JPH04141319A - Control device for work liquid quality of electric discharging work device - Google Patents

Control device for work liquid quality of electric discharging work device

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JPH04141319A
JPH04141319A JP26000590A JP26000590A JPH04141319A JP H04141319 A JPH04141319 A JP H04141319A JP 26000590 A JP26000590 A JP 26000590A JP 26000590 A JP26000590 A JP 26000590A JP H04141319 A JPH04141319 A JP H04141319A
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JP
Japan
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machining fluid
machining
pump
resistivity
fluid supply
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Application number
JP26000590A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Katayama
忠 片山
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce the deformation due to the dissolution of the surface of a work, by feeding a work liquid selectively to a cation exchange resin storage body and an anion exchange resin storage body respectively, and controlling the work liquid so as to be set to the specified pH. CONSTITUTION:This device is equipped with a work tank 11 of a work liquid interposed between an electrode 2 and a work 1, a cation exchange pump 29 and an anion exchange pump 32. A control part 123 actuates either the pump 29 or pump 32 so as to reduce this difference, in the case of the measurement value measured by a hydrogen ion exponent measuring means 34 having the difference more than the specified value compared with a preset hydrogen ion exponent. Moreover on this device, a cation exchange resin storage body 28 and an anion exchange resin storage body 31 are provided, a work liquid is fed selectively to each of them, and the work liquid is made to be set at the specified pH.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は放電加工装置のIJIIT液液質制御装置に
関するものである4、 [従来の技術] 従来の放電加工装置の加工液液質制御装置についてワイ
ヤ放電加工装置を例にとり第9図を用いて説明する。第
9図において、(1)は被加工物〔2〕はワイヤ電極、
(3)はワイヤ電極か巻回されているボビン、 (4)
 、 (5)はワイヤ電極(2)の送給方向を変えるプ
ーリ、(6)は[二部ノズル、(7)は下部ノズル、(
8)はワイヤ電極(2)を回収するワイヤ電極回収箱、
 (9’) 、 (Its)はボビン(3)からプーリ
(1) 、  、、l=二部ノズル6)、ド部ノスル(
7)プーリ(5)を経由して張架されているワイヤ電極
(2)をワイヤ電極回収箱(8)に送給し1回収するワ
イヤ電極回収ローラである。(1,1)は加工液を貯え
る加工槽であり、この加工槽内で被加工物(1)とワイ
ヤ電極(2)の間に加工液を介して放電を起させて放電
前二りか行われる。(12)は加工液容器例えば前二り
液液性制御装置本体である。(13)は加I−液液性制
御装置本体(I2)に設けられ、前二[槽(11)から
前二「液が供給される汚液槽、 (+4)は加−[槽(
11)の加工液を汚液槽(13)に導くためのホースで
ある。(15)は濾過ポンプ、 (16)は濾過フィル
タ(17)は濾過ポンプ(15)と濾過フィルタ(16
)とをつなくホースであり、汚液槽(I2)に貯えられ
た加工液は濾過ポンプ(15)により吸−しげられ、ホ
ース(17)を経由して濾過フィルタ(16)に送られ
る。(18)は濾過フィルタ(16)を通過した加工液
を貯える清液槽であり、濾過フィルタ(16)はこの清
液槽(18)内に配設されている。(19)は汚液槽(
+3)と消液槽(18)との間を仕切る仕切板であり、
汚液槽(13)および清液槽(18)は共に加工液液質
制御装置本体(12)に配設されている。(20)は陽
イオン交換体13例えば陽イオン交換樹脂が収納される
とともに、陰イオン交換体1例えば陰イオン交換樹脂か
収納されているイオン交換樹脂収納体である。なお、こ
のイオン交換樹脂収納体(20)には陽イオン交換樹脂
および陰イオン交換樹脂がそれぞれ等量づつ収納されて
いる。(21)はイオン交換ポンプ、  (22)はイ
オン交換ポンプ(21)とイオン交換樹脂収納体(20
)をつなくホース、 (23)は制御部であり1 イオ
ン交換ポンプ(21)は制御部(23)からの指令によ
り作動し、清液槽(18)の加工液を吸い1−げ、この
吸上げられた加工液をホース(22)によりイオン交換
樹脂収納体(20)に供給する。なお、イオン交換樹脂
収納体(20)を通過した加工液は再び清液槽(18)
に戻される。、 (24)は清液槽(18)の加工液の
比抵抗を測定する比抵抗測定手段1例えば比抵抗測定器
である。(25)は制御部(23)の指令をイオン交換
ポンプ(21)に伝えるケーブル、 (26)は比抵抗
測定器(2/I)の信号を制御部(23)に伝えるケー
ブルである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] This invention relates to an IJIIT fluid quality control device for electrical discharge machining equipment.4 [Prior Art] Conventional machining fluid quality control device for electrical discharge machining equipment This will be explained using FIG. 9, taking a wire electrical discharge machining apparatus as an example. In FIG. 9, (1) is a workpiece [2] that is a wire electrode;
(3) is the bobbin on which the wire electrode is wound; (4)
, (5) is a pulley that changes the feeding direction of the wire electrode (2), (6) is a two-part nozzle, (7) is a lower nozzle, (
8) is a wire electrode collection box for collecting the wire electrode (2);
(9'), (Its) is from the bobbin (3) to the pulley (1), , l = two-part nozzle 6), the do-part nozzle
7) A wire electrode collection roller that feeds the stretched wire electrode (2) via the pulley (5) to the wire electrode collection box (8) and collects it once. (1, 1) is a machining tank that stores machining fluid, and in this machining tank, electric discharge is caused between the workpiece (1) and the wire electrode (2) through the machining fluid, and two steps are performed before discharge. be exposed. (12) is a machining liquid container, for example, the main body of the front two liquid control device. (13) is provided in the main body (I2) of the addition I-liquid control device;
11) is a hose for guiding the processing liquid to the waste liquid tank (13). (15) is the filtration pump, (16) is the filtration filter (17) is the filtration pump (15) and the filtration filter (16).
), and the machining liquid stored in the waste liquid tank (I2) is sucked by the filtration pump (15) and sent to the filtration filter (16) via the hose (17). (18) is a clear liquid tank that stores the processing liquid that has passed through the filtration filter (16), and the filtration filter (16) is disposed within this clear liquid tank (18). (19) is the sewage tank (
+3) and the quenching tank (18),
Both the dirty liquid tank (13) and the clean liquid tank (18) are arranged in the processing liquid quality control device main body (12). Reference numeral (20) is an ion exchange resin storage body in which a cation exchanger 13 such as a cation exchange resin is stored, and an anion exchanger 1 such as an anion exchange resin is stored. Note that the ion exchange resin housing (20) stores equal amounts of a cation exchange resin and an anion exchange resin. (21) is an ion exchange pump, (22) is an ion exchange pump (21) and an ion exchange resin storage body (20).
) is connected to the hose, and (23) is the control unit.1 The ion exchange pump (21) operates according to the command from the control unit (23), sucks the processing liquid from the fresh liquid tank (18), and pumps this liquid. The sucked up machining fluid is supplied to the ion exchange resin housing (20) through the hose (22). Note that the processing liquid that has passed through the ion exchange resin container (20) is returned to the clear liquid tank (18).
will be returned to. , (24) is a resistivity measuring means 1, such as a resistivity measuring device, for measuring the resistivity of the machining liquid in the clear liquid tank (18). (25) is a cable that transmits commands from the control section (23) to the ion exchange pump (21), and (26) is a cable that transmits signals from the resistivity measuring device (2/I) to the control section (23).

(27)は清液槽(18)の加工液を1一部ノズル(6
)および下部ノズル(7)を介して被加工物(1)とワ
イヤ電極(2)の間に噴出させるための加工液噴出ポン
プ、 (50)は加工液噴出ポンプ(27)により加圧
された加工液をに1部ノズル(6)およびF部ノズル(
7)に導くホースである。
(27) is a part of the nozzle (6
) and a machining fluid jet pump for spouting between the workpiece (1) and the wire electrode (2) through the lower nozzle (7), (50) is pressurized by the machining fluid jet pump (27). Apply the machining fluid to the 1 part nozzle (6) and the F part nozzle (
7).

なお、加−L液はl二部ノズル(6)および下部ノズル
(7)より噴出した後棚上槽(11)に−時計えられる
Incidentally, the addition L liquid is discharged from the two-part nozzle (6) and the lower nozzle (7) and then stored in the shelf tank (11).

次に第9図に示されるワイヤ放電加工装置の動作につい
て説明する。
Next, the operation of the wire electrical discharge machining apparatus shown in FIG. 9 will be explained.

被加工物(1)とワイヤ電極(2)との間に電圧を印加
し、上部ノズル(6)および下部ノズル(7)より噴出
される加工液を介して放電を行わせ、被加工物(1)の
加工部を溶融除去することにより加工を進める。このと
き、ワイヤ電極(2)も放電にともない放電部分が溶融
され、劣化するので、加工の進行と共に新しいワイヤ電
極(2)が加工部に供給されるように、加工中はボビン
(3)に巻回されたワイヤ電極(2)は、プーリ(/I
)、 −1〕部ノズル(6)下部ノズル(7)、プーリ
(5)、ワイヤ電極ローラ(9) 、 (1,0)を経
由してワイヤ電極回収箱(8)に送り続けられる。
A voltage is applied between the workpiece (1) and the wire electrode (2) to cause electric discharge to occur through the machining liquid ejected from the upper nozzle (6) and the lower nozzle (7), and the workpiece ( Processing proceeds by melting and removing the processed portion of 1). At this time, the discharge part of the wire electrode (2) also melts and deteriorates due to the discharge, so during machining, the bobbin (3) is placed so that a new wire electrode (2) is supplied to the machining part as the machining progresses. The wound wire electrode (2) is attached to a pulley (/I
), -1] part nozzle (6), lower nozzle (7), pulley (5), wire electrode rollers (9), (1,0), and continue to be sent to the wire electrode collection box (8).

−に1部ノズル(6)および下部ノズル(7)より噴出
した加工液は加工部に生ずるスラッジを流した後。
- After the machining fluid spouted from the first part nozzle (6) and the lower nozzle (7) flows away the sludge generated in the machining part.

不純物を多く含有した状態となり、加工槽(11)に−
時貯えられる。
It becomes a state containing a lot of impurities, and -
Time can be saved.

加工槽(11)の加工液はホース(14)により汚液槽
(13)に導かれ、汚液槽(13)の加工液は濾過ポン
プ(15)によりホース(17)を経由して清液槽(1
8)に配設されている濾過フィルタ(16)に送られる
。従って、濾過フィルタ(16)を通過することにより
不純物が濾過された加工液は清液槽(18)に貯えられ
る。
The machining liquid in the machining tank (11) is led to the waste liquid tank (13) by a hose (14), and the process liquid in the waste liquid tank (13) is transferred to clean liquid via the hose (17) by a filtration pump (15). Tank (1
8) is sent to the filtration filter (16) located at 8). Therefore, the processing liquid from which impurities have been filtered by passing through the filtration filter (16) is stored in the clear liquid tank (18).

清液槽(18)の加工液は比抵抗測定器(24)により
比抵抗か測定され、 ff111定された結果はケーブ
ル(2G)を介して制御部(23)に送られる。
The resistivity of the machining fluid in the clean fluid tank (18) is measured by a resistivity meter (24), and the determined result is sent to the control unit (23) via the cable (2G).

制御部(23)は比抵抗測定器(24)の測定結果があ
らかじめ設定された設定値より低い場合は、イオン交換
ポンプ(21)を作動させ、 i’i’l液槽(18)
の加工液をホース(22)を経由してイオン交換樹脂収
納体(20)に送り、放電加工により生じた金属イオン
や大気中の炭酸ガスによる二酸化炭素イオンなとを取り
除き、加工液の比抵抗を−に昇させる。なお安定な放電
加工を行うためには加工液の比抵抗は所定(it:iよ
り高いことか7星てあり、1−述のあらかしめ設定した
設定1irjになっていれば、この条件が満足され安定
な放電加工か可能になる。
If the measurement result of the resistivity measuring device (24) is lower than a preset value, the control unit (23) operates the ion exchange pump (21) and drains the i'i'l liquid tank (18).
The machining fluid is sent to the ion exchange resin storage body (20) via the hose (22), and metal ions generated by electrical discharge machining and carbon dioxide ions due to carbon dioxide gas in the atmosphere are removed, and the specific resistance of the machining fluid is reduced. raise to -. In addition, in order to perform stable electric discharge machining, the specific resistance of the machining fluid must be higher than a predetermined value (it: 7 stars, indicating that it is higher than i, and this condition is satisfied if the setting is 1irj, which is set in the summary described in 1-1). This enables stable electrical discharge machining.

また、加工液の比抵抗か上述のあらかじめ設定した設定
値より高くなれば、それ以上さらに比抵抗を−り昇させ
ないようにするためイオン交換ポンプ(21)を停止さ
せ、加工液の比抵抗を」−述のあらかしめ設定した設定
値付近に保持するようにしている。
In addition, if the specific resistance of the machining fluid becomes higher than the above-mentioned preset value, the ion exchange pump (21) is stopped to prevent the resistivity from increasing further, and the resistivity of the machining fluid is increased. ” - I try to keep it near the setting value that I have set as mentioned above.

第10図は、制御部(23)の制御動作を表にしたもの
であり1図において欄(R100I)は比抵抗測定器(
24)の測定結果が、あらかしめ設定された設定値より
低い場合、イオン交換ポンプ(21)を作動させること
を表わし、欄(R1002)は。
Figure 10 is a table showing the control operations of the control unit (23). In Figure 1, the column (R100I) is the specific resistance measuring device (
If the measurement result of step 24) is lower than the preset value, the ion exchange pump (21) is operated, and the column (R1002) indicates that the ion exchange pump (21) is operated.

比抵抗測定器(24)の測定結果が−に述のあらかじめ
設定された設定値より高い場合、イオン交換ポンプ(2
1)を停止させることを表わしている。
If the measurement result of the resistivity meter (24) is higher than the preset value mentioned in -, the ion exchange pump (24)
1) is to be stopped.

第11図は、制御部(23)の制御動作を動作フロー図
にしたものであり9図において、ステップ(S]、 1
01 )では、加工液の比抵抗があらかじめ設定された
設定値より低いか否かを判定し、低い場合はステップ(
811,02)に進み、低くない場合はステップ(S1
103)に進む。
FIG. 11 is an operation flow diagram of the control operation of the control unit (23), and in FIG. 9, steps (S], 1
01), it is determined whether the specific resistance of the machining fluid is lower than a preset setting value, and if it is lower, step (
811,02), and if it is not low, proceed to step (S1
Proceed to step 103).

ステップ(31,102)ではイオン交換ポンプ(21
)を作動させ、ステップ(S1101)に戻る。
In step (31, 102), the ion exchange pump (21
) and return to step (S1101).

ステップ(S 1103)ではイオン交換ポンプ(21
)を停止させ、ステップ(S1101)に戻る。
In step (S1103), the ion exchange pump (21
) and return to step (S1101).

さて、被加工物(1)は加工液に曝されることにより、
加工液により溶解される現象が生じる。この溶解の度合
は加工液の水素イオン指数(以降水素イオン指数をP 
I−1と称す)が7の中性のときに最小になるとは限ら
す溶解の度合が最小となるPI]は被加工物(1)の材
質により異る。例えば被加工物が銅であれば、PTIが
9のときにはP I−1が7のときに比べ、飽和イオン
計が100分の1となり溶解しにくくなる。従って、こ
の場合、PHが9の加工液で加工すれば、PI−1が7
の加工液で加工するより溶解による被加lに物(1)の
変形を少くすることが出来る。しかし、従来の加工液液
質制御装置においては、P Hの値は任意に制御するこ
とが出来ないので、被加工物(1)の材質にあわせて溶
解の度合を最小にすることは出来なかった。
Now, by exposing the workpiece (1) to the machining fluid,
A phenomenon occurs in which the material is dissolved by the processing fluid. The degree of dissolution is determined by the hydrogen ion index (hereinafter referred to as hydrogen ion index P) of the processing fluid.
The PI at which the degree of dissolution is the minimum does not necessarily reach a minimum when the PI (referred to as I-1) is 7, which is neutral, but varies depending on the material of the workpiece (1). For example, if the workpiece is copper, when the PTI is 9, the saturation ion meter is 1/100 of that when the PI-1 is 7, making it difficult to dissolve. Therefore, in this case, if processing is performed using a machining fluid with a pH of 9, PI-1 will be 7.
It is possible to reduce the deformation of the object (1) due to melting than when processing with a processing liquid of However, in conventional machining fluid quality control devices, the value of PH cannot be controlled arbitrarily, so it is not possible to minimize the degree of dissolution depending on the material of the workpiece (1). Ta.

また、加工中に陽イオンまたは陰イオンのうちいずれか
一方が他方に比べ多く発生する場合、イオン交換樹脂収
納体(20)内の陽イオン交換樹脂または陰イオン交換
樹脂のうちの一方か先に劣化し他方はほとんと劣化しな
い現象か生じる。このような場合でも従来のものはイオ
ン交換樹脂収納体(20)全体を交換していたので、無
駄を生していた。
In addition, if either cations or anions are generated more than the other during processing, one of the cation exchange resin and anion exchange resin in the ion exchange resin storage body (20) should be used first. A phenomenon occurs where one deteriorates while the other hardly deteriorates. Even in such a case, in the conventional system, the entire ion exchange resin container (20) was replaced, resulting in waste.

なお2 イオン交換樹脂の劣化はイオン交換ポンプ(2
1)を所定時間作動させても比抵抗が上述のあらかしめ
設定した設定値まで高くならないことなどにより検出し
ている。
Note 2: Deterioration of ion exchange resin can be caused by using an ion exchange pump (2
1) is activated for a predetermined period of time, the specific resistance does not rise to the above-mentioned preset value.

1発明が解決しようとする課題] 従来の放電前二「装置の加」−液液性制御装置は以上の
ように構成されているので、加工液のP I−Fは任α
に制御できず、被加工物(1)の材質によっては被加工
物(1)が加工液に溶解しやすい状態で加工され被加工
物(1)が溶解により変形する場合かあり、また、陽イ
オン交換樹脂と陰イオン交換樹脂のうちいずれか一方か
劣化したとき、他方も含めて交換しなければならないな
どの問題点があった この発明は、上述のような問題点を解消するためになさ
れたもので加4′、液のIJIIか任意に設定できると
ともに、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂のうちい
ずれか一方か劣化したとき、劣化した方のイオン交換樹
脂のみを交換できる放電加を装置の加−「液液性制御装
置を得ることを目的とする。
1. Problems to be Solved by the Invention] The conventional pre-discharge 2. "Addition of the device"--liquid Since the liquid control device is configured as described above, the P I-F of the machining fluid can be adjusted freely.
Depending on the material of the workpiece (1), the workpiece (1) may be processed in a state where it easily dissolves in the machining fluid, and the workpiece (1) may be deformed due to melting. This invention was made to solve the above-mentioned problems, such as when either the ion exchange resin or the anion exchange resin deteriorates, the other must be replaced as well. The IJII of the liquid can be set arbitrarily, and when either the cation exchange resin or the anion exchange resin deteriorates, the discharge voltage can be used to replace only the deteriorated ion exchange resin. Addition of device - ``The purpose is to obtain a liquid-liquid control device.

「課題を解決するための手段1 この発明に係る放電加工装置の加工液液質制御装置は電
極と液加−[物の間に介在させる加]−液を貯える加工
液容器と 加工液から陽イオンを除去し1加玉液容器に戻す陽イオ
ン交換手段と IJII IT液から陰イオンを除去し、加工液容器に
戻す陰イオン交換手段と 加工液容器の加−二液を陽イオン交換手段に供給する第
1加−■−二液供給手段 加工液容器の加I′、液を陰イオン交換手段に供給する
第2加を二液供給手段と 加I−液の水素イオン指数を測定する水素イオン指数測
定手段と 水素イオン指数測定手段により測定された測定値があら
かじめ設定された水素イオン指数に比べ所定(11i以
1−の差冗があるときはこの差異を減少するように第1
.第2加二[液供給手段のいずれかを作動させる加工液
供給制御手段とを備えるようにしたものである。
"Means for Solving the Problems 1 A machining fluid quality control device for an electric discharge machining apparatus according to the present invention includes an electrode, a fluid adder [a fluid interposed between an object], a machining fluid container for storing the fluid, and a machining fluid that is removed from the machining fluid. A cation exchange means for removing ions and returning them to the processing liquid container; an anion exchange means for removing anions from the IJII IT solution and returning them to the processing liquid container; A first addition means for supplying two liquids; a second addition means for supplying the liquid to the anion exchange means; a second addition means for supplying the liquid to the anion exchange means; When the measured values measured by the ion index measuring means and the hydrogen ion index measuring means have a predetermined difference (11i to 1-) compared to the preset hydrogen ion index, the first step is performed to reduce this difference.
.. The machining liquid supply control means for operating one of the second and second liquid supply means is provided.

〔作用〕[Effect]

1、記のように構成した放電加工装置の加工液液質制御
装置は、陽イオン交換樹脂を収納する陽イオン交換樹脂
収納体と陰イオン交換樹脂を収納する陰イオン交換樹脂
収納体とを設け、それぞれに対し1選択的に加工液を供
給し、加工液を所定のf’ T−1に設定する1、 〔実施例] 実施例1゜ 以F、この発明の一実施例について、この発明の一実施
例が適用されたワイヤ放電加工装置の構成を示す第1図
により説明する。第1図において(1)〜(+9)、 
(24’)、 (26)および(27)は第8図におい
て同−符弓・を付したものき同様なので説明を省略する
。第8図において、 (2g)は陽イオン交換樹脂が収
納されている陽イオン交換手段9例えば陽イオン交換樹
脂収納体である3、(1,23)は加工液供給制御手段
1例えば制御部である。(29)は第1加工液供給制御
手段1例えば、陽イオン交換ポンプである。(30)は
陽イオン交換ポンプ(29)と陽イオン交換樹脂収納体
(28)とをつなぐホースであり陽イオン交換ポンプ(
29)は制御部(123)からの指令により作動し、漬
液槽(18)の加工液を吸い−1−、げこの吸い(−げ
られた加工液をホース(30)により陽イオン交換樹脂
収納体(28)に供給する1、なお、陽イオン交換樹脂
収納体(28)を通過した加工液は再び漬液槽(+8)
に戻される。
1. A machining fluid quality control device for an electric discharge machining apparatus configured as described above includes a cation exchange resin storage body for storing a cation exchange resin and an anion exchange resin storage body for storing an anion exchange resin. , the machining fluid is selectively supplied to each of the machining fluids, and the machining fluid is set at a predetermined f' T-1. A description will be given with reference to FIG. 1, which shows the configuration of a wire electrical discharge machining apparatus to which one embodiment of the present invention is applied. In Figure 1, (1) to (+9),
(24'), (26), and (27) are the same as those marked with the same symbol in FIG. 8, so their explanation will be omitted. In FIG. 8, (2g) is a cation exchange means 9 in which a cation exchange resin is stored, for example, a cation exchange resin storage body 3, and (1, 23) is a processing fluid supply control means 1, for example, a control section. be. (29) is the first processing fluid supply control means 1, for example, a cation exchange pump. (30) is a hose that connects the cation exchange pump (29) and the cation exchange resin storage body (28);
29) is activated by a command from the control unit (123), sucks the machining fluid from the soaking liquid tank (18), and stores the machining fluid in the cation exchange resin via the hose (30). The processing liquid that has passed through the cation exchange resin container (28) is supplied to the soaking liquid tank (+8) again.
will be returned to.

(31)は陰イオン交換樹脂が収納されている陰イオン
交換手段1例えば陰イオン交換樹脂収納体である。(3
2)は第2加工液供給手段1例えば、陰イオン変換ポン
プである。、 (33)は陰イオン交換ポンプ(32)
と陰イオン交換樹脂収納体(31)とをつなぐボースで
あり、陰イオン交換ポンプ(32)は制御部(1,23
)からの指令により作動し、1lII液槽(18)の加
工液を吸い上げ、この吸い上げられた加工液をホース(
33)により陰イオン交換樹脂収納体(31)に供給す
る。なお、陰イオン交換樹脂収納体(31)を通過した
加工液は再び清液槽(18)に戻される。
(31) is an anion exchange means 1 in which an anion exchange resin is stored, for example, an anion exchange resin storage body. (3
2) is the second processing liquid supply means 1, for example, an anion conversion pump. , (33) is an anion exchange pump (32)
and the anion exchange resin housing (31), and the anion exchange pump (32) is connected to the control unit (1, 23).
), the machining fluid in the 1lII liquid tank (18) is sucked up, and the sucked up machining fluid is passed through the hose (
33) to the anion exchange resin storage body (31). Note that the processing liquid that has passed through the anion exchange resin container (31) is returned to the clear liquid tank (18) again.

(34)は清液槽(18)の加工液のP Hを測定する
水素イオン指数測定手段1例えばI) I−1測定器で
ある。
(34) is a hydrogen ion index measuring means 1, such as I) I-1 measuring device, for measuring the pH of the processing liquid in the fresh liquid tank (18).

(35)はI〕H測定器(34)の信号を制御部(12
3)に伝えるケーブル、 (36)は制御部(12:l
d)からの指令を陽イオン交換ポンプ(29)に伝える
ケーブル、 (37)は制御部(1,23)からの指令
を陰イオン交換ポンプ(32)に伝えるケーブルである
(35) is a control unit (12) that transmits the signal from the IH measuring device (34).
3), (36) is the control unit (12: l
d) is a cable that transmits commands from the cation exchange pump (29); (37) is a cable that transmits commands from the controller (1, 23) to the anion exchange pump (32);

次に、第1図に示されるこの発明の一実施例が適用され
たワイヤ放電加工装置の動作について説明する。
Next, the operation of the wire electrical discharge machining apparatus to which an embodiment of the present invention shown in FIG. 1 is applied will be explained.

被加工物(1)とワイヤ電極(2)との間の放電による
被加工物(1)の加工、ワイヤ電極(2)の送給および
回収、加工槽(11)の加工液がホース(14)を介し
て汚液槽(13)に供給される動作、汚液槽(13)の
加工液が濾過ポンプ(15)、濾過フィルタ(托)。
Machining of the workpiece (1) by electric discharge between the workpiece (1) and the wire electrode (2), feeding and recovery of the wire electrode (2), machining liquid in the machining tank (11) ), the processing liquid in the waste liquid tank (13) is supplied to the waste liquid tank (13) through the filtration pump (15) and the filtration filter.

およびホース(17)により濾過されて、清液槽(18
)に送られる動作、および清液槽(18)の加工液が加
工液噴出ポンプ(27)により上部ノズル(6)および
下部ノズル(7)を介して加工槽(11)に戻される動
作は、従来例の動作と同様なので説明を省略する。
and a hose (17) to filter the fresh liquid tank (18).
), and the operation in which the machining fluid in the fresh liquid tank (18) is returned to the machining tank (11) via the upper nozzle (6) and the lower nozzle (7) by the machining fluid jet pump (27). Since the operation is similar to that of the conventional example, the explanation will be omitted.

陽イオン交換ポンプ(29)および陰イオン交換ポンプ
(32)の動作について、第2図により説明する。
The operation of the cation exchange pump (29) and the anion exchange pump (32) will be explained with reference to FIG. 2.

第2図は、制御部(+23)の制御のもとに7陽イオン
交換ポンプ(29)と陰イオン交換ポンプ(32)が加
工液の比抵抗および加工液のP Hに対応して、とのよ
うに動作するかについて一覧表にしたものである。
Figure 2 shows that under the control of the control unit (+23), the 7 cation exchange pump (29) and anion exchange pump (32) respond to the specific resistance of the machining fluid and the pH of the machining fluid. This is a list of how it works.

第2図において、l (R201)は、比抵抗の測定値
があらかじめ設定された設定値より低くP Hの測定値
かあらかじめ設定された設定範囲の下限より低い場合に
は、陽イオン交換ポンプ(29)および陰イオン交換ポ
ンプ(32)を作動させることを示している。
In FIG. 2, l (R201) is the cation exchange pump ( 29) and the anion exchange pump (32) are shown operating.

欄(R202)、欄(R203)はそれぞれPl(の測
定値が」二連のあらかしめ設定された設定範囲内にある
場合、および上述のあらかしめ設定された設定範囲の上
限より高い場合も、欄(R201)と同様に比抵抗の測
定値カ月−述のあらかじめ設定された設定値より低けれ
ば、陽イオン交換ポンプ(29)および陰イオン交換ポ
ンプ(32)を作動させることを示している。
Columns (R202) and Columns (R203) respectively indicate that when the measured value of Pl is within the double set range, and also when it is higher than the upper limit of the set range set above, Similarly to column (R201), if the measured value of specific resistance is lower than the preset value described above, it indicates that the cation exchange pump (29) and the anion exchange pump (32) are to be operated.

欄(R204)は比抵抗の測定値が上述のあらかしめ設
定された設定値より高<、1)I(の測定値が1−述の
あらかしめ設定された設定範囲の下限より低い場合には
、陽イオン交換ポンプ(29)を停止1−させ、陰イオ
ン交換ポンプ(32)を作動させることを示している。
Column (R204) indicates that the measured value of resistivity is higher than the preset value set above, and 1) If the measured value of I( is lower than the lower limit of the set range preset as described above), , indicates that the cation exchange pump (29) is stopped (1-) and the anion exchange pump (32) is activated.

欄(R205)は比抵抗の測定値が上述のあらかしめ設
定された設定値より高<、PHの測定値が上述のあらか
しめ設定された設定範囲内にある場合には陽イオン交換
ポンプ(29)および陰イオン交換ポンプ(32)共に
停止させることを示している。
Column (R205) indicates that if the measured value of resistivity is higher than the set value set above, and the measured value of PH is within the set range set above, the cation exchange pump (29 ) and anion exchange pump (32) are both shown to be stopped.

欄(R206)は比抵抗の測定値が一1二述のあらかし
め設定された設定値より高< P I−1の測定値が−
1−述のあらかじめ設定された設定範囲の上限より高い
場合には陽イオン交換ポンプ(29)を作動させ。
Column (R206) indicates that the measured value of specific resistance is higher than the preset value set in 112. The measured value of PI-1 is -
1- If the value is higher than the upper limit of the preset setting range mentioned above, activate the cation exchange pump (29).

陰イオン交換ポンプ(32)を停止させることを示して
いる。
This indicates that the anion exchange pump (32) is to be stopped.

第2図に示されるように、加工液の比抵抗が低く、陽イ
オンおよび陰イオンか多量に加工液中に存在していると
きは陽イオン交換ポンプ(29)および陰イオン交換ポ
ンプ(32)を作動させ陽イオンおよび陰イオンを同時
に取り除くようにする2、そして、1ヒ抵抗か」二連の
あらかしめ設定された設定fi+“1に等しくなるまで
この動作を紺:続する3、また、比抵抗の測定値かあら
かしめ設定された1−述の設定111″1よりも高くな
ったときは、1〕■+の測定[直に応して陽イオン交換
車/)(29)および陰イオン交換ポンプ(32)の動
作を変える。
As shown in Figure 2, when the specific resistance of the machining fluid is low and a large amount of cations and anions are present in the machining fluid, the cation exchange pump (29) and the anion exchange pump (32) 2. Activate to remove cations and anions at the same time, and continue this operation until the resistance is equal to the set setting fi + 1. 3. Also, If the measured value of resistivity is higher than the pre-set setting 1-111''1, measure 1] Change the operation of the ion exchange pump (32).

すなわち、PHの測定(直力叫−述のあらがしめ設定さ
れた設定範囲の下限より低い場合は、PHの測定値を上
述のあらかしめ設定された範囲内にするために陽イオン
交換ポンプ(29)を停止ト、させ、陰イオン交換ポン
プ(32)のみを作動させl) I−1の値を1−Y1
′、させる。
In other words, if the pH measurement value is lower than the lower limit of the preset range, the cation exchange pump ( 29) is stopped, and only the anion exchange pump (32) is operated, and the value of I-1 is set to 1-Y1.
', Let.

また、Pilの測定1直か1−述のあらかしめ設定され
た設定範囲内にあるときは、比抵抗は−1−述の設定値
より高<、シかもl) I−Iは上述のあらかしめ設定
された設定範囲内にあるので、この状態を保持するよう
に陽イオン交換ポンプ(29)および陰イオン交換ポン
プ(32)を停止させる。
In addition, if the Pil measurement is within the setting range specified in 1-1, the specific resistance may be higher than the setting value specified in 1-1). Since the caulking is within the set range, the cation exchange pump (29) and the anion exchange pump (32) are stopped to maintain this state.

さらに、PI−Iの測定値か1−述のあらかじめ設定さ
れた設定範囲の−L限より高い場合は、PI−Iを下げ
、PI−1か−に連のあらかしめ設定された設定範囲内
になるように陽イオン交換ポンプ(29)を作動させる
とともに陰イオン交換ポンプ(32)を停止させる、。
Furthermore, if the measured value of PI-I is higher than the -L limit of the preset setting range described in 1-1, lower the PI-I and adjust the PI-1 to within the preset setting range. The cation exchange pump (29) is operated and the anion exchange pump (32) is stopped so that

第3図は、第2図に示される制御部(+23)の制御を
動作フロー図で表わしたものである。
FIG. 3 is an operation flowchart showing the control of the control section (+23) shown in FIG. 2.

第3図において、ステップ(S301)では比抵抗があ
らかじめ設定された設定値より低いか否かにより、低い
場合は次のステップ(S 302)に進み、高い場合は
ステップ(S 303)に進む。
In FIG. 3, in step (S301), depending on whether the specific resistance is lower than a preset value, if it is lower, the process proceeds to the next step (S302), and if it is higher, the process proceeds to step (S303).

ステップ(S 302)では陽イオン交換ポンプ(29
)および陰イオン交換ポンプ(32)を作動させステッ
プ(8301)に戻る3、 ステップ(S303)では、PI−Tはあらかしめ設定
された設定範囲の下限より低いか否かにより低い場合は
ステップ(S30・1)に進み、低くない場合はステッ
プ(S305’)に進む1、ステップ(S 30 /[
)では陽イオン交換ポンプ(29)を停止させるととも
に1(2イオン交換ポンプ(32)を作動させステップ
(S301)にがる1、ステップ(S 305 )ては
1)IIはi゛述のあらかしめ没蓋された設定範囲の1
限より商いか否かにより 3Xiい場合はステップ(8
306)に進み高< f、cいIL1合はステップ(S
307)に進む、1ステツプ(S :(06)では陽イ
オン交換ポンプ(29)を作動させるとともに陰イオン
交換ポンプ(32)を停+I−させステップ(83ON
)に戻る、1ステンプ(S307)では陽イオン交換ポ
ンプ(29)、 ++zイオ/交換ポツプ(32)ノ(
に停止させステップ(830] ’)に戻る1 第、4図は、ζ1111σ(1部(+23)におけるP
 I−1の設定と比抵抗かあらかしめ設定された設定値
より高い場合における陽イオン交換ポンプ(29)と陰
イオン交換ポンプ(32)の制御の一例を示した説明図
である。
In step (S302), the cation exchange pump (29
) and the anion exchange pump (32) and return to step (8301) 3. In step (S303), PI-T is determined to be lower than the lower limit of the preset setting range. If it is lower, step ( Proceed to S30・1), and if it is not low, proceed to step (S305')1, step (S30/[
), the cation exchange pump (29) is stopped and 1 (2) the ion exchange pump (32) is activated and the process proceeds to step (S301). 1 of the caulked setting range
If it is 3Xi, step (8
306), and if height < f, cIL1, step (S
Proceed to step 307), step 1 (S: (06) activates the cation exchange pump (29) and stops the anion exchange pump (32) +I-).
), in step 1 (S307), cation exchange pump (29), ++z io/exchange pop (32) (
1 and return to step (830]') 1. Figures 4 and 4 show the P
It is an explanatory diagram showing an example of control of a cation exchange pump (29) and an anion exchange pump (32) in a case where the setting of I-1 and the specific resistance are higher than a preset setting value.

この第4図は設定範囲の中心値となるl) l−1値に
1を加えたP I−1値を設定範囲の上限とし、4−述
の設定範囲の中心値となるPI−(値から1を減したP
[−■値を設定範囲の下限とした例を示している。
The upper limit of the setting range is the PI-1 value, which is the center value of the setting range, and the PI-(value, which is the center value of the setting range described in 4. P subtracted 1 from
[-■ Shows an example where the value is the lower limit of the setting range.

第4図において(401)はP l−1設定スイツチで
あり1 このP I−1設定スイツチにより、あらかし
め設定する設定範囲が設定される。
In FIG. 4, (401) is a PI-1 setting switch 1. This PI-1 setting switch sets a setting range for preliminary setting.

(401a)はP l−1設定スイツチ(401)に設
けられ切換接点、 (401b’)はI) I−f設定
スイッチ(401)に設けられた共通接点である。共通
接点(401b)はP l−I設定スイッチ(401)
に1個あり、切換接点(401,a)は複数あり1手動
により共通接点(401b)は切換接点(401fl)
のいずれかに切換接続される。
(401a) is a switching contact provided on the Pl-1 setting switch (401), and (401b') is a common contact provided on the I) If setting switch (401). The common contact (401b) is the Pl-I setting switch (401)
There is one switching contact (401, a), and there are multiple switching contacts (401, a). One manual common contact (401b) is a switching contact (401fl).
It is switched and connected to one of the following.

切換接点(4[]1a)の各々に付された符号(401
c)は」(通接点(401b)か当該切換接点(401
a)に切換接続されたとき設定範囲の中心値となるP 
T(値を表示している。
The code (401) attached to each switching contact (4[]1a)
c) is either the passing point (401b) or the switching contact (401
When connected to a), P becomes the center value of the setting range.
T (value is displayed.

なお、」(通接点(401b)ニハ、  PtT測定器
(34)力出力する信弓にもとづ< P II /II
II定fir″iか入力されている。
In addition, based on the connection point (401b) and the PtT measuring device (34) force output, < P II /II
II constant fir''i has been input.

(402)はP I(測定値から」−述の設定範囲の中
心値となるP H値を減算し、減算結果(n)を出力す
る減算器である。なお、この減算器は切換接点(401
a)の各々に設けられており、PI−1設定スイツチ(
401)を切換えることにより該当するいずれか一つの
減算器が作動するように構成されている。減算結果(n
)は大小判定部(II、103 )に入力される。大小
判定部(H/103)は減算結果(n)が1より小さい
か否かを判定し、−1より小さいときは陰イオン交換ポ
ンプ(32)を作動させるとともに陽イオン交換ポンプ
(29)を停止させる。また。
(402) is a subtracter that subtracts the PH value, which is the center value of the setting range described above, from the PI (measured value) and outputs the subtraction result (n).This subtracter is connected to the switching contact ( 401
a), and a PI-1 setting switch (
401), the corresponding one of the subtracters is activated. Subtraction result (n
) is input to the magnitude determination section (II, 103). The size determination unit (H/103) determines whether the subtraction result (n) is smaller than 1 or not, and when it is smaller than -1, it operates the anion exchange pump (32) and also activates the cation exchange pump (29). make it stop. Also.

−1より大きいときは減算結果(n)はさらに大小判定
部(1−1404)に入力される。
When it is greater than -1, the subtraction result (n) is further input to the magnitude determination section (1-1404).

大小判定部(Ti2O3)は減算結果(n)が1より大
きいか否かを判定り、  Iより大きいときは陽イオン
交換ポンプ(29)を作動させ、陰イオン交換ポンプ(
32)を停止させる。
The size determination unit (Ti2O3) determines whether the subtraction result (n) is greater than 1, and if it is greater than I, it operates the cation exchange pump (29) and operates the anion exchange pump (29).
32).

また、1より小さいときは陽イオン交換ポンプ(29)
および陰イオン交換ポンプ(32)を共に停止1−させ
る。
Also, if it is less than 1, the cation exchange pump (29)
and the anion exchange pump (32) are both stopped.

また、いずれの場合も、陽イオン交換ポンプ(29)お
よび陰イオン交換ポンプ(32)を作動または停止1−
させた後は再び第2図に示される制御を行うために第3
図のステップ(S301)に戻り、比抵抗を測定する。
In either case, the cation exchange pump (29) and the anion exchange pump (32) are activated or stopped.
After that, in order to perform the control shown in Fig. 2 again, the third
Returning to step (S301) in the figure, the specific resistance is measured.

なお、劣化したイオン交換樹脂の交換は、所定時間内に
比抵抗が、あらかしめ設定された設定値まで高くならず
、しかもP Hの測定値が変化しない場合は陽イオン交
換樹脂および陰イオン交換樹脂共に劣化したものとして
、陽イオン交換樹脂収納体(28)および陰イオン交換
樹脂収納体(31)の両方を交換すればよい。
In addition, if the resistivity does not rise to the preset value within a predetermined period of time and the measured value of PH does not change, replace the cation exchange resin and anion exchange resin. Assuming that both the resins have deteriorated, it is sufficient to replace both the cation exchange resin housing (28) and the anion exchange resin housing (31).

また、所定時間後にPHの測定値が、あらかじめ設定さ
れた設定範囲の上限より高い場合は陽イオン交換樹脂が
劣化したものとし陽イオン交換樹脂収納体(28)を交
換すればよく、所定時間後にPHの測定値が、あらかじ
め設定された設定範囲の下限より低い場合は陰イオン交
換樹脂が劣化したものとし陰イオン交換樹脂収納体(3
1)を交換すればよい。
Furthermore, if the measured pH value is higher than the upper limit of the preset setting range after a predetermined time, it is assumed that the cation exchange resin has deteriorated, and the cation exchange resin storage body (28) can be replaced. If the measured pH value is lower than the lower limit of the preset setting range, it is assumed that the anion exchange resin has deteriorated, and the anion exchange resin container (3
1) should be replaced.

実施例2 なお、]−述の実施例1では第2図の1it(R201
)に示されるように比抵抗の測定値があらかじめ設定さ
れた設定値より低く、PI−Iの測定値があらかじめ設
定された設定範囲の下限より低い場合と欄(R203)
に示されるように比抵抗の測定値があらかじめ設定され
た設定値より低く、  PHの測定値があらかじめ設定
された設定範囲の上限より高い場合のいずれの場合にお
いても陽イオン交換ポンプ(29)と陰イオン交換ポン
プ(32)の両方を作動させているが、比抵抗の測定値
およびP Hの測定値が欄(R201)の条件にあると
きは陽イオン交換ポンプ(29)を停止させ、陰イオン
交換ポンプ(32)のみを作動させるようにし、比抵抗
の測定値およびP f(の測定値がflit(R203
)の条件にあるときは、陽イオン交換ポンプ(29)の
みを作動させ、陰イオン交換ポンプ(32)は停止させ
るようにしてもよい。
Example 2 Note that in Example 1 described above, 1it (R201
), the measured value of resistivity is lower than the preset setting value, and the measured value of PI-I is lower than the lower limit of the preset setting range (R203).
As shown in Figure 2, in any case where the measured value of resistivity is lower than the preset set value and the measured value of PH is higher than the upper limit of the preset set range, the cation exchange pump (29) Both the anion exchange pumps (32) are operated, but when the measured values of resistivity and PH meet the conditions in column (R201), the cation exchange pump (29) is stopped and the anion exchange pump (29) is operated. Only the ion exchange pump (32) is operated, and the measured value of specific resistance and the measured value of P f (flit (R203
), only the cation exchange pump (29) may be operated and the anion exchange pump (32) may be stopped.

第5図は、この場合の制御部(23)の動作を表にした
ものである。図において、欄(R501)〜欄(R50
6)は第2図の欄(R201)〜II(R206)に対
応するもので、欄(R501)および欄四?503)は
上述のようにそれぞれ第2図の欄(R201)と欄(R
203)とは異っているが、欄(R502)、欄(R5
04)〜欄(R506)はそれぞれ第2図における欄(
R202)。
FIG. 5 is a table showing the operation of the control section (23) in this case. In the figure, columns (R501) to (R50
6) corresponds to columns (R201) to II (R206) in FIG. 2, and column (R501) and column 4? 503) are the column (R201) and column (R201) in FIG. 2, respectively, as described above.
203), but column (R502) and column (R5
04) ~ Columns (R506) are the columns (R506) in Fig. 2, respectively.
R202).

欄(R204)〜欄(R206)と同じである。This is the same as columns (R204) to (R206).

第6図は第5図に示される制御部(123)の動作フロ
ー図である。
FIG. 6 is an operation flow diagram of the control section (123) shown in FIG. 5.

第6図においてステップ(S601.)ではP Hの測
定値があらかじめ設定された設定範囲の下限より小さい
か否かを判定し、小さい場合はステップ(S602)に
進み、小さくない場合はステップ(S 603)に進む
In step (S601.) in FIG. 6, it is determined whether the measured value of PH is smaller than the lower limit of a preset setting range. If it is smaller, the process proceeds to step (S602); if not, step (S 603).

ステップ(S 602)では、陽イオン交換ポンプ(2
9)を停止させ、陰イオン交換ポンプ(32)を作動さ
せステップ(S601)に戻る。
In step (S602), the cation exchange pump (2
9) is stopped, the anion exchange pump (32) is activated, and the process returns to step (S601).

ステップ(S 603)ではP Hの測定値があらかじ
め設定された設定範囲の、1−限より大きいか否かを判
定し、大きい場合はステップ(S604)に進み、大き
くない場合はステップ(S 605)に進む。
In step (S603), it is determined whether the measured value of PH is larger than the 1-limit of a preset setting range. If it is larger, the process proceeds to step (S604), and if it is not larger, the process proceeds to step (S605). ).

ステップ(S604)では、陽イオン交換ポンプ(29
)を作動させ、陰イオン交換ポンプ(32)を停止させ
ステップ(S601)に戻る。
In step (S604), the cation exchange pump (29
), the anion exchange pump (32) is stopped, and the process returns to step (S601).

ステップ(S 605)では、比抵抗の測定値が。In step (S605), the measured value of specific resistance is determined.

あらかしめ設定された設定値より大きいか否かを判定し
、大きい場合はステップ(S 606)に進み、大きく
ない場合はステップ(S 607)に進む。
It is determined whether or not it is larger than a preset setting value. If it is larger, the process proceeds to step (S606), and if it is not larger, the process proceeds to step (S607).

ステップ(3606)では、陽イオン交換ポンプ(29
)および陰イオン交換ポンプ(32)を共に動作させス
テップ(8601)に戻る。
In step (3606), the cation exchange pump (29
) and anion exchange pump (32) and return to step (8601).

ステップ(S 607)では、陽イオン交換ポンプ(2
9)および陰イオン交換ポンプ(32)を共に停止させ
ステップ(S601)に戻る。
In step (S 607), the cation exchange pump (2
9) and the anion exchange pump (32), and return to step (S601).

第7図は実施例1を示す第4図に対応する実施例2の説
明図である。第4図においては、比抵抗があらかじめ設
定された設定値より高い場合にお(2G) ける説明図であったか、第7図は比抵抗の値に関係なく
適用される。
FIG. 7 is an explanatory diagram of the second embodiment corresponding to FIG. 4 showing the first embodiment. Although FIG. 4 is an explanatory diagram for the case where the specific resistance is higher than a preset value (2G), FIG. 7 is applied regardless of the value of the specific resistance.

第7図は、大小判定部(H404)の判定結果nが1よ
り大きくない場合は第6図に示されるステ7プ(S60
5)に進み、nか1より大きい場合または1人小判定部
(f−f 403 )の判定結果nが−1より小さい場
合において、陽イオン交換ポンプ(29)および陰イオ
ン交換ポンプ(32)を作動または停屯させた後は再び
第5図に示される制御を行うために第6図に示されるス
テップ(S60])に戻る曲は第71図と同様である。
FIG. 7 shows that if the determination result n of the size determination unit (H404) is not greater than 1, step 7 (S60) shown in FIG.
Proceed to step 5), and if n is larger than 1 or if the judgment result n of the one-person small judgment section (f-f 403 ) is smaller than -1, the cation exchange pump (29) and the anion exchange pump (32) After activation or deactivation, the process of returning to step (S60] shown in FIG. 6 to perform the control shown in FIG. 5 again is the same as that in FIG. 71.

第6図に示されるように、ステップ(S601)〜ステ
ップ(S60/I)によりますP Hの(直を上述のあ
らかじめ設定された設定範囲におさめ、その後ステップ
(S605)〜ステップ(S606)により比抵抗を−
1−述のあらかしめ設定された設定顧となるように制御
している。1 従って、この実施例2においては、比抵抗があらかじめ
設定された設定顧より低い状態にあるとき5先にl) 
I−1の値が−1−述のあらかしめ設定された設定範囲
内になるので、この間における[川Iの値のすれを少く
することか出来る効果がある。
As shown in FIG. 6, step (S601) to step (S60/I) bring the PH (direction) within the above-mentioned preset setting range, and then step (S605) to step (S606) Resistance -
1- Control is performed so that the settings are as specified above. 1 Therefore, in this Example 2, when the specific resistance is lower than the preset setting value, 1)
Since the value of I-1 falls within the predetermined setting range described in -1-, there is an effect that the deviation in the value of I during this period can be reduced.

実施例3 また、実施例1.および実施例2においては陽イオン交
換樹脂容器(28)および陰イオン交換樹脂容器(31
)に加り液を供給するために、それぞれ陽イオン交換ポ
ンプ(29)および1■fイオン交換ポンプ(32)を
用いているか、第8図に示すように1台のイオン交換ポ
ンプを用いて、電磁弁で切換えて陽イオン交換樹脂収納
体(28)および陰イオン交換樹脂収納体(31)に選
択的にυ111−液を供給するようにしてもよい。。
Example 3 Also, Example 1. In Example 2, the cation exchange resin container (28) and the anion exchange resin container (31)
), a cation exchange pump (29) and a 1 f ion exchange pump (32) are used, respectively, or one ion exchange pump is used as shown in Figure 8. , the υ111-liquid may be selectively supplied to the cation exchange resin container (28) and the anion exchange resin container (31) by switching with a solenoid valve. .

第8図において、 (81)はイオン交換ポンプ、(8
2)は第1電磁弁、 (83)は第2電磁弁である7、
第1電磁弁(82)か作動し、第2電磁弁(83)が作
動していないときイオン交換ポンプ(81)か作動する
と漬液槽(18)の加r二液は陽イオン交換樹脂収納体
(28)に供給され陽イオンが除去され11び漬液m(
+8’1に戻される。また、第1電磁弁(82)が作動
せず第2電磁弁(83)か作動しているときイオン交換
車ンプ(81)が作動すると清液槽〔18)の加工液は
陰イオン交換樹脂収納体(3I)に供給され陰イオンが
除去され再び清液槽(I8)に戻される3、さらに、第
1電磁弁(82)および第2電磁弁(83)か作動して
いるときイオン交換ポンプ(81)が作動すると清液槽
(18)の前二[−液は陽イオン交換樹脂収納体(28
)および陰イオン交換樹脂収納体(31)に供給され、
それぞれ陽イオンおよび陰イオンが除去され再び清液槽
(18)に戻される。
In Fig. 8, (81) is an ion exchange pump, (8
2) is the first solenoid valve, (83) is the second solenoid valve 7,
When the first solenoid valve (82) is activated and the second solenoid valve (83) is not activated, when the ion exchange pump (81) is activated, the two liquids in the soaking liquid tank (18) are pumped into the cation exchange resin container. (28), cations are removed, and 11 immersion liquid m (
Returned to +8'1. In addition, when the first solenoid valve (82) is not activated and the second solenoid valve (83) is activated, and the ion exchanger pump (81) is activated, the processing liquid in the fresh liquid tank [18] is filled with anion exchange resin. The liquid is supplied to the storage body (3I), anions are removed, and the liquid is returned to the clear liquid tank (I8).Ion exchange occurs when the first solenoid valve (82) and the second solenoid valve (83) are operated. When the pump (81) operates, the liquid flows into the cation exchange resin container (28) in front of the clear liquid tank (18).
) and supplied to the anion exchange resin storage body (31),
Cations and anions are removed and returned to the clear liquid tank (18).

この実施例3では、イオン交換ポンプが1台あればよい
ので加工液液質制御装置を小形化できるとともに、安価
に構I戊できる効果がある。
In this third embodiment, since only one ion exchange pump is required, the processing fluid quality control device can be downsized and can be constructed at low cost.

「効果) この発明は、以1−説明したように構成されており、陽
イオン交換樹脂収納体および陰イオン交換樹脂収納体の
それぞれに対し選択的に加工液を供給し、 IJtll
’液を所定のI)IIに設定できる。その結果1表面の
溶解による被加工物の変形を減少できるとともにイオン
交換樹脂の交換は、陽イオン交換樹脂収納体および陰イ
オン交換樹脂収納体のうちいずれかイオン交換能力を失
ったものを交換ずればよく、加工液の液質維持費用を低
減できる効果がある。
"Effects" This invention is configured as described in 1-1 below, and selectively supplies processing fluid to each of the cation exchange resin storage body and the anion exchange resin storage body, and
'Liquid can be set to predetermined I)II. As a result, deformation of the workpiece due to surface melting can be reduced, and when replacing the ion exchange resin, either the cation exchange resin storage body or the anion exchange resin storage body that has lost its ion exchange ability can be replaced. This has the effect of reducing the cost of maintaining the quality of the machining fluid.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の実施例1および実施例2か適用さ
れたワイヤ放電加モ装置の構成図である。 第2図〜第4図は、この発明の実施例1を示す図であり
第2図は制御動作−賢夫を示す図、第3図は制御動作フ
ロー図、第4図はP I(の設定と制御動作の説明図で
ある3゜ 第5図〜第7図は、この発明の実施例2を示す図であり
、第5図は制御動作−賢夫を不す図、第6図は制御動作
フロー図、第7図はPHの設定と制御動作の説明図であ
る 第8図は、この発明の実施例3を示すブロフク図である
1、 第9図は従来の加圧液液質制御装置が装備されたワイヤ
放電加工装置の構成図である3、第10図〜第11図は
従来の加工液液質制御を示す図であり、第10図は制御
動作−賢夫を示す図7第11図は制御動作フロー図であ
る。 図において、 (12)は加工液液質制御装置本体(2
8)は陽イオン交換樹脂収納体、 (29)は陽イオン
交換ポンプ、 (31)は陰イオン交換樹脂収納体、(
32)は陰イオン交換ポンプ、 (34)はPH測定器
、(123)は制御部である。 なお9図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
FIG. 1 is a block diagram of a wire discharge presser to which embodiments 1 and 2 of the present invention are applied. 2 to 4 are diagrams showing Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the control operation - Keno, FIG. 3 is a control operation flow diagram, and FIG. 4 is a diagram showing the control operation. Figures 5 to 7, which are explanatory diagrams of settings and control operations, are diagrams showing a second embodiment of the present invention. FIG. 7 is an explanatory diagram of PH setting and control operation. FIG. 8 is a flowchart showing Embodiment 3 of the present invention. 1. FIG. 9 is a conventional pressurized liquid quality diagram. 3, which is a configuration diagram of a wire electrical discharge machining apparatus equipped with a control device, and FIGS. 10 to 11 are diagrams showing conventional machining fluid quality control, and FIG. 10 is a diagram showing control operation - Keno. 7 Figure 11 is a control operation flow diagram. In the figure, (12) is the machining fluid quality control device main body (2
8) is a cation exchange resin storage body, (29) is a cation exchange pump, (31) is an anion exchange resin storage body, (
32) is an anion exchange pump, (34) is a pH meter, and (123) is a control unit. In addition, in FIG. 9, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電極と被加工物の間に介在させる加工液を貯える
加工液容器と、 上記加工液から陽イオンを除去する陽イオン交換手段と
、 上記加工液から陰イオンを除去する陰イオン交換手段と
、 上記加工液容器の加工液を上記陽イオン交換手段に供給
する第1加工液供給手段と、 上記加工液容器の加工液を上記陰イオン交換手段に供給
する第2加工液供給手段と、 上記加工液の水素イオン指数を測定する水素イオン指数
測定手段と、 上記水素イオン指数測定手段により測定された測定値が
あらかじめ設定された水素イオン指数に比べ所定値以上
の差異があるときはこの差異を減少するように上記第1
、第2加工液供給手段のいずれかを作動させる加工液供
給制御手段と、を備えた放電加工装置の加工液液質制御
装置。
(1) A machining fluid container interposed between the electrode and the workpiece to store a machining fluid, a cation exchange means for removing cations from the machining fluid, and an anion exchange means for removing anions from the machining fluid. a first machining fluid supply means for supplying the machining fluid in the machining fluid container to the cation exchange means; a second machining fluid supply means for supplying the machining fluid in the machining fluid container to the anion exchange means; A hydrogen ion index measuring means for measuring the hydrogen ion index of the processing fluid; If the measured value measured by the hydrogen ion index measuring means differs from a preset hydrogen ion index by a predetermined value or more, this difference occurs. The above first
A machining fluid quality control device for an electric discharge machining apparatus, comprising: machining fluid supply control means for operating either of the second machining fluid supply means.
(2)加工液の比抵抗を測定する比抵抗測定手段を有し
、加工液供給制御手段は上記比抵抗測定手段により測定
された測定値があらかじめ設定された比抵抗に比べ小さ
い場合、第1、第2加工液供給手段の両方を作動させ、
上記比抵抗測定手段により測定された測定値があらかじ
め設定された上記比抵抗に比べ大きく、しかも、水素イ
オン指数測定手段により測定された測定値があらかじめ
設定された水素イオン指数に比べ所定値以上の差異があ
る場合、この差異が減少するように第1、第2加工液供
給手段のいずれかを作動させることを特徴とする請求項
第1項記載の放電加工装置の加工液液質制御装置。
(2) The machining fluid supply control means has a resistivity measuring means for measuring the resistivity of the machining fluid, and when the measured value measured by the resistivity measuring means is smaller than a preset resistivity, the machining fluid supply control means controls the , operating both of the second machining fluid supply means;
The measured value measured by the specific resistance measuring means is larger than the preset specific resistance; 2. The machining fluid quality control device for an electric discharge machining apparatus according to claim 1, wherein when there is a difference, either the first or second machining fluid supply means is operated so that the difference is reduced.
(3)加工液の比抵抗を測定する比抵抗測定手段を有し
、加工液供給制御手段は上記比抵抗測定手段により測定
された測定値があらかじめ設定された比抵抗に比べ小さ
く、しかも、水素イオン指数測定手段により測定された
測定値があらかじめ設定された水素イオン指数に比べ所
定値以上の差異がある場合、この差異を減少するように
第1、第2加工液供給手段のいずれかを作動させ、上記
比抵抗測定手段により測定された測定値があらかじめ設
定された比抵抗に比べ大きい場合、上記第1、第2加工
液供給手段の両方を作動させることを特徴とする請求項
第1項記載の放電加工装置の加工液液質制御装置。
(3) The machining fluid supply control means has a resistivity measuring means for measuring the resistivity of the machining fluid, and the machining fluid supply control means is configured such that the measured value measured by the resistivity measuring means is smaller than a preset resistivity, and that hydrogen If the measured value measured by the ion index measuring means has a difference of more than a predetermined value compared to a preset hydrogen ion index, either the first or second processing fluid supply means is operated to reduce this difference. and when the measured value measured by the resistivity measuring means is larger than a preset resistivity, both the first and second machining fluid supply means are operated. A machining fluid quality control device for the electric discharge machining apparatus described above.
(4)第1加工液供給手段は加工液容器より加工液を吸
い上げるイオン交換ポンプと、このイオン交換ポンプに
より吸い上げられた上記加工液を陽イオン交換手段に送
給する加工液送給路に設けられた第1電磁弁とを有し、
第2加工液供給手段は上記イオン交換ポンプと、このイ
オン交換ポンプにより吸い上げられた上記加工液を陰イ
オン交換手段に送給する加工液送給路に設けられた第2
電磁弁とを有することを特徴とする請求項第1項乃至第
3項のいずれかに記載の放電加工装置の加工液液質制御
装置。
(4) The first machining fluid supply means is provided in an ion exchange pump that sucks the machining fluid from the machining fluid container and a machining fluid feed path that supplies the machining fluid sucked up by the ion exchange pump to the cation exchange means. a first solenoid valve,
The second machining fluid supply means includes the ion exchange pump and a second machining fluid supply path that supplies the machining fluid sucked up by the ion exchange pump to the anion exchange means.
4. A machining fluid quality control device for an electric discharge machining apparatus according to claim 1, further comprising a solenoid valve.
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