JPH04126254U - Image forming device - Google Patents

Image forming device

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JPH04126254U
JPH04126254U JP10647591U JP10647591U JPH04126254U JP H04126254 U JPH04126254 U JP H04126254U JP 10647591 U JP10647591 U JP 10647591U JP 10647591 U JP10647591 U JP 10647591U JP H04126254 U JPH04126254 U JP H04126254U
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JP
Japan
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head base
charger
exposure device
head
image forming
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Application number
JP10647591U
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Japanese (ja)
Inventor
俊次 村野
Original Assignee
京セラ株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 帯電器、現像器等からの静電誘導による、露
光器の集積回路の破壊や誤動作を防止する。 【構成】 露光器50の発光ダイオードアレイ30や制
御IC34を搭載した基板28,32を、ヘッドベース
22とヘッドカバー54で密封し、静電シールドする。
シールドはアースし、基板28,32をヘッドベース2
2に密着させて、静電誘導による誤動作を防止する。ヘ
ッドベース22をプラスチックとする場合は、ヘッドベ
ースを現像器側にヘッドカバーを帯電器側に配置する。
またこの場合は、ヘッドベース材料に導電性プラスチッ
ク、あるいは表面を導電化した絶縁性プラスチックを用
いる。好ましくはヘッドベースやヘッドカバーの表面を
絶縁化し、帯電器や現像器との接触による破壊を防止す
る。
(57) [Summary] [Purpose] To prevent destruction and malfunction of the integrated circuit of the exposure device due to electrostatic induction from the charger, developer, etc. [Structure] The substrates 28 and 32 on which the light emitting diode array 30 and control IC 34 of the exposure device 50 are mounted are sealed with the head base 22 and the head cover 54 to provide electrostatic shielding.
The shield is grounded, and the boards 28 and 32 are connected to the head base 2.
2 to prevent malfunctions caused by electrostatic induction. When the head base 22 is made of plastic, the head base is placed on the developer side and the head cover is placed on the charger side.
Further, in this case, a conductive plastic or an insulating plastic whose surface is made conductive is used as the head base material. Preferably, the surfaces of the head base and head cover are insulated to prevent destruction due to contact with a charger or developer.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed explanation of the idea]

【0001】0001

【考案の利用分野】[Field of application of idea]

この考案は、電子写真方式の画像形成装置に関し、特に露光器の回路素子の保 護に関する。 This invention relates to electrophotographic image forming apparatuses, and is particularly applicable to the protection of circuit elements in exposure devices. Regarding protection.

【0002】0002

【従来技術】[Prior art]

電子写真方式の画像形成装置では、露光器に隣接して帯電器、現像器等の高電 圧部材を配置する。画像形成装置の小型化に伴い、露光器と帯電器や現像器との 間隔を小さくすることが求められている。考案者らは、これに伴って放電による 露光器の集積回路の破壊が生じることを見いだした。この状況を図4に示す。 In an electrophotographic image forming apparatus, high-voltage devices such as a charger and a developing device are installed adjacent to the exposure device. Place the pressure member. With the miniaturization of image forming devices, the connection between the exposure device, charger, and developer is becoming smaller. There is a need to reduce the spacing. The inventors believe that due to this, It has been found that the integrated circuit of the exposure device is destroyed. This situation is shown in FIG.

【0003】 図において、2は感光ドラム、4は帯電器で、6はそのチャージャー線、8は 現像器で、10,12はトナーの保持部材である。20は露光器で、22はヘッ ドベース、24はヘッドカバー、26はレンズアレイ、28は発光ダイオードア レイ30を搭載した基板、32は外部基板で発光ダイオードアレイ30の制御I C34を搭載する。36は、基板28,32を接続するためのフレキシブルプリ ント基板である。0003 In the figure, 2 is a photosensitive drum, 4 is a charger, 6 is its charger wire, and 8 is a charger. In the developing device, 10 and 12 are toner holding members. 20 is an exposure device, 22 is a head 24 is a head cover, 26 is a lens array, and 28 is a light emitting diode door. 32 is an external board that controls the light emitting diode array 30. Equipped with C34. 36 is a flexible prism for connecting the boards 28 and 32. This is a component board.

【0004】 画像形成装置の小型化のため、露光器20と帯電器4の間隔Wは例えば1mm 程度にされ、露光器20と現像器8の間隔も1mm程度にされている。一方帯電 器4には5〜8KV程度の電圧が加えられ、現像器8にも300〜400V程度 の電圧が加えられている。用いる発光ダイオードアレイ30や制御IC34は通 常はチップをむき出しにしたもので、パッケージによる保護はなされていない。 これはパッケージコストをなくす他に、チップに直接ワイヤボンディング等を施 し、ダイレクトに基板28,32に接続するためである。この状態で帯電器4や 現像器8に高圧を加えると、静電誘導のため発光ダイオードアレイ30や制御I C34の破壊が生じる。また破壊が生じない場合でも、静電誘導による誤動作が 生じる。考案者の検討によると、破壊は発光ダイオードアレイ30や制御IC3 4のアース端子を中心に生じ、これは放電電流の流れ易いアース端子に帯電器4 や現像器8からコロナ放電したものと考えられる。0004 In order to downsize the image forming apparatus, the distance W between the exposure device 20 and the charger 4 is, for example, 1 mm. The distance between the exposure device 20 and the developing device 8 is also set to about 1 mm. One-sided charging A voltage of about 5 to 8 KV is applied to the device 4, and a voltage of about 300 to 400 V is applied to the developing device 8. voltage is applied. The light emitting diode array 30 and control IC 34 used are The chip is usually exposed and is not protected by a package. This not only eliminates packaging costs, but also enables direct wire bonding to the chip. This is to connect directly to the substrates 28 and 32. In this state, charger 4 When high pressure is applied to the developing device 8, the light emitting diode array 30 and the control I Destruction of C34 occurs. Furthermore, even if no damage occurs, malfunctions due to electrostatic induction may occur. arise. According to the inventor's study, the destruction occurred in the light emitting diode array 30 and the control IC 3. This occurs around the ground terminal of No. 4, and this occurs when the charger No. 4 is connected to the earth terminal where discharge current easily flows. This is thought to be due to corona discharge from the developing device 8.

【0005】 コロナ放電による破壊は基板28,34が露出している位置で生じ、例えば図 4の配置の場合、むき出しの制御IC34を中心に生じる。また図5のように、 フレキシブルプリント基板36を通すために、ヘッドカバー38を変形し、開口 40を設けると、開口40を介して放電し、発光ダイオードアレイ30を破壊す る。ここでは露光器20の内側について、発光ダイオードアレイ30の破壊を述 べたが、基板28にシフトレジスタ等のICを搭載すると、シフトレジスタも破 壊される。[0005] Destruction due to corona discharge occurs at locations where the substrates 28 and 34 are exposed, for example, as shown in Fig. In the case of arrangement No. 4, it occurs around the exposed control IC 34. Also, as shown in Figure 5, In order to pass the flexible printed circuit board 36, the head cover 38 is deformed and an opening is opened. 40, a discharge occurs through the aperture 40 and destroys the light emitting diode array 30. Ru. Here, regarding the inside of the exposure device 20, destruction of the light emitting diode array 30 will be described. However, if an IC such as a shift register is mounted on the board 28, the shift register will also be damaged. Destroyed.

【0006】[0006]

【考案の課題】[Problems to be devised]

この考案の課題は、放電による発光ダイオードアレイや制御ICの破壊を防止 し、同時に画像形成装置の小型化を容易にすることにある。請求項2での課題は これに加えて、ヘッドベースに安価なプラスチックを用いながら、上記の課題を 達成することにある。 The challenge of this idea is to prevent the destruction of the light emitting diode array and control IC due to discharge. At the same time, the objective is to facilitate miniaturization of the image forming apparatus. The problem in claim 2 is In addition to this, while using inexpensive plastic for the head base, the above issues were solved. It's about achieving.

【0007】[0007]

【考案の構成】[Structure of the idea]

この考案は、露光器に隣接して帯電器、現像器等の高電圧部材を配置した、電 子写真方式の画像形成装置において、露光器の回路基板の周囲に静電シールドを 施し、この静電シールドをアースしたことを特徴とする。静電シールドを施して アースすれば、放電電流はシールドからアースへ流れ、発光ダイオードアレイや 制御IC等の回路素子には流れない。この結果、回路素子の破壊を防止し、また 回路素子にパッケージを施す必要もなくなる。更にアースした静電シールドによ り、発光ダイオードアレイや制御IC等の誤動作を防止する。 This idea is based on the idea that high-voltage components such as a charger and a developer are placed adjacent to the exposure device. In an image forming device using the photo-photography method, an electrostatic shield is installed around the circuit board of the exposure device. The electrostatic shield is grounded. with electrostatic shielding If grounded, the discharge current will flow from the shield to ground, causing the light emitting diode array and It does not flow to circuit elements such as control ICs. As a result, damage to circuit elements is prevented and There is no need to package the circuit elements. Additionally, a grounded electrostatic shield This prevents malfunctions of light emitting diode arrays, control ICs, etc.

【0008】 またこの考案は、露光器の回路基板をアースされた金属製ヘッドカバーと、プ ラスチックヘッドベースとで覆い、金属製ヘッドカバーが帯電器側に、前記プラ スチックヘッドベースが現像器側に現れるようにして、前記露光器を帯電器と現 像器の間に配設したことを特徴とする。このようにすれば、高圧の帯電器側には 金属のヘッドカバーが現れ、比較的低圧の帯電器側にはプラスチックのヘッドベ ースが現れるので、回路素子の破壊や誤動作を防止することができる。プラスチ ックヘッドベースの材質には、導電性プラスチックの他に安価な絶縁性プラスチ ックも用い得、絶縁性プラスチックを用いる場合その表面を導電化して、シール ド機能を持たせることが好ましい。[0008] This idea also allows the circuit board of the exposure device to be connected to a grounded metal head cover and a plug. The plastic head base is covered with a metal head cover on the charger side. Connect the exposure device to the charger and developer so that the stick head base appears on the developer side. It is characterized by being placed between the statues. If you do this, the high voltage charger side will have A metal head cover appears, and a plastic head cover is placed on the relatively low voltage charger side. Since the ground appears, it is possible to prevent circuit elements from being destroyed or malfunctioning. Plasti In addition to conductive plastic, the base material of the dock head can be made of inexpensive insulating plastic. If an insulating plastic is used, the surface can be made conductive and the seal can be used. It is preferable to have a code function.

【0009】 ところでヘッドカバー等の導電性表面が、帯電器や現像器に接触すると、回路 素子は瞬時に破壊される。そこで好ましくはヘッドカバーやヘッドベースの表面 を絶縁被覆し、露光器と帯電器や現像器との接触による回路素子の破壊を防止す る。[0009] By the way, if a conductive surface such as a head cover comes into contact with a charger or developer, the circuit will be damaged. The element is destroyed instantly. Therefore, preferably the surface of the head cover or head base to prevent circuit elements from being destroyed due to contact between the exposure device and the charger or developer. Ru.

【0010】0010

【実施例】【Example】

【0011】[0011]

【実施例1】 図1に、実施例の露光器50を示す。図において、22はヘッドベースで例え ばアルミニウム等の金属製とし、54はヘッドカバーで同様にアルミニウム等の 金属製とする。ヘッドベース22やヘッドカバー54は静電シールドとして用い 、アースする。26はレンズアレイ、28は回路基板で発光ダイオードアレイ3 0や制御ICの一部を搭載する。32は外部基板で、基板28に搭載したもの以 外の制御IC34を搭載する。36は、基板28,32を接続するフレキシブル プリント基板である。基板28,32は金属のヘッドベース22に密着して固定 し、基板裏面の電位をアースに固定して、静電誘導の影響をできる限り小さくす る。露光器50の両端の開口からの放電を防止するため、好ましくは図2に示す ように導電性のサイドプレート56を設け、露光器50の両端に取り付ける。サ イドプレート56は例えば導電性の合成樹脂で形成し、露光器50の両端を封じ て放電を防止すると共に、ほこり等の侵入の防止にも用いる。更にサイドプレー ト56でレンズアレイ26を固定するようにすれば、ヘッドベース22やヘッド カバー54に単純な形状の長尺状のものを用いることができる。このためヘッド ベース22やヘッドカバー54の製造が容易になる。即ち金属の引き抜き等でこ れらのものを製造することができる。またサイドプレート56は例えば金属ヘッ ドベース22に固定し、ヘッドベース22を介してアースする。[Example 1] FIG. 1 shows an exposure device 50 according to an embodiment. In the figure, 22 is the head base. 54 is a head cover made of metal such as aluminum. It shall be made of metal. The head base 22 and head cover 54 are used as electrostatic shields. , ground. 26 is a lens array, 28 is a circuit board that is a light emitting diode array 3 0 and part of the control IC. 32 is an external board, which is not mounted on the board 28. Equipped with external control IC34. 36 is a flexible cable that connects the boards 28 and 32. It is a printed circuit board. The substrates 28 and 32 are tightly fixed to the metal head base 22. Then, fix the potential on the backside of the board to ground to minimize the effects of electrostatic induction. Ru. In order to prevent discharge from the openings at both ends of the exposure device 50, it is preferable to use the method shown in FIG. Conductive side plates 56 are provided and attached to both ends of the exposure device 50. sa The ID plate 56 is made of conductive synthetic resin, for example, and seals both ends of the exposure device 50. It is used to prevent discharge and also to prevent the intrusion of dust, etc. More side play If the lens array 26 is fixed with the bracket 56, the head base 22 and the head The cover 54 may have a simple elongated shape. For this head The base 22 and head cover 54 can be manufactured easily. In other words, when metal is pulled out, etc. These can be manufactured. Further, the side plate 56 may be a metal head, for example. It is fixed to the head base 22 and grounded via the head base 22.

【0012】 なおヘッドベース22やヘッドカバー54の材質には、金属の他に導電性合成 樹脂等も用いることができ、静電シールドの材質は導電性の物で有れば良い。ま た実施例ではヘッドカバー54を変形して外部基板32をシールドしたが、外部 基板32のシールドには、ヘッドカバー54とは別体の金属カバーや金属金網、 あるいは導電性炭素繊維の網、導電性合成樹脂のカバー等を用いても良い。更に 露光器50の両端のシールドには、サイドプレート56を用いず、ヘッドベース 22やヘッドカバー54を両端を覆うように変形して用いても良い。0012 In addition to metal, the head base 22 and head cover 54 may be made of conductive synthetic material. Resin or the like can also be used, and the material of the electrostatic shield only needs to be conductive. Ma In the embodiment described above, the head cover 54 was modified to shield the external board 32; The shield of the board 32 includes a metal cover separate from the head cover 54, a metal wire mesh, Alternatively, a conductive carbon fiber net, a conductive synthetic resin cover, etc. may be used. Furthermore The shields at both ends of the exposure device 50 do not use the side plates 56, but instead use the head base. 22 and the head cover 54 may be modified to cover both ends.

【0013】 図3に、露光器50の取り付け状態を示す。放電による破壊は、帯電器4から の放電によるものが主である。しかし基板28,32はヘッドベース22とヘッ ドカバー54でシールドし、露光器50の両端には導電性のサイドプレート56 を配置したので、放電電流はシールドへ流れ、発光ダイオードアレイ30や制御 IC34には流れない。露光器50では基板28,32をシールドで密封したの で、隙間を介しての放電もない。帯電器4や現像器8は高電圧放電で発光ダイオ ードアレイ30や制御IC34を破壊するだけでなく、静電誘導でこれらのもの を誤動作させる。しかし基板28,32を密封するようにシールドしたことと、 基板28,32をシールドとしてのヘッドベース22に密着させたことで、静電 誘導による誤動作も発生しない。また実施例では元々存在するヘッドベース22 やヘッドカバー54を変形してシールドとしたので、シールドは大型化せず、金 属製のため丈夫である。[0013] FIG. 3 shows how the exposure device 50 is attached. Destruction due to discharge occurs from charger 4. This is mainly due to discharge. However, the boards 28 and 32 are connected to the head base 22. The exposure device 50 is shielded with a cover 54, and conductive side plates 56 are provided at both ends of the exposure device 50. Since the discharge current flows to the shield, the light emitting diode array 30 and the control It does not flow to IC34. In the exposure device 50, the substrates 28 and 32 are sealed with a shield. And there is no discharge through the gap. The charger 4 and developer 8 generate light emitting diodes using high voltage discharge. Not only will it destroy the card array 30 and control IC 34, but it will also destroy these items due to electrostatic induction. malfunction. However, the substrates 28 and 32 were hermetically shielded, By bringing the substrates 28 and 32 into close contact with the head base 22 as a shield, static electricity is reduced. No malfunctions occur due to induction. In addition, in the embodiment, the originally existing head base 22 Since the head cover 54 is transformed into a shield, the shield does not become large and is made of gold. It is durable because it is made of metal.

【0014】 図3の条件での、発光ダイオードアレイ30や制御IC34の破壊状況の結果 を表1に示す。この実験は、露光器と帯電器4との最小間隔を1mmとし、シー ルドの有無でICの破壊状況がどのように変化するかを調べたものである。[0014] Results of destruction of the light emitting diode array 30 and control IC 34 under the conditions shown in Figure 3 are shown in Table 1. In this experiment, the minimum distance between the exposure device and the charger 4 was 1 mm, and the sheet This study investigated how the destruction status of an IC changes depending on the presence or absence of a lead.

【0015】[0015]

【表1】 シールド条件によるIC破壊電圧の変化 シールド条件 IC破壊電圧 図4の配置で遮蔽なし、へッドベース 帯電器4の電位が1〜2KV22とヘッドカバー24をアースせず から、制御IC34が破壊 図5の露光器を使用し、ヘッドベース 3〜4KVから基板28での 22とヘッドカバー38をアース、開口 IC破壊が発生 40の残る不完全なシールドでの基板28での制御ICの破壊電圧を測定 図3の状態で破壊開始電圧を測定 15KVまでIC破壊発生せず[Table 1] Changes in IC breakdown voltage depending on shielding conditions Shielding conditions IC breakdown voltage Without shielding with the arrangement shown in Figure 4, the potential of head base charger 4 is 1 to 2 KV 22 and head cover 24 are not grounded , and control IC 34 is destroyed. Using the exposure device shown in Figure 5, ground 22 on the board 28 and the head cover 38 from the head base 3 to 4 KV, and reduce the breakdown voltage of the control IC on the board 28 with the incomplete shield 40 remaining, causing the opening IC to break. Measurement Under the conditions shown in Figure 3, the breakdown starting voltage was measured. IC breakdown did not occur up to 15KV.

【0016】[0016]

【実施例2】 実施例1では金属のヘッドベース22を用いた。しかし長尺状のヘッドベース 22は加工が難しく、金属では極めて高価である。そこでヘッドベースを安価な プラスチックとした実施例を以下に示す。図6において、62はプラスチックヘ ッドベースで、材質にはポリフェニレンサルファイド(PPS),ポリカーボネ ート(PC)等のエンジニアリングプラスチックを用いる。これらのプラスチッ クは常用使用温度が100℃以上で、画像形成装置内部の数十度程度の温度では 変形しない。もちろんこれ以外に安価なABS等も用い得る。これらの内で最も 好ましいものは、レンズアレイ26の清掃に用いるアルコール類への耐久性の高 い、ポリフェニレンサルファイドである。ヘッドベース62には、金属やグラフ ァイト、炭素繊維等の導電性微粒子や導電性繊維を混入して導電化しても良いが 、導電化プラスチックは高価であり、かつ導電性微粒子や導電性繊維のため表面 平滑度が低下する。更にこれらのものを加えると、射出成型等が困難になり、成 形性が低下する。そこでヘッドベース62には、例えば絶縁性のプラスチックを 用いる。[Example 2] In Example 1, a metal head base 22 was used. However, the long head base No. 22 is difficult to process and is extremely expensive in metal. Therefore, I decided to use a cheap head base. An example using plastic is shown below. In Figure 6, 62 is a plastic The material is polyphenylene sulfide (PPS) and polycarbonate. Use engineering plastics such as PC. These plastic The normal operating temperature is 100 degrees Celsius or higher, and the temperature inside the image forming device is around several tens of degrees. Not deformed. Of course, other materials such as inexpensive ABS may also be used. most of these Preferably, the material has high resistance to alcohol used for cleaning the lens array 26. It is polyphenylene sulfide. The head base 62 is made of metal or graphite. It may be made conductive by mixing conductive fine particles or conductive fibers such as pyrite or carbon fiber. , conductive plastics are expensive, and because of conductive fine particles and conductive fibers, the surface Smoothness decreases. Furthermore, adding these substances will make injection molding difficult and result in Shape deteriorates. Therefore, the head base 62 is made of, for example, insulating plastic. use

【0017】 露光器51の配置は、図7に示すように金属のヘッドカバー54を帯電器4側 に、プラスチックのヘッドベース62を現像器8側に配置し、高圧の帯電器4に よる破壊や誤動作を優先的に防止する。例えば帯電器4に用いる電圧は通常1〜 2KV程度、最大5〜10KV程度で、現像器8に加える現像電圧は通常は20 0〜300V程度である。考案者は現像器8に対しては、露光器51が接触しな ければ、絶縁性プラスチックのヘッドベース62でも、発光ダイオードアレイ3 0や制御IC34の破壊や誤動作は生じないことを確認した。[0017] The exposure device 51 is placed with the metal head cover 54 on the side of the charger 4 as shown in FIG. Then, a plastic head base 62 is placed on the side of the developing device 8 and connected to the high voltage charger 4. Prioritize prevention of damage and malfunction caused by For example, the voltage used for the charger 4 is usually 1~ The developing voltage applied to the developing device 8 is usually about 20 KV, and the maximum is about 5 to 10 KV. It is about 0 to 300V. The inventor made it clear that the exposure device 51 should not come into contact with the developing device 8. If the head base 62 is made of insulating plastic, the light emitting diode array 3 It was confirmed that there would be no damage or malfunction of the 0 or control IC 34.

【0018】 以上の説明では、露光記50,51や帯電器4,現像器8の取付位置が正しく 、これらのものが接触することはないものとした。しかし露光器50,51が帯 電器4や現像器8に接触すると、発光ダイオードアレイ30や制御IC34が瞬 時に破壊される。このような接触は、例えば露光記50,51や帯電器4,現像 器8の組み付け時や調整時に生じ易い。そこで画像形成装置を小型化し、露光器 50,51と帯電器4,現像器8の間隔を例えば1mm以下にするためには、接 触による破壊や誤動作への対策が必要となる。このためには、図8に示すように 、金属のヘッドカバー54の表面に絶縁被覆64を施す。絶縁被覆64は例えば 、絶縁テープを貼り付ける、表面に絶縁塗料を電着等で塗布する、あるいはヘッ ドカバー54をAlとする場合、Al表面の陽極酸化でアルマイト層を形成する ことで構成すれば良い。[0018] In the above explanation, the mounting positions of the exposure registers 50 and 51, charger 4, and developer 8 are correct. It was assumed that these objects would not come into contact with each other. However, the exposure devices 50 and 51 When it comes into contact with the electric appliance 4 or the developing device 8, the light emitting diode array 30 and the control IC 34 are turned off instantly. sometimes destroyed. Such contact may occur, for example, with the exposure registers 50, 51, the charger 4, and the developer. This tends to occur when assembling or adjusting the device 8. Therefore, we downsized the image forming device and installed an exposure device. In order to make the distance between 50, 51 and the charger 4 and developer 8 1 mm or less, Measures must be taken to prevent damage and malfunction caused by contact. For this purpose, as shown in Figure 8, , an insulating coating 64 is applied to the surface of the metal head cover 54. For example, the insulation coating 64 is , pasting insulating tape, applying insulating paint to the surface by electrodeposition, or When the cover 54 is made of Al, an alumite layer is formed by anodizing the Al surface. It should be composed of this.

【0019】 プラスチックヘッドベース62に対しては、図9に示すように、絶縁性のプラ スチックを用い、表面に導電性被覆66を設けて静電シールドとし、更にその表 面を絶縁性被覆68で被覆して現像器8との接触から保護すれば良い。絶縁性被 覆68の形成方法は前記のものと同様であり、導電性被覆66をヘッドベース6 2の内側(基板28側)に設ける場合、ヘッドベース62自体が絶縁性であれば 絶縁性被覆68は不要である。また図1の金属ヘッドベース22に対しても、表 面に絶縁性被覆68を設けることが好ましい。[0019] For the plastic head base 62, as shown in FIG. A conductive coating 66 is provided on the surface of the stick to serve as an electrostatic shield, and the surface is further coated with a conductive coating 66. The surface may be covered with an insulating coating 68 to protect it from contact with the developing device 8. Insulating coating The method of forming the covering 68 is the same as that described above, and the conductive covering 66 is attached to the head base 6. 2 (on the board 28 side), if the head base 62 itself is insulating. Insulating coating 68 is not required. Also, for the metal head base 22 in FIG. Preferably, the surface is provided with an insulating coating 68.

【0020】 導電性被覆66は例えば、Al箔等の導電性テープを貼り付ける、無電界メッ キやスパッタリング、蒸着等でAlやNi,Cu等の導電性被覆を形成する、金 属粉を多量に含む導電性塗料を塗布する等で、構成すれば良い。絶縁性被覆64 ,68は好ましくはヘッドカバー54やヘッドベース22,62の外表面に設け るが、内側の表面に設けても良い。導電性被覆66はアースに接続し、外部から の電界をアースに流して捨てることが好ましい。[0020] The conductive coating 66 may be made of, for example, a non-electroplated film on which a conductive tape such as Al foil is pasted. Gold that forms a conductive coating of Al, Ni, Cu, etc. by It may be constructed by applying a conductive paint containing a large amount of metallic powder. Insulating coating 64 , 68 are preferably provided on the outer surface of the head cover 54 or the head bases 22, 62. However, it may also be provided on the inner surface. The conductive coating 66 is connected to ground and It is preferable to discard the electric field by flowing it to ground.

【0021】 このようにすれば、帯電器4や現像器8との接触による、発光ダイオードアレ イ30や制御IC34の破壊や誤動作を防止し、露光器50,51等の取り付け 精度が狂った場合や、調整時の不注意に対して、発光ダイオードアレイ30や制 御IC34への影響を防止できる。また導電性被覆66で安価な絶縁性プラスチ ックヘッドベース62の表面を導電化し、現像器8に対する静電シールドとする ことができる。[0021] In this way, light emitting diode damage caused by contact with the charger 4 or the developer 8 can be prevented. 30 and control IC 34 and prevent malfunction, and attach the exposure devices 50, 51, etc. The light emitting diode array 30 and control The influence on the control IC 34 can be prevented. In addition, conductive coating 66 is made of inexpensive insulating plastic. The surface of the head base 62 is made conductive to serve as an electrostatic shield for the developing device 8. be able to.

【0022】 表2に、プラスチックヘッドベース62の性能諸元を示す。用いたヘッドベー ス62は、エンジニアリングプラスチックとしてポリフェニレンサルファイドを 用いた絶縁性ヘッドベースで、図9のように表面に導電性被覆66と絶縁性被覆 68を積層した。また比較例のヘッドベースは、材料に単味のポリフェニレンサ ルファイドプラスチックを用いた、実公平3−4528号に記載の公知形状のも のである。[0022] Table 2 shows the performance specifications of the plastic head base 62. The head base used S62 uses polyphenylene sulfide as an engineering plastic. The insulating head base used has a conductive coating 66 and an insulating coating on the surface as shown in Figure 9. 68 were laminated. In addition, the head base of the comparative example is made of simple polyphenylene as a material. The known shape described in Utility Model Publication No. 3-4528 using ruphide plastic It is.

【0023】[0023]

【表2】 項 目 実施例 比較例 平坦度(μm) 50 100〜200 直角度(μm) 100 200 基板28からレンズアレイ26 ±20 ±200〜250 までの距離の精度(μm) 耐電圧(KV) 16〜20 1〜2 画像形成装置幅(mm) 14 20 * 平坦度は表面粗さ計で測定し、ヘッドベース62の基板28との当接面の平 坦度を表す。 * 直角度は、レンズアレイ26の高さ中心での、発光ダイオードアレイ30の 発光面からの左右へのずれを表す、 * 耐電圧は、発光ダイオードアレイ30に放電破壊が生じるときの、帯電器4 の電圧を表し、露光器51と帯電器4の間隔を1mm程度とした際の値である。[Table 2] Item Example Comparative example Flatness (μm) 50 100~200 Squareness (μm) 100 200 Accuracy of distance from substrate 28 to lens array 26 ±20 ±200~250 Dielectric strength (KV ) 16-20 1-2 Image forming apparatus width (mm) 14 20 *Flatness is measured with a surface roughness meter and represents the flatness of the contact surface of the head base 62 with the substrate 28. * Perpendicularity represents the deviation from the light emitting surface of the light emitting diode array 30 to the left and right at the center of the height of the lens array 26. * Withstand voltage represents the amount of power applied to the charger when the light emitting diode array 30 is damaged by discharge. 4, and is a value when the distance between the exposure device 51 and the charger 4 is about 1 mm.

【0024】 表2から明らかなように、実施例では平坦度や直角度を比較例の1/2〜1/ 4に向上させ、かつ発光ダイオードアレイ30とレンズアレイ26の間隔誤差を 従来例の1/10程度に減少させることに成功した。これは基板28の搭載面と レンズアレイ26の搭載面を直角に配置して、ハウジング62の剛性を高め、反 りを防止したからである。またここでは比較例にもポリフェニレンサルファイド を用いたが、より剛性の低い樹脂を用いれば比較例での形状精度は更に低下する 。実施例では、ヘッドベース62をプラスチック化しても、画像形成装置として 充分な形状精度を得ることができた。例えば発光ダイオードアレイ30とレンズ アレイ26との間隔の精度は±50μm以下が要求性能であり、実施例での±2 0μmは充分にこの条件を満たしている。これに対して比較例の±200μm以 上は、全くこの条件を満たしていない。また耐電圧を比較例の10倍程度に増加 させ、帯電器4からのコロナ放電による誤動作や放電破壊を防止することに成功 した。帯電器4でのコロナ放電に用いられる電圧は通常は10KV以下であり、 実施例の16〜20KVでは充分に放電破壊を防止することができる。これに対 して比較例の1〜2KVでは、コロナ放電による発光ダイオードアレイ30の破 壊が頻発する。[0024] As is clear from Table 2, in the Examples, the flatness and perpendicularity were 1/2 to 1/2 that of the Comparative Examples. 4, and also reduce the spacing error between the light emitting diode array 30 and the lens array 26. We succeeded in reducing the amount to about 1/10 of the conventional example. This is the mounting surface of the board 28 By arranging the mounting surface of the lens array 26 at a right angle, the rigidity of the housing 62 is increased and the This is because it prevents damage. Here, polyphenylene sulfide is also used as a comparative example. However, if a resin with lower rigidity is used, the shape accuracy in the comparative example will further decrease. . In the embodiment, even if the head base 62 is made of plastic, it will not work as an image forming apparatus. We were able to obtain sufficient shape accuracy. For example, a light emitting diode array 30 and a lens The required performance is ±50 μm or less for the accuracy of the spacing with the array 26, and ±2 in the example. 0 μm fully satisfies this condition. In contrast, ±200 μm or more in the comparative example. The above does not meet this condition at all. Also, the withstand voltage has been increased to about 10 times that of the comparative example. successfully prevented malfunctions and discharge damage caused by corona discharge from charger 4. did. The voltage used for corona discharge in the charger 4 is usually 10 KV or less, At 16 to 20 KV in the example, discharge damage can be sufficiently prevented. Against this At 1 to 2 KV in the comparative example, the light emitting diode array 30 was damaged due to corona discharge. Breakage occurs frequently.

【0025】[0025]

【考案の効果】[Effect of the idea]

この考案では、帯電器や現像器等の高圧部材を近接して配置しても、露光器の 発光ダイオードアレイや制御IC等の破壊や誤動作を防止することができる。ま た静電シールド部材に金属を用いれば、強固で小型のシールドができる。更に、 露光器の開口部をシールドで密封すれば、完全な静電遮閉ができ、発光ダイオー ドアレイや制御ICの破壊や誤動作を完全に防止できる。 この考案ではまた、金属製のヘッドカバーを高電圧の帯電器側に、プラスチッ クのヘッドベースを低電圧の現像器側に配置し、安価なプラスチックヘッドベー スを用いながら、発光ダイオードアレイや制御ICの破壊や誤動作を防止する。 With this idea, even if high-voltage components such as chargers and developers are placed close together, the exposure device Destruction or malfunction of the light emitting diode array, control IC, etc. can be prevented. Ma If metal is used for the electrostatic shielding member, a strong and compact shield can be created. Furthermore, By sealing the opening of the exposure unit with a shield, you can completely shield static electricity and prevent light emitting diodes from entering. Destruction and malfunction of the door array and control IC can be completely prevented. This idea also includes placing a metal head cover on the high-voltage charger side and a plastic head cover on the side of the high-voltage charger. A low-voltage developer head base is placed on the side of the low-voltage developer, and an inexpensive plastic head base is used. This prevents damage and malfunction of the light emitting diode array and control IC while using the

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】実施例の画像形成装置での、露光器の断面図[Fig. 1] A cross-sectional view of an exposure device in an image forming apparatus according to an embodiment.

【図2】実施例の画像形成装置での、サイドプレートの
正面図
[Fig. 2] Front view of the side plate in the image forming apparatus of the embodiment.

【図3】実施例の画像形成装置の要部断面図[Fig. 3] Cross-sectional view of main parts of the image forming apparatus of the embodiment

【図4】従来例の画像形成装置の要部断面図[Fig. 4] Cross-sectional view of main parts of a conventional image forming apparatus

【図5】従来例の画像形成装置の露光器の断面図[Fig. 5] A cross-sectional view of an exposure device of a conventional image forming apparatus.

【図6】ヘッドベースをプラスチック製とした実施例で
の、露光器の断面図
[Figure 6] A cross-sectional view of the exposure device in an example in which the head base is made of plastic.

【図7】ヘッドベースをプラスチック製とした実施例で
の、画像形成装置の要部断面図
[Fig. 7] A sectional view of the main parts of the image forming apparatus in an embodiment in which the head base is made of plastic.

【図8】図6の実施例でのヘッドカバーの要部断面図[Fig. 8] A sectional view of the main parts of the head cover in the embodiment shown in Fig. 6.

【図9】図6の実施例でのヘッドベースの要部断面図[Fig. 9] A cross-sectional view of the main parts of the head base in the embodiment shown in Fig. 6.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 感光ドラム 4 帯電器 8 現像器 22 ヘッドベース 26 レンズアレイ 28 回路基板 30 発光ダイオードアレイ 32 外部基板 34 制御IC 50,51 露光器 54 ヘッドカバー 56 サイドプレート 62 プラスチックヘッドベース 64 絶縁被覆 66 導電性被覆 68 絶縁被覆 2 Photosensitive drum 4 Charger 8 Developing device 22 Head base 26 Lens array 28 Circuit board 30 Light emitting diode array 32 External board 34 Control IC 50,51 Exposure device 54 Head cover 56 Side plate 62 Plastic head base 64 Insulating coating 66 Conductive coating 68 Insulating coating

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03G 15/00 103 8004−2H 15/04 120 9122−2H H05K 9/00 A 7128−4E ──────────────────────────────────────────────── ─── Continued from the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical display location G03G 15/00 103 8004-2H 15/04 120 9122-2H H05K 9/00 A 7128-4E

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 露光器に隣接して高電圧部材を配置し
た、電子写真方式の画像形成装置において、露光器の回
路基板の周囲に静電シールドを施すとともに、この静電
シールドをアースしたことを特徴とする、画像形成装
置。
Claim 1: In an electrophotographic image forming apparatus in which a high voltage member is arranged adjacent to an exposure device, an electrostatic shield is provided around a circuit board of the exposure device, and the electrostatic shield is grounded. An image forming apparatus characterized by:
【請求項2】 露光器に隣接して帯電器並びに現像器
を配置した、電子写真方式の画像形成装置において、露
光器の回路基板をアースされた金属製ヘッドカバーと、
プラスチックヘッドベースとで覆い、金属製ヘッドカバ
ーが帯電器側に、前記プラスチックヘッドベースが現像
器側に現れるようにして、前記露光器を帯電器と現像器
の間に配設したことを特徴とする、画像形成装置。
2. An electrophotographic image forming apparatus in which a charging device and a developing device are arranged adjacent to an exposure device, comprising: a metal head cover having a circuit board of the exposure device grounded;
The exposure device is disposed between the charging device and the developing device so that the metal head cover appears on the charging device side and the plastic head base appears on the developing device side. , image forming device.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010197758A (en) * 2009-02-25 2010-09-09 Seiko Epson Corp Image forming apparatus and latent image carrier unit
JP2011203677A (en) * 2010-03-26 2011-10-13 Fuji Xerox Co Ltd Image forming apparatus

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