JPH04157753A - Surface treatment device - Google Patents

Surface treatment device

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Publication number
JPH04157753A
JPH04157753A JP2281753A JP28175390A JPH04157753A JP H04157753 A JPH04157753 A JP H04157753A JP 2281753 A JP2281753 A JP 2281753A JP 28175390 A JP28175390 A JP 28175390A JP H04157753 A JPH04157753 A JP H04157753A
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JP
Japan
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shelf
wafer
boat
transfer
wafers
Prior art date
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Pending
Application number
JP2281753A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akiyoshi Wakashiro
若城 章良
Katsuyuki Sano
勝之 佐野
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Shinko Electric Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Co Ltd filed Critical Shinko Electric Co Ltd
Priority to JP2281753A priority Critical patent/JPH04157753A/en
Publication of JPH04157753A publication Critical patent/JPH04157753A/en
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable a wafer to be transferred in order without generating an empty rack at each rack of a boat even if a wafer cassette is not full or wafers and hence there are empty racks by padding the wafers into the racks of the boat starting from the first rack in a transfer sequence from the wafer cassette to the boat. CONSTITUTION:When a start command of sequence is generated, a vacuum suction pen 19A approaches No.1 rack at a first stage of a wafer cassette 21 from the waiting position P10, moves a path of points P10-P11-P12, checks to see of there are wafers in this rack while moving between P11 and P12 with a sensor 53, performs vacuum suction of a wafer W1 if it exists, and then moves a path P12-P13-P14-P24. When the vacuum suction pen 19A reaches immediate before the point P13, non-suction state is switched on, and the wafer W1 is transferred to the No.1 rack of the boat 17. When this transfer cycle ends, the vacuum suction pen 19A moves from P24 to P20, and then approaches the No.2 rack of a wafer cassette 21.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェハの表面処理を行なう表面処理装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a surface treatment apparatus for surface treatment of semiconductor wafers.

〔従来の技術) 第6図は、例えば特開昭63−239938号公報に開
示された種類の表面処理を行なうシステムを示したもの
で、10は縦型の反応炉、11は炉ノシャッターζ12
はボートエレベータであって、反応炉10は第7図に示
す如く炉体13、ヒータ14、石英管15、支持フラン
ジ16を備え、この石英管15内に処理流体(水素ガス
と窒素ガスの混合体)が供給される。17はCVD処理
される半導体ウェハW1.とダミーウェハWカ及びフィ
ラーウェハWFの多数枚を段々に保持するボートであっ
て、移載装置18によりボートエレベータ12の昇降台
12A上のボート支持台12Bに*1される。
[Prior art] Fig. 6 shows a system for performing surface treatment of the type disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-239938, in which 10 is a vertical reactor, 11 is a furnace shutter ζ12
is a boat elevator, and the reactor 10 is equipped with a furnace body 13, a heater 14, a quartz tube 15, and a support flange 16 as shown in FIG. body) is supplied. 17 is a semiconductor wafer W1. to be subjected to CVD processing. This is a boat that holds a large number of dummy wafers W and filler wafers WF in stages, and is transferred by a transfer device 18 to a boat support stand 12B on an elevating table 12A of a boat elevator 12.

半導体ウェハWpは、第8図に示す如きウェハカセット
21に収納されてステージ20上へ搬送され、このステ
ージ20上のウェハカセット21から1枚づつ取り出さ
れて、ボート17に移載される。耐用期間が経過すると
交換されるダミーウェハWD及びフィラーウェハWF 
も同様である。
The semiconductor wafers Wp are stored in a wafer cassette 21 as shown in FIG. Dummy wafers WD and filler wafers WF are replaced after their service life has elapsed.
The same is true.

以下、半導体ウェハW、とダミーウェハW!l及びフィ
ラーウェハW、を総称してウェハWという。
Below, semiconductor wafer W and dummy wafer W! 1 and filler wafer W are collectively referred to as wafer W.

このボート17は、第9図および第10図に示す如く、
上板17Aと下板17Bとの間に、4本の棚柱22〜2
5を立てた構成を有し、各棚柱22〜25にはウェハの
周部を載せる凹部26が上下方向に一定間隔を隔てて形
成されている。
This boat 17, as shown in FIGS. 9 and 10,
Between the upper plate 17A and the lower plate 17B, there are four shelf posts 22 to 2.
Each of the shelf pillars 22 to 25 has recesses 26 on which the peripheral portions of wafers are placed, which are spaced apart from each other at regular intervals in the vertical direction.

各ウェハは移載ロボット19に取りつけたロボットフィ
ンガー(ヘラ状の真空吸着ペン19A)でカセット21
から1枚づつ取り出されて第9図の矢印の方向(ウニ八
搬入方向)からボート17に搬入されて同一高さにある
4個の凹部(1枚のウェハWに対して1つのウェハ載置
棚となる)26上へ移載される。
Each wafer is transferred to the cassette 21 with a robot finger (spatula-shaped vacuum suction pen 19A) attached to the transfer robot 19.
The wafers are taken out one by one and carried into the boat 17 in the direction of the arrow in FIG. (becomes a shelf) 26.

この移載動作、即ち、ウェハカセット21からボート1
7ヘウエハを移載する移載シーケンスについて、以下に
説明する。
This transfer operation, that is, from the wafer cassette 21 to the boat 1
The transfer sequence for transferring the wafer to No. 7 will be described below.

この移載シーケンスの開始指令が発生すると、真空吸着
ペン19Aは、その待機位置P+oからウェハカセット
21の第1段目の棚番号No、  1の柵にアプローチ
し、点P、、−P、、−P、□の経路を移動し、PlL
  Pltを移動する間に、このウェハW、を真空吸着
して棚から持ち上げ、そのままP I  Pt3  P
t4  Pt4の経路を移動する。真空吸着ペン19A
が点pusの直前に到達すると、非吸引状態に切り換え
られ、ptz  Pt4を移動する間に、ウェハW、が
ボート17の棚番号No、  1の棚(半導体ウェハW
pを収納する複数段の棚の最上段の棚とする)に載置さ
れる。
When a command to start this transfer sequence is issued, the vacuum suction pen 19A approaches the fence of shelf number 1 in the first stage of the wafer cassette 21 from its standby position P+o, and moves to points P, -P, . - Move along the path of P, □, PlL
While moving Plt, this wafer W is vacuum-suctioned and lifted from the shelf, and as it is, P I Pt3 P
t4 Move along the route of Pt4. Vacuum suction pen 19A
When the wafer W reaches just before the point pus, it is switched to the non-suction state, and while the ptz Pt4 is being moved, the wafer W is placed on the shelf No. 1 of the boat 17 (semiconductor wafer W).
It is placed on the top shelf of a multi-tiered shelf that stores p.

この移載サイクルが終わると、真空吸着ペン19Aは、
P7.からP2゜に向かい、ウェハカセット21の棚番
号No、  2の棚にアプローチする。上記と同様に、
真空吸着ペン19Aはpto  pit−Pt2の経路
を移動する。この棚にはウェハが無いが、真空吸着ペン
19Aは移載サイクルを中止することなく、そのままP
tz  Pz+  Pt4 Psaの経路を移動する。
When this transfer cycle is finished, the vacuum suction pen 19A
P7. From there, head toward P2° and approach the shelf number 2 of the wafer cassette 21. Similar to above,
The vacuum suction pen 19A moves along the path pto pit-Pt2. There are no wafers on this shelf, but the vacuum suction pen 19A can be used without stopping the transfer cycle.
Move along the path of tz Pz+ Pt4 Psa.

従って、移載サイクルは実行されるが、ボート17の棚
番号No、  2の棚は空欄となる0次いで、真空吸着
ペン19Aは、P34−P、。−PHI  P3gの経
路を移動し、前記と同様、P31  psiを移動する
間に、ウェハWzを真空吸着して棚から持ち上げ、その
ままP3!  Pss  P31  P44の経路を移
動して、ボート17の棚番号No、  3の棚にウェハ
Wtを移載する。
Therefore, the transfer cycle is executed, but the shelf number 2 of the boat 17 is left blank.Next, the vacuum suction pen 19A is moved to P34-P. - While moving along the path of PHI P3g and moving P31 psi as before, vacuum suction the wafer Wz, lift it from the shelf, and move to P3! The wafer Wt is transferred to the shelf No. 3 of the boat 17 by moving along the path Pss P31 P44.

〔発明が解決すべき課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記の如(、従来は、真空吸着ベン19Aがアプローチ
したウェハカセット21の棚が空欄である場合でも、移
載サイクルが実行され、ウェハカセット21に空欄があ
った場合には、ボート17にも空欄ができるので、ボー
)17内でのウェハの相互間隔が不均一となり、処理に
むらが生じるという問題があった。
As described above (conventionally, even if the shelf of the wafer cassette 21 that the vacuum suction ben 19A approaches is empty, the transfer cycle is executed, and if the wafer cassette 21 is empty, the boat 17 is also Since there are blank spaces, the spacing between the wafers within the board 17 becomes uneven, resulting in uneven processing.

本発明はこの課題を解決するためになされたもので、ウ
ェハカセットの空欄の有無にかかわらず、空欄を生ぜし
めることなくボートにウェハを移載することができ、従
来に比し、歩留りを高めることができる表面処理装置を
提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve this problem, and regardless of whether or not there is a blank space in the wafer cassette, wafers can be transferred to a boat without creating a blank space, and the yield is increased compared to the conventional method. The purpose of the present invention is to provide a surface treatment device that can perform the following steps.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は上記目的を達成するため、請求項1の発明では
、ウェハカセットからボートへの移載シーケンスにおい
ては、アプローチしたウェハカセットの棚にウェハが無
い場合は当該移載サイクルを中止して次段の棚にアプロ
ーチし、アプローチした柵にウェハが有る場合は当該移
載サイクルを継続実行する構成とし、 請求項1の発明では、移載シーケンスの制御を司る制御
部に、ウェハカセットの各欄の柵番号列と書き込み欄を
有するテーブルメモリを持たせ、ウェハカセットからボ
ートへの移載シーケンスにおいては、 アプローチしたウェハカセットの棚にウェハが無い場合
は上記テーブルの当該柵の棚番号の欄に「無」を書き込
むとともに当該移載サイクルを中止して次段の欄にアプ
ローチし、アプローチした棚にウェハが有る場合は上記
テーブルの当該棚の棚番号の欄に「有」を書き込むとと
もに当該移載サイクルを継続実行し、上記ボートから上
記ウェハカセットへの戻し移載するシーケンスにおいて
は、 上記テーブルがアクセスされ、アクセスされた棚番号の
欄の値が「有」である場合には、この棚番号の棚をウェ
ハ戻し先として指定されて、移載ロボットが戻し移載サ
イクルを実行し、この欄の値が「無」である場合には、
戻し移載サイクルが中止されて、次の棚番号の欄がアク
セスされ、値が「有」の欄にアクセスするまでこれが繰
り返される構成とした。
In order to achieve the above object, the present invention provides that in the sequence of transferring a wafer cassette to a boat, if there are no wafers on the shelf of the approached wafer cassette, the transfer cycle is stopped and the next step is carried out. When a wafer is approached on the shelf of the tier, and there is a wafer on the approached fence, the transfer cycle is continuously executed, and in the invention of claim 1, the control section that controls the transfer sequence has a control unit that controls each column of the wafer cassette. In the transfer sequence from a wafer cassette to a boat, if there are no wafers on the shelf of the approaching wafer cassette, the column of the shelf number of the fence in question is written in the above table. Write "No", stop the transfer cycle, approach the next column, and if there are wafers on the shelf you approach, write "Yes" in the shelf number column of the shelf in the table above and move the In the sequence where the loading cycle is continued and the wafers are transferred back from the boat to the wafer cassette, if the table above is accessed and the value in the column of the accessed shelf number is "Yes", this shelf is When the transfer robot executes the return transfer cycle with the shelf number specified as the wafer return destination, and the value in this column is "None",
The configuration is such that the return transfer cycle is stopped, the next shelf number column is accessed, and this is repeated until the column with the value "Yes" is accessed.

〔作用〕[Effect]

本発明では、ウェハカセットからボートへの移載シーケ
ンスにおいては、ボートの欄にはウェハを先詰めしてゆ
くので、ウェハカセットがウェハ満載でなく空欄が有る
場合でも、ボートの各欄には順々に空欄を生じることな
く、ウェハが移載される。
In the present invention, in the transfer sequence from the wafer cassette to the boat, the boat column is filled with wafers first, so even if the wafer cassette is not full of wafers and there are blank columns, each column of the boat is sequentially filled with wafers. The wafers are transferred without any blank spaces.

また、ウェハカセットの種情報(ウェハの有無)を書き
込まれるテーブルを設け、ボートからウェハカセットヘ
ウエハを戻し移載するシーケンスにおいては、このテー
ブルにアクセスして、種情報が「有」である棚の順に、
ボートからウェハを戻すので、各ウェハはウェハカセッ
トの元の棚に確実に戻される。
In addition, a table is provided in which the seed information (presence or absence of wafers) of the wafer cassette is written, and in the sequence of transferring wafers back from the boat to the wafer cassette, this table is accessed and In order of
Returning the wafers from the boat ensures that each wafer is returned to its original shelf in the wafer cassette.

(実施例) 以下、本発明の1実施例を図面を参照して説明する。(Example) Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図において、50はシーケンサ、51はシーケンサ
からの指令に基づき動作する移動ロボット19の制御装
置、52は移動ロボット19の本体、53は真空吸着ベ
ン19Aに設けたセンサであり、シーケンサ50には第
3図に示す如きテーブルを持つテーブルメモリ(バック
アップメモリ、DRAM)50Aを内蔵させである。
In FIG. 1, 50 is a sequencer, 51 is a control device for the mobile robot 19 that operates based on commands from the sequencer, 52 is a main body of the mobile robot 19, and 53 is a sensor provided on the vacuum suction ben 19A. It has a built-in table memory (backup memory, DRAM) 50A having a table as shown in FIG.

第2図は、移動ロボット19の真空吸着ベン19Aがウ
ェハカセット21の棚にアプローチして、ウェハをボー
ト17の欄に移載する場合の真空吸着ベン19Aの経路
を示したものである。
FIG. 2 shows the path of the vacuum suction ben 19A of the mobile robot 19 when it approaches the shelf of the wafer cassette 21 and transfers the wafer to the column of the boat 17.

ここでは、理解を容易にするためと説明の便宜上から、
ウェハは、ウェハカセット21の上方部の棚から順次取
り出し、ボート17の上方部の柵から下方部の棚に向け
て順次移載するものとして、真空吸着ベン19Aの経路
を示しである。
Here, for ease of understanding and convenience of explanation,
The path of the vacuum suction ben 19A is shown assuming that wafers are sequentially taken out from the upper shelf of the wafer cassette 21 and transferred sequentially from the upper rail of the boat 17 to the lower shelf.

第4図はウェハをウェハカセットからボートに移載する
シーケンスで実行される移載プログラムのフローチャー
ト、第5図はウェハをボートからウェハカセットに移載
するシーケンスで実行される移載プログラムのフローチ
ャートである。
Figure 4 is a flowchart of the transfer program executed in the sequence of transferring wafers from the wafer cassette to the boat, and Figure 5 is a flowchart of the transfer program executed in the sequence of transferring wafers from the boat to the wafer cassette. be.

次に、ウェハの移載動作について説明する。Next, the wafer transfer operation will be explained.

(1)ウェハカセットからボートへの移載シーケンスこ
のシーケンスの開始指令が発生すると、真空吸着ベン1
9Aは、その待機位置PL(lからウェハカセット21
の第1段目の棚番号No、  1の欄にアプローチし、
点P1゜−PlI  Pitの経路を移動し、PlI 
 PHIを移動する間に、この棚にウェハが有るか無い
かをセンサ53でチエツクし、この例ではウェハWlが
あるので、このウェハW1を真空吸着して欄から持ち上
げ、そのままptg  P+3−P+4  pinの経
路を移動する。真空吸着ベン19Aが点PI3の直前に
到達すると、非吸引状態に切り換えられ、PI3  P
+4を移動する間に、ウェハWlがボート17の棚番号
No、  1の棚に載置される。センサ53がウェハを
検知すると、4第3図のテーブルの棚番号N001の欄
に「1」が書き込まれる。
(1) Transfer sequence from wafer cassette to boat When this sequence start command is issued, vacuum suction vent 1
9A is the wafer cassette 21 from its standby position PL (l).
Approach the shelf number No. 1 column in the first row of
Move the path of point P1゜-PlI Pit and move to PlI
While moving the PHI, the sensor 53 checks whether there is a wafer on this shelf or not. In this example, there is a wafer Wl, so wafer W1 is vacuum-suctioned, lifted from the column, and then transferred to the ptg P+3-P+4 pin. Move along the route. When the vacuum suction vent 19A reaches just before point PI3, it is switched to a non-suction state and PI3 P
While the wafer Wl is being moved from +4, the wafer Wl is placed on the shelf No. 1 of the boat 17. When the sensor 53 detects a wafer, "1" is written in the shelf number N001 column of the table shown in FIG.

この移載サイクルが終わると、真空吸着ベン19Aは、
F’zaからP2゜に向かい、ウェハカセット21の棚
番号No、 2の棚にアプローチする。上記と同様に、
真空吸着ベン19AはP!。−PHI−ptzの経路を
移動し、PHI  ptgを移動する間に、この棚にウ
ェハが有るか無いかをセンサ53でチエツクする。この
柵にはウェハが無いので、真空吸着ベン19Aは、移載
動作を中止し、P2□からP□に下降し、P!。からP
、。の経路を移動して、ウェハカセット21の棚番号N
o、  3の棚に向かうアプローチ動作を開始する。こ
こでは、センサ53がウェハを検知しないので、第3図
のテーブルの棚番号No、  2の欄に「0」が書き込
まれる。
When this transfer cycle is finished, the vacuum suction ben 19A
From F'za, head toward P2° and approach the shelf number 2 of the wafer cassette 21. Similar to above,
Vacuum suction Ben 19A is P! . -While moving along the path of PHI-ptz and moving PHI-ptg, the sensor 53 checks whether there are any wafers on this shelf. Since there are no wafers on this fence, the vacuum suction ben 19A stops the transfer operation, descends from P2□ to P□, and P! . From P
,. the shelf number N of the wafer cassette 21.
o. Start approaching the 3rd shelf. Here, since the sensor 53 does not detect a wafer, "0" is written in the shelf number No. 2 column of the table in FIG.

次いで、真空吸着ベン19Aは、点P、。−P31Pa
tの経路を移動し、前記と同様、Pl1.  p3gを
移動する間に、この欄にウェハが有るか無いかをセンサ
53でチエツクし、この例ではウェハW!があるので、
このウェハW2を真空吸着して棚から持ち上げ、そのま
まPSm  F’+APt4P23  P+4の経路を
移動する。真空吸着ペン19Aが点PR3の直前に到達
すると、非吸引状態に切り換えられ、Pzs  PI4
を移動する間に、ウェハWtがボート17の棚番号N0
02の棚に載置される。ここではウェハが有るので、第
3図のテーブルの棚番号No、  3の欄に「1」が書
き込まれる。
Next, the vacuum suction ben 19A moves to point P. -P31Pa
Pl1. While moving p3g, the sensor 53 checks whether there is a wafer in this column, and in this example, wafer W! Since there is
This wafer W2 is lifted from the shelf by vacuum suction and moved as it is along the path PSm F'+APt4P23 P+4. When the vacuum suction pen 19A reaches just before point PR3, it is switched to the non-suction state and Pzs PI4
While moving the wafers Wt to the shelf number N0 of the boat 17
It is placed on shelf 02. Since there are wafers here, "1" is written in the shelf number No. 3 column of the table in FIG. 3.

この後、真空吸着ベン19AはP2.からPa4を経由
してP4゜に向かい、ウェハカセット21の棚番号No
、  4の棚にアプローチする。棚番号No、  4の
棚のウェハW、はボート17の棚番号N003の棚に移
載される。
After this, the vacuum suction ben 19A is moved to P2. From there, go to P4° via Pa4 and check the shelf number of wafer cassette 21.
, Approach the 4th shelf. The wafer W on the shelf No. 4 is transferred to the shelf No. N003 of the boat 17.

真空吸着ベン19Aが棚番号No、  6の棚にアプロ
ーチした時は、この棚にウェハが無いので、上記テーブ
ルの棚番号No、  6の欄に「0」が書き込まれ、真
空吸着ベン19Aは、移載動作を中止し、第3図に示す
如く、Pa1からPlへ移動したのち、Pth、からP
、。へ戻り、P、。へ移動して、棚番号No、  7の
棚へのアプローチを開始する。この棚にもウェハが無い
ので、上記テーブルの棚番号No。
When the vacuum suction ben 19A approaches the shelf No. 6, there are no wafers on this shelf, so "0" is written in the shelf No. 6 column of the table above, and the vacuum suction ben 19A After stopping the transfer operation and moving from Pa1 to Pl as shown in Fig. 3, from Pth to P
,. Return to P. Move to and start approaching shelf number 7. There are no wafers on this shelf either, so the shelf number on the table above.

7の欄に「0」が書き込まれ、真空吸着ベン19Aは、
移載動作を中止し、P’rtからpinへ移動したのち
、P?lからP、。へ戻り、P@。へ移動して、棚番号
No、  8の棚へのアプローチを開始する。棚番号N
o、  8の棚にはウェハW、が有るので、上記テーブ
ルの棚番号No、  8の欄に「1」が書き込まれ、真
空咬着ベン19Aは、PHI  PaA PSm−ps
3 Pa4の経路を移動して、ウェハWSをボート17
の棚番号No、  5の棚に移載する。
"0" is written in the column 7, and the vacuum suction ben 19A is
After stopping the transfer operation and moving from P'rt to pin, P? l to P. Return to P@. Move to and start approaching shelf number 8. Shelf number N
Since there is a wafer W on the shelf No. o, 8, "1" is written in the shelf number No. 8 column of the table above, and the vacuum gripping ben 19A is PHI PaA PSm-ps.
3 Move the wafer WS along the path of Pa4 to boat 17.
Transfer to shelf number 5.

以下、同様の動作が、ウェハカセット21の棚数に等し
い回数だけ繰り返され、ウェハカセット21内のウェハ
のボート17への移載シーケンスが完了する。
Thereafter, similar operations are repeated a number of times equal to the number of shelves of the wafer cassettes 21, and the sequence of transferring the wafers in the wafer cassettes 21 to the boat 17 is completed.

このように、ボート17の棚には、ウェハが先詰めされ
るので、ウェハカセット21に空欄があっても、ボート
17には空欄が生じない。
In this way, the shelves of the boat 17 are filled with wafers first, so even if there is a blank space in the wafer cassette 21, there will be no blank space in the boat 17.

(2)ボートからウェハカセットへの移載シーケンスこ
のシーケンスの開始指令が発生すると、第3図のテーブ
ルの棚番号No、  1の欄がアクセスされる、今、こ
の欄の値は「1」であるので、移載ロボット19はウェ
ハカセット21の当該棚番号の棚をウェハ戻し先として
指定され、真空吸着ベン19Aをボート17の棚番号N
o、  1の棚にアプローチさせる。真空吸着ベン19
Aは、pto  P14P13  Ptz  P++ 
 P+。の経路を移動して、ウェハWlをウェハカセッ
ト21の棚番号N001の柵に戻し移載する。
(2) Transfer sequence from boat to wafer cassette When the start command for this sequence occurs, the shelf number 1 column of the table in Figure 3 is accessed.Currently, the value of this column is "1". Therefore, the transfer robot 19 is designated as the shelf with the shelf number of the wafer cassette 21 as the wafer return destination, and the vacuum suction ben 19A is designated as the shelf number N of the boat 17.
o. Have them approach the 1st shelf. vacuum suction ben 19
A is pto P14P13 Ptz P++
P+. The wafer Wl is returned to the fence of shelf number N001 of the wafer cassette 21 and transferred.

この戻し移載サイクルが終わると、第3図のテーブルの
棚番号NO32の欄がアクセスされる。今、この欄の値
は「0」であるので、戻し移載動作は中止され、続いて
、該テーブルの棚番号N013の欄がアクセスされる。
When this return transfer cycle is completed, the shelf number No. 32 column in the table of FIG. 3 is accessed. Since the value of this column is now "0", the return transfer operation is stopped, and then the column of shelf number N013 of the table is accessed.

この欄の値は「IJであるので、移載ロボット19はウ
ェハカセット21の当該棚番号の棚をウェハ戻し先とし
て指定され、真空吸着ベン19Aをボート17の棚番号
No、 2の柵にアプローチさせる。真空吸着ベン19
Aは、第2図に二重矢印で示す経路、即ち、pto  
pzaPsi  Pta  PsAP3z  P3+ 
 P2Oの経路を[1して、ウェハW2をウェハカセッ
ト21の棚番号No、  3の棚に戻し移載する。
Since the value in this column is "IJ," the transfer robot 19 is designated as the shelf with the relevant shelf number of the wafer cassette 21 as the wafer return destination, and approaches the fence of the boat 17 with the shelf number No. 2 with the vacuum suction ben 19A. Vacuum adsorption ben 19
A is the path shown by the double arrow in FIG.
pzaPsi Pta PsAP3z P3+
The path of P2O is changed to [1], and the wafer W2 is returned to the shelf No. 3 of the wafer cassette 21 and transferred.

この戻し移載サイクルが終わると、第3図のテーブルの
棚番号N094の欄がアクセスされ、この欄の値は「1
」であるので、真空吸着ベン19Aは、この棚をウェハ
戻し先として指定されて、ボート17の棚番号N013
の欄にアプローチし、ウェハW3をウェハカセット21
の棚番号N004の棚に戻し移載する。同様にして、ボ
ート17の棚番号No、  3の柵にあるウェハW、は
ウェハカセット21の棚番号No、  5の棚に戻し移
載される。この戻し移載サイクルが終わると、第3図の
テーブルの棚番号No、  6の欄がアクセスされ、こ
の欄の値は「0」であるので、戻し移載動作は中止され
、続いて、該テーブルの棚番号No、  7の欄がアク
セスされる。この欄の値も「0」であるので、続いて、
該テーブルの棚番号N008の欄がアクセスされる。こ
の欄の値は「1」であるので、移載ロボット19はウェ
ハカセット21の当該棚番号の棚をウェハ戻し先として
指定され、真空1着ペン19Aをボート17の棚番号N
005の棚にアプローチさせ、第3図に二重矢印で示す
経路で、ウェハW、を棚番号No、  8の棚に戻し移
載する。
When this return transfer cycle is completed, the shelf number N094 column of the table in Figure 3 is accessed, and the value of this column is "1".
” Therefore, the vacuum suction ben 19A specifies this shelf as the wafer return destination and returns the shelf number N013 of the boat 17.
approach the wafer cassette 21 and place the wafer W3 in the wafer cassette 21.
Return to the shelf with shelf number N004 and transfer. Similarly, the wafer W on the fence with shelf number 3 of the boat 17 is transferred back to the shelf with shelf number 5 of the wafer cassette 21. When this return transfer cycle is completed, the shelf number No. 6 column of the table in Figure 3 is accessed, and since the value in this column is "0", the return transfer operation is stopped, and then the corresponding The shelf number 7 column of the table is accessed. The value in this column is also "0", so next,
The column of shelf number N008 of the table is accessed. Since the value in this column is "1", the transfer robot 19 is designated as the shelf with the shelf number of the wafer cassette 21 as the wafer return destination, and transfers the vacuum 1st pen 19A to the shelf number N of the boat 17.
The wafer W is approached to the shelf No. 005 and transferred back to the shelf No. 8 along the route shown by the double arrow in FIG.

このように、1つの戻し移載サイクルが終わると、テー
ブルの次の棚番号の欄がアクセスされ、この欄の値が「
1」である場合には、この棚番号の棚をウェハ戻し先と
して指定されて、真空吸着ベン19Aが戻し移載サイク
ルを実行し、この欄の値が「0」である場合には、戻し
移載サイクルが中止されて、更に次の棚番号の欄がアク
セスされ、値が「1」の欄にアクセスするまでこれが繰
り返されるので、ボート17内の各ウェハは、確実に、
ウェハカセット21の元の棚に戻される。
In this way, when one return transfer cycle is completed, the next shelf number column in the table is accessed and the value of this column is set to "
1", the shelf with this shelf number is specified as the wafer return destination, and the vacuum suction ben 19A executes the return transfer cycle. If the value in this column is "0", the wafer is returned to the shelf with this shelf number. The transfer cycle is stopped and the next shelf number column is accessed, and this is repeated until the column with the value "1" is accessed, ensuring that each wafer in the boat 17 is
The wafer cassette 21 is returned to its original shelf.

なお、真空吸着ベン19Aの移動経路は、第2図のもの
に限定されるものではなく、前記したように、本実施例
は、ウェハを、ウェハカセット21の上方部の棚から順
次取り出し、ボート17の上方部の棚から下方部の棚に
向けて順次移載する場合について説明したが、実際の装
置では、ウェハカセット21からのウェハ取り出し順序
は下から上として、ボート17には上方部の棚から下方
部の棚に向けて順次移載することが望ましい。
Note that the moving path of the vacuum suction ben 19A is not limited to that shown in FIG. Although the case where the wafers are sequentially transferred from the upper shelf to the lower shelf of the wafer cassette 17 has been described, in an actual apparatus, the order in which wafers are taken out from the wafer cassette 21 is from bottom to top, and the boat 17 is loaded with wafers from the upper shelf. It is desirable to transfer items sequentially from the shelf to the lower shelf.

これは真空吸着ベン19Aが移動する際に異物の落下等
の弊害を低減することができるからである。
This is because it is possible to reduce adverse effects such as falling of foreign objects when the vacuum suction ben 19A moves.

また、テーブルメモリRAM (DRAM)50Aはバ
ックアップメモリであるので、瞬時停電などがあっても
、書き込まれた前記種情報は消去されないので、そのま
ま移載動作を実行することができる。
Further, since the table memory RAM (DRAM) 50A is a backup memory, even if there is a momentary power outage, the written type information will not be erased, so the transfer operation can be performed as is.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は以上説明した通り、ウェハカセットがウェハ満
載ではなく空欄がある場合、この空欄にアプローチした
ロボットフィンガは移載サイクルを行なわずに次段の棚
にアプローチする動作を行い、ボート内の移載光は該ボ
ートの棚の棚順であるので、ウェハカセットに空欄があ
っても、ボートには空欄を生ぜしめることなく移載する
ことができ、従って、ボート内でのウェハ相互間隔の不
均一に起因する処理むらの発生を防止することができ、
従来に比し、歩留りを向上することができる。また、ボ
ートからウエハカセットヘウエハを戻し移載する時は、
ウェハカセットからボートへのウェハを移載する前の該
ウェハカセットの種情報に基づき戻し先を指定して戻し
移載を行なうので、ウェハを確実にウェハカセットの元
の棚に戻すことができる。
As explained above, when the wafer cassette is not full of wafers and there is a blank space, the robot finger that approaches this blank space will approach the next shelf without performing a transfer cycle, and the transfer within the boat will be carried out. Since the loading is done in the order of the shelves on the boat, even if there is a blank space in a wafer cassette, it can be transferred to the boat without creating a blank space, and therefore, there is no problem with the mutual spacing of wafers within the boat. It is possible to prevent the occurrence of uneven processing due to uniformity,
Yield can be improved compared to conventional methods. Also, when transferring wafers back from the boat to the wafer cassette,
Since the return destination is designated and the return transfer is performed based on the species information of the wafer cassette before the wafer is transferred from the wafer cassette to the boat, the wafer can be reliably returned to the original shelf of the wafer cassette.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の詳細な説明するための制御装置のブロ
ック図、第2図は上記実施例における移動ロボットの真
空吸着ペンがウェハカセットの柵にアプローチしてウェ
ハをボートの柵に移載する場合の真空吸着の経路を示す
図、第3図は上記実施例において使用されるテーブルメ
モリのテーブル、第4図および第5図は上記実施例にお
ける移動ロボットの移載プログラム、第6図は表面処理
装置のシステムの1例を示す模式図、第7図は上記シス
テムにおける処理ユニットを示す縦断面図、第8図は上
記システムにおけるウェハカセットを示す図、第9図及
び第10図はそれぞれ上記システムにおけるボートの上
面図及び縦断面図、第11図は従来の移動ロボットの真
空吸着ペンがウェハカセットの棚にアプローチしてウェ
ハをボートの欄に移載する場合の真空吸着ペンの経路を
示す図である。 1〇−反応炉、12・−エレベータ、 17・−・ボート、18・・・移載装置、19−・−移
載ロボット、19A−・−真空吸着ペン、20・・・ス
テージ、21−・ウェハカセット、50− シーケンサ
、50A−・−・テーブルメモリ、51−・移載ロボッ
トの制御装置。
Fig. 1 is a block diagram of a control device for explaining the present invention in detail, and Fig. 2 shows a vacuum suction pen of the mobile robot in the above embodiment approaching the fence of the wafer cassette and transferring the wafer to the fence of the boat. FIG. 3 is a table of the table memory used in the above embodiment, FIGS. 4 and 5 are transfer programs for the mobile robot in the above embodiment, and FIG. 6 is a diagram showing the vacuum suction route when A schematic diagram showing an example of a system of a surface treatment apparatus, FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a processing unit in the above system, FIG. 8 is a diagram showing a wafer cassette in the above system, and FIGS. 9 and 10 are respectively The top view and longitudinal sectional view of the boat in the above system, and Figure 11 show the path of the vacuum suction pen of a conventional mobile robot when it approaches the wafer cassette shelf and transfers the wafer to the boat column. FIG. 10-Reactor, 12--Elevator, 17--Boat, 18--Transfer device, 19--Transfer robot, 19A--Vacuum suction pen, 20--Stage, 21-- Wafer cassette, 50- sequencer, 50A-- table memory, 51- transfer robot control device.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)所定枚数のウェハを一定間隔を空けて各棚に段々
に収納可能であって所定位置にあるステージに対して搬
入・搬出されるウェハカセット、一定枚数のウェハを一
定間隔を空けて各種に段々に収納可能であって定位置か
ら処理ユニット内へまたはその逆に移送されるボート、
所定のシーケンスに従い上記ウェハカセットの棚へ棚順
に順次アプローチしてもしくは上記ボートの棚へ棚順に
順次アプローチしてウェハを1枚づつ取り出して上記ウ
ェハカセットから上記ボートへもしくはその逆に移載す
る移載サイクルを実行する移載ロボットを備える表面処
理装置において、 上記ウェハカセットから上記ボートへの移載シーケンス
においては、アプローチしたウェハカセットの棚にウェ
ハが無い場合は当該移載サイクルを中止して次段の棚に
アプローチし、アプローチした棚にウェハが有る場合は
当該移載サイクルを継続実行することを特徴とする表面
処理装置。
(1) Wafer cassettes that can store a predetermined number of wafers in stages on each shelf at regular intervals, and are loaded into and taken out from a stage at a predetermined position; a boat that can be stored in stages and transferred from a fixed location into a processing unit or vice versa;
A transfer in which the wafer cassettes are approached one after another in shelf order according to a predetermined sequence, or the wafers are taken out one by one by approaching the shelves of the boat one after another in order of shelf order, and transferred from the wafer cassette to the boat or vice versa. In a surface processing apparatus equipped with a transfer robot that executes a loading cycle, in the transfer sequence from the wafer cassette to the boat, if there are no wafers on the shelf of the wafer cassette that is approached, the transfer cycle is stopped and the next step is performed. A surface processing device that approaches a shelf of a tier, and if there is a wafer on the approached shelf, continues the transfer cycle.
(2)所定枚数のウェハを一定間隔を空けて各欄に段々
に収納可能であって所定位置にあるステージに対して搬
入・搬出されるウェハカセット、一定枚数のウェハを一
定間隔を空けて各棚に段々に収納可能であって定位置か
ら処理ユニット内へまたはその逆に移送されるボート、
所定のシーケンスに従い上記ウェハカセットの棚へ棚順
に順次アプローチしてもしくは上記ボートの棚へ棚順に
順次アプローチしてウェハを1枚づつ取り出して上記ウ
ェハカセットから上記ボートへもしくはその逆に移載す
る移載サイクルを実行する移載ロボットを備える表面処
理装置において、 移載シーケンスの制御を司る制御部に、ウェハカセット
の各種の棚番号列と書き込み欄を有するテーブルメモリ
を備え、 ウェハカセットからボートへの移載シーケンスにおいて
は、 アプローチしたウェハカセットの棚にウェハが無い場合
は上記テーブルの当該棚の棚番号の欄に「無」を書き込
むとともに当該移載サイクルを中止して次段の棚にアプ
ローチし、アプローチした棚にウェハが有る場合は上記
テーブルの当該棚の棚番号の欄に「有」を書き込むとと
もに当該移載サイクルを継続実行し、上記ボートから上
記ウェハカセットへの戻し移載するシーケンスにおいて
は、 上記テーブルがアクセスされ、アクセスされた棚番号の
欄の値が「有」である場合には、この棚番号の棚をウェ
ハ戻し先として指定されて、移載ロボットが戻し移載サ
イクルを実行し、この欄の値が「無」である場合には、
戻し移載サイクルが中止されて、次の棚番号の欄がアク
セスされ、値が「有」の欄にアクセスするまでこれが繰
り返されることを特徴とする表面処理装置。
(2) Wafer cassettes that can store a predetermined number of wafers in stages at regular intervals in each column and are loaded into and unloaded from a stage at a predetermined position; boats that can be stored in stages on shelves and transported from a fixed location into a processing unit or vice versa;
A transfer in which the wafer cassettes are approached one after another in shelf order according to a predetermined sequence, or the wafers are taken out one by one by approaching the shelves of the boat one after another in order of shelf order, and transferred from the wafer cassette to the boat or vice versa. In a surface processing system equipped with a transfer robot that executes a loading cycle, the control unit that controls the transfer sequence is equipped with a table memory that has various shelf number columns and write fields for wafer cassettes, and the control unit that controls the transfer sequence is equipped with a table memory that has various shelf number columns and write fields for wafer cassettes. In the transfer sequence, if there are no wafers on the shelf of the approached wafer cassette, write "None" in the shelf number column of the shelf in the table above, cancel the transfer cycle, and approach the next shelf. If there are wafers on the approached shelf, write "Yes" in the shelf number column of the shelf in the table above and continue the transfer cycle, and in the sequence of transferring the wafers from the boat back to the wafer cassette. If the above table is accessed and the value in the accessed shelf number column is "Yes", the shelf with this shelf number is specified as the wafer return destination, and the transfer robot starts the return transfer cycle. Execute, and if the value in this field is "None",
A surface treatment apparatus characterized in that the return transfer cycle is stopped, a next shelf number column is accessed, and this is repeated until a column with a value of "present" is accessed.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11121586A (en) * 1997-10-20 1999-04-30 Kokusai Electric Co Ltd Wafer boat management system
JP2007043202A (en) * 2006-10-25 2007-02-15 Hitachi Kokusai Electric Inc Semiconductor manufacturing equipment
JP2010034592A (en) * 2009-11-11 2010-02-12 Hitachi Kokusai Electric Inc Semiconductor manufacturing apparatus
JP2012227539A (en) * 2012-06-20 2012-11-15 Hitachi Kokusai Electric Inc Display method for wafer mounting status, display program, and display method in semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11121586A (en) * 1997-10-20 1999-04-30 Kokusai Electric Co Ltd Wafer boat management system
JP2007043202A (en) * 2006-10-25 2007-02-15 Hitachi Kokusai Electric Inc Semiconductor manufacturing equipment
JP4762111B2 (en) * 2006-10-25 2011-08-31 株式会社日立国際電気 Semiconductor manufacturing equipment
JP2010034592A (en) * 2009-11-11 2010-02-12 Hitachi Kokusai Electric Inc Semiconductor manufacturing apparatus
JP2012227539A (en) * 2012-06-20 2012-11-15 Hitachi Kokusai Electric Inc Display method for wafer mounting status, display program, and display method in semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor device

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