JPH04144117A - Board holder - Google Patents

Board holder

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JPH04144117A
JPH04144117A JP2266344A JP26634490A JPH04144117A JP H04144117 A JPH04144117 A JP H04144117A JP 2266344 A JP2266344 A JP 2266344A JP 26634490 A JP26634490 A JP 26634490A JP H04144117 A JPH04144117 A JP H04144117A
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JP
Japan
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substrate
substrate holding
mask
holding surface
fall prevention
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Application number
JP2266344A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Chiba
千葉 裕司
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to US07/769,974 priority patent/US5253012A/en
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent a board from dropping and to secure the safety of the device, by providing a drop preventing pin which is pressed down into a board holding surface by one finger of a board holder, and a drop preventing plate which is pressed by the other finger and caused to retreat from the board holding surface, when the board holder is moved on to the board holding surface. CONSTITUTION:When a mask hand 1 is moved on to a mask stage 16 having a drop preventing pin 9 and a drop preventing plate 15, a roller 9a is pressed down by one finger 3b, and the drop preventing pin 9 protruding is also pressed downwards and becomes in a state of being retreated from the stage surface 16a. Besides, with the movement of the other finger 3a the drop preventing plate 15 is pushed upwards, and becomes in a state of being retreated from the stage surface 16a likewise. Accordingly, in the case of the transfer of an X-ray mask 10 from or to a mask stage 16, the mask hand 1 is not hindered from moving. Besides, after the retreat of the mask hand 1 the X-ray mask 10 can be stopped by the drop preventing pin 9 protruding and the drop preventing plate 15 hanging.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、X線露光装置の基板保持装置に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a substrate holding device for an X-ray exposure apparatus.

[従来の技′#] X&!露光装置は、光露光装置と異なり光軸が地面に対
し、はぼ平行になっているため、露光用マスクおよびウ
ェハを縦置きに保持し、その関係を維持する必要かある
[Conventional technique'#] X&! Unlike an optical exposure device, an exposure device has an optical axis substantially parallel to the ground, so it is necessary to hold the exposure mask and wafer vertically and maintain that relationship.

第7図に従来のX線露光装置で用いられているX線マス
クを搬送するためのマスクハントと基板保持装置である
マスクステージの一例を示す。
FIG. 7 shows an example of a mask stage which is a mask hunt and substrate holding device for transporting an X-ray mask used in a conventional X-ray exposure apparatus.

第7図に示すX線マスク65は、マスクパターンが描か
れたマスクメンブレン67を、磁性材料を含んだマスク
フレーム66で固定したものである。マスクハント60
は、ハント本体61の両側部に回動自在に取付けられた
二つのフィンガー部63a、63bの開閉によって前記
X線マスク65を把持するとともに、前記ハンド本体6
1の中央部に取付けられた磁気吸着ユニット64によっ
て前記マスクフレーム66を吸着することにより、前記
X線マスク65を縦方向に保持してマスクステージ69
への受渡しを11う。
The X-ray mask 65 shown in FIG. 7 has a mask membrane 67 on which a mask pattern is drawn, fixed with a mask frame 66 containing a magnetic material. mask hunt 60
grips the X-ray mask 65 by opening and closing two finger parts 63a and 63b rotatably attached to both sides of the hand body 61, and also grips the X-ray mask 65.
By adsorbing the mask frame 66 with a magnetic adsorption unit 64 attached to the center of the mask stage 69, the X-ray mask 65 is held vertically.
Delivery to 11th.

マスクステージ69は、基板保持面であるステージ面に
前記X線マスク65を着脱するための不同ボの磁気ユニ
ットか埋込まれているとともに、該ステージ面上には前
記X線マスク65の位置決めの際の目安となるVブロッ
ク68を備えている。前記ステージ面に埋込まれている
磁気ユニットは、永久磁石と、通電時に前記永久磁石の
磁力線を相殺する方向に磁力を発するコイルとで構成さ
れるもので、X線マスク65の保持は前記永久磁石の磁
力によって行い、該X線マスク65の離脱は前記コイル
を通電することによって行う。
In the mask stage 69, a magnetic unit with uneven holes for attaching and detaching the X-ray mask 65 is embedded in a stage surface which is a substrate holding surface, and a magnetic unit for positioning the X-ray mask 65 is embedded on the stage surface. It is equipped with a V block 68 that serves as a guide. The magnetic unit embedded in the stage surface is composed of a permanent magnet and a coil that generates magnetic force in a direction that cancels the magnetic field lines of the permanent magnet when energized. This is done by the magnetic force of the magnet, and the removal of the X-ray mask 65 is done by energizing the coil.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、ト述した従来の技術は下記のような問題
点かある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-mentioned conventional techniques have the following problems.

X線露光用の基板を吸着保持する基板保持装置は、該基
板を縦方向に吸着保持するため、基板か落トする可能性
があるか、前記マスクステージにおいては基板の受渡し
にともなうマスクハントの移動および基板のハンドリン
グ動作に支障をきたす等の理由から、基板落]を防止す
る手段は設けられていない。そのため前述のような、磁
気ユニットを備えたマスクステージの場合、X線マスク
を吸着保持している際に、前記磁気ユニットの誤動作に
よってコイルが通電されると、前記基板はマスクステー
ジから離脱して重力により下方へ落下してしまう。この
場合、X線マスクか破損するばかりでなく、マスクステ
ージの下方に位置する装置の破損にもつながり、基板保
持装置としての安全性は確保されず信頼性が低いものと
なるとともに、xIlマスクは高価であるため経済的負
担も大きなものとなる。
The substrate holding device that holds the substrate for X-ray exposure by suction holds the substrate in the vertical direction, so there is a possibility that the substrate may fall, and the mask stage has a problem with the mask hunt associated with the transfer of the substrate. No means is provided to prevent the board from falling, as it may impede movement and handling of the board. Therefore, in the case of a mask stage equipped with a magnetic unit as described above, if the coil is energized due to a malfunction of the magnetic unit while an X-ray mask is being attracted and held, the substrate will be detached from the mask stage. It will fall downward due to gravity. In this case, not only the X-ray mask is damaged, but also the device located below the mask stage is damaged, and the safety as a substrate holding device is not ensured and reliability is low. Since it is expensive, it also imposes a large economic burden.

本発明は、上記従来の技術か有する問題点に鑑みてなさ
れたもので、基板落下を防止することができ装置の安全
性を確保して信頼性の高い基板保持装置を提供すること
を目的としている。
The present invention has been made in view of the problems of the above-mentioned conventional technology, and has the purpose of providing a highly reliable substrate holding device that can prevent the substrate from falling and ensure the safety of the device. There is.

[課題を解決するための手段] 本発明は、X線露光用の基板を把持するためのつのフィ
ンガー部を有する基板把持装置によって搬送された基板
を、縦方向て吸着保持する基板保持面を備えた基板保持
装置において、前記基板の落下を防止するため常時前記
基板保持面上に突出し、前記基板把持装置が前記基板保
持面−Fに移動してきた際、該基板把持装置の一方のフ
ィンガー部によって前記基板保持面内へ押下げられる落
下防止ピンと、 反基板保持面側へ傾斜する基板を受止めるため、前記基
板保持面で吸着保持した基板の上側部位と重合する場所
に常時位置し、前記基板把持装置が前記基板保持面上に
移動してきた際、該基板把持装置の他方のフィンガー部
によって押動かされて、前記基板保持面から退避される
落下防止板とを有するものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention includes a substrate holding surface that vertically adsorbs and holds a substrate conveyed by a substrate holding device having two finger portions for holding a substrate for X-ray exposure. In the substrate holding device, the substrate holding device always protrudes above the substrate holding surface to prevent the substrate from falling, and when the substrate holding device moves to the substrate holding surface -F, one finger portion of the substrate holding device A fall prevention pin that is pushed down into the substrate holding surface, and a drop prevention pin that is always located at a place where it overlaps with the upper part of the substrate held by suction on the substrate holding surface, in order to catch the substrate tilted toward the side opposite to the substrate holding surface, and The device further includes a fall prevention plate that is pushed and moved by the other finger portion of the substrate holding device to be retracted from the substrate holding surface when the holding device moves onto the substrate holding surface.

前記落下防止ピンは、基板保持面に形成した凹所内で基
板把持装置側の一端か支軸によって回動自在に軸支され
、かつ、ばねのばね力によって常時前記基板保持面方向
に付勢された支持板の他端部に立設されており、さらに
、前記支持板の一端側にはローラーか立設されて、該ロ
ーラーは前記ばね力によって前記基板保持面の、前記基
板把持装置の一方のフィンガー部が通過する経路上に突
出しているもの、 また、前記落下防止ピンは、基板保持面の裏側からばね
のばね力によって常時前記基板保持面方向へ付勢されて
いる支持板の、反基板把持装置側の一端部に、前記基板
保持面に形成したピン用孔を通して立設されており、さ
らに、前記支持板には、その他端側に、先端にローラー
が取付けられたローラー支持棒が立設されて、前記ロー
ラーは前記ばね力によって、前記基板保持面に形成した
ローラー用孔を通って、該基板保持面の、前記基板把持
装置の一方のフィンガー部が通過する経路上に突出して
いるものがある。
The fall prevention pin is rotatably supported by one end on the substrate gripping device side or a support shaft within a recess formed in the substrate holding surface, and is always urged toward the substrate holding surface by the spring force of a spring. A roller is erected at the other end of the support plate, and a roller is erected at one end of the support plate, and the roller is moved by the spring force to one side of the substrate gripping device on the substrate holding surface. The fall prevention pin protrudes on the path through which the finger portion of the support plate passes, and the fall prevention pin is located on the opposite side of the support plate, which is always urged toward the board holding surface by the spring force from the back side of the board holding surface. A roller support rod is provided at one end on the side of the substrate gripping device through a pin hole formed in the substrate holding surface, and a roller support rod having a roller attached to the tip is provided at the other end of the support plate. The roller is erected, and the spring force causes the roller to protrude through a roller hole formed in the substrate holding surface onto a path of the substrate holding surface through which one finger portion of the substrate gripping device passes. There are things that exist.

前記落下防止板は、基板保持面で吸着保持した基板の上
方に相当する位置に、支軸によって吊り下げられた状態
で回動自在に軸支されて、前記基板の上部側の一部位と
重合するもの、 また、前記落下防止板は、基板保持面で吸着保持した基
板の上方と(37置決め部材の上方とにわたって固定し
た基台に、基板把持装置の移動方向にモ行して設けたカ
イトに摺動自在に係合された基部に固着されており、該
基部は、前記基台との間に張設したばねのばね力によっ
て、常時、前記落下防止板か前記基板の上側の一部位と
重合するように面記基板把持装置側へ付勢されており、
さらに、前記基部の、前記基板把持装置側の端面には、
前記基板保持面上に移動する前記基板把持装置の一方の
フィンガー部の先端に当接する駆動ピンを備えたものか
ある。
The fall prevention plate is rotatably supported in a suspended state by a support shaft at a position corresponding to the upper part of the substrate held by suction on the substrate holding surface, and is overlapped with a portion of the upper side of the substrate. Further, the fall prevention plate is provided on a base fixed over the substrate held by suction on the substrate holding surface and above the positioning member (37), so as to move in the direction of movement of the substrate gripping device. It is fixed to a base that is slidably engaged with the kite, and the base is always connected to the top of the fall prevention plate or the board by the spring force of a spring stretched between the base and the base. It is biased toward the printed substrate gripping device so as to overlap with the part,
Furthermore, on the end surface of the base on the substrate gripping device side,
Some devices include a drive pin that abuts the tip of one finger portion of the substrate gripping device that moves onto the substrate holding surface.

[作用] 本発明の基板保持装置は、基板保持面にて吸着保持した
基板が該基板保持面から離脱した場合、落下防止ピンお
よび落下防止板によフて前記基板を受止めて落下を防止
するものであり、前記落下防止ピンと落下防止板は、基
板の授受のため基板把持装置か前記基板保持面上に移動
してくると、該基板保持面から退避した状態となるので
、基板把持装置による基板の受渡し動作に支障をきたす
ことはない。
[Function] In the substrate holding device of the present invention, when the substrate held by suction on the substrate holding surface detaches from the substrate holding surface, the fall prevention pin and the fall prevention plate catch the substrate and prevent it from falling. When the fall prevention pin and the fall prevention plate are moved onto the substrate holding surface by the substrate gripping device to transfer a substrate, they are retracted from the substrate holding surface, so that the substrate gripping device This will not interfere with the board transfer operation.

「実施例」 次に、本発明の実施例につい図面を参照して説明する。"Example" Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図(a) 、 (b) 、 (c)は、それぞれ本
発明の基板保持装置の第1実施例を示す正面図、側面図
および底面図であり、X線マスク10を吸着保持した、
基板保持装置であるマスクステージ16とX線マスク1
0を把持して搬送するための基板把持装置であるマスク
ハンド1を示している。
1(a), (b), and (c) are a front view, a side view, and a bottom view, respectively, showing a first embodiment of the substrate holding device of the present invention, in which an X-ray mask 10 is held by suction.
Mask stage 16, which is a substrate holding device, and X-ray mask 1
1 shows a mask hand 1 which is a substrate gripping device for gripping and transporting a substrate.

まず、X線マスク10を把持するマスクハント1につい
て説明する。
First, the mask hunt 1 for gripping the X-ray mask 10 will be explained.

マスクハント1のハント本体2は平面視略コ字状に形成
されており、該ハント本体2の両側部には、把持したX
線マスク10の面と平行方向に突出する支持部5a、5
bがそれぞれ突設されている。該支持部5a、5bには
、それぞれ、ピン6a、6bが突設されており、該ピン
6a、6bによって一対のフィンガー部3a、3bが回
動自在に軸支されている。このフィンガー部3a。
The hunt body 2 of the mask hunt 1 is formed into a substantially U-shape in plan view, and the gripped X
Support parts 5a, 5 protruding in a direction parallel to the surface of the line mask 10
b are provided in a protruding manner. Pins 6a and 6b are provided on the support portions 5a and 5b, respectively, and a pair of finger portions 3a and 3b are rotatably supported by the pins 6a and 6b. This finger portion 3a.

3bには、それぞれ、一端にX線マスク10を把持する
ための爪4a、4bが取付けられており、また、他端側
には、前記型4a、4bが取付けられた一端側を閉じる
方向に常時付勢する不図示の圧縮ばねと該圧縮ばねのば
ね力に抗して前記フィンガー部3a、3bの一端側を開
く方向に駆動するソレノイド7a、7bとが前記ハンド
本体2との間に介在されており、該ソレノイド7a、7
bの駆動によってマスクハンド1の2つのフィンガー部
3a、3bの開閉を行う。さらに、前記ハンド本体2の
内部空所には、前記X線マスク10を磁気的に吸着する
ための磁気吸着ユニット8が取付けられている。
Claws 4a and 4b for gripping the X-ray mask 10 are attached to one end of each of the molds 3b, and claws 4a and 4b are attached to the other end of the molds 4a and 4b in the direction of closing the one end to which the molds 4a and 4b are attached. A compression spring (not shown) that is constantly energized and solenoids 7a and 7b that are driven in a direction to open one end side of the finger portions 3a and 3b against the spring force of the compression spring are interposed between the hand body 2 and the hand body 2. and the solenoids 7a, 7
The two finger parts 3a and 3b of the mask hand 1 are opened and closed by driving the mask hand 1. Furthermore, a magnetic attraction unit 8 for magnetically attracting the X-ray mask 10 is attached to the inner space of the hand main body 2.

この磁気吸着ユニット8は、永久磁石と、通電時に前記
永久磁石の磁力を相殺する方向に磁力を発するコイルと
から成るもので、X線マスク10の吸着は前記永久磁石
の磁力によって行い、該X線マスク10を離脱させる際
は前記コイルを通電させることによって、前記永久磁石
の磁力を打ち消して離脱させる。
The magnetic attraction unit 8 is composed of a permanent magnet and a coil that generates magnetic force in a direction that cancels out the magnetic force of the permanent magnet when energized.The X-ray mask 10 is attracted by the magnetic force of the permanent magnet, and the When removing the line mask 10, the coil is energized to cancel the magnetic force of the permanent magnet and remove it.

前記X線マスク10は、マスクツくターン13か描かれ
たマスクメンブレン12を、磁性体か埋込まれたマスク
フレーム11で保持したものであり、該マスクフレーム
11の磁性体の部分が前記磁気吸着ユニット8によって
吸着される。
The X-ray mask 10 has a mask membrane 12 on which a mask turn 13 is drawn, held by a mask frame 11 embedded with a magnetic material, and the magnetic material portion of the mask frame 11 is attracted to the magnetic attraction. It is adsorbed by unit 8.

上述のマスクハント1は、不図示の搬送装置に連結され
ており、X線マスク10を把持した状態で搬送装置によ
って矢示X方向に移動されてマスクステージ16へのX
線マスク10の受渡しを行う。
The above-mentioned mask hunt 1 is connected to a transport device (not shown), and is moved in the direction of arrow X by the transport device while gripping the X-ray mask 10, and is transported to the mask stage 16 by the X-ray mask 10.
The line mask 10 is delivered.

次に、マスクステージ16の構成について説明する。Next, the configuration of the mask stage 16 will be explained.

本実施例のマスクステージ16は、ステージ面16aに
永久磁石を有する不図示の磁気ユニットが埋込まれてお
り、該永久磁石の磁力によって、マスクフレーム11を
吸着することでX線マスク10を保持する。また、この
磁気ユニットは、通電時に、前記永久磁石の磁力を相殺
する方向に磁力を発するコイルを備えており、該コイル
を通電させることにより前記X線マスク10をステージ
面16aから離脱させる。ざらに、マスクステージ16
のステージ面16a上にはマスクハント1によってX線
マスク10が受渡される際の位置決めの目安となるVブ
ロック14とX線マスク10の落下を防止するための落
下防止ピン9および落下防止板15が取付けられている
In the mask stage 16 of this embodiment, a magnetic unit (not shown) having a permanent magnet is embedded in the stage surface 16a, and the X-ray mask 10 is held by attracting the mask frame 11 by the magnetic force of the permanent magnet. do. Further, this magnetic unit includes a coil that, when energized, generates a magnetic force in a direction that cancels out the magnetic force of the permanent magnet, and by energizing the coil, the X-ray mask 10 is separated from the stage surface 16a. Zarani, mask stage 16
On the stage surface 16a are a V block 14 that serves as a guide for positioning when the X-ray mask 10 is delivered by the mask hunt 1, a fall prevention pin 9 and a fall prevention plate 15 for preventing the X-ray mask 10 from falling. is installed.

落下防止板9は、前記Vブロック14の一部位とともに
X線マスク10の重力方向の落丁を防止するものであり
、ステージ面16a上で、X線マスク10の下端部に対
して反■ブロック側の斜上方に相当する位置に形成され
た凹所9gのマスクハント1側の側壁に、支軸9Cによ
って回動自在に軸支された支持板9bの自由端側に立設
されている。この支持板9bは、第1図(C)に詳細に
示すように、前記凹所9gにおいて、ばね9dによって
常時上方(ステージ面16a方向)へ付勢されており、
これによって、前記落下防止板9はステージ面16aに
形成したピン用孔9eを通って該ステージ面16aから
突出する。ステージ面16aから突出した落下防止板9
は、マスクステージ16で吸着保持したX線マスク10
に接触しないように、該X線マスクlOの周縁との間に
間隙が設けられている。また、前記支持板9b上には、
前記支軸9Cの近傍で、マスクハント1の一方のフィン
ガー部3bが通過する経路に相当する一部位にローラー
98か取付けられており、前記落下防止板9と同様に、
前記ばね9dのばね力によって、ステージ面16aから
、該ステージ面16aに形成したローラー用孔9fを通
ってフィンガー部3bの経路上に突出している。
The fall prevention plate 9, together with a part of the V block 14, prevents the X-ray mask 10 from falling in the direction of gravity, and is placed on the opposite side of the block from the lower end of the X-ray mask 10 on the stage surface 16a. A support plate 9b rotatably supported by a support shaft 9C is erected on the free end side of the side wall of the mask hunt 1 side of the recess 9g formed at a position corresponding to the obliquely upper side of the recess 9g. As shown in detail in FIG. 1(C), this support plate 9b is always urged upward (towards the stage surface 16a) by a spring 9d in the recess 9g,
As a result, the fall prevention plate 9 passes through the pin holes 9e formed in the stage surface 16a and protrudes from the stage surface 16a. Fall prevention plate 9 protruding from the stage surface 16a
is an X-ray mask 10 held by suction on a mask stage 16.
A gap is provided between the periphery of the X-ray mask 10 and the periphery of the X-ray mask 10 so as not to come into contact with the periphery of the X-ray mask IO. Moreover, on the support plate 9b,
Near the spindle 9C, a roller 98 is attached to a portion corresponding to the path through which one finger portion 3b of the mask hunt 1 passes, and similarly to the fall prevention plate 9,
Due to the spring force of the spring 9d, it projects from the stage surface 16a onto the path of the finger portion 3b through the roller hole 9f formed in the stage surface 16a.

る。Ru.

落下防止板15は、第1図(a)に示すように、平面視
略扇状に形成したもので、マスクステージ16にて保持
したX線マスク10の上端側に支軸15aによって吊り
下げられた状態で回動自在に取付けられている。この落
下防止板15の半径方向の長さは支軸15aからマスク
フレーム11の幅の中央部分へ達するもので、該落下防
止板15の幅広部分がマスクフレーム11の上部の一部
位と重合する構成となっており、この落下防止板15に
よって、X線マスク10か反ステージ面側(第1図(b
)中左方向)へ倒れるのを防止する。
As shown in FIG. 1(a), the fall prevention plate 15 is formed into a substantially fan shape in plan view, and is suspended by a support shaft 15a from the upper end side of the X-ray mask 10 held on the mask stage 16. It is mounted so that it can rotate freely. The length of the fall prevention plate 15 in the radial direction extends from the support shaft 15a to the center of the width of the mask frame 11, and the wide part of the fall prevention plate 15 overlaps with a part of the upper part of the mask frame 11. This fall prevention plate 15 prevents the X-ray mask 10 from being placed on the side opposite to the stage (Fig. 1(b)
) to prevent it from falling to the center left).

上述のように、落下防止板9および落下防止板15を備
えたマスクステージ16上にマスクハンド1が移動して
きた場合について、第2図(a) 、 (blを参照し
て説明する。
As described above, the case where the mask hand 1 has moved onto the mask stage 16 provided with the fall prevention plate 9 and the fall prevention plate 15 will be described with reference to FIGS. 2(a) and (bl).

第2図(a) 、 (b)は、それぞれマスクステージ
16上でマスクハンド1がX線マスク10を把持した状
態を示す正面図と底面図である。
FIGS. 2(a) and 2(b) are a front view and a bottom view, respectively, showing a state in which the mask hand 1 grips the X-ray mask 10 on the mask stage 16.

まず、マスクハンド1かマスクステージ161:に移動
してくると、一方のフィンガー部3bがステージ面16
a上に突出しているローラー9aに接触し、さらにマス
クハント1が移動すると、フィンガー部3bは、ローラ
ー9aが回転することにより、第2図(b)に示すよう
に、該フィンガー部3bのステージ面16a側の面が前
記ローラー9aの上側に接触した状態で移動するため、
該ローラー9aは面記ばね9dのばね力に抗して押下げ
られる。こわによって、ローラー9aとともに支持板9
bに取付けられてステージ面16a上に突出している落
下防止板9もステージ面16aから下方(矢示Y方向)
へ押下げられてステージ面16aから退避した状態とな
る。また、他方のフィンガー部3aは、その先端が落丁
防止板15のマスクハンド側の側縁に当接し、その状態
で移動するため、マスクハンド1の移動にともなって該
落下防止板15は上方(矢示Z方向)へ押下げられて、
前記落下防止板9と同様に、ステージ面16aから退避
した状態となる。
First, when the mask hand 1 or the mask stage 161 is moved, one finger portion 3b is moved to the stage surface 161.
When the mask hunt 1 comes into contact with the roller 9a protruding above the roller 9a and further moves, the finger portion 3b moves to the stage of the finger portion 3b as shown in FIG. 2(b) due to the rotation of the roller 9a. Since the surface on the side of surface 16a moves while being in contact with the upper side of the roller 9a,
The roller 9a is pushed down against the spring force of the surface spring 9d. Due to the stiffness, the support plate 9 along with the roller 9a
The fall prevention plate 9 attached to b and protruding above the stage surface 16a also extends downward from the stage surface 16a (in the direction of arrow Y).
The stage surface 16a is pushed down and retracted from the stage surface 16a. In addition, the tip of the other finger portion 3a touches the side edge of the mask hand side of the fall prevention plate 15 and moves in that state, so as the mask hand 1 moves, the fall prevention plate 15 moves upward ( arrow Z direction),
Similar to the fall prevention plate 9, it is in a state of being evacuated from the stage surface 16a.

上述の落下防止板9の押下げられた状態は、マスクステ
ージ16上からマスクハンド1が退避してフィンガー部
3bがローラー9aから離れるまで続き、マスクハント
1全体がマスクステージ16上から退避して、フィンガ
ー部3bがローラー9aから離れると、前述の第1図(
c)に示すように、ばね9dのばね力によって、ローラ
ー9aと落下防止板9とはステージ面16aから突出し
た状態となる。また、落下防止板15は、マスクハント
1の退避にともなフて自重により徐々にF降し、マスク
ステージ16上からマスクハント1か退避して、フィン
ガー部3aか落ド防庄板15から離れたとき前述の第1
図(a)に示すように支軸15aに吊り下がった状態と
なる。
The depressed state of the fall prevention plate 9 described above continues until the mask hand 1 is retracted from above the mask stage 16 and the finger portion 3b is separated from the roller 9a, and the entire mask hunt 1 is retracted from above the mask stage 16. , when the finger portion 3b separates from the roller 9a, as shown in FIG.
As shown in c), the spring force of the spring 9d causes the roller 9a and fall prevention plate 9 to protrude from the stage surface 16a. Further, as the mask hunt 1 evacuates, the fall prevention plate 15 gradually descends due to its own weight, and when the mask hunt 1 evacuates from above the mask stage 16, the finger portion 3a or the fall prevention plate 15 When you leave, the first
As shown in Figure (a), it is suspended from the support shaft 15a.

したかって、マスクステージ16に対して、X線マスク
10の授受を行う際、落下防止板9および落丁防止板1
5はマスクハンド1の移動にともなってステージ面16
aから退避した状態となるので5X線マスク10の授受
にともなうマスクハント1の移動に支障をきたすことは
ない。また、X線マスク10がマスクステージ16に受
渡されて該マスクステージ16上からマスクハント1か
退避した後、前記ステージ面16aに埋込まれている磁
気ユニットの誤動作等によりX線マスク10の吸着が解
除された場合でも、X線マスク10は、ステージ面16
aに突出した落丁防止ピン9と支軸f5aに吊り下がっ
た状態の落下防止板15とによって受止めることができ
る。
Therefore, when transferring the X-ray mask 10 to and from the mask stage 16, the fall prevention plate 9 and the drop prevention plate 1
5 is a stage surface 16 as the mask hand 1 moves.
Since it is in a state where it is evacuated from a, there is no problem with the movement of the mask hunt 1 when giving and receiving the 5X-ray mask 10. Further, after the X-ray mask 10 is delivered to the mask stage 16 and the mask hunt 1 is evacuated from the mask stage 16, the X-ray mask 10 may be attracted due to a malfunction of the magnetic unit embedded in the stage surface 16a. Even when the X-ray mask 10 is released, the X-ray mask 10
It can be received by the fall prevention pin 9 protruding from the direction a and the fall prevention plate 15 suspended from the support shaft f5a.

前述の、支持板9b七に取付けられた落)防止板9とロ
ーラー9aとの配置は、X線マスク10を把持したマス
クハンド1かマスクステージ16上に移動してきた際、
X線マスク10の周縁部が落下防止板9に接触する面に
、マスクハント1の一方のフィンガー部3bが、ローラ
ー9aに接触し、該ローラー9aを押圧して前記落下防
止板を押下げるような位置関係になっている必要がある
。さらに、落下防止板9とマスクステージ16に吸着保
持されたX線マスク10の周縁との間隔は、落下防止板
15の半径の長さを考慮して、前記落下防止板9でX線
マスク10を受止めた際、少なくとも、落下防止板15
の下端部が5第1図(b)に示すように、マスクフレー
ム11と重なるようなものでなければならない。
The above-mentioned arrangement of the drop prevention plate 9 attached to the support plate 9b7 and the roller 9a is such that when the mask hand 1 holding the X-ray mask 10 moves onto the mask stage 16,
One finger portion 3b of the mask hunt 1 contacts the roller 9a on the surface where the peripheral edge of the X-ray mask 10 contacts the fall prevention plate 9, and presses the roller 9a to push down the fall prevention plate. It is necessary to have a proper positional relationship. Further, the distance between the fall prevention plate 9 and the periphery of the X-ray mask 10 held by suction on the mask stage 16 is determined by considering the radius of the fall prevention plate 15. At least the fall prevention plate 15
The lower end of the mask frame 5 must overlap the mask frame 11, as shown in FIG. 1(b).

この落下防止板9とマスクフレーム11との間隙は、該
落下防止板9の上下動時、あるいはマスクフレーム11
の寸法誤差等が存在する場合、該落下防止板9がマスク
フレーム11に接触することにより、X線マスク10の
位置ずれを引き起こすことがないようにするために設け
てぃる。
The gap between the fall prevention plate 9 and the mask frame 11 is increased when the fall prevention plate 9 moves up and down, or when the mask frame 11
This is provided to prevent the fall prevention plate 9 from coming into contact with the mask frame 11 and causing the X-ray mask 10 to be displaced if there is a dimensional error or the like.

る。Ru.

次に、本発明の第2実施例について第3図(a)。Next, FIG. 3(a) shows a second embodiment of the present invention.

(b) 、 (c)を参照して説明する。This will be explained with reference to (b) and (c).

第3図(a) 、 (b) 、 (c)は、それぞれ、
本発明の基板保持装置の第2実施例を示す正面図、側面
図、底面図であり、基板保持装置であるマスクステージ
20によってX線マスク10を吸着保持した状態を示し
ている。なお、前述した第1実施例の場合と同一の構成
については同一符号を付している。
Figures 3(a), (b), and (c) are, respectively,
FIG. 2 is a front view, a side view, and a bottom view showing a second embodiment of the substrate holding device of the present invention, and shows a state in which an X-ray mask 10 is held by suction by a mask stage 20, which is a substrate holding device. Note that the same components as in the first embodiment described above are given the same reference numerals.

本実施例のマスクステージ20は、前記第1実施例の場
合と同様に、ステージ面20aに埋込まれた不図示の磁
気ユニットによフて、X線マスク10の着脱を行うもの
であり、該ステージ面20a上には、X線マスク10の
位置決めの目安となるVブロック21と、落下防止板1
5および落下防止板22とを備えている。
As in the first embodiment, the mask stage 20 of this embodiment attaches and detaches the X-ray mask 10 using a magnetic unit (not shown) embedded in the stage surface 20a. On the stage surface 20a, there is a V block 21 that serves as a guide for positioning the X-ray mask 10, and a fall prevention plate 1.
5 and a fall prevention plate 22.

落下防止板15は、前記第1実施例と同一のものであり
、マスクステージ20にて保持したX線マスク10の上
端側に支軸15aによって吊り下げられた状態で回動自
在に取付けられて、前記X線マスク10が反ステージ面
側(第3図(b)中左方向)へ倒れるのを防止する。
The fall prevention plate 15 is the same as that in the first embodiment, and is rotatably attached to the upper end side of the X-ray mask 10 held on the mask stage 20 while being suspended by a support shaft 15a. , to prevent the X-ray mask 10 from falling toward the side opposite to the stage surface (leftward in FIG. 3(b)).

落下防止板22は、前記第1実施例の場合と同様に、■
ブロック21の一部位とともにX線マスク10の重力方
向の落下を防止するものであり、マスクステージ20上
で、X線マスク10の下端部に対して、反Vブロック側
の斜上方に形成されたピン用孔22eを通ってステージ
面20a上に突出している。
As in the case of the first embodiment, the fall prevention plate 22 is
It prevents the X-ray mask 10 from falling in the direction of gravity together with a part of the block 21, and is formed diagonally above the lower end of the X-ray mask 10 on the opposite V block side on the mask stage 20. It protrudes onto the stage surface 20a through the pin hole 22e.

この落下防止板22は、第3図(c)に示すように、マ
スクステージ20の裏面に形成された凹所20bに固定
した引張ばね22cによって、常時上方(ステージ面2
0a方向)へ引張られるように支持された、側面視路り
字形の支持板22bの自由端側に立設されており、前記
引張ばね22cのばね力によって、上述のようにピン用
孔22eを通ってステージ面20a上に突出する。
As shown in FIG. 3(c), this fall prevention plate 22 is always kept in the upper direction (stage surface 2
The support plate 22b is erected on the free end side of the support plate 22b, which is supported so as to be pulled in the direction (0a direction), and has a curved shape in side view, and the pin hole 22e is opened as described above by the spring force of the tension spring 22c. It passes through and projects onto the stage surface 20a.

前記支持板22bは、その短辺側に相当する面にて前記
引張ばね22cによって支持されており、さらに、該引
張ばね22cによる支持部と前記落F防IF−ピン22
との間には、先端にローラー22aが取付けられたロー
ラー支持棒22fか立設されている。このローラー22
aは、前記引張ばね22cのばね力によって、前述の第
1実施例の場合と同様に、マスクステージ20に形成さ
れたローラー用孔22dを通ってマスクハンド1の方の
フィンガー部3bが通過する経路上に突出する。前記落
下防止板22が挿入されるとピン用孔22eとローラー
支持棒22fが挿入されるローラー用孔22dには、そ
れぞれ、落五防正ピン22およびローラー支持棒22f
を直線ガイドするための直動ベアリング23.24が設
けられており、該直動ベアリング23.24によって、
落下防止板22およびローラー支持棒22fはステージ
面20aに対して垂直に上下動するものとなる。
The support plate 22b is supported by the tension spring 22c on a surface corresponding to its short side, and furthermore, the support plate 22b is supported by the tension spring 22c and the fall prevention IF-pin 22.
A roller support rod 22f having a roller 22a attached to its tip is erected between. This roller 22
In a, the finger portion 3b of the mask hand 1 passes through the roller hole 22d formed in the mask stage 20 due to the spring force of the tension spring 22c, as in the first embodiment described above. protrude on the path. The pin hole 22e and the roller support rod 22f are inserted into the roller hole 22d when the fall prevention plate 22 is inserted, respectively.
A linear bearing 23.24 is provided for linearly guiding the
The fall prevention plate 22 and the roller support rod 22f move up and down perpendicularly to the stage surface 20a.

上述のようなマスクステージ2o上にマスクハンド1が
移動してきた場合について第4図(a)。
FIG. 4(a) shows a case where the mask hand 1 has moved onto the mask stage 2o as described above.

(b)を参照して説明する。This will be explained with reference to (b).

第4図(a) 、 (b)は、それぞわ、マスクステー
ジ20上でマスクハンド1によってX線マスク10を把
持した状態を示す正面図および底面図である。
FIGS. 4(a) and 4(b) are a front view and a bottom view, respectively, showing a state in which the X-ray mask 10 is gripped by the mask hand 1 on the mask stage 20.

マスクハンド1がマスクステージ20上にg動してくる
と、一方のフィンガー部3bがローラー22aに接触し
、さらにマスクハンド1か移動すると、フィンガー部3
bは、そのステージ面20a側の面がローラー22aに
接触した状態で移動するため、ローラー22aを下方へ
押圧することになり、引張ばね22cのばね力に抗して
支持板22bを下降させ、これにより、該ローラー22
aとともに支持板22bに立設されている落下防止板2
2は第4図(b)に示すようにステージ面20aから下
方へ押下げられる。また、落下防止板15については、
前述の第1実施例の場合と同様に、第4図(a)に示す
ように、マスクハント1の他方のフィンガー部3aの先
端部によって該マスクハンド1の移動にともなって上方
へ押下げられる。
When the mask hand 1 moves onto the mask stage 20, one of the finger parts 3b comes into contact with the roller 22a, and when the mask hand 1 moves further, the finger part 3
Since b moves with its surface on the stage surface 20a side in contact with the roller 22a, the roller 22a is pressed downward, and the support plate 22b is lowered against the spring force of the tension spring 22c. As a result, the roller 22
Fall prevention plate 2 erected on support plate 22b together with a
2 is pushed down from the stage surface 20a as shown in FIG. 4(b). Moreover, regarding the fall prevention plate 15,
As in the case of the first embodiment described above, as shown in FIG. 4(a), the tip of the other finger portion 3a of the mask hand 1 is pushed upward as the mask hand 1 moves. .

ト述の、落下防止ピン22が押下げられた状態は、マス
クステージ20−トから、マスクハント1か退避して、
フィンガー部3bがローラー22aから離れるまで続き
、該フィンガー部3bがローラー22aから離れると、
引張ばね22cの引張力によって、前述の第3図(C)
に示すように、落下防止ピン22はステージ面20a上
に突出する。
The state in which the drop prevention pin 22 is pressed down as described above is when the mask hunt 1 is evacuated from the mask stage 20.
This continues until the finger portion 3b separates from the roller 22a, and when the finger portion 3b separates from the roller 22a,
Due to the tensile force of the tension spring 22c, the above-mentioned figure 3 (C)
As shown in FIG. 2, the fall prevention pin 22 protrudes above the stage surface 20a.

また、落下防止板15については、前述の第1実施例の
場合と同様に、マスクハンド1の退避にともなって徐々
に下降し、マスクハンド1がマスクステージ20上から
退避してフィンガー部3aが落下防止板15から離れた
とき、前述の第3図(a)に示すように、支軸15aに
吊り下がった状態に戻る。
Further, as in the case of the first embodiment described above, the fall prevention plate 15 gradually lowers as the mask hand 1 retreats, and the mask hand 1 retreats from above the mask stage 20 and the finger portion 3a When it is separated from the fall prevention plate 15, it returns to the state where it is suspended from the support shaft 15a, as shown in FIG. 3(a) described above.

本実施例の場合も、落下防止板15および落下防止ピン
22は、マスクハンド1の移動によりマスクステージ2
0のステージ面20a上から退避するので、XIIマス
ク10の授受にともなうマスクハンド1の移動に支障を
きたすことはなく、市「述の第1実施例と同様な効果を
得ることができる。
In the case of this embodiment as well, the fall prevention plate 15 and the fall prevention pin 22 are moved to the mask stage 2 by the movement of the mask hand 1.
Since the mask hand 1 is evacuated from above the stage surface 20a of the XII mask 10, the movement of the mask hand 1 during the delivery and reception of the XII mask 10 is not hindered, and the same effect as in the first embodiment described in "Ichi" can be obtained.

本実施例の場合、落下防止ピン22とピン用孔22eと
の間、ローラー支持棒22fとローラー用孔22dとの
間には、それぞれ、直動ベアリング23.24が介在し
ているので、前記落下防止板22とローラー支持棒22
fは、ステージ面20aに対して垂直に上下動すること
になる。また、本実施例では、落下防止ピン22と、ロ
ーラー支持棒22fとが立設された支持板22bをその
一端側で引張ばね22cによって支持したが・落下防止
ピン22とローラー支持棒22fとの中間部分を支持し
てもよい。
In the case of this embodiment, the linear bearings 23 and 24 are interposed between the fall prevention pin 22 and the pin hole 22e, and between the roller support rod 22f and the roller hole 22d, so that the Fall prevention plate 22 and roller support rod 22
f will move up and down perpendicular to the stage surface 20a. Further, in this embodiment, the support plate 22b on which the fall prevention pin 22 and the roller support rod 22f are erected is supported by the tension spring 22c at one end thereof. The intermediate portion may be supported.

次に、本発明の第3実施例について第5図(a)。Next, FIG. 5(a) shows a third embodiment of the present invention.

(b)および第6図を参照して説明する。This will be explained with reference to (b) and FIG.

第5図(a) 、 (b)は、それぞれ、本発明の基板
保持装置であるマスクステージ50にてX線マスク10
を保持した状態を示す正面図と側面図であり、第6図は
前記マスクステージ50上でマスクハンド1がX線マス
ク10を把持した状態を示す1丁面図である。なお、前
述の各実施例と同一の構成については同一符号を付して
いる。
5(a) and 5(b) respectively show the X-ray mask 10 on the mask stage 50, which is the substrate holding device of the present invention.
6 is a front view and a side view showing a state in which the X-ray mask 10 is held by the mask hand 1 on the mask stage 50. FIG. Note that the same components as in each of the above embodiments are designated by the same reference numerals.

本実施例のマスクステージ50は、前述の各実施例のマ
スクステージと同様に、ステージ面50aに埋込まれた
不図示の磁気ユニットによってXMlマスク10の着脱
を行うものであり、該ステージ面50J:には、X線マ
スク10の位置決めの目安となるVブロック51を備え
ている。さらに、前記ステージ面50a上には、前述の
第1実施例の場合と同様な構成でX線マスク10の落下
を防止する落下防止ピン9が設けられているとともに、
前記Vブロック51とマスクステージ50で吸着保持し
たX線マスク10との上方に落下防止板52を取付ける
ための基台55が固定されている。
The mask stage 50 of this embodiment, like the mask stage of each of the above-described embodiments, attaches and detaches the XMl mask 10 using a magnetic unit (not shown) embedded in the stage surface 50a. : is equipped with a V block 51 that serves as a guide for positioning the X-ray mask 10. Further, on the stage surface 50a, a drop prevention pin 9 is provided to prevent the X-ray mask 10 from falling, having the same configuration as in the first embodiment described above.
A base 55 is fixed above the V block 51 and the X-ray mask 10 held by suction on the mask stage 50 on which a fall prevention plate 52 is attached.

前記基台55には、マスクハンド1の移動方向(第6図
中X方向)に平行して前記X線マスク10の上方からV
ブロック51の上方にわたって設けられたガイド56に
、逆台形状の落下防止板52を固着した基部52b(第
5図(b)参照)が慴動自在に係合されている。この基
部52bにはマスクハンド1側の端面に、該マスクハン
ド1がマスクステージ50上に移動してきた際、一方の
フィンガー部3aの先端が当接する駆動ピン53が突設
されている。また、前記基部52bは、その上面に突設
したばね支持部52aと前記基台55の左端側に突設し
たばね支持部55aとの間に張設された引張ばね54に
よって、第5図(a)に示すように、常時、前記落下防
止板52がX線マスク10の上側一部位と重合するよう
に引張られている。
The base 55 is provided with a V-shaped beam extending from above the X-ray mask 10 parallel to the moving direction of the mask hand 1 (X direction in FIG. 6).
A base 52b (see FIG. 5(b)) to which an inverted trapezoidal fall prevention plate 52 is fixed is movably engaged with a guide 56 provided above the block 51. A drive pin 53 is protrudingly provided on the end face of the base 52b on the mask hand 1 side, with which the tip of one finger portion 3a abuts when the mask hand 1 moves onto the mask stage 50. Further, the base 52b is supported by a tension spring 54 stretched between a spring support 52a protruding from the upper surface thereof and a spring support 55a protruding from the left end side of the base 55, as shown in FIG. As shown in a), the drop prevention plate 52 is always stretched so as to overlap with the upper part of the X-ray mask 10.

上述のようなマスクステージ50上に、マスクハンドl
が移動してきた場合を考えると、まず、方のフィンガー
部3bかローラー9aに接触して下方へ押圧することに
より、落下防止ピン9を押下げ、また、他方のフィンガ
ー部3aの先端が前記駆動ピン53に当接する。その後
、さらにマスクハンド1が進むと、前記フィンガー部3
aは駆動ピン53を引張ばね54のばね力に抗して押し
ながら進むことになる。そして、最終的にマスクハンド
1がマスクステージ50に対してX線マスク10を授受
する位置に達すると、前記落下防止板52は、第6図に
示すように、■ブロック5!の上部側(第5図(a)中
ガイド56の右端側)に移動する。その後、マスクハン
ド1がマスクステージ50上から退避していくと、落下
防止板52は、マスクハンド1の移動にともない前記引
張ばね54のばね力によって徐々に前記第5図(a)の
状態に戻っていく。したがって、本実施例においても、
落下防止板9および落下防止板52はマスクハンド1の
、X線マスク10の授受にともなう移動に支障をきたす
ことはなく、前述の各実施例と同様な効果を得ることが
できる。また、本実施例の落下防止板は、前述の第1実
施例と同一構成のものとしたが、第2実施例で用いた第
3図(C)に示すような構成のものでも良いい 前述の各実施例では、磁気ユニットを備えて、その磁力
によって基板を吸着保持する基板保持装置について説明
したが、本発明は、真空吸着式の基板保持装置について
も適用できるものであり、前述と同様な効果を得ること
ができる。
A mask hand l is placed on the mask stage 50 as described above.
When considering the case where the finger 3b moves, first, the fall prevention pin 9 is pushed down by touching the roller 9a with one finger 3b and pressing it downward, and the tip of the other finger 3a is moved by the drive. It comes into contact with the pin 53. After that, when the mask hand 1 advances further, the finger portion 3
A moves forward while pushing the drive pin 53 against the spring force of the tension spring 54. When the mask hand 1 finally reaches the position where the X-ray mask 10 is delivered to and received from the mask stage 50, the fall prevention plate 52 moves as shown in FIG. (to the right end of the guide 56 in FIG. 5(a)). Thereafter, as the mask hand 1 retreats from above the mask stage 50, the fall prevention plate 52 gradually returns to the state shown in FIG. 5(a) due to the spring force of the tension spring 54 as the mask hand 1 moves. I'm going back. Therefore, also in this example,
The fall prevention plate 9 and the fall prevention plate 52 do not interfere with the movement of the mask hand 1 as it transfers the X-ray mask 10, and the same effects as those of the embodiments described above can be obtained. Furthermore, although the fall prevention plate of this embodiment has the same structure as that of the first embodiment described above, it may also have the structure shown in FIG. 3(C) used in the second embodiment. In each of the embodiments described above, a substrate holding device that is equipped with a magnetic unit and uses its magnetic force to attract and hold a substrate has been described, but the present invention can also be applied to a vacuum adsorption type substrate holding device, and the same as described above can be applied. effect can be obtained.

[発明の効果] 本発明は、以上説明したように構成されているので下記
のような効果を奏する。
[Effects of the Invention] Since the present invention is configured as described above, it produces the following effects.

(1)基板保持装置において基板の落下が防止されるた
め、装置の安全性が確保されて信頼性も向上する。
(1) Since the substrate holding device prevents the substrate from falling, the safety of the device is ensured and reliability is improved.

(2)落下防止板および落下防止板は、基板把持装置の
基板保持面上への移動にともなって、該基板保持面から
退避した状態となるので、基板把持装置の移動に支障を
きたすことはなく、スムーズに基板の受渡し動作を行う
ことができる。
(2) The fall prevention plate and fall prevention plate are retracted from the substrate holding surface as the substrate gripping device moves onto the substrate holding surface, so they do not interfere with the movement of the substrate gripping device. Therefore, the board transfer operation can be performed smoothly.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a) 、 (b) 、 (c)は、それぞれ本
発明の基板保持装置の第1実施例を示す正面図、側面図
および底面図、第2図(a) 、 (b)は、それぞれ
、本発明の第1実施例であるマスクステージ上でマスク
ハンドがX線を把持した状態を示す正面図および底面図
、第3図(a) 、 (b) 、 (c)はそれぞれ、
本発明の基板保持装置の第2実施例を示す正面図、側面
図および底面図、第4図(a) 、 (b)は、それぞ
れ本発明の第2実施例であるマスクステージ上でマスク
ハンドがX線マスクを把持した状態を示す正面国都よび
底面図、第5図(a) 、 (b)は、それぞれ、本発
明の基板保持装置の第3実施例を示す正面図および側面
図5′$6図は、本発明の第3実施例であるマスクステ
ージ上でマスクハンドがX線マスクを把持した状態を示
す正面図、第7図は従来例を示す正面図である。 1−マスクハンド   2・−ハンド本体3−フィンガ
ー部   4−・爪 5−支持部      6−ピン 7・−ソレノイド    8・−磁気吸着ユニット9.
22−落下防止ピン 9a、22a−ローラー 9b、22b−一支持板 9c、15a−支軸9d−ば
ね 9e、22e−ピン用孔 9f、22d−・ローラー用孔 9g、20b−一凹所  1 11・・・マスクフレーム 12−・・マスクメンブレン 13・・・マスクパターン 14.21.51−・Vブロック 15.52−・・落下防止板 16.20.50−マスクステージ 16a、20a、50a−−ステージ面22c、54−
引張ばね 52a、55a−−ばね支持部 52b−基部     53・−駆動ピン55−基台 
     56−・・ガイド0−・X線マスク 特許出願人  キャノン株式会社 代 理 人  弁理士 若株 忠
FIGS. 1(a), (b), and (c) are a front view, a side view, and a bottom view showing the first embodiment of the substrate holding device of the present invention, and FIGS. 2(a) and (b) are respectively , FIGS. 3(a), 3(b), and 3(c) are respectively a front view and a bottom view showing a state in which a mask hand holds an X-ray on a mask stage according to the first embodiment of the present invention.
The front view, side view, and bottom view of the second embodiment of the substrate holding device of the present invention, and FIGS. FIGS. 5(a) and 5(b) are a front view and a side view, respectively, showing the third embodiment of the substrate holding device of the present invention. FIG. 6 is a front view showing a state in which a mask hand grips an X-ray mask on a mask stage according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a front view showing a conventional example. 1-Mask hand 2.-Hand body 3-Finger portion 4-.Claw 5-Support portion 6-Pin 7.-Solenoid 8.-Magnetic adsorption unit 9.
22 - Fall prevention pin 9a, 22a - Roller 9b, 22b - Support plate 9c, 15a - Support shaft 9d - Spring 9e, 22e - Pin hole 9f, 22d - Roller hole 9g, 20b - One recess 1 11 ...Mask frame 12--Mask membrane 13--Mask pattern 14.21.51--V block 15.52--Fall prevention plate 16.20.50-Mask stage 16a, 20a, 50a-- Stage surface 22c, 54-
Tension springs 52a, 55a--Spring support portion 52b-Base 53--Drive pin 55-Base
56--Guide 0--X-ray mask patent applicant Canon Co., Ltd. agent Patent attorney Tadashi Wakabu

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、X線露光用の基板を把持するための二つのフィンガ
ー部を有する基板把持装置によって搬送された基板を、
縦方向で吸着保持する基板保持面を備えた基板保持装置
において、前記基板の落下を防止するため常時前記基板
保持面上に突出し、前記基板把持装置が前記基板保持面
上に移動してきた際、該基板把持装置の一方のフィンガ
ー部によって前記基板保持面内へ押下げられる落下防止
ピンと、 反基板保持面側へ傾斜する基板を受止めるため、前記基
板保持面で吸着保持した基板の上側一部位と重合する場
所に常時位置し、前記基板把持装置が前記基板保持面上
に移動してきた際、該基板把持装置の他方のフィンガー
部によって押動かされて、前記基板保持面から退避され
る落下防止板とを有することを特徴とする基板保持装置
。 2、落下防止ピンは、基板保持面に形成した凹所内で基
板把持装置側の一端が支軸によって回動自在に軸支され
、かつ、ばねのばね力によって常時前記基板保持面方向
に付勢された支持板の他端部に立設されており、さらに
、前記支持板の一端側にはローラーが立設されて、該ロ
ーラーは前記ばね力によって前記基板保持面の、前記基
板把持装置の一方のフィンガー部が通過する経路上に突
出していることを特徴とする請求項1記載の基板保持装
置。 3、落下防止ピンは、基板保持面の裏側からばねのばね
力によって常時前記基板保持面方向へ付勢されている支
持板の、反基板把持装置側の一端部に、前記基板保持面
に形成したピン用孔を通して立設されており、 さらに、前記支持板には、その他端側に、先端にローラ
ーが取付けられたローラー支持棒が立設されて、前記ロ
ーラーは前記ばね力によって、前記基板保持面に形成し
たローラー用孔を通って、該基板保持面の、前記基板把
持装置の一方のフィンガー部が通過する経路上に突出し
ていることを特徴とする請求項1記載の基板保持装置。 4、落下防止板は、基板保持面で吸着保持した基板の上
方に相当する位置に、支軸によって吊り下げられた状態
で回動自在に軸支されて、前記基板の上部側の一部位と
重合することを特徴とする請求項1、2あるいは3記載
の基板保持装置。 5、落下防止板は、基板保持面で吸着保持した基板の上
方と位置決め部材の上方とにわたって固定した基台に、
基板把持装置の移動方向に平行して設けたガイドに摺動
自在に係合された基部に固着されており、該基部は、前
記基台との間に張設したばねのばね力によって、、常時
、前記落下防止板が前記基板の上側の一部位と重合する
ように前記基板把持装置側へ付勢されており、 さらに、前記基部の、前記基板把持装置側の端面には、
前記基板保持面上に移動する前記基板把持装置の一方の
フィンガー部の先端に当接する駆動ピンを備えたことを
特徴とする請求項1、2あるいは3記載の基板保持装置
[Claims] 1. A substrate conveyed by a substrate gripping device having two finger parts for gripping a substrate for X-ray exposure,
In a substrate holding device equipped with a substrate holding surface that sucks and holds the substrate in a vertical direction, the substrate always protrudes above the substrate holding surface to prevent the substrate from falling, and when the substrate gripping device moves onto the substrate holding surface, A fall prevention pin pushed down into the substrate holding surface by one finger of the substrate holding device, and an upper part of the substrate held by suction on the substrate holding surface in order to catch the substrate tilted toward the side opposite to the substrate holding surface. A drop prevention device that is always located at a location where the substrate gripping device overlaps with the substrate holding surface, and is pushed and moved by the other finger portion of the substrate gripping device to be evacuated from the substrate holding surface when the substrate gripping device moves onto the substrate holding surface. A substrate holding device characterized by having a plate. 2. The fall prevention pin has one end on the substrate gripping device side rotatably supported by a support shaft in a recess formed in the substrate holding surface, and is always urged toward the substrate holding surface by the spring force of a spring. A roller is erected at the other end of the support plate, and a roller is erected at one end of the support plate, and the roller moves the substrate holding surface of the substrate gripping device by the spring force. 2. The substrate holding device according to claim 1, wherein one of the finger portions protrudes onto a passage. 3. The fall prevention pin is formed on the substrate holding surface at one end of the supporting plate on the side opposite to the substrate gripping device, which is always urged toward the substrate holding surface by the spring force of a spring from the back side of the substrate holding surface. Further, a roller support rod having a roller attached to the tip thereof is erected on the other end of the support plate, and the roller is caused to move through the substrate by the spring force. 2. The substrate holding device according to claim 1, wherein the substrate holding surface protrudes onto a path through which one finger portion of the substrate gripping device passes through a roller hole formed in the holding surface. 4. The fall prevention plate is rotatably supported by a support shaft at a position corresponding to the upper part of the substrate held by suction on the substrate holding surface, and is connected to a part of the upper side of the substrate. 4. The substrate holding device according to claim 1, 2 or 3, wherein the substrate holding device is polymerized. 5. The fall prevention plate is fixed to a base that extends above the substrate held by suction on the substrate holding surface and above the positioning member.
It is fixed to a base that is slidably engaged with a guide provided parallel to the moving direction of the substrate gripping device, and the base is fixed by the spring force of a spring tensioned between it and the base. The fall prevention plate is always urged toward the substrate gripping device so as to overlap with a portion of the upper side of the substrate, and further, an end surface of the base on the substrate gripping device side includes:
4. The substrate holding device according to claim 1, further comprising a drive pin that abuts a tip of one finger portion of the substrate holding device that moves onto the substrate holding surface.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101505A (en) * 2003-03-13 2005-04-14 Ventec-Ges Fuer Venturekapital & Unternehmensberatung Mbh Mobile and transportable type electrostatic substrate holder
JP2007088456A (en) * 2005-09-19 2007-04-05 Asml Netherlands Bv Lithography equipment and mechanism

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