JPH04178783A - Pattern position recognizing method - Google Patents

Pattern position recognizing method

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JPH04178783A
JPH04178783A JP30752390A JP30752390A JPH04178783A JP H04178783 A JPH04178783 A JP H04178783A JP 30752390 A JP30752390 A JP 30752390A JP 30752390 A JP30752390 A JP 30752390A JP H04178783 A JPH04178783 A JP H04178783A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
standard
position recognition
standard pattern
dimensional
Prior art date
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Pending
Application number
JP30752390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noriaki Yugawa
典昭 湯川
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP30752390A priority Critical patent/JPH04178783A/en
Publication of JPH04178783A publication Critical patent/JPH04178783A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To recognize a pattern position with a high precision at a high speed by finding a pattern, which synthetically coincides a standard pattern most, from partial patterns of a two-dimensional pattern of an inputted position recognition object to recognize a specific position of the two-dimensional pattern of the inputted position recognition object. CONSTITUTION:A pattern 4 coinciding with a standard pattern 7 of designated picture elements most is searched in partial patterns of the two-dimensional pattern including an image 3 of the inputted object, and a specific position 5 in the object of this pattern 4 is recognized. In this case, gradation values of designated picture elements stored in the standard pattern 7 and those of corresponding picture elements in partial patterns are taken as the comparison object. Therefore, the pattern 4 is found at a high speed. Thus, a merit of position recognition of high precision using gradation patterns or the like is kept and the processing speed is increased.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はテレビジョンカメラなどの画像入力装置とコン
ピュータとを用いたパターン位置認識方法に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a pattern position recognition method using an image input device such as a television camera and a computer.

従来の技術 近年、パターン位置認識に用いられる計測機器はますま
す高精度かつ高速なものが要求されるようになってきて
いる。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, measuring instruments used for pattern position recognition are increasingly required to be highly accurate and fast.

以下、従来のパターン位置認識方法の一例について第3
図〜第5図を参照しながら説明する。
The following is a third example of the conventional pattern position recognition method.
This will be explained with reference to FIGS.

第3図は対象の像1を含む二次元パターンを示し、2は
その像1の特定部分に設定された標準パターンである。
FIG. 3 shows a two-dimensional pattern including an image 1 of the object, and 2 is a standard pattern set in a specific part of the image 1.

第4回はこの標準パターン2の拡大図である。第5図は
位置認識すべき対象の像3を含む入カバターンであり、
4は標準パターン2と最もよく一致する一致パターンで
あり、5はその一致パターン4の特定位置である。
The fourth issue is an enlarged view of this standard pattern 2. FIG. 5 is an input pattern including an image 3 of the object whose position is to be recognized,
4 is a matching pattern that most closely matches standard pattern 2, and 5 is a specific position of matching pattern 4.

従来のパターン位置認識方法は、まず対象の像1の特定
部分の二次元パターンを標準パターン2として予め記憶
しておく。この際、二値パターンあるいは濃淡パターン
として記憶する。なお、この標準パターン2は他の部分
と区別できるパターンであればどのようなものでもよい
。そして、入力された入カバターンにおける対象の像3
から標準パターン2と最もよく一致する一致パターン4
を探してこの一致パターン4内の特定位置5にて対象の
像3の位置を特定する。なお、第5図では特定位置5を
標準パターン2の左上隅としているが、標準パターン2
における空間的位置関係が明確な点(右下隅や、標準パ
ターン2の中央など)ならばどの位置でもよい。以上の
ようにして対象の位置認識を行っている。
In the conventional pattern position recognition method, first, a two-dimensional pattern of a specific part of the target image 1 is stored in advance as a standard pattern 2. At this time, it is stored as a binary pattern or a gray pattern. Note that this standard pattern 2 may be any pattern as long as it can be distinguished from other parts. Then, the image 3 of the target in the input cover pattern is
matching pattern 4 that best matches standard pattern 2 from
is searched for, and the position of the target image 3 is specified at a specific position 5 within this matching pattern 4. Note that in FIG. 5, the specific position 5 is the upper left corner of the standard pattern 2;
Any position may be used as long as the spatial positional relationship is clear (such as the lower right corner or the center of the standard pattern 2). The position of the object is recognized in the above manner.

発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来のこのような方法では、特に濃淡パ
ターンを用いた場合に処理速度に問題があり、高速で位
置認識できないという問題があった。
Problems to be Solved by the Invention However, such conventional methods have a problem in processing speed, especially when using a gray pattern, and there is a problem in that high-speed position recognition is not possible.

本発明は濃淡パターン等を用いて高精度にかつ高速でパ
ターン位置認識できる方法を提供することを目的とする
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of recognizing a pattern position with high precision and at high speed using a grayscale pattern or the like.

課題を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明のパターン位置認
識方法は、対象の特定部分の二次元パターンにおける有
効な情報をもつ指定画素のみからなるパターンを標準パ
ターンとして予め記憶しておき、入力された位置認識対
象の二次元パターンの部分パターンから標準パターンと
総合的に最も一致する一致パターンを見出すことによっ
て、入力された位置認識対象の二次元パターンにおける
特定位置を認識することを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the pattern position recognition method of the present invention is based on a pattern position recognition method in which a pattern consisting of only specified pixels having valid information in a two-dimensional pattern of a specific part of an object is preliminarily set as a standard pattern. Recognizes a specific position in the input two-dimensional pattern of the position recognition target by memorizing it and finding the matching pattern that best matches the standard pattern from the partial patterns of the input two-dimensional pattern of the input position recognition target. It is characterized by

作用 本発明によれば、有効な情報をもつ指定画素のみからな
る標準パターンを用いてパターン位置認識を行うため、
高精度にかつ高速で特定位置を認識することができる。
Effects According to the present invention, pattern position recognition is performed using a standard pattern consisting only of specified pixels having valid information.
A specific position can be recognized with high precision and high speed.

実施例 以下、本発明の一実施例におけるパターン位置認識方法
を第1図、第2図及び上記第3図〜第5図を参照して説
明する。本実施例では、有効な情報をもつ指定画素のみ
からなる標準パターンを作成するための部分パターンと
して、第2図に示すような部分パターン6を選び、この
部分パターン6にエツジ検出処理を施してエツジ周辺部
分の画素の濃淡値のみを記憶した第1図に示すような指
定画素の標準パターン7を用いる。なお、標準パターン
7のサイズは12X12、濃淡の階調は64である。
EXAMPLE Hereinafter, a pattern position recognition method according to an example of the present invention will be explained with reference to FIGS. 1, 2, and the above-mentioned FIGS. 3 to 5. In this embodiment, a partial pattern 6 as shown in FIG. 2 is selected as a partial pattern to create a standard pattern consisting only of specified pixels with valid information, and edge detection processing is performed on this partial pattern 6. A standard pattern 7 of designated pixels as shown in FIG. 1 in which only the gray scale values of pixels around edges are stored is used. Note that the standard pattern 7 has a size of 12×12 and a gradation of 64 shades.

この指定画素の標準パターン7の設定過程を説明すると
、第3図の対象の像1において上記標準パターン2に対
応した特定部分の部分パターン6を選び、これにエツジ
検出処理として3×3のラプラシアンフィルタをかけ、
各画素の処理結果の絶対値があるしきい値をこえる値を
もつ画素をエツジとみなし、指定画素とする。このよう
な指定画素のみの濃淡値を記憶したパターンを指定画素
の標準パターン7とする。
To explain the process of setting the standard pattern 7 for specified pixels, select a partial pattern 6 in a specific part corresponding to the standard pattern 2 in the target image 1 in FIG. filter,
A pixel whose absolute value of the processing result of each pixel exceeds a certain threshold value is regarded as an edge and is designated as a designated pixel. A pattern in which the gradation values of only such designated pixels are stored is defined as a standard pattern 7 for designated pixels.

そして、第5図に示すように、入力された対象の像3を
含む二次元パターンの部分パターンについて、上記指定
画素の標準パターン7と最もよく一致する一致パターン
4を探し、一致パターン4の対象内の特定位置5を認識
する。この際、標準パターン7に記憶しである指定画素
の濃淡値と部分パターンのなかでそれに対応する画素の
濃淡値のみを比較の対象とするため、高速で一致パター
ン4を探すことができる。
Then, as shown in FIG. 5, a match pattern 4 that most closely matches the standard pattern 7 of the designated pixels is searched for the partial pattern of the two-dimensional pattern including the input image 3 of the target, and the target of the match pattern 4 is searched for. Recognize a specific position 5 within. At this time, since only the gray value of the specified pixel stored in the standard pattern 7 and the gray value of the corresponding pixel in the partial pattern are compared, matching pattern 4 can be searched for at high speed.

なお、上記実施例では、濃淡のパターンとじて記憶した
が、対象の特徴を表すことができるならば標準パターン
7の作成の際の前処理の種類については特定しない。例
えば、ラプラシアンフィルタ以外にもソーへルフィルタ
あるいはゴイエンフィルタ等も用いることができる。又
、用いる二次元パターンの標準パターンのサイズ及び濃
淡の階調についても特定しない。又、標準パターンと部
分パターンとの間の一致の度合いが表すことができるな
ら、一致度の計算についても特定しない。
In the above embodiment, the patterns are stored as shading patterns, but the type of preprocessing used when creating the standard pattern 7 is not specified as long as the characteristics of the object can be represented. For example, in addition to the Laplacian filter, a Sochel filter or a Goyen filter can also be used. Furthermore, the size and gradation of the standard two-dimensional pattern used are not specified. Further, if the degree of correspondence between the standard pattern and the partial pattern can be expressed, the calculation of the degree of correspondence is not specified.

さらに、一致パターンを探す過程で高速化を図るために
、一致度の最大値を更新して行き、部分パターンごとの
一致度計算過程の途中でその最大値を越えたならば以後
の計算を打ち切ることも可能である。
Furthermore, in order to speed up the process of searching for matching patterns, the maximum value of the matching degree is updated, and if the maximum value is exceeded during the matching degree calculation process for each partial pattern, subsequent calculations are aborted. It is also possible.

発明の効果 以上のように本発明によれば、有効な情報をもつ指定画
素だけで標準パターンを構成してパターン位置認識に用
いるため、濃淡パターン等を用いた精度の高い位置認識
の長所を保ちつつ処理速度を高めることができ、大きな
効果を発揮する。実験においても、従来の方法と比べて
精度を保ちつつ3倍以上の処理速度でパターン位置認識
を行うことができた。
Effects of the Invention As described above, according to the present invention, a standard pattern is constructed from only designated pixels having valid information and is used for pattern position recognition, thereby maintaining the advantages of highly accurate position recognition using gradation patterns, etc. It can increase the processing speed and has a great effect. In experiments, we were able to recognize pattern positions more than three times faster than conventional methods while maintaining accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図、第2図は本発明の一実施例を示し、第1図は指
定画素の標準パターン図、第2回は指定画素の標準パタ
ーンを作成するための部分パターン図、第3図は対象の
像を含む二次元パターン図、第4図は標準パターンの拡
大図、第5図はパターン位置認識すべき対象の像を含む
入カバターン図である。 1−−−−−−−一対象の像 2−一−−−−−−−−−−−標準パターン3−一−−
−−−−−−−−−−人カパターンの対象の像4−−−
−−−−−−−−−−−一致パターン5−−−−−・−
・−一一一−−特定位置6−−−−一一一一−−指定画
素の標準パターンを作成するための部分パターン 7−−−−−−−−−−−−−−−指定画素の標準パタ
ーン。 第1図 第2図 7−JIIIifAi 8.オff4 ti9− ン第
3図 1−月1棟 2−−−[鷹11ぐターン 第4図 第5図
Figures 1 and 2 show an embodiment of the present invention. Figure 1 is a standard pattern diagram of designated pixels, Part 2 is a partial pattern diagram for creating a standard pattern of designated pixels, and Figure 3 is a diagram of a partial pattern for creating a standard pattern of designated pixels. FIG. 4 is an enlarged view of the standard pattern, and FIG. 5 is an input pattern diagram including the image of the object whose pattern position is to be recognized. 1--------Image of one object 2-1-----Standard pattern 3-1--
−−−−−−−−−−Image of the object of human pattern 4−−−
−−−−−−−−−−−Match pattern 5−−−−−・−
・-111--Specific position 6--1111--Partial pattern 7 for creating a standard pattern of specified pixels-----Specified pixel standard pattern. Figure 1 Figure 2 Figure 7-JIIIifAi 8. Off4 ti9- On Fig. 3 1-Moon 1 Building 2---[Hawk 11g Turn Fig. 4 Fig. 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)対象の特定部分の二次元パターンにおける有効な
情報をもつ指定画素のみからなるパターンを標準パター
ンとして予め記憶しておき、入力された位置認識対象の
二次元パターンの部分パターンから標準パターンと総合
的に最も一致する一致パターンを見出すことによって、
入力された位置認識対象の二次元パターンにおける特定
位置を認識することを特徴とするパターン位置認識方法
(1) A pattern consisting only of designated pixels with valid information in a two-dimensional pattern of a specific part of the target is stored in advance as a standard pattern, and a standard pattern is created from the input partial pattern of the two-dimensional pattern of the position recognition target. By finding the overall best match pattern,
A pattern position recognition method characterized by recognizing a specific position in an input two-dimensional pattern of a position recognition target.
JP30752390A 1990-11-13 1990-11-13 Pattern position recognizing method Pending JPH04178783A (en)

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