JPH04149997A - アーク銃 - Google Patents
アーク銃Info
- Publication number
- JPH04149997A JPH04149997A JP2275782A JP27578290A JPH04149997A JP H04149997 A JPH04149997 A JP H04149997A JP 2275782 A JP2275782 A JP 2275782A JP 27578290 A JP27578290 A JP 27578290A JP H04149997 A JPH04149997 A JP H04149997A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- gas
- electrodes
- laser beam
- arc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 abstract 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Arc Welding In General (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラズマジェット溶射装置、プラズマアーク
溶接装置等に通用されるアーク銃に関する。
溶接装置等に通用されるアーク銃に関する。
従来、プラズマジェット溶射装置において、アーク放電
により生成したプラズマに磁場をかけローレンツ力によ
り飛ばすことのできるアーク銃は、第2図縦断面図に示
すように、陰極1の外側に陽極2が絶縁材3を介して配
置されるとともに、更にその周りに磁場を生成させるた
めのコイル4が配設されており、プラズマ化させるガス
5を陰極lと陽極2の間に送り、両極1.2間に電圧を
印加させアーク放電を発生させてガス5をプラズマ6化
させたうえ、このプラズマ6を、その膨張する力及び供
給されるガス5の圧力と、コイル4により生成した磁場
とプラズマ6に流れる電流により生ずるローレンツ力と
により、噴出方向7へ噴出させる。
により生成したプラズマに磁場をかけローレンツ力によ
り飛ばすことのできるアーク銃は、第2図縦断面図に示
すように、陰極1の外側に陽極2が絶縁材3を介して配
置されるとともに、更にその周りに磁場を生成させるた
めのコイル4が配設されており、プラズマ化させるガス
5を陰極lと陽極2の間に送り、両極1.2間に電圧を
印加させアーク放電を発生させてガス5をプラズマ6化
させたうえ、このプラズマ6を、その膨張する力及び供
給されるガス5の圧力と、コイル4により生成した磁場
とプラズマ6に流れる電流により生ずるローレンツ力と
により、噴出方向7へ噴出させる。
しかしながら、このようなアーク銃には、次のような欠
点がある。
点がある。
(1) 陰極1及び陽極2にアーク放電のための電界
が均一して分布せずに一部に電界が集中し勝ちであり、
陰極1及び陽極2の電界の集中した部分が損傷する。
が均一して分布せずに一部に電界が集中し勝ちであり、
陰極1及び陽極2の電界の集中した部分が損傷する。
(2) また上記理由により、好まざる場所にアーク
放電によるプラズマ6が生成してしまい、すなわちアー
ク放電させプラズマ6を生成させる位置が制御しにくい
。
放電によるプラズマ6が生成してしまい、すなわちアー
ク放電させプラズマ6を生成させる位置が制御しにくい
。
(3)高圧のガス5を送りそのプラズマ化を図る場合、
陰極1及び陽極2の間に印加させる電圧を高くする必要
があり、その結果ジュール加熱1拉子衝突による陰極1
及び陽極2の損傷が発生ずる。
陰極1及び陽極2の間に印加させる電圧を高くする必要
があり、その結果ジュール加熱1拉子衝突による陰極1
及び陽極2の損傷が発生ずる。
本発明は、このような事情に鑑みて提案されたもので、
アーク放電によるプラズマ生成の位置を制御することが
できるとともに、電界の集中による陰極及び陽極の損傷
を防止することができ、更に高圧のガス中にも高電圧を
印加することなく容易にプラズマを生成させることがで
きるアーク銃を提供することを目的とする。
アーク放電によるプラズマ生成の位置を制御することが
できるとともに、電界の集中による陰極及び陽極の損傷
を防止することができ、更に高圧のガス中にも高電圧を
印加することなく容易にプラズマを生成させることがで
きるアーク銃を提供することを目的とする。
そのために本発明は、陰極と陽極の間に電圧を印加させ
両極間にあるガスにアーク放電を発生させプラズマを生
成させるアーク銃において、上記両極間のガスにレーザ
ー光を入射するレーザー光入射装置を具備したことを特
徴とする。
両極間にあるガスにアーク放電を発生させプラズマを生
成させるアーク銃において、上記両極間のガスにレーザ
ー光を入射するレーザー光入射装置を具備したことを特
徴とする。
本発明アーク銃においては、陰極と陽極の間にアーク放
電を発生させるプラズマを生成させる際、両極間のガス
中の必要な位置にレーザー光入射装置よりレーザー光を
入射して、放電トリガーとしてのエネルギを与え、初期
プラズマを生成しアーク放電をしやすくする。
電を発生させるプラズマを生成させる際、両極間のガス
中の必要な位置にレーザー光入射装置よりレーザー光を
入射して、放電トリガーとしてのエネルギを与え、初期
プラズマを生成しアーク放電をしやすくする。
〔実施例]
本発明アーク銃をプラズマジェット溶射装置のアーク銃
に適用した一実施例を第1図縦断面図について説明する
。
に適用した一実施例を第1図縦断面図について説明する
。
第1図において、陰極1の外側に陽極2が絶縁材3を介
して配置されるとともに、更にその周りに磁場を生成さ
せるためのコイル4が配設されている。またコイル4の
外側には、陰極1と陽極2の間にレーザー光9を入射さ
せるためのレーザー光入射装置8が設置されている。
して配置されるとともに、更にその周りに磁場を生成さ
せるためのコイル4が配設されている。またコイル4の
外側には、陰極1と陽極2の間にレーザー光9を入射さ
せるためのレーザー光入射装置8が設置されている。
このような電子銃において、プラズマ化させるガス5を
陰極1と陽極2の間に送り両極1.2間に電圧を印加さ
せる際に、レーザー光入射装置8よりレーザー光9を両
極1,2間のガス中の任意の位置に入射すると、ガス5
は放電トリガーとしてのエネルギが与えられて初期プラ
ズマを生成して、アーク放電がしやすくなり、例えば1
0 ’ TorrのHeガスではアーク放電を起こすた
めに20kV以上の高電圧が必要であるが、レーザー光
9の入射により5V程度でもアーク放電が発生し、従っ
てガス5が高圧の場合でも、高電圧を印加することなく
容易にプラズマ6が生成し、噴出方向7へ噴出する。
陰極1と陽極2の間に送り両極1.2間に電圧を印加さ
せる際に、レーザー光入射装置8よりレーザー光9を両
極1,2間のガス中の任意の位置に入射すると、ガス5
は放電トリガーとしてのエネルギが与えられて初期プラ
ズマを生成して、アーク放電がしやすくなり、例えば1
0 ’ TorrのHeガスではアーク放電を起こすた
めに20kV以上の高電圧が必要であるが、レーザー光
9の入射により5V程度でもアーク放電が発生し、従っ
てガス5が高圧の場合でも、高電圧を印加することなく
容易にプラズマ6が生成し、噴出方向7へ噴出する。
またレーザー光9を両極1.2間のガス中へ入射するに
あたり、その入射位置を適宜選定することにより、アー
ク放電によるプラズマ6の生成位置を制御することがで
きる。
あたり、その入射位置を適宜選定することにより、アー
ク放電によるプラズマ6の生成位置を制御することがで
きる。
かくして、この電子銃によればレーザー光9を陰極lと
陽極2の間の任意の位置に入射させてプラズマ6の生成
位置を調整することにより、両極1.2が電界の集中に
より損傷することを防止することができる。またレーザ
ー光9によりガス5に放電トリガーとしてのエネルギを
与えることにより、高圧のガス中にも、陰極1と陽極2
の間に高圧の電圧をかけなくても、容易にアーク放電を
発生させプラズマ6を生成させることができる。
陽極2の間の任意の位置に入射させてプラズマ6の生成
位置を調整することにより、両極1.2が電界の集中に
より損傷することを防止することができる。またレーザ
ー光9によりガス5に放電トリガーとしてのエネルギを
与えることにより、高圧のガス中にも、陰極1と陽極2
の間に高圧の電圧をかけなくても、容易にアーク放電を
発生させプラズマ6を生成させることができる。
なお、上記実施例はプラズマジェット溶射装置のアーク
銃であるが、ローレンツ力によるプラズマ噴出機能を持
たないプラズマアーク溶接装置用の場合でも通用できる
ことはいうまでもない。
銃であるが、ローレンツ力によるプラズマ噴出機能を持
たないプラズマアーク溶接装置用の場合でも通用できる
ことはいうまでもない。
要するに本発明によれば、陰極と陽極の間に電圧を印加
させ両極間にあるガスにアーク放電を発生させプラズマ
を生成させるアーク銃において、上記両極間のガスにレ
ーザー光を入射するレーザー光入射装置を具備したこと
により、アーク放電によるプラズマ生成の4゜ 位置を制御することができるとともに、電界の集中によ
る陰極及び陽極の損傷を防止することができ、更に高圧
のガス中にも高電圧を印加することなく容易にプラズマ
を生成させることができるアーク銃を得るから、本発明
は産業上極めて有益なものである。
させ両極間にあるガスにアーク放電を発生させプラズマ
を生成させるアーク銃において、上記両極間のガスにレ
ーザー光を入射するレーザー光入射装置を具備したこと
により、アーク放電によるプラズマ生成の4゜ 位置を制御することができるとともに、電界の集中によ
る陰極及び陽極の損傷を防止することができ、更に高圧
のガス中にも高電圧を印加することなく容易にプラズマ
を生成させることができるアーク銃を得るから、本発明
は産業上極めて有益なものである。
第1図は本発明アーク銃をプラズマジェット溶射装置の
アーク銃に適用した一実施例の縦断面図、第2図は従来
のアーク銃の縦断面図である。 1・・・陰極、2・・・陽極、3・・・絶縁材、4・・
・コイル、5・・・ガス、6・・・プラズマ、7・・・
噴出方向、8・・・レーザー光入射装置、9・・・レー
ザー光。 代理人 弁理士 塚 本 正 文 第 図 と/7′″−7″−1
アーク銃に適用した一実施例の縦断面図、第2図は従来
のアーク銃の縦断面図である。 1・・・陰極、2・・・陽極、3・・・絶縁材、4・・
・コイル、5・・・ガス、6・・・プラズマ、7・・・
噴出方向、8・・・レーザー光入射装置、9・・・レー
ザー光。 代理人 弁理士 塚 本 正 文 第 図 と/7′″−7″−1
Claims (1)
- 陰極と陽極の間に電圧を印加させ両極間にあるガスにア
ーク放電を発生させプラズマを生成させるアーク銃にお
いて、上記両極間のガスにレーザー光を入射するレーザ
ー光入射装置を具備したことを特徴とするアーク銃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2275782A JPH04149997A (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | アーク銃 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2275782A JPH04149997A (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | アーク銃 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04149997A true JPH04149997A (ja) | 1992-05-22 |
Family
ID=17560331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2275782A Pending JPH04149997A (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | アーク銃 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04149997A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2020225920A1 (ja) * | 2019-05-09 | 2021-05-20 | Sppテクノロジーズ株式会社 | プラズマ着火方法及びプラズマ生成装置 |
-
1990
- 1990-10-15 JP JP2275782A patent/JPH04149997A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2020225920A1 (ja) * | 2019-05-09 | 2021-05-20 | Sppテクノロジーズ株式会社 | プラズマ着火方法及びプラズマ生成装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4786844A (en) | Wire ion plasma gun | |
US7898183B2 (en) | Methods and apparatus for generating strongly-ionized plasmas with ionizational instabilities | |
US4714860A (en) | Ion beam generating apparatus | |
Oks et al. | Development of plasma cathode electron guns | |
US7557511B2 (en) | Apparatus and method utilizing high power density electron beam for generating pulsed stream of ablation plasma | |
JPH0372184B2 (ja) | ||
NO170047B (no) | Elektron-ione-plasmakilde | |
EP0261198B1 (en) | Plasma-anode electron gun | |
US4475063A (en) | Hollow cathode apparatus | |
JPS63257167A (ja) | プラズマ放電の振幅変調により照射量制御を行なうイオン・プラズマ電子銃 | |
JP5154647B2 (ja) | パルスプラズマ生成のためのカソード組立体 | |
JPH04149997A (ja) | アーク銃 | |
US20230269860A1 (en) | High electron trapping ratio betatron | |
US5334813A (en) | Metal inert gas welding system for use in vacuum | |
RU2266628C2 (ru) | Способ генерации короткоимпульсного рентгеновского и корпускулярного излучения при переходе вещества в экстремальные состояния в условиях применения пониженных напряжений | |
JP2876280B2 (ja) | ビーム発生方法及び装置 | |
Shaw | Prospects for high average power electron-beam-pumped KrF lasers for inertial confinement fusion and industrial applications | |
Johnson et al. | Optical photography of the magnetically confined anode plasma source for repetitive intense ion beam generation | |
JPH07159091A (ja) | レールガン式2段加速装置 | |
Young et al. | Development of an applied-magnetic-field diode for ion-beam-transport experiments | |
Menge et al. | Cleaning techniques for intense ion beam sources | |
Bayless et al. | Long-pulse electron gun for laser applications | |
Hoshi et al. | Nonstraight discharge path guided by a laser beam | |
Aston | Hollow cathode apparatus | |
JPH0437529B2 (ja) |