JPH04122835A - 分光方法 - Google Patents
分光方法Info
- Publication number
- JPH04122835A JPH04122835A JP24277290A JP24277290A JPH04122835A JP H04122835 A JPH04122835 A JP H04122835A JP 24277290 A JP24277290 A JP 24277290A JP 24277290 A JP24277290 A JP 24277290A JP H04122835 A JPH04122835 A JP H04122835A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- wavelength
- sample
- signal light
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 11
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 23
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 230000005535 acoustic phonon Effects 0.000 description 10
- 238000011161 development Methods 0.000 description 9
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 4
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 4
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 1
- 241001648319 Toronia toru Species 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 210000000554 iris Anatomy 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000010206 sensitivity analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 230000005428 wave function Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
本発明は、試料として各種材料に光を照射し、各種材料
からの光を分光分析のための分光方法に関する。
からの光を分光分析のための分光方法に関する。
(従来の技術)
近年、コンピュータの発達に伴い高度情報化社会への進
展が目覚ましい勢いで進んでいる。大容量の情報を記憶
・処理するコンピュータは各種の部品で構成されるが、
取り分けLSI(高集積回路)を初めとする半導体はそ
の中心をなすもので、具体的には例えばこれを用いたD
RAM(Dynamie Randam Access
Memory)など基本構成素子の開発が、各国で精
力的に行われている。
展が目覚ましい勢いで進んでいる。大容量の情報を記憶
・処理するコンピュータは各種の部品で構成されるが、
取り分けLSI(高集積回路)を初めとする半導体はそ
の中心をなすもので、具体的には例えばこれを用いたD
RAM(Dynamie Randam Access
Memory)など基本構成素子の開発が、各国で精
力的に行われている。
更にまた高度情報化社会は、高速・高密度情報伝送技術
を前提として成り立つ社会であり、このための技術開発
もコンピュータと並行して進められており、情報の光通
信がその代表的なものである。ここでは情報は化合物半
導体からなるレーザ光に情報を乗せ、光学ファイバを伝
送路として大量の情報を伝送する。この方式ではレーザ
光の波長が短くなるほど伝送情報容量が基本的に増加す
るため、短波長半導体レーザの開発がその技術開発の中
心となっている。
を前提として成り立つ社会であり、このための技術開発
もコンピュータと並行して進められており、情報の光通
信がその代表的なものである。ここでは情報は化合物半
導体からなるレーザ光に情報を乗せ、光学ファイバを伝
送路として大量の情報を伝送する。この方式ではレーザ
光の波長が短くなるほど伝送情報容量が基本的に増加す
るため、短波長半導体レーザの開発がその技術開発の中
心となっている。
高度情報化社会を材料の観点から見てみるとそれは機能
材料の社会であるといえる。上記半導体はもとより、高
密度記録用材料としての希土類元素−遷移元素の組み合
わせになる光磁気材料など、従来の鉄を中心とした構造
材料から機能材料へと研究移行が進んでいる。
材料の社会であるといえる。上記半導体はもとより、高
密度記録用材料としての希土類元素−遷移元素の組み合
わせになる光磁気材料など、従来の鉄を中心とした構造
材料から機能材料へと研究移行が進んでいる。
また、これら機能材料を用いた各種素子あるいは部品は
、高性能・信頼性・小型化が要求され、製造するプロセ
スも極めて精密な技術が要求されるようになり、実際D
RAM製造では1μmを切るパターンルールが実現され
、さらにサブミクロン以下へと技術開発が進んでいる。
、高性能・信頼性・小型化が要求され、製造するプロセ
スも極めて精密な技術が要求されるようになり、実際D
RAM製造では1μmを切るパターンルールが実現され
、さらにサブミクロン以下へと技術開発が進んでいる。
この様な高度情報化社会の進展に伴う材料およびプロセ
スの研究・開発の発展は、例えば半導体素子製造におけ
る極微量不純物の素子機能へ及ぼす影響をみれば明らか
なように、材料・プロセスの正確な把握のもとに進めら
れる要素が強くなっている。とくに機能材料でこの傾向
は強い。
スの研究・開発の発展は、例えば半導体素子製造におけ
る極微量不純物の素子機能へ及ぼす影響をみれば明らか
なように、材料・プロセスの正確な把握のもとに進めら
れる要素が強くなっている。とくに機能材料でこの傾向
は強い。
材料・プロセスの正確な把握の要請は、材料分析技術に
も従来とは違った技術の発展を求める。
も従来とは違った技術の発展を求める。
近年の表面分析技術・装置の進歩は、まさにこの代表的
な例といえる。一方ではまた、従来の分析技術のさらな
る高精度・高感度化への要求も強い。
な例といえる。一方ではまた、従来の分析技術のさらな
る高精度・高感度化への要求も強い。
高度情報化社会の発展につれ、材料分析技術は現在以上
にその重要性は増してきている。
にその重要性は増してきている。
材料分析技術の最近の技術動向を見てみると、いわゆる
湿式化学分析から機器分析・物理分析へシフトが進んで
いるのが大きな特徴である。素子などの小型化がそのひ
とつの要因であり、また分析試料を破壊せずに分析する
非破壊分析への要求が必然的にこの傾向を益々強くして
いる。極端にいえば、高度情報化社会における分析技術
の中心は機器・物理分析であるいっても過言ではない。
湿式化学分析から機器分析・物理分析へシフトが進んで
いるのが大きな特徴である。素子などの小型化がそのひ
とつの要因であり、また分析試料を破壊せずに分析する
非破壊分析への要求が必然的にこの傾向を益々強くして
いる。極端にいえば、高度情報化社会における分析技術
の中心は機器・物理分析であるいっても過言ではない。
ところで、高度情報化社会における分析技術の中心であ
る機器・物理分析も実は、高度情報化社会の源泉ともい
うべきコンビ二一夕の進歩の影響を大きく受ける。実際
コンピュータの高速化・大容量化が機器・物理分析測定
の自動化をもたらしている。微小領域の元素定性・定量
分析装置であるXMA (X線マイクロアナライザ)は
その代表的である。分析試料を測定試料室に導入すれば
、あとは自動的に存在する元素の定性・定量分析を行っ
てくれる。コンビ二一夕の影響は自動化ばかりではない
。FT−IR(フーリエ変換赤外分光分析)装置あるい
はFT−NMR(フーリエ変換核磁気共鳴分光分析)装
置に代表されるフーリエ変換を基本技術とする分光分析
装置のようにコンピュータが無くしては実際上有り得な
い分光分析装置・方法が今や機器・物理分析の中心をな
すようになってきている。
る機器・物理分析も実は、高度情報化社会の源泉ともい
うべきコンビ二一夕の進歩の影響を大きく受ける。実際
コンピュータの高速化・大容量化が機器・物理分析測定
の自動化をもたらしている。微小領域の元素定性・定量
分析装置であるXMA (X線マイクロアナライザ)は
その代表的である。分析試料を測定試料室に導入すれば
、あとは自動的に存在する元素の定性・定量分析を行っ
てくれる。コンビ二一夕の影響は自動化ばかりではない
。FT−IR(フーリエ変換赤外分光分析)装置あるい
はFT−NMR(フーリエ変換核磁気共鳴分光分析)装
置に代表されるフーリエ変換を基本技術とする分光分析
装置のようにコンピュータが無くしては実際上有り得な
い分光分析装置・方法が今や機器・物理分析の中心をな
すようになってきている。
さて、このような分光分析装置は、分析試料に摂動を加
える入射源(電磁波、電子線、イオン、X線、原子、分
子など)と、入射ビームと分析試料との相互作用の結果
試料から散乱される電磁波、電子線、イオン、X線、原
子、分子などのエネルギや強度を測定する分光器とその
出力を電気信号に変換する光電変換素子およびその信号
を処理あるいは分析装置を制御するためのコンピュータ
から構成されるのが一般的である。
える入射源(電磁波、電子線、イオン、X線、原子、分
子など)と、入射ビームと分析試料との相互作用の結果
試料から散乱される電磁波、電子線、イオン、X線、原
子、分子などのエネルギや強度を測定する分光器とその
出力を電気信号に変換する光電変換素子およびその信号
を処理あるいは分析装置を制御するためのコンピュータ
から構成されるのが一般的である。
従って、分光分析装置の進展は、これら入射源、分光器
、変換素子そしてコンビ二一夕の技術進歩により加速さ
れることになる。実際、上記のコンピュータはその一例
である。さらに、入射源について考えてみると、素粒子
実験において開発されたシンクロトロン加速器から発生
するいわゆるシンクロトロン放射光が、真空紫外からX
線の広いエネルギ領域の高強度線源として、蛍光X線分
析やX線解析あるいはまた光電子分光分析さらにX線吸
収微細構造解析などに使用されるようになってきたのも
、この良い例である。
、変換素子そしてコンビ二一夕の技術進歩により加速さ
れることになる。実際、上記のコンピュータはその一例
である。さらに、入射源について考えてみると、素粒子
実験において開発されたシンクロトロン加速器から発生
するいわゆるシンクロトロン放射光が、真空紫外からX
線の広いエネルギ領域の高強度線源として、蛍光X線分
析やX線解析あるいはまた光電子分光分析さらにX線吸
収微細構造解析などに使用されるようになってきたのも
、この良い例である。
勿論、高強度入射光としてのレーザはいうまでもない。
これによりラマン分光分析が汎用性の高い分析法となっ
た。このようにとくに入射源の技術進歩により、高度情
報化社会実現に向けてなされている先端技術開発から分
析分野に要求されている高感度分析法・装置は大きく進
展・進歩しつつある。
た。このようにとくに入射源の技術進歩により、高度情
報化社会実現に向けてなされている先端技術開発から分
析分野に要求されている高感度分析法・装置は大きく進
展・進歩しつつある。
しかしながら、分光分析法あるいは分光分析装置の心臓
部ともいうべき分光器の分野は、フエブリペロー干渉計
を用いたフーリエ分光器を別にすれば、これらに比較し
て進歩はそれほど見られていないのが現状である。現在
の分光器は、分光素子に回折格子やプリズムなどの光学
素子を用いているが、これらの光学素子は、光の強度か
らみれば減衰素子すなわち分光により光強度が減少する
という本質的な性格があり、高感度分析を実現する上で
極めて重大な問題となっている。得られる光スペクトル
強度は、分光分析器の出力を光電子増倍管などの光電変
換素子で電気信号に変換し電気的に増幅すれば大きくな
るが、信号と雑音の強度比(S/N比)は改善されず、
高感度分析に対しては限界がある。
部ともいうべき分光器の分野は、フエブリペロー干渉計
を用いたフーリエ分光器を別にすれば、これらに比較し
て進歩はそれほど見られていないのが現状である。現在
の分光器は、分光素子に回折格子やプリズムなどの光学
素子を用いているが、これらの光学素子は、光の強度か
らみれば減衰素子すなわち分光により光強度が減少する
という本質的な性格があり、高感度分析を実現する上で
極めて重大な問題となっている。得られる光スペクトル
強度は、分光分析器の出力を光電子増倍管などの光電変
換素子で電気信号に変換し電気的に増幅すれば大きくな
るが、信号と雑音の強度比(S/N比)は改善されず、
高感度分析に対しては限界がある。
(発明が解決しようとする課題)
この様に、非破壊で分析できる分光方法及び分光分析方
法は、今後ますます分析分野で大きな比重を占めてゆく
と考えられる極めて有効な分析法であるが、さらに高感
度分析を実現するには現在の分光器が本質的に光強度の
減衰器となっているという問題を解決する必要がある。
法は、今後ますます分析分野で大きな比重を占めてゆく
と考えられる極めて有効な分析法であるが、さらに高感
度分析を実現するには現在の分光器が本質的に光強度の
減衰器となっているという問題を解決する必要がある。
本発明は、このような従来の欠点を解決し、分析試料か
らの散乱光、反射、透過あるいは回折した光を強度減衰
させることなく、分光し得る分光方法を提供することが
目的である。
らの散乱光、反射、透過あるいは回折した光を強度減衰
させることなく、分光し得る分光方法を提供することが
目的である。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するため請求項(1)記載の発明では、
信号光と波長可変レーザ光とを光学ファイバへ入射させ
て、この光学ファイバ内で誘導ブリリュアン散乱現象を
生じさせ、前記信号光の特定波長を増幅し、かつ前記レ
ーザ光の波長を変化させることを特徴としている。
信号光と波長可変レーザ光とを光学ファイバへ入射させ
て、この光学ファイバ内で誘導ブリリュアン散乱現象を
生じさせ、前記信号光の特定波長を増幅し、かつ前記レ
ーザ光の波長を変化させることを特徴としている。
請求項(2)の発明では、前記信号光が、測定試料に照
射した試料励起用レーザと試料の光子−電子相互作用に
よる試料からの散乱光であることを特徴としている。
射した試料励起用レーザと試料の光子−電子相互作用に
よる試料からの散乱光であることを特徴としている。
請求項(3)の発明では、光学ファイバの一端から信号
光を入射し、他端からレーザ光を入射することを特徴と
している。
光を入射し、他端からレーザ光を入射することを特徴と
している。
請求項(4)の発明では、前記光学ファイバの出力をフ
エブリペロー干渉計で分光し、レーリ線と誘導ラマン散
乱線を分離し、その誘導ラマン散乱強度の波長可変レー
ザ光波長依存側を測定することを特徴としている。
エブリペロー干渉計で分光し、レーリ線と誘導ラマン散
乱線を分離し、その誘導ラマン散乱強度の波長可変レー
ザ光波長依存側を測定することを特徴としている。
(作用)
請求項(1)の発明によれば、試料からの信号光と、波
長可変レーザとを光学ガラスファイバへ入射させる。こ
の光学ガラスファイバ内で、誘導ブリリュアン散乱が生
じさせ、信号光の特定の波長を増幅させると共にレーザ
光の波長を変化させる。
長可変レーザとを光学ガラスファイバへ入射させる。こ
の光学ガラスファイバ内で、誘導ブリリュアン散乱が生
じさせ、信号光の特定の波長を増幅させると共にレーザ
光の波長を変化させる。
特定の波長が増幅された信号光と波長が変化したレーザ
光は、電気信号に変換される。
光は、電気信号に変換される。
このように、本発明では、試料からの信号光を減衰させ
ることなく増幅するので、高感度の分光測定を行うこと
が出来、微量成分の分光分析が可能となる。
ることなく増幅するので、高感度の分光測定を行うこと
が出来、微量成分の分光分析が可能となる。
請求項(2)の発明によれば、試料励起用レーザを試料
に照射すると、この時の光子−電子相互作用によって散
乱光が出射する。この散乱光が信号光となる。
に照射すると、この時の光子−電子相互作用によって散
乱光が出射する。この散乱光が信号光となる。
請求項(3)の発明によれば、光学ガラスファイバの一
端から信号光を入射し、光学ガラスファイバの他端から
レーザ光を入射させる。これにより光学ガラスファイバ
からは、誘導ブリリュアン散乱光が出射する。
端から信号光を入射し、光学ガラスファイバの他端から
レーザ光を入射させる。これにより光学ガラスファイバ
からは、誘導ブリリュアン散乱光が出射する。
請求項(4)の発明によれば、光学ファイバから出射さ
れた誘導ブリリュアン散乱光をフエブリペロー干渉計に
入射する。フエブリペロー干渉計では、この散乱光を分
光し、レーリ線と誘導ラマン散乱線を分離する。誘導ラ
マン散乱線の強度の波長可変レーザ光波長依存性を測定
する。
れた誘導ブリリュアン散乱光をフエブリペロー干渉計に
入射する。フエブリペロー干渉計では、この散乱光を分
光し、レーリ線と誘導ラマン散乱線を分離する。誘導ラ
マン散乱線の強度の波長可変レーザ光波長依存性を測定
する。
(実施例)
以下図面を参照しながら本発明に係る分光方法の実施例
について説明する。
について説明する。
第1図には分光方法を行うための分光分析装置1が示さ
れている。この分光分析装置1には、レーザ光3を発射
するレーザ5と、レーザ光3が入射される半透明鏡7と
、この半透明鏡7に反射したレーザ光3が入射される光
学ガラスファイバ9と、この光学ガラスファイバ9から
出射されたレーザ光が入射される半透明鏡11と、が設
けられている。
れている。この分光分析装置1には、レーザ光3を発射
するレーザ5と、レーザ光3が入射される半透明鏡7と
、この半透明鏡7に反射したレーザ光3が入射される光
学ガラスファイバ9と、この光学ガラスファイバ9から
出射されたレーザ光が入射される半透明鏡11と、が設
けられている。
また、分析しようとする分析試料13へ、レーザ光15
を照射する試料励起用レーザ17と、半透明鏡11を通
過した試料13からの散乱光19と誘導ブリリニアン散
乱光21が入射されるフェブリペロー干渉計23と、こ
のフェブリペロー干渉計23から光の強度信号が入力さ
れるコンピュータ25と、このコンピュータ25ヘレー
ザ光3の強度信号を出力する光電変換素子27とが設け
られている。
を照射する試料励起用レーザ17と、半透明鏡11を通
過した試料13からの散乱光19と誘導ブリリニアン散
乱光21が入射されるフェブリペロー干渉計23と、こ
のフェブリペロー干渉計23から光の強度信号が入力さ
れるコンピュータ25と、このコンピュータ25ヘレー
ザ光3の強度信号を出力する光電変換素子27とが設け
られている。
試料励起用レーザ17からレーザ光(励起光;エネルギ
はWl)を発生させ分析試料13に照射する。分析試料
13から散乱された散乱光19を半透明鏡11を通過さ
せた後に光学ガラスファイバ9へ入射させる。
はWl)を発生させ分析試料13に照射する。分析試料
13から散乱された散乱光19を半透明鏡11を通過さ
せた後に光学ガラスファイバ9へ入射させる。
一方、レーザ(波長可変レーザ)5からのレーザ光3(
エネルギはW2)も同時に半透明鏡7を通過した後に光
学ガラスファイバ9に入射させる。
エネルギはW2)も同時に半透明鏡7を通過した後に光
学ガラスファイバ9に入射させる。
なお、レーザ光3は、散乱光19の光学ガラスファイバ
の入力端とは逆の出力端から入力することが望ましい。
の入力端とは逆の出力端から入力することが望ましい。
レーザ光3の一部は半透明鏡7を通過して光電変換素子
27へ入射される。この光電変換素子27では、入射さ
れたレーザ光3の一部を電気信号に変化して、コンピュ
ータ25ヘレーザの光強度として出力する。
27へ入射される。この光電変換素子27では、入射さ
れたレーザ光3の一部を電気信号に変化して、コンピュ
ータ25ヘレーザの光強度として出力する。
この時、光学ガラスファイバ9の音響フォノンの波数ベ
クトルをQlその絶対値をqとすれば、誘導ブリリニア
ン散乱の条件下では Wl−W2+WP Kl−に2+Q を満たす。ここでWPは上記音響フォノンのエネルギ、
またに1、K2はそれぞれ散乱光19と誘導放出光21
の波数ベクトル(絶対値に1、k2)である。
クトルをQlその絶対値をqとすれば、誘導ブリリニア
ン散乱の条件下では Wl−W2+WP Kl−に2+Q を満たす。ここでWPは上記音響フォノンのエネルギ、
またに1、K2はそれぞれ散乱光19と誘導放出光21
の波数ベクトル(絶対値に1、k2)である。
従って、第4図に示すθを散乱角とし、そして光学ガラ
スファイバ9の屈折率が散乱光19とレーザ光3の波長
依存性が小さくnとすればC2Q’ ”c’ [WP’
+4W1 (Wl −WP) Xs in’ (θ/
2)]となる。ここでCは光速度である。ブリリュアン
散乱では、音響フォノン波数は q=WP/v ここで、■は音速で、また音響フォノンエネルギWPが
Wlに比して極めて小さいことから、WP−””” x
iin (#/2) の関係が得られることになるから、音響フォノンエネル
ギWpは、散乱角度θに依存して変化する。
スファイバ9の屈折率が散乱光19とレーザ光3の波長
依存性が小さくnとすればC2Q’ ”c’ [WP’
+4W1 (Wl −WP) Xs in’ (θ/
2)]となる。ここでCは光速度である。ブリリュアン
散乱では、音響フォノン波数は q=WP/v ここで、■は音速で、また音響フォノンエネルギWPが
Wlに比して極めて小さいことから、WP−””” x
iin (#/2) の関係が得られることになるから、音響フォノンエネル
ギWpは、散乱角度θに依存して変化する。
分光することから見れば、音響フォノンのエネルギは大
きい方が望ましい。したがって、音響フォノンエネルギ
Wpが最大になる条件、すなわち散乱角θがπである装
置構成が必要である。
きい方が望ましい。したがって、音響フォノンエネルギ
Wpが最大になる条件、すなわち散乱角θがπである装
置構成が必要である。
このことから、光学ガラスファイバ9からの誘導ブエリ
リュアン散乱光21は散乱光19の光学グラスファイバ
9入射側から取り出され、フェブリペロー干渉計23を
通して、コンピュータ25へ入力される。第5図に示さ
れるようにフェブリペロー干渉計23の出力の一例が示
されている。
リュアン散乱光21は散乱光19の光学グラスファイバ
9入射側から取り出され、フェブリペロー干渉計23を
通して、コンピュータ25へ入力される。第5図に示さ
れるようにフェブリペロー干渉計23の出力の一例が示
されている。
コンピュータ25により、フェブリペロー干渉計23の
出力と電変換素子27の出力の比が計算され、第5図に
ストークス線相当のピーク強度の波長可変レーザ5の波
長依存性を求める。
出力と電変換素子27の出力の比が計算され、第5図に
ストークス線相当のピーク強度の波長可変レーザ5の波
長依存性を求める。
すなわち、散乱光19が第6図に示すスペクトル構造を
持つとすれば、W2−Δ1−WP(i−1,2、・・・
)を満たすとき、いわゆる誘導ブリリニアン散乱光が強
く励起されるから、上記光波長依存性は、第7図に示さ
れるようになる。
持つとすれば、W2−Δ1−WP(i−1,2、・・・
)を満たすとき、いわゆる誘導ブリリニアン散乱光が強
く励起されるから、上記光波長依存性は、第7図に示さ
れるようになる。
この時は、横軸がW2であるので、圧倒的に強いピーク
強度を示す散乱光19の中のレーリ散乱光に基づくピー
ク(第7図中の(a))をエネルギ原点にし、そこから
のピークエネルギのシフト量で横軸を与える処理をコン
ピュータ25で行うことにより、通常のラマンスペクト
ル表示(第8図)が得られる。
強度を示す散乱光19の中のレーリ散乱光に基づくピー
ク(第7図中の(a))をエネルギ原点にし、そこから
のピークエネルギのシフト量で横軸を与える処理をコン
ピュータ25で行うことにより、通常のラマンスペクト
ル表示(第8図)が得られる。
なお、本実施例はラマン分光について示したが、本発明
が他の各種の分光分析の分光法・装置として活用できる
のは、いうまでもない。
が他の各種の分光分析の分光法・装置として活用できる
のは、いうまでもない。
次に分光方法について説明する。
第2図は誘導ブリリュアン散乱現象を示すFeyn−a
nn図である。本図において、k、1、mは光学ガラス
ファイバの電子状態を、またω1は信号光を示し、ω2
は波長可変レーザ光を表す。信号光ω1、波長可変レー
ザω2は光学グラスファイバ9と電子−光相互作用し、
特に、波長可変レーザω2との相互作用では光の誘導放
出を伴うものとする。この時、真空をΦ。、電子状態k
をの生成・消滅演算子をa、 ak、また信号光の
生成・消滅演算子をす、 b、、さらに波長可変レ
ーザ光の生成・消滅演算子を1.、 1,2と表せば
、相互作用前の初期状態関数Φ(0)は下式となる。
nn図である。本図において、k、1、mは光学ガラス
ファイバの電子状態を、またω1は信号光を示し、ω2
は波長可変レーザ光を表す。信号光ω1、波長可変レー
ザω2は光学グラスファイバ9と電子−光相互作用し、
特に、波長可変レーザω2との相互作用では光の誘導放
出を伴うものとする。この時、真空をΦ。、電子状態k
をの生成・消滅演算子をa、 ak、また信号光の
生成・消滅演算子をす、 b、、さらに波長可変レ
ーザ光の生成・消滅演算子を1.、 1,2と表せば
、相互作用前の初期状態関数Φ(0)は下式となる。
Φ(0) +fi、” (ba++ ’ )・’ (b
a+2 ’ )・2Φ。 −(1)ここで、nl、n2
はω1、ω2の光子数Φ。
a+2 ’ )・2Φ。 −(1)ここで、nl、n2
はω1、ω2の光子数Φ。
は真空状態である。
一方、時間に依存する電子−光子相互作用ノ\ミルトニ
アンH′は(2)式で与えられる。
アンH′は(2)式で与えられる。
H’(t)−にΣla、 ’ (t) a、 (t)
bu (t) g、、t++a、 ’ (t) a、
(t) b、、’ (t) g、、ml+ ・・・(
2)この式(2)で、q#1.は相互作用定数を示し+
!、′″ (t)−a、 e a、 (t) −a、 ’ e−” ba+” (t) −bl” 61mklb0(t)
mbk、e−’″1′ である。εμ、εν、b□は対応する電子状態、光子の
エネルギに相当する。
bu (t) g、、t++a、 ’ (t) a、
(t) b、、’ (t) g、、ml+ ・・・(
2)この式(2)で、q#1.は相互作用定数を示し+
!、′″ (t)−a、 e a、 (t) −a、 ’ e−” ba+” (t) −bl” 61mklb0(t)
mbk、e−’″1′ である。εμ、εν、b□は対応する電子状態、光子の
エネルギに相当する。
以下に第1図に示す系の遷移確率を、系の時間発展を考
慮し導出する。式(1)の初期状態関数Φ(0)は、ま
ず信号光とω1とファイバ電子との相互作用 H′ (t)−に勧 ◆ (t) JI嘗 <t> bu1 (t) g kml ・・・(3) で時間τ後には状態関数1 (τ) (b−1” ) ”−’Φ(0) klWr li k
mlに変化する。
慮し導出する。式(1)の初期状態関数Φ(0)は、ま
ず信号光とω1とファイバ電子との相互作用 H′ (t)−に勧 ◆ (t) JI嘗 <t> bu1 (t) g kml ・・・(3) で時間τ後には状態関数1 (τ) (b−1” ) ”−’Φ(0) klWr li k
mlに変化する。
そして更に、
この状態は次の誘導数
出を伴う相互作用H
(τ)
H′
(t)−ha、’
(t) a
(t)b−i’
(t)g’ −−x
の結果、
初期状態から時間τ後に
X h ’ 石τr了X () 2
k
・・・(5)
で表される状態に遷移することになる。
ここで
X”tHs−1m −ωフ −ω1
・・・(6)
で式(5)の計算にはエネルギの保存を考慮した。
さて、遷移確率の計算には、更に第3図に示される散乱
過程も同時に加味しないといけないので、式(5)を求
めたのと同様な計算を行うと、この場合の時間tの状態
関数は次の式(7)で与えられる。
過程も同時に加味しないといけないので、式(5)を求
めたのと同様な計算を行うと、この場合の時間tの状態
関数は次の式(7)で与えられる。
ここで、
と置き、更にエネルギがω、とω2+dω2の間にあり
dΩω2方向に進む誘導放出光の量子状態の数が (ωt)dω2dΩ−2 である(ρ(ω2)は状態密度)とすれば、遷移確率は
下式となる ところで、 光kjの偏りベク トルe、lまた電子 の波動関数をφ μなどで表記すれば となる。
dΩω2方向に進む誘導放出光の量子状態の数が (ωt)dω2dΩ−2 である(ρ(ω2)は状態密度)とすれば、遷移確率は
下式となる ところで、 光kjの偏りベク トルe、lまた電子 の波動関数をφ μなどで表記すれば となる。
ここで、
pは電子の運動量ベク
トルであ
る。
長波長近似と双極子近似のもとでは式
したがって例えば
<rnlerl121i!><t’ Ierω+ lk
> (gs −1)(ε/−tk) ・・・(12) となり が得られる。これと式(9)から、単位時間あたりの遷
移確率Wとして下式(14)が求まる。
> (gs −1)(ε/−tk) ・・・(12) となり が得られる。これと式(9)から、単位時間あたりの遷
移確率Wとして下式(14)が求まる。
Wd Q、−−−m−513,m2 ” n 。
2tc” h
(n2+1)
XdQ、。
・・・(14)
ところで、
信号光強度■
(ω1
は
hω、1
夏8(ωI)■−n+dΩ。
at’ (3
・・・(15)
で与えられるから、単位時間あたりの単位面積を透過す
る光ω7、すなわち誘導放出光の強度Is(ω、) は、(14) 、(15)式をもとに ■(ω、)〜ω、4+菖。
る光ω7、すなわち誘導放出光の強度Is(ω、) は、(14) 、(15)式をもとに ■(ω、)〜ω、4+菖。
(ωl) x (n2 +1) XdCL2・・・(1
7) となる。式(17)で光の強度に関する部分を抜き出せ
ば 1 (ω2 ) −L (&)l ) X (ni +
1) −(la)であり、誘導放出の
強度は信号光強度の(n2+1)倍となる。n、は、誘
導放出を生じさせるためのポンピング光ω2の光子数で
あるから、ω2の光強度を増せば■(ω2)は更に大き
くなることになり、結果としてポンピング光の強度をモ
二りすればそれは増幅された信号光を観測していること
と等価なことになる。
7) となる。式(17)で光の強度に関する部分を抜き出せ
ば 1 (ω2 ) −L (&)l ) X (ni +
1) −(la)であり、誘導放出の
強度は信号光強度の(n2+1)倍となる。n、は、誘
導放出を生じさせるためのポンピング光ω2の光子数で
あるから、ω2の光強度を増せば■(ω2)は更に大き
くなることになり、結果としてポンピング光の強度をモ
二りすればそれは増幅された信号光を観測していること
と等価なことになる。
本発明にもとになる作用が、上記光増幅現象である。式
(17)は正確には電子−フォノン相互作用を陽に表現
すべきであるが、光増幅作用の説明には式(17)で充
分である。ただその時は、〈mはくkとなり、更に(g
−ε阪−ω、)などに光ファイバの音響フォノンのエネ
ルギが入ってくるのは言うまでもない。
(17)は正確には電子−フォノン相互作用を陽に表現
すべきであるが、光増幅作用の説明には式(17)で充
分である。ただその時は、〈mはくkとなり、更に(g
−ε阪−ω、)などに光ファイバの音響フォノンのエネ
ルギが入ってくるのは言うまでもない。
さて音響フォノンのエネルギをω9.とすれば、ω、−
ω、−ω−1・・・(I9) を満たすとき、音響フォノン励起に伴う強い散乱光(誘
導ブリリニアン散乱光)が放出される。−般的にはω、
は複数依存するから、ω2のエネルギを変えながらその
誘導ブリリュアン散乱光の強度をモニタしてやればいわ
ゆる分光スペクトルが得られる。
ω、−ω−1・・・(I9) を満たすとき、音響フォノン励起に伴う強い散乱光(誘
導ブリリニアン散乱光)が放出される。−般的にはω、
は複数依存するから、ω2のエネルギを変えながらその
誘導ブリリュアン散乱光の強度をモニタしてやればいわ
ゆる分光スペクトルが得られる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明に係る分光方法によれば、従
来の光の分散素子を用いること必要がなく、光の分光機
能はもちろん光直接増幅作用機能をも分光器が合わせ持
つので、高感度の分光測定を行うことが出来ると共に微
量成分の分光分析が可能となる。
来の光の分散素子を用いること必要がなく、光の分光機
能はもちろん光直接増幅作用機能をも分光器が合わせ持
つので、高感度の分光測定を行うことが出来ると共に微
量成分の分光分析が可能となる。
さらに、本発明によれば、分光器は光学ガラスファイバ
が信号入力部ともなっているので、従来のように測定試
料のすぐ近傍に大きな分光器を配置する必要がなくなり
、試料回りの空間が広く使えるという優れた効果が得ら
れる。
が信号入力部ともなっているので、従来のように測定試
料のすぐ近傍に大きな分光器を配置する必要がなくなり
、試料回りの空間が広く使えるという優れた効果が得ら
れる。
第1図は本発明に係る分光方法を行うための分光分析装
置の構成を示す構成図、第2図及び第3図は誘導ブリリ
ュアン散乱の過程を示すFeyn■ann図、第4図は
散乱観測配置の一例を示すモデル図、第5図はフエブリ
ベロー干渉計の出力を示す線図、第6図は信号光として
のラマン散乱スペクトル図、第7図は本発明に係る分光
方法及び分光分析装置によって得られた分光スペクトル
図、第8図は分光スペクトルをラマンシフト量に横軸変
換した時の分光スペクトル図である。 1・・・分光分析装置 3・・・レーザ光 9・・・光学ガラスファイバ 13・・・分析試料 15・・・レーザ光(分析試料励起用)19・・・散乱
光 21・・・誘導ブリリュアン散乱光23・・・フエ
ブリベロー干渉計 25・・・コンピュータ 27・・・光電変換素子
置の構成を示す構成図、第2図及び第3図は誘導ブリリ
ュアン散乱の過程を示すFeyn■ann図、第4図は
散乱観測配置の一例を示すモデル図、第5図はフエブリ
ベロー干渉計の出力を示す線図、第6図は信号光として
のラマン散乱スペクトル図、第7図は本発明に係る分光
方法及び分光分析装置によって得られた分光スペクトル
図、第8図は分光スペクトルをラマンシフト量に横軸変
換した時の分光スペクトル図である。 1・・・分光分析装置 3・・・レーザ光 9・・・光学ガラスファイバ 13・・・分析試料 15・・・レーザ光(分析試料励起用)19・・・散乱
光 21・・・誘導ブリリュアン散乱光23・・・フエ
ブリベロー干渉計 25・・・コンピュータ 27・・・光電変換素子
Claims (4)
- (1)試料に光を照射し、この試料からの信号光を分光
する分光方法において、 前記信号光と波長可変レーザ光とを光学ファイバへ入射
させて、この光学ファイバ内で誘導ブリリュアン散乱現
象を生じさせ、前記信号光の特定波長を増幅し、かつ前
記レーザ光の波長を変化させることを特徴とする分光方
法。 - (2)前記信号光が、測定試料に照射した試料励起用レ
ーザと試料の光子−電子相互作用による試料からの散乱
光であることを特徴とする請求項(1)記載の分光方法
。 - (3)前記光学ファイバの一端から信号光を入射し、他
端からレーザ光を入射することを特徴とする請求項(1
)記載の分光方法。 - (4)前記光学ファイバの出力をフェブリペロー干渉計
で分光し、レーリ線と誘導ラマン散乱線を分離し、その
誘導ラマン散乱強度の波長可変レーザ光波長依存性を測
定することを特徴とする請求項(1)記載の分光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24277290A JPH04122835A (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 分光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24277290A JPH04122835A (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 分光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04122835A true JPH04122835A (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=17094053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24277290A Pending JPH04122835A (ja) | 1990-09-14 | 1990-09-14 | 分光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04122835A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001212684A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-07 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ビアホール加工方法およびその装置 |
EP1199549A1 (de) * | 2000-10-20 | 2002-04-24 | Acterna Eningen GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur hochauflösenden Spektroskopie unter Verwendung von Stimulierter Brillouin Streuung |
ES2207417A1 (es) * | 2002-11-14 | 2004-05-16 | Fibercom, S.L. | Dispositivo analizador de espectros opticos por difusion brillouin y procedimiento de medida asociado. |
-
1990
- 1990-09-14 JP JP24277290A patent/JPH04122835A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001212684A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-07 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ビアホール加工方法およびその装置 |
EP1199549A1 (de) * | 2000-10-20 | 2002-04-24 | Acterna Eningen GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur hochauflösenden Spektroskopie unter Verwendung von Stimulierter Brillouin Streuung |
ES2207417A1 (es) * | 2002-11-14 | 2004-05-16 | Fibercom, S.L. | Dispositivo analizador de espectros opticos por difusion brillouin y procedimiento de medida asociado. |
WO2004044538A1 (es) * | 2002-11-14 | 2004-05-27 | Fibercom S.L. | Dispositivo analizador de espectros opticos por difusion brillouin y procedimiento de medida asociado |
US7405820B2 (en) | 2002-11-14 | 2008-07-29 | Fibercom S.L. | Optical spectrum analyzing device by means of Brillouin scattering and associated measurement process |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Winefordner et al. | Review of multielement atomic spectroscopic methods | |
Tamai et al. | Spin-orbit splitting of the Shockley surface state on Cu (111) | |
US4169228A (en) | X-ray analyzer for testing layered structures | |
Warner et al. | Thomson scattering from analytical plasmas | |
US9390887B2 (en) | Non-invasive charged particle beam monitor | |
Nishitani et al. | Angle-resolved photoemission spectroscopy of liquid water at 29.5 eV | |
Andersson et al. | Coherent synchrotron radiation in the far-infrared from a 1 mm electron bunch | |
CN103884692B (zh) | 超高空间分辨率的libs固相同位素测量装置及方法 | |
JPH04122835A (ja) | 分光方法 | |
Smolyaninov et al. | Spectroscopic measurements of light emitted by the scanning tunneling microscope | |
Mitchell et al. | Backscatter measurements from laser‐produced plasmas at 10.6 μm | |
JPH08503779A (ja) | レーザ生成プラズマ上の光学的発光分光測定による同位体分析プロセス | |
US11924956B2 (en) | Systems and methods for Thomson scattering background interference suppression | |
Frassetto et al. | Extreme-ultraviolet compact spectrometer for the characterization of the harmonics content in the free-electron-laser radiation at FLASH | |
Aleinik et al. | Coherent diffraction radiation of a 6-MeV microtron electron beam | |
JP3268872B2 (ja) | 二次電子分光装置 | |
Stöger-Pollach et al. | Using Cerenkov radiation for measuring the refractive index in thick samples by interferometric cathodoluminescence | |
US5796101A (en) | Method of processing nucleic acids | |
JPH09189657A (ja) | 試料の構成原子または分子の分析方法及びその装置 | |
Loktionov et al. | Application of polarization interferometry to plasma diagnostics | |
Ainsworth | Measurement of the Fluorescence Excitation Spectra of Totally Absorbing Solutions. | |
McCarthy et al. | Numerical considerations for neutral beam spectroscopy based diagnostics in the stellarator TJ-II | |
Vincent et al. | Incoherent Thomson Scattering (ITS) applied to low temperature plasma sources | |
Hableel et al. | Design and Fabrication of a Mini Spectrometer | |
Kumar et al. | Experimental techniques for phosphor characterization |