JPH04172355A - Developer replenishment method and replenishment device - Google Patents
Developer replenishment method and replenishment deviceInfo
- Publication number
- JPH04172355A JPH04172355A JP29726390A JP29726390A JPH04172355A JP H04172355 A JPH04172355 A JP H04172355A JP 29726390 A JP29726390 A JP 29726390A JP 29726390 A JP29726390 A JP 29726390A JP H04172355 A JPH04172355 A JP H04172355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developer
- carbon
- amount
- total
- replenishment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 85
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 85
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 42
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 16
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 abstract description 9
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 7
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 238000001139 pH measurement Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100040423 Transcobalamin-2 Human genes 0.000 description 1
- 101710124862 Transcobalamin-2 Proteins 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000001046 green dye Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
、本発明は現像液の補充方法にかかわるもので、とくに
フォトレジストの現像液に新現像液あるいは再生現像液
を補充するための現像液の補充方法に関するものである
。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for replenishing a developer, and in particular, a method for replenishing a photoresist developer with a new developer or a recycled developer. It concerns a replenishment method.
［従来の技術］
プリント基板製造などの現像工程では、基板等に塗布し
たフォトレジストを現像液により溶解して所定の像を形
成する。この現像液は現像槽を介してこれを循環使用し
ている。こうした現像処理を繰り返すたびに現像槽内の
フォトレジストの溶解濃度が増加するため、現像性に不
安定を来さないように新現像液を補充しつつ現像作業を
継続しているものである。[Prior Art] In a developing process such as manufacturing a printed circuit board, a photoresist coated on a substrate or the like is dissolved by a developer to form a predetermined image. This developing solution is circulated and used through a developing tank. Each time such a development process is repeated, the dissolved concentration of the photoresist in the developer tank increases, so the development work is continued while replenishing new developer solution so as not to cause instability in the developability.
こうした新現像液の補充管理方法に−は、従来からつぎ
のような方法が知られている。The following methods are conventionally known as methods for managing the replenishment of new developing solutions.
第一は、基板の処理枚数をカウンタによりカウントし、
このカウント値にもとづき制御を行うもので、現在プリ
ント基板業界で最も多用されている。The first is to count the number of substrates processed using a counter.
Control is performed based on this count value, and it is currently most commonly used in the printed circuit board industry.
しかしながら、基板の寸法、フォトレジストの厚さ、溶
解パターン面積率などによるフォトレジスト溶解量の差
を補正することができないという問題がある。However, there is a problem in that it is not possible to correct the difference in the amount of photoresist dissolved due to the dimensions of the substrate, the thickness of the photoresist, the area ratio of the dissolved pattern, etc.
第二は、フォトレジストの溶解濃度（ローディングレベ
ル）に対応してｐＨが変化することを利用したＰＨ測測
定もとづ制御を行うものである。The second method is to perform control based on pH measurement, which takes advantage of the fact that the pH changes in response to the dissolved concentration (loading level) of the photoresist.
しかしながら、現像槽の溶解フォトレジスト等による電
極汚業が著しく、ｐＨ計測の指示が不安定となシやすい
、また、フォトレジストのローディングに対し間接的指
標を補充量制御の基準としているため、ローディングレ
ベルに関するキャリブレーション作業を日常的に必要と
するという問題もある。However, electrode pollution caused by dissolved photoresist in the developing tank is significant, and pH measurement instructions tend to be unstable.Also, since an indirect indicator for photoresist loading is used as a standard for controlling the replenishment amount, loading Another problem is that calibration work regarding levels is required on a daily basis.
第三は、フォトレジストのローディングレベルに対応し
て現像液の着色度が異なることを利用した吸光光度法が
ある。The third method is an absorptiometric method that utilizes the fact that the degree of coloring of the developer varies depending on the loading level of the photoresist.
しかしながら、フォトレジストには着色剤が含有されて
いるものの、その種類によっては色調が異なり、汎用性
が少ない。この方゛法もフォトレジストのローディング
に対し間接的指標を補充量制御の基準としているため、
ローディングレベルに関するキャリブレーション作業を
日常的に必要とする。However, although the photoresist contains a coloring agent, the color tone varies depending on the type of coloring agent, and the photoresist has little versatility. This method also uses an indirect index for photoresist loading as the standard for controlling the replenishment amount.
Calibration work regarding loading levels is required on a daily basis.
第四は、炭酸ナトリウムなどのアルカリ性水溶液をベー
スとする。現像液の場合には、フォトレジストのローデ
ィングが進むと炭酸ナトリウム濃度が下がるため、アル
カリ残留濃度を、計る中和滴定による炭酸ナトリウム測
定を行うことにより現像液を補充制御する方法である。The fourth is based on alkaline aqueous solutions such as sodium carbonate. In the case of a developer, the concentration of sodium carbonate decreases as the loading of the photoresist progresses, so this method controls the replenishment of the developer by measuring sodium carbonate by neutralization titration to measure the residual alkali concentration.
第３図は、フォトレジストのローディングレベルと、現
像液中に残存する炭酸ナトリウム濃度との関係を示すグ
ラフである。フォトレジストの溶解が進行するにともな
っ−て炭酸ナトリウムの濃度が低下することがわかる。FIG. 3 is a graph showing the relationship between the loading level of photoresist and the concentration of sodium carbonate remaining in the developer. It can be seen that the concentration of sodium carbonate decreases as the photoresist dissolution progresses.
しかしながら、この方法は現像液中の炭酸すトリウム濃
度の管理にすぎず、炭酸ナトリウム調整濃度が変動した
場合、新現像液の補充量管理を行うことができない。つ
まりこの方法でも、フォトレジストのローディングによ
り消耗する炭酸ナトリウムの量を制御量として補充を行
うため、補充量を間接的にしか管理することができない
という問題がある。However, this method only manages the concentration of sodium carbonate in the developer, and cannot manage the amount of replenishment of new developer when the adjusted concentration of sodium carbonate changes. In other words, even with this method, replenishment is performed using the amount of sodium carbonate consumed by photoresist loading as a controlled amount, so there is a problem that the replenishment amount can only be managed indirectly.
［発明が解決しようとする課題］
本発明は以上のような諸問題にかんがみてなされたもの
で、新現像液あるいは再生現像液の補充管理を改善し、
フォトレジストの現像液の液質を安定化することにより
、現像性能の安定を図ることができる現像液の補充方法
および補充装置を提供することを課題とするものである
。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and aims to improve replenishment management of new or recycled developer,
It is an object of the present invention to provide a developer replenishment method and replenishment device that can stabilize the development performance by stabilizing the liquid quality of the photoresist developer.
［課題を解決するための手段］
すなわち第一の発明は、基板等に塗布したフォトレジス
トを溶解する現像液を補充する現像液の補充方法であっ
て、上記現像液をサンプリングし、その全有機体炭素あ
るいは全炭素の量を計測する炭素量計測工程と、この計
測した全有機体炭素あるいは全炭素の量にもとづいて、
設定全有機体炭素あるいは全炭素の量を維持するように
新現像液の自動補充制御を行う自動補充！１１御工程と
を有することを特徴とする現像液の補充方法である。[Means for Solving the Problem] That is, the first invention is a developer replenishment method for replenishing a developer that dissolves a photoresist coated on a substrate, etc., in which the developer is sampled and all of the developer is collected. Based on the carbon amount measurement process that measures the amount of aircraft carbon or total carbon, and the amount of total organic carbon or total carbon measured,
Automatic replenishment controls the automatic replenishment of new developer to maintain the set total organic carbon or total carbon amount! This is a developer replenishment method characterized by having 11 steps.
また第二の発明は、第一の発明による方法に使用する現
像液の補充装置であって、上記現像液をサンプリングす
る現像液サンプリング手段と、この現像液サンプリング
手段によりサンプリングされた現像液についてその全有
機体炭素あるいは全炭素の量を計測する炭素計測計と、
この計測した全有機体炭素あるいは全炭素の量にもとづ
いて、設定全有機体炭素あるいは全炭素の量を維持する
ように新現像液の自動補充！′！Ｉｎを行う自動補充制
御手段と、この新現像液のタンクとを有することを特徴
とする現像液の補充装置である。A second invention is a developer replenishment device used in the method according to the first invention, which includes a developer sampling means for sampling the developer, and a developer sampled by the developer sampling means. A carbon meter that measures total organic carbon or the amount of total carbon;
Based on the measured total organic carbon or total carbon amount, new developer is automatically refilled to maintain the set total organic carbon or total carbon amount! ′! This developer replenishing device is characterized by having an automatic replenishment control means for performing In and a tank for this new developer.
また第三の発明は、基板等に塗布したフォトレジストを
溶解する現像液の現像廃液を再生し、これを再生現像液
として前記現像液に補充する現像液の補充方法であって
、上記現像廃液をサンプリングし、その全有機体炭素あ
るいは全炭素の量を計測する第１の炭素計測工程と、上
記再生現像液をサンプリングし、その全有機体炭素ある
いは全炭素の量を計測するｊＩ２の炭素計測工程と、こ
れらそれぞれ計測した全有機体炭素あるいは全炭素の量
にもとづいて、設定全有機体炭素あるいは全炭素の量を
維持するように前記再生現像液の自動補充制御を行う自
動補充制御工程とを有することを特徴とする現像液の補
充方法である。A third invention is a developer replenishment method for regenerating a developer waste solution for dissolving a photoresist coated on a substrate or the like, and replenishing the developer solution with this as a recycled developer solution, the developer solution being refilled with the developer solution. a first carbon measurement step in which the total organic carbon or the amount of total carbon is measured; and a carbon measurement step in which the recycled developer is sampled and the total organic carbon or the amount of total carbon is measured. and an automatic replenishment control step for automatically replenishing the regenerated developer so as to maintain the set total organic carbon or total carbon amount based on the total organic carbon or total carbon amount measured respectively. A method for replenishing a developer, characterized by comprising the following steps.
また第四の発明は、第三の発明に使用する現像液の補充
装置であって、上記現像廃液をサンプリングする現像廃
液サンプリング手段と、上記再生現像液をサンプリング
する再生現像液サンプリング手段と、これらサンプリン
グ手段によりサンプリングした現像廃液および再生現像
液の全有機体炭素あるいは全炭素の量を計測する炭素計
測手段と、これらそれぞれ計測した全有機体炭素あるい
は全炭素の量にもとづいて、設定全有機体炭素あるいは
全炭素の量を維持するように上記再生現像液の自動補充
制御を行う自動補充制御手段と、この再生現像液のタン
クとを有することを特徴とする現像液の補充装置である
。A fourth invention is a developer replenishment device used in the third invention, comprising: a developer waste sampling means for sampling the developer waste; a recycled developer sampling means for sampling the recycled developer; A carbon measuring means that measures the total organic carbon or the amount of total carbon in the developer waste solution and recycled developer sampled by the sampling means, and a set total organic carbon based on the total organic carbon or the amount of total carbon measured respectively. This developer replenishing device is characterized by having an automatic replenishment control means for automatically replenishing the regenerated developer so as to maintain the amount of carbon or total carbon, and a tank for the regenerated developer.
現像処理の進行にともなって現像液にフォトレジストが
溶解した際、このフォトレジストの量を全有機体炭素分
析計（以下、ＴＯＣ計という）により全有機体炭素（以
下、ＴＯＣという）あるいは全炭素（以下、ＴＣという
）の濃度として計測することができる。When the photoresist is dissolved in the developer as the development process progresses, the amount of photoresist is measured using a total organic carbon analyzer (hereinafter referred to as TOC meter) to measure total organic carbon (hereinafter referred to as TOC) or total carbon. (hereinafter referred to as TC).
すなわち本発明者らは、フォトレジストの溶解濃度（ロ
ーディングレベル）とＴＯＣ濃度あるいはＴＣ濃度との
間には一意的な相関関係があることを見いだした。That is, the present inventors have discovered that there is a unique correlation between the dissolved concentration (loading level) of photoresist and the TOC concentration or TC concentration.
第１図は、水溶性フォトレジストをローディングした現
像液のＴＯＣ濃度の一例を示すグラフである。図示のよ
うに、ローディングレベルとＴｏＣｓ度とは正比例の関
係にあり、現像液の設定ローディングレベルに対するＴ
ＯＣ濃度を一意的に決定することができる。FIG. 1 is a graph showing an example of the TOC concentration of a developer loaded with a water-soluble photoresist. As shown in the figure, the loading level and the ToCs degree are in direct proportion, and the T
The OC concentration can be uniquely determined.
また第２図は、限外ろ過膜とアルカリ土類金属置を備え
た現像液再生装置を組み込んだ現像装置における現像液
および再生現像液の定常状態でのＴＯＣ濃度と、ローデ
ィングレベルとの関係の一例を示すグラフである。Furthermore, Figure 2 shows the relationship between the TOC concentration in the steady state of the developer and recycled developer and the loading level in a developing device incorporating a developer regenerating device equipped with an ultrafiltration membrane and an alkaline earth metal device. It is a graph showing an example.
この現像液再生装置を紐み込んだ場合には、再生現像液
にフォトレジスト成分の一部が膜分離能力の限界をこえ
てリークし、Ｔ ＯＣ４ｍとして計測されるが、現像液
が循環使用されているため、（現像廃液のＴＯＣ）−（
再生現像液のＴＯＣ）をローディングフォトレジストに
対応する全有機体炭素とみなすことができる。When this developer recycler is connected, a part of the photoresist components leaks into the regenerated developer beyond the limit of the membrane separation capacity, and is measured as TOC4m, but the developer is recycled and used. Therefore, (TOC of developer waste) - (
The TOC of the recycled developer solution can be considered as the total organic carbon corresponding to the loading photoresist.
上述のような知見にもとづき第一および第二の発明では
、現像機とＴＯＣ計とをサンプリングチューブ等のサン
プリング手段により接続し、現像液中のＴＯＣあるいは
ＴＣの量ないしは濃度をイン−ラインで計測し、設定Ｔ
ＯＣ濃度あるいは設定ＴＣ濃度に数束するような新現像
液補充の自動制御を行うものである。Based on the above knowledge, the first and second inventions connect the developing machine and the TOC meter through a sampling means such as a sampling tube, and measure the amount or concentration of TOC or TC in the developer in-line. and set T
This automatically controls the replenishment of new developer such that several bundles of developer are added to the OC concentration or the set TC concentration.
さらに第三および第四の発明では、現像液のリサイクル
システム（特願昭６１−１７１８９４号）を採用した補
充装置において、現像廃液と再生現像液のＴＯＣあるい
はＴＣを測定し。Furthermore, in the third and fourth inventions, the TOC or TC of the developer waste solution and the recycled developer solution is measured in a replenishing device that employs a developer recycling system (Japanese Patent Application No. 171894/1988).
（現像廃液ＴＯＣ） −（再生現像液ＴＯＣ）、あるい
は（現像廃液ＴＣ）−（再生現像液ＴＣ）をフォトレジ
ストのローディングに対応した有機炭素濃度として上述
と同様の新現像液補充制御を行い、液質の安定化を図る
ものである。Perform the same new developer replenishment control as described above with (developing waste TOC) - (recycled developer TOC) or (developing waste TC) - (regenerated developer TC) as the organic carbon concentration corresponding to the loading of the photoresist. This is to stabilize the liquid quality.
なおプリント基板製造の場合、多くはＬｏｇ／リットル
程度の炭酸ナトリウム水溶液が現像液として使用される
。ＴＯＣ計では
ＴＯＣ＝ＴＣ−ＩＣ
として算出され（ただし、ＩＣは無機体炭素）、無機体
炭素は炭酸ナトリウム中の炭素が計測される。したがっ
て、新現像液の炭酸ナトリウム調整濃度が一定の場合に
は、フォトレジストの設定ローディングレベルに対応す
るＴＯＣ値をＴＣ値により代表しても良い。この場合、
サンプルの無機体炭素測定は省略され、ＴＣＩ！！定の
みですむ。In the case of manufacturing printed circuit boards, a sodium carbonate aqueous solution of about Log/liter is often used as a developer. In a TOC meter, it is calculated as TOC=TC-IC (where IC is inorganic carbon), and inorganic carbon is measured as carbon in sodium carbonate. Therefore, when the adjusted sodium carbonate concentration of the new developer is constant, the TOC value corresponding to the set loading level of the photoresist may be represented by the TC value. in this case,
Inorganic carbon measurement of the sample was omitted and TCI! ! Only a certain amount is required.
さらに、これら補充方法および補充装置の制御方法とし
ては、設定ＴＯＣあるいはＴＣＩＩ度値と設定ＴＯＣあ
るいはＴＣ値の偏差を制御量とする比例ないしＰＩＤ制
御とする。Furthermore, the replenishment method and the control method of the replenishment device are proportional or PID control in which the deviation between the set TOC or TCII degree value and the set TOC or TC value is used as a control amount.
また上記ＴＯＣ計としては、サンプリングした現像液中
の炭素を燃焼させ、二酸化炭素の濃度を計測することと
した分析針を使用することが望ましい。たとえば特開昭
５９−１９６４６１号、特開昭５９−１６８３６８号、
特開昭６０−１４３７６７号、特開昭６２−７６４５９
号、特開昭６２−１９０４６５号、特開昭６３−５８１
６０号、および特開平１−２１９５５９号などに開示が
ある。Further, as the TOC meter, it is desirable to use an analysis needle that burns carbon in the sampled developer and measures the concentration of carbon dioxide. For example, JP-A-59-196461, JP-A-59-168368,
JP 60-143767, JP 62-76459
No., JP-A-62-190465, JP-A-63-581
No. 60, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-219559.
なお当該フォトレジストは、架橋剤としての光重合性モ
ノマーあるいはオリゴマー、光重合開始剤、その他必要
に応じて安定剤、着色剤、ないしはフィルふ形成用ポリ
マーなどからなる。さらに、エポキシ樹脂を加えて耐熱
性を高めたフォトレジストなどがある。The photoresist comprises a photopolymerizable monomer or oligomer as a crosslinking agent, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a stabilizer, a coloring agent, or a film-forming polymer. Furthermore, there are photoresists that have increased heat resistance by adding epoxy resin.
架橋剤としては、たとえばアクリロイル基やメタクリロ
イル基を有するモノマーやオリゴマーが用いられる。As the crosslinking agent, for example, a monomer or oligomer having an acryloyl group or a methacryloyl group is used.
光重合開始剤としては、たとえばアントラキノン類、ベ
ンゾフェノン類、ベンゾイソフェノール類などが用いら
れる。As the photopolymerization initiator, for example, anthraquinones, benzophenones, benzoisophenols, etc. are used.
安定剤には、たとえばハイドロキノンなどが用いられる
。For example, hydroquinone is used as the stabilizer.
着色剤には、たとえば置県や緑系の染料などが使用され
る。As the coloring agent, for example, a green dye or the like is used.
フィルム形成用ポリマーとしては、たとえばアクリル酸
エステル、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸など
を共重合成分とし、側鎖にカルボキシル基を導入したも
のなどが用いられる。As the film-forming polymer, for example, a polymer having a copolymerized component of acrylic ester, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, etc. and having a carboxyl group introduced into the side chain is used.
なお本発明は、プリント基板製造におけるフォトレジス
トの現像液以外にも、液晶デイスプレィ製造、半導体製
造、印刷版製造などにおける現像液の補充についても応
用可能である。The present invention is applicable not only to the replenishment of the photoresist developer used in the manufacture of printed circuit boards, but also to the replenishment of the developer used in the manufacture of liquid crystal displays, semiconductors, printing plates, and the like.
［作用］
本発明による現像液の補充方法および補充装置において
は、既述のように現像液等の全有機体炭素あるいは全炭
素の量ないしは濃度を計測し、フォトレジストの設定ロ
ーディングレベルに対するＴＯＣ値を現像液が維持する
ように新現像液あるいは再生現像液を自動補充すること
により、現像液中のフォトレジストのローディングレベ
ルを自動的に一定に維持し、安定した現像性能を維持さ
せることができる。[Function] In the developer replenishment method and replenishment device according to the present invention, as described above, the amount or concentration of total organic carbon or total carbon in the developer, etc. is measured, and the TOC value for the set loading level of the photoresist is determined. By automatically replenishing new or recycled developer so that the developer maintains this level, the loading level of photoresist in the developer can be automatically maintained at a constant level and stable development performance can be maintained. .
［実施例］
つぎに本発明の第一の実施例による現像液の補充装置を
装備した現像装置を第４図にもとづき説明する。[Embodiment] Next, a developing device equipped with a developer replenishment device according to a first embodiment of the present invention will be explained based on FIG. 4.
ｆＪ４図はこの現像装置１を示す概略説明図であって、
現像装置１は現像機２と、現像液補充装置３とを有する
６現像機２は現像槽４と、基板搬送用のコンベア５と、
このコンベア５の上下に配置した現像液スプレー６と、
溢流管７とを有する。Figure fJ4 is a schematic explanatory diagram showing this developing device 1,
The developing device 1 includes a developing device 2 and a developer replenishing device 3.6 The developing device 2 includes a developing tank 4, a conveyor 5 for conveying substrates,
A developer spray 6 placed above and below this conveyor 5,
It has an overflow pipe 7.
現像槽４は、現像処理にともなってフォトレジストが溶
解する現像液Ｒを取容するもので、スプレーポンプ８に
より現像液スプレー６に現像液Ｒを圧送し、基板搬送用
のコンベア５上に載置した基板９に現像液Ｒを散布可能
としである。The developer tank 4 contains a developer R in which the photoresist is dissolved during the development process, and a spray pump 8 pumps the developer R to a developer spray 6 and places it on the conveyor 5 for conveying the substrate. The developer R can be sprayed onto the placed substrate 9.
現像液補充装置３は、現像液サンプリングチューブ１０
と、サンプリングポンプ１１と、Ｔ。The developer replenishment device 3 includes a developer sampling tube 10.
, sampling pump 11, and T.
Ｃ計１２と、分析値出力信号処理制御器１３と、新現像
液タンク１４と、新現像液供給ポンプ１５とを有する。It has a C meter 12, an analysis value output signal processing controller 13, a new developer tank 14, and a new developer supply pump 15.
こうした構成において、サンプリングポンプ１１を駆動
して現像液サンプリングチューブ１０から現像液Ｒを採
取し、ＴＯＣ計１２でＴＯＣあるいはＴＣの量ないしは
濃度を計測し、分析値出力信号処理制御器１３により制
御信号を新現像液供給ポンプ１５に出力し、適宜現像液
Ｒを現像槽４に補充するものである。In this configuration, the sampling pump 11 is driven to collect the developer R from the developer sampling tube 10, the TOC meter 12 measures the amount or concentration of TOC or TC, and the analysis value output signal processing controller 13 outputs a control signal. is outputted to the new developer supply pump 15, and the developer tank 4 is replenished with the developer R as appropriate.
第５図は本発明による現像液補充装置の第二の実施例を
示すもので、第１図と同様の部分には同一符号を付し、
その詳述はこれを省略し、以下説明する。FIG. 5 shows a second embodiment of the developer replenishing device according to the present invention, in which the same parts as in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
A detailed description thereof will be omitted and will be explained below.
この現像装置２０は、上記現像機２と現像液補充装置２
１とを有する。This developing device 20 includes the developing device 2 and the developer replenishing device 2.
1.
この現像液補充装置２１は、現像液再生装置２２と、再
生現像液タンク２３と、現像廃液サンプリングチューブ
２４と、再生現像液サンプリングチューブ２５と、切替
え弁２６と、サンプリングポンプ１１と、ＴＯＣ計１２
と、分析値出力信号処理制御器１３と、再生現像液供給
ポンプ２７とを有する。The developer replenishing device 21 includes a developer regenerating device 22, a recycled developer tank 23, a waste developer sampling tube 24, a recycled developer sampling tube 25, a switching valve 26, a sampling pump 11, and a TOC meter 12.
, an analysis value output signal processing controller 13 , and a recycled developer supply pump 27 .
こうした構成において、現像廃液サンプリングチューブ
２４および再生現像液サンプリングチューブ２５により
それらの現像液ＲのＴＯＣをＴＯＣ計１２において計測
監視し、分析値出力信号処理制御器１３からの制御信号
により再生現像液供給ポンプ２７を駆動して再生現像液
Ｒを現像槽４に供給補充可能としである。In this configuration, the TOC of the developer R is measured and monitored by the developer waste sampling tube 24 and the recycled developer sampling tube 25 in the TOC meter 12, and the recycled developer is supplied by the control signal from the analysis value output signal processing controller 13. The pump 27 is driven to supply and replenish the developer tank 4 with the recycled developer R.
［発明の効果コ
以上のように本発明によれば、全有機体炭素分析針を用
いて現像液の炭素量、すなわちフォトレジストが溶解す
る濃度に直結する指標であるＴＯＣあるいはＴＣを計測
することにより現像液の液質管理を行うこととしたので
、現像液補充必要量を適切に把握し、現像液自体に直結
した管理を行うことができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the total organic carbon analysis needle is used to measure the amount of carbon in the developer, that is, TOC or TC, which is an index directly connected to the concentration at which photoresist is dissolved. Since the liquid quality of the developer is controlled by the following, it is possible to appropriately grasp the required amount of developer replenishment and perform management directly related to the developer itself.
第１図は、水溶性フォトレジストをローディングした現
像液のＴＯＣ１１度の一例を示すグラフ、本発明の一実
施例による現像液の補充方法第２図は、現像液再生装置
を組み込んだ現像装置における現像液および再生現像液
の定常状態でのＴＯＣ濃度と、ローディングレベルとの
関係の一例を示すグラフ、
第３図は、フォトレジストのローディングレベルと、現
像液中に残存する炭酸ナトリウム濃度との関係を示すグ
ラフ、
第４図は本発明の第一の実施例による現像液の補充装置
３を装備した現像装置１を示す概略説明図、
第５図は本発明の第二の実施例による現像液補充装置２
１を装備した現像装置２０を示す概略説明図である。
１ 、、、、、、現像装置
２ 、、、、、、現像機
３ 、、、、、、Ｑ像液補充装置
４ 、、、、、、現像槽
５ 、、、、、、基板搬送用のコンベア６・・・・・・
現像液スプレー
７・・・・・・溢流管
８ 、、、、、、スプレーポンプ
９ 、、、、、、基板
１０ 、、、、、、！像液サンプリングチューブ、１１
、、、、、、サンプリングポンプ１２、、、、、、Ｔ
ＯＣ針・（全有機体炭素分析針）１３ 、、、、、、分
析値出力信号処理制御器１４ 、、、、、、新現像液タ
ンク
１５ ＋＋＋＋＋＋新現像液供給ポンプ −２０、
、、、、、現像装置
２１ 、、、、、、現像液補充装置
２２゜６１８．６現像液再生装置
２３ 、、、、、、再生現像液タンク
２４、、、、、、現像廃液サンプリングチューブ２５、
、、、、、再生現像液サンプリングチューブ２６ 、、
、、、、切替え弁
２７ 、、、、、、再生現像液供給ポンプＴＯＣ・・・
・全有機体炭素
ＴＣ・・・・・・全炭素
Ｉ Ｃ，、、、、、無機体炭素
Ｒ，、、、、、、、現像液、再生現像液特許出願人 住
友重機械工業株式会社
復代理人 弁理士 池澤 寛FIG. 1 is a graph showing an example of TOC 11 degrees of a developer loaded with a water-soluble photoresist, and FIG. A graph showing an example of the relationship between the TOC concentration in the steady state of the developer and the regenerated developer and the loading level. Figure 3 shows the relationship between the loading level of the photoresist and the sodium carbonate concentration remaining in the developer. 4 is a schematic explanatory diagram showing a developing device 1 equipped with a developer replenishing device 3 according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a graph showing a developer according to a second embodiment of the present invention. Replenishment device 2
1 is a schematic explanatory diagram showing a developing device 20 equipped with a developing device 1. 1 Developing device 2 Developing machine 3 Q Developer replenishing device 4 Developing tank 5 For substrate transport Conveyor 6...
Developer spray 7... Overflow pipe 8 , Spray pump 9 , Substrate 10 , ! Image liquid sampling tube, 11
, , , , sampling pump 12 , , , , T
OC needle/(total organic carbon analysis needle) 13, Analysis value output signal processing controller 14, New developer tank 15 +++++++ New developer supply pump -20,
Developing device 21 Developing solution replenishing device 22゜618.6 Developer regenerating device 23 Regenerating developer tank 24 Developing waste liquid sampling tube 25 ,
, , , Regenerated developer sampling tube 26 , ,
, , , switching valve 27 , , , regenerated developer supply pump TOC...
・Total organic carbon TC...Total carbon IC,,,,,,,inorganic carbon R,,,,,,,,,,Developer, Recycled developer Patent applicant: Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Agent Patent Attorney Hiroshi Ikezawa
Claims (4)
液を補充する現像液の補充方法であって、前記現像液を
サンプリングし、その全有機体炭素あるいは全炭素の量
を計測する炭素量計測工程と、 この計測した全有機体炭素あるいは全炭素の量にもとづ
いて、設定全有機体炭素あるいは全炭素の量を維持する
ように新現像液の自動補充制御を行う自動補充制御工程
とを有することを特徴とする現像液の補充方法。(1) A developer replenishment method that replenishes a developer that dissolves photoresist applied to a substrate, etc., in which the developer is sampled and the total organic carbon or total carbon amount is measured. and an automatic replenishment control step for automatically replenishing the new developer based on the measured total organic carbon or total carbon amount so as to maintain the set total organic carbon or total carbon amount. A method for replenishing a developer, characterized by the following.
液を補充する現像液の補充装置であって、前記現像液を
サンプリングする現像液サンプリング手段と、 この現像液サンプリング手段によりサンプリングした現
像液についてその全有機体炭素あるいは全炭素の量を計
測する炭素計測計と、 この計測した全有機体炭素あるいは全炭素の量にもとづ
いて、設定全有機体炭素あるいは全炭素の量を維持する
ように新現像液の自動補充制御を行う自動補充制御手段
と、 この新現像液のタンクとを有することを特徴とする現像
液の補充装置。(2) A developer replenishment device that replenishes a developer that dissolves photoresist applied to a substrate, etc., comprising a developer sampling means for sampling the developer; and a developer sampled by the developer sampling means. A carbon meter that measures the amount of total organic carbon or total carbon, and a new system that maintains the set total organic carbon or amount of total carbon based on the measured total organic carbon or amount of total carbon. A developer replenishment device comprising: automatic replenishment control means for automatically controlling developer replenishment; and a tank for the new developer.
液の現像廃液を再生し、これを再生現像液として前記現
像液に補充する現像液の補充方法であつて、 前記現像廃液をサンプリングし、その全有機体炭素ある
いは全炭素の量を計測する第１の炭素計測工程と、 前記再生現像液をサンプリングし、その全有機体炭素あ
るいは全炭素の量を計測する第２の炭素計測工程と、 これらそれぞれ計測した全有機体炭素あるいは全炭素の
量にもとづいて、設定全有機体炭素あるいは全炭素の量
を維持するように前記再生現像液の自動補充制御を行う
自動補充制御工程とを有することを特徴とする現像液の
補充方法。(3) A developer replenishment method in which a developer waste solution of a developer that dissolves a photoresist applied to a substrate or the like is recycled, and the developer solution is replenished with this as a recycled developer solution, the developer solution being sampled, a first carbon measuring step of measuring the total organic carbon or the amount of total carbon; a second carbon measuring step of sampling the recycled developer and measuring the total organic carbon or the amount of total carbon; and an automatic replenishment control step for automatically replenishing the regenerated developer so as to maintain the set total organic carbon or total carbon amount based on the measured total organic carbon or total carbon amount, respectively. A developer replenishment method characterized by:
液の現像廃液を再生し、これを再生現像液として前記現
像液に補充する現像液の補充装置であって、 前記現像廃液をサンプリングする現像廃液サンプリング
手段と、 前記再生現像液をサンプリングする再生現像液サンプリ
ング手段と、 これらサンプリング手段によりサンプリングした現像廃
液および再生現像液の全有機体炭素あるいは全炭素の量
を計測する炭素計測手段と、これらそれぞれ計測した全
有機体炭素あるいは全炭素の量にもとづいて、設定全有
機体炭素あるいは全炭素の量を維持するように前記再生
現像液の自動補充制御を行う自動補充制御手段と、この
再生現像液のタンクとを有することを特徴とする現像液
の補充装置。(4) A developer replenishment device that regenerates developer waste from a developer that dissolves photoresist applied to a substrate, etc., and replenishes the developer with this as a recycled developer, the developer sampling the developer waste. a waste liquid sampling means; a recycled developer sampling means for sampling the recycled developer; a carbon measuring means for measuring the amount of total organic carbon or total carbon in the developer waste and the recycled developer sampled by these sampling means; automatic replenishment control means for automatically replenishing the regenerated developer so as to maintain the set total organic carbon or total carbon amount based on the measured total organic carbon or total carbon amount, and the regenerated developer; 1. A developer replenishment device, comprising: a developer tank.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29726390A JPH04172355A (en) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | Developer replenishment method and replenishment device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29726390A JPH04172355A (en) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | Developer replenishment method and replenishment device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04172355A true JPH04172355A (en) | 1992-06-19 |
Family
ID=17844260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29726390A Pending JPH04172355A (en) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | Developer replenishment method and replenishment device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04172355A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000147786A (en) * | 1998-11-12 | 2000-05-26 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Developing processing method for tab tape and tab tape developing processor therefor |
| KR20140051627A (en) * | 2012-10-23 | 2014-05-02 | 세메스 주식회사 | Apparatus for manufacturing integrated circuit device |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5895349A (en) * | 1981-11-30 | 1983-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Replenishing method of replenishing developer of photosensitive plate |
| JPS60194447A (en) * | 1984-03-16 | 1985-10-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for supplying developer replenishing solution of photosensitive plate |
| JPS6161164A (en) * | 1984-08-31 | 1986-03-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Method of replenishing development replenishing liquid automatic developing device of photosensitive planographic printing plate |
| JPS62186266A (en) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | Developing device |
| JPS6331591A (en) * | 1986-07-23 | 1988-02-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Treatment of photoresist waste liquid |
-
1990
- 1990-11-05 JP JP29726390A patent/JPH04172355A/en active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5895349A (en) * | 1981-11-30 | 1983-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Replenishing method of replenishing developer of photosensitive plate |
| JPS60194447A (en) * | 1984-03-16 | 1985-10-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for supplying developer replenishing solution of photosensitive plate |
| JPS6161164A (en) * | 1984-08-31 | 1986-03-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Method of replenishing development replenishing liquid automatic developing device of photosensitive planographic printing plate |
| JPS62186266A (en) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | Developing device |
| JPS6331591A (en) * | 1986-07-23 | 1988-02-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Treatment of photoresist waste liquid |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000147786A (en) * | 1998-11-12 | 2000-05-26 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Developing processing method for tab tape and tab tape developing processor therefor |
| KR20140051627A (en) * | 2012-10-23 | 2014-05-02 | 세메스 주식회사 | Apparatus for manufacturing integrated circuit device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5223881A (en) | Apparatus for controlling developing solution | |
| US5896874A (en) | Apparatus for controlling resist stripping solution | |
| US5671760A (en) | Apparatus for controlling resist stripping solution | |
| US20030096199A1 (en) | Alkali-based treating liquid, treating liquid adjusting method and equipment, treating liquid supplying method and equipment | |
| KR20040034464A (en) | Method and apparatus for maintaing an eching solution | |
| CN1667514A (en) | System and method for real-time monitoring of compositions used in lithographic processes | |
| JP2010069478A (en) | Coating liquid recycling device and method | |
| JPH04172355A (en) | Developer replenishment method and replenishment device | |
| KR20000062334A (en) | Patterning chemical liquid centralized controller | |
| US5456795A (en) | Method and apparatus for regenerating etching liquid | |
| KR100602992B1 (en) | A development apparatus | |
| JP2007316360A (en) | Management method and management device for water-based photoresist stripping liquid | |
| JP3350129B2 (en) | Etching equipment | |
| JPS62186265A (en) | Developing device | |
| JPS62186266A (en) | Developing device | |
| CN107328729B (en) | Method and system for measuring components of stripping liquid medicine | |
| JP4736124B2 (en) | Development device | |
| KR100921403B1 (en) | Method and apparatus for controlling etchant composition using spectroscope | |
| JPH0844076A (en) | Method for replenishing liquid replenisher to automatic developing machine of photosensitive planographic printing plate and device therefor | |
| TW299299B (en) | ||
| JPH06194337A (en) | High concentration residual chlorine measuring system | |
| JPS62269144A (en) | Automatic developing machine for photosensitive planography | |
| JPH0517269A (en) | Automatic control device for glaze | |
| KR0121439Y1 (en) | Control unit for development liquid | |
| JP2000267296A (en) | Method for developing material having photosensitive resin composition and apparatus therefor |