JPH04139172A - Alpha-sulfinyl-substituted acetamide derivative - Google Patents

Alpha-sulfinyl-substituted acetamide derivative

Info

Publication number
JPH04139172A
JPH04139172A JP26330190A JP26330190A JPH04139172A JP H04139172 A JPH04139172 A JP H04139172A JP 26330190 A JP26330190 A JP 26330190A JP 26330190 A JP26330190 A JP 26330190A JP H04139172 A JPH04139172 A JP H04139172A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
groups
substituted
lower alkyl
aryl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26330190A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Hirai
平井 功一
Yuji Iwano
雄次 岩野
Keiichi Tabata
田端 敬一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sankyo Co Ltd filed Critical Sankyo Co Ltd
Priority to JP26330190A priority Critical patent/JPH04139172A/en
Publication of JPH04139172A publication Critical patent/JPH04139172A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by formula I [R<1> to R<4> are H, lower alkyl, lower alkoxy, OH, amino, etc.; R<5> is H, lower alkyl or aryl; R<6> is lower alkyl, aryl, etc.; A is O, S or NR<7> (R<7> is H or lower alkyl)] and a salt thereof. EXAMPLE:alpha-Benzoimidazolylsulfinyl-p-methoxyphenylacetamide. USE:A medicine for gastrointestine having excellently inhibitory action on secretion of acid in the stomach, antiulcer action with low toxicity. PREPARATION:An acetic acid active derivative shown by formula II (X and Y are eliminable group such as halogen or arylsulfonyloxy) is made to react with an amine compound to give acetamide derivative. Then, this derivative is allowed to react with a mercaptan derivative to give a sulfide compound shown by formula III, which is oxidized with an oxidizing agent (e.g. hydrogen peroxide) to give a compound shown by formula I.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention] 【目的】【the purpose】 【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本発明は、優れた、胃酸分泌抑制作用及び抗潰瘍作用を
有する、新規なα−スルフィニル置換アセトアミド誘導
体又はその塩及びその合成中間体に関する。
The present invention relates to novel α-sulfinyl-substituted acetamide derivatives or salts thereof, and synthetic intermediates thereof, which have excellent gastric acid secretion suppressing effects and antiulcer effects.

【従来の技術】[Conventional technology]

2−[(3,5−ジメチル−4−メトキシ−2−ピリジ
ル)メチルスルフィニル1−5−メトキシ−(IH)−
ベンズイミダゾール(オメブラゾール)[特開昭54−
141783号公報記載の化合物]が、胃酸分泌の最終
段随に関与する酵素であるH”、K”−アデノシントリ
フォスファターゼ(以下、H” 、 K ”−ATPa
geと略記する。)を阻害することによって、胃酸分泌
を抑制し、抗潰瘍剤として臨床で有効であることが知ら
れている。
2-[(3,5-dimethyl-4-methoxy-2-pyridyl)methylsulfinyl 1-5-methoxy-(IH)-
Benzimidazole (omebrazole) [Unexamined Japanese Patent Application Publication No. 1989-
141783] is an enzyme involved in the final stages of gastric acid secretion, H'', K''-adenosine triphosphatase (hereinafter referred to as H'', K''-ATPa).
It is abbreviated as ge. ), it suppresses gastric acid secretion and is known to be clinically effective as an anti-ulcer agent.

【発明が解決しようとする課題】[Problem to be solved by the invention]

本発明者等は、α−スルフィニル置換アセトアミド誘導
体の合成とその薬理活性について、永年に亘り鋭意研究
を行なった結果、本発明の化合物fIlが、上記の既知
のオメプラゾールに比べ、より強い、H”、 K”−A
TPase酵素阻害活性を有し、優れた薬剤となること
を見出し本発明を完成した。
The present inventors have conducted extensive research over many years on the synthesis of α-sulfinyl-substituted acetamide derivatives and their pharmacological activities. As a result, the present inventors have found that the compound fl of the present invention has a stronger H" , K”-A
The present invention was completed based on the discovery that it has TPase enzyme inhibitory activity and is an excellent drug.

【構成】【composition】

本発明の新規な、 ・アミド誘導体は、 一般式 スルフィニル置換アセト [式中、 R’、R”、R’及びR4は、同−又は異なって、水素
原子又は下記置換基群Aより選択される基を示し、 R″は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を示
し、 R6は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群A
より選択される基で1乃至3個置換されたアリール基、
アラルキル基、下記置換基群Aより選択される基で1乃
至3個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又は
下記置換基群Aより選択される基で1乃至3個置換され
たベテロアリ−ル基を示し、 Aは、酸素原子、硫黄原子又は−数式NR’で表される
基(式中、R7は、水素原子又は低級アルキル基を示す
。)を示す。1 を有し、その合成中間体である化合物
は、 一般式 [式中、 R’、R”、R3及びR4は、同−又は異なって、水素
原子又は下記置換基群Aより選択される基を示し、 R’は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を示
し、 R6は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群A
より選択される基で1乃至3個置換されたアリール基、
アラルキル基、下記置換基群Aより選択される基で1乃
至3個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又は
下記置換基群Aより選択される基で1乃至3個置換され
たヘテロアリール基を示し、 Aは、酸素原子、硫黄原子又は−数式NR’で表される
基(式中、R?は、水素原子又は低級アルキル基を示す
。)を示す。] を有する。 「置換基群A」 低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル基 上記−数式fIlにおいて、 R1、R8、R7及び置換基群Aの定義における「低級
アルキル基」とは、例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、S−ブチ
ル、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、2−メ
チルブチル、ネオペンチル、n−へキシル、4−メチル
ペンチル、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、
3,3−ジメチルブチル、2.2−ジメチルブチル、1
.1−ジメチルブチル、1.2−ジメチルブチル、1.
3−ジメチルブチル52,3−ジメチルブチルのような
炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、
好適には炭素数1乃至4個のアルキル基である。 R5及びR6の定義における「アリール基」並びにR“
の定義における、「下記置換基群Aより選択される基で
1乃至3個置換されたアリール基」の「アリール基」と
は、例えばフェニル、ナフチルのような炭素数5乃至1
4個の芳香族炭化水素基を挙げることができ、好適には
フェニル基である。 R6の定義における、「アラルキル基」、「下記置換基
群Aより選択される基で1乃至3個置換されたアラルキ
ル基」の「アラルキル基」及び置換基群Aの定義におけ
る「アラルキル基」とは、上記「アリール」が前記「低
級アルキル基」に結合した基をいい、例えば、ベンジル
、ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメ
チル、■−フェネチル、2−フェネチル、■−ナフチル
エチル、2−ナフチルエチル、l−フェニルプロピル、
2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、■−ナ
フチルプロピル、2−ナフチルプロピル、3−ナフチル
プロピル、■−フェニルブチル、2−フェニルブチル、
3−フェニルブチル、4−フェニルブチル、l−ナフチ
ルブチル、2−ナフチルブチル、3−ナフチルブチル、
4−ナフチルブチル、■−フェニルペンチル、2−フェ
ニルペンチル、3−フェニルブチル、4−フェニルペン
チル、5−フェニルペンチル、1−ナフチルペンチル、
2−ナフチルペンチル、3−ナフチルペンチル、4−ナ
フチルペンチル、5−ナフチルペンチル、■−フェニル
ヘキシル、2−フェニルヘキシル、3−フェニルヘキシ
ル、4−フェニルヘキシル、5−フェニルヘキシル、6
−フェニルヘキシル、1−ナフチルヘキシル、2−ナフ
チルヘキシル、3−ナフチルヘキシル、4−ナフチルヘ
キシル、5−ナフチルヘキシル、6−ナフチルヘキシル
を挙げることができ、好適には、「低級アルキル基Jの
炭素数が1乃至4個の1アラルキル基」である。 R6の定義における、「ヘテロアリール基」及び「下記
置換基群Aより選択される基で1乃至3個置換されたヘ
テロアリール基」の「ヘテロアリール基」とは、硫黄原
子、酸素原子又は/及び窒素原子を1乃至3個含む5乃
至7貫の芳香族複素環基を示し、例えば、フリル、チエ
ニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イソ
キサゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、 1,2.
3−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、
チアジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニ
ル及びピラジニルを拳げることかでき、好適には、窒素
原子を少なくとも1個含み、酸素原子又は硫黄原子を含
んでいてもよい5乃至7員の芳香族複素環基を示し、例
えば、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イソ
キサゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、1.2.3
−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チ
アジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル
及びピラジニルを拳げることかでき、さらに好適には、
ピリジル基及びチアゾリル基である。 置換基群Aの定義における、「低級アルコキシ基」とは
、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合した基をい
い、例えば、メトキシ、エトキシ、ロープロポキシ、イ
ンプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、S−ブト
キシ、t−ブトキシ、n−ペントキシ、イソペントキシ
、2−メチルブトキシ、ネオペントキシ、ローへキシル
オキシ、4−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ
、2−メチルペントキシ、3,3−ジメチルブトキシ、
2.2−ジメチルブトキシ、1.1−ジメチルブトキシ
、1.2−ジメチルブトキシ、1.3−ジメチルブトキ
シ、2.3−ジメチルブトキシのような炭素数1乃至6
個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を示し、好適には炭素
数1乃至4個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基である。 置換基群Aの定義における、「保護された水酸基」の「
保護基」としては、反応における保護基及び生体に投与
する際のプロドラッグ化のための保護基を示し、例えば
、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソ
バレリル、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、
トリデカノイル、バルミトイル、ステアロイルのような
アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセ
チル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよ
うなハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチ
ルのような低級アルコキシアルキルカルボニル基、fE
i2−メチル−2−ブテノイルのような不飽和アルキル
カルボニル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル、α−ナ
フトイル、B−・ナフトイルのようなアリールカルボニ
ル基、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾイルの
ようなハロゲン化アリールカルボニル基、2,4.6−
トリメチルベンゾイル、4−トルオイルのような低級ア
ルキル化アリールカルボニル基、4−アニソイルのよう
な低級アルコキシ化アリールカルボニル基、4−ニトロ
ベンゾイル、2−ニトロベンゾイルのような二゛トロ化
アリールカルボニル基、2−(メトキシカルボニル)ベ
ンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリール
カルボニル基、4−フェニルベンゾイルのようなアリー
ル化アリールカルボニル基等の芳香族アシル基:テトラ
ヒドロビラン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロビラ
ン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロビラン−4−
イル、テトラヒドロチオビラン−2−イル、4−メトキ
シテトラヒドロチオビラン−4−イルのようなテトラヒ
ドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基;テトラ
ヒドロフラン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2
−イルのようなテトラヒドロフラニル又はテトラヒドロ
チオフラニル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル
、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシ
リル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブ
チルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級
アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニ
ルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フエ
ニルジイソプロピルシリルのような1乃至2個のアリー
ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル
基:メトキシメチル、1.1−ジメチル−1−メトキシ
メチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロ
ポキシメチル、ブトキシメチル、tブトキシメチルのよ
うな低級アルコキシメチル基、2−メトキシエトキシメ
チルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基
、2,2.2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−
クロロエトキシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコ
キシメチル等のアルコキシメチル基:1−エトキシエチ
ル、l(イソプロポキシ)エチルのような低級アルコキ
シ化エチル基、2.2.2−トリクロロエチルのような
ハロゲン化エチル基、2−(フェニルゼレネニル)エチ
ルのようなアリールゼレネニル化エチル基等の置換エチ
ル基;ベンジル、α−ナフチルメチル、B−ナフチルメ
チル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナ
フチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチルのよう
なl乃至3個のアリール基で置換された低級アルキル基
、4−メチルベンジル、2,4.6−)−リメチルベン
ジル、3.4.5−トリメチルベンジル、4−メトキシ
ベンジル、4−メトキシフエニルジフェニルメチル、2
−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベ
ンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル、ビ
ス(2−ニトロフェニル)メチル、ビペロニルのような
低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シ
アノ基でアリール環が置換されたl乃至3個のアリール
基で置換された低級アルキル基等のアラルキル基;メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニルのような低級アルコ
キシカルボニル基、2,2゜2−トリクロロエトキシカ
ルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニルの
ようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換さ
れた低級アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボ
ニル基;ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニルのようなアルケニルオキシカルボニル基;ベンジル
オキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、3.4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
2−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベン
ジルオキシカルボニルのような、■乃至2個の低級アル
コキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよ
いアラルキルオキシカルボニル基のような反応における
保護基及びピバロイルオキシメチルオキシカルボニルの
ような生体に投与する際のプロドラッグ化のための生体
内で加水分解され易い保護基を挙げることができ、好適
には、脂肪族アシル基及び芳香族アシル基であり、更に
、好適には脂肪族アシル基である。 置換基群Aの定義における、「置換されたアミン基」と
は、下記の置換基が1又は2個アミノ基を置換している
基を示し、該置換基としては、例えば、前記「低級アル
キル基」 :前記「低級アルコキシ基」、2−メトキシ
エトキシのような低級アルコキシ化低級アルコキシ基、
2.2.2−トリクロロエトキシのようなハロゲン化低
級アルコキシ基等のアルキルオキシ基;ベンジルオキシ
、フェネチルオキシ、3−フェニルプロポキシ、α−ナ
フチル、メトキシ、β−ナフチルメトキシ、ジフェニル
メトキシ、トリフェニルメトキシ、α−ナフチルジフェ
ニルメトキシ、9−アンスリルメトキシのよりな1乃至
3個のアリール基で置換された低級アルコキシ基、4−
メチルベンジルオキシ、2,4.6−トリメチルベンジ
ルオキシ、3,4.5−トリメチルベンジルオキシ、4
〜メトキシベンジルオキシ、4−メトキシフエニルジフ
ェニルメトキシ、2−ニトロベンジルオキシ、4−ニト
ロベンジルオキシ、4−クロロベンジルオキシ、4−ブ
ロモベンジルオキシ、4−シアノベンジルオキシ、4−
シアノベンジルジフェニルメトキシ、ビス(2−ニトロ
フェニル)メトキシ、ビペロニルオキシのような低級ア
ルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアン基
でアリル環が置換されたl乃至3個のアリール基で置換
された低級アルコキシ基等のアラルキルオキシ基:水酸
基;ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒ
ドロキシプロピルのようなヒドロキシ置換低級アルキル
基:2−アミノエチル、3−アミノプロピルのようなア
ミノ置換アルキル基又はフェニル、4−トリル、4−メ
トキシフェニル、4−クロロフェニル、α若しくはβ−
ナフチルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲンで置換されていてもよいアリール基をあげることが
でき、好適には、低級アルキル基及び低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲンで置換されていてもよいアリー
ル基であり、更に好適には、低級アルキル基である。 置換基群Aの定義における、「保護されたアミノ基」と
は、下記の保護基が1又は2個アミノ基を保護している
基を示し、該保護基としては、通常アミノ基の保護基と
して使用するものであれば限定はないが、好適には、例
えば、前記「脂肪族アシル基」 ;前記「芳香族アシル
基」 :前記「アルコキシカルボニル基」 :前記「ア
ルケニルオキシカルボニル基」 ;前記「アラルキルオ
キシカルボニル基」 :前記「シリル基」及び前記「ア
ラルキル基」を挙げることができ、更に好適には、脂肪
族アシル基、芳香族アシル基及びシリル基である。 置換基群Aの定義における、「保護されたメルカプト基
」の「保護基」としては、通常メルカプトの保護に用い
られるものであれば限定はないが、好適には、前記「脂
肪族アシル基」及び前記「芳香族アシル基」である。 置換基群Aの定義における、「ハロゲン原子」としては
、弗素、塩素、臭素又は沃素を示す。 本発明の化合物(I)は、塩にすることができるが、そ
のような塩としては、好適には、弗化水素酸塩、塩酸塩
、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素
酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩:メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン
酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−t−ルエンスルホ
ン酸塩のようなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、
コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン
酸塩等の有機酸塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸
塩のようなアミノ酸塩を挙げることができる。 本発明の化合物(I)は、分枝内に不斉炭素を有し、各
々が R配位、S配位である立体異性体が存在するが、
その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包
含される。 本発明の化合物+I+ において、好適な化合物として
は、 (1)R’ 、R” 、R”及びR4が、同−又は異な
って、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
保護された水酸基、保護されたアミノ基又はハロゲン原
子である化合物 +2)R’ 、R” 、R”及びR4が、同−又は異な
って、水素原子、炭素数1乃至3個のアルキル基、炭素
数1乃至3個のアルコキシ基、脂肪族アシルオキシ基、
脂肪族アシルアミノ基又はハロゲン原子である化合物 R2又は/及びR3が、同−又は異なって、低級アルコ
キシ基である化合物 R2又は/及びR3が、同−又は異なって、炭素数1乃
至3個のアルコキシ基である化合物 R5が、水素原子又は低級アルキル基である化合物 R’が、水素原子又は炭素数1乃至3個のアルキル基で
ある化合物 R’が、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群A
より選択される基で1乃至3個置換されたアリール基、
アラルキル基、下記置換基群Aより選択される基で1乃
至3個置換されたアラルキル基又はヘテロアリール基で
ある化合物 R6が、アリール基、下記置換基群Aより選択される基
で1乃至3個置換されたアリール基、アラルキル基、下
記置換基群Aより選択される基で1乃至3個置換された
アラルキル基である化合物 (9)R’が、下記置換基群Aより選択される基で1乃
至3個置換されたアリール基、下記置換基群Aより選択
される基で1乃至3個置換されたアラルキル基である化
合物 (101R’が、低級アルキル基、アリール基、下記置
換基群A゛より選択される基で1乃至3個置換されたア
リール基、アラルキル基、下記置換基群A゛より選択さ
れる基で1乃至3個置換されたアラルキル基又はヘテロ
アリール基である化合物 (11) R’が、アリール基、下記置換基群A°より
選択される基で1乃至3個置換されたアリール基、アラ
ルキル基、下記置換基群A°より選択される基で1乃至
3個置換されたアラルキル基である化合物 +12) R’が、下記置換基群A′より選択される基
で1乃至3個置換されたアリール基又は下記置換基群A
°より選択される基で1乃至3個置換されたアラルキル
基である化合物 (13) R’が、低級アルコキシ基又はハロゲン原子
で1乃至3個置換されたアリール又はアラルキルである
化合物 (14) Aが、硫黄原子又は−数式NR’で表される
基(式中、R7は、水素原子又は低級アルキル基を示す
、)である化合物 (15) Aが、硫黄原子又は−数式NR’で表される
基(式中、R7は、水素原子又は炭素数1乃至3個のア
ルキル基を示す、)である化合物f161 Aが、硫黄
原子又は−数式NHで表される基である化合物 「置換基群A」 低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル基 「置換基群A’ J 低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子 本発明の代表的化合物としては、例えば、第1表に記載
する化合物を拳げることかできるが、本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。 尚、表中、phはフェニル基、Bzはベンジル基、Py
 (Py−3−はピリジル基の3位で結合する基を示す
)はピリジル基を示す。 き1」−jく 例示 化合物 4−C1,0Ph− 4−にH−OBZ− 4−C,HmOPh− 4−(:JsOBz− 4−CH,OPh− 4−CHsOBz− 4−C−HmOPh− 4−CJsOBz− 4−CH,QPh− 4−CHsOBz− 4−CJsOPh− 4−CIHIOBZ− 4−CH,OPh− 例示 化合物 H4−CH,0Bz− H4−C,H,0Ph− CHs   4−CJsOBz C,HI  4−CHlOPh− CHx 3,4,5triCH,0Ph−CH□  4
−CtH,0Ph− CJs  4−CxHsOBz− C,H,4−CH,0Ph− CH,4−CH,0Bz− CtHs  4−C□H,0Ph− CJt  4−CJiOBz− CH,4−(:H,0Ph CJs  4−(:HzOBz− CtL  4−CオH,0Ph− CH34−CJsOBz C,H,4−CH,0Ph− CIHT  4−CHJBz H4−FPh− H4−CIPh− H2,3−diFPh− H3,4−diFPh− H3,5−diFPh− H’   2.3−diCIPh− H3,4−diCIPh− H3,5−diGIPh− 例示 化合物 2.3.4−triFPh−0 3,4,5−triFPh−S 2、3.4−triCIPh−S 3、4.5−triCIPh−5 4−FBz−5 4−CIBz−0 2,3−diFBz−S 34−diFBz−S 3.5−diFBz−S 23−diCIBz−0 3,4−diCIBz−S 3.5−diCIBz−S 2.3,4−triFBz−S 34.5−triFBz−S 2、3.4−triCIBz−S 3.4.5−triclHz−0 4−(:H,0Ph−NH 4−CHlOBz−NH 4−C,HsOPh−■ 4−(:JsOBz−NH 4−CH,0Ph−間 4−CH,0Bz−NH 4−C,HloPh−■ 4−C,H,0Bz−NH 4−CH,0Ph−冊 例示 化合物 R5R6 H4−CH,0Bz−N)I H4−(:、H,0Ph−■ H3,4,5triCLOPh−Q H4−CH,0Ph−NH H4−CHxOBz−Q H4−C,H,0Ph−NH CH,4−C,H,0Bz−NH H2−CH,0−Py−5−NH H2,6−dzcHzO−Py−3−NHCHx   
4−CJsOPh−冊 CJS  4−CJsOBz−NH CsHt  4−CHlOPh−冊 (:H,4−CHxOBz−NH H6−CI−Py−2−+1t’H CxHt  4−CJaOBz−NH CHx   4−CHlOPh−NH C,H,4−CH,0Bz−NH CJt  4−C,H,0Ph−NH CHs   4−CtHsOBz−間 CJs  4−CH,0Ph−冊 C−Hア 4−CHsOBz−Fil(H4−FPh−
Ni1 H4−CIPh−NH H2,3−diFPh−冊 H3,4−diFPh−■ 例示 化合物 ot 35−diFPh−NH 23−dicIPh−冊 34−diCIPh−NH 35−d工ClPh−■ 2.3.4−triFPh−NH 3,4,5−triFPh−NH 2、3,4−triclPh−NH 3、4,5−tri(:IPh−NH 4−FBz−NH 4−CIBz−NH 23−diFBz−冊 34−diFBz−NH 35−diFBz−NH 23−diCIBz−NH 34−diCLBz−NH 35−di(:1Bz−■ 2、3.4−triFBz−NH 3,4,5−triFBz−Fil 2、3.4−triclBz−MB 2、4.5−tricIBz−Nl( 4−CH,0Bz−5 4−C,H,0Ph−5 4−CJsOBz−S 4−CH,0Ph−O 4−CH,0Bz−S 例示 化合物 ■ ■ CH。 C,H。 C,Hア CH。 C,H。 C,Hア CH。 C,H。 C,H。 CH□ C,H。 C,Hア CH。 −H5 C,H。 4−C2H,0Ph− 4−CJsOBz− 4−CH,0Ph− 4−CHzOBz 4−C,H80Ph− 4−CJsOBz− 4−CH,0Ph− 4−CH,0Bz− 4−(:、HsOPh 4−CJsOBz− 4−CH,0Ph− 4−CHiOBz− 4−CJ、0Ph− 4−CJsOBz− 4−CH,0Ph− 4−CHzOBz− 4−CIH,0Ph− 4−CiHsOBz 4−CH,0Ph 4−CH,0Bz− 4−C1H,0Ph− 4−CxH@0BZ 4−(:H,0Ph 4−CH,OBz −FPh− 例示 化合物 4−CIPh−S 23−diFPh−S 34−diFPh−0 35−diFPh−S 23−diCIPh−S 34−diCIPh−S 35−diCIPh−S 2.3.4−triFPh−0 3,4,5−triFPh−S 2、3.4−triCIPh−S 3.4.5−triclPh−S 4−FBz−5 4−CIBz−0 23−diFBz−S 34−diFBz−S 35−diFBz−S 23−diCIBz−0 34−diCIBz−S 35−diCIBz−S 2.3.4−triFBz−S 3.4.5−triFBz−S 2.3.4−triclBz−S 34.5−tricIBz−0 4−CHsOBz−101 4−CJsOPh−■ 例示 化合物 ■ CH3 C,H。 C,H。 CH。 C,H。 C,Hア Hs zHs C,H。 CH。 C2Hよ C,Hア Hs 4−CZH5OBZ− 4−C1,0Ph 4−CH,0Bz 4−C,H,0Ph 4−CtHsOBz− 4−CHzOPh 4−CHsOBz− 4−(:J、0Ph− 4−CJsOBz− 4−CH,0Ph 4−CH,0Bz− 4−C,tH,OPh +−CJsOBz 4−CH,0Ph 4−CHxOBz 4−C,HsOPh 4−CzHsOBz 4−C1,0Ph− 4−CHsOBz− 4−に2H,0Ph 4−CJsOBz− 4−CH,0Ph− 4−CHxOBz 4−CfH,0Ph− 4−CtHsOBz 例示 化合物 4−CH,0Ph−冊 4−CH,0Bz−Q 4−FPh−冊 4−CIPh−罷 23−diFPh−順 34−diFPh−間 35−diFPh−冊 23−dicIPh−冊 34−dicIPh−冊 35−diclPh−冊 2.3.4−triFPh−NH 3,4,5−triFPh−NH 2、3,4−triclPh−D 3、4.5−triclPh−Q 4−FBz−間 4−(:IBz−邪 23−diFBz−N’H 34−diFBz−N’H 35−diFBz−NH 23−diCIBz−NH 34−diCIBz−Q 35−diCIBz−Q 2.3.4−triFBz−101 3,4,5−triFBz−Q 2、3.4−tricIBz−FGI 例示 化合物 R6 A H ■ H H CI.0 ■ ■ CH.O ■ coma C}1.0 H CH.O CI.O CH.O ■ ■ 『 ■ CH.O H ■ cuso H CH.0 CH. H H CH.ロ H H CH.O ■ CH.O H CH.O CH.O H CH.O CH.O H ■ ■ cuso H H CH.O H CH.O H CI. H CH.O H ■ CH.O H ■ CLO CH.O ■ CHIO CH.O ■ cttxo H H CH.O ■ H cono H H CH.O CH.0 ■ CH.O H H H CH.O CH.O CH.O H H ■ C}f.O CH.O CH?O ■ H CH.O H H H CH.O CH.O CH.O H H 3, 4. 5−tricIBz−Nu4−CH.OB
z−    S 4−C!H.OPh−   S 4−CxHsOBz−   S 4−CH.OPh−    0 4−CH.OBz−    S 4−CJsOPh−   S 4−C*HsOBz−   S 4−CH.OPh−    0 4−CHiOBz−    S 4−C!H.OPh−   S fCtHiOBz−   S 4−CI{.OPh−    S 4−CHiOBz−    S 4−C!HsOPh−   S 4−C.HIOBZ−   S 4−CI.OPh−    0 4−CH.OBz−    S 4−czusoph−    S 4−CJ.OBz−   S 4−(:H?oph−    s 4−CHxOBz−    0 4−C.H.OPh−    S 4−CxH.OBz−   S 4−CH30Ph−    S 例示 化合物 R6 A CH.O H CI.O CH.O CH.O H H H CH.O H ■ CH.O H CH.O C}{.O H CH.O CH.O CH30 ■ H H H CH.0 ■ CH.O CR30 H CI.O CH30 H H CH.O H ■ CH.O H CH.O H CH.O CR.O H cuxo CH.O H H ■ CH*O H H H CH30 CH,O H CH.O H CHID H H CHsO H H CH.O CH30 H cHso CH.O H cn*o H ■ CH.O H ■ CH.0 H CIhO CH.O CH.O H CH.O H H H CI,O CR.O C}t.0 H H H CH.O CH.O CH.O H H CH30 H H H CH.0 C.H. C.H7 CM. C.H5 C.Hア ■ H ■ H H ■ H H H H H ■ H H CH. CtH− CJア CH. C.H, CJア 4−CH.OBz−    0 4−C.HSOPh−   S 4−C.H.OBZ−   S 4−cuxoph−    S 4−CHxOBz−    0 4−CH.OPh−    S 2 3−diFPh−    S 3 4−diFPh−   0 3 5−diFPb−    S 2 3−diCIPh−   S 3 4−diCIPh−   S 3 5−diCIPh−   S 2.3.4−triFPh− 0 3,4.5−triFPh− S 2, 3. 4−triclPh−S 3,4.5−triclPh−S 4−FBz−      S 4−CIBz−      0 2 3−diFBz−    S 3 4−diFBz−    S 3 5−diFBz−    S 2 3−diCIBz−   0 3 4−diCIBz−   S 3 5−diCIBz−   S 2,3.4−triFBz− S 例示 化合物 R6 A H CH.O H ■ H ■ CI{.0 ■ ■ CI.O H CH.O CH.O H CM.O CH.O CH.O H H H H CHsO H H CH.0 CI.O H CH.O ■ ■ CH.O H H C}1.0 H CH.O H CB.O cnxo H cuso CH.O H H ■ CH.O H H CH30 H H ■ CI{.0 ■ CH.O H H CH.O H H CH.O CH.O H CHJ CM.Q H CH.O H H CH.0 ■ H CI.O H H CH.O CHaO H CI.O H H H CH.O cono cnao ■ H H CH.O CH.O cii*o ■ ■ CI{.0 ■ H H CH.O CI.O CH.0 3,4.5−triFBz− S 2, 3. 4−triCIBz− S3, 4. 5
−triclBz−0 4−CH.OBz−    NH 4−C2HIOPh−   NH 4−CtHsOBz−   Q 4−(:}f!OPh一   洲 4−CHsOBz−    NH 4−CJsOPh−   NH 4−CJsOBz−   NH 4−CH.OPh−   洲 4−CH.OBz−    NH 4−c*nsoph−   1fH 4{:.H.OBz−   Q 4−C}I.OPh一   洲 4−CHJBz−    NH 4−c*ttsoph−  ■ 4−CtHsOBz−   NH 4−CH30Ph一   正 4−CHiOBz−    N}f 4−C−HsOPh−   NH 4−CJ*OBz−   NH 4−CHsOPh一   朋 4−CH.OBz−    NH 4−C.H.OPh−   NH 例示 化合物 R6 A H CH.O CI.O H CH30 CH.O CHs O ■ H H CH.O H H CH30 H CI.O crtao H CH.O cnxo CHJ H H H H CH.O H CH.O CM.O H CH.O CI.O ■ H CLO ■ H CH.O H CH.O H CH.O Cl{.O H CH,O CH!O H H H CH.0 CI.O CH,O H CH30 CI.O ■ CI{.O H CH.O H ■ CH.O H H CH.O CH.O H CH20 CIIO H CH.O H H CH,O H H H H CH.O CI.O CH.O ■ CI.O ■ ■ ■ CH.O CI.O cHso H H ■ CI{30 CHmO CI.O H H CH.O H H 4−CJsOBZ−  冊 4−CH.OPh−    NH 4−CHsOBz一   聞 4−C.H.OPh−   NTI 4−C2HSOBZ一  冊 4−CH?OPh−    NH 4−CIBz−    冊 4−CIPh一    聞 2 3−diFPh−  ■ 3 4−diFPh−   NH 3 5−diFPh一  冊 2 3−diCIPh−   NH 3 4−diclPh−  冊 3 5−diclPh一  冊 2,3.4−triFPh− NH 3,4.5−triFPh− NH 2, 3. 4−tricIPh−NH3, 4. 5
−tricIPh−NH4−FBz一     冊 4−CIBz−    冊 2.3−diFBz−   Fil{ 3.4−diFBz−   NH 3, 5−diFBz一  冊 2.3−diCIBz−  NH 3,4−diclBz一  ■ 例示 化合物 CH,O CH,O CH,O CH,0 CH,O H30 CH,O CH,0 (:)1.0 ■ xH− C,H。 CH。 (1:、H。 CsHア 3.5−diCIBz−NH 2,3,4−triFBz−Q 3.4.5−triFBz−NH 2、3,4−triclBz−NH 3、4,5−tricIBz−Ml 上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、1.3
.4.9.16.17.18.19.24.31.33
.34.39.46.48.49.54.55.57.
58.63.64.66.70.71.72.73.7
7.78.85.87.88.93.100.102.
103.108.110.111.116.123.1
25.126,131.138.140.141.14
6.153.155.156.161,163.164
.169.176.178.179.184.191.
193.194.199.206.208.209.2
14.216.217.222.229.231,23
2.237.245.246.251.258.260
.261.266.268.269.274.2811
283.284.289.297.298.303.3
10.312.313及び318の化合物を挙げること
ができる。 更に、好適な化合物としては、1.1g、55、66、
70、71. 72、77、111. 116、146、156. 169及び184の化 合物を挙げることができる。 本発明のa−スルフィニル置換アセトアミド誘導体は、
以下に記載する方法によって製造するこ上記式中、R1
、R2、R3,R4,R5、R6及びAは前記と同意義
であり、X及びYは、同−又は異なって、塩素、臭素、
沃素のようなハロゲン原子;メタンスルホニルオキシ、
エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニ
ルオキシ基ニトリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペ
ンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ
低級アルカンスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニ
ルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシのようなアリ
ールスルホニルオキシ基等の脱離基を示す。 1エエ1は、酢酸の活性誘導体+11 とアミン化合物
(2)を、溶媒中、塩基の存在下又は非存在下に反応さ
せ、アセトアミド誘導体(3)を製造する工程である。 使用される溶媒としては、反応に関与せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類:
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類:メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類ニジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類を挙げることができる。 使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば、特に限定はないが、好適に
は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩:炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸水素塩:水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化
物等の無機塩基類又はトリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホ
リン、ピリジン、4− (N、 N−ジメチルアミノ)
ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジエチ
ルアニリン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノ
ナ−5−エン、1.4−ジアザビシクロ[2,2,2]
オクタン(DABCO) 、l、a−ジアザビシクロ[
5,4,0] ウンデク−7−エン(DBUIのような
有機塩基類を挙げることができる。 反応温度は、−20℃乃至80℃で行なわれるが、好適
には、0℃乃至50℃である。 反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常1乃至20時間であ
る。 反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィー等によって更に精製できる。 1呈工1は、第1工程で製造したアセトアミド誘導体(
3)とメルカプタン誘導体(4)を、溶媒中、塩基の存
在下に反応させ、スルフィド化合物(5)を製造する工
程である。 使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類;メタノール、エ
タノール、ローブロバノールのようなアルコール類:ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類又はジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類を挙げることができる。 使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば特に限定はないが、好適には
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのような
アルカリ土属炭酸水素塩:水素化リチウム、水素化ナト
リウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム
のようなアルカリ金属水酸化物等の無機塩基類;ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカ
リ金属アルコキシド類;トリエチルアミン、トリブチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモル
ホリン、ピリジン、4− fN、 N−ジメチルアミノ
)ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジエ
チルアニリン、■、5−ジアザビシクロ[4,3,0]
 ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,
2]オクタンfDABco) 、t、a−ジアザビシク
ロ[5,4,0] ウンデク−7−エン(IIBUIの
ような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソ
プロピルアミドのような有機金属塩基類を挙げることが
できる。 反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが、好適には
、20℃乃至60℃である。 反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常1乃至20時間であ
る。 反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィー等によって更に精製できる。 第3工程は、第2工程で得られたスルフィド化合物の硫
黄原子を、溶媒中、酸化剤により酸化し、所望により、
R1,R2、R3、R4及び/又はR6が、保護された
水酸基、保護されたアミノ基及び/又は保護されたメル
カプト基を有する場合には、その保護基を除去し、本発
明の目的化合物(6)を製造する工程である。 主工程で使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、水:メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素類:酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類:メタノール、エタノール、ローブロ
バノール、イソプロパツールのようなアルコール類及び
酢酸のような有機酸を挙げることができる。 使用される酸化剤としては、通常酸化に使用される酸化
剤であれば、特に限定はないが、好適には、過酸化水素
水:過酢酸、厘−クロル過安息香酸のような有機過酸類
;t−ブチルハイドロパーオキシド−バナジウムfIV
lオキシーアセチルアセトナトのようなバナジウム錯体
:二酸化マンガンのような酸化マンガン類;クロム酸の
ようなりロム酸類ニクロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ビ
リジン錯体のようなりロム酸錯体類又は四酸化ルテニウ
ムのような酸化ルテニウム類のような無機過酸化物又は
亜塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜塩素
酸塩類又はDMSO酸化に使用される試薬(ジメチルス
ルホキシドとジシクロへキシルカルボジイミド、オキザ
リルクロリド、無水酢酸若しくは五酸化燐との錯体又は
ピリジン−無水硫酸の錯体)を挙げることができる。 反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが、好適には
、10℃乃至50℃である。 反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常l乃至20時間であ
る。 所望の工程である、保護基の除去はその種類によって異
なるが、一般にこの分野の技術において周知の方法によ
って以下の様に実施される。 水酸基の保護基が、シリル基の場合には、通常弗化テト
ラブチルアンモニウムのような弗素アニオンを生成する
化合物で処理することにより除去する0反応溶媒は反応
を阻害しないものであれば特に限定はないが、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適であ
る0反応温度及び反応時間は特に限定はないが、通常室
温でlO乃至18時間反応させる。 水酸基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキシ
カルボニル基である場合には、通常、還元剤と接触させ
ることにより除去することができる。例えば、パラジウ
ム炭素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、常
温にて接触還元を行なうことにより達成される0反応は
溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である0反応源度及び反応時間は出発物質及び使用す
る還元剤等によって異なるが、通常は0℃乃至室温で、
5分乃至12時間である。 又、液体アンモニア中若しくはメタノール、エタノール
のようなアルコール中において、−78℃〜−20℃で
、金属リチウム若しくはナトリウムを作用させることに
よっても除去できる。 更に、塩化アルミニウムー沃化ナトリウム又は、トリメ
チルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド
類を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在
下に行なわれ、使用される反応溶媒としては本反応に関
与しないものであれば特に限定はないが、好適には、ア
セトニトリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、
クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれら
の混合溶媒が使用される0反応源度は出発物質等によっ
て異なるが、通常は0℃乃至50℃である。 尚、好適には、塩化アルミニウムー沃化ナトリウムが用
いられる。 水酸基及び/又はメルカプト基の保護基が、脂肪族アシ
ル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基であ
る場合には、溶媒の存在下に、塩基で処理することによ
り除去することができる。 塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないもの
であれば特に限定はないが、好適にはナトリウムメトキ
シドのような金属アルコラード類、アンモニア水、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ
金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて実
施される。使用される溶媒としては通常の加水分解反応
に使用されるものであれば特に限定はなく、水、メタノ
ール、エタノール、n−プロパツールのようなアルコー
ル類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類のような有機溶媒又は水と有機溶媒との混合
溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及
び用いる塩基等によって異なり特に限定はないが、副反
応を抑制するために、通常は0℃乃至150℃で、l乃
至10時間である。 水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基又は置換さ
れたエチル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理す
ることにより除去することができる。使用される酸とし
ては、好適には塩酸、酢酸−硫酸、p−トルエンスルホ
ン酸又は酢酸等であるが、ダウエックス50Wのような
強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができ・る。 使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノール、エタノールのような
アルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が
好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用い
る酸の種類等によって異なるが、通常は0℃乃至50’
Cで、10分乃至18時間である。 水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。 尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特にパラジウム
及びトリフェニルホスフィン若しくはニッケルテトラカ
ルボニルを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少
な〈実施することができる。 尚、上記のような水酸基及び/又はメルカプト基の保護
基を除去する操作によって、アミノ基の保護基が同時に
除去されることもある。 上記の水酸基の保護基の除去反応、メルカプト基の保護
基の除去反応及びアミノ基の保護基の除去反応は、順不
同で希望する除去反応を順次実施することができる。 アミノ基の保護基が、シリル基の場合には、前記水酸基
の保護基がシリル基の場合の除去反応と同様に行う。 アミノ基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基
又はアルコキシカルボニル基である場合には、水性溶媒
の存在下に酸又は塩基で処理することにより除去するこ
とができる。酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水
素酸が用いられ、塩基としては、化合物の他の部分に影
響を与えないものであれば特に限定はないが、好適には
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物又は濃アンモニアーメダノールを用い
て実施される。使用される溶媒としては通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、水又は
水とメタノール、エタノール、ローブロバノールのよう
なアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が
好適である0反応部度及び反応時間は出発物質及び用い
る塩基等によって異なり特に限定はないが、副反応を抑
制するために、通常は0℃乃至150℃で、■乃至10
時間である。 アミノ基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキ
シカルボニル基である場合には、水酸基の保護基が、ア
ラルキル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場
合の除去と同様にして行われる。 アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記アミノ基の保護基が脂肪族アシル基
、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場
合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することに
より脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボ
ニルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホスフ
ィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去
する方法が簡便で、副反応が少な〈実施することができ
る。 反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される6例えば、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィ
The novel amide derivative of the present invention has the general formula sulfinyl-substituted aceto [wherein R', R'', R' and R4 are the same or different and are selected from a hydrogen atom or the following substituent group A] R″ represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an aryl group, R6 represents a lower alkyl group, an aryl group, or the following substituent group A
an aryl group substituted with 1 to 3 groups selected from;
An aralkyl group, an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A, a heteroaryl group, or a beteroaryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A A represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a group represented by the formula NR' (wherein R7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). 1 and is a synthetic intermediate thereof, the compound has the general formula [wherein R', R'', R3 and R4 are the same or different, a hydrogen atom or a group selected from the following substituent group A] , R' represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an aryl group, R6 represents a lower alkyl group, an aryl group, or the following substituent group A
an aryl group substituted with 1 to 3 groups selected from;
an aralkyl group, an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A, a heteroaryl group, or a heteroaryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A; A represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a group represented by the formula NR' (wherein R? represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). ] It has. "Substituent Group A" Lower alkyl group, lower alkoxy group, hydroxyl group, protected hydroxyl group, amino group, substituted amino group, protected amino group, mercapto group, protected mercapto group, halogen atom, and aralkyl group In the above formula fl, the "lower alkyl group" in the definitions of R1, R8, R7 and substituent group A is, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, S-butyl, t- Butyl, n-pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl,
3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1
.. 1-dimethylbutyl, 1.2-dimethylbutyl, 1.
3-dimethylbutyl 52,3-Dimethylbutyl represents a straight or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Preferably, it is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. "Aryl group" and R" in the definition of R5 and R6
In the definition of "aryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A", the "aryl group" refers to a group having 5 to 1 carbon atoms, such as phenyl and naphthyl.
Mention may be made of four aromatic hydrocarbon groups, preferably phenyl. "aralkyl group" in the definition of R6, "aralkyl group" in "aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group A below" and "aralkyl group" in the definition of substituent group A refers to a group in which the above "aryl" is bonded to the above "lower alkyl group", such as benzyl, naphthylmethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, ■-phenethyl, 2-phenethyl, ■-naphthylethyl, 2-naphthyl. ethyl, l-phenylpropyl,
2-phenylpropyl, 3-phenylpropyl, ■-naphthylpropyl, 2-naphthylpropyl, 3-naphthylpropyl, ■-phenylbutyl, 2-phenylbutyl,
3-phenylbutyl, 4-phenylbutyl, 1-naphthylbutyl, 2-naphthylbutyl, 3-naphthylbutyl,
4-naphthylbutyl, ■-phenylpentyl, 2-phenylpentyl, 3-phenylbutyl, 4-phenylpentyl, 5-phenylpentyl, 1-naphthylpentyl,
2-naphthylpentyl, 3-naphthylpentyl, 4-naphthylpentyl, 5-naphthylpentyl, ■-phenylhexyl, 2-phenylhexyl, 3-phenylhexyl, 4-phenylhexyl, 5-phenylhexyl, 6
-phenylhexyl, 1-naphthylhexyl, 2-naphthylhexyl, 3-naphthylhexyl, 4-naphthylhexyl, 5-naphthylhexyl, 6-naphthylhexyl; 1 to 4 1-aralkyl group. In the definition of R6, the "heteroaryl group" of "heteroaryl group" and "heteroaryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A" means a sulfur atom, an oxygen atom, or/ and a 5- to 7-ring aromatic heterocyclic group containing 1 to 3 nitrogen atoms, such as furyl, thienyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxasilyl, isoxazolyl, thiazolyl, inthiazolyl, 1,2.
3-oxadiazolyl, triazolyl, tetrazolyl,
A 5- to 7-membered aromatic heterocyclic group which can include thiadiazolyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, and pyrazinyl, and preferably contains at least one nitrogen atom and may contain an oxygen atom or a sulfur atom. 1.2.3
- oxadiazolyl, triazolyl, tetrazolyl, thiadiazolyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl and pyrazinyl, more preferably,
They are a pyridyl group and a thiazolyl group. In the definition of substituent group A, the "lower alkoxy group" refers to a group in which the above-mentioned "lower alkyl group" is bonded to an oxygen atom, such as methoxy, ethoxy, rhopropoxy, impropoxy, n-butoxy, isobutoxy, S-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy, isopentoxy, 2-methylbutoxy, neopentoxy, rhohexyloxy, 4-methylpentoxy, 3-methylpentoxy, 2-methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy,
1 to 6 carbon atoms such as 2.2-dimethylbutoxy, 1.1-dimethylbutoxy, 1.2-dimethylbutoxy, 1.3-dimethylbutoxy, 2.3-dimethylbutoxy
straight-chain or branched-chain alkoxy groups, preferably straight-chain or branched-chain alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms. In the definition of substituent group A, "protected hydroxyl group"
"Protecting group" refers to a protecting group in a reaction and a protecting group for prodrug formation when administered to a living body, such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl, Lauroil, myristoil,
Alkylcarbonyl groups such as tridecanoyl, balmitoyl, stearoyl, halogenated alkylcarbonyl groups such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, lower alkoxyalkylcarbonyl groups such as methoxyacetyl, fE
Aliphatic acyl groups such as unsaturated alkylcarbonyl groups such as i2-methyl-2-butenoyl; arylcarbonyl groups such as benzoyl, α-naphthoyl, B-naphthoyl, 2-bromobenzoyl, 4-chlorobenzoyl, etc. halogenated arylcarbonyl group, 2,4.6-
Lower alkylated arylcarbonyl groups such as trimethylbenzoyl, 4-toluoyl, lower alkoxylated arylcarbonyl groups such as 4-anisoyl, ditrolated arylcarbonyl groups such as 4-nitrobenzoyl, 2-nitrobenzoyl, 2 - Aromatic acyl groups such as lower alkoxycarbonylated arylcarbonyl groups such as (methoxycarbonyl)benzoyl, arylated arylcarbonyl groups such as 4-phenylbenzoyl: tetrahydrobilan-2-yl, 3-bromotetrahydrobilane-2 -yl, 4-methoxytetrahydrobilane-4-
tetrahydropyranyl or tetrahydrothiopyranyl groups such as yl, tetrahydrothiobilan-2-yl, 4-methoxytetrahydrothiobilan-4-yl; tetrahydrofuran-2-yl, tetrahydrothiofuran-2
Tetrahydrofuranyl or tetrahydrothiofuranyl groups such as -yl; tri-lower alkylsilyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, methyldiisopropylsilyl, methyldi-t-butylsilyl, triisopropylsilyl , diphenylmethylsilyl, diphenylbutylsilyl, diphenylisopropylsilyl, phenyldiisopropylsilyl, and other silyl groups such as trilower alkylsilyl groups substituted with 1 or 2 aryl groups: methoxymethyl, 1,1-dimethyl- Lower alkoxymethyl groups such as 1-methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, butoxymethyl, t-butoxymethyl, lower alkoxylated lower alkoxymethyl groups such as 2-methoxyethoxymethyl, 2,2.2 -trichloroethoxymethyl, bis(2-
Alkoxymethyl groups such as halogenated lower alkoxymethyl such as chloroethoxy)methyl: lower alkoxylated ethyl groups such as 1-ethoxyethyl, l(isopropoxy)ethyl, halogens such as 2.2.2-trichloroethyl Substituted ethyl groups such as arylzelenenylated ethyl groups such as ethyl group, 2-(phenylzelenenyl)ethyl; benzyl, α-naphthylmethyl, B-naphthylmethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, α- Naphthyldiphenylmethyl, lower alkyl substituted with 1 to 3 aryl groups such as 9-anthrylmethyl, 4-methylbenzyl, 2,4.6-)-limethylbenzyl, 3.4.5- Trimethylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 4-methoxyphenyldiphenylmethyl, 2
- lower alkyl, lower alkoxy, nitro, halogen, cyano groups such as nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, 4-chlorobenzyl, 4-bromobenzyl, 4-cyanobenzyl, bis(2-nitrophenyl)methyl, biperonyl; Aralkyl groups such as lower alkyl groups substituted with 1 to 3 aryl groups in which the aryl ring is substituted; lower alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, 2,2゜Alkoxycarbonyl groups such as lower alkoxycarbonyl groups substituted with halogen or tri-lower alkylsilyl groups such as 2-trichloroethoxycarbonyl and 2-trimethylsilylethoxycarbonyl; alkenyloxycarbonyl groups such as vinyloxycarbonyl and allyloxycarbonyl ; Benzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl,
2-Nitrobenzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, etc. Protecting groups and pyroyl groups in reactions such as aralkyloxycarbonyl groups whose aryl ring may be substituted with 1 to 2 lower alkoxy or nitro groups; Examples include protecting groups that are easily hydrolyzed in vivo for prodrugs when administered to living organisms, such as baloyloxymethyloxycarbonyl, and preferred are aliphatic acyl groups and aromatic acyl groups. Furthermore, it is preferably an aliphatic acyl group. In the definition of substituent group A, the "substituted amine group" refers to a group in which one or two of the following substituents are substituted for an amino group, and examples of the substituent include the above-mentioned "lower alkyl group". "group": the above "lower alkoxy group", a lower alkoxylated lower alkoxy group such as 2-methoxyethoxy,
2.2. Alkyloxy groups such as halogenated lower alkoxy groups such as 2-trichloroethoxy; benzyloxy, phenethyloxy, 3-phenylpropoxy, α-naphthyl, methoxy, β-naphthylmethoxy, diphenylmethoxy, triphenylmethoxy , α-naphthyldiphenylmethoxy, lower alkoxy group substituted with 1 to 3 aryl groups such as 9-anthrylmethoxy, 4-
Methylbenzyloxy, 2,4.6-trimethylbenzyloxy, 3,4.5-trimethylbenzyloxy, 4
~Methoxybenzyloxy, 4-methoxyphenyldiphenylmethoxy, 2-nitrobenzyloxy, 4-nitrobenzyloxy, 4-chlorobenzyloxy, 4-bromobenzyloxy, 4-cyanobenzyloxy, 4-
Lower alkyl such as cyanobenzyldiphenylmethoxy, bis(2-nitrophenyl)methoxy, biperonyloxy, lower alkoxy, lower alkoxy substituted with 1 to 3 aryl groups whose allyl ring is substituted with nitro, halogen, or cyan group. Aralkyloxy groups such as groups: hydroxyl group; hydroxy-substituted lower alkyl groups such as hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl: amino-substituted alkyl groups such as 2-aminoethyl, 3-aminopropyl, or phenyl, 4 -Tolyl, 4-methoxyphenyl, 4-chlorophenyl, α or β-
Examples include lower alkyl groups such as naphthyl, lower alkoxy, and aryl groups optionally substituted with halogen, preferably lower alkyl groups and aryl groups optionally substituted with lower alkyl, lower alkoxy, and halogen. More preferably, it is a lower alkyl group. In the definition of substituent group A, "protected amino group" refers to a group in which one or two of the following protecting groups protect an amino group, and the protecting group usually includes a protecting group for an amino group. Although there is no limitation as long as it is used as, for example, the above "aliphatic acyl group"; the above "aromatic acyl group": the above "alkoxycarbonyl group": the above "alkenyloxycarbonyl group";"Aralkyloxycarbonylgroup": The above-mentioned "silyl group" and the above-mentioned "aralkyl group" can be mentioned, and more preferably an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, and a silyl group. In the definition of substituent group A, the "protecting group" of the "protected mercapto group" is not limited as long as it is normally used for the protection of mercapto, but preferably the "aliphatic acyl group" mentioned above is used. and the above-mentioned "aromatic acyl group." In the definition of substituent group A, the "halogen atom" refers to fluorine, chlorine, bromine or iodine. Compound (I) of the present invention can be made into a salt, and such salts are preferably salts such as hydrofluoride, hydrochloride, hydrobromide, and hydroiodide. Inorganic acid salts such as hydrohalides, nitrates, perchlorates, sulfates, and phosphates; lower alkyl sulfonates such as methanesulfonates, trifluoromethanesulfonates, and ethanesulfonates; benzene; sulfonates, arylsulfonates such as p-t-luenesulfonates, fumarates,
Mention may be made of organic acid salts such as succinate, citrate, tartrate, oxalate, maleate, and amino acid salts such as glutamate and aspartate. The compound (I) of the present invention has an asymmetric carbon in the branch, and stereoisomers exist in which each has R coordination and S coordination, but
Each of them or a mixture thereof is included in the present invention. In the compound +I+ of the present invention, suitable compounds include (1) R', R'', R'' and R4 are the same or different, a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group,
Compounds that are protected hydroxyl group, protected amino group or halogen atom +2) R', R", R" and R4 are the same or different, hydrogen atom, alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, carbon Number 1 to 3 alkoxy groups, aliphatic acyloxy groups,
Compounds R2 and/or R3, which are aliphatic acylamino groups or halogen atoms, are the same or different, and compounds R2 and/or R3, which are lower alkoxy groups, are the same or different, and are alkoxy groups having 1 to 3 carbon atoms. The compound R' is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the compound R' is a lower alkyl group, an aryl group, or the following substituent group. A
an aryl group substituted with 1 to 3 groups selected from;
Compound R6, which is an aralkyl group, an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A, or a heteroaryl group, is an aryl group, an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A, Compound (9) R', which is an aryl group substituted with 1 to 3 substituted aryl groups, an aralkyl group, or an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A, is a group selected from the following substituent group A. Compounds that are an aryl group substituted with 1 to 3 groups, an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group A below (101R' is a lower alkyl group, an aryl group, a substituent group below) A compound that is an aryl group or an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from A'', an aralkyl group or a heteroaryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A'' ( 11) R' is an aryl group, an aryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A°, an aralkyl group, 1 to 3 groups selected from the following substituent group A° Compounds that are substituted aralkyl groups + 12) R' is an aryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A' or the following substituent group A'
Compound (13) which is an aralkyl group substituted with 1 to 3 groups selected from ° Compound (14) A where R' is aryl or aralkyl substituted with 1 to 3 lower alkoxy groups or halogen atoms is a sulfur atom or a group represented by the formula NR' (in the formula, R7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group) A is a sulfur atom or a group represented by the formula NR' (15) (wherein R7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms) f161 A compound where A is a sulfur atom or a group represented by the formula NH A" Lower alkyl group, lower alkoxy group, hydroxyl group, protected hydroxyl group, amino group, substituted amino group, protected amino group, mercapto group, protected mercapto group, halogen atom and aralkyl group "Substituent group A' J Lower alkyl group, lower alkoxy group, and halogen atom Representative compounds of the present invention include, for example, the compounds listed in Table 1, but the present invention is limited to these compounds. In the table, ph is phenyl group, Bz is benzyl group, Py
(Py-3- represents a group bonded at the 3-position of a pyridyl group) represents a pyridyl group. Exemplary compound 4-C1,0Ph-4- to H-OBZ-4-C,HmOPh-4-(:JsOBz-4-CH,OPh-4-CHsOBz-4-C-HmOPh-4 -CJsOBz- 4-CH,QPh- 4-CHsOBz- 4-CJsOPh- 4-CIHIOBZ- 4-CH,OPh- Exemplary compound H4-CH,0Bz- H4-C,H,0Ph- CHs 4-CJsOBz C,HI 4-CHlOPh- CHx 3,4,5triCH,0Ph-CH□ 4
-CtH,0Ph- CJs 4-CxHsOBz- C,H,4-CH,0Ph- CH,4-CH,0Bz- CtHs 4-C□H,0Ph- CJt 4-CJiOBz- CH,4-(:H, 0Ph CJs 4-(:HzOBz- CtL 4-Coh,0Ph- CH34-CJsOBz C,H,4-CH,0Ph- CIHT 4-CHJBz H4-FPh- H4-CIPh- H2,3-diFPh- H3, 4-diFPh- H3,5-diFPh- H' 2.3-diCIPh- H3,4-diCIPh- H3,5-diGIPh- Exemplary compound 2.3.4-triFPh-0 3,4,5-triFPh-S 2,3.4-triCIPh-S 3,4.5-triCIPh-5 4-FBz-5 4-CIBz-0 2,3-diFBz-S 34-diFBz-S 3.5-diFBz-S 23-diCIBz -0 3,4-diCIBz-S 3.5-diCIBz-S 2.3,4-triFBz-S 34.5-triFBz-S 2,3.4-triCIBz-S 3.4.5-triclHz-0 4-(:H,0Ph-NH4-CHlOBz-NH4-C,HsOPh-■4-(:JsOBz-NH4-CH,0Ph-4-CH,0Bz-NH4-C,HloPh-■4 -C,H,0Bz-NH 4-CH,0Ph-Book Exemplary Compound R5R6 H4-CH,0Bz-N)I H4-(:,H,0Ph-■ H3,4,5triCLOPh-Q H4-CH,0Ph- NH H4-CHxOBz-Q H4-C,H,0Ph-NH CH,4-C,H,0Bz-NH H2-CH,0-Py-5-NH H2,6-dzcHzO-Py-3-NHCHx
4-CJsOPh-book CJS 4-CJsOBz-NH CsHt 4-CHlOPh-book (:H, 4-CHxOBz-NH H6-CI-Py-2-+1t'H CxHt 4-CJaOBz-NH CHx 4-CHlOPh-NH C ,H,4-CH,0Bz-NH CJt 4-C,H,0Ph-NH CHs 4-CtHsOBz- CJs 4-CH,0Ph-Book C-H A 4-CHsOBz-Fil(H4-FPh-
Ni1 H4-CIPh-NH H2,3-diFPh-Book H3,4-diFPh-■ Exemplary compound ot 35-diFPh-NH 23-dicIPh-Book 34-diCIPh-NH 35-d ClPh-■ 2.3.4 -triFPh-NH 3,4,5-triFPh-NH 2,3,4-triclPh-NH 3,4,5-tri(:IPh-NH 4-FBz-NH 4-CIBz-NH 23-diFBz-Book 34 -diFBz-NH 35-diFBz-NH 23-diCIBz-NH 34-diCLBz-NH 35-di(:1Bz-■ 2, 3.4-triFBz-NH 3,4,5-triFBz-Fil 2, 3.4 -triclBz-MB 2,4.5-tricIBz-Nl( 4-CH,0Bz-5 4-C,H,0Ph-5 4-CJsOBz-S 4-CH,0Ph-O 4-CH,0Bz-S Examples Compound ■ ■ CH. C, H. C, H a CH. C, H. C, H a CH. C, H. C, H. CH□ C, H. C, H a CH. -H5 C, H 4-C2H,0Ph- 4-CJsOBz- 4-CH,0Ph- 4-CHzOBz 4-C,H80Ph- 4-CJsOBz- 4-CH,0Ph- 4-CH,0Bz- 4-(:, HsOPh 4- CJsOBz- 4-CH,0Ph- 4-CHiOBz- 4-CJ,0Ph- 4-CJsOBz- 4-CH,0Ph- 4-CHzOBz- 4-CIH,0Ph- 4-CiHsOBz 4-CH,0Ph 4-CH, 0Bz- 4-C1H,0Ph- 4-CxH@0BZ 4-(:H,0Ph 4-CH,OBz -FPh- Exemplary compound 4-CIPh-S 23-diFPh-S 34-diFPh-0 35-diFPh-S 23-diCIPh-S 34-diCIPh-S 35-diCIPh-S 2.3.4-triFPh-0 3,4,5-triFPh-S 2,3.4-triCIPh-S 3.4.5-triclPh- S 4-FBz-5 4-CIBz-0 23-diFBz-S 34-diFBz-S 35-diFBz-S 23-diCIBz-0 34-diCIBz-S 35-diCIBz-S 2.3.4-triFBz-S 3.4.5-triFBz-S 2.3.4-triclBz-S 34.5-tricIBz-0 4-CHsOBz-101 4-CJsOPh-■ Exemplary compound ■ CH3 C,H. C,H. CH. C, H. C,H aHs zHs C,H. CH. C2H yo C,H aHs 4-CZH5OBZ- 4-C1,0Ph 4-CH,0Bz 4-C,H,0Ph 4-CtHsOBz- 4-CHzOPh 4-CHsOBz- 4-(:J,0Ph- 4-CJsOBz - 4-CH,0Ph 4-CH,0Bz- 4-C,tH,OPh +-CJsOBz 4-CH,0Ph 4-CHxOBz 4-C,HsOPh 4-CzHsOBz 4-C1,0Ph- 4-CHsOBz- 4- 2H,0Ph 4-CJsOBz- 4-CH,0Ph- 4-CHxOBz 4-CfH,0Ph- 4-CtHsOBz Exemplary compound 4-CH,0Ph-Book 4-CH,0Bz-Q 4-FPh-Book 4-CIPh - 23-diFPh-order 34-diFPh-between 35-diFPh-book 23-dicIPh-book 34-dicIPh-book 35-diclPh-book 2.3.4-triFPh-NH 3,4,5-triFPh-NH 2,3,4-triclPh-D 3,4.5-triclPh-Q 4-FBz-4-(:IBz-23-diFBz-N'H 34-diFBz-N'H 35-diFBz-NH 23 -diCIBz-NH 34-diCIBz-Q 35-diCIBz-Q 2.3.4-triFBz-101 3,4,5-triFBz-Q 2,3.4-tricIBz-FGI Exemplary compound R6 A H ■ H H CI .0 ■ ■ CH.O ■ coma C}1.0 H CH.O CI.O CH.O ■ ■ 『 ■ CH.O H ■ cuso H CH.0 CH. H H CH.roH H CH.O ■ CH.O H CH.O CH.O H CH.O CH.O H ■ ■ cuso H H CH.O H CH.O H CI. H CH.O H ■ CH.O H ■ CLO CH.O ■ CHIO CH.O ■ cttxo H H CH.O ■ H cono H H CH.O CH.0 ■ CH.O H H H CH.O CH.O CH.O H H ■ C}f.O CH.O CH ?O ■ H CH.O H H H CH.O CH.O CH.O H H 3, 4. 5-tricIBz-Nu4-CH.OB
z-S 4-C! H. OPh- S 4-CxHsOBz- S 4-CH. OPh- 0 4-CH. OBz- S 4-CJsOPh- S 4-C*HsOBz- S 4-CH. OPh- 0 4-CHiOBz- S 4-C! H. OPh- S fCtHiOBz- S 4-CI{. OPh- S 4-CHiOBz- S 4-C! HsOPh- S 4-C. HIOBZ-S 4-CI. OPh- 0 4-CH. OBz- S 4-czusoph- S 4-CJ. OBz- S 4-(:H?oph- s 4-CHxOBz- 0 4-C.H.OPh- S 4-CxH.OBz- S 4-CH30Ph- S Exemplary compound R6 A CH.OH CI.O CH .O CH.O H H H CH.O H ■ CH.O H CH.O C} {.O H CH.O CH.O CH30 ■ H H H CH.0 ■ CH.O CR30 H CI.O CH30 H H CH.O H ■ CH.O H CH.O H CH.O CR.O H cuxo CH.O H H ■ CH*O H H H CH30 CH,O H CH.O H CHID H H CHsO H H CH.O CH30 H cHso CH.O H cn*o H ■ CH.O H ■ CH.0 H CIhO CH.O CH.O H CH.O H H H CI,O CR.O C}t.0 H H H CH.O CH.O CH.O H H CH30 H H H CH.0 C.H. C.H7 CM. C.H5 C.H A■ H ■ H H ■ H H H H H H ■ H H CH.CtH- CJACH.C.H, CJA4-CH.OBz- 0 4-C.HSOPh- S 4-C.H.OBZ- S 4-cuxoph- S 4-CHxOBz- 0 4-CH .OPh- S 2 3-diFPh- S 3 4-diFPh- 0 3 5-diFPb- S 2 3-diCIPh- S 3 4-diCIPh- S 3 5-diCIPh- S 2.3.4-triFPh- 0 3 , 4.5-triFPh- S 2, 3. 4-triclPh-S 3, 4.5-triclPh-S 4-FBz- S 4-CIBz- 0 2 3-diFBz- S 3 4-diFBz- S 3 5 -diFBz- S 2 3-diCIBz- 0 3 4-diCIBz- S 3 5-diCIBz- S 2,3.4-triFBz- S Exemplary compound R6 A H CH.O H ■ H ■ CI{.0 ■ ■ CI .O H CH.O CH.O H CM.O CH.O CH.O H H H H CHsO H H CH.0 CI. O H CH. O ■ ■ CH. O H H C}1.0 H CH. O H CB. O cnxo H cuso CH. O H H ■ CH. O H H CH30 H H ■ CI{. 0 ■ CH. O H H CH. O H H CH. OCH. O H CHJ CM. Q H CH. O H H CH. 0 ■ H CI. O H H CH. O CHaO H CI. O H H H CH. O cono cnao ■ H H CH. OCH. O cii*o ■ ■ CI{. 0 ■ H H CH. OCI. OCH. 0 3,4.5-triFBz-S 2,3. 4-triCIBz-S3, 4. 5
-triclBz-0 4-CH. OBz- NH 4-C2HIOPh- NH 4-CtHsOBz- Q 4-(:}f!OPhichizu 4-CHsOBz- NH 4-CJsOPh- NH 4-CJsOBz- NH 4-CH.OPh- zu 4-CH.OBz - NH 4-c*nsoph- 1fH 4{:.H.OBz- Q 4-C}I.OPh 4-CHJBz- NH 4-c*ttsoph- ■ 4-CtHsOBz- NH 4-CH30Ph 1 Positive 4 -CHiOBz- N}f 4-C-HsOPh- NH 4-CJ*OBz- NH 4-CHsOPh1 Tomo 4-CH.OBz- NH 4-C.H.OPh- NH Exemplary compound R6 A H CH.O CI .O H CH30 CH.O CHs O ■ H H CH.O H H CH30 H CI.O crtao H CH.O cnxo CHJ H H H H CH.O H CH.O CM.O H CH.O CI.O ■ H CLO ■ H CH.O H CH.O H CH.O Cl{.O H CH,O CH!O H H H CH.0 CI.O CH,O H CH30 CI.O ■ CI{.O H CH.O H ■ CH.O H H CH.O CH.O H CH20 CIIO H CH.O H H H CH,O H H H H CH.O CI.O CH.O ■ CI.O ■ ■ ■ CH. 0 CI. C2HSOBZ 1 book 4-CH?OPh- NH 4-CIBz- book 4-CIPh 1 story 2 3-diFPh- ■ 3 4-diFPh- NH 3 5-diFPh 1 book 2 3-diCIPh- NH 3 4-diclPh- book 3 5-diclPh 1 volume 2,3.4-triFPh- NH 3,4.5-triFPh- NH 2, 3. 4-tricIPh-NH3, 4. 5
-tricIPh-NH4-FBz- Book 4-CIBz- Book 2.3-diFBz- Fil{ 3.4-diFBz- NH 3, 5-diFBz- Book 2.3-diCIBz- NH 3,4-diclBz- ■ Examples Compound CH,O CH,O CH,O CH,0 CH,O H30 CH,O CH,0 (:)1.0 ■ xH- C,H. CH. (1:, H. Ml Among the above-mentioned exemplified compounds, preferred compounds include 1.3
.. 4.9.16.17.18.19.24.31.33
.. 34.39.46.48.49.54.55.57.
58.63.64.66.70.71.72.73.7
7.78.85.87.88.93.100.102.
103.108.110.111.116.123.1
25.126, 131.138.140.141.14
6.153.155.156.161, 163.164
.. 169.176.178.179.184.191.
193.194.199.206.208.209.2
14.216.217.222.229.231,23
2.237.245.246.251.258.260
.. 261.266.268.269.274.2811
283.284.289.297.298.303.3
10.312.313 and 318 may be mentioned. Furthermore, suitable compounds include 1.1g, 55, 66,
70, 71. 72, 77, 111. 116, 146, 156. Compounds 169 and 184 may be mentioned. The a-sulfinyl-substituted acetamide derivative of the present invention is
In the above formula, R1 is produced by the method described below.
, R2, R3, R4, R5, R6 and A have the same meanings as above, and X and Y are the same or different, chlorine, bromine,
Halogen atoms such as iodine; methanesulfonyloxy,
Lower alkanesulfonyloxy groups such as ethanesulfonyloxy, halogeno lower alkanesulfonyloxy groups such as nitrifluoromethanesulfonyloxy and pentafluoroethanesulfonyloxy, or arylsulfonyloxy groups such as benzenesulfonyloxy and p-toluenesulfonyloxy, etc. Indicates a leaving group. 1E1 is a step of producing an acetamide derivative (3) by reacting an active derivative of acetic acid +11 with an amine compound (2) in a solvent in the presence or absence of a base. The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane:
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane; dimethylformamide , dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide. The base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in normal reactions, but preferably alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate: sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate. Alkali metal bicarbonates such as: alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide or inorganic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4 - (N, N-dimethylamino)
Pyridine, N,N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, 1,5-diazabicyclo[4,3,0]non-5-ene, 1,4-diazabicyclo[2,2,2]
Octane (DABCO), l, a-diazabicyclo[
5,4,0] undec-7-ene (DBUI). The reaction temperature is -20°C to 80°C, preferably 0°C to 50°C. The reaction time varies mainly depending on the reaction temperature, the raw material compound, or the type of solvent used, but is usually 1 to 20 hours. After the reaction is completed, the target compound of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by appropriately neutralizing the reaction mixture and removing insoluble matter by filtration if present, adding an organic solvent that is immiscible with water, washing with water, and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by conventional methods such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.
3) and the mercaptan derivative (4) are reacted in a solvent in the presence of a base to produce a sulfide compound (5). The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but suitable solvents include methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride,
Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, lolobanol; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotri Mention may be made of amides such as amide or sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane. The base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in normal reactions, but preferably alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate. Alkaline earth bicarbonates such as: alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride; inorganic metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide Bases; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide; triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4-fN, N-dimethylamino)pyridine, N,N-dimethylaniline , N, N-diethylaniline, ■, 5-diazabicyclo[4,3,0]
non-5-ene, 1,4-diazabicyclo[2,2,
2] octane fDABco), t,a-diazabicyclo[5,4,0]undec-7-ene (IIBUI) or organometallic bases such as butyllithium, lithium diisopropylamide. The reaction temperature is 0° C. to 100° C., preferably 20° C. to 60° C. The reaction time varies mainly depending on the reaction temperature, the raw material compound or the type of solvent used, but is usually 1. After the completion of the reaction, the target compound of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method.For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insoluble materials are present, they are removed by filtration. After that, an organic solvent that is immiscible with water is added, and after washing with water, the solvent is distilled off.The obtained target compound is further purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, reprecipitation, or chromatography. In the third step, the sulfur atom of the sulfide compound obtained in the second step is oxidized with an oxidizing agent in a solvent, and if desired,
When R1, R2, R3, R4 and/or R6 have a protected hydroxyl group, a protected amino group and/or a protected mercapto group, the protecting group is removed and the object compound of the present invention ( 6) is the process of manufacturing. The solvent used in the main step is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but water, methylene chloride, chloroform,
Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and dichloroethane; Esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and diethyl carbonate; Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane; methanol, ethanol, Mention may be made of alcohols such as lobanol, isopropanol and organic acids such as acetic acid. The oxidizing agent to be used is not particularly limited as long as it is an oxidizing agent normally used for oxidation, but preferably organic peracids such as hydrogen peroxide, peracetic acid, and chloroperbenzoic acid. ; t-butyl hydroperoxide-vanadium fIV
l Vanadium complexes such as oxyacetylacetonate; manganese oxides such as manganese dioxide; romic acids such as chromic acid; romic acid complexes such as dichromic acid-sulfuric acid complex, chromic acid-pyridine complex; or ruthenium tetroxide. Inorganic peroxides such as ruthenium oxides or chlorites such as potassium chlorite, sodium chlorite or reagents used in DMSO oxidation (dimethyl sulfoxide and dicyclohexylcarbodiimide, oxalyl chloride, Examples include complexes with acetic anhydride or phosphorus pentoxide, and pyridine-sulfuric anhydride complexes. The reaction temperature is 0°C to 100°C, preferably 10°C to 50°C. The reaction time varies mainly depending on the reaction temperature, the raw material compound, or the type of solvent used, but is usually 1 to 20 hours. The desired step, removal of the protecting group, varies depending on the type, but is generally carried out as follows by methods well known in the art. When the protecting group for the hydroxyl group is a silyl group, it is usually removed by treatment with a compound that generates a fluorine anion, such as tetrabutylammonium fluoride.The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Although the reaction temperature and reaction time are not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature for 10 to 18 hours. When the hydroxyl protecting group is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group, it can usually be removed by contacting with a reducing agent. For example, the 0 reaction, which is achieved by catalytic reduction at room temperature using a catalyst such as palladium on carbon, platinum, or Raney nickel, is carried out in the presence of a solvent, and the reaction solvent used does not participate in this reaction. Although there is no particular limitation as long as it is suitable, alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, fatty acids such as acetic acid, or a mixed solvent of these organic solvents and water are suitable. The source strength and reaction time vary depending on the starting material and reducing agent used, but usually at 0°C to room temperature.
The duration ranges from 5 minutes to 12 hours. It can also be removed by treating metal lithium or sodium in liquid ammonia or in an alcohol such as methanol or ethanol at -78°C to -20°C. Furthermore, aluminum chloride-sodium iodide or alkylsilyl halides such as trimethylsilyl iodide can also be used for removal. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the reaction solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but preferably nitriles such as acetonitrile, methylene chloride,
The zero reaction temperature when halogenated hydrocarbons such as chloroform or a mixed solvent thereof is used varies depending on the starting material, but is usually 0°C to 50°C. Note that aluminum chloride-sodium iodide is preferably used. When the protecting group for the hydroxyl group and/or mercapto group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treatment with a base in the presence of a solvent. The base is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound, but preferably metal alcoholades such as sodium methoxide, alkali metals such as aqueous ammonia, sodium carbonate, and potassium carbonate. It is carried out using carbonates, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or concentrated ammonia-methanol. The solvent used is not particularly limited as long as it is used in ordinary hydrolysis reactions, and includes water, alcohols such as methanol, ethanol, and n-propanol, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. An organic solvent or a mixed solvent of water and an organic solvent is suitable. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials, the base used, etc. and are not particularly limited, but in order to suppress side reactions, they are usually at 0° C. to 150° C. and for 1 to 10 hours. When the protecting group for a hydroxyl group is an alkoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrothiopyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydrothiofuranyl group, or a substituted ethyl group, it is usually treated with an acid in a solvent. It can be removed by The acid used is preferably hydrochloric acid, acetic acid-sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid or acetic acid, but strongly acidic cation exchange resins such as DOWEX 50W can also be used. The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, or a mixed solvent of these organic solvents and water may be used. suitable. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the type of acid used, but are usually between 0°C and 50°C.
C for 10 minutes to 18 hours. When the protecting group for the hydroxyl group is an alkenyloxycarbonyl group, the protecting group for the hydroxyl group is usually an aliphatic acyl group,
It can be removed by treatment with a base under the same conditions as the removal reaction for aromatic acyl groups or alkoxycarbonyl groups. In the case of allyloxycarbonyl, removal using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is particularly convenient and can be carried out with fewer side reactions. Incidentally, the above-described operation for removing the protecting group for the hydroxyl group and/or the mercapto group may also remove the protecting group for the amino group at the same time. The above-mentioned reaction for removing a protecting group for a hydroxyl group, a reaction for removing a protecting group for a mercapto group, and a reaction for removing a protecting group for an amino group can be carried out sequentially as desired in any order. When the protecting group for the amino group is a silyl group, the removal reaction is carried out in the same manner as in the case where the protecting group for the hydroxyl group is a silyl group. When the protecting group for the amino group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treatment with an acid or base in the presence of an aqueous solvent. As acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and hydrobromic acid are used, and as bases, there are no particular limitations as long as they do not affect other parts of the compound, but sodium carbonate and carbonate are preferably used. It is carried out using an alkali metal carbonate such as potassium, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or concentrated ammonia medanol. The solvent used is not particularly limited as long as it is used in ordinary hydrolysis reactions, and water or water and alcohols such as methanol, ethanol, and lobanol, or ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are used. A mixed solvent with an organic solvent such as ,■~10
It's time. When the protecting group for the amino group is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group, removal is carried out in the same manner as when the protecting group for the hydroxyl group is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group. When the protecting group for the amino group is an alkenyloxycarbonyl group, it is usually treated with a base under the same conditions as the removal reaction when the protecting group for the amino group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, or an alkoxycarbonyl group. It can be removed by treatment. In the case of allyloxycarbonyl, removal using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is particularly convenient and can be carried out with fewer side reactions. After the completion of the reaction, the target compound of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method6. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insoluble materials are present, they are removed by filtration, and then mixed with water. It can be obtained by adding an organic solvent that does not contain alcohol, washing with water, and then distilling off the solvent. The obtained target compound may be subjected to conventional methods such as recrystallization, reprecipitation or chromatography, if necessary.

【効果】【effect】

in vitroにお るH” K”−ATPaseブ
タの新鮮な胃底腺よりサッコマーニ (Saccomanilらの方法[J、Biol、(:
hea+、、 251巻。 7690頁(1976年)〕に従い、調製したミクロゾ
ーム画分をH”、 K”−ATPase酵素標本として
使用した。 被験化合物をジメチルスルホキシドに溶解した液10μ
2に、タンパク質量に換算して20〜40μgの酵素標
本を含む40mM)リス・酢酸緩衝液(2mM塩化マク
ネシウム、20mM塩化カリウム、pH7−410,9
mlを加え、37℃で300分間反応せた。酵素反応は
2゜IIM ATP 4Na溶液0.1 +*lを加え
ることにより開始し、37℃で8分間反応させた。 1
00 mgの活性炭を含む10%トリクロロ酢酸混液1
  golを加え反応を停止させた0反応液を遠心分離
(3000rpm、 15分)後、その上澄液中の無機
燐酸濃度を、フィスヶ・サバロウの方法[,1Bio1
.Chem、、 66巻、375頁(1925年)]で
比比色量した。また20+mM塩化カリウム非存在下で
の反応液中の無機燐酸量も同様にして求め、2001M
塩化カリウム存在下の量から差し引くことによりH゛、
に”−ATPase活性を求めた。 コントロール活性値と被験化合物各濃度に於ける活性値
から阻害率%を求め、H”、K”−ATPaseに対す
る阻害率又は50%阻害濃度fIc、。)を求めた。 その結果は下表にまとめた。 以上のように、本発明の新規なα−スルフィニル置換ア
セトアミド誘導体は、優れたH”、 Kゝ−ATPas
e酵素阻害活性を有するので、胃酸分泌抑制作用及び抗
潰瘍作用を示し、且つ、毒性もないので、胃腸の治療剤
として有用である。 本発明の化合物の投与形態としては、例えば、錠剤、カ
プセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経
口投与又は注射剤若しくは坐剤等による非経口投与を挙
げることができる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、
崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用い
て周知の方法で製造される。その使用量は症状、年齢等
により°異なるが、1日50−200 Ig/kg体重
を通常成人に対して、1日1回又は数回に分けて投与す
ることができる。 以下に、 実施例をあげて本発明を更に具体的に 説明する。 2−メルカプトベンゾイミダゾール2.2g及びp−メ
トキシフェニルクロルアセトアミド3.4gをメタノー
ル30■lに溶解し、28%ナトリウムメトキシド−メ
タノール溶液3.4gを水冷下滴加した。 全体を室温にて1時間撹拌すると、結晶が析出するので
、濾過し、結晶を冷メタノール及び冷水にて洗滌し、ス
ルフィド体4gを得た。 融点:206℃ 漿北逼1社 得られたスルフィド体2.3gをメタノール:塩化メチ
レン(1:2)に溶解し、t−ブチルハイドロパーオキ
シド2 ml及びバナジウム(1v)オキシアセチルア
セトナート100111gを加え、室温にて15時間撹
拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をフラッシュクロマ
トグラフィ= (シリカゲル)に付し、塩化メチレンに
て溶出させ、目的化合物1gを得た。 直進at虹 得られたスルフィド体を、テトラヒドロフラン:塩化メ
チレン:メタノールf3[1:5[1:Is)の溶液に
溶かし、■当量の1−クロル過安息香酸を用い、10分
間酸化することにより、反応溶液中より結晶として、目
的化合物を85%の単離収率で得た。 融点+ 163−167℃ (分解)。 NMRスペクトル(60MHz、重ジメチルホルムアミ
ド)δ ppm : 3、74 (3H,sl 。 4、26 (LH,d、 J=12Hzl 。 4、45 (1)[、d、 J=12Hzl 。 6.6〜8.2 (8H,o+] 。 Rf値+ 0.25 (塩化メチレン:メタノール;2
0:I)。 フェニルアセトアミド 2−メルカプトベンゾチアゾール265g及びp−メト
キシフェニルクロルアセトアミド3gをジメチルホルム
アミド:テトラヒドロフラン 25 mlに溶解し、水冷下、750 mgの50%水
素化ナトリウムを加え、−夜撹拌した。酢酸エチルを加
え、水洗を3回した後、硫酸マグネシウムにて乾燥し、
減圧上溶媒を留去し、結晶4gを得た。 融点:127℃ Rf値: 0.45 (シクロヘキサン:酢酸エチル=
4:1)得られたスルフィド体300 Bを塩化メチレ
ンに溶解し、t−ブチルハイドロパーオキシドQ−4 
1111及びバナジウム(IV)オキシアセチルアセト
ナート20nagを加え、室温にて一夜撹拌後、溶媒を
減圧上留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー 
(シリカゲル)に付し、塩化メチレンにて溶出させ、目
的化合物150 mgを得た。 融点: 174−175℃ (分解)。 NMRスペクトル(60Hz, GDCl.)  δ 
ppm 。 3、 75 f3H, s) 。 4、口flH.d.J=15Hzl 。 4、 32 (LH, d, J=15Hz) 。 6、8〜8. 2 f8H. +m) 。 赤外吸収スペクトル(Nujoll  v c+w−1
+1671、 [05. 1550, 1510. 1
375, 1225。 マススペクトル 園/e: 346。 1040。 2−メルカプトベンゾイミダゾール1.2 gを6購l
のジメチルホルムアミドに溶解し、水冷下、388II
gの水素化ナトリウム(50%)を加え、20分間撹拌
した. 2.1 gの3.4.5−トリメトキシフェニ
ルクロルアセトアミドを加え、1時間室温で撹拌した。 酢酸エチルを加え、水洗を3回した後、減圧上溶媒を留
去し、1.8gのカップリング体であるスルフィド体を
得た。 融点:175℃ 得られたスルフィド体373 mgを塩化メチレン20
1t11に溶解し、■ークロル過安息香酸151 mg
を加え、室温にて4時間撹拌した。析出した結晶を濾過
し、水冷した塩化メチレン及びエーテルにて洗滌し、6
0 mgの目的化合物を得た。 融点:185℃ NMRスペクトル(60MHz.重ジメチルホルムアミ
ド)δ ppm: 3、 70 [3H, sl 。 3、 77 f3H, sl 。 4、 28 flH. d, J=15Hz) 。 4、50 +IH,d.J=15Hz) 。 7、0〜8. 2 (6H) 。 2−メルカプトベンゾチアゾール1.8 g及びα−ブ
ロモ−3.4.5− トリメトキシフェニルプロピルア
ミド3.8gを、25ff11のジメチルホルムアミド
に溶解し、水冷下、6(1(l mgの水素化ナトリウ
ム(50%)を加えた.室温にて2時間攪拌後、酢酸エ
チルを加え、有機層を水で3回洗い、硫酸マグネシウム
にて乾燥後、減圧上溶媒を留去した.フラッシュカラム
クロマトグラフィーにて精製し. Rf値0.5(シク
ロヘキサン:酢酸エチル=1:l)に対応する部分から
カップリング体であるスルフィド体2.8gを得た。 得られたスルフィド体2.3gを、塩化メチレン100
 ml及びメタノール10 mlに溶解し、水冷下、1
、52 gの燻−クロル過安息香酸を加え、室温にて5
時間撹拌した.炭酸水素ナトリウム水、次いで、水にて
洗滌した後、硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧上溶
媒を留去し、残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーに付し、Rf値(C25 (シクロヘキサン:酢酸エ
チル=1:l)の部分より、目的化合物1.5gを得た
。 融点:215℃(分解) NMRスペクトル(60MHz, CDC1.十重メタ
ノール)δ ppm : 1、64f3H,d,J=7Hz)。 4、63(IH,q.J=7Hz)。 3、75 f3H,s) 。 3.72f3H,s  X2)。 7.2〜7.9 (61() 。 2−メルカプトベンゾイミダゾール195 rag及び
(2,6−ジメトキシ)ピリジン−3−イルクロルアセ
トアミド300 wIgを、5 +slのジメチルホル
ムアミドに溶解し、水冷下、62 mgの水素化ナトリ
ウム(50%)を加えた。室温にて3時間撹拌後、酢酸
エチルを加え、有機層を水で3回洗った。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、フラッシュカラム
クロマトグラフィーにて精製し、Rf値0.6(塩化メ
チレン:酢酸エチル=2:l)に対応する部分よりカッ
プリング体であるスルフィド体3(1011gを得た。 得られたスルフィド体300 mgを塩化メチレン5社
に溶解し、水冷下、151 mgの閤−クロル過安息香
酸を加えた。室温にて15時間撹拌後、結晶が析出した
。結晶を濾過し、水冷した塩化メチレン及びエーテルに
て洗滌し、目的化合物160 mgを得た。 融点: 181 ”C(分解) NMRスペクトル(60MHz、重ジメチルホルムアミ
ド十重メタノール)δ ppm : 3、82 f3H,sl 。 3、85 f3H,sl 。 4、01 f2H,brsl 。 6、27 flH,d、 J:8Hzl 。 L 19 (IH,d、 J=8Hz) 。 7、1−8.0 (4H,m) 。 2−メルカプトベンゾイミダゾール224 mg及び(
6−メトキシ)ピリジン−3−イルクロルアセトアミド
300 mgを、4 mlのジメチルホルムアミドに溶
解し、水冷下、90 mgの水素化ナトリウム(50%
)を加え、室温にて5時間撹拌した。酢酸エチルを加え
、有機層を3回水洗した後、硫酸マグネシウムにて乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、塩化メチレン:酢酸エチル
(1:1)にて、Rf値0.3に対応する部分をシリカ
ゲル分取TLCにて分離精製し、カップリング体である
スルフィド体300 Bを得た。 融点:227℃ 得られたスルフィド体、150 tagを5 mlのテ
トラヒドロフランに溶解し、0.23 mlのt−ブチ
ルハイドロパーオキシドついで38 mgのバナジウム
(iv)オキシアセチルアセトナートを加え、室温にて
15時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲル分取TLCに付し、Rf(10,1(酢酸エチル)
に対応する目的化合物を45 mg得た。 融点:163℃ NMRスペクトル(60MHz、重ジメチルスルホキシ
ド) δ ppm  : 3、83 (3H,sl 。 4、39 (2H,brsl 。 6.6〜8.3 (71(、■)。 赤外吸収スペクトル(Nujoll y c+s−1:
1640゜ 1460゜ 1375゜ 1040゜
In vitro H"K"-ATPase from fresh fundic glands of pigs was performed using the method of Saccomanil et al. [J, Biol, (:
hea+,, 251 volumes. 7690 (1976)], the microsomal fraction prepared was used as an H'', K''-ATPase enzyme preparation. 10μ of a solution of the test compound dissolved in dimethyl sulfoxide
2, 40mM) Lis acetate buffer (2mM magnesium chloride, 20mM potassium chloride, pH 7-410,9 containing 20-40μg of enzyme specimen in terms of protein amount)
ml was added and reacted at 37°C for 300 minutes. The enzyme reaction was started by adding 0.1+*l of 2°IIM ATP 4Na solution and allowed to react at 37°C for 8 minutes. 1
10% trichloroacetic acid mixture containing 00 mg of activated carbon
After centrifuging the zero reaction solution (3000 rpm, 15 minutes) in which the reaction was stopped by adding Gol, the concentration of inorganic phosphoric acid in the supernatant was determined using the Fiska-Sabarou method [,1Bio1
.. Chem, Vol. 66, p. 375 (1925)]. In addition, the amount of inorganic phosphoric acid in the reaction solution in the absence of 20+mM potassium chloride was determined in the same manner.
By subtracting from the amount in the presence of potassium chloride,
The ``-ATPase activity was determined. The inhibition rate % was determined from the control activity value and the activity value at each concentration of the test compound, and the inhibition rate or 50% inhibitory concentration fIc, for H'', K''-ATPase was determined. The results are summarized in the table below.As described above, the novel α-sulfinyl-substituted acetamide derivative of the present invention has excellent H”, K-ATPas
Since it has e-enzyme inhibitory activity, it exhibits gastric acid secretion suppressing effect and anti-ulcer effect, and is also non-toxic, so it is useful as a gastrointestinal therapeutic agent. Examples of the administration form of the compound of the present invention include oral administration in the form of tablets, capsules, granules, powders, or syrups, or parenteral administration in the form of injections or suppositories. These formulations include excipients, binders,
It is manufactured by a well-known method using additives such as a disintegrant, a lubricant, a stabilizer, and a flavoring agent. The amount used varies depending on the symptoms, age, etc., but 50-200 Ig/kg body weight per day can be administered to adults, usually once a day or in several divided doses. The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples. 2.2 g of 2-mercaptobenzimidazole and 3.4 g of p-methoxyphenylchloroacetamide were dissolved in 30 μl of methanol, and 3.4 g of a 28% sodium methoxide-methanol solution was added dropwise under water cooling. When the whole was stirred at room temperature for 1 hour, crystals were precipitated, so they were filtered and the crystals were washed with cold methanol and cold water to obtain 4 g of a sulfide compound. Melting point: 206°C 2.3 g of the sulfide obtained from Chibeitai Co., Ltd. was dissolved in methanol:methylene chloride (1:2), and 2 ml of t-butyl hydroperoxide and 100,111 g of vanadium (1v) oxyacetylacetonate were added. The mixture was added and stirred at room temperature for 15 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to flash chromatography (silica gel) and eluted with methylene chloride to obtain 1 g of the target compound. The obtained sulfide compound was dissolved in a solution of tetrahydrofuran:methylene chloride:methanol f3 [1:5 [1:Is], and oxidized for 10 minutes using 1 equivalent of 1-chloroperbenzoic acid. The target compound was obtained as crystals from the reaction solution in an isolated yield of 85%. Melting point + 163-167 °C (decomposition). NMR spectrum (60 MHz, deuterated dimethylformamide) δ ppm: 3,74 (3H, sl. 4,26 (LH, d, J=12 Hzl. 4,45 (1) [, d, J=12 Hzl. 6.6~ 8.2 (8H, o+]. Rf value + 0.25 (methylene chloride: methanol; 2
0:I). 265 g of phenylacetamide 2-mercaptobenzothiazole and 3 g of p-methoxyphenylchloroacetamide were dissolved in 25 ml of dimethylformamide:tetrahydrofuran, 750 mg of 50% sodium hydride was added under water cooling, and the mixture was stirred overnight. After adding ethyl acetate and washing with water three times, drying with magnesium sulfate,
The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 4 g of crystals. Melting point: 127°C Rf value: 0.45 (cyclohexane: ethyl acetate =
4:1) The obtained sulfide compound 300B was dissolved in methylene chloride, and t-butyl hydroperoxide Q-4
1111 and 20 nag of vanadium (IV) oxyacetylacetonate were added, and after stirring at room temperature overnight, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to flash chromatography.
(silica gel) and eluted with methylene chloride to obtain 150 mg of the target compound. Melting point: 174-175°C (decomposed). NMR spectrum (60Hz, GDCl.) δ
ppm. 3, 75 f3H, s). 4, mouth flH. d. J=15Hzl. 4, 32 (LH, d, J=15Hz). 6, 8-8. 2 f8H. +m). Infrared absorption spectrum (Nujoll v c+w-1
+1671, [05. 1550, 1510. 1
375, 1225. Mass Spectrum Sono/e: 346. 1040. Purchase 6 liters of 1.2 g of 2-mercaptobenzimidazole
388II was dissolved in dimethylformamide and cooled with water.
g of sodium hydride (50%) was added and stirred for 20 minutes. 2.1 g of 3.4.5-trimethoxyphenylchloroacetamide was added and stirred for 1 hour at room temperature. After adding ethyl acetate and washing with water three times, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.8 g of a sulfide compound, which is a coupled product. Melting point: 175°C 373 mg of the obtained sulfide compound was dissolved in methylene chloride 20
151 mg of chloroperbenzoic acid dissolved in 1t11
was added and stirred at room temperature for 4 hours. The precipitated crystals were filtered and washed with water-cooled methylene chloride and ether.
0 mg of the target compound was obtained. Melting point: 185° C. NMR spectrum (60 MHz. deuterated dimethylformamide) δ ppm: 3, 70 [3H, sl. 3, 77 f3H, sl. 4, 28 flH. d, J=15Hz). 4, 50 +IH, d. J=15Hz). 7, 0-8. 2 (6H). 1.8 g of 2-mercaptobenzothiazole and 3.8 g of α-bromo-3.4.5-trimethoxyphenylpropylamide were dissolved in 25ff11 of dimethylformamide, and 6(1 (l) mg of hydrogenated Sodium (50%) was added. After stirring at room temperature for 2 hours, ethyl acetate was added, and the organic layer was washed three times with water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Flash column chromatography 2.8 g of the sulfide compound, which is a coupling product, was obtained from the portion corresponding to the Rf value of 0.5 (cyclohexane:ethyl acetate = 1:l).The obtained 2.3 g of the sulfide compound was chlorinated. methylene 100
ml and methanol 10 ml, under water cooling, 1
, 52 g of smoked chloroperbenzoic acid and 52 g at room temperature.
Stir for hours. After washing with sodium bicarbonate water and then with water, it was dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to flash column chromatography to obtain 1.5 g of the target compound based on the Rf value (C25 (cyclohexane:ethyl acetate = 1:l). Melting point: 215 ° C. Decomposition) NMR spectrum (60 MHz, CDC1. deca methanol) δ ppm: 1, 64 f3H, d, J = 7 Hz). 4, 63 (IH, q.J=7Hz). 3,75 f3H,s). 3.72f3H,s X2). 7.2-7.9 (61(). 195 rag of 2-mercaptobenzimidazole and 300 wIg of (2,6-dimethoxy)pyridin-3-ylchloroacetamide were dissolved in 5+sl of dimethylformamide and cooled with water. 62 mg of sodium hydride (50%) was added. After stirring at room temperature for 3 hours, ethyl acetate was added and the organic layer was washed three times with water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. , purified by flash column chromatography, and obtained 1011 g of sulfide compound 3, which is a coupling product, from the portion corresponding to the Rf value of 0.6 (methylene chloride: ethyl acetate = 2: l). The obtained sulfide compound 300 mg was dissolved in methylene chloride 5, and 151 mg of chloroperbenzoic acid was added under water cooling. After stirring at room temperature for 15 hours, crystals were precipitated. The crystals were filtered and dissolved in water-cooled methylene chloride and Washing with ether gave 160 mg of the target compound. Melting point: 181"C (decomposition) NMR spectrum (60 MHz, deuterated dimethylformamide deca methanol) δ ppm: 3,82 f3H,sl. 3,85 f3H,sl 4,01 f2H,brsl.6,27 flH,d, J:8Hzl.L19 (IH,d, J=8Hz).7,1-8.0 (4H,m).2-Mercaptobenzimidazole 224 mg and (
300 mg of 6-methoxy)pyridin-3-ylchloroacetamide was dissolved in 4 ml of dimethylformamide, and 90 mg of sodium hydride (50%
) and stirred at room temperature for 5 hours. Ethyl acetate was added, and the organic layer was washed three times with water and then dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the portion corresponding to an Rf value of 0.3 was separated and purified using silica gel preparative TLC using methylene chloride:ethyl acetate (1:1) to obtain the sulfide compound 300B, which is a coupled product. I got it. Melting point: 227°C 150 tag of the obtained sulfide compound was dissolved in 5 ml of tetrahydrofuran, 0.23 ml of t-butyl hydroperoxide and 38 mg of vanadium(iv) oxyacetylacetonate were added, and the mixture was stirred at room temperature. Stirred for 15 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel preparative TLC.
45 mg of the target compound corresponding to was obtained. Melting point: 163°C NMR spectrum (60 MHz, heavy dimethyl sulfoxide) δ ppm: 3, 83 (3H, sl. 4, 39 (2H, brsl. 6.6-8.3 (71 (, ■). Infrared absorption spectrum (Nujoll y c+s-1:
1640° 1460° 1375° 1040°

Claims (2)

【特許請求の範囲】 (1)[Claims] (1) 【請求項1】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 R^1、R^2、R^3及びR^4は、同一又は異なっ
て、水素原子又は下記置換基群Aより選択される基を示
し、 R^5は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を
示し、 R^6は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群
Aより選択される基で1乃至3個置換されたアリール基
、アラルキル基、下記置換基群Aより選択される基で1
乃至3個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又
は下記置換基群Aより選択される基で1乃至3個置換さ
れたヘテロアリール基を示し、 Aは、酸素原子、硫黄原子又は一般式NR^7で表され
る基(式中、R^7は、水素原子又は低級アルキル基を
示す。)を示す。]で表わされる化合物及びその塩。 「置換基群A」 低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル(2)
[Claim 1] General formula▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) [In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4 are the same or different and are hydrogen atoms or the following: Represents a group selected from substituent group A, R^5 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an aryl group, and R^6 represents a lower alkyl group, an aryl group, or a group selected from substituent group A below. An aryl group substituted with 1 to 3 groups, an aralkyl group, or a group selected from the following substituent group A.
It represents an aralkyl group substituted with 3 to 3 substituted groups, a heteroaryl group, or a heteroaryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A, where A is an oxygen atom, a sulfur atom, or the general formula NR^ 7 (in the formula, R^7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). ] and its salts. "Substituent Group A" Lower alkyl group, lower alkoxy group, hydroxyl group, protected hydroxyl group, amino group, substituted amino group, protected amino group, mercapto group, protected mercapto group, halogen atom, and aralkyl group ( 2)
【請求項2】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、 R^1、R^2、R^3及びR^4は、同一又は異なっ
て、水素原子又は下記置換基群Aより選択される基を示
し、 R^5は、水素原子、低級アルキル基又はアリール基を
示し、 R^6は、低級アルキル基、アリール基、下記置換基群
Aより選択される基で1乃至3個置換されたアリール基
、アラルキル基、下記置換基群Aより選択される基で1
乃至3個置換されたアラルキル基、ヘテロアリール基又
は下記置換基群Aより選択される基で1乃至3個置換さ
れたヘテロアリール基を示し、 Aは、酸素原子、硫黄原子又は一般式NR^7で表され
る基(式中、R^7は、水素原子又は低級アルキル基を
示す。)を示す。]で表わされる化合物及びその塩。 「置換基群A」 低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、保護され
た水酸基、アミノ基、置換されたアミノ基、保護された
アミノ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、ハ
ロゲン原子及びアラルキル基
[Claim 2] General formula▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) [In the formula, R^1, R^2, R^3 and R^4 are the same or different and are hydrogen atoms or the following: Represents a group selected from substituent group A, R^5 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an aryl group, and R^6 represents a lower alkyl group, an aryl group, or a group selected from substituent group A below. An aryl group substituted with 1 to 3 groups, an aralkyl group, or a group selected from the following substituent group A.
It represents an aralkyl group substituted with 3 to 3 substituted groups, a heteroaryl group, or a heteroaryl group substituted with 1 to 3 groups selected from the following substituent group A, where A is an oxygen atom, a sulfur atom, or the general formula NR^ 7 (in the formula, R^7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). ] and its salts. "Substituent Group A" Lower alkyl group, lower alkoxy group, hydroxyl group, protected hydroxyl group, amino group, substituted amino group, protected amino group, mercapto group, protected mercapto group, halogen atom, and aralkyl group
JP26330190A 1990-10-01 1990-10-01 Alpha-sulfinyl-substituted acetamide derivative Pending JPH04139172A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26330190A JPH04139172A (en) 1990-10-01 1990-10-01 Alpha-sulfinyl-substituted acetamide derivative

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26330190A JPH04139172A (en) 1990-10-01 1990-10-01 Alpha-sulfinyl-substituted acetamide derivative

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04139172A true JPH04139172A (en) 1992-05-13

Family

ID=17387577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26330190A Pending JPH04139172A (en) 1990-10-01 1990-10-01 Alpha-sulfinyl-substituted acetamide derivative

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04139172A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0807627A3 (en) * 1996-05-17 1997-12-03 Kowa Company Ltd. Anilide compounds as ACAT inhibitors
WO1999025712A1 (en) * 1997-11-14 1999-05-27 Kowa Company, Ltd. Novel amide compounds and drugs containing the same
EP0929069A1 (en) * 1996-09-26 1999-07-14 International Business Machines Corporation Suspension assembly
US6849647B1 (en) * 1999-07-21 2005-02-01 Kowa Company, Ltd. Amide compounds and medications containing the same technical field
JP4647726B2 (en) * 1997-03-25 2011-03-09 興和株式会社 Novel anilide compound and pharmaceutical containing the same
CN102127067A (en) * 2010-11-24 2011-07-20 四川大学 2-(6-aminobenzothiazole-2-mercapto)-acetamide derivatives and preparation method and applications thereof
US20140080828A1 (en) * 2011-03-31 2014-03-20 Children's Heatlhcare Of Atlanta, Inc. Imidazolyl amide compounds and uses related thereto

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0807627A3 (en) * 1996-05-17 1997-12-03 Kowa Company Ltd. Anilide compounds as ACAT inhibitors
US6825223B2 (en) * 1996-05-17 2004-11-30 Kowa Company, Ltd. Anilide compounds and pharmaceutical compositions comprising them
US6204278B1 (en) * 1996-05-17 2001-03-20 Kowa Company, Ltd. Anilide compounds, including use thereof in ACAT inhibitition
EP0929069A4 (en) * 1996-09-26 1999-08-18
EP0929069A1 (en) * 1996-09-26 1999-07-14 International Business Machines Corporation Suspension assembly
JP4647726B2 (en) * 1997-03-25 2011-03-09 興和株式会社 Novel anilide compound and pharmaceutical containing the same
AU755654B2 (en) * 1997-11-14 2002-12-19 Kowa Company Ltd. Novel amide compounds and drugs containing the same
WO1999025712A1 (en) * 1997-11-14 1999-05-27 Kowa Company, Ltd. Novel amide compounds and drugs containing the same
AU755654C (en) * 1997-11-14 2007-03-29 Kowa Company Ltd. Novel amide compounds and drugs containing the same
US6849647B1 (en) * 1999-07-21 2005-02-01 Kowa Company, Ltd. Amide compounds and medications containing the same technical field
US7393866B2 (en) 1999-07-21 2008-07-01 Kowa Company, Ltd. Amide compounds and medications containing the same
US7414066B2 (en) 1999-07-21 2008-08-19 Kowa Company Ltd. Amide compounds and medications containing the same technical field
CN102127067A (en) * 2010-11-24 2011-07-20 四川大学 2-(6-aminobenzothiazole-2-mercapto)-acetamide derivatives and preparation method and applications thereof
US20140080828A1 (en) * 2011-03-31 2014-03-20 Children's Heatlhcare Of Atlanta, Inc. Imidazolyl amide compounds and uses related thereto
US9365523B2 (en) * 2011-03-31 2016-06-14 Emory University Imidazolyl amide compounds and uses related thereto

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU662434B2 (en) Peptides capable of inhibiting the activity of HIV protease, their preparation and their use
ES2309213T3 (en) XANTINA-OXIDASA INHIBITOR.
US3869449A (en) New penicillin esters, salts thereof, and methods for their preparation
AU2019409160B2 (en) Compound for use in retinal diseases
JPH04139172A (en) Alpha-sulfinyl-substituted acetamide derivative
EP0874849B1 (en) 2,7-substituted octahydro-pyrrolo 1,2-a]pyrazine derivatives
JPH0477476A (en) Antiulcer agent
EP0158494A1 (en) Penam derivatives and process for preparing the same
KR900007183B1 (en) Process for preparing penicillin derivatives
CA1275405C (en) Penem derivatives
KR850001339B1 (en) Process for preparing penicillanic acid 1,1-dioxide and esters therof
RU2237671C1 (en) Method and ester derivatives used for preparing cephalosporins
JPH09124632A (en) Benzo-heterocyclic derivative
JP7233660B2 (en) Production of crosslinked artificial nucleosides
KR20030071881A (en) Indoline derivative and process for producing the same
KR100286405B1 (en) Pyrido [3,4-b] pyrrolo [1,2-e] [1,4,5] oxadiazepines and related analogs thereof and methods for their preparation
NZ196055A (en) 2beta-chloromethyl-2alpha-methylpenam-3alpha-carboxylic acid sulphone,esters thereof,pharmaceutical compositions,and intermediates
JPH04187665A (en) Nerve growth factor production and secretion promoter
US7632946B2 (en) Naphthyridine-based antibacterial compositions
GB2066249A (en) Penem derivatives
JPH03204892A (en) Ribofuranose derivative
US4554160A (en) Penicillin esters, salts thereof and methods for their preparation
US4407751A (en) Processes for preparing β-lactams
CN117751113A (en) Aromatic acetylene derivative and preparation method and application thereof
JP2002302481A (en) Indoline derivative and method for producing the same