JPH04194923A - Image forming method - Google Patents

Image forming method

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JPH04194923A
JPH04194923A JP32740290A JP32740290A JPH04194923A JP H04194923 A JPH04194923 A JP H04194923A JP 32740290 A JP32740290 A JP 32740290A JP 32740290 A JP32740290 A JP 32740290A JP H04194923 A JPH04194923 A JP H04194923A
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silver halide
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groups
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Takeshi Sanpei
武司 三瓶
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Abstract

PURPOSE:To prevent variation of sensitivity and drop of contrast due to the lapse of time and increase of black spots occurring on unexposed parts by processing in the presence of at least one of specified compounds. CONSTITUTION:At least one of silver halide emulsion layers formed on a support and/or its adjacent layer contains a hydrazine derivative, and this silver halide photographic sensitive material is processed in the presence of at least one of the compounds represented by formula I in which each of R1 - R4 is independently H, alkyl, or aryl, and each may combine with each other to form a 5- - 7-membered ring; X is -O-, -S-, or the like; and R5 is halogen, thus permitting rise of sensitivity and drop of contrast due to the lapse of time, increase of black spots, and the like to be prevented even in the case of using a developing solution low in pH and storage stability before exposure to be enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、支持体上にハロゲン化銀写真感光利料を用い
た画像形成方法に関し、更に詳しくは高コントラストか
得られる画像形成方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an image forming method using a silver halide photographic material on a support, and more particularly to an image forming method that provides high contrast.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

写真製版工程には連続調の原稿を網点画像に変換する工
程が含まれる。この工程には、超硬調の画像再現をなし
うる写真技術として、伝染現像による技術か用いられて
きた。
The photolithography process involves converting a continuous tone original into a halftone image. In this process, contagious development has been used as a photographic technique capable of reproducing ultra-high contrast images.

伝染現像に用いられるリス型ハロゲン化銀写真感光材料
は、例えは平均粒子径が約0.2μmで粒子分布か狭く
粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有率の高い(少
なくとも50モル%以」二)塩臭化銀乳剤よりなる。こ
のリス型ハロゲン化銀写真感光利料を亜硫酸イオン濃度
が低いアルカリ性ノ\イトロキノン現像液、いわゆるリ
ス型現像液で処理することにより、高いコントラスト、
高鮮鋭度、高解像力の画像か得られる。
The lithium-type silver halide photographic light-sensitive material used for infectious development has, for example, an average grain size of about 0.2 μm, a narrow grain distribution, a well-shaped grain, and a high silver chloride content (at least 50 mol). 2) Consisting of a silver chlorobromide emulsion. By processing this lithium-type silver halide photographic light-sensitive material with an alkaline nitroquinone developer with a low concentration of sulfite ions, a so-called lithium-type developer, high contrast,
You can obtain images with high sharpness and high resolution.

しかしなから、これらのリス型現像液は空気酸化を受け
やすいことから保恒性が極めて悪いため、連続使用の際
において現像品質を一定に保つことは難しい。
However, these lithium-type developers are susceptible to air oxidation and have extremely poor storage stability, making it difficult to maintain constant development quality during continuous use.

」二記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コント
ラストの画像を得る方法か知られている。
There is a known method for quickly obtaining high-contrast images without using a Lithium-type developer.

例えは特開昭56−106244号公報明細書等に見ら
れるように、ハロゲン化銀写真感光材料中にヒドラジン
誘導体を含有せしめるものである。これらの方法によれ
は、保恒性か良く、迅速処理可能な現像液で処理するこ
とによっても硬調な画像か得ることかできる。
For example, as seen in the specification of JP-A-56-106244, a hydrazine derivative is contained in a silver halide photographic light-sensitive material. In contrast to these methods, high-contrast images can be obtained by processing with a developing solution that has good stability and can be processed quickly.

これらの技術ては、ヒドラジン誘導体の硬調性を十分に
発揮させるためにpH11,0以上のpHを有する現像
液で処理しなけれはならなかった。pH11,0以上の
高pH現像液は、空気に触れると現像主薬か酸化しやす
い。リス現像液よりは安定であるか、現像主薬の酸化に
よって、しばしは超硬調な画像か得られないことかある
These techniques require processing with a developer having a pH of 11.0 or higher in order to fully exhibit the high contrast properties of hydrazine derivatives. When a high pH developer with a pH of 11.0 or more comes into contact with air, the developing agent is likely to oxidize. It may be more stable than Lith developer, or it may not be possible to obtain ultra-high contrast images due to oxidation of the developing agent.

この欠点を補うため、特開昭63−29751号公報反
びヨーロッパ特許333,435号、同345,025
号明細書等には、比較的低pHの現像液でも硬調化する
硬調化剤を含むハロゲン化銀写真感光材料か開示されて
いる。
In order to compensate for this drawback, Japanese Patent Application Laid-open No. 63-29751 and European Patent Nos. 333,435 and 345,025
No. 4,992,302 discloses a silver halide photographic material containing a contrast agent that increases contrast even in a relatively low-pH developer.

しかしこれらのような硬調化剤を含む/・ロケン化銀写
真感光材料をpH11,0未満の現像液で処理する画像
形成方法の場合、経時によって増感や軟調化や、現像処
理後の未露光部に発生する砂状のカブリ、いわゆる黒ボ
ッが劣化するという問題かあり、満足な性能か得られな
いのが現状である。
However, in the case of an image forming method in which silver rokenide photographic light-sensitive materials containing high contrast agents such as these are processed with a developer having a pH of less than 11.0, sensitization and softening of contrast over time, and unexposed areas after development processing occur. Currently, satisfactory performance cannot be obtained due to the problem of deterioration of the sand-like fog, so-called black spots, that occur on the parts.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の第1の目的は、経時による感度変動や軟調化や
、未露光部分に発生する黒ボッの増加か防止された超硬
調画像の形成方法を提供することにある。
A first object of the present invention is to provide a method for forming an ultra-high contrast image that prevents sensitivity fluctuations and softening over time, as well as an increase in black spots that occur in unexposed areas.

本発明の第2の目的は、pH11未満の現像液で処理し
ても経時による感度変動や軟調化や未露光部分に発生す
る黒ボッの増加か防止された超硬調画像の形成方法を提
供することにある。
A second object of the present invention is to provide a method for forming ultra-high contrast images that prevents sensitivity fluctuations and softening over time and increase in black spots that occur in unexposed areas even when processed with a developer having a pH of less than 11. There is a particular thing.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の上記の目的は、支持体上に少なくとも一層のハ
ロゲン化銀乳剤層を有し、該/%ロゲン化銀乳剤層及び
/又はその隣接層中にヒドラジン誘導体を含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料において、下記一般式CN)で表
される化合物の少なくとも1種の化合物の存在下で処理
されることを特徴とする画像形成方法により達成される
The above object of the present invention is to provide a silver halide photographic photosensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support and containing a hydrazine derivative in the /% silver halide emulsion layer and/or its adjacent layer. This is achieved by an image forming method characterized in that the material is treated in the presence of at least one compound represented by the following general formula CN).

一般式〔N〕 式中、R,、’R2、R3及びR2は水素原子、アルキ
ル基、アリール基を表し、互いに異なっていて一5= も同一でもよく、メガいに結合して5〜7員環を形成し
てもよい。Xは−0−1−3−、/N −R,を表し、
R3及びR,はハロゲン原子を表す。
General formula [N] In the formula, R,, 'R2, R3 and R2 represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and may be different from each other and may be the same, and may be bonded to a mega group to form a 5-7 It may also form a membered ring. X represents -0-1-3-, /N -R,
R3 and R represent halogen atoms.

更に本発明の好ましい態様としては、処理液p I+が
11.0未満であり、又ハロゲン化銀乳剤層及び/又は
その隣接層中にアミン化合物、4級オニウム塩から選ば
れる少くとも1種の造核促進化合物及び/又は前記一般
式〔N〕の化合物を含有することである。
Further, in a preferred embodiment of the present invention, the processing liquid p I+ is less than 11.0, and at least one kind selected from amine compounds and quaternary onium salts is contained in the silver halide emulsion layer and/or its adjacent layer. It contains a nucleation-promoting compound and/or a compound of the general formula [N].

以下、本発明について詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

一般式〔N〕において、R1、R2、R3及びR4は互
いに異なっても同一でもよく、水素原子、アルキル基、
好ましくは炭素原子1〜8までの置換又は未置換のアル
キル基(例えはメチル基、エチル基、メトキンエチル基
、ンアノエチル基、オクチル基など)、置換又は未置換
のアリール基(例エバフェニル基、p−クロロフェニル
基など)を表し、互いに結合して5〜7員環(例えは、
ンクロペンクン環、ンクロヘキザン環、など)を形成し
てもよい。
In the general formula [N], R1, R2, R3 and R4 may be different or the same, and may be a hydrogen atom, an alkyl group,
Preferably, substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, metquinethyl group, annoethyl group, octyl group, etc.), substituted or unsubstituted aryl groups (e.g., evaphenyl group, p- chlorophenyl group, etc.), and are bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring (for example,
nclopenkune ring, nclohexane ring, etc.).

びR6はハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、フッ素)を
表す。
and R6 represent a halogen atom (chlorine, bromine, iodine, fluorine).

本発明〔N〕の化合物は、特開平1−237647号等
にセラチンの防腐剤として記載されているが、ヒドラジ
ン誘導体を組み合わせると経時による写真性能の変動か
少ない超硬調画像か得られることは驚くべきことであっ
た。
The compound of the present invention [N] is described as a preservative for seratin in JP-A-1-237647, etc., but it is surprising that when combined with a hydrazine derivative, ultra-high contrast images can be obtained with less fluctuation in photographic performance over time. It was the right thing to do.

以下に本発明の代表的化合物を記述する。Representative compounds of the present invention are described below.

C0。C0.

し1131 CQ。Shi1131 CQ.

C(I! CQ。C(I! CQ.

r CQ 次に本発明の合成法について記述する。r CQ Next, the synthesis method of the present invention will be described.

本発明に用いるN−ハロアミンの合成は、rJourn
al of Pharmaceutical 5cie
ncesJ 第65巻、1743〜1746頁及び米国
特許出願第2,629,740号明細書に教示されてい
るようにして行うことができる。これらの教示は、まず
アミノアルコールとジエチルカルバネートとから2−オ
キサゾリジノンを合成したのち、窒素をハロゲン化する
ことを要求している。
The synthesis of N-haloamine used in the present invention is carried out using rJourn
al of Pharmaceutical 5cie
65, pp. 1743-1746 and as taught in U.S. Patent Application No. 2,629,740. These teachings require first synthesizing the 2-oxazolidinone from an amino alcohol and diethyl carbanate and then halogenating the nitrogen.

又、本発明に用いるN−ハロアミンは他に、r Jou
rnal of Pbarmaceutical 5c
iencesJ 第76巻、245−247頁及びrJ
ournal of the AmericanChe
mical 5ocietyJ第77巻、6689−6
690頁に教示されているようにして製造することがで
きる。これらの教示は、ます、エチレンジアミン誘導体
から2−イミダゾリジノンを合成し次いで、窒素のノ\
ロケン化を行うことを要求している。
In addition, the N-haloamine used in the present invention includes r Jou
rnal of Pharmaceutical 5c
iencesJ Vol. 76, pp. 245-247 and rJ
our own of the American Che
mical 5ocietyJ Vol. 77, 6689-6
It can be made as taught on page 690. These teachings first synthesize 2-imidazolidinone from an ethylenediamine derivative and then synthesize the nitrogen no.
They are requesting that they be converted into lokens.

本発明は一般式〔N〕の化合物の存在下で処理されるこ
とを特徴とするするので、一般式CN)の化合物はハロ
ゲン化銀感光材料の製造時に添加してもよいし、現像、
定着、水洗等の処理時に添加してもよいが、親水性コロ
イド層を含む感光材料に添加するのが好ましい。更に好
ましくは、親木性コロイド層を含む感光材料を構成する
各層、例えは、ハロゲン化銀乳剤層、下引層、中間層、
保I I! 、ハレーンヨン防止層、フィルター層に対
して適用するのかよい。
Since the present invention is characterized in that processing is carried out in the presence of the compound of the general formula [N], the compound of the general formula CN) may be added during the production of the silver halide photosensitive material, or during development,
Although it may be added during processing such as fixing and washing, it is preferably added to a photosensitive material containing a hydrophilic colloid layer. More preferably, each layer constituting the photosensitive material including the wood-philic colloid layer, such as a silver halide emulsion layer, a subbing layer, an intermediate layer,
Ho I I! It can be applied to anti-harrayon layers and filter layers.

ハロゲン化銀乳剤層に添加する場合は、ノ・ロゲン化銀
粒子の調製時から塗布までのいずれのときに添加しても
よいが、ハロゲン化銀粒子調製時の脱塩終了以降か好ま
しい。更に好ましくは/・ロケン化銀粒子調製時の脱塩
終了以降から化学熟成終了までの間がよい。
When added to the silver halide emulsion layer, it may be added at any time from the preparation of silver halide grains to coating, but it is preferable to add it after the completion of desalting during the preparation of silver halide grains. More preferably, the period is from after the completion of desalting during the preparation of silver lokenide grains to the end of chemical ripening.

下引層、中間層、保護層、ハレー/コン防止層やフィル
ター層に添加する場合は、合液の調製時に添加するのか
好ましい。
When added to the subbing layer, intermediate layer, protective layer, anti-halation/con layer, or filter layer, it is preferable to add it at the time of preparing the mixture.

又、製造工程において、これらの各層を2つ以上の液の
混合で調製するときには、合液に添加することかできる
Further, in the manufacturing process, when each of these layers is prepared by mixing two or more liquids, it can be added to the combined liquid.

本発明〔N〕の化合物の添加量は、ノ10ゲン化銀1モ
ル当たりlXl0−’〜l X 10−2モルであるこ
とが好ましい。
The amount of the compound of the present invention [N] added is preferably from 1X10-' to 10-2 mol per 1 mol of silver genide.

本発明〔N〕の化合物は水又はメタノール、イソプロパ
ツール、アセトン、エチレングリコール等の有機溶媒の
うち写真性能に悪影響を及はさない溶媒に溶解し、溶液
として親水性コロイド層中に添加してもよく、保護層の
上に塗設してもよい。
The compound of the present invention [N] is dissolved in water or an organic solvent such as methanol, isopropanol, acetone, or ethylene glycol that does not adversely affect photographic performance, and added as a solution to the hydrophilic colloid layer. It may be coated on a protective layer.

次に本発明に用いられるヒドラジン誘導体の構造として
は、下記一般式(H)であることが好ましい。
Next, the structure of the hydrazine derivative used in the present invention is preferably the following general formula (H).

一般式(H) A−N−N−G−R 1] A、 A2 式中Aはアリール基、又は硫黄原子又は酸素原子を少な
くとも一つ含む複素環基を表し、Gは○       
           0÷C’)7基、スルホニル基
、スルホキ7基、−P−基、又はイミノメチレン基を表
し、nは1又は2の整数を表し、A、、A2はともに水
素原子或は−方が水素原子で他方が置換もしくは無置換
のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のア
シル基を表し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基
、アルコキシ基、アリールオキン基、アミン基、カルバ
モイル基、オキシカルボニル基又はORs基を表し、R
3はアルキル基又は飽和複素環基を表す。
General formula (H) A-N-N-G-R 1] A, A2 In the formula, A represents an aryl group or a heterocyclic group containing at least one sulfur atom or oxygen atom, and G is ○
0÷C')7 group, a sulfonyl group, a sulfoky7 group, a -P- group, or an iminomethylene group, n represents an integer of 1 or 2, A, A2 are both hydrogen atoms, or - One hydrogen atom and the other represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group, and R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloquine group, an amine group, a carbamoyl group, or an oxycarbonyl group. group or ORs group, R
3 represents an alkyl group or a saturated heterocyclic group.

更に下記一般式CADI  CB)であることが好まし
い。
Furthermore, the following general formula CADI CB) is preferable.

一般式(13) %式% 式中、Aはアリール基、又は、硫黄原子又は酸素原子を
少なくとも一つ含む複素環基を表し、nはl又は2の整
数を表す。n−1の時、R1及びR2はそれぞれ水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、複素環基、ヒドロキン基、アルコキン基、アルケ
ニルオキ/基、アルキニルオキ/基、アリールオキ/基
、又はヘテロ環オキシ基を表し、R1とR2は窒素原子
と共に環を形成してもよい。n=2の時、R+及ヒR2
はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、飽和又は不飽和複素環基、ヒド
ロキン基、アルコキン基、アルケニルオキ/基、アルキ
ニルオキ/基、アリールオキ/基、又はヘテoRオキン
基を表す。たたしn=2の時、R1及びR2のうち少な
くとも一方はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環
基、ヒドロキン基、アルコキン基、アルケニルオキシ基
、アルキニルオキソ基、アリールオキ/基、又はヘテロ
環オキン基を表すものとする。R3はアルキニル基又は
飽和複素環基を表す。
General formula (13) % Formula % In the formula, A represents an aryl group or a heterocyclic group containing at least one sulfur atom or oxygen atom, and n represents an integer of 1 or 2. When n-1, R1 and R2 are each a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a hydroquine group, an alkoxy group, an alkenylox/group, an alkynylox/group, an arylox/group, Alternatively, it represents a heterocyclic oxy group, and R1 and R2 may form a ring together with the nitrogen atom. When n=2, R+ and R2
is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a saturated or unsaturated heterocyclic group, a hydroquine group, an alkokene group, an alkenyloxine group, an alkynyloxine group, an aryloki/group, or a heterokyne group, respectively. represents. When n=2, at least one of R1 and R2 is an alkenyl group, an alkynyl group, a saturated heterocyclic group, a hydroquine group, an alkokyne group, an alkenyloxy group, an alkynyloxo group, an aryloxo group, or a heterocyclic okyne group. shall represent a group. R3 represents an alkynyl group or a saturated heterocyclic group.

一般式〔A)又はCB)で表される化合物には、式中の
−N HN H−の少なくともいずれかのHが置換基で
置換されたものを含む。
The compounds represented by the general formula [A) or CB) include compounds in which at least one H of -N HN H- in the formula is substituted with a substituent.

更に詳しく説明すると、Aはアリール基(例えば、フェ
ニル、ナフチル等)、又は、硫黄原子又は酸素原子を少
なくとも一つ含む複素環基(例えは、チオフェン、フラ
ン、ベンゾチオフェン、ピラン、等)を表す。
More specifically, A represents an aryl group (e.g., phenyl, naphthyl, etc.) or a heterocyclic group containing at least one sulfur atom or oxygen atom (e.g., thiophene, furan, benzothiophene, pyran, etc.) .

R,及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基(例えば
、メチル、エチル、メトキノエチル、/アノエチル、ヒ
ドロキシエチル、ベンジル、トリフルオロエチル等)、
アルケニル基(例えは、アリル、ブテニル、ペンテニル
、ペンタジェニル等)、アルキニル基(例えば、グロパ
ルギル、ブチニル、ペンチニル等)、アリール基(例え
ば、フェニル、ナフチル、シアノフェニル、メトキシフ
ェニル等)、複素環基(例えは、ピリジン、チオフェン
、フランの様な不飽和複素環基及びテトラヒドロフラン
、スルホランの様な飽和複素環基)、ヒドロキン基、ア
ルコキン基(例えば、メトキシ、エトキン、ベンジルオ
キシ、シアノメトキシ等)、アルケニルオキ/基(例え
は、アルコキン基ニルオキ/等)、アルキニルオキ/基
(例えば、プロパルギルオキン、プチニルオキン等)、
アリールオキシ基(例えは、フェノキシ、ナフチルオギ
ン等)、又はへテロ環オキン基(例えは、ピリジルオキ
/、ピリミジルオキ7等)を表し、n−jの時、R1と
R2はと窒素原子と共に環(例えば、ピペリジン、ピペ
ラジン、モルポリン等)を形成してもよい。
R and R2 are each a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl, ethyl, methoxynoethyl, /anoethyl, hydroxyethyl, benzyl, trifluoroethyl, etc.),
Alkenyl groups (e.g., allyl, butenyl, pentenyl, pentagenyl, etc.), alkynyl groups (e.g., glopargyl, butynyl, pentynyl, etc.), aryl groups (e.g., phenyl, naphthyl, cyanophenyl, methoxyphenyl, etc.), heterocyclic groups ( Examples include unsaturated heterocyclic groups such as pyridine, thiophene, and furan, and saturated heterocyclic groups such as tetrahydrofuran and sulfolane), hydroquine groups, alkokene groups (e.g., methoxy, ethquine, benzyloxy, cyanomethoxy, etc.), and alkenyl groups. ox/group (e.g., alkoxy group niluoki/etc.), alkynyl oxe/group (e.g., propargyluoquine, putinyluoquine, etc.),
It represents an aryloxy group (e.g., phenoxy, naphthylogin, etc.) or a heterocyclic okyne group (e.g., pyridyloxi/, pyrimidyloxine, etc.), and when n-j, R1 and R2 together with the nitrogen atom represent a ring (e.g. , piperidine, piperazine, morpoline, etc.).

たたしn=2の時、R1及びR2のうち少なくとも一方
はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環基、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基、アルケニルオキ7基、アルキニ
ルオキ7基、アリールオキ/基又はヘテロ環オキン基を
表すものとする。
When n=2, at least one of R1 and R2 is an alkenyl group, an alkynyl group, a saturated heterocyclic group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkenyloxy7 group, an alkynyloxy7 group, an arylox/group, or a heterocyclic group. It represents an okine group.

R3で表されるアルキニル基及び飽和複素環基の具体例
としては、上述したようなものか挙けられる。
Specific examples of the alkynyl group and saturated heterocyclic group represented by R3 include those mentioned above.

Aで表されるアリール基、又は、硫黄原子又は酸素原子
を少なく−とも一つ有する複素環基に、種−17= 々の置換基か導入できる。導入できる置換基としては例
えばハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アルキニ基、アルキルチオ基
、アリールヂオ基、スルホニル基、アルコキンカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、
スルファモイル基、アンル基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンア
ミド基、アリールアミノチオカルボニルアミノ基、ヒド
ロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、二]−ロ基、ンア
ノ基などが挙げられる。これらの置換基のうちスルホン
アミド基、アルキルアミノ基、アルキリデンアミノ基等
が好ましい。
Various substituents can be introduced into the aryl group represented by A or the heterocyclic group having at least one sulfur atom or oxygen atom. Examples of substituents that can be introduced include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkini groups, alkylthio groups, aryldio groups, sulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, carbamoyl groups,
Sulfamoyl group, anlu group, amino group, alkylamino group, arylamino group, acylamino group, sulfonamide group, arylaminothiocarbonylamino group, hydroxy group, carboxy group, sulfo group, di]-ro group, n-ano group, etc. Can be mentioned. Among these substituents, a sulfonamide group, an alkylamino group, an alkylidene amino group, etc. are preferred.

各一般式中、Aは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも一つ含むことか好ましい。
In each general formula, A preferably contains at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption-promoting group.

耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて名月されているパラスト基か好ましい。
The diffusion-resistant group is preferably a pallast group, which is widely used in immobile photographic additives such as couplers.

バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えはアルキル基、アルコキン
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキン基、
アルキルフェノキ7基なとの中から選ぶことかできる。
A ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and is relatively inert to photography, and examples include an alkyl group, an alkokene group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a fenoquine group,
You can choose from seven alkylphenox.

ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアソール基なとの米国特許4,385.108号に記
載された基か挙げられる。
Examples of the silver halide adsorption promoting group include the groups described in US Pat. No. 4,385.108, such as a thiourea group, a thiourethane group, a heterocyclic thioamide group, a mercapto heterocyclic group, and a triazole group.

一般式(A)及び〔B〕中の−NHNH−のR1即ちヒ
ドラジンの水素原子は、スルホニル基(例えはメタンス
ルホニル、l−ルエンスルホニル等)、アンル基(例え
は、アセチル、トリフルオロアセチル、工I・キシカル
ボニル等)、オキザリル基(例えは、エトキザリル、ピ
ルボイル等)等の置換基で置換されていてもよく、一般
式〔A〕及びCB〕で表される化合物はこのようなもの
をも含む。
In general formulas (A) and [B], R1 of -NHNH-, that is, the hydrogen atom of hydrazine, is a sulfonyl group (for example, methanesulfonyl, l-luenesulfonyl, etc.), an anlu group (for example, acetyl, trifluoroacetyl, The compounds represented by the general formulas [A] and CB] may be substituted with a substituent such as an oxalyl group (e.g., ethoxalyl, pyruvoyl, etc.). Also included.

本発明においてより好ましい化合物は、一般式(A)の
n=2の場合の化合物、及び一般式〔B〕の化合物であ
る。
More preferred compounds in the present invention are compounds of general formula (A) where n=2 and compounds of general formula [B].

一般式〔A〕のn=2の化合物において、R1及びR2
か水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アリール基、飽和又は不飽和複素環基、ヒドロキシ基
、又はアルコキシ基であり、かつR1及びR2のうち少
なくとも一方はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素
環基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表す化合物が
更に好ましい。
In the compound of general formula [A] where n=2, R1 and R2
is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a saturated or unsaturated heterocyclic group, a hydroxy group, or an alkoxy group, and at least one of R1 and R2 is an alkenyl group, an alkynyl group, or a saturated heterocyclic group. More preferred are compounds representing a cyclic group, a hydroxy group, or an alkoxy group.

上記一般式(A:l、CB)で表される代表的な化合物
としては、以下に示すものがある。但し当然のことであ
るが、本発明において用い得る一般式(A)、CB)の
具体的化合物は、これらの化合物に限定されるものでは
ない。
Representative compounds represented by the above general formula (A:l, CB) include those shown below. However, it goes without saying that the specific compounds of general formulas (A) and CB) that can be used in the present invention are not limited to these compounds.

具体的化合物例 ※−NHNHCOCONHCH2CI = CH2とR
3 ※−NHNHCOCONI(CH2−CI = CH2
=23− +(−22 =26− H−39 H−40 )U2 ’XI− H−62 H−63 ツ 2H6 H C21(5 tl し+13 −34= H−79 T(−80 ― C1]3 IOI H−103 H−104 H−105 H−1,06 H−1,09 I−r−116 H−118 H−120 H−122 H−123 H−124 ■1 ■ I−1−13’2 H−1’34 一45= H−136 =46− ■ CH3 H−141 C82C11□5H T−1−142 H−143 H−145 H−150 =49− H−153 H−154 C1]3 H−155 H−156 υ H3 H−168 □ H3 H−169 CH2CH25H H−170 H−171 H−172 I−1−181 H−182 H−183 H−184 次に本発明に係る化合物の合成法の例について述へる。
Specific compound example *-NHNHCOCONHCH2CI = CH2 and R
3 *-NHNHCOCONI (CH2-CI = CH2
=23- +(-22 =26- H-39 H-40)U2' IOI H-103 H-104 H-105 H-1,06 H-1,09 I-r-116 H-118 H-120 H-122 H-123 H-124 ■1 ■ I-1-13'2 H-1'34 -45= H-136 =46- ■ CH3 H-141 C82C11□5H T-1-142 H-143 H-145 H-150 =49- H-153 H-154 C1]3 H- 155 H-156 υ H3 H-168 □ H3 H-169 CH2CH25H H-170 H-171 H-172 I-1-181 H-182 H-183 H-184 Next, examples of methods for synthesizing compounds according to the present invention Let's talk about.

例えは化合物H−1は、次の合成法に従って合成できる
For example, compound H-1 can be synthesized according to the following synthesis method.

CB□=(:H−CH2N++2 C2H,0COCOCff        C2H50
COCONHCH2−CH=CH2或は次の方法でも合
成できる。
CB□=(:H-CH2N++2 C2H,0COCOCff C2H50
It can also be synthesized using COCONHCH2-CH=CH2 or the following method.

一5!I− これらの合成法は例えば特開昭55−52050号、米
国特許4,686.167号等に記載の合成法も参考に
できる。
15! I- These synthetic methods can also be referred to, for example, the synthetic methods described in JP-A-55-52050 and US Pat. No. 4,686.167.

化合物■1−3は、次の合成法に従って合成できる。Compound 1-3 can be synthesized according to the following synthesis method.

化合物I]−5は、次の合成法に従って合成できる。Compound I]-5 can be synthesized according to the following synthesis method.

一6〇− 或は次の方法でも合成できる。160- Alternatively, it can be synthesized by the following method.

化合物H−35は、次の合成法に従って合成できる。Compound H-35 can be synthesized according to the following synthesis method.

C21J5 化合物H−49は、次の合成法に従って合成できる。C21J5 Compound H-49 can be synthesized according to the following synthesis method.

又、化合物H−I H−5の別の合成法、及び化合物H
−57の合成法のそれぞれの例を以下に示す。
Also, another method for synthesizing compound H-I H-5 and compound H
Examples of each synthesis method for -57 are shown below.

化合物H−1の合成 合成スキームは下記の通りである。Synthesis of compound H-1 The synthesis scheme is as follows.

p−ニトロフェニルヒドランン15g及びアセトニトリ
ル150m1)の懸濁液に氷水冷下、エトキノオキザリ
ルクロ9411981次いでトリエチルアミン14gを
滴下する。滴下終了後、室温で1時間撹拌する。次いで
不溶物を濾過除去後、濾液を濃縮して残渣をクロロホル
ム400m(lに溶解する。希アルカリ水で洗浄後、分
液し、クロロホルム層を濃縮して粗生成物29.7gを
得た。これをインプロパツール]、20mff中撹拌洗
浄にて精製し、化合物(I)16.9gを得た。酢酸1
6Omc中に化合物CI ) 16g及びPd/C触媒
5gを加え、水素気流下、常圧常温にて撹拌し、反応終
了後、触媒残渣を除去し濾液を濃縮して組成物を得た。
Ethoquinoxalylchloride 9411981 and then 14 g of triethylamine were added dropwise to a suspension of 15 g of p-nitrophenylhydrane and 150 ml of acetonitrile under ice-water cooling. After the dropwise addition was completed, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Next, after removing insoluble matter by filtration, the filtrate was concentrated and the residue was dissolved in 400 ml (l) of chloroform. After washing with dilute alkaline water, the layers were separated, and the chloroform layer was concentrated to obtain 29.7 g of a crude product. This was purified by stirring and washing in 20 mff [Improper Tool] to obtain 16.9 g of compound (I). Acetic acid 1
16 g of compound CI) and 5 g of Pd/C catalyst were added to 6Omc and stirred under a hydrogen stream at normal pressure and room temperature. After the reaction was completed, the catalyst residue was removed and the filtrate was concentrated to obtain a composition.

これをカラムクロマトグラフィーによって精製し、化合
物(II ) 5.6gを得lこ。
This was purified by column chromatography to obtain 5.6 g of compound (II).

化合物(U ) 8.1g及びアセトニトリル80m0
.の懸濁液に還流加熱下、エチルイソチオ/アイ・−1
・9.5gを滴下する。更に2時間加熱還流後、濃縮し
て組成物11gを得た。これをアセトニトリルによる再
結晶によって精製し、化合物(III)4.5gを得=
65− lこ。
Compound (U) 8.1g and acetonitrile 80m0
.. A suspension of ethyl isothio/I-1 was heated under reflux.
・Drop 9.5g. After further heating under reflux for 2 hours, the mixture was concentrated to obtain 11 g of a composition. This was purified by recrystallization with acetonitrile to obtain 4.5 g of compound (III) =
65-l.

アリルアミン40mQに化合物(m)5.0gを溶解し
、2時間加熱還流する。終了後濃縮して組成物4.9g
を得た。これをクロロホルム2ク 精製し、化合物H−14.3gを得た。
5.0 g of compound (m) was dissolved in 40 mQ of allylamine and heated under reflux for 2 hours. Concentrate after completion to obtain 4.9g of composition.
I got it. This was purified with chloroform two times to obtain 14.3 g of compound H-1.

融点 2069°C8 FAB−MSでM++1 =322を検出した。Melting point: 2069°C8 M++1=322 was detected by FAB-MS.

化合物H−5の合成 合成スキームは下記の通りである。Synthesis of compound H-5 The synthesis scheme is as follows.

米国特許4,686.167号記載の方法に従って化合
物(1)を合成した。化合物(T)3]。3gとエタノ
ール300mffとアリールアミンlo、6gを加熱し
還流温度で一晩反応した。反応液を濃縮し、残渣にベン
センを600mQ、加え5°Cに冷却して析出結晶を濾
取し、化合物(TI ) 30gを得た。
Compound (1) was synthesized according to the method described in US Pat. No. 4,686.167. Compound (T)3]. 3 g of ethanol, 300 mff of ethanol, and 6 g of arylamine lo were heated and reacted at reflux temperature overnight. The reaction solution was concentrated, 600 mQ of benzene was added to the residue, and the mixture was cooled to 5°C and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 30 g of compound (TI).

化合物(H) 30gをT)IF (テトラヒドロフラ
ン)540m(lに溶解し、濃塩酸150m12を添加
する。次いで5nC0,2150,8gのT HF 5
40 m Q溶液を室温で添加し40〜50°Cにて一
晩反応した。反応後、析出結晶を濾取し、メタノール1
aに懸濁させ撹拌下NH,OHにてpH7,5〜8とし
一時間撹拌した。その後メタノールを半分濃縮し、0℃
に冷却後結晶を濾取し、化合物(m ) ]、9.8g
を得た。
30 g of compound (H) are dissolved in 540 ml of T)IF (tetrahydrofuran) and 150 ml of concentrated hydrochloric acid are added. Then 5 nC0,2150,8 g of T HF 5
A 40 m Q solution was added at room temperature and reacted overnight at 40-50°C. After the reaction, the precipitated crystals were collected by filtration, and methanol 1
The suspension was suspended in NH and OH under stirring to adjust the pH to 7.5 to 8 and stirred for 1 hour. Then, half the methanol was concentrated and 0℃
After cooling, the crystals were collected by filtration, and 9.8 g of compound (m
I got it.

化合物(1)15gをピリジン600m12に溶解した
後、外部より冷却しながらクロルギ酸フェニルlLgを
内温15°C以下で滴下した。滴下後、室温にて一晩反
応した。反応後、ピリジンを濃縮し、残渣をアセトン2
00v2で撹拌洗浄し濾取し、化合物(TV)17gを
得た。
After dissolving 15 g of compound (1) in 600 ml of pyridine, 1 L g of phenyl chloroformate was added dropwise to the solution while cooling from the outside at an internal temperature of 15° C. or lower. After the dropwise addition, the mixture was reacted overnight at room temperature. After the reaction, pyridine was concentrated and the residue was dissolved in acetone 2.
The mixture was washed with stirring using 00v2 and collected by filtration to obtain 17 g of compound (TV).

化合物(TV ) 16.2gをピリジン160mQに
溶解し、化合物(V ) 16.8gのピリジン1.6
0 m Q溶液を加え加熱し還流温度で3時間反応した
。反応後、ピリジンを留去し、残査にn−ヘキサン30
0mQを加え撹拌洗浄し、結晶を濾取した。この粗結晶
をDMF (ジメチル7オルムアミド) 60m+2に
加熱溶解しアセトン180mρを加え、OoCに冷却し
て析出した結晶をとり出し、化合物H−513,8gを
得た。
Dissolve 16.2 g of compound (TV) in 160 mQ of pyridine, and dissolve 16.8 g of compound (V) in 1.6 mQ of pyridine.
A 0 m Q solution was added, heated, and reacted at reflux temperature for 3 hours. After the reaction, pyridine was distilled off and 30% of n-hexane was added to the residue.
0 mQ was added, stirred and washed, and the crystals were collected by filtration. The crude crystals were heated and dissolved in 60 m+2 of DMF (dimethyl 7-olumamide), 180 mρ of acetone was added, and the mixture was cooled to OoC and the precipitated crystals were taken out to obtain 8 g of Compound H-513.

融点 198.5〜199.5°C F A B−1it SでM+=565を検出した。Melting point: 198.5-199.5°C M+=565 was detected with FAA B-1it S.

化合物H−57の合成 1i9− 化合物(I ) 27gとエタノール250mcLと化
合物(II ) 25gを加熱し還流温度で一晩反応し
た。反応後、反応液を冷却し結晶を濾取し、エタノール
で洗浄した。得られた粗結晶31gをメタノール30゜
より再結晶し、化合物(m ) 20.8gを得た。
Synthesis of Compound H-57 1i9- 27 g of Compound (I), 250 mcL of ethanol, and 25 g of Compound (II) were heated and reacted at reflux temperature overnight. After the reaction, the reaction solution was cooled, and the crystals were collected by filtration and washed with ethanol. 31 g of the obtained crude crystals were recrystallized from 30° methanol to obtain 20.8 g of compound (m).

化合物(I)19gをTHF 400mQに懸濁し、濃
塩酸115m(lを添加した。次いで5nC(1269
,4gのTHF 300mQ溶液を室温で添加し40〜
50°Cで一晩反応した。
19 g of compound (I) was suspended in 400 mQ of THF, and 115 m (l) of concentrated hydrochloric acid was added.
, 4g of THF 300mQ solution was added at room temperature.
The reaction was carried out at 50°C overnight.

反応後、析出結晶を濾取し、メタノール420v2に溶
解後、THF 1680mQを加え懸濁させ撹拌下N 
H、OHにてpH8,5とし15分間撹拌した。その後
析出結晶を濾取し、化合物(TV) Il、5gを得た
After the reaction, the precipitated crystals were collected by filtration, dissolved in 420v2 of methanol, suspended in 1680mQ of THF, and stirred with N.
The pH was adjusted to 8.5 with H and OH and stirred for 15 minutes. Thereafter, the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 5 g of compound (TV) Il.

化合物(IV)lOgをピリジンIQに溶解した後、=
70− 外部より氷冷しなからクロルギ酸フェニル5.2gを内
温15°C以下で滴下した。滴下後室温にて一晩反応し
ブこ。
After dissolving lOg of compound (IV) in pyridine IQ, =
70- 5.2 g of phenyl chloroformate was added dropwise while cooling with ice from the outside at an internal temperature of 15°C or less. After dropping, react overnight at room temperature.

反応後ピリジンを700〜800mQ濃縮し、残渣にア
セトン400m12を加え撹拌し析出結晶を濾取した。
After the reaction, pyridine was concentrated to 700 to 800 mQ, 400 ml of acetone was added to the residue, stirred, and the precipitated crystals were collected by filtration.

この粗結晶をアセトン200mffに懸濁し還流させ、
次いてDMF 260mQを滴下し溶解さセ不溶分を除
き0°Cに冷却した。析出結晶を濾取し化合物(V)8
.5gを得た。
The crude crystals were suspended in 200 mff of acetone and refluxed,
Next, 260 mQ of DMF was added dropwise to dissolve and insoluble matter was removed, and the mixture was cooled to 0°C. The precipitated crystals were collected by filtration and compound (V) 8
.. 5g was obtained.

化合物(V)logをピリジン200m12に懸濁し、
化合物(VI)8.1gのピリ77100m0.溶液を
加え還流温度で3時間反応した。反応後、反応液にアセ
トン2Q、を加え結晶化させ濾取した。この粗結晶をア
セI・ン35mffに懸濁し還流させメタノール85m
4ヲ滴下溶解後すぐに0°Cに冷却し、析出した結晶を
濾取し、化合物H−576gを得た。
Compound (V) log was suspended in 200ml of pyridine,
Compound (VI) 8.1g piri 77100m0. The solution was added and reacted at reflux temperature for 3 hours. After the reaction, 2Q acetone was added to the reaction solution to crystallize it, which was collected by filtration. The crude crystals were suspended in 35 mff of acetic acid and refluxed, and 85 m of methanol was added.
Immediately after dissolving 4 drops, the mixture was cooled to 0°C, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 576 g of Compound H.

融点 230〜231°C 7l− 一72= 化合物(T ) Logのピリジン50m+2溶液にm
−二トロベンゼンスルホニルクロライド6.6gを外部
より氷水浴冷却しなから添加した。室温で10時間反応
させた後、溶媒を留去し水を加え固体を濾取した。
Melting point 230-231°C 7l-172= Compound (T) m in pyridine 50m+2 solution of
-6.6 g of nitrobenzenesulfonyl chloride was added externally while cooling in an ice-water bath. After reacting at room temperature for 10 hours, the solvent was distilled off, water was added, and the solid was collected by filtration.

これをカラムクロマト(クロロホルム/メタノール−3
/2)にて精製を行い化合物(II)を5.9g得lこ
This was subjected to column chromatography (chloroform/methanol-3
/2) to obtain 5.9 g of compound (II).

化合物(H) 5.5g、 wet5%Pd/C1,O
g、 MEDH150mffの混合液を常圧で水添還元
を行った。
Compound (H) 5.5g, wet5%Pd/C1,O
A mixed solution of 150 mff of MEDH was hydrogenated and reduced at normal pressure.

反応後、Pd/Cを濾別し、溶媒を留去して化合物(I
II)を得た。これをピリジン50mffに溶かし、外
部より氷水浴冷却しなから化合物(IV)4.0gのピ
リジンl OmQ溶液を滴下した。室温で5時間撹拌後
、溶媒を留去して水を加え固体を濾取した。これをカラ
ムクロマト(メチレンクロライド/メタノール−571
)で精製した後、酢酸エチル−n−ヘキサンて再結晶を
行い化合物H−611,0gを得た。融点165〜17
2°co化合物の構造をMS及びNMRにて確認し l
こ 。
After the reaction, Pd/C was filtered off, the solvent was distilled off, and the compound (I
II) was obtained. This was dissolved in 50 mff of pyridine, and a solution of 4.0 g of compound (IV) in 1 OmQ of pyridine was added dropwise to the solution while externally cooling in an ice-water bath. After stirring at room temperature for 5 hours, the solvent was distilled off, water was added, and the solid was collected by filtration. This was subjected to column chromatography (methylene chloride/methanol-571
) and then recrystallized from ethyl acetate-n-hexane to obtain 11.0 g of Compound H-61. Melting point 165-17
The structure of the 2°co compound was confirmed by MS and NMR.
child .

化合物H−62は次の方法で合成できる。Compound H-62 can be synthesized by the following method.

化合物H−116は次の方法で合成できる。Compound H-116 can be synthesized by the following method.

化合物H−133は次の方法で合成できる。Compound H-133 can be synthesized by the following method.

化合物I(−140は次の方法で合成できる。Compound I(-140 can be synthesized by the following method.

−76= 化合物1’1−71は次の方法で合成できる。−76= Compound 1'1-71 can be synthesized by the following method.

化合物H−71 化合物H−149は次の方法で合成できる。Compound H-71 Compound H-149 can be synthesized by the following method.

化合物H−149 本発明において一般式〔A〕及びCB)で表されるヒド
ラジン化合物と併用される造核促進化合物のアミン化合
物、四級オニウム塩化合物としては下記の一般式〔■〕
〜〔■〕の化合物が挙げられる。この中で好ましい化合
物としては(V)−■、(v)−n、〔■〕−■、(V
l)−1、(Vl )−■、(■:] −IIIの化合
物か挙げられる。
Compound H-149 In the present invention, the following general formula [■] is used as an amine compound and quaternary onium salt compound as a nucleation promoting compound to be used in combination with the hydrazine compound represented by the general formula [A] and CB).
- [■] Compounds are mentioned. Among these, preferred compounds are (V)-■, (v)-n, [■]-■, (V
l)-1, (Vl)-■, (■:]-III).

一般式(T) 〔一般式〔19式中、R、、R2,R3は水素原子又は
置換基を表す。R+ 、 R2、R3は互いに連結して
環を形成してもよい。R、、R2,R、が表す置換基と
しては、例えばアルキル基(例えばメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ヘキシル、ンクロヘキシル、等の基)
、アルケニル基(例えばアリル、ブテニル等の基)、ア
ルキニル基(例えばグロパルギル、ブチニル等の基)、
アリール基(例えはフェニル、ナフチル等の基)、ヘテ
ロ環基(例えはピペリジニル、ピペラジニル、モルホリ
ニル、−78= ばピペリンニル、ピペリンニル、モルホリニル、ピリジ
ル、フリル、チエニル、テトラヒドロフリル、テトラヒ
ドロチエニル、スルホラニル等の基)等か挙けられる。
General Formula (T) [General Formula [19 In the formula, R, , R2, and R3 represent a hydrogen atom or a substituent. R+, R2, and R3 may be linked to each other to form a ring. Examples of the substituents represented by R, R2, R include alkyl groups (e.g., methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, nclohexyl, etc.)
, alkenyl groups (e.g. allyl, butenyl, etc.), alkynyl groups (e.g. glopargyl, butynyl, etc.),
Aryl groups (for example, phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic groups (for example, piperidinyl, piperazinyl, morpholinyl, -78 = piperinyl, piperinyl, morpholinyl, pyridyl, furyl, thienyl, tetrahydrofuryl, tetrahydrothienyl, sulfolanyl, etc.) Base) etc. can be mentioned.

R、、R2,R、は互いに連結して環(例えはピペリン
ン、モルホリン、ピペラジノ、キヌクリゾン、ピリジノ
等の環)を形成してもよい。
R, , R2, and R may be linked to each other to form a ring (for example, a ring such as piperine, morpholine, piperazino, quinuclizone, pyridino, etc.).

R、、R2,R、で表される基には置換基(例えはヒド
ロキン、アルコキ/、アリールオキン、カルボキンル、
スルホ、アルキル、アリール等の基)か置換してもよい
The groups represented by R, R2, and R include substituents (for example, hydroquine, alkoxy/, aryluoquine, carboquine,
(groups such as sulfo, alkyl, aryl, etc.) may be substituted.

R,、R2,R,としては、水素原子及びアルギル基か
好ましい。
As R,, R2, R, a hydrogen atom or an argyl group is preferable.

以下に一般式(1)で表される具体例を挙げる。Specific examples represented by general formula (1) are listed below.

I−] I−2CH,NHCH□C+、20ilI −7(C2
H5)3N ■−8■−9 Jtl ■−13 ■−14 ■−15 JH ■−17 1−18l−19 lI ■−21 8l− I−22l−23 ■−26 一般式〔■〕 Rz  Q  RI I RI       Xo 〔一般式CmE式中、QはN又はP原子を表す。
I-] I-2CH, NHCH□C+, 20ilI-7(C2
H5) 3N ■-8■-9 Jtl ■-13 ■-14 ■-15 JH ■-17 1-18l-19 lI ■-21 8l- I-22l-23 ■-26 General formula [■] Rz Q RI I RI Xo [In the general formula CmE, Q represents an N or P atom.

Rl+R2,Rl+Rlは水素原子又は置換可能な基を
表す。XOはアニオンを表す。
Rl+R2 and Rl+Rl represent a hydrogen atom or a substitutable group. XO represents an anion.

R、、R2,R3,R、は互いに連結して環を形成して
もよい。Rl、R2,R3,R4で表される置換可能な
基としてはアルキル、アルケニル、アルキニル、アリー
ル、ヘテロ環、アミン等の各県か挙げられ、具体的には
一般式〔1゛〕のR、、R2,R3で説明したものか挙
げられる。R+、R2,R3,Rlか形成し得る環とし
ては一般式〔工〕のR+ 、 R2、R3て形成し得る
環どして説明したものと同様のものが挙げられる。XO
か表すアニオンとしてはハロゲン化物イオン、硫酸イオ
ン、硝酸イオン、酢酸イオン、パラトルエンスルポン酸
イオン等の無機及び有機のアニオンか挙けられる。〕 以下に一般式(Tl、]で表される化合物の具体例を挙
ける。
R,, R2, R3, and R may be linked to each other to form a ring. Examples of substitutable groups represented by Rl, R2, R3, and R4 include alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, heterocycle, and amine. Specifically, R of general formula [1゛], , R2, and R3. Examples of the ring that can be formed by R+, R2, R3, and Rl include the same rings as those described for the ring that can be formed by R+, R2, and R3 in the general formula [E]. XO
Examples of the anion represented by this include inorganic and organic anions such as halide ions, sulfate ions, nitrate ions, acetate ions, and paratoluenesulfonic acid ions. ] Specific examples of the compound represented by the general formula (Tl, ) are listed below.

C16831N(CHI)l        BrQ(
C,Hl)、N          CQ○I −4 (CH3)3NCH2CH20HCQ。
C16831N(CHI)l BrQ(
C, Hl), N CQ○I -4 (CH3)3NCH2CH20HCQ.

(CJs)+N  CH2ClI2  N(CIHI)
8   50%0(C2H6)3N−(CH2)8−N
(C:Hi)3210■−12 ■ CH2C00CH3C120 ■−14 ■−16 ■−17 2Br。
(CJs)+N CH2ClI2 N(CIHI)
8 50%0(C2H6)3N-(CH2)8-N
(C: Hi) 3210 ■-12 ■ CH2C00CH3C120 ■-14 ■-16 ■-17 2Br.

■−18 CQ0 ■−19 ■−20 ■−21 ■−22 (CH3)3N  (CH2)2S  5(CH2)2
  N(CH3)3■−23 (CH3) 、N(CH2)、5(CH,) 2S(C
H2)2S(CH2) 2N(CH,) ]11−2/
1 ■〜25 ■−26 ■−27 ■−28 (C+89:h P−C16H332BrO■−29 一般式(III) 〔一般式〔■〕式中、R+ 、 R2はアルキル基を表
し、R1とR2は連結して環を形成しても」:い。
■-18 CQ0 ■-19 ■-20 ■-21 ■-22 (CH3)3N (CH2)2S 5 (CH2)2
N(CH3)3■-23 (CH3) , N(CH2), 5(CH,) 2S(C
H2)2S(CH2) 2N(CH,) ]11-2/
1 ■~25 ■-26 ■-27 ■-28 (C+89:h P-C16H332BrO■-29 General formula (III) [General formula [■]] In the formula, R+ and R2 represent an alkyl group, and R1 and R2 are Even if they are connected to form a ring: Yes.

R3はアルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、A
はアルキレン基を表す。
R3 represents an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and A
represents an alkylene group.

Yは−CONR,−+−0CONR,−,−NRICO
NRl−。
Y is -CONR, -+-0CONR, -, -NRICO
NRl-.

−NR,Coo −、−COO−、−0CO−、−CO
−、−0COO−。
-NR,Coo-, -COO-, -0CO-, -CO
-, -0COO-.

−NR,Co−、−3o2NR,−1−NR,5O2−
、−NR,5O2NR,−、’−SO□−、−S−、−
0−、−NR,−、−N−基を表し、R4は水素原子も
しくはアルキル基を表す。
-NR, Co-, -3o2NR, -1-NR,5O2-
, -NR,5O2NR,-,'-SO□-, -S-,-
It represents a 0-, -NR,-, -N- group, and R4 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

R、、R2で表されるアルキル基としては、一般式(N
で説明したR + 、 R2、R3のアルキル基と同様
のものか挙げられ、形成する環も同様のものか挙げられ
る。
The alkyl group represented by R,, R2 has the general formula (N
Examples include the same alkyl groups as R + , R2, and R3 explained above, and the rings to be formed also include the same alkyl groups.

R3で表されるアルキル基、アリール基も一般式([)
のR、、R2,R、の表すアルキル基、アリール基と同
様のものか挙げられる。
The alkyl group and aryl group represented by R3 also have the general formula ([)
Examples include the same alkyl groups and aryl groups represented by R, , R2, and R.

R3で表されるヘテロ環基としては、一般式CI)のR
l、R2,Rsの表ずヘテロ環基と同様のもの及び下記
一般式(III−a)で表される基か挙げられる。
As the heterocyclic group represented by R3, R of the general formula CI)
Examples of 1, R2, and Rs include those similar to heterocyclic groups and groups represented by the following general formula (III-a).

−1−−I 式中、aは0又は■を表し、mは1,2又は3を表し、
nはO又は1を表ず。
-1--I In the formula, a represents 0 or ■, m represents 1, 2 or 3,
n does not represent O or 1.

Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子の少なく
とも一種の原子から構成される5又は6員の複素環を形
成するのに必要な原子群を表す。
Q represents an atomic group necessary to form a 5- or 6-membered heterocycle composed of at least one type of carbon atom, nitrogen atom, oxygen atom, and sulfur atom.

又この複素環は炭素芳香環又複素芳香環と縮合していて
もよい。
Further, this heterocycle may be fused with a carbon aromatic ring or a heteroaromatic ring.

Qによって形成される複素環としては例えばそれぞれ置
換又は無置換のインダゾール類、ペンスイミダゾール類
、ペンツトリアゾール類、ペンスオキサゾール類、ペン
ステアソール類、インダゾール類、チアゾール類、オキ
ザゾール類、i・リアゾール類、テトラソール類、アザ
インデン類、ピラゾール類、インドール類、トリアジン
類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリン類等かあけら
れる。
Examples of the heterocycle formed by Q include substituted or unsubstituted indazoles, pensimidazoles, penztriazoles, pensuoxazoles, pensteazoles, indazoles, thiazoles, oxazoles, i-lyazoles, Tetrasols, azaindenes, pyrazoles, indoles, triazines, pyrimidines, pyridines, quinolines, etc. are available.

Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えばす[・リウム
原子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばト
リメチルアンモニウム基、ジメチルベンジルアンモニウ
ム基、等)、アルカリ条件下でM = H又はアルカリ
金属原子となりうる基(例えはアセチル基、シアノエチ
ル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表す。
M is a hydrogen atom, an alkali metal atom (e.g., a sulfur atom, a potassium atom, etc.), an ammonium group (e.g., a trimethylammonium group, a dimethylbenzylammonium group, etc.), and under alkaline conditions, M = H or an alkali metal atom. It represents a diluent group (eg, acetyl group, cyanoethyl group, methanesulfonylethyl group, etc.).

又、これらの複素環は二1・四基、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアノ基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、し−ブチル基、シアノ
エチル基、メトキ/エヂル基、メチルチオエチル基、等
)、アリール基(例えはフェニル基、4−メタンスルホ
ンアミドフェニル基、4−メチルフェニル基、3.4−
ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アルケニル基
(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例えはベンジ
ル基、4−メチルヘンシル基、フェネチル基、 等)、
アルコキン基(例えはメトキ/基、エトキン基、等)、
アセチルオキシ基(例民はフェノキ/基、4−メトキ/
フェノキ7基、等)、アルキルチオ基(例えはメチルチ
オ基、エチルチオ基、メトキンエチルチオ基)、アリー
ルチオ基(例えはフェニルチオ基)、スルホニル基(例
えはメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p−ト
ルエンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例えは無
置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フェニル
カルバモイル基、等)、スルファモイル基(例えは無置
換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニ
ルスルファモイル基、等)、カルボンアミド基(例えは
アセ[・アミド基、ペンスアミド基、等)、スルホンア
ミド基(例えはメタンスルホンアミド基、ペンセンスル
ホンアミド基、p−1’ルエンスルホンアミド基、等)
、アラルキル基(例えはアセチルオキシ基、ベンゾイル
オキ7基、等)、スルホニルオキン基(例えばメタンス
ルホニルオキシ基、等)、ウレイド基(例えは無置換の
ウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フ
ェニルウレイド基、等)、チオクレイ1−基(例えは無
置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、等)、
アンル基(例えはアセチル基、ベンソイル基、等)、ヘ
テロ環基(例えはl−モルホリノ基、1−ピペリジノ基
、2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チエニル基、
■−ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、2−テi・ラ
ヒドロフリル基、テ]・ラヒトc+−F−エニル基、等
)、オキンカルボニル基(例えばメl−キシカルボニル
基、フェノギシ力ルボニル基、等)、オキンカルポニル
アミノ基(例えはメトキンカルボニルアミノ基、フェノ
キンカルボニルアミノ基、2−エチルへキシルオキ/カ
ルボニルアミノ基、等)、アミン基(例えは無置換アミ
ノ基、ジメチルアミノ基、メi・キ/エチルアミノ基、
アニリノ基、等)、カルボン酸又はその塩、スルホン酸
又はその塩、ヒドロキシ基なとで置換されていてもよい
In addition, these heterocycles include 21.4 groups, halogen atoms (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), mercapto groups, cyano groups, substituted or unsubstituted alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, etc.). , butyl group, cyanoethyl group, methoxy/edyl group, methylthioethyl group, etc.), aryl group (e.g. phenyl group, 4-methanesulfonamidophenyl group, 4-methylphenyl group, 3.4-
dichlorophenyl group, naphthyl group, etc.), alkenyl group (e.g. allyl group, etc.), aralkyl group (e.g. benzyl group, 4-methylhensyl group, phenethyl group, etc.),
Alcoquine group (e.g. methoxy/ethoxy group, ethquine group, etc.),
Acetyloxy group (example: phenoxy/group, 4-methoxy/
phenylthio group, etc.), alkylthio group (e.g. methylthio group, ethylthio group, metquinethylthio group), arylthio group (e.g. phenylthio group), sulfonyl group (e.g. methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, p-toluene) sulfonyl group, etc.), carbamoyl group (e.g., unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (e.g., unsubstituted sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, etc.) ), carbonamide group (e.g. ace[・amide group, pensamide group, etc.), sulfonamide group (e.g. methanesulfonamide group, pencenesulfonamide group, p-1' luenesulfonamide group, etc.)
, aralkyl group (e.g. acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfonyloquine group (e.g. methanesulfonyloxy group, etc.), ureido group (e.g. unsubstituted ureido group, methylureido group, ethylureido group) , phenylureido group, etc.), thiochlei 1-group (e.g., unsubstituted thioureido group, methylthioureido group, etc.),
Anru group (e.g. acetyl group, benzoyl group, etc.), heterocyclic group (e.g. l-morpholino group, 1-piperidino group, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-thienyl group,
■-pyrazolyl group, 1-imidazolyl group, 2-ti-rahydrofuryl group, te-rahitoc+-F-enyl group, etc.), oquinecarbonyl group (e.g. mel-oxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, etc.), oquine carbonylamino group (e.g., methquine carbonylamino group, phenokine carbonylamino group, 2-ethylhexyloxy/carbonylamino group, etc.), amine group (e.g., unsubstituted amino group, dimethylamino group, Mei・ki/ethylamino group,
anilino group, etc.), carboxylic acid or its salt, sulfonic acid or its salt, hydroxy group, etc.

Aで表されるアルキレン基としては、例えはメチレン、
エチレン、トリメチレン、テトラメチレン等か挙げられ
、Aの置換基としては、アリール基、アルコキン基、ヒ
ドロキシ基、ハロゲン原子なとを挙げることかできる。
Examples of the alkylene group represented by A include methylene,
Examples include ethylene, trimethylene, and tetramethylene, and examples of substituents for A include aryl groups, alkokene groups, hydroxy groups, and halogen atoms.

R3で表されるアルキル基は炭素数1〜5の低級アルキ
ル基又はアラルキル基(例えはベンジル基なと)が好ま
しい。〕 以下に一般式〔■〕で表される化合物の具体例1l−1 Tf>2 1l−5 I[1−6 r14゜ =94− IIT−3 ■−13 ■−14 ■−15 ll−17 ■−18 1l−19 ’−96− ll−20 ll−21 ■−23 ■−25 ■−26 ■−27 ll−28 ■−29 rθ lll−30 ■−31 ■−32 ■−33 9(]− lll−34 ■−35 ■−36 ■−37 rl。
The alkyl group represented by R3 is preferably a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aralkyl group (eg, benzyl group). ] Below are specific examples of compounds represented by the general formula [■] 1l-1 Tf>2 1l-5 I[1-6 r14°=94- IIT-3 ■-13 ■-14 ■-15 ll-17 ■-18 1l-19 '-96- ll-20 ll-21 ■-23 ■-25 ■-26 ■-27 ll-28 ■-29 rθ ll-30 ■-31 ■-32 ■-33 9(] - lll-34 ■-35 ■-36 ■-37 rl.

■−38 ■−39 I] lll−40 ■−41 ■] ■−42 ■−44 一般式(IV) 〔一般式(IV)式中、R、、R2は水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ−ル基、ヘテ
ロ環基を表し、R、、R2,Eで環を形成してもよい。
■-38 ■-39 I] lll-40 ■-41 ■] ■-42 ■-44 General formula (IV) [In general formula (IV), R, , R2 are hydrogen atoms, alkyl groups, alkenyl groups, It represents an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R, , R2, and E may form a ring.

Eは(−CH2CH3O)−nで表される基を少なくと
も1つ含む基である。nは2以上の整数を表す。
E is a group containing at least one group represented by (-CH2CH3O)-n. n represents an integer of 2 or more.

R11R2で表されるアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、ヘテロ環基及びR1゜R2,E
で形成される環としては、一般式〔I〕のR、、R2,
R3で説明したものとが同様のものか挙げられる。〕 以下に一般式CCV)で表される化合物の具体例を挙け
る。
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group and R1゜R2,E represented by R11R2
As the ring formed by R, , R2, of general formula [I],
It may be the same as that explained in R3. ] Specific examples of the compound represented by the general formula CCV are listed below.

IV−] IV−2 IV−3 IV−4 IV−5 IV−6 IV−7 +1−8 +1−9 IV−10 TV−I+ ■−12 ■−13 ■−14 ■−15 IV−16 ■−17 Vi8 IV−19 ■−20 IV  21   C5H+ INH(CH2CH20
)、、−CH2CH2NHC5H,、IV−22C,8
,5NH−(CH,CH,O)1.cH2cH2Nl(
C,H,5■−23 rv−24CCH2=CH−CH2NH)■(CH7C
H20)14CH2CH2+v−25CcH=c−CH
,NH)2(c++2c++2o)、、cl(2c+−
+2■−26 ■−27 ■−28 ■−29 ■−30 IV−31 ■−32 ■−33 ■−34 ■−35 ■−36 ■−37 ■−38 ■−39 CH。
IV-] IV-2 IV-3 IV-4 IV-5 IV-6 IV-7 +1-8 +1-9 IV-10 TV-I+ ■-12 ■-13 ■-14 ■-15 IV-16 ■- 17 Vi8 IV-19 ■-20 IV 21 C5H+ INH(CH2CH20
),,-CH2CH2NHC5H,,IV-22C,8
,5NH-(CH,CH,O)1. cH2cH2Nl(
C, H, 5■-23 rv-24CCH2=CH-CH2NH)■(CH7C
H20) 14CH2CH2+v-25CcH=c-CH
,NH)2(c++2c++2o),,cl(2c+-
+2 ■-26 ■-27 ■-28 ■-29 ■-30 IV-31 ■-32 ■-33 ■-34 ■-35 ■-36 ■-37 ■-38 ■-39 CH.

■−40 IV−41 一般式(V)−1 キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘ
テロ環基を表す。但し、R、、R2,R3のうち少なく
とも一つはアルケニル基又はアルキニル基を表ずか又は
R、、R2+のうち少なくとも一つはアリール基又はへ
テロ環基を表すものとする。R、、R2,L、R3で環
を形成してもよい。Lは連結基を表す。
■-40 IV-41 General formula (V)-1 Represents a kyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. However, at least one of R, R2, and R3 represents an alkenyl group or an alkynyl group, or at least one of R, R2+ represents an aryl group or a heterocyclic group. R, , R2, L, and R3 may form a ring. L represents a linking group.

R、、R2,R、か表ずアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、ヘテロ環基としては、一般式
〔■〕のR、、R2,R3で挙げた基と同様のものか挙
げられる。R、、R2,L 、R3で形成される環とし
ては、例えはピペリジン、モルホリン、ピロリジン等の
へテロ環か挙げられる。
R,, R2, R, and the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group include the same groups as those listed for R,, R2, and R3 in general formula [■]. It will be done. Examples of the ring formed by R, , R2, L, and R3 include heterocycles such as piperidine, morpholine, and pyrrolidine.

して表される連結基としては例えは一般式(III)て
挙げた一A−Y−か挙けられる。〕 以下に一般式(V)−Iで表される化合物の具体例を挙
ける。
Examples of the linking group represented by the formula (III) include 1A-Y- as shown in the general formula (III). ] Specific examples of the compound represented by the general formula (V)-I are listed below.

−1−I −I−2 −r−3 V −1−4 −I−5 −I−6 −I−7 −I−8 ■−■−10 −I−11 −I−12 =113− −I−13 ■−■−14 −I−15 一11=1− V−I−18 V−I−19 −I−20 ■−■−22 −I−23 v−■−24 −I−25 v−■−26 −I−27 一般式(1−n 〔一般式〔■〕−■式中、R、、R2,R、はアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基を表す。R3は水素原子又は置換可能な基を表す。
-1-I -I-2 -r-3 V -1-4 -I-5 -I-6 -I-7 -I-8 ■-■-10 -I-11 -I-12 =113- - I-13 ■-■-14 -I-15 -11=1- V-I-18 V-I-19 -I-20 ■-■-22 -I-23 v-■-24 -I-25 v -■-26 -I-27 General formula (1-n [General formula [■]] -■ In the formula, R, , R2, R represent an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group .R3 represents a hydrogen atom or a substitutable group.

Lは連結基を表し、nは0又はlの整数を表す。L represents a linking group, and n represents an integer of 0 or l.

R、、R2,R3,R、で連結して環を形成してもよい
R,, R2, R3, and R may be connected to form a ring.

R、、R2,R、で表されるアルキル基、アルケニル基
、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基としては、一
般式〔I〕のR、、R2,R3て説明したのと同様の基
か挙げられる。
The alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group represented by R, , R2, and R include the same groups as explained for R, , R2, and R3 in general formula [I]. Can be mentioned.

R3て表される基のうち置換可能な基としては、例えは
アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロ
環等の各県であり、上述したと同様の基か挙げられる。
Among the groups represented by R3, substitutable groups include, for example, alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, heterocycle, and the same groups as mentioned above.

Lは連結基を表すか例えは−co −、−coo −。L represents a linking group, for example -co-, -coo-.

−CONR6−、−5O2−、−5o2NR5−等の基
を表す。
Represents a group such as -CONR6-, -5O2-, -5o2NR5-.

R5は水素原子もしくは置換可能な基を表す。R5 represents a hydrogen atom or a substitutable group.

RI+R2,Rl、L 、Rtで形成される環としては
、例えはピペリジン、モルホリン等のへテロ環か挙げら
れる。〕 以下に一般式[:V)−IIで表される化合物の具体例
を挙げる。
Examples of the ring formed by RI+R2, Rl, L and Rt include heterocycles such as piperidine and morpholine. ] Specific examples of the compound represented by the general formula [:V)-II are listed below.

■−■−4 −118.− V−I[−6 V−11−8 V−11−10 −n−12 V−IT−13 −H−14 V−II−15 V−11−16 V−11−17 V−]>18 −n−19 V−II−20 V −ll−21 V−It−22 V−I[−23 V−I[−24 v−n−26 ■−■−27 V−11−28 −n−29 V−11−30 一般式(V)−IIl 、1′、 置換基を表す。R2はアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリール、ヘテロ環の各県を表す。Lは連結基を表
す。
■−■−4 −118. - VI [-6 V-11-8 V-11-10 -n-12 V-IT-13 -H-14 V-II-15 V-11-16 V-11-17 V-]>18 -n-19 V-II-20 V -ll-21 V-It-22 V-I[-23 V-I[-24 v-n-26 ■-■-27 V-11-28 -n-29 V-11-30 General formula (V)-IIl, 1', represents a substituent. R2 represents alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, and heterocycle. L represents a linking group.

、・′−一・、 Niは含窒素へテロ環を表す。nl:io又はl\、−
m−′ の整数を表す。
,・'-1., Ni represents a nitrogen-containing heterocycle. nl:io or l\, -
represents an integer of m-'.

/゛−′・、 R,はli  と共に環を形成してもよい。/゛−′・、 R, may form a ring together with li.

′・、−2・′ R2で表されるアルキル、アルケニル、アルキニル、ア
リール、ヘテロ環の各県としては、一般式〔I〕のRl
+R2+R、で説明したのと同様の基か挙げられる。
'., -2.' As the alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, and heterocycle represented by R2, Rl of the general formula [I]
+R2+R, and the same groups as explained above may be mentioned.

R1で表される基のうち置換基としては、例えは上記R
2で説明したのと同様の基か挙げられる。
Among the groups represented by R1, substituents include, for example, the above R
Groups similar to those explained in 2 can be mentioned.

されるヘテロ環としては、例えはキヌクリジン、ピペリ
ジン、ピラゾリジン等のへテロ環か挙げられる。して表
される連結基としては例えば一般式〔■〕のYで表され
るものと同様のものが挙げられる。〕 以下一般式〔v〕−■で表される具体例を挙げ′る。
Examples of the heterocycle include heterocycles such as quinuclidine, piperidine, and pyrazolidine. Examples of the linking group represented by this include those similar to those represented by Y in the general formula [■]. ] Specific examples represented by the general formula [v]-■ are given below.

−111I −ml−5 −H1−6 V−111−7 V−I[1−8 V−111−9 −m−11 V−Ill−12 I 2H5 V−111−17 ■ CH2−CH=CH2 v−Ill−21 −m−25 V−nl−26 −m−27 vll+−28 V−111−29 v−m−34 一般式(Vl)−I p。-111I -ml-5 -H1-6 V-111-7 VI [1-8 V-111-9 -m-11 V-Ill-12 I 2H5 V-111-17 ■ CH2-CH=CH2 v-Ill-21 -m-25 V-nl-26 -m-27 vll+-28 V-111-29 v-m-34 General formula (Vl)-I p.

〔一般式(Vl)−1式中、  R、、R2はアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基を表R6R+は水素原子又は置換基を表す。
[In the general formula (Vl)-1, R, , R2 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R6R+ represents a hydrogen atom or a substituent.

される基を少くとも一つを含む基である。Rは水素原子
又はアルキル基を表し、XはOlS又はNH基を表し、
Yは水素原子又はOH基を表し、nは2以上の整数を表
す。
A group containing at least one group. R represents a hydrogen atom or an alkyl group, X represents an OlS or NH group,
Y represents a hydrogen atom or an OH group, and n represents an integer of 2 or more.

R、、R2,R3,R、で連結して環を形成してもよい
。R、、R2で表されるアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、ヘテロ環基としては、一般式
CI)のRl、R2,Rhと同様の基で説明したものと
同しものか挙げられる。
R,, R2, R3, and R may be connected to form a ring. Examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group represented by R, R2 include the same as those explained for Rl, R2, and Rh in general formula CI). It will be done.

R3で表される基のうち置換基としては、例えはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテ
ロ環基、ア/ル基、スルホニル基、オキシカルボニル基
、カルバモイル基等が挙げられる。
Examples of substituents among the groups represented by R3 include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, aryl groups, sulfonyl groups, oxycarbonyl groups, and carbamoyl groups.

R3で表される置換基のうち、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基としては、
一般式〔■〕のR、、R2,R3で説明したのと同様の
基が挙げられる。
Among the substituents represented by R3, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, and heterocyclic groups include:
Examples include the same groups as explained for R, , R2, and R3 in the general formula [■].

アシル基としては、アセチル、ベンゾイル等が挙げられ
、スルホニル基としては、メタンスルホニル、トルエン
スルホニル等か挙けられ、オキシカルボニル基としては
、エトキンカルボニル、フェノキ7カルボニル等か挙げ
られ、カルバモイル基としでは、メチルカルバモイル、
フェニルカルバモイル等か挙げられる。
Examples of the acyl group include acetyl, benzoyl, etc.; examples of the sulfonyl group include methanesulfonyl, toluenesulfonyl, etc.; examples of the oxycarbonyl group include etquin carbonyl, phenoxy7carbonyl, etc.; So, methylcarbamoyl,
Examples include phenylcarbamoyl.

Rl、R2,R3,Rlで形成される環としては、ピペ
リジン、モルホリノン等の環が挙げられる。
Examples of the ring formed by Rl, R2, R3, and Rl include rings such as piperidine and morpholinone.

Rて表される基のうちアルキル基はメチル、エヂル等で
あり、メチル基か好ましい。〕以下に一般式〔Vl)−
Iで表される化合物の具体例を挙げる。
Among the groups represented by R, the alkyl group is methyl, edyl, etc., and the methyl group is preferred. ] Below is the general formula [Vl)-
Specific examples of the compound represented by I will be given below.

Vl−1−1 1−I−3 1l−4 l113− Vl−l−5 1−I−6 Vl−1−7 T−I−8 Vl−1−9 VI−I−10 −1:14− VT−T −11 VT−I−12 Vl−T〜13 Vl−I−14 VT−■15 Vl−I−16 Vl−Ti7 Vl−I−18 Vl−I−19 VT−I−20 Vl−I−21 VT−I−22 ■−I−23 Vll−I−24 Vl−I−25 Vl−1−26 Vl−1−27 VT−I−28 VT−1−29 Vl−1−30 Ul+ Vl−I−31 ■−1−32 vr−T−33 Vl−I−34 VT−I−35 vr−I−36 ■−f−37 Vl−T−38 Vl−I−39 Vl−1−40 ■〜l−41 Vl−1−42 UI′I ■−■−43 Vl−T−44 ll11− 一般式1:VI)−11 〔一般式1:VI]−It式中、R、、R2は水素原子
、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基を 表し、R、、R2,Tで環を形成しても良い。TはI 
 又はイCH2−CH−CH2−0牙 で表される基イ
CH2−CH−X汁     I を少くとも1つ含む基である。Rは水素原子又はアルキ
ル基を表し、Xi:tO,S又はNH基を表し、Yは水
素原子又はOH基を表し、nは2以」二の整数を表す。
Vl-1-1 1-I-3 1l-4 l113- Vl-l-5 1-I-6 Vl-1-7 T-I-8 Vl-1-9 VI-I-10 -1:14- VT-T -11 VT-I-12 Vl-T~13 Vl-I-14 VT-■15 Vl-I-16 Vl-Ti7 Vl-I-18 Vl-I-19 VT-I-20 Vl-I -21 VT-I-22 ■-I-23 Vll-I-24 Vl-I-25 Vl-1-26 Vl-1-27 VT-I-28 VT-1-29 Vl-1-30 Ul+ Vl- I-31 ■-1-32 vr-T-33 Vl-I-34 VT-I-35 vr-I-36 ■-f-37 Vl-T-38 Vl-I-39 Vl-1-40 ■~ l-41 Vl-1-42 UI'I ■-■-43 Vl-T-44 ll11- General formula 1: VI)-11 [General formula 1: VI]-It In the formula, R,, R2 are hydrogen atoms , represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R, , R2, and T may form a ring. T is I
Alternatively, it is a group containing at least one group represented by CH2-CH-CH2-0. R represents a hydrogen atom or an alkyl group, Xi represents a tO, S or NH group, Y represents a hydrogen atom or an OH group, and n represents an integer of 2 or more.

但しRか水素原子の時、XはS又はN H基を表すもの
とする。R,、R2で表される基のうちアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基と
しては一般式〔■〕のRo。
However, when R is a hydrogen atom, X represents an S or NH group. Among the groups represented by R, and R2, the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heterocyclic group include Ro of the general formula [■].

R2,R3で説明したものと同様の基か挙げられる。Examples include the same groups as those explained for R2 and R3.

R,、R2,Tで形成される環としてはピペリンン、モ
ルホリン、キヌクリジン、ピラゾリジン等のへテロ環が
挙げられる。Rで表されるアルキル基としてはメチル、
エチル等の基でありメチル基か好ましい。〕 以下に一般式[Vl)−Itで表される化合物の具体例
を挙ける。
Examples of the ring formed by R,, R2, and T include heterocycles such as piperine, morpholine, quinuclidine, and pyrazolidine. The alkyl group represented by R is methyl,
A group such as ethyl, preferably a methyl group. ] Specific examples of the compound represented by the general formula [Vl)-It are listed below.

Vl−II−1 VT−11−1 Vl−11−3 VI−11−4 Vl−11−5 1−H−6 CHI         C8I II C5H,、NH(CH2−CH−0)、0−CI+2−
CHNHC,l(、、1−n−7 Vl−I[−8 Vl−n−9 Vl−II−10 Vl−11−11 Vl−II−12 Vl−11−13 VT−II−14 r+4− ■ CH3 VT−I[15 b15− VT−11−16 VT−I[−17 Vl−11−18 Vl−1119 Vl−11−20 146一 Vl−11−21 Vl−It−22 Vl−11−23 C5H,□NH(CH3CH−CH20)+2HH VI−H−26 ’JI−H−27 Vl−II−29 ■〜■−30 VT−II−31 VJ−11−32 CH3 C8H,7NH(CH2−CH−0)+t(CH2CH
−CH20)20HH Vl−11−33 r+4− Vl−IT−34 J11 VI−11−35 l119− VT−■−36 r1]6 し113 VI−11−37 Vl−11−38 VI−11−39 Vl−II−40 H ■−It−41 Vlt−11−42 Vl−H−43 C,H17NH(CH2CH2SH)、6HVl−11
−44 VT−11−45 ■−11−46 vr−H−47 vr−11−48 Vl−71−49 C6H,3NH(CH2CH2S) 、□−CH2CH
2NHC6H13Vl−H−50 Vl−I[−52 Vl−11−53 CH−C−CH2NH(CH2CH2S)2.−CH2
CH2NHCH2−CミCHVT−H−54 H30HI Vl−11−55 Vl−11−56 Vl−IT−,57 Vl−IT−58 Vl−II−59 Vl−II−60 vr−n−61 Vl−It−62 CsH++NH(CH2CH2CH20)+J■−11
−63 Vl−11−64 Vl−11−65 VI−II−66 Vl−11−67 Vl−II−68 一般式(vB−m 〔一般式[:VI:]−11I式中、R,、R2は水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、ヘテロ環基を表 し、R,、R2,Gで環を形成しても良い。
Vl-II-1 VT-11-1 Vl-11-3 VI-11-4 Vl-11-5 1-H-6 CHI C8I II C5H,, NH (CH2-CH-0), 0-CI+2-
CHNHC,l(,,1-n-7 Vl-I[-8 Vl-n-9 Vl-II-10 Vl-11-11 Vl-II-12 Vl-11-13 VT-II-14 r+4- ■ CH3 VT-I[15 b15- VT-11-16 VT-I[-17 Vl-11-18 Vl-1119 Vl-11-20 146-Vl-11-21 Vl-It-22 Vl-11-23 C5H ,□NH(CH3CH-CH20)+2HH VI-H-26 'JI-H-27 Vl-II-29 ■〜■-30 VT-II-31 VJ-11-32 CH3 C8H,7NH(CH2-CH-0 )+t(CH2CH
-CH20) 20HH Vl-11-33 r+4- Vl-IT-34 J11 VI-11-35 l119- VT-■-36 r1]6 Shi113 VI-11-37 Vl-11-38 VI-11-39 Vl -II-40 H ■-It-41 Vlt-11-42 Vl-H-43 C, H17NH (CH2CH2SH), 6HVl-11
-44 VT-11-45 ■-11-46 vr-H-47 vr-11-48 Vl-71-49 C6H,3NH (CH2CH2S), □-CH2CH
2NHC6H13Vl-H-50 Vl-I[-52 Vl-11-53 CH-C-CH2NH(CH2CH2S)2. -CH2
CH2NHCH2-CmiCHVT-H-54 H30HI Vl-11-55 Vl-11-56 Vl-IT-,57 Vl-IT-58 Vl-II-59 Vl-II-60 vr-n-61 Vl-It- 62 CsH++NH(CH2CH2CH20)+J■-11
-63 Vl-11-64 Vl-11-65 VI-II-66 Vl-11-67 Vl-II-68 General formula (vB-m [General formula [:VI:]-11I in the formula, R,, R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R,, R2, and G may form a ring.

Gはf:cH2cH20Thで表される基を少くとも1
つ含み、かつ疎水性置換基定数π値か−0,5〜−10
の置換基を少くとも2つ含むか又はπ値が−1,0より
小の置換基を少くとも1つ含むものとする。nは2以上
の整数を表す。R、、R2で表される基のうちアルキル
、アルケニル、アルキニル、アルール、ヘテロ環の6基
としては一般式(1)のR1,R2゜R3で説明したの
と同様の基か挙げられる。
G is at least 1 group represented by f:cH2cH20Th
and hydrophobic substituent constant π value -0,5 to -10
or at least one substituent having a π value of less than -1.0. n represents an integer of 2 or more. Among the groups represented by R, and R2, the six groups of alkyl, alkenyl, alkynyl, allul, and heterocycle include the same groups as explained for R1, R2°R3 in general formula (1).

R、、R2,Gで形成される環としては例えはピペリジ
ン、キヌクリジン、モルホリン等の環か挙けられる。
Examples of the ring formed by R, , R2, and G include rings such as piperidine, quinuclidine, and morpholine.

疎水性置換基定数πについては薬物の構造活性相関(南
江堂)P79〜P 103 (昭和54年)に記載され
ている。
The hydrophobic substituent constant π is described in Structure-Activity Relationships of Drugs (Nankodo) P79-P103 (1978).

π値か−05〜−1,0の置換基としては例えは置換基
としては例えは−CONH2,−CONHOH,−CO
NHCH。
Examples of substituents with a π value of -05 to -1,0 include -CONH2, -CONHOH, -CO
NHCH.

−NH2,−NIiCONH2,−NHC3NH2,−
NH302CH3,−NO(CH3)3. −〇” 。
-NH2, -NIiCONH2, -NHC3NH2, -
NH302CH3, -NO(CH3)3. −〇”.

0CONH2,503゜、  5O2N+(2,5OC
H3,5O2CH3,CooO等の基か挙げられる。〕 以下に一般式[:V’1)−IITで表される化合物の
具体例を挙ける。
0CONH2,503°, 5O2N+(2,5OC
Examples include groups such as H3, 5O2CH3, and CooO. ] Specific examples of the compound represented by the general formula [:V'1)-IIT are listed below.

Vl−1n−1 VT−IIT−2 Vl−111−3 VT−111−4 Vl−111−5 1−I−6 CH2=CHCH2NH−(CH2CH20)6cH2
cOOKVl−111−7 VI−I[1−8 Vl−l−9 Vl−I[1−10 Vl−111−11 VI −Ill−12 「 C)13 Vl −lll−1,3 ■ H3 Vl−IIT−14 Vl−Ill−15 Vl−111−16 ■−111−17 VT−1’1l−18 Vl−Tll−19 VI−II[−20 Na Vl−111−21 ■−m−22 Vl−111−23 Vl−I[1−24 ■−1[1−28 VI−I[[−29 Vl−m−30 すNa Vl−I[+−31 Na ■−m−32 VT−117−33 Vl−111−34 Vl−III−35 VI−111−37 本発明を適用した高コントラスト ことかできるハロゲン化銀写真感光材料中には、上記一
般式〔A〕及び〔B〕で表されるヒドラジン化合物か少
なくとも1種か含有されるか、該写真感光材料に含まれ
る一般式CA )、  C B 〕の化合物の量は、写
真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当たり5
 X 10−’モル−5 X to−’モルであること
か好ましい。
Vl-1n-1 VT-IIT-2 Vl-111-3 VT-111-4 Vl-111-5 1-I-6 CH2=CHCH2NH-(CH2CH20)6cH2
cOOKVl-111-7 VI-I[1-8 Vl-l-9 Vl-I[1-10 Vl-111-11 VI -Ill-12 "C)13 Vl -llll-1,3 ■ H3 Vl-IIT -14 Vl-Ill-15 Vl-111-16 ■-111-17 VT-1'1l-18 Vl-Tll-19 VI-II[-20 Na Vl-111-21 ■-m-22 Vl-111- 23 Vl-I[1-24 ■-1[1-28 VI-I[[-29 Vl-m-30 Na Vl-I[+-31 Na ■-m-32 VT-117-33 Vl-111 -34 Vl-III-35 VI-111-37 The silver halide photographic material to which the present invention is applied and which can be said to have high contrast contains at least one of the hydrazine compounds represented by the above general formulas [A] and [B]. The amount of the compound of the general formula CA ), C B ] contained in the photographic light-sensitive material is 5% per mole of silver halide contained in the photographic light-sensitive material.
It is preferable that X 10-' mol-5 X to-' mol.

特に5 X 10−6モル〜IXIO−2モルの範囲と
することか好ましい。
In particular, it is preferable to range from 5 x 10-6 mol to IXIO-2 mol.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、少なくども一層
のハロゲン化銀乳剤層を有する。すなわちハロゲン化銀
乳剤層は、支持体の片面に少なくとも一層設けられてい
ることもあるし、支持体の両面に少なくとも一層設けら
れていることもある。
The silver halide photographic material of the present invention has at least one silver halide emulsion layer. That is, at least one silver halide emulsion layer may be provided on one side of the support, or at least one silver halide emulsion layer may be provided on both sides of the support.

そして、このハロゲン化銀乳剤は支持体上に直接塗設さ
れるか、或は他の層例えはハロゲン化銀乳剤を含まない
親水性コロイド層を介して塗設されることかでき、更に
ハロゲン化銀乳剤層の上には、保護層としての親木性コ
ロイド層を塗設してもよい。又ハロゲン化銀乳剤層は、
異なる感度、例えは高感度及び低感度の各ハロゲン化銀
乳剤層に分けて塗設してもよい。この場合、各ハロゲン
化銀乳剤層の間に、中間層を設けてもよい。すなわち必
要に応して親水性コロイドから成る中間層を設(プても
よい。又ハロゲン化銀乳剤層と保護層との間に、中間層
、保護層、アンチハレー732層、バンキング層なとの
非感光性親水性コロイド層を設けてもよい。
This silver halide emulsion can be coated directly on the support, or it can be coated via another layer, such as a hydrophilic colloid layer that does not contain the silver halide emulsion, and further coated with the halogen emulsion. A wood-philic colloid layer may be coated on the silver emulsion layer as a protective layer. In addition, the silver halide emulsion layer is
Silver halide emulsion layers having different sensitivities, for example high sensitivity and low sensitivity, may be coated separately. In this case, an intermediate layer may be provided between each silver halide emulsion layer. That is, if necessary, an intermediate layer made of a hydrophilic colloid may be provided. Also, an intermediate layer, a protective layer, an anti-halation 732 layer, a banking layer, etc. may be provided between the silver halide emulsion layer and the protective layer. A non-photosensitive hydrophilic colloid layer may also be provided.

一般式CA〕,l:B)、(f)〜[’VT]で表され
る化合物は本発明のハロゲン化銀写真感光材料中のハロ
ゲン化銀乳剤層又は該ハロゲン化銀乳剤層に隣接する親
水性コロイド層に含有させる。
The compound represented by the general formula CA], l:B), (f) to ['VT] is present in the silver halide emulsion layer or adjacent to the silver halide emulsion layer in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention. Contained in the hydrophilic colloid layer.

次に本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲ
ン化銀について説明する。ハロゲン化銀としては、4モ
ル%以下の沃化銀、好ましくは3モル%以下の沃化銀を
含む塩沃臭化銀、もしくは沃臭化銀である。このハロゲ
ン化銀の粒子の平均径は0.05〜0.5μmの範囲の
ものか好ましく用いられるか、中ても010〜0.40
μmのものか好適である。
Next, the silver halide used in the silver halide photographic material of the present invention will be explained. The silver halide is silver chloroiodobromide or silver iodobromide containing 4 mol % or less of silver iodide, preferably 3 mol % or less of silver iodide. The average diameter of the silver halide grains is preferably in the range of 0.05 to 0.5 μm, particularly in the range of 0.10 to 0.40 μm.
Preferably, the diameter is μm.

本発明で用いるハロゲン化銀粒子の粒径分布は任意であ
るが、以下定義する単分散度の値か1〜30のものが好
ましく、更に好ましくは5〜20の範囲となるように調
整する。
Although the grain size distribution of the silver halide grains used in the present invention is arbitrary, it is preferably adjusted to have a monodispersity value of 1 to 30, more preferably 5 to 20, as defined below.

ここで単分散度は、粒径の標準偏差を平均粒径で割った
値を100倍した数値として定義されるものである。な
おハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜上、立方晶粒子の場
合は稜長で表し、その他の粒子(8面体、14面体等)
は、投影面積の平方根で算出する。
Here, the monodispersity is defined as the value obtained by dividing the standard deviation of particle diameter by the average particle diameter times 100. For convenience, the grain size of silver halide grains is expressed by the edge length in the case of cubic grains, and is expressed by the edge length for other grains (octahedral, tetradecahedral, etc.).
is calculated by the square root of the projected area.

本発明を実施する場合、例えばハロゲン化銀の粒子とし
て、その構造が少なくとも2層の多層積層構造を有する
タイプのものを用いることができ、例えばコア部に沃臭
化銀、シェル部が臭化銀である沃臭化銀粒子から成るも
のを用いることかできる。このとき、沃素を任意の層に
5モル%以内で含有させることができる。
When carrying out the present invention, for example, silver halide grains having a multilayer structure of at least two layers can be used, for example, silver iodobromide in the core and bromide in the shell. It is also possible to use silver iodobromide grains, which are silver. At this time, iodine can be contained in any layer within 5 mol%.

本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩(を含む錯塩)、ロジウム塩(を含む銘塩)及び鉄
塩(を含む錯塩)から選ばれる少なくとも1種を用いて
金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子表面に
これらの金属元素を含有させることかでき、また適当な
還元的雰囲気におくことにより、粒子内部及び/又は粒
子表面に還元増感該を付与できる。
The silver halide grains used in the silver halide emulsion of the present invention are formed by cadmium salt, zinc salt, lead salt, thallium salt, iridium salt (complex salts containing), rhodium salt, Metal ions can be added using at least one selected from salts (including famous salts) and iron salts (complex salts including) to contain these metal elements inside the particles and/or on the surface of the particles, Further, by placing the particles in a suitable reducing atmosphere, reduction sensitization can be imparted to the inside of the particles and/or to the particle surfaces.

更に又、ハロゲン化銀は種々の化学増感剤によって増感
することかできる。その増感剤として、例えは、活性ゼ
ラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソータ、アリルチオカル
バミド、チオ尿素、アリルイソチアンネート等)、セレ
ン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素、セレノ尿素等
)、還元増感剤(i・リエチレンテトラミン、塩化銀l
スズ等)、例えはカリウムクロロオーライト、カリウム
オーリチオンアネート、カリウムクロロオーレート、2
−オーロスルホベンゾチアソールメチルクロライド、ア
ンモニウムクロロパラデー1− 、カリウムクロロブラ
チ不一ト、ナトリウムクロロバラダイト等で代表される
各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、或は2種以上併
用して用いることかできる。
Furthermore, silver halides can be sensitized with various chemical sensitizers. Examples of sensitizers include activated gelatin, sulfur sensitizers (sorta thiosulfate, allylthiocarbamide, thiourea, allyl isothyanate, etc.), selenium sensitizers (N,N-dimethylselenourea, selenourea etc.), reduction sensitizers (I, lyethylenetetramine, silver chloride,
tin, etc.), such as potassium chlorooleite, potassium aurithionanate, potassium chlorooleate, 2
- Various noble metal sensitizers represented by aurosulfobenzothiazole methyl chloride, ammonium chloroparade 1-, potassium chlorobratate, sodium chlorovaladite, etc. can be used alone or in combination of two or more. It can be used as

なお金増感剤を使用する場合は助剤的にロダンアンモン
を使用することもできる。
When using a metal sensitizer, rhodanammonium can also be used as an auxiliary agent.

本発明に用いるハロゲン化銀粒子は、内部の感度より表
面感度の高い粒子、謂ゆるイ・力画像な与えるハロゲン
化銀粒子に好ましく適用することかできるので上記化学
増感剤で処理することにより性能を高めることができる
The silver halide grains used in the present invention can be preferably applied to grains whose surface sensitivity is higher than that of their internal sensitivity, so-called silver halide grains that give a strong image. Performance can be improved.

又、本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、メルカプ
ト類(1−フェニル−5−メルカプ[・テ]・ラゾール
、2−メルカプトベンツチアゾール)、ベンツトリアゾ
ール類(5−ブロムベンゾトリアソール−5−メチルベ
ンゾトリアソール)、ベンツイミダゾール類(6−ニド
ロペンツイミダゾール)、インダゾール類(5−ニトロ
インダゾール)などを用いて安定化又はカブリ抑制を行
うことができる。
Further, the silver halide emulsion used in the present invention includes mercapto compounds (1-phenyl-5-mercap[·te]razole, 2-mercaptobenzthiazole), benztriazoles (5-brombenzotriazole-5- Stabilization or fog suppression can be performed using methylbenzotriazole), benzimidazoles (6-nidropentzimidazole), indazoles (5-nitroindazole), and the like.

感光性ハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層には、感度上
昇、コントラスト上昇又は現像促進の目的で、リザーチ
・ディスクロージャー (ResearchDiscl
ousure) 17463号のxxr項B−D項に記
載されている化合物を添加することができる。
The photosensitive silver halide emulsion layer or its adjacent layer contains a Research Disclosure for the purpose of increasing sensitivity, increasing contrast, or promoting development.
17463, xxr, B-D can be added.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤には、増感色素、
可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、硬膜剤なとを加える
こともてきる。
The silver halide emulsion used in the present invention includes a sensitizing dye,
Plasticizers, antistatic agents, surfactants, hardeners, etc. can also be added.

本発明に係る一般式の化合物を親水性コロイド層に添加
する場合、該親水性コロイド層のバインダーとしてはゼ
ラチンか好適であるが、ゼラチン以外の親水性コロイド
も用いることかできる。これらの親水性バインターは支
持体の両面にそれぞれlOg/m2以下で塗設すること
が好ましい。
When the compound of the general formula according to the present invention is added to a hydrophilic colloid layer, gelatin is suitable as the binder for the hydrophilic colloid layer, but hydrophilic colloids other than gelatin can also be used. These hydrophilic binders are preferably coated on both sides of the support at an amount of 1Og/m2 or less.

本発明の実施に際して用い得る支持体としては、例えは
バライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成
紙、ガラス板、セルロースアセテート、セルロースナイ
トレート、例えはポリエチレンテレフタレートなとのポ
リエステルフィルムを挙げることかできる。これらの支
持体は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的
に応して適宜選択される。
Supports that can be used in the practice of the present invention include, for example, baryta paper, polyethylene-coated paper, polypropylene synthetic paper, glass plates, cellulose acetate, cellulose nitrate, and polyester films such as polyethylene terephthalate. These supports are appropriately selected depending on the intended use of the silver halide photographic material.

本発明のハロゲン化銀写真感光材料を現像処理するには
、例えは以下の現像主薬か用いられる。
For developing the silver halide photographic material of the present invention, the following developing agents may be used, for example.

HO−(CH= CH)n −OH型現像主薬の代表的
なものとしては、ハイドロキノンかあり、その他にカテ
コール、ピロガロールなとかある。
Typical HO-(CH=CH)n-OH type developing agents include hydroquinone, and others include catechol and pyrogallol.

又、HO−(CH= CH)n  NH2型現像剤とし
ては、オルト及びパラのアミノフェノール又アミノピラ
ゾロンか代表的なもので、N−メチル−p−アミノフェ
ノール、N−β−ヒドロギンエチル−p−アミノフェノ
ール、p−ヒドロキンフェニルアミノ酢酸、2−アミノ
ナフト−ル等かある。
Typical HO-(CH=CH)n NH2 type developers include ortho and para aminophenol or aminopyrazolone, N-methyl-p-aminophenol, N-β-hydrogynethyl- Examples include p-aminophenol, p-hydroquinphenylaminoacetic acid, and 2-aminonaphthol.

ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4,4−ジメチルー3−ビラソ
リトン、■−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、l−7エニルー4−メチル−
4−ヒドロキンメチル−3−ビラソリトンのような3−
ピラゾリドン類等を挙げることができる。
Examples of the heterocyclic developer include l-phenyl-3-pyrazolidone, ■-phenyl-4,4-dimethyl-3-birasoliton, ■-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, l-7enyl-4-methyl −
3- such as 4-hydroquinemethyl-3-virasoliton
Examples include pyrazolidones and the like.

その他、T、H,ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of the Photographic P
rocess。
Other books include The Theory of the Photographic Process, 4th edition, by T. H. James.
ory of the Photographic P
rocess.

Fourth Edition)第291−334頁及
びジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミノノル・ソ
ザエティ(Journal  of  the  Am
erican  Chemical  5ociety
)第73巻、第3.100頁(1951)に記載されて
いるごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るものであ
る。
Fourth Edition, pp. 291-334 and Journal of the American Chemistry Society.
erican Chemical 5ociety
) Vol. 73, p. 3.100 (1951) can be effectively used in the present invention.

これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせ
てもよいか、2種以上を組み合わせて用いる方か好まし
い。
These developers may be used alone or in combination of two or more types, or it is preferable to use two or more types in combination.

又、本発明の感光材料の現像に使用する現像液には保恒
剤として、例えは亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ等の亜硫酸
塩を用いても、本発明の効果か損なわれることはない。
Further, even if a sulfite salt such as sodium sulfite or potassium sulfite is used as a preservative in the developer used for developing the photosensitive material of the invention, the effects of the invention will not be impaired.

又、保恒剤としてヒドロキンルアミン、ヒドラジド化合
物を用いてもよい。
Furthermore, hydroquineluamine and hydrazide compounds may be used as preservatives.

その他一般白黒現像液て用いられるような苛性アルカリ
、炭酸アルカリ又はアミンなどによるpHの調整とバッ
ファー機能をもたせることかできる。
In addition, pH adjustment and buffer functions can be provided using caustic alkali, carbonate alkali, or amine, which are used in general black and white developing solutions.

本発明に用いられる現像液はpH11未満のものか使用
できることか特徴である。又、現像液にはブロムカリな
と無機現像抑制剤及び5−メチルベンツトリアソール、
5−メチルベンツトリアソール、5−二l・ロインダゾ
ール、アデニン、グアニン、]−]フェニルー5−メル
カプトチ]ラソールなとの有機現像抑制剤、エチレンジ
アミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メタノール、エタ
ノール、ペンシルアルコール、ポリアルキレンオキンド
等の現像促進剤、アルキルアリールスルホン酸すトリウ
ム、天然のサポニン、糖類又は前記化合物のアルキルエ
ステル物等の界面活性剤、グルタルアルデヒド、ホルマ
リン、グリオキザール等の硬膜剤、硫酸ナトリウム等の
イオン強度調整剤等の添加を行うことは任意である。
The developer used in the present invention is characterized in that it can be used if it has a pH of less than 11. In addition, the developer contains bromopotash, an inorganic development inhibitor, 5-methylbenztriazole,
Organic development inhibitors such as 5-methylbenztriazole, 5-2l-loindazole, adenine, guanine, ]-]phenyl-5-mercaptothi]rasol, metal ion scavengers such as ethylenediaminetetraacetic acid, methanol, ethanol, Development accelerators such as pencil alcohol and polyalkylene oxide; surfactants such as sodium alkylarylsulfonate, natural saponins, sugars or alkyl esters of the above compounds; hardeners such as glutaraldehyde, formalin, and glyoxal; It is optional to add an ionic strength adjusting agent such as sodium sulfate.

本発明において使用される現像液には、有機溶媒として
ジェタノールアミンやトリエタノールアミン等のアルカ
ノールアミン類やジエチレングリコール、トリエヂレン
グリコール等のグリコール類を含有させてもよい。また
ジエチルアミン−1,2−プロパンジオール、ブチルア
ミツブロバノール等のアルキルアミノアルコール類は特
に好ましく用いることができる。
The developer used in the present invention may contain alkanolamines such as jetanolamine and triethanolamine, and glycols such as diethylene glycol and triethylene glycol as organic solvents. Furthermore, alkylamino alcohols such as diethylamine-1,2-propanediol and butyramitubrobanol can be particularly preferably used.

〔実施例〕〔Example〕

以下に本発明の具体的実施例全速べるか、本発明の実施
の態様はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the present invention will be described below, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

(ハロゲン化銀写真乳剤Aの調製) 同時混合法を用いて沃臭化銀乳剤(銀1モル当たり沃化
銀2モル%)を調製した。この混合時にに21rCff
6を銀1モル当たり8X 10−’モル添加した。
(Preparation of Silver Halide Photographic Emulsion A) A silver iodobromide emulsion (2 mol % of silver iodide per 1 mol of silver) was prepared using a simultaneous mixing method. At the time of this mixing, 21rCff
6 was added at 8X 10-' moles per mole of silver.

得られた乳剤は平均粒径0.20μmの立方体単分散粒
子(変動係数9%)からなる乳剤であった。この乳剤に
変成セラチン(特願平1−180787号の例示化合物
G−8)を加え、特願平1−180787号の実施例1
ど同様の方法で、水洗、脱塩した。引き続きこの乳剤に
、銀1モル当たり0.1モル%の沃化カリウム水溶液を
添加して粒子表面のコンバージョンを行い、その後本発
明の化合物〔N〕を表−1に示すように添加して乳剤A
を得た。脱塩後の40°CのI)Agは8.0であった
The resulting emulsion was composed of cubic monodisperse grains (coefficient of variation 9%) with an average grain size of 0.20 μm. Modified seratin (exemplified compound G-8 of Japanese Patent Application No. 1-180787) was added to this emulsion, and Example 1 of Japanese Patent Application No. 1-180787 was added.
Washed with water and desalted in the same manner. Subsequently, a potassium iodide aqueous solution of 0.1 mol % per mol of silver was added to this emulsion to convert the grain surface, and then the compound [N] of the present invention was added as shown in Table 1 to form an emulsion. A
I got it. I)Ag at 40°C after desalting was 8.0.

(ハロゲン化銀写真感光材料の調製) 両面に厚さ0.1μmの下塗層(特開平2−12145
号の実施例1参照)を施した厚さ100μmのポリエチ
レンテレフタレートフィルムの一方の下塗層上に、下記
処方(1)のハロゲン化銀乳剤層をセラチン量が2.0
g/m2、銀量が3.2g/m2になる様に塗設し、更
にその上に下記処方(2)の乳剤保護層をセラチン量が
1.og/m2になる様に塗設し、又反対側のもう一方
の下塗層上には下記処方(3)に従ってバッキング層を
ゼラチン量か2’、4g/m2になる様に塗設し、更に
その上に下記処方(4)のノー・ノキング保護層をゼラ
チン量がl g/m2になる様に塗設して試料No、1
−18を得た。
(Preparation of silver halide photographic light-sensitive material) Undercoat layer with a thickness of 0.1 μm on both sides (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-12145
A silver halide emulsion layer having the following formulation (1) was coated on one undercoat layer of a 100 μm thick polyethylene terephthalate film coated with a polyethylene terephthalate film having a seratin content of 2.0.
g/m2, silver amount is 3.2 g/m2, and on top of that, an emulsion protective layer of the following formulation (2) is applied with a seratin amount of 1.2 g/m2. og/m2, and on the other undercoat layer on the opposite side, apply a backing layer according to the following recipe (3) so that the amount of gelatin is 2', 4g/m2, Furthermore, a no-knocking protective layer of the following formulation (4) was applied on top of it so that the amount of gelatin was 1 g/m2, and Sample No. 1 was prepared.
-18 was obtained.

処方(1)(ハロゲン化銀乳剤層組成)ゼラチン   
          2.0g/m2ハロゲン化銀乳剤
A 銀量      3.2g/m2増感色素: 安定剤:4−メチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a、
7−チトラザインデン          30mg/
m2ツノブリ防止剤:アデニンlomg/m21−7エ
ニルー5−メル カプトテトラゾール 5mg/m2 界面活性剤 ザボニン       O,1g/m2:
 S −18mg/m2 本発明に係るヒトランン誘導体 表1に示ず量ラテック
スポリマー: ポリエチレングリコール分子量4000 0.1g/m
2処方(2)〔乳剤保護層組成〕 セラチン             0.9g/m2界
面活性剤・S−2 03Na 界面活性剤:S−3 マント剤・平均粒径3.5Izmの単分散/リカ3mg
/n+2 硬膜剤:1.3−ビニルスルホニル−2=プロパツール
       40mg/m2処方(3)(バッキング
層組成) ゼラチン             2−4 g / 
m 2界面活性剤:サポニン       0.1g/
m2: S −16mg/m2 コロイタルシリカ         loomg/m2
処方(4)〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン               Ig/m2マ
ット剤:平均粒径5.0μmの単分散ポリメチルメタク
リート  50mg/m2界面活性剤: S −210
mg/m2硬膜剤:グリオキザール       25
mg/m2: H−135mg/m2 得られた試料を、ステンプウエッジを密着し、3200
にのタングステン光で5秒間露光した後、下記に示す組
成の現像液l及び定着液投入した迅速処理用自動現像機
にて下記条件で処理を行った。
Prescription (1) (Silver halide emulsion layer composition) Gelatin
2.0 g/m2 Silver halide emulsion A Silver amount 3.2 g/m2 Sensitizing dye: Stabilizer: 4-methyl-6-hydroxy-1,3,3a,
7-Chitrazaindene 30mg/
m2 hornworm prevention agent: Adenine lomg/m21-7enyl-5-mercaptotetrazole 5mg/m2 Surfactant Zabonin O, 1g/m2:
S-18mg/m2 Human lan derivative according to the present invention Amount not shown in Table 1 Latex polymer: Polyethylene glycol Molecular weight 4000 0.1g/m
2 prescription (2) [Emulsion protective layer composition] Ceratin 0.9 g/m2 Surfactant S-2 03Na Surfactant: S-3 Mantle agent Monodisperse with average particle size 3.5 Izm/Rica 3 mg
/n+2 Hardener: 1.3-vinylsulfonyl-2=propatol 40mg/m2 formulation (3) (backing layer composition) Gelatin 2-4 g /
m 2 surfactant: saponin 0.1g/
m2: S -16mg/m2 coroital silica loomg/m2
Prescription (4) [Backing protective layer composition] Gelatin Ig/m2 Matting agent: Monodispersed polymethyl methacrylate with an average particle size of 5.0 μm 50 mg/m2 Surfactant: S-210
mg/m2 Hardener: Glyoxal 25
mg/m2: H-135mg/m2 The obtained sample was closely attached with a stamp wedge and heated at 3200
After exposure to tungsten light for 5 seconds, processing was carried out under the following conditions using an automatic developing machine for rapid processing into which a developer l and a fixer having the composition shown below were introduced.

又得られた試料を23°C150%R11の条件で24
時間保存後密閉包装し、経時代用サーモ処理として55
°Cで3日間放置した。このサーモ処理した試料を同様
に露光、現像、定着処理を行った。
In addition, the obtained sample was heated at 23°C, 150% R11 for 24 hours.
After storage for a period of time, it is sealed and packaged for 55 minutes as a thermal treatment for aging.
It was left at °C for 3 days. This thermo-treated sample was exposed, developed, and fixed in the same manner.

現像液処方1 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩   1g亜硫酸
ナトリウム           60gリン酸三ナト
リウム(12水塩)75gホウ酸          
      −ハイドロキノン           
225g水酸化すトリウム          8g臭
化すトリウム           3g5−メチルベ
ンゾトリアゾール     0.25g2−メルカプト
ベンツチアゾール    0.1g2−メルカブトベン
ソチアソ゛−ル−5−スルホン酸0.2g N・メチルp・アミノフェノールl/2硫H塩0.25
gn・ブチル・エタノールアミン     15.0g
フェニチルピコリニウムブロマイF   2 、5 g
水を加えて              10゜水酸化
ナトリウムにてpH調整     10.4定着液処方 (fl成A) ヂオ硫酸アンモニウム (725%W/V水溶液)          240
mff亜硫酸ナトリウム           17g
酢酸すl・リウム・3水塩        6.5g硼
酸                6.0gクエン酸
ナトリウム・2水塩      2.Og(組成り) 純水(イオン交換水)          17mQ硫
酸(50%W/Vの水溶液)        4.7g
硫酸アルミニウム          26.5g(A
l2O,換算含量か8.1%W / V (7)水溶液
)定着液の使用時に水500m0.中に上記組成A1組
成りの順に溶かし、IQに仕上げて用いた。この定着液
のpHは酢酸て48に調整した。
Developer formulation 1 Ethylenediaminetetraacetic acid sodium salt 1g Sodium sulfite 60g Trisodium phosphate (12 hydrate) 75g Boric acid
-Hydroquinone
225g Sodium hydroxide 8g Sodium bromide 3g 5-Methylbenzotriazole 0.25g 2-Mercaptobenzthiazole 0.1g 2-Mercaptobenzothiasol-5-sulfonic acid 0.2g N.Methyl p.Aminophenol l/2 Sulfur salt 0.25
gn・butyl・ethanolamine 15.0g
Phenitylpicolinium bromide F 2 , 5 g
Add water and adjust pH with 10° sodium hydroxide 10.4 Fixer formulation (fl composition A) Ammonium diosulfate (725% W/V aqueous solution) 240
mff sodium sulfite 17g
Sodium citrate dihydrate 6.5g Boric acid 6.0g Sodium citrate dihydrate 2. Og (composition) Pure water (ion exchange water) 17mQ sulfuric acid (50% W/V aqueous solution) 4.7g
Aluminum sulfate 26.5g (A
12O, equivalent content: 8.1% W/V (7) Aqueous solution) When using a fixer, 500 m0. The above-mentioned composition A1 was dissolved in the same order as above, finished to IQ, and used. The pH of this fixer was adjusted to 48 using acetic acid.

(現像処理条件) (工程)   (温度)   (時間)現像    3
8℃    15秒 定着    35°O15秒 水洗    30℃    10秒 乾燥    50°0    10秒 なお、処方(1)におけるハロゲン化銀乳剤層に添加し
た本発明にかかるヒドラジン誘導体の比較化合物として
は下記の(a)の化合物を添加した。
(Development processing conditions) (Process) (Temperature) (Time) Development 3
Fixing at 8°C for 15 seconds Washing at 35°C for 15 seconds Drying at 30°C for 10 seconds 50°C for 10 seconds The comparative compounds of the hydrazine derivative according to the present invention added to the silver halide emulsion layer in formulation (1) include the following (a) ) was added.

(a) R H 得られた現像処理済みの試料をコニhデジタル濃度計P
DA−65で測定し、試料No、1の濃度2.5におけ
る感度を100とした相対感度で示し、更に濃度0.1
と2.5との正接をもってカンマを表示した。6未満の
ガンマ値では使用不可能であり、6以上10未満のカン
マ値ではまだ不十分な硬調性能である。
(a) RH The obtained developed sample was measured using a digital densitometer P.
Measured with DA-65, expressed as relative sensitivity with the sensitivity of sample No. 1 at a concentration of 2.5 as 100, and further at a concentration of 0.1.
A comma is displayed with a tangent of and 2.5. A gamma value of less than 6 is unusable, and a comma value of 6 or more and less than 10 still provides insufficient high contrast performance.

ガンマ値10以上で超硬調な画像となり、十分に実用可
能どなる。
A gamma value of 10 or higher results in an ultra-high contrast image, making it fully practical.

又、未露光部の黒ボッも40倍のルーペを使って評価し
た。全く黒ボッの発生していないものを最高ランク「5
」とし、発生する黒ボッの発生度に応じてランク 「4
」、「3」、「2」、「1」とそのランクを順次下げて
評価するものとする。ランク「1」及び「2」では黒ボ
ッも実用上好ましくないレベルである。
In addition, black blemishes in unexposed areas were also evaluated using a 40x magnifying glass. The highest rank is ``5'' where there are no black spots at all.
”, and the ranking is “4” depending on the degree of occurrence of Black Bottle.
”, “3”, “2”, and “1”. At ranks "1" and "2", black spots are also at a practically unfavorable level.

−181= 表−1の結果から本発明の試料は経時でも増感ぜず、黒
ボンの発生か少なくかつ硬調であることがわかる。
-181= From the results in Table 1, it can be seen that the samples of the present invention do not become sensitized over time, have few black spots, and have high contrast.

実施例2 ハロゲン化銀乳剤層に本発明に係る造核促進剤を表2に
示す量添加した以外は実施例1と同様に行った。結果を
表−2に示す。
Example 2 The same procedure as in Example 1 was conducted except that the nucleation accelerator according to the present invention was added to the silver halide emulsion layer in the amount shown in Table 2. The results are shown in Table-2.

尚、ハロゲン化銀乳剤層に添加した造核促進剤の比較化
合物としては特開昭62−187340号に開示されて
いる下記の(b)の化合物を添加した。
As a comparative compound of the nucleation accelerator added to the silver halide emulsion layer, the following compound (b) disclosed in JP-A-62-187340 was added.

(b) 表−2の結果からも本発明の試料は比較に対し経時して
も増感かなく、黒ボッの発生か少なく且つ硬調であるこ
とかわかる。
(b) From the results in Table 2, it can be seen that the samples of the present invention did not become sensitized over time, had fewer black spots, and had high contrast compared to the comparison.

実施例3 下記現像液2に変えた以外は、実施例2と同様に行った
。結果を表−3に示す。
Example 3 The same procedure as Example 2 was carried out except that the following developer solution 2 was used. The results are shown in Table-3.

現像液処方2 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩  1g亜硫酸す
l・リウム           60gホウ酸   
            40gハイI・ロギノン  
          35g水酸化ナトリウム    
       8g臭化ナトリウム         
   3g5−メヂルベンゾトリアゾール     0
.2g2−メルカプトベンツチアゾール    0.1
g2−メルカプトベンツチアゾール−5−スルホン酸 
            0.2gj−フェニル−4,
4−ジメチル−3−ピラゾリドン          
    0.2g水を加えて            
  lQ水酸化す[・リウムにてpH調整    1O
15表−3の結果から本発明の試料は経時によっても増
感がなく、黒ボッの発生か少なく、かつ硬調であること
がわかる。
Developer formulation 2 Ethylenediaminetetraacetic acid sodium salt 1g Lithium sulfite 60g Boric acid
40g Hi-I Loginone
35g sodium hydroxide
8g sodium bromide
3g5-medylbenzotriazole 0
.. 2g2-Mercaptobenzthiazole 0.1
g2-mercaptobenzthiazole-5-sulfonic acid
0.2gj-phenyl-4,
4-dimethyl-3-pyrazolidone
Add 0.2g water
pH adjusted with lQ hydroxide, 1O
From the results in Table 15, it can be seen that the samples of the present invention do not undergo sensitization over time, have few black spots, and have high contrast.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により、低pHの現像液を使用しても経時による
増感、軟調化、黒ボッの増加等のない生保存性に優れた
ハロゲン化銀写真感光材料による画像形成法を提供する
ことができた。
According to the present invention, it is possible to provide an image forming method using a silver halide photographic light-sensitive material that has excellent shelf life without sensitization, softening of tone, increase in black spots, etc. over time even when a low pH developer is used. did it.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
を有し、該ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層中
にヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材
料において、下記一般式〔N〕で表される化合物の少な
くとも1種の化合物の存在下で処理されることを特徴と
する画像形成方法。 一般式〔N〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、R_3及びR_4は水素原子
、アルキル基、アリール基を表し、互いに異なっていて
も同一でもよく、又互いに結合して5〜7員環を形成し
てもよい。Xは−O−、−S−、▲数式、化学式、表等
があります▼を表し、R_3及びR_4はハロゲン原子
を表す。〕(2)pH11.0未満の現像液で処理され
ることを特徴とする請求項1記載の画像形成方法。 (3)ハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層中にア
ミン化合物、ヒドラジン化合物及び4級オニウム塩から
選ばれる少なくとも1種の造核促進化合物を含有するこ
とを特徴とする請求項1又は請求項2記載の画像形成方
法。
Scope of Claims (1) A silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer on a support and containing a hydrazine derivative in the silver halide emulsion layer and/or its adjacent layer. An image forming method, characterized in that processing is carried out in the presence of at least one compound represented by the following general formula [N]. General formula [N] ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. A 5- to 7-membered ring may be formed. X represents -O-, -S-, ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, and R_3 and R_4 represent halogen atoms. (2) The image forming method according to claim 1, wherein the image forming method is processed with a developer having a pH of less than 11.0. (3) At least one nucleation-promoting compound selected from amine compounds, hydrazine compounds, and quaternary onium salts is contained in the silver halide emulsion layer and/or its adjacent layer. Item 2. Image forming method according to item 2.
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