruction and external recognition of the diagnosis result while in specific contact with the wafer containing the semiconductor integrated circuit. This enables operation diagnosis without damaging electrode pads such as bonding pads.

また、上記診断用回路は診断対象回路に対応して複数形
成され、それによって複数の診断対象回路の同時診断が
可能とされ、そのことが、一つのウェーハにおけるすべ
ての半導体集積回路の動作診断に要する時間を短縮する
ように作用する。
In addition, a plurality of the above-mentioned diagnostic circuits are formed corresponding to the circuits to be diagnosed, thereby making it possible to diagnose multiple circuits to be diagnosed simultaneously, which makes it possible to diagnose the operation of all semiconductor integrated circuits on one wafer. It acts to shorten the time required.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には本発明の一実施例に係るLSIが示される。 FIG. 1 shows an LSI according to an embodiment of the present invention.

同図において1はウェーハであり、このウェーハ1には
、診断対象とされる診断対象回路3Aと。
In the figure, 1 is a wafer, and this wafer 1 includes a circuit 3A to be diagnosed.

この診断対象回路3Aの動作診断を可能とする診断用回
路3Bとが複数形成されている。診断対象回路3Aとそ
れに対応する診断用回路3Bとは、第1図において拡大
して示されるように、後述するダイシングにおいて一つ
の半導体チップ2として切り出し可能に形成される。
A plurality of diagnostic circuits 3B are formed to enable the operation diagnosis of the circuit 3A to be diagnosed. The circuit to be diagnosed 3A and the corresponding diagnostic circuit 3B are formed so as to be cut out as one semiconductor chip 2 by dicing, which will be described later, as shown in an enlarged view in FIG.

上記診断対象回路3Aは特に制限されないが、ゲートア
レイ方式で形成されるロジック部とされ、それと上記診
断用回路3Bとは、アルミニウム配線層AIによって結
合されている。
The circuit 3A to be diagnosed is, although not particularly limited, a logic section formed by a gate array method, and the circuit 3A for diagnosis is coupled to the circuit 3B for diagnosis by an aluminum wiring layer AI.

上記診断用回路3Bは特しこ制限されないが、次のよう
に構成される。
The diagnostic circuit 3B is configured as follows, although it is not particularly limited.

4は上記診断用回路3Aの動作診断において電源とされ
る太陽電池であり、外部から波長αの光を受けることに
よって所定の電位を発生する。発生された電位はLSI
各部に印加可能とされる。
A solar cell 4 is used as a power source in the operation diagnosis of the diagnostic circuit 3A, and generates a predetermined potential by receiving light of wavelength α from the outside. The generated potential is LSI
It is possible to apply it to each part.

5は診断用情報としてのテストパターン情報及び期待値
情報が記憶されたROM (リート・オンリ・メモリ)
であり、テストパターン情報は診断対象回路3Aに伝達
可能とされ、期待値情報は論理部6に伝達可能とされる
。論理部6は、診断対象回路3Aにテストパターン情報
が与えられた場合の当該診断対象回路3Aの出力とその
期待値とを比較することによって当該診断対象回路3A
の動作診断を可能とする。この論理部6には、外部から
の診断指示信号の取り込み及び診断結果の外部出力を当
該ウェーハ1に対して非接触状態で可能とするインタフ
ェース部90が結合される。このインタフェース部90
は、特に制限されないが、波長βの光に対して感度を有
する受光部7と、波長γの光を発生可能な発光部8とを
含む。受光部7は、受光素子例えば受光ダイオード70
と、その出力信号の処理回路とを有し、発光部7は、発
光素子例えば発光ダイオード80と、その駆動回路とを
有する。受光ダイオード70と発光ダイオード80とは
LSI制作と同じプロセスで作り込むことができる。そ
してその場合の波長はダイオードな構成する材料によっ
て決定される。例えばGa1−xAlxAs系ならばA
I混合比の制御により波長を750乃至905nmの範
囲で設定可能とされる。上記受光部7によって波長βの
光が受光された場合、上記論理部6は、上記診断対象回
路3Aの動作診断を開始する。そして、この動作診断に
おいて診断対象回路3Aの動作が正常と判断された場合
、当該論理部6によって発光部8が駆動され、それによ
って当該発光部8から波長γの光が発せられる。
5 is a ROM (read-only memory) in which test pattern information and expected value information as diagnostic information are stored.
The test pattern information can be transmitted to the circuit to be diagnosed 3A, and the expected value information can be transmitted to the logic section 6. The logic unit 6 compares the output of the circuit to be diagnosed 3A with its expected value when the test pattern information is given to the circuit to be diagnosed 3A.
enables operation diagnosis. This logic unit 6 is coupled with an interface unit 90 that allows external input of diagnostic instruction signals and external output of diagnostic results to the wafer 1 in a non-contact state. This interface section 90
includes, but is not particularly limited to, a light receiving section 7 that is sensitive to light of wavelength β, and a light emitting section 8 that can generate light of wavelength γ. The light receiving section 7 includes a light receiving element such as a light receiving diode 70.
The light emitting section 7 has a light emitting element such as a light emitting diode 80 and a driving circuit thereof. The light receiving diode 70 and the light emitting diode 80 can be manufactured using the same process as LSI manufacturing. The wavelength in that case is determined by the material of the diode. For example, in the case of Ga1-xAlxAs system, A
By controlling the I mixing ratio, the wavelength can be set in the range of 750 to 905 nm. When the light receiving section 7 receives the light having the wavelength β, the logic section 6 starts diagnosing the operation of the circuit 3A to be diagnosed. If it is determined in this operation diagnosis that the operation of the circuit to be diagnosed 3A is normal, the light emitting section 8 is driven by the logic section 6, thereby causing the light emitting section 8 to emit light of wavelength γ.

第2図には本実施例における動作診断の様子が示される
FIG. 2 shows the operation diagnosis in this embodiment.

同図において9は波長αの光10を発生する第=8− 1の光源、11は波長βの光を発生する第2の光源、1
4は波長γの光13に対して感度を有するカメラ、2o
は上記ウェーハ1のカッティングを行うダイシング装置
である。上記第1.第2の光源9,10はウェーハ1を
照射可能な位置に配置され、上記カメラ14はウェーハ
1を撮影可能な位置に配置される。このカメラ14によ
る撮影情報は、後段のダイシング装置20に取り込まれ
るようになっている。ダイシング装置20は、上記カメ
ラ14の撮影情報に基づいて、ウェーハ1上で波長γの
光を発している発光ダイオード80の位置座標を演算に
より求める座標演算部21と、ウェーハ1上に形成され
たチップを個々に分割すると共に、上記座標演算部21
の演算結果に基づいて、点灯されている発光ダイオード
80が含まれる半導体集積回路のみを取り出すチップ切
り出し部22とを含む。
In the figure, 9 is an 8-1 light source that generates light 10 of wavelength α, 11 is a second light source that generates light of wavelength β, 1
4 is a camera sensitive to light 13 of wavelength γ, 2o
is a dicing device that cuts the wafer 1 described above. Above 1st. The second light sources 9 and 10 are placed at positions where they can illuminate the wafer 1, and the camera 14 is placed at a position where the wafer 1 can be photographed. Information photographed by this camera 14 is taken into the dicing device 20 at the subsequent stage. The dicing apparatus 20 includes a coordinate calculation unit 21 that calculates the positional coordinates of the light emitting diode 80 emitting light of wavelength γ on the wafer 1 based on the photographic information of the camera 14, and In addition to dividing the chips into individual chips, the coordinate calculation section 21
The chip cutting section 22 extracts only the semiconductor integrated circuit including the light-emitting diode 80 that is lit based on the calculation result.

本実施例において、診断対象回路3Aの動作診断及びチ
ップ切り出しは次のように行われる。
In this embodiment, the operation diagnosis and chip extraction of the circuit to be diagnosed 3A are performed as follows.

第3図には上記動作診断の流れが示される。FIG. 3 shows the flow of the above operation diagnosis.

第1の光源9が点灯されることにより、波長αの光10
がウェーハ1に照射される(ステップST 」−)。こ
の光10が太陽電池4に照射されることによって発生さ
れた電位は回路3A、3Bの各部に供給され、それによ
って各部が動作可能状態とされる。尚、上記波長αの光
10の照射は、当該ウェーハ1における複数の診断対象
回路3Aの動作診断が完了されるまで継続される。
When the first light source 9 is turned on, light 10 of wavelength α is
is irradiated onto the wafer 1 (step ST''-). The potential generated by irradiating the solar cell 4 with this light 10 is supplied to each part of the circuits 3A and 3B, thereby enabling each part to operate. Incidentally, the irradiation with the light 10 having the wavelength α is continued until the operation diagnosis of the plurality of circuits to be diagnosed 3A on the wafer 1 is completed.

次に、第2の光源11から波長βの光12がウェーハ1
に照射される。この先12が受光ダイオード80によっ
て受光されることにより、診断用回路3Bが動作され、
それにより診断対象回路3Aの動作診断が開始される(
ステップ5T2)。
Next, light 12 of wavelength β is emitted from the second light source 11 to the wafer 1.
is irradiated. The diagnostic circuit 3B is operated by the light received by the light receiving diode 80.
As a result, the operation diagnosis of the circuit to be diagnosed 3A is started (
Step 5T2).

この動作診断においては、デスl−パターンROM5か
らテス]〜パターン(例えばABCD)が所定の順序に
従って診断対象回路3Aに入力される。
In this operation diagnosis, patterns (for example, ABCD) are input from the pattern ROM 5 to the circuit to be diagnosed 3A in a predetermined order.

そしてそれによって当該診断対象回路3Aから出力され
た値とその期待値(Z)とが論理部6において比較され
る(ステップ5T3)。この比較において、上記診断対
象回路3Aの出力が期待値と一致する(YES)と判断
された場合には、それは当該診断回路3Aが正常動作さ
れていることを意味するから、そのときの論理部6の診
断結果に基づいて発光ダイオード80が駆動され、それ
によって当該ダイオード80から波長γの光が発生され
る(ステップS T 4 )。また、」二足論理部6で
の比較において上記診断回路3Aの出力が期待値と一致
しない(IO)と判断された場合には、上記発光素子8
0は駆動されず、よって波長γの光13は発生されない
(ステップ5T5)。
Then, the value output from the diagnostic target circuit 3A and its expected value (Z) are compared in the logic section 6 (step 5T3). In this comparison, if it is determined that the output of the diagnostic target circuit 3A matches the expected value (YES), this means that the diagnostic circuit 3A is operating normally, so the logic section at that time The light emitting diode 80 is driven based on the diagnosis result of step 6, and light of wavelength γ is thereby generated from the diode 80 (step ST 4 ). In addition, if it is determined in the comparison in the two-legged logic unit 6 that the output of the diagnostic circuit 3A does not match the expected value (IO), the light emitting element 8
0 is not driven, so the light 13 of wavelength γ is not generated (step 5T5).

以上の動作診断は、第1の光源9からの光10がウェー
ハ]−に照射されることによって、当該つ工−ハ1−に
おけるすへての診断用回路3Bにおいてほぼ同時に開始
される。つまり、ウェーハ1におけるすべての診断対象
回路3Aに対応して診断用回路3Bが設けられているの
で、−ト記第1の光源9からの光10の照射によって当
該ウェーハ1におけるすべての診断対象回路3Δが個別
的に、且つ、はぼ同時に開始される。
The above-mentioned operation diagnosis is started almost simultaneously in all the diagnostic circuits 3B in the wafer 1- by irradiating the wafer 1- with the light 10 from the first light source 9. In other words, since the diagnostic circuit 3B is provided corresponding to all the circuits to be diagnosed 3A on the wafer 1, all the circuits to be diagnosed on the wafer 1 are irradiated with the light 10 from the first light source 9. 3Δ are started individually and almost simultaneously.

そして、以」二の動作診断が完了された時点で、カメラ
14によりウェーハ」が撮影され、その画像情報がダイ
シング装置20に入力される。それにより、当該ダイシ
ング装置20では、座標演算部21により、点灯されて
いる発光ダイオード80の位置座標が求められ、得られ
た座標情報に基づいてチップ切り出しが行われる。発光
ダイオード80が点灯されているということは、当該ダ
イオード80を含む診断対象回路3Bは正常動作する良
品ということであるから、上記ダイシング装置20での
チップ切り出しにおいて取り出されるのは良品のみとさ
れる。
Then, when the second operation diagnosis is completed, the wafer is photographed by the camera 14, and the image information is input to the dicing apparatus 20. Thereby, in the dicing apparatus 20, the coordinate calculation section 21 calculates the position coordinates of the light-emitting diode 80 that is lit, and chips are cut out based on the obtained coordinate information. The fact that the light emitting diode 80 is lit means that the circuit 3B to be diagnosed including the diode 80 is a good product that operates normally. Therefore, only good products are taken out when the chips are cut out by the dicing device 20. .

本実施例によれば以下の作用効果がある。According to this embodiment, there are the following effects.

(1)第1の光源9が点灯されることにより、波長αの
光10がウェーハ1に照射され、この先10が太陽電池
4に照射されることによって発生された電位は回路3A
、3Bの各部に供給され、それによって各部が動作可能
状態とされる。この状態で、第2の光源11から波長β
の光12がウェーハJに照射され、それが受光ダイオー
ド80によって受光されることにより、診断用回路3B
が動作され、それにより診断対象回路3Aの動作診断が
開始さ九る。この動作診断の結果は発光ダイオード80
によって外部出力可能とされ、それによって当該診断結
果の把握が可能とされる。このように光学的に情報のや
り取りを可能とすることにより、ウェーハ1に対して非
接触状態で診断対象回路3Aの動作診断が可能とされる
ので、従来のウェーハプロービング試験のようにポンデ
ィングパッドを探針により損傷させる虞はないし、つ工
−ハ1に不所望な応力を与えることもない。
(1) When the first light source 9 is turned on, the light 10 of wavelength α is irradiated onto the wafer 1, and the potential generated by the irradiation of the light 10 onto the solar cell 4 is applied to the circuit 3A.
, 3B, thereby enabling each part to operate. In this state, the wavelength β is emitted from the second light source 11.
The light 12 of
is operated, thereby starting the operation diagnosis of the circuit 3A to be diagnosed. The result of this operation diagnosis is light emitting diode 80
This makes it possible to output the diagnostic results to the outside, thereby making it possible to understand the diagnostic results. By making it possible to exchange information optically in this way, it is possible to diagnose the operation of the circuit 3A to be diagnosed in a non-contact state with respect to the wafer 1. There is no risk of damage to the probe by the probe, and no undesirable stress is applied to the tool 1.

(2)また、ウェーハ1におけるすへての診断対象回路
3Aに対応して診断用回路3B及びインタフェース部9
0が設けられ、」二足第2の光源]]からの光12の照
射によって当該ウェーハ1におけるすべての診断対象回
路3Aの動作診断が個別的に、且つ、はぼ同時に開始さ
れるので、当該つ工−ハ]におけるすへての診断対象回
路3Aの動作診断を短時間で行うことができる。
(2) In addition, the diagnostic circuit 3B and the interface section 9 correspond to all the diagnostic target circuits 3A on the wafer 1.
0 is provided, and the operation diagnosis of all the circuits 3A to be diagnosed on the wafer 1 is started individually and almost simultaneously by the irradiation of the light 12 from the second light source. Operation diagnosis of all the circuits to be diagnosed 3A in [1-C] can be performed in a short time.

(3)動作診断終了後にカメラ14によりウェーハ1が
撮影され、その画像情報がダイシング装置20に入力さ
れど、当該ダイシング装置20では、点灯されている発
光ダイオード8oの位置座標が求められ、得られた座標
情報に基づいて当該発光ダイオード80が含まれるチッ
プ、すなわち良品とされるチップの切り出しが行われる
ので1回路の動作診断から良品チップの切り出しまでの
自動化が可能とされる。
(3) After the operation diagnosis is completed, the wafer 1 is photographed by the camera 14, and the image information is input to the dicing device 20. In the dicing device 20, the position coordinates of the light-emitting diode 8o that are lit are determined and obtained. Since a chip containing the light emitting diode 80, that is, a chip that is considered to be a good chip, is cut out based on the coordinate information, it is possible to automate the process from diagnosing the operation of one circuit to cutting out a good chip.

(4)一つの診断用回路3Aとそれに対応する診断用回
路3Bとが一つの半導体チップとして切り出されるので
、チップ切り出し後に当該診断用回路3Bを利用するこ
とにより再び診断対象回路3Aの動作診断を行うことも
可能とされる。
(4) Since one diagnostic circuit 3A and the corresponding diagnostic circuit 3B are cut out as one semiconductor chip, the operation of the circuit to be diagnosed 3A can be diagnosed again by using the diagnostic circuit 3B after cutting out the chip. It is also possible to do so.

(5)ウェーハに太陽電池4を設けることにより。(5) By providing solar cells 4 on the wafer.

診断時の電源供給のための探針接触をも不要となるので
、上記(1)の効果がより顕著とされる。
Since probe contact for supplying power during diagnosis is also unnecessary, the effect of (1) above is more pronounced.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づいて
具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるもので
はなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更す
ることができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on examples, the present invention is not limited thereto, and various changes can be made without departing from the gist thereof.

例えば上記実施例では診断対象回路3Aと診断用回路3
Bとを1チツプとして切り出すようにしたが、動作診断
後において当該診断用回路3Bが不要とされる場合には
それらを互いに別チップとして切り出すことにより、当
該診断対象回路3Aのチップサイズの小形化を図るよう
にしても良い。
For example, in the above embodiment, the diagnostic target circuit 3A and the diagnostic circuit 3
However, if the diagnostic circuit 3B is deemed unnecessary after the operation diagnosis, the chip size of the diagnostic circuit 3A can be reduced by cutting them out as separate chips. You may try to do so.

また上記実施例では、動作診断結果を光学的に外部認識
可能にインタフェース部90を構成したが、電子ビーム
(EB)をプローブとして使用する電子ビーム試験技術
を利用することもできる。
Further, in the embodiment described above, the interface unit 90 is configured so that the operation diagnosis results can be optically recognized externally, but it is also possible to use an electron beam test technique that uses an electron beam (EB) as a probe.

この技術によれば、走査型電子顕微鏡で観測される電位
コントラストを利用して回路内の配線電位を直接測定す
ることが可能とされ、これを利用すれば、第1図の発光
部8を省略することができる。
According to this technology, it is possible to directly measure the wiring potential in a circuit using the potential contrast observed with a scanning electron microscope, and if this is used, the light emitting part 8 in Figure 1 can be omitted. can do.

また、当該発光部8に代えて超音波を発生可能な超音波
振動子を設けるようにすれば、診断対象回路3Aの良否
を当該振動子からの超音波出力の有無により認識するこ
とができる。以上の電子ビームや超音波を利用しても、
チップに対して非接触状態で診断対象回路の動作診断が
可能とされ、上記実施例と同様の効果を得ることができ
る。
Furthermore, if an ultrasonic transducer capable of generating ultrasonic waves is provided in place of the light emitting unit 8, the quality of the circuit to be diagnosed 3A can be recognized based on the presence or absence of ultrasonic output from the transducer. Even if we use the above electron beams and ultrasound,
It is possible to diagnose the operation of the circuit to be diagnosed in a non-contact state with respect to the chip, and the same effects as in the above embodiment can be obtained.

さらに、チップの小形化を図るため、太陽電池4を診断
対象回路3Aや診断用回路3Bの上に配置するようにし
ても良いし、あるいは、チップの縁辺部など回路形成に
寄与しない部分に太陽電池を形成し、それを、当該チッ
プにおける各回路の共通電源とするようにしても良い。
Furthermore, in order to reduce the size of the chip, the solar cell 4 may be placed on the circuit to be diagnosed 3A or the diagnostic circuit 3B, or the solar cell 4 may be placed on the edge of the chip or other portions that do not contribute to circuit formation. A battery may be formed and used as a common power source for each circuit in the chip.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった論理LSIに適用した場合について
説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、
半導体メモリなどを含むワンチップマイクロコンピュー
タなどのような各種LSIに適用することができる。本
発明は、少なくとも診断対象回路とそれの診断用回路と
が同一のウェーハに複数形成される条件のものに適用す
ることができる。
In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to the logic LSI that is the background thereof, but the present invention is not limited thereto.
It can be applied to various LSIs such as one-chip microcomputers including semiconductor memories and the like. The present invention can be applied to conditions where at least a plurality of circuits to be diagnosed and circuits for diagnosis thereof are formed on the same wafer.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、診断用回路に含まれるインタフニー入部によ
り、外部からの診断開始指示及び診断結果の外部認識が
、当該半導体集積回路を含むウェーハに対して比接触状
態で可能とされ、それによって、電極パッドに損傷を与
えずに動作診断が可能とされる。また、上記診断用回路
は診断対象回路に対応して複数形成され、それによって
複数の診断対象回路の同時診断が可能とされるので、一
つのウェーハにおけるすべての半導体集積回路の動作診
断に要する時間を大幅に短縮することができる。
In other words, the internal input part included in the diagnostic circuit enables external diagnosis start instructions and external recognition of diagnosis results to be made in a specific contact state with respect to the wafer containing the semiconductor integrated circuit. Operation diagnosis is possible without causing damage. In addition, a plurality of the above-mentioned diagnostic circuits are formed corresponding to the circuits to be diagnosed, thereby making it possible to diagnose the multiple circuits to be diagnosed simultaneously. Therefore, the time required to diagnose the operation of all semiconductor integrated circuits on one wafer is can be significantly shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であるLSIが形成されるウ
ェーハ及びその主要部の構成説明図、第2図は第1図に
示されるLSIの動作診断の説明図、 第3図は上記動作診断の流れ図である。 1・・ウェーハ、2・・チップ、3A・・・診断対象回
路、3B・・診断用回路、4 ・太陽電池、5・・RO
M、6 ・論理部、7・・受光部、8・発光部、70・
・・受光ダイオード、80・発光ダイオード、90・イ
ンタフェース部。
Fig. 1 is an explanatory diagram of the configuration of a wafer on which an LSI according to an embodiment of the present invention is formed and its main parts, Fig. 2 is an explanatory diagram of the operation diagnosis of the LSI shown in Fig. 1, and Fig. 3 is the above-mentioned diagram. It is a flowchart of operation diagnosis. 1... Wafer, 2... Chip, 3A... Diagnosis target circuit, 3B... Diagnostic circuit, 4 - Solar cell, 5... RO
M, 6. Logic section, 7.. Light receiving section, 8. Light emitting section, 70.
・・Light receiving diode, 80・Light emitting diode, 90・Interface section.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、診断対象回路と、この診断対象回路の動作診断を可
能とする診断用回路とが同一のウェーハに複数形成され
た半導体集積回路において、上記診断用回路は、診断用
情報を記憶する記憶部と、この診断用情報が上記診断対
象回路に与えられた場合の当該診断対象回路の出力結果
とその期待値とを比較することにより当該診断対象回路
の良否判断を可能とする論理回路部と、外部からの診断
開始指示信号の取り込み及び診断結果の外部出力を当該
ウェーハに対して非接触状態で可能とするインタフェー
ス部とを含んで成ることを特徴とする半導体集積回路。 2、上記インタフェース部には、外部から光学的に与え
られる診断開始指示を感知する受光部と、上記診断結果
を光学的に出力する発光部とが含まれる請求項1記載の
半導体集積回路。 3、動作診断のための電源とされる太陽電池が上記ウェ
ーハに設けられた請求項1又は2記載の半導体集積回路
。 4、上記診断用回路とそれに対応する診断対象回路とは
互いに別チップとして切り出し可能に形成された請求項
1、2、又は3記載の半導体集積回路。 5、請求項1、2、又は3記載の半導体集積回路から一
つの診断用回路とそれに対応する診断用回路とが一つの
半導体チップとして切り出されて成る半導体集積回路。
[Scope of Claims] 1. In a semiconductor integrated circuit in which a plurality of circuits to be diagnosed and a plurality of diagnostic circuits capable of diagnosing the operation of the circuit to be diagnosed are formed on the same wafer, the diagnostic circuit is It is possible to determine whether the circuit to be diagnosed is good or bad by comparing the storage unit that stores information with the output result of the circuit to be diagnosed and its expected value when this diagnostic information is given to the circuit to be diagnosed. What is claimed is: 1. A semiconductor integrated circuit comprising: a logic circuit section that performs a diagnostic start instruction signal from the outside; and an interface section that allows receiving a diagnosis start instruction signal from the outside and outputting a diagnosis result to the wafer in a non-contact state. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the interface section includes a light receiving section that senses a diagnosis start instruction optically given from the outside, and a light emitting section that optically outputs the diagnosis result. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 or 2, wherein the wafer is provided with a solar cell serving as a power source for operation diagnosis. 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, 2 or 3, wherein the diagnostic circuit and the corresponding diagnostic target circuit are formed so as to be cut out as separate chips from each other. 5. A semiconductor integrated circuit comprising one diagnostic circuit and a corresponding diagnostic circuit cut out as one semiconductor chip from the semiconductor integrated circuit according to claim 1, 2, or 3.
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