JPH04186320A - Liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal display element

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Publication number
JPH04186320A
JPH04186320A JP31687890A JP31687890A JPH04186320A JP H04186320 A JPH04186320 A JP H04186320A JP 31687890 A JP31687890 A JP 31687890A JP 31687890 A JP31687890 A JP 31687890A JP H04186320 A JPH04186320 A JP H04186320A
Authority
JP
Japan
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liquid crystal
film
polyamide resin
substrate
crystal display
Prior art date
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Pending
Application number
JP31687890A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Kimura
陽一 木村
Hiroshi Minamizawa
南沢 寛
Yoshihiro Nomura
好弘 野村
Koji Yoshida
吉田 功二
Yoshiyuki Mukoyama
向山 吉之
Takashi Morinaga
森永 喬
Hisao Yokokura
久男 横倉
Katsumi Kondo
克己 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form a film free from coloration at a relatively low temperature in a short time and suppress the influence applied to a substrate, color filter, transparent electrode, etc. and improve reliability by using the polyamide resin having specific repetitive units for the orientation control film. CONSTITUTION:The orientation control film of a liquid crystal element is constituted of the polyamide resin having the repetitive unit shown by the formula I. In the formula I, R' is a bivalent residual group which is the result of removing the amino group from diamine. R<2> is the straight chained or branched chained alkyl group having the number of carbon atoms of 1 - 30. This polyamide polymer can not be dissolved in liquid crystal and water, and this polymer is dissolved into a specific solvent, and applied on a substrate, and after heating drying, the orientation control film is obtained after rubbing. Accordingly, coloration is prevented, and the film having a high strength can be prepared at a relatively low temperature in a short time, and no influence is given to the substrate, color filter, transparent electric conductive film, etc., and the superior contrast and visual characteristic can be obtained without reducing yield, and the liquid crystal display element having the reliability for a long period free from the generation of the orientation disorder even after the heat treatment for a long period can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、液晶表示素子に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a liquid crystal display element.

(従来の技術) 従来、液晶の電気光学的な特性を利用した液晶表示素子
としては、誘電異方性をもつネマチック液晶を使用し電
場をかけて動的散乱効果を利用したDa型液晶表示素子
が利用されていた。しかし最近ではより作動電圧が低く
1表示機能向上が容易な、液晶分子i90[螺旋構造を
もつように配向したツイストネマチック(TN)液晶表
示素子に置換されてきている(特公昭51−13666
号公報)。このための配向制御膜の作製方法として。
(Prior art) Conventionally, as a liquid crystal display element that utilizes the electro-optical properties of liquid crystal, there has been a Da-type liquid crystal display element that uses a nematic liquid crystal with dielectric anisotropy and utilizes a dynamic scattering effect by applying an electric field. was being used. However, recently it has been replaced by twisted nematic (TN) liquid crystal display elements, which have liquid crystal molecules oriented in a spiral structure (Japanese Patent Publication No. 51-13666
Publication No.). As a method for producing an alignment control film for this purpose.

基板に二酸化ケイ素等の無機化合物からなる薄膜を斜方
蒸着する方法、基板に界面活性剤あるいは有機高分子の
膜を形成した後、これをラビング処理〔フェルト布等で
一定の方向に擦る〕する方法が知られている。
A method in which a thin film made of an inorganic compound such as silicon dioxide is obliquely deposited on a substrate, or a film of a surfactant or organic polymer is formed on the substrate and then rubbed (rubbed in a certain direction with a felt cloth, etc.). method is known.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら二酸化ケイ素等を斜方蒸着する方法は、大
面積で安定した配向制御膜をつけることは難しく、コス
ト的にも大量生産には適さないっポリイミド樹脂を用い
た配向制御H(%開昭51−65960号公報)は、#
剤に不溶で高い耐熱性を有し信頼性に優れた液晶表示素
子が得ら五るものの、樹脂そのものが黄褐色のために表
示品質が落ちる。また、イミド環の閉環縮合を完了させ
るために300℃以上で30分以上の熱処理を伴うので
、基板の変形、カラーフィルターの変色、透明導電膜の
抵抗値の上昇等の問題点がある。これらの問題音解決す
るために、閉環タイプの脂1式ポリイミド樹脂を用いる
液晶表示素子(特開昭63−205640号公報)が考
案されている。この液晶表示素子は、熱処理温度200
℃と低く、透明性にも優れているが、皮膜の硬度が低い
ためにラビングにより傷がつき1歩留まりを低下させる
という欠点がある。
(Problem to be solved by the invention) However, the method of obliquely vapor depositing silicon dioxide, etc. is difficult to apply a stable orientation control film over a large area, and is not suitable for mass production in terms of cost. Orientation control H (%Kokai No. 51-65960) was #
Although a highly reliable liquid crystal display element that is insoluble in the resin and has high heat resistance can be obtained, the display quality deteriorates because the resin itself is yellowish brown. Furthermore, since heat treatment is required at 300° C. or higher for 30 minutes or longer to complete the ring-closing condensation of the imide ring, there are problems such as deformation of the substrate, discoloration of the color filter, and increase in the resistance value of the transparent conductive film. In order to solve these problems, a liquid crystal display element (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-205640) using a ring-closed type aliphatic polyimide resin has been devised. This liquid crystal display element has a heat treatment temperature of 200
Although the film has a low hardness and is excellent in transparency, it has the disadvantage that it is scratched by rubbing and reduces the yield.

従って、不発明は、前記のような問題点を解決し、配向
制御膜が2着色がなく、比較的低温、短時間で成膜でき
、基板、カラーフィルター、透明電極等に影響を与える
ことがなく2歩留まりを低下することのない、コントラ
スト及び視覚特性が優れ、長期間の熱処理テストヲ行っ
ても配向乱れの生じることのない、長期信頼性の高い液
晶表示素子を提供するものである。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and provides an alignment control film that is free from coloration, can be formed at a relatively low temperature in a short time, and does not affect substrates, color filters, transparent electrodes, etc. To provide a liquid crystal display element with high long-term reliability, which has excellent contrast and visual characteristics, which does not cause a decrease in yield, and which does not cause alignment disturbance even after long-term heat treatment tests.

(課題を解決する念めの手段) 本発明は、液晶表示素子の配向制御膜が、一般式(D (ただし1式中R′はジアミンのアミノ基を除いた2価
の残基を示し、R″は炭素原子1〜30の直鎖または分
岐鎖アルキル基を示す)で表される繰り返し単位を有し
てなるポリアミド樹脂である液晶表示素子に関する。
(Measures to Solve the Problems) The present invention provides an alignment control film for a liquid crystal display element having the general formula (D (wherein R' represents a divalent residue of diamine excluding the amino group); The present invention relates to a liquid crystal display element which is a polyamide resin having a repeating unit represented by R'' represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.

本発明におけるポリアミド重合体は、液晶及び水に不溶
であり、この重合体を特定の溶剤に溶解し、これを酸化
インジウム等の透明導電膜tVする基板に塗布し、10
0〜200℃で加熱乾燥した後、ラビングして配向制御
膜を得ることができる。このようにして作成した2枚の
基板の配向制御膜を対向させて平行に配置し、その間に
液晶を封入させることにより、満足な特性を有する液晶
表示素子を完成することができる。
The polyamide polymer in the present invention is insoluble in liquid crystals and water, and this polymer is dissolved in a specific solvent and coated on a transparent conductive film such as indium oxide substrate.
After drying by heating at 0 to 200°C, an alignment control film can be obtained by rubbing. A liquid crystal display element having satisfactory characteristics can be completed by arranging the alignment control films of the two substrates thus produced in parallel and facing each other, and filling the liquid crystal between them.

本発明の液晶表示素子は、一般に液晶の配向性が良好で
、膜の屈折率が高いことより透明導電膜のパターンが無
点灯時でも見える(ネサ見え)現象が低く、″また。膜
自体の着色がほとんどないため、コントラストの良好な
明るい素子を完成することができる。
The liquid crystal display element of the present invention generally has good alignment of the liquid crystal and a high refractive index of the film, so that the pattern of the transparent conductive film is less likely to be visible even when the light is not lit (nesa visibility). Since there is almost no coloring, a bright element with good contrast can be completed.

本発明においては、基板に特定のポリアミド重合体を塗
布した後、たんに溶剤を蒸発乾燥させ。
In the present invention, after coating a specific polyamide polymer on a substrate, the solvent is simply evaporated and dried.

ラビング処理を行えばよいので、斜方蒸着法等に比べ、
短時間で配向制御膜が得られる。例えば。
Compared to oblique evaporation methods, etc., since it only requires a rubbing process,
An alignment control film can be obtained in a short time. for example.

形成する膜厚は100〜30000AJ 好ましくは2
00〜2000^程度で非常に薄膜のために溶剤の沸点
以下でも十分乾燥可能であり、ポリイミド膜を形成する
方法に比べて、100〜200℃で5〜30分程度と、
低温、短時間で成膜することができる。
The film thickness to be formed is 100 to 30,000 AJ, preferably 2
Because it is a very thin film at about 0.00 to 2000 °C, it can be sufficiently dried even below the boiling point of the solvent, and compared to the method of forming a polyimide film, it takes about 5 to 30 minutes at 100 to 200 °C
Films can be formed at low temperatures and in a short time.

前記基板としては、ガラス板、ポリエーテルスルホン、
ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート等からなる
フィルム上に酸化イノジウム及び酸化錫からなる会合等
を蒸着し、透明導電膜を形取したものを用いることがで
きる。
As the substrate, a glass plate, polyether sulfone,
A transparent conductive film formed by vapor-depositing an association made of indium oxide and tin oxide on a film made of polysulfone, polyethylene terephthalate, etc. can be used.

本発明において用いられるポリアミド重合体は。The polyamide polymer used in the present invention is:

カルボン酸成分としての一般式flu)(ただし、R8
は一般式(I)におけると同意義)で表されるジカルボ
ン酸、またはこのジノ1ライド若くはジエステルと一般
式面 H2N−R”−NH2((2) (ただし、R′は、一般式(I)におけると同意義)で
表されるジアミンとを重縮合させることにより製造でき
る。
General formula (flu) as a carboxylic acid component (however, R8
is the same meaning as in general formula (I)), or this dino-1ride or diester and the general formula surface H2N-R''-NH2 ((2) (However, R' is the general formula ( It can be produced by polycondensation with the diamine represented by (same meaning as in I).

一般式(I)における直IIIま九は分岐鎖アルキル基
凡の炭素原子数は、1〜30であるが、1〜10である
ことが好ましい。30を越えると耐熱性が低下する。前
記アルキル基としては2例えば、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、5e
e−ブチル基、fert−ブチルil ペンチル基、イ
ンペンチル基、ヘキフル基、ヘプチル基、オクチル基、
2−エチル−ヘキシル基、ノニル蟇、デシル基、ドデシ
ル蟇、オクタデシル基、エイコシル基、トコシル基、ト
リクアコ/チル基等がある。
The number of carbon atoms in the straight branched alkyl group in general formula (I) is 1 to 30, preferably 1 to 10. When it exceeds 30, heat resistance decreases. The alkyl group includes 2, for example, a methyl group, an ethyl group,
n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, 5e
e-butyl group, fert-butyl pentyl group, impentyl group, hexful group, heptyl group, octyl group,
Examples include 2-ethyl-hexyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, eicosyl group, tocosyl group, triquaco/tyl group, and the like.

上記一般式(Il)で表されるジカルボン酸としては。As the dicarboxylic acid represented by the above general formula (Il).

5−ヒドロキシイソフタル酸ヘキサノアート、5−ヒド
ロキシイソフタル酸ドデカノアート、5−ヒドロキシイ
ソフタル酸オクタデカノアート等がある。
Examples include 5-hydroxyisophthalic acid hexanoate, 5-hydroxyisophthalic acid dodecanoate, and 5-hydroxyisophthalic acid octadecanoate.

これらの一般式(I)で表されるジカルボン酸は。These dicarboxylic acids represented by general formula (I) are:

例えば、5−ヒドロキフイソ7タル酸トアルキル酸クロ
ライドとをピリジン等の存在下に反応させることで容易
に得ることができる。こうして得られたジカルボン酸を
公知の方法に準じて、シバライド又はジエステル等の酸
の誘導体とすることができる。
For example, it can be easily obtained by reacting 5-hydroxyphyiso7tallic acid toalkylic acid chloride in the presence of pyridine or the like. The dicarboxylic acid thus obtained can be converted into an acid derivative such as cybaride or diester according to a known method.

上記一般式(回で表されるジアミノとしては、メタトル
レンジアミン、m−フェニレンジアミン。
The diamino represented by the above general formula (3) is m-tolulene diamine, m-phenylene diamine.

p−フェニレンジアミン、  5−りoo−m−7zニ
レンジアミン、  4.4’−ジアミノジフェニルエー
テル、λ3′−ジメチルー44′−ジアミノジフェニル
エーテル、43′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、λ3’−シアξノジフェニルエーテ
ル、3.4’−ジアミノジフェニルエーテル4゜4′−
ベンジジン、4.4’−ジアミノジフェニルチオエーテ
ル、入3′−ジアミノジフェニルチオエーテル、44′
−ジアミノベノゾフエノノ、へ3′−ジアミノジフェニ
ルメタン、44′−ジアミノジフェニルメタン、z2−
ビス(3−アミノフェニル)プロパン、42−ビス(4
−アミノフェニル)フロパン、4.4’−ジアミノジフ
ェニルスルホ/、  44’−ジアミノジフェニルスル
ホキシド、  3.3’−ジアミノジフェニルスルホノ
、a3′−ジアミノビフェニル、1.3−ビス(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン、1.3−ビス(3−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1.4−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、  4.4’−[1,3−7二二レ
ンビス(1−メチルエチリデン)コ、4.4’−[1,
4−フェニン/ビス(1−メチルエチリデン)]、]ス
2−ビスE4−4−アミノフェノキ7)フェニル]プロ
パン、2.2−ビス[3−メチル−4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニルコニタン、  2.2−ビス〔3−
クロロ−4−(4−アミノフェノキシ〕フェニル」プロ
パン、1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニルコニタン、ビス[:4−(4−アミノ7cノキシ
)フェニルコメタン、  3.3’−ジメトキシ−44
′−ジアミンビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル]スルホン。
p-phenylenediamine, 5-rioo-m-7znylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, λ3'-dimethyl-44'-diaminodiphenyl ether, 43'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, λ3'-sia ξNodiphenyl ether, 3.4'-diaminodiphenyl ether 4゜4'-
Benzidine, 4.4'-diaminodiphenylthioether, 3'-diaminodiphenylthioether, 44'
-diaminobenozophenono, 3'-diaminodiphenylmethane, 44'-diaminodiphenylmethane, z2-
Bis(3-aminophenyl)propane, 42-bis(4
-aminophenyl)furopane, 4,4'-diaminodiphenylsulfo/, 44'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,3'-diaminodiphenylsulfono, a3'-diaminobiphenyl, 1,3-bis(4-aminophenoxy) Benzene, 1.3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1.4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4.4'-[1,3-7 22lenebis(1-methylethylidene)co, 4.4'-[1,
4-phenyne/bis(1-methylethylidene)], ]su2-bisE4-4-aminophenoxy7)phenyl]propane, 2,2-bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenylconitane , 2.2-bis[3-
Chloro-4-(4-aminophenoxy]phenyl"propane, 1.1-bis[4-(4-aminophenoxy)phenylconitane, bis[:4-(4-amino7cnoxy)phenylcomethane, 3.3 '-dimethoxy-44
'-Diamine biphenyl, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone.

ス2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニルコ
フロパン、4.4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビ
フェニル、ス2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)
フェニルコへキサフルオロプロパン、9.9−ビス(4
−アミノフェニル)フルオレン等の芳香族ジアミン、1
.3−ジアミノジシクロヘキサン、1.4−ジアミノジ
7りロヘキサン。
Su2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenylcofuropane, 4.4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, Su2-bis[4-(4-aminophenoxy)
Phenylcohexafluoropropane, 9,9-bis(4
Aromatic diamines such as -aminophenyl)fluorene, 1
.. 3-diaminodicyclohexane, 1,4-diaminodicyclohexane.

44′−ジアミノシクロヘキシルメタン等の脂肪族環ジ
アミン等がある。
Examples include aliphatic cyclic diamines such as 44'-diaminocyclohexylmethane.

本発明におけるポリアミド樹脂は、カルボン酸成分とし
て、テレフタル酸、インフタル酸、4.4’−ジフェニ
ルエーテルジカルボ7M+  44’−’;フェニルカ
ルボン酸、1.5−ナフタリンジカルボン酸等の芳香族
ジカルボン酸を含んでいてもよい。
The polyamide resin in the present invention contains aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, inphthalic acid, 4.4'-diphenyl ether dicarbo7M+44'-'; phenylcarboxylic acid, and 1.5-naphthalene dicarboxylic acid as a carboxylic acid component. May contain.

これらは、全カルボン酸成分に対して50モル%以下で
使用することが好ましい。これらが多すぎると有機溶剤
溶解性が低下する傾向がある。また。
These are preferably used in an amount of 50 mol % or less based on the total carboxylic acid components. If these amounts are too large, the solubility in organic solvents tends to decrease. Also.

カルボン酸成分としてアジピン酸、セバシン酸等の脂肪
族ジカルボン酸を全カルボン酸成分に対して50モル%
以下で用いてもよい。脂肪族ジカルボン酸が多すぎると
、耐熱性が低下しやすい。
As a carboxylic acid component, aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid are used in an amount of 50 mol% based on the total carboxylic acid component.
May be used below. Too much aliphatic dicarboxylic acid tends to reduce heat resistance.

同様にジアミン成分として、ヘキサメチレンジアミン、
エチレンジアミン等の脂肪族ジアミン。
Similarly, as a diamine component, hexamethylene diamine,
Aliphatic diamines such as ethylenediamine.

あるいは、ガラス基板、金属類との接着性を向上させる
目的でL3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン、L3−ビス(4−アミノフェニル)テト
ラメチルジシロキサン等のシロキサンジアミンを用いて
も良いが、゛全ジアミンに対して30モル%以下で使用
することが好lしい。これらが多すぎると耐熱性が低下
する傾向がある。上記芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジ
カルボン酸は2重合法により、そのまま、またはジノ・
ライド若くはジエステルとして使用される。
Alternatively, siloxane diamines such as L3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane and L3-bis(4-aminophenyl)tetramethyldisiloxane may be used to improve adhesion to glass substrates and metals. However, it is preferable to use it in an amount of 30 mol % or less based on the total diamine. If there are too many of these, heat resistance tends to decrease. The above-mentioned aromatic dicarboxylic acids and aliphatic dicarboxylic acids can be used as they are or dino-
Ride young is used as a diester.

上記ポリアミド重合体の重縮合方法としては。The method for polycondensing the polyamide polymer is as follows.

低温重縮合法、直接重縮合法、活性エステル法等を採用
することができ、特【制限はない。
A low temperature polycondensation method, a direct polycondensation method, an active ester method, etc. can be employed, and there are no particular restrictions.

低温重縮合法では2例えば、上記ジアミノ1当量に対し
て上記ジカルボン酸のシバライドを好ましくは0.9〜
1.2当量使用し、トリエチルアミン。
In the low-temperature polycondensation method, the amount of civalide of the dicarboxylic acid is preferably 0.9 to 2, for example, per equivalent of the diamino.
Use 1.2 equivalents of triethylamine.

トリプロピルアミン、トリブチルアミン、 トリアミル
アミン等の第三級アミン、酸化プロピンン。
Tertiary amines such as tripropylamine, tributylamine, triamylamine, propylene oxide.

スチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド等の1.2
−エポキシドなどの酸化受容剤の存在下、N−メチル−
2−ピロリドン、ジメチルアセトアミド等の非反応性極
性溶媒中でマイナス士数度から該有機溶媒の還流温度ま
での範囲の温度下に反応させる。
1.2 of styrene oxide, cyclohexene oxide, etc.
-N-methyl- in the presence of an oxidation acceptor such as an epoxide
The reaction is carried out in a non-reactive polar solvent such as 2-pyrrolidone or dimethylacetamide at a temperature ranging from minus a few degrees to the reflux temperature of the organic solvent.

直接重合法では2例えば、上記ジカルボン酸と上記ジア
ミノを当量またはほぼ当1を使用し、トリフェニルホス
ファイト、三塩化9ん、#合りん酸エステル等のりん系
触媒及びピリジン若くは、上記したのと同様の非反応性
有機溶媒中で室温から還流温度までの範囲内の温度下で
反応させる。この場合、りん系触媒は上記ジカルボン酸
または上記ジアミンと当量またはほぼ当量で使用され、
ピリジンま念はその誘導体は上記ジカルボン酸または上
記ジアミンに対して10モル%以上使用するのが好まし
い。
In the direct polymerization method, for example, the above-mentioned dicarboxylic acid and the above-mentioned diamino are used in an equivalent or almost the same amount, and a phosphorus catalyst such as triphenyl phosphite, trichloride, phosphoric acid ester, etc. and pyridine or the above-mentioned diamino are used. The reaction is carried out in a non-reactive organic solvent similar to that at a temperature ranging from room temperature to reflux temperature. In this case, the phosphorus-based catalyst is used in an equivalent or approximately equivalent amount to the dicarboxylic acid or the diamine,
It is preferable that the derivative of pyridine is used in an amount of 10 mol % or more based on the dicarboxylic acid or diamine.

活性エステル法では2例えば、上記ジカルボン酸シバラ
イドと1−ヒドロキシベンゾトリアゾールとの反応によ
りベンゾトリアノルエステルを製造し、このエステルと
上記ジアミンを当量またはほぼ当量使用し、上記したの
と同様の非反応性極性有機溶媒中で室温またはそれ以上
の温度下に反応させる。
In the active ester method, for example, a benzotrianol ester is produced by reacting the dicarboxylic acid civalide with 1-hydroxybenzotriazole, this ester and the diamine are used in equivalent or nearly equivalent amounts, and the same non-reacting method as described above is used. The reaction is carried out in a polar organic solvent at room temperature or higher.

以上のようにして得られた反応液をメタノール等の低級
アルコール、水等の上記有機溶剤と相溶性であって、樹
脂に対して貧溶媒である溶剤の大過剰に注いで沈澱物を
得る。これを濾別し、乾燥することによって本発明にお
けるポリアミド樹脂を回収することができる。
The reaction solution obtained as described above is poured into a large excess of a lower alcohol such as methanol and a solvent that is compatible with the above organic solvent such as water and is a poor solvent with respect to the resin to obtain a precipitate. The polyamide resin of the present invention can be recovered by filtering this and drying it.

上記のポリアミド樹脂の液晶挾持基板及び電極への塗布
は、このポリアミド樹脂をジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル
−2〜ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン及びシク
ロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶剤、あるい
はさらに前記ポリアミドを溶解可能な範囲で10ソルブ
撃トルエン及びキシレン等を適量混合したものを用いて
α1〜40重量%溶液として、これをデイツプ法。
The above polyamide resin is applied to the liquid crystal holding substrate and the electrodes using a solvent such as dimethyl sulfoxide, dimethyl formamide, dimethyl acetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl imidazolidinone, cyclohexanone, etc. alone or in a mixture thereof. Alternatively, a mixture of appropriate amounts of toluene, xylene, etc., within a range capable of dissolving the polyamide, is used to prepare a solution of α1 to 40% by weight, and this is prepared using the dip method.

スプレー法、印刷法、刷毛塗り法等により該基板及び電
極上に塗布して行うことができる。
It can be applied onto the substrate and electrodes by a spray method, a printing method, a brush coating method, or the like.

ここで、該基板及び電極との接着性の向上を目的として
、市販のカップリング剤2例えばシラン系、チタネート
系を使用して基板及び電極を前処理あるいはポリアミド
溶液に添加使用してもよい。
Here, for the purpose of improving the adhesion between the substrate and the electrode, the substrate and the electrode may be pretreated using a commercially available coupling agent 2, such as a silane type or a titanate type, or added to the polyamide solution.

塗布後、100〜300℃で乾燥することによりポリア
ミド樹脂皮膜が得られるが、ここでは。
After coating, a polyamide resin film is obtained by drying at 100 to 300°C, but here.

100〜200℃でも十分である。この樹脂皮膜をラビ
ング処理して液晶配向制御膜と得ることができる。この
ように作成した2枚の基板の配向制御膜を対向させて並
行に配置し、その間に液晶を封入させて液晶表示素子を
得ることができる。
A temperature of 100 to 200°C is also sufficient. A liquid crystal alignment control film can be obtained by rubbing this resin film. A liquid crystal display element can be obtained by arranging the alignment control films of the two substrates thus produced in parallel and facing each other, and filling liquid crystal between them.

(実施例) 次に2本発明を実施例によって説明する。(Example) Next, two examples of the present invention will be explained.

配向の安定性の評価には、ギャップが6μmの90°捻
ったセルを使用し、封入液晶にはZLI−1132(メ
ルク社製)を用いた。
For evaluation of alignment stability, a 90° twisted cell with a gap of 6 μm was used, and ZLI-1132 (manufactured by Merck & Co., Ltd.) was used as the enclosed liquid crystal.

実施例1 44′−ジアミノジフェニルエーテル285g(14,
3mmol )、  5−ヒドロキシイソフタル酸ヘキ
サノアート4.00g(143mmol )、  トリ
フェニルホスファイト8.8 g (21L3mmol
)、ピリジン45 g (57,0mmol )、塩化
リチウム0.5g(11,8mmol)をN−メチル−
2−ピロリドン40m1 に溶解し、110℃で反応さ
せ、生成したポリアミド樹脂を単離した。これを再びN
−メチル−2−ピロリドンに溶解し、水とメタノールの
l:1混合液に投入してポリアミド樹脂を単離し、さら
にメタノールで煮沸することにより精製を行つ之。この
ポリアミド樹脂を3重量%になるようにN−メチル−2
−ピロリドンとプチルセロンルプアセテートの6=4混
合液に溶解し、ワニスを作製し念。このワニスを、十分
に洗浄した透明導電膜を有するガラス板上に、スピンナ
ーを用いて300Orpmで均一に塗布した。200℃
で30分間乾燥して、膜厚700のポリアミド樹脂皮膜
を形成した。このときの皮膜の鉛筆強度は5Hであった
。この膜t−7エルトで一定方向にラビングし、配向制
御膜を有するガラス基板を作製した。この基板から配向
安定性評価用の液晶表示素子を作製し、評価したところ
、曳好な配向を示した。
Example 1 285 g of 44'-diaminodiphenyl ether (14,
3mmol), 5-hydroxyisophthalic acid hexanoate 4.00g (143mmol), triphenylphosphite 8.8g (21L3mmol)
), 45 g (57.0 mmol) of pyridine, and 0.5 g (11.8 mmol) of lithium chloride in N-methyl-
It was dissolved in 40 ml of 2-pyrrolidone and reacted at 110°C, and the resulting polyamide resin was isolated. N again
The polyamide resin is isolated by dissolving it in methyl-2-pyrrolidone and pouring it into a 1:1 mixture of water and methanol, and then purifying it by boiling it with methanol. Add N-methyl-2 to 3% by weight of this polyamide resin.
- Dissolved in a 6=4 mixture of pyrrolidone and butylseron lupacetate to prepare a varnish. This varnish was uniformly applied onto a glass plate having a transparent conductive film that had been thoroughly cleaned using a spinner at 300 rpm. 200℃
This was dried for 30 minutes to form a polyamide resin film with a thickness of 700 mm. The pencil strength of the film at this time was 5H. This film was rubbed in a fixed direction with T-7 Elt to produce a glass substrate having an alignment control film. A liquid crystal display element for evaluation of alignment stability was prepared from this substrate and evaluated, and it was found to exhibit good alignment.

実施例2 、  4.4’−ジアミノジフェニルエーテルλ85g
(143mmol)の代わりに1.4−ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン4.17 g (14,3mm
o、l)全便用した以外は、実施例1と同様の操作を行
いポリアミド樹脂を合成した。このポリアミド樹脂から
実施例1と同様にして配向制御膜を有するガラス基板を
作製し、配向安定性の評価を行ったところ、良好な配向
を示した。また、この皮膜の鉛*@度は5Hであった。
Example 2, 4.4'-diaminodiphenyl ether λ85g
(143 mmol) instead of 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene 4.17 g (14,3 mmol)
o, l) A polyamide resin was synthesized by carrying out the same operation as in Example 1, except that the whole sample was used. A glass substrate having an alignment control film was prepared from this polyamide resin in the same manner as in Example 1, and the alignment stability was evaluated, and it was found to have good alignment. Further, the lead*@ degree of this film was 5H.

実施例3′ 44′−ジアミノジフェニルエーテル2.85g(14
,3mmol )の代わりに4.4′−ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ビフェニル&26g(14,3mmol
)を使用した以外は、実施例1と同様の操作を行いポリ
アミド樹脂を合成した。このポリアミド樹脂から実施例
1と同様にして配向制御膜を有するガラス基板を作製し
、配向安定性の評価を行ったところ、良好な配向を示し
た。また、この皮膜の鉛筆強度は5Hであった。
Example 3'44'-diaminodiphenyl ether 2.85 g (14
, 3 mmol) instead of 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl & 26 g (14,3 mmol)
) A polyamide resin was synthesized by carrying out the same operation as in Example 1, except for using the following. A glass substrate having an alignment control film was prepared from this polyamide resin in the same manner as in Example 1, and the alignment stability was evaluated, and it was found to have good alignment. Further, the pencil strength of this film was 5H.

実施例4 5−ヒドロキシインフタル酸ヘキサノアート4.00g
(14,3mmol)の代わりに5−ヒドロキシイソフ
タル酸ヘキサノアート5.21 g(14,3mmol
)全便用した以外は、実施例1と同様の操作を行いポリ
アミド樹脂上合成した。このポリアミド樹脂から実施例
1と同様にして配向制御1Kを有するガラス基板を作製
し、配向安定性の評価を行つ之ところ、良好な配向を示
した。また、この皮膜の鉛筆強度は5Hであった。
Example 4 5-hydroxyinphthalic acid hexanoate 4.00 g
(14.3 mmol) instead of 5-hydroxyisophthalic acid hexanoate 5.21 g (14.3 mmol)
) Synthesis was carried out on a polyamide resin in the same manner as in Example 1 except that the whole sample was used. A glass substrate with an orientation control of 1K was prepared from this polyamide resin in the same manner as in Example 1, and when the orientation stability was evaluated, it was found to have good orientation. Further, the pencil strength of this film was 5H.

実施例5 4.4’−ジアミノジフェニルエーテル185g(14
3mmol)の代わりに1.4−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ベンゼア4.17g(14,3mmol)を使
用した以外は、実施例4と同様の操作を行いポリアミド
樹脂を合成した。このポリアミド樹脂から実施例1と同
様にして配向制御膜を有するガラス基板を作製し、配向
安定性の評価を行ったところ。
Example 5 4.4'-diaminodiphenyl ether 185g (14
A polyamide resin was synthesized in the same manner as in Example 4, except that 4.17 g (14.3 mmol) of 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzea was used instead of 1.4-bis(4-aminophenoxy)benzea. A glass substrate having an alignment control film was prepared from this polyamide resin in the same manner as in Example 1, and the alignment stability was evaluated.

良好な配向を示した。また、この皮膜の鉛筆強度は5H
であった。
It showed good orientation. In addition, the pencil strength of this film is 5H.
Met.

実施例6 44′−ジアミノジフェニルエーテル2.85g(14
3mmol)の代わりに44′−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル5.26 g (14,3mmol
)全便用した以外は、実施例1と同様の操作を行いポリ
アミド樹脂を甘酸した。このポリアミド樹脂から実施例
1と同様にして配向制御膜をMするガラス基板を作製し
、配向安定性の評価を行ったところ、良好な配向を示し
た。また、この皮膜の鉛筆強度は5Hでめつ九。
Example 6 2.85 g of 44'-diaminodiphenyl ether (14
44'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl 5.26 g (14.3 mmol) instead of 44'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl
) The same procedure as in Example 1 was carried out to sweeten the polyamide resin, except that the entire stool was used. A glass substrate for forming an orientation control film was prepared from this polyamide resin in the same manner as in Example 1, and the orientation stability was evaluated, and it was found that the substrate had good orientation. In addition, the pencil strength of this film is 5H, which is 9.

実施例7 5−ヒドロキシイソフタル酸ヘキサノアート4.00 
g (143mmol )の代わりに5−ヒドロキフイ
ソ7タル酸オクタデカノアートa41g(143mmo
l)1使用した以外は、実施例1と同様の操作を行いポ
リアミド樹脂を合成した。このポリアミド樹脂から実施
例1と同様にして配向制御膜を有するガラス基板を作製
し、配向安定性の評価を行ったところ、良好な配向を示
した。また。
Example 7 5-hydroxyisophthalic acid hexanoate 4.00
g (143 mmol) instead of 41 g (143 mmol) of 5-hydroxyhiso7talate octadecanoate a.
l) A polyamide resin was synthesized in the same manner as in Example 1, except that 1 was used. A glass substrate having an alignment control film was prepared from this polyamide resin in the same manner as in Example 1, and the alignment stability was evaluated, and it was found to have good alignment. Also.

この皮膜の鉛筆強度は5Hでめった。The pencil strength of this film was measured at 5H.

実施例8 44′−ジアミノジフェニルエーテル285g(14,
3mmol)の代わりに1.4−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン4.17g(14,3mmol)を使
用し死身外は、実施例7と同様の操作を行いポリアミド
樹脂を合成した。このポリアミド樹脂から実施例1と同
様にして配向制御膜を有するガラス基板を作製し、配向
安定性の評価を行ったところ、良好な配向を示した。ま
た、この皮膜の鉛筆強度は5Hであつ九。
Example 8 285 g of 44'-diaminodiphenyl ether (14,
A polyamide resin was synthesized by performing the same operation as in Example 7 except for using 4.17 g (14.3 mmol) of 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene instead of 3 mmol). A glass substrate having an alignment control film was prepared from this polyamide resin in the same manner as in Example 1, and the alignment stability was evaluated, and it was found to have good alignment. In addition, the pencil strength of this film is 5H.

実施例9 44’−’)7ミ/ジフ工ニルエーテル185g(14
3mmol)の代わりに4.4′−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ビフェニル5.26g(143mmol)を
使用した以外は、実施例1と同様の操作を行いポリアミ
ド樹脂を合成した。このポリアミド樹脂から実施例1と
同様にして配向制御W&を有するガラス基板を作製し、
配向安定性の評価を行ったところ、良好な配向を示した
。ま九、この皮膜の鉛筆強度は5Hであった。
Example 9 44'-') 7mi/diphenyl ether 185g (14
A polyamide resin was synthesized in the same manner as in Example 1, except that 5.26 g (143 mmol) of 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl was used instead of 3 mmol). A glass substrate with orientation control W& was produced from this polyamide resin in the same manner as in Example 1,
Evaluation of orientation stability showed good orientation. Also, the pencil strength of this film was 5H.

比較例1 温変計、攪拌機、窒素導入管、水分定量器、冷却器を取
り付けた四つロフラスコに、42−ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ〕フェニルコフロバy369 g (0
,9mol)、  1.3−ビス(3−7ミノプロビル
)テトラメチルジ/ロキサン24.8g(0,1mol
)及びN−メチル−2−ピロリトノ(NMP)1843
gを入れ窒素を通し攪拌しながら溶解しtつ室温で攪拌
を続けながらビス(エキソ−ビシクロ[λ2,1コヘブ
タンー43−ジカルボン酸無水物)スルホy396g(
1,0mol )を゛添加した。室温で4時間反応を行
い、ポリアミド酸を合成し2次に温度を上げて180℃
で4時間、205℃で2時間閉環脱水反応を行った。得
られた反応液を大量のメタノール中に投入し、沈澱物を
濾別し、減圧乾燥してポリイミド重合体を得た。この重
合体の還元粘度(IP/C)(ジメチルホルムアミド0
.2重量%溶液、30℃で測定)は、0.97d(/g
であった。また、この重合体のガラス転移温度(Tg)
 t−測定したところ295℃であった。この重合体を
N−メチル−2−ピロリドン9フ こうして得たワニスから実施例1と同様にして配向制御
膜tVするガラス基板全作製し,配向安定性の評価を行
ったところ良好な配向を示した。しかし2 この皮膜の
鉛筆強度はHと低かったつ(発明の効果) 本発明によれば,ポリアミド重合体を配向制御膜に用い
ることにより1着色がなく,比較的低温。
Comparative Example 1 369 g (0
,9 mol), 1,3-bis(3-7minoprobyl)tetramethyldi/loxane 24.8 g (0.1 mol)
) and N-methyl-2-pyrrolitono (NMP) 1843
Add 396 g of bis(exo-bicyclo[λ2,1 cohebutane-43-dicarboxylic anhydride) sulfoyl(exo-bicyclo[λ2,1 cohebutane-43-dicarboxylic anhydride)
1.0 mol) was added. The reaction was carried out at room temperature for 4 hours to synthesize polyamic acid, and then the temperature was raised to 180°C.
A ring-closing dehydration reaction was carried out at 205°C for 4 hours and at 205°C for 2 hours. The obtained reaction solution was poured into a large amount of methanol, and the precipitate was filtered off and dried under reduced pressure to obtain a polyimide polymer. Reduced viscosity (IP/C) of this polymer (dimethylformamide 0
.. 2% by weight solution, measured at 30°C) is 0.97d(/g
Met. In addition, the glass transition temperature (Tg) of this polymer
The temperature was measured at 295°C. This polymer was mixed with N-methyl-2-pyrrolidone 9. From the thus obtained varnish, a glass substrate on which an alignment control film tV was to be applied was prepared in the same manner as in Example 1, and the alignment stability was evaluated, and good alignment was shown. Ta. However, the pencil strength of this film was as low as H. (Effects of the Invention) According to the present invention, by using a polyamide polymer for the alignment control film, there is no discoloration and the temperature is relatively low.

短時間で無闇の高い皮膜を成膜できる念め,f5板。F5 plate is used to ensure that a high-quality film can be formed in a short period of time.

カラーフィルター、透明導電膜等に影1vt−与えるこ
とがなく,夛留まりを低下することなくコントラスト及
び視覚特性が優れ,長時間の熱処理テストを行っても配
向乱れの生じることのない,長期信期信頼性が高い液晶
表示素子を得ることができる。
It does not cast a shadow on color filters, transparent conductive films, etc., has excellent contrast and visual characteristics without reducing retention, and has a long delivery life without causing orientation disturbance even after long-term heat treatment tests. A highly reliable liquid crystal display element can be obtained.

代理人 弁理士 若 林 邦 彦Agent Patent Attorney Kunihiko Wakabayashi

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、液晶表示素子の配向制御膜が、一般式( I )▲数
式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、式中R^1はジアミンのアミノ基を除いた2
価の残基を示し、R^2は炭素原子1〜30の直鎖また
は分岐鎖アルキル基を示す)で表される繰り返し単位を
肩してなるポリアミド樹脂である液晶表示素子。
[Claims] 1. The alignment control film of a liquid crystal display element has the general formula (I) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (I) (However, in the formula, R^1 excludes the amino group of diamine. Ta2
A liquid crystal display element which is a polyamide resin having repeating units represented by (representing a valent residue and R^2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN107077030A (en) * 2014-09-30 2017-08-18 夏普株式会社 Alignment films and liquid crystal display device
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