JPH04112890A - New thiazole derivative and antimicrobial agent containing the same derivative - Google Patents

New thiazole derivative and antimicrobial agent containing the same derivative

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JPH04112890A
JPH04112890A JP2233984A JP23398490A JPH04112890A JP H04112890 A JPH04112890 A JP H04112890A JP 2233984 A JP2233984 A JP 2233984A JP 23398490 A JP23398490 A JP 23398490A JP H04112890 A JPH04112890 A JP H04112890A
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Japan
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group
acid
formula
salts
compound
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JP2233984A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiji Nakanishi
英二 中西
Osamu Ikemura
池村 治
Satoru Hatsuya
初谷 哲
Noriko Shimamura
嶌村 紀子
Masahiko Okunishi
奥西 昌彦
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Ajinomoto Co Inc
Original Assignee
Ajinomoto Co Inc
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Publication date
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Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by formula I [R<1> to R<3> are H, alkyl, acyl, etc.; R<4> is (protected) amino; R<5> is H or ester residue or carboxy-protecting group; X is H, halogeno, alkyl, etc.] or a salt thereof. EXAMPLE:(Z)-2-(2-Aminothiazol-4-yl)-2-(3,4,5- trimethoxyethoxymethoxybenzyloxyimino)acetic acid. USE:An antimicrobial agent. PREPARATION:First, a compound shown by formula II is reacted with a compound shown by formula III in the presence of a condensation agent N,N'- dichlorohexylcarbodiimide in a solvent such as THF at -50 to 30 deg.C and acylated. Then, the prepared compound shown by formula IV is reacted and alkylated with a compound shown by the formula R<6>OH (R<6> is group shown by formula V) in a solvent such as THF in the presence of a base such as pyridine generally at -30 to 100 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】 二産業上の利用分野〕 本発明は抗生物質として有用な新規チアゾール誘導体、
その製造中間体及び該化合物を有効成分とする抗菌剤に
関するものである。
Detailed Description of the Invention [Second Industrial Application Fields] The present invention provides novel thiazole derivatives useful as antibiotics,
The present invention relates to intermediates for producing the same and antibacterial agents containing the compound as an active ingredient.

二従来の技術口 セファロスポリン誘導体の開発はめざましく、クラム陽
性菌およびシュードモナス・エルギノサ(Pseudo
monas aeruginosa)を含むクラム陰性
菌に対する抗菌力も改善されてきた。しかしながら、メ
チシリン耐性の黄色ブドウ球菌(MR5A)等の耐性ク
ラム陽性菌、及びシュードモナス・エルギノーザ(Ps
eudamanaSaeruginosa) 、シュー
ドモナス°セパシア(Pseudomonas cep
acia)や霊菌(Serratia marcesc
ens)等に対する抗菌力はまだ充分とはいえなかった
2 Conventional techniques The development of cephalosporin derivatives has been remarkable, and Clam-positive bacteria and Pseudomonas aeruginosa (Pseudomonas aeruginosa) have been rapidly developed.
The antibacterial activity against Clam-negative bacteria including Monas aeruginosa has also been improved. However, resistant Clam-positive bacteria such as methicillin-resistant Staphylococcus aureus (MR5A) and Pseudomonas aeruginosa (Ps.
eudamana Saeruginosa), Pseudomonas cep
acia) and Serratia marcesc
It could not be said that the antibacterial activity against such substances as ens) was still sufficient.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明は、従来知られている化合物に比べて更に抗菌活
件の優れた新規チアゾール誘導体、その製造中間体及び
抗菌剤を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a new thiazole derivative, an intermediate for producing the same, and an antibacterial agent that has more excellent antibacterial activity than conventionally known compounds.

二課題を解決するた狛の手段二 メチシリン耐性の黄色ブドウ球菌等のクラム陽性菌や緑
膿菌等のクラム陰性菌に対して幅広−1)抗菌力を有す
るセファロスポリン誘導体を創製すべく鋭意検討した結
果、7位置換基としては3,4゜5−トリヒドロキシフ
ェニルメチルオキシイミノ基を有する2−アミノチアゾ
ール誘導体等がすぐれた抗菌力を有するとの知見に基づ
いて本発明を完成したのである。
Two ways to solve the problem: 2) A wide range of applications against Clam-positive bacteria such as methicillin-resistant Staphylococcus aureus and Clam-negative bacteria such as Pseudomonas aeruginosa - 1) Efforts to create cephalosporin derivatives with antibacterial activity As a result of investigation, the present invention was completed based on the knowledge that 2-aminothiazole derivatives having a 3,4゜5-trihydroxyphenylmethyloxyimino group as the 7-position substituent have excellent antibacterial activity. be.

すなわち、本発明は下記一般式〔I〕で表わされるチア
ゾール誘導体又はその無毒性塩及び該化合物を含有する
抗菌剤を提供する。
That is, the present invention provides a thiazole derivative represented by the following general formula [I] or a nontoxic salt thereof, and an antibacterial agent containing the compound.

(式中、R’、R2,R3は同一でも異なってし)でも
よく、水素、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未
置換のアシル基、ヒドロキシル保護基であるか、又はR
1とR2あるいはR2とR3とが一緒になって環状ジオ
ール保護基を形成してもよく、R4はアミノ基又は保護
されたアミン基であり、R5は水素、エステル残基又は
カルボキシ保護基を表わし、Xは水素、ハロゲノ基、ア
ルコキシ基、アルキル基、ビニル基又はCH2Y (Y
は水素又は求核性残基である)で示される基である。) 上記式〔I〕・の化合物は、下記一般式〔■〕の化合物
から効率的に製造することができる。
(wherein R', R2, and R3 may be the same or different), hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted acyl group, a hydroxyl protecting group, or R
1 and R2 or R2 and R3 may be taken together to form a cyclic diol protecting group, R4 is an amino group or a protected amine group, and R5 represents hydrogen, an ester residue or a carboxy protecting group. , X is hydrogen, halogeno group, alkoxy group, alkyl group, vinyl group, or CH2Y (Y
is hydrogen or a nucleophilic residue). ) The compound of the above formula [I] can be efficiently produced from the compound of the following general formula [■].

味である。) 上記式中、R’  R2,R3に於いてアルキル基とは
、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、secブチル基、te
rt−ブチル基等の炭素数1ないし10個のアルキル基
を意味する。アシル基とは例えばフォルミル、アセチル
、プロピオニル、ブチリルー−どの炭素数1ないし10
の低級脂肪族カルボン酸アシル基、ベンゾイル、p−ク
ロロベンゾイル、p−メチルベンゾイル、マンゾロイル
など芳香族カルボン酸アシル基を意味する。置換アルキ
ル、置換アシル基に用いる置換基はアミノ基、カルボキ
シ基、ハロゲノ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アルキル基、アシル基、フェニル基の中から通常
lないし4個の置換基を選択することができる。ヒドロ
キシ保護基としては、一般に用いられるそれ自体公知の
保護基をいずれも用いることができる。例えば、メトキ
シメチル、2−メトキシエトキシメチル、■−エトキシ
エチル、テトラヒドロピラニル、アリノベ t−ブチル
、(式中、R’−R5は式CILにおけると同じ意ベン
ジル、トリメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、
フォルミル、アセチル、クロロアセチル、ピウ゛アロイ
ル、ベンゾイル、2,2.2−)リクロロエトキシ力ル
ボニルなどを意味する。環状ジオール保護基とは、例え
ばメチレン、エチリデン、インプロピリデン、シクロヘ
キシリデン、ジフェニルメチレン、カルボニル、ヒドロ
キシボランなどを意味する。
It's the taste. ) In the above formula, the alkyl group in R' R2 and R3 is, for example, a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, te
It means an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as rt-butyl group. Examples of acyl groups include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, which have 1 to 10 carbon atoms.
It means an aromatic carboxylic acid acyl group such as a lower aliphatic carboxylic acid acyl group, benzoyl, p-chlorobenzoyl, p-methylbenzoyl, and manzoloyl. The substituents used for the substituted alkyl and substituted acyl groups are usually 1 to 4 substituents selected from among the amino group, carboxy group, halogeno group, cyano group, hydroxy group, alkoxy group, alkyl group, acyl group, and phenyl group. can do. As the hydroxy protecting group, any commonly used protecting groups known per se can be used. For example, methoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, ■-ethoxyethyl, tetrahydropyranyl, alinobe t-butyl, (wherein R'-R5 has the same meaning as in formula CIL, benzyl, trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl,
It means formyl, acetyl, chloroacetyl, pyaroyl, benzoyl, 2,2.2-)lichloroethoxycarbonyl, and the like. The cyclic diol protecting group means, for example, methylene, ethylidene, impropylidene, cyclohexylidene, diphenylmethylene, carbonyl, hydroxyborane, and the like.

R4の保護されたアミノ基に於いて、アミノ基の保護基
としては一般に用いられるそれ自体公知の保護基をいず
れも用いる事ができ、例えばハロゲンで置換されていて
もよい脂肪族カルボン酸アシル基(例えば、ホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
レリル、イソバレリル、オキサリル、スクシニル、ピバ
ロイル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリ
クロロアセチル等)、ハロゲンで置換されていてもよい
炭素原子数2〜7の低級アルコキシカルボニル基(例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、1−シクロプロピルエトキシカルホ′
ニル、イソプロポキンカルボニル、tert−プチルオ
キシ力ルホニル、t−ペンチルオキシカルボニル、ヘキ
シルオキシカルボニル、トリクロロエトキシカルボニル
等)、低級アルカンスルホニル基(例えば、メタンスル
ホニル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソ
プロパンスルホニル、ブタンスルホニル等)、芳香族ス
ルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、トルエンス
ルホニル等)、芳香族アシル基(例えば、ベンゾイル、
トルオイル、ナフトイル、フタロイノベインダンカルボ
ニル等)、アル(低級)アルカノイル基(例えば、フェ
ニルアセチル、フェニルプロピオニル等)、シクロ(低
級)アルキル(低級)アルカノイル(例えば、シクロへ
キシルアセチル、シクロペンチルアセチル等)、アル(
低級)アルコキシカルボニル(例えば、ベンジルオキシ
カルボニル、p−二トロベンジルオキシカルボニル、p
−メトキシベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキ
シカルボニル等)、モノへトリフェニル(低級)アルキ
ル(例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル
、トリフェニルメチル等)、低級アルコキシカルボニル
(低級)アルキリデンまたはそのエナミン互変異性体(
例えば、1−メトキシカルボニル−1−プロペン−2−
イル等)、ジ(低級)アルキルアミノメチレン(例えば
、ジメチル了ミノメチレン等)、芳香族ホスフィニル基
(例えば、ジフェニルホスフィニル等)、芳香族ホスフ
ィノチオイル基(例えば、ジフェニルホスフィノチオイ
ル基)、芳香族スルフェニル基(例えば、3−ニトロ−
2−ピリジンスルフェニル基等)等が挙げられる。
In the protected amino group of R4, any commonly used protecting group known per se can be used as the protecting group for the amino group, such as an aliphatic carboxylic acid acyl group which may be substituted with a halogen. (For example, formyl,
acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl, monochloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, etc.), lower alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms optionally substituted with halogen (e.g. , methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarpho'
lower alkanesulfonyl groups (e.g. methanesulfonyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, isopropanesulfonyl, butanesulfonyl) ), aromatic sulfonyl groups (e.g., benzenesulfonyl, toluenesulfonyl, etc.), aromatic acyl groups (e.g., benzoyl,
toluoyl, naphthoyl, phthaloinobeindane carbonyl, etc.), al(lower) alkanoyl groups (e.g., phenylacetyl, phenylpropionyl, etc.), cyclo(lower)alkyl(lower)alkanoyl (e.g., cyclohexylacetyl, cyclopentylacetyl, etc.), Al (
(lower) alkoxycarbonyl (e.g. benzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, p
-methoxybenzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.), monohetriphenyl(lower)alkyl (e.g. benzyl, phenethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, etc.), lower alkoxycarbonyl(lower)alkylidene or its enamine tautomer (
For example, 1-methoxycarbonyl-1-propene-2-
), di(lower) alkylaminomethylene (e.g., dimethyl phosphinomethylene, etc.), aromatic phosphinyl group (e.g., diphenylphosphinyl, etc.), aromatic phosphinothioyl group (e.g., diphenylphosphinothioyl group) ), aromatic sulfenyl groups (e.g. 3-nitro-
2-pyridine sulfenyl group, etc.).

R5においてエステル残基としては、例えばメチル、エ
チル、t−ブチルなどの低級アルキル基、メトキシメチ
ル等の低級アルコキシメチル基、アセトキシメチル、ピ
バロイルオキシメチルなどの低級アルカノイルオキシメ
チル基、l−(エトキシカルボニルオキシ)エチル等の
低級アルコキシカルボニルオキシアルキル基、フタリジ
ル基、(5−メチル−2−オキソ−1,3〜ジオキソ−
ルー4−イル)メチル等の(5−置換−2−オキソ−1
,3−ジオキソ−ルー4−イル)メチル基、ベンゾトリ
アゾリル等の活住エステル残基等が挙げられる。
Examples of the ester residue in R5 include lower alkyl groups such as methyl, ethyl, and t-butyl, lower alkoxymethyl groups such as methoxymethyl, lower alkanoyloxymethyl groups such as acetoxymethyl and pivaloyloxymethyl, and l-( Lower alkoxycarbonyloxyalkyl groups such as ethoxycarbonyloxy)ethyl, phthalidyl groups, (5-methyl-2-oxo-1,3-dioxo-
(5-substituted-2-oxo-1 such as
, 3-dioxol-4-yl)methyl group, active ester residues such as benzotriazolyl, and the like.

カルボキシル保護基としては、一般に使用されるそれ自
体公知の保護基をいずれも用いることができ、例えば、
低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル(例
えば、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシ
メチルエステル、フチリルオキシメチルエステル、バレ
リルオキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プロピオ
ニルオキシエチルエステル、ヘキサノイルオキシメチル
エステル等)、低級アルカンスルホニル(低級)アルキ
ルエステル(例えば、2−メシルエチルエステル ハロ(低級)アルキルエステル(例えば、2ヨードエチ
ルエステノベ2,2.2−トリクロロエチルエステル等
)といった少なくとも1個の置換基を有していてもよい
低級アルキルエステル(例えば、メチルエステル、エチ
ルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル
、ブチルエステル、イソブチルエステル、t−ブチルエ
ステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル、1シク
ロプロピルエチルエステル等)、低級アルケニルエステ
ル(例えば、ビニルエステル、アリルエステル等)、低
級アルキニルエステル(例えば、エチニルエステル、プ
ロピニルエステル等)、少なくとも1個の適当な置換基
を有していてもよいアル(低級)アルキルエステル〔例
えば、モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキルエステル等〕(例えば、ベンジルエステル、4−
メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステ
ル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒ
ドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエス
テル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルエステル等)
、少なくとも1個の適当な置換基を有していてもよいア
リールエステル(例t!f、フェニルエステル、4−ク
ロロフェニルエステル、トリルエステル、t−ブチルフ
ェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエステル
、クメニルエステル等)などが挙げられる。
As the carboxyl protecting group, any commonly used protecting group known per se can be used, for example,
Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters (e.g. acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, phthyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, 2-acetoxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, etc.), lower alkanesulfonyl (lower) alkyl ester (e.g., 2-mesylethyl ester, halo(lower) alkyl ester (e.g., 2-iodoethyl ester, 2,2,2-trichloroethyl ester, etc.) ), which may have at least one substituent (e.g., methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, t-butyl ester, pentyl ester, hexyl ester, 1 cyclopropylethyl ester, etc.), lower alkenyl esters (e.g., vinyl esters, allyl esters, etc.), lower alkynyl esters (e.g., ethynyl ester, propynyl ester, etc.), even if they have at least one suitable substituent. Good alkyl esters [e.g. mono (or di or tri) phenyl (lower) alkyl esters] (e.g. benzyl esters, 4-
Methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl ester, etc.)
, aryl esters which may have at least one suitable substituent (e.g. t!f, phenyl ester, 4-chlorophenyl ester, tolyl ester, t-butylphenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl esters, etc.).

Yにおいて求核性化合物残基としては、例えば、水酸基
、メルカプト基、了セチルオキシ基、プロビオニルオ牛
シ基、3−オキツブチリルオキシ基、3−カルボキシプ
ロピオニルオキシ基、3−エトキシカルバモイルプロピ
オニルオキシ基、4〜カルボキシブチリルオキシ基など
の置換されていてもよい炭素数2〜4の低級脂肪族カル
ボン酸アシルオキシ基、マンゾリルオキシ基、2−カル
ボキシベンゾイルオキシ基、2−(カルボエトキシカル
バモイル)ベンゾイルオキシ基、2− (カルボエトキ
シスルファモイル)ベンゾイルオキシ基などの置換され
ていてもよい芳香族カルボン酸アシルオキシ基、カルバ
モイルオキシ基、シアノ、アジド、アミノ、カルへ′モ
イルチオ、チオカルバモイルオキシ、アミノ基の保護さ
れたカルバモイルオキシ基(例、N−クロロアセチルカ
ルバモイルオキシ基、N−ジクロロアセチルカルバモイ
ルオキシ基、N−トリクロロアセチルカルバモイルオキ
シ基などのN−モノ−、ジーおよびトリハロゲノアセチ
ルカルバモイルオキシ基、N−クロロスルホニルカルバ
モイルオキシ基、N−)IJメチルシリルカルバモイル
オキシ基)、フェニルグリシルオキシ基などが挙げられ
る。あるいはこれらの求核性化合物残基が、さらにアル
キル基(例、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数1
〜3の低級アルキル基)、アシル基(例、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリルなどの炭素数2〜4の低級脂肪族
カルボン酸アシル基、ベンゾイル、p−クロロベンゾイ
ノペルーメチルベンゾイル、マンゾロイルなどの芳香族
カルボン酸アシル基)で置換されていてもよく、この場
合、置換基の数は通常1〜2個である。あるいは求核性
化合物残基は第4級アンモニウム基であってもよい。第
4級アンモニウム基としては、例えばピリジニウム、キ
ノリニウム、ピコリニウム、ルチジニウム、置換ピリジ
ニウム、置換キノリニウム、置換ピコリニウム、置換ル
チジニウム(ここで置換基としては例えば、アルキル基
、アシル基、ハロゲノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基
、シアノ基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基
、カルバモイルオキシ基、スルフォ基、ヒドロキシメチ
ル基、カルボキシメチル基、スルホエチル基、トリフル
オロメチル基、N−メチルカルバモイル基、N、N−ジ
エチルカルバモイル基などが挙げられる。また求核性化
合物残基は、Sを介して結合したベテロ環すなわち、ペ
テロ環チオ基をも表わす。ここにペテロ環とは0、Sま
たはNから選ばれた1〜4個の異種原子を含有する5〜
6員環、あるいはそれらの縮合複素環であって、窒素原
子はオキシド化されていてもよい。これらの異項環とし
ては、たとえばピリジル、N−オキシトピリジル、ピリ
ミジル、ピリダジニル、N−オキシトピリダジニル、ピ
ラゾリル、ジアゾリル、チアゾリル、1. 2. 3−
チアジアゾリル、1.2.4−チアジアゾリル、■。
Nucleophilic compound residues in Y include, for example, a hydroxyl group, a mercapto group, a cetyloxy group, a probionyl group, a 3-oxbutyryloxy group, a 3-carboxypropionyloxy group, a 3-ethoxycarbamoylpropionyloxy group, Optionally substituted lower aliphatic carboxylic acid acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms such as 4-carboxybutyryloxy group, manzolyloxy group, 2-carboxybenzoyloxy group, 2-(carboethoxycarbamoyl)benzoyloxy group, 2- Protection of optionally substituted aromatic carboxylic acid acyloxy groups such as (carboethoxysulfamoyl)benzoyloxy groups, carbamoyloxy groups, cyano, azide, amino, carbe'moylthio, thiocarbamoyloxy, and amino groups (e.g., N-mono-, di- and trihalogenoacetylcarbamoyloxy groups such as N-chloroacetylcarbamoyloxy group, N-dichloroacetylcarbamoyloxy group, N-trichloroacetylcarbamoyloxy group, N-chloroacetylcarbamoyloxy group, etc.) Examples include sulfonylcarbamoyloxy group, N-)IJ methylsilylcarbamoyloxy group), and phenylglycyloxy group. Alternatively, these nucleophilic compound residues may further contain an alkyl group (e.g., 1 carbon number such as methyl, ethyl, propyl, etc.).
~3 lower alkyl groups), acyl groups (e.g., lower aliphatic carboxylic acid acyl groups having 2 to 4 carbon atoms such as acetyl, propionyl, butyryl, etc., aromatic groups such as benzoyl, p-chlorobenzoinoperumethylbenzoyl, manzoloyl, etc.) (carboxylic acid acyl group), and in this case, the number of substituents is usually 1 to 2. Alternatively, the nucleophilic compound residue may be a quaternary ammonium group. Examples of quaternary ammonium groups include pyridinium, quinolinium, picolinium, lutidinium, substituted pyridinium, substituted quinolinium, substituted picolinium, and substituted lutidinium (herein, substituents include, for example, alkyl groups, acyl groups, halogeno groups, hydroxy groups, mercapto group, cyano group, carboxy group, amino group, carbamoyl group, carbamoyloxy group, sulfo group, hydroxymethyl group, carboxymethyl group, sulfoethyl group, trifluoromethyl group, N-methylcarbamoyl group, N,N-diethylcarbamoyl group The nucleophilic compound residue also represents a betero ring bonded via S, that is, a petero ring thio group. Here, the petero ring is 1 to 4 selected from 0, S, or N. 5~ containing 5 different atoms
It is a 6-membered ring or a fused heterocycle thereof, and the nitrogen atom may be oxidized. Examples of these heterocyclic rings include pyridyl, N-oxytopyridyl, pyrimidyl, pyridazinyl, N-oxytopyridazinyl, pyrazolyl, diazolyl, thiazolyl, 1. 2. 3-
Thiadiazolyl, 1.2.4-thiadiazolyl, ■.

3.4−チアジアゾリル、1,2.5−チアジアゾリル
、1,2.3−オキサジアゾリル、1,2゜4−オキサ
ジアゾリル、1. 3. 4−オキサジアゾリル、I、
2.5−オキサジアゾリル、l、2゜3−トリアゾリル
、1.2.4−トリアゾリル、IH−テトラゾリル、2
H−テトラゾリル、Sトリアゾロ L 11  D  
a J  ピリミジン−7−イル等が繁用される。また
、これらへテロ環上には、たとえばメチル、エチル、プ
ロピル等の炭素数1〜3の低級アルキル基、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ等の炭素数1〜3の低級アルコキ
シ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、クロル、
ブロム等のハロゲン原子、トリフロロメチル、トリクロ
ロエチルなどのトリハロゲン置換低級アルキノベ水酸基
、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、カルバモ
イル基、たとえば、ジメチルアミノエチル、ジメチルア
ミノメチルなどの炭素数1〜3のジ低級アルキルアミノ
低級アルキル基、カルボキシメチル基などのカルボキシ
低級アルキル基、アセチルなどの低級アシル基、アミノ
低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、アリー
ル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、スル
フォ基、スルフtエチルナトのスルフォアルキル基、な
どの置換基を有して−)でもよい。ペテロ環上にこれら
の置換基が置換する場合、置換基の数は通常1〜4個で
ある。
3.4-thiadiazolyl, 1,2.5-thiadiazolyl, 1,2.3-oxadiazolyl, 1,2°4-oxadiazolyl, 1. 3. 4-oxadiazolyl, I,
2.5-oxadiazolyl, l, 2゜3-triazolyl, 1.2.4-triazolyl, IH-tetrazolyl, 2
H-tetrazolyl, S triazolo L 11 D
a J Pyrimidin-7-yl and the like are frequently used. In addition, on these heterocycles, for example, lower alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, methoxy,
Lower alkoxy groups having 1 to 3 carbon atoms such as ethoxy and propoxy, lower alkenyl groups, lower alkynyl groups, chloro,
Halogen atoms such as bromine, trihalogen-substituted lower alkinobenzoyl groups such as trifluoromethyl and trichloroethyl, hydroxyl groups, mercapto groups, amino groups, carboxyl groups, carbamoyl groups, and carbon atoms having 1 to 3 carbon atoms such as dimethylaminoethyl and dimethylaminomethyl. Di-lower alkylamino lower alkyl group, carboxy lower alkyl group such as carboxymethyl group, lower acyl group such as acetyl, amino lower alkyl group, carbamoyl lower alkyl group, aryl lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl (-) may have a substituent such as a nitro group, a sulfo group, or a sulfoalkyl group such as ethylnato. When these substituents are substituted on the petero ring, the number of substituents is usually 1 to 4.

無毒性塩として該塩基との付加塩としては、例えばナト
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩、例えばカ
ルシウム塩、マクネシウム塩−二どのアルカリ土類金属
塩、アンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、トリ
エチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノー
ルアミン塩、ジェタノールアミン塩、トリエタノールア
ミン塩、等の脂肪族アミン塩、例えばN、N−ジベンジ
ルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩、例えばピ
リジン塩、ピコリン塩、キノリン塩もしくはイソキノリ
ン塩等の複素環芳香族アミン塩、例えばテトラメチルア
ンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、ベンジル
トリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモ
ニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩またはテ
トラブチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、
例えばアルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩が
挙げられる。
Addition salts with the base as non-toxic salts include alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts, ammonium salts such as trimethylamine salts, triethylamine salts, Aliphatic amine salts such as dicyclohexylamine salts, ethanolamine salts, jetanolamine salts, triethanolamine salts, etc., aralkylamine salts such as N,N-dibenzylethylenediamine, such as pyridine salts, picoline salts, quinoline salts or isoquinoline. Heterocyclic aromatic amine salts such as salts, such as quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, benzyltrimethylammonium salt, benzyltriethylammonium salt, methyltrioctylammonium salt or tetrabutylammonium salt,
Examples include basic amino acid salts such as arginine salts and lysine salts.

また核酸との付加塩としては例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過
塩素酸塩、螺酸塩等の無機酸塩、例えば酢酸塩、プロピ
オン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フマール
酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩など
の有機酸塩、例えばメタンスルホン酸塩、ベンゼンスル
ホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩
、例えばアスパラギン酸、グルタミン酸などの酸性アミ
ノ酸塩が挙げられる。
Examples of addition salts with nucleic acids include inorganic acid salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, nitrate, phosphate, carbonate, bicarbonate, perchlorate, and sulfate; for example, acetate. , propionate, lactate, maleate, tartrate, fumarate, malate, citrate, ascorbate, organic acid salts such as methanesulfonate, benzenesulfonate, p-toluene. Examples include sulfonate salts such as sulfonate salts, and acidic amino acid salts such as aspartic acid and glutamic acid.

また、式中のオキシムの波線の結合はシン軸yn)異性
体、アンチ(anti)異性体のいずれかあるいはそれ
らの混合物を表わす。
Furthermore, the oxime in the formula represented by a wavy line represents either a syn-axis (yn) isomer, an anti-isomer, or a mixture thereof.

また、2−アミノ−1,3−チアゾリル基については下
記に示される様な互変異性体構造をとると考えられるが
、本明細書を通して2−アミノ1.3−チアゾール化合
物として表わし、それにより2−イミノ−1,3−チア
ゾリン体も含まれるものとする。
In addition, although the 2-amino-1,3-thiazolyl group is thought to have a tautomeric structure as shown below, it will be expressed as a 2-amino-1,3-thiazole compound throughout this specification, and thereby 2-imino-1,3-thiazoline bodies are also included.

(I) (IV) 次に本発明化合物の製造法について説明する。(I) (IV) Next, a method for producing the compound of the present invention will be explained.

−数式[1]で表わされる誘導体は、例えば下記に示す
方法■又は方法Hによって製造することができる。
- The derivative represented by formula [1] can be produced, for example, by method (1) or method (H) shown below.

上記式中、 R6 は下式 で表わされる基である(ここにR’、R2,R’は前記
と同じ意味を表わす)。
In the above formula, R6 is a group represented by the following formula (R', R2, and R' have the same meanings as above).

X2はハロゲン原子、またはメタンスルフォニル、p−
hルエンスルフォニルなどの脱離基ヲ表わす。また前式
は式中の適当な工程(最終工程の次工程となる場合も含
む)に於て、カルボキシル基の保護基、ヒドロキシル基
の保護基、アミノ基の保護基のいずれか、あるいは複数
個を除去する工程を含むことができるものとする。また
、前式は式中の適当な工程でカルボキシル基、ヒドロキ
シル基、アミノ基のいずれか、あるいはこれらの複数個
を保護する工程を含むことができるものとする。
X2 is a halogen atom, methanesulfonyl, p-
h Represents a leaving group such as luenesulfonyl. In addition, in the above formula, any one or more of a carboxyl group protecting group, a hydroxyl group protecting group, an amino group protecting group is It shall be possible to include a step of removing. Further, the above formula can include a step of protecting one or more of a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a plurality of these groups at an appropriate step in the formula.

上記式中、R’、R5,R6,X”、Yは前記と同じ意
味を表わす。R7はYまたはYHによって置換され得る
基であり、例えば水酸基、アセチルオキシ基、プロピオ
ニルオキシ基、3−オキツブチリルオキシ基、3−カル
ボキシプロピオニルオキシ基、3−エトキシカルバモイ
ルプロピオニルオキシ基、4−カルボキシブチリルオキ
シ基などの置換されていてもよい炭素数2〜4の低級脂
肪族カルボン酸アシルオキシ基、マンゾリルオキシ基、
2−カルボキシベンゾイルオキシ基、2(カルボエトキ
シカルバモイル)ベンゾイルオキシ基、2−(カルボエ
トキシスルファモイル)ベンゾイルオキシ基などの置換
されていてもよい芳香族カルボン醒アシルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、アミノ基の保護されたカルバモイ
ルオキシ基(例、N−クロロアセチルカルバモイルオキ
シ基、N−ジクロロアセチルカルバモイルオキシ基、N
−)!Jジクロロアセチルカルバモイルオキシ基どのN
−モノ−、ジーおよびトリハロゲノアセチルカルバモイ
ルオキシ基、N−クロロスルホニルカルバモイルオキシ
基、N−)IJメチルシリルカルバモイルオキシ基)、
フェニルグリシルオキシ基などが挙げられる。あるいは
これらの求核性化合物残基が、さらにアルキル基(例、
メチル、エチル、プロピルなどの炭素数1〜3の低級ア
ルキル基)、アシル基(例、アセチル、プロピオニル、
ブチリルなどの炭素数2〜4の低級脂肪族カルボン酸ア
シル基、ベンゾイル、p−クロロベンゾイル、p−メチ
ルベンゾイル、マンゾロイルなどの芳香族カルボン酸ア
シル基)で置換されていてもよく、この場合、置換基の
数は通常1〜2個である。
In the above formula, R', R5, R6, An optionally substituted lower aliphatic carboxylic acid acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms such as butyryloxy group, 3-carboxypropionyloxy group, 3-ethoxycarbamoylpropionyloxy group, 4-carboxybutyryloxy group, manzolyloxy basis,
2-carboxybenzoyloxy group, 2(carboethoxycarbamoyl)benzoyloxy group, 2-(carboethoxysulfamoyl)benzoyloxy group, etc., optionally substituted aromatic carbonated acyloxy group, carbamoyloxy group, amino group protected carbamoyloxy group (e.g., N-chloroacetylcarbamoyloxy group, N-dichloroacetylcarbamoyloxy group, N
−)! J dichloroacetylcarbamoyloxy group which N
-mono-, di- and trihalogenoacetylcarbamoyloxy groups, N-chlorosulfonylcarbamoyloxy groups, N-)IJ methylsilylcarbamoyloxy groups),
Examples include phenylglycyloxy group. Alternatively, these nucleophilic compound residues may further contain an alkyl group (e.g.
lower alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl, and propyl), acyl groups (e.g., acetyl, propionyl,
(lower aliphatic carboxylic acid acyl group having 2 to 4 carbon atoms such as butyryl, aromatic carboxylic acid acyl group such as benzoyl, p-chlorobenzoyl, p-methylbenzoyl, manzoloyl); in this case, The number of substituents is usually 1 to 2.

また前式は式中の適当な工程(最終工程の次工程となる
場合も含む)に於て、カルボキシル基の保護基、ヒドロ
キシル基の保護基、アミノ基の保護基のいずれか、ある
いは複数個を除去する工程を含むことができるものとす
る。また、前式は式中の適当な工程でカルボキシル基、
ヒドロキシル基、アミノ基のいずれか、あるいはそれら
の複数個を保護する工程を含むことができるものとする
In addition, in the above formula, any one or more of a carboxyl group protecting group, a hydroxyl group protecting group, an amino group protecting group is It shall be possible to include a step of removing. In addition, in the above formula, a carboxyl group,
The method may include a step of protecting either a hydroxyl group or an amino group, or a plurality of them.

(2)式(XI)で示される化合物は例えば下記に示す
方法■、■によって製造することができる。
(2) The compound represented by formula (XI) can be produced, for example, by the methods (1) and (2) shown below.

(XXVI) (XXVI+> で示される化合物は、例えば下記に示す方法によって製
造することができる。
(XXVI) The compound represented by (XXVI+>) can be produced, for example, by the method shown below.

(XI) (XXIX) H,N0R6 上記の各製造方法中の反応は常法の手段を利用すること
ができる。さらに詳しくは、以下の方法が挙げられる。
(XI) (XXIX) H, N0R6 Conventional methods can be used for the reactions in each of the above production methods. More specifically, the following methods may be mentioned.

(イ)三位変換反応 ■一般式(XXmの化合物を、−数式(Vl)の化合物
と、溶媒中撹拌することにより行う。
(a) Three-position conversion reaction (1) A compound of the general formula (XXm) is stirred with a compound of the formula (Vl) in a solvent.

(XXIV)または(VI)はそれらの塩類を用いるこ
とができる。塩基性基における塩類としては、たとえば
、塩酸、硝酸または硫酸などの鉱酸との塩;シュウ酸、
コハク酸、ギ酸、トリクロロ酢酸またはトリクロロ酢酸
などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン−2−ス
ルホン酸、トルエン−4−スルホン酸、メシチレンスル
ホン酸(2゜4.8−)!Jメチルベンゼンスルホン酸
)、ナフタレン−1−スルホン酸、ナフタレン−2−ス
ルホン酸、フェニルメタンスルホン酸、ベンゼン−1,
3−ジスルホン酸、トルエン−3,5−ジスルホン酸、
ナフタレン−1,5−ジスルホン酸、ナフタレン−2,
6−ジスルホン酸、ナフタレン2.7−ジスルホン酸、
ベンゼン−1,3,5=トリスルホン酸、ベンゼン−1
,2,4−)ジスルホン酸、ナフタレン−1,3,5−
トリスルホン酸などのスルホン酸との塩を、また酸性基
における塩としては、たとえば、ナトリウムまたはカリ
ウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウムまたはマグ
ネシウムなどのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム
塩;プロ力イン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β
−フェネチルアミン、N+N−ジベンジルエチレンジア
ミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルピ
ペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジ
シクロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基との塩を挙
げることができる。
For (XXIV) or (VI), salts thereof can be used. Salts with basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid; oxalic acid,
Salts with organic carboxylic acids such as succinic acid, formic acid, trichloroacetic acid or trichloroacetic acid; methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluene-2-sulfonic acid, toluene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid (2゜4.8-)! J methylbenzenesulfonic acid), naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene-2-sulfonic acid, phenylmethanesulfonic acid, benzene-1,
3-disulfonic acid, toluene-3,5-disulfonic acid,
naphthalene-1,5-disulfonic acid, naphthalene-2,
6-disulfonic acid, naphthalene 2,7-disulfonic acid,
Benzene-1,3,5=trisulfonic acid, benzene-1
,2,4-) disulfonic acid, naphthalene-1,3,5-
Salts with sulfonic acids such as trisulfonic acid, and salts with acidic groups include, for example, salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; ammonium salts; Powerin, dibenzylamine, N-benzyl-β
-Phenethylamine, N+N-dibenzylethylenediamine, triethylamine, trimethylamine, tributylamine, pyridine, dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, diethylamine, dicyclohexylamine and other salts with nitrogen-containing organic bases can be mentioned.

またこれらの塩類はあらかじめ単離して用いてもよく、
あるいは反応系内で調製してもよい。用いられる溶媒と
しては例えば、水、アセトン、ジオキサン、アセトニト
リル、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、N−メチル
ホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド
、メタノール、エタノール等を挙げることができる。ま
た、これらの混合物を用いる事もできる。この反応は、
O℃〜150℃、好ましくは室温〜100℃で行われ、
数分〜数十時間で完了する。また、水系の反応溶媒の場
合は反応中、反応液のpHをコントロールすることが望
ましい。
Moreover, these salts may be isolated beforehand and used.
Alternatively, it may be prepared within the reaction system. Examples of the solvent used include water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, tetrahydrofuran, dimethylformamide, formamide, N-methylformamide, acetamide, N-methylacetamide, methanol, and ethanol. Moreover, a mixture of these can also be used. This reaction is
carried out at 0°C to 150°C, preferably room temperature to 100°C,
It can be completed in a few minutes to several tens of hours. Furthermore, in the case of an aqueous reaction solvent, it is desirable to control the pH of the reaction solution during the reaction.

■ 一般式(XXIV)の化合物と、一般式(VI)の
化合物を酸または酸の錯化合物の存在下、溶媒中撹拌す
ることにより行う。
(2) The compound of general formula (XXIV) and the compound of general formula (VI) are stirred in a solvent in the presence of an acid or an acid complex.

この反応において使用される酸または酸の錯化合物とし
ては、たとえば、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸
の錯化合物が挙げられる。プロトン酸としては、たとえ
ば、硫酸類、スルホン酸類または超強酸類(超強酸とは
100%硫酸より強い酸を意味し、前述の硫酸類および
スルホン酸類の一部も含まれる)が挙げられ、さらに具
体的には、硫酸、り0ロ硫酸、フルオロ硫酸などの硫酸
類;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
などのアルキル(モノ−またはジー)スルホン酸、また
はp−)ルエンスルホン酸などのアリール(モノ−、ジ
ーまたはトリー)スルホン酸などのスルホン酸類;過塩
素酸、マジック酸(FSO3H−5bF5)、  FS
OJ−AsFs、  CH35O3H−3bF5゜HF
−BF3. H2SO,−3o、、などの超強酸類が挙
げられる。
The acid or acid complex used in this reaction includes, for example, a protonic acid, a Lewis acid, or a Lewis acid complex. Examples of protonic acids include sulfuric acids, sulfonic acids, and super strong acids (super strong acid means an acid stronger than 100% sulfuric acid, and also includes some of the above-mentioned sulfuric acids and sulfonic acids); Specifically, sulfuric acids such as sulfuric acid, fluorosulfuric acid, and fluorosulfuric acid; alkyl (mono- or di)sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, or aryl(s) such as p-)luenesulfonic acid; Sulfonic acids such as mono-, di- or tri-sulfonic acids; perchloric acid, magic acid (FSO3H-5bF5), FS
OJ-AsFs, CH35O3H-3bF5゜HF
-BF3. Examples include super strong acids such as H2SO, -3o, and the like.

また、ルイス酸としては、たとえば、三弗化硼素などが
挙げられる。また、ルイス酸の錯化合物としては、たと
えば、三弗化硼素と、ジエチルエーテル、ジ−n−プロ
ピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテルなどとのジアル
キルエーテル錯塩;エチルアミン、n−プロピルアミン
、n−ブチルアミン、トリエタノールアミンなどとのア
ミン錯塩;ギ酸エチル、酢酸エチルなどとのカルボン酸
エステル錯塩;酢酸、プロピオン酸などとの脂肪酸錯塩
;アセトニトリル、プロピオニ) IJルなどとの二)
 IJル錯塩などが挙げられる。
Furthermore, examples of the Lewis acid include boron trifluoride. In addition, examples of complex compounds of Lewis acids include dialkyl ether complex salts of boron trifluoride and diethyl ether, di-n-propyl ether, di-n-butyl ether, etc.; ethylamine, n-propylamine, n-butylamine; , amine complex salts with triethanolamine, etc.; carboxylic acid ester complex salts with ethyl formate, ethyl acetate, etc.; fatty acid complex salts with acetic acid, propionic acid, etc.;
Examples include IJ complex salts.

また、この反応においては有機溶媒を用いた場合が好ま
しく、用いられる有機溶媒としては、反応に不活性な全
ての有機溶媒、たとえば、ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロプロパンナトノニトロアルカン類;ギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン酸など
の有機カルボン酸類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類;ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ア
ニソール、ジメチルセルゾルブなどのエーテル類;ギ酸
エチル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、り0
ロ酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;アセトニ
トリル、ブチロニトリルなどのニトリル類;塩化メチレ
ン、クロロホルム、■、2−ジクロロエタンなどのハロ
ケン化炭化水素類;スルホランなどのスルホラン類など
が挙げられ、これらの溶媒を二種以上混合して用いても
よい。また、これらの有機溶媒とルイス酸とで形成され
る錯化合物を溶媒として使用することもできる。
In addition, it is preferable to use an organic solvent in this reaction, and examples of organic solvents that can be used include all organic solvents that are inert to the reaction, such as nitromethane, nitroethane, nitropropane, natononitroalkanes; formic acid, acetic acid, and Organic carboxylic acids such as fluoroacetic acid, dichloroacetic acid, and propionic acid; acetone, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, anisole, dimethyl celsolve; ethyl formate, diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate,
These include esters such as ethyl acetate and butyl acetate; nitriles such as acetonitrile and butyronitrile; halokenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and 2-dichloroethane; and sulfolanes such as sulfolane; You may use a mixture of two or more types. Moreover, a complex compound formed by these organic solvents and a Lewis acid can also be used as a solvent.

酸または酸の錯化合物の使用量は、一般式(XXIいの
化合物もしくはその塩類に対し等モル以上であればよく
、個々の場合に応じ適宜増減させることができる。特に
、2〜lO倍モル量の使用が好ましい。酸の錯化合物を
用いる場合には、それ自体を溶媒として用いることがで
き、二種以上の錯化合物を混合して用いてもよい。
The amount of the acid or acid complex compound to be used may be at least equimolar to the compound of the general formula (XXI) or its salt, and can be increased or decreased as appropriate depending on the individual case. When using an acid complex compound, it can be used itself as a solvent, or two or more kinds of complex compounds can be used as a mixture.

また、一般式(VI)の求核性化合物もしくはその塩類
の使用量は、一般式(XXm もしくはその塩類に対し
て等モル以上であればよいが、特に1.0〜5.0倍モ
ル量の使用が好ましい。
Further, the amount of the nucleophilic compound of the general formula (VI) or its salts may be at least equimolar to the general formula (XXm) or its salts, but is particularly 1.0 to 5.0 times the molar amount. It is preferable to use

この反応は、通常0〜80℃で行われ、数分〜数十時間
で完了する。
This reaction is usually carried out at 0 to 80°C and is completed in several minutes to several tens of hours.

この反応の系内に水分があると原料または生成物のラク
トン化およびβ−ラクタム環の開裂など好ましくない副
反応を惹起することがあるので、反応系内を無水の状態
に保つことが望ましい。この条件を満たすために、反応
系内に適当な脱水剤、たとえば、五酸化リン、ポIJ 
IJン酸、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リンな
どのリン化合物;N、O−ビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメチ
ルクロロシラン、ジメチルジクロロシランなどの有機シ
リル化剤;アセチルクロリド、p−トルエンスルホニル
クロリドなどの有機酸クロリド:無水酢酸、無水トリフ
ルオロ酢酸などの酸無水物;無水硫酸マグネシウム、無
水塩化カルシウム、モレキュラーシーブ、カルシウムカ
ーバイドなどの無機乾燥剤などを添加してもよい。
If moisture is present in the reaction system, undesirable side reactions such as lactonization of the raw material or product and cleavage of the β-lactam ring may occur, so it is desirable to maintain the reaction system in an anhydrous state. In order to satisfy this condition, a suitable dehydrating agent is added to the reaction system, such as phosphorus pentoxide, poIJ
Phosphorus compounds such as IJ acid, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, phosphorus oxychloride; Organic silylating agents such as N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane; acetyl chloride, p - Organic acid chlorides such as toluenesulfonyl chloride; acid anhydrides such as acetic anhydride and trifluoroacetic anhydride; inorganic drying agents such as anhydrous magnesium sulfate, anhydrous calcium chloride, molecular sieves, and calcium carbide, etc. may be added.

(ロ)アシル化反応 一般式(Va)または(Vb)の化合物またはそのアミ
ノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩類に、一
般式(■)、(■)、(IX)、(X)または(XI)
の化合物またはそのカルボキシル基における反応性誘導
体もしくはそれらの塩類を反応させることにより行う。
(b) Acylation reaction A compound of the general formula (Va) or (Vb) or a reactive derivative thereof at the amino group or a salt thereof is treated with the compound of the general formula (■), (■), (IX), (X) or ( XI)
The reaction is carried out by reacting a compound, a reactive derivative in its carboxyl group, or a salt thereof.

一般式(Va)、(Vb)、(■)、(■)、([X)
、(X)または(XI)の化合物の塩類としては、(イ
)の中で(XXIV)または(VI)の塩類について説
明したものと同様の塩基性基あるいは酸性塩における塩
が挙げられる。
General formula (Va), (Vb), (■), (■), ([X)
, (X) or (XI) include salts in basic groups or acidic salts similar to those explained for the salts of (XXIV) or (VI) in (a).

一般式(Va)または(Vb)の化合物のアミノ基にお
ける反応性誘導体としては、一般のアシル化反応におい
て用いられるものが用いられる。例えば、イソシアナー
ト、一般式(Va)または(Vb)の化合物またはその
塩類とビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメ
チルシリルアセトアミド、トリメチルシリルクロライド
などのシリル化合物、三塩化燐、 (CH2CH2O) 2PCβ、(CH3CH2) 2
P[1,Aなどのリン化合物または(C1H3> 35
nc lなどのスズ化合物との反応により生成するシリ
ル誘導体、リン誘導体またはスズ誘導体などが挙げられ
る。
As the reactive derivative at the amino group of the compound of general formula (Va) or (Vb), those used in general acylation reactions are used. For example, isocyanates, compounds of general formula (Va) or (Vb) or their salts, silyl compounds such as bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, trimethylsilyl chloride, phosphorus trichloride, (CH2CH2O)2PCβ, (CH3CH2)2
Phosphorus compounds such as P[1,A or (C1H3>35
Examples include silyl derivatives, phosphorus derivatives, and tin derivatives produced by reaction with tin compounds such as ncl.

一般式(■)、(■)、(IX)、(X)または(XI
)の化合物のカルボキシル基における反応性誘導体とし
ては、一般のアシル化において用いられるものが用いら
れる。例えば、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水
物、活性酸アミド、活性エステルならびに一般式(■)
、(■)、(IX)、(×)または(XI)の化合物と
、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられ
る。混合酸無水物としては、たとえば、炭酸モノエチル
エステル、炭酸モノイソブチルエステルなどの炭酸モノ
アルキルエステルとの混合酸無水物、ピバリン酸やトリ
クロロ酢酸などのハロゲンで置換されていてもよい低級
アルカン酸との混合酸無水物などが用いられる。活性酸
アミドとしては、たとえば、N−アシルサッカリン、N
−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾイルアミド、
N、N’ −ジシクロへキシル−N−アシル尿素、N−
アシルスルホンアミドなどが用いられる。つぎに、活性
エステルとしては、たとえば、シアノメチルエステル、
置換フェニルエステル、置換ベンジルエステル、置換チ
エニルエステル、ベンゾトリアゾールエステル、スフシ
イミドエステルなどが用いられる。
General formula (■), (■), (IX), (X) or (XI
) As the reactive derivative at the carboxyl group of the compound, those used in general acylation can be used. For example, acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, active acid amides, active esters, and general formula (■)
, (■), (IX), (x) or (XI) and reactive derivatives of the Vilsmeier reagent. Examples of mixed acid anhydrides include mixed acid anhydrides with carbonic acid monoalkyl esters such as carbonic acid monoethyl ester and carbonic acid monoisobutyl ester, and lower alkanoic acids which may be substituted with halogen such as pivalic acid and trichloroacetic acid. Mixed acid anhydrides and the like are used. Examples of active acid amides include N-acylsaccharin, N
-acylimidazole, N-acylbenzoylamide,
N, N'-dicyclohexyl-N-acylurea, N-
Acylsulfonamide and the like are used. Next, as the active ester, for example, cyanomethyl ester,
Substituted phenyl esters, substituted benzyl esters, substituted thienyl esters, benzotriazole esters, sufushiimide esters, and the like are used.

また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体としては、
N、N−ジメチルホルムアミド、N、  N−ジメチル
アセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニ
ノヘ三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化
リン、トリクロロメチルクロロホルメート、塩化オキザ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマ
イヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。
In addition, as a reactive derivative with Vilsmeier reagent,
Acid amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, phosgene, thioninochloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, trichloromethylchloroformate, oxalyl chloride, etc. Examples include derivatives reactive with Vilsmeier's reagent obtained by the action of a halogenating agent.

一般式(■)、(■)、(IX)  (X)または(x
l)の化合物を遊離酸または塩の状態で使用する場合は
、適当な縮合剤を用いる。このような縮合剤としては、
たとえば、N、 N’ −ジシクロへキシルカルボジイ
ミドのようなN、N’ −ジ置換カルボジイミド;N、
N’ −チオニルジイミダゾールのようなアゾライド化
合物;N−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2
−ヒドロキシキノリン、オキシ塩化燐、アルコキシアセ
チレンなどの脱水剤;2−クロロピリジニウムメチルヨ
ーシト、2フルオロピリジニウムメチルヨーシトなどの
2−ハロゲノピリジニウム塩などが用いられる。
General formula (■), (■), (IX) (X) or (x
If the compound of l) is used in the form of a free acid or salt, a suitable condensing agent is used. As such a condensing agent,
For example, N,N'-disubstituted carbodiimides, such as N,N'-dicyclohexylcarbodiimide; N,
Azolide compounds such as N'-thionyldiimidazole; N-ethoxycarbonyl-2-ethoxy-1,2
- Dehydrating agents such as hydroxyquinoline, phosphorus oxychloride, and alkoxyacetylene; 2-halogenopyridinium salts such as 2-chloropyridinium methyl iosito and 2-fluoropyridinium methyl iosito; and the like are used.

このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中、塩基の存在
または非存在下で実施される。溶媒として、たとえば、
クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素
類:ベンゼン、トルエンなどの芳香族系炭化水素類;テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類:N、
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、アセトン、水またはこれらの混合物などが使用で
きる。また、塩基としては、水酸化アルカリ、炭酸水素
アルカリ、炭酸アルカリまたは酢酸アルカリなどの無機
塩基;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジン、N−メチ
ルモルホリン、ルチジン、コリジン、4−ジメチルアミ
ノピリジンなどの第3級アミンあるいはジシクロヘキシ
ルアミン、ジエチルアミンなどの第2級アミンなどの有
機塩基が挙げられる。
This acylation reaction is generally carried out in a suitable solvent in the presence or absence of a base. As a solvent, e.g.
Halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; Aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane: N,
N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, acetone, water, or mixtures thereof can be used. In addition, as a base, inorganic bases such as alkali hydroxide, alkali hydrogen carbonate, alkali carbonate or alkali acetate; trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, lutidine, collidine, 4-dimethyl Examples include organic bases such as tertiary amines such as aminopyridine and secondary amines such as dicyclohexylamine and diethylamine.

反応温度は特に限定されないが通常−78℃〜60℃、
好ましくは一50℃〜30℃で行われ、反応は通常数分
〜数十時間で完了する。
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually -78°C to 60°C,
The reaction is preferably carried out at -50°C to 30°C, and the reaction is usually completed in several minutes to several tens of hours.

(ハ)アルキル化反応 ■ −数式(■) 、(XIX)、(XX)、(XXI
II)、または(XXVI)の化合物に一般式(HV)
の化合物を塩基の存在下に反応させることにより行う。
(c) Alkylation reaction ■ - Formula (■), (XIX), (XX), (XXI
II) or (XXVI) with general formula (HV)
This is carried out by reacting a compound of 1 in the presence of a base.

溶媒としては、本反応を阻害しない限りいかなるもので
もよく、たとえば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
メタノール、エタノール、クロロホルム、塩化メチレン
、酢酸エチル、酢酸ブチル、NN−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフオ
キシド、水など、またはこれらの混合物などが用いられ
る。用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、トリ
エチルアミン、ピリジン、N、N−ジメチルアニリンな
どの第3級アミンあるいはジシクロヘキシルアミン、ジ
エチルアミンナトの第2級アミンなどの有機塩があげら
れる。
Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane,
Methanol, ethanol, chloroform, methylene chloride, ethyl acetate, butyl acetate, NN-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, water, etc., or mixtures thereof, etc. are used. Examples of bases used include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and tertiary bases such as triethylamine, pyridine, and N,N-dimethylaniline. Examples include organic salts such as amines or secondary amines such as dicyclohexylamine and diethylamine.

反応は一般に一30℃〜100℃で行われ、数分から数
十時間で完了する。
The reaction is generally carried out at -30°C to 100°C and is completed in several minutes to several tens of hours.

■ −数式(Xll)、(XIX)、(XX)、(XX
III)または(XX〜i)の化合物と一般式(Xll
l)の化合物とを、一般に用いられる脱水反応を施すこ
とにより行う。
■ - Formula (Xll), (XIX), (XX), (XX
III) or (XX~i) and the compound of general formula (Xll
1) by subjecting it to a commonly used dehydration reaction.

脱水反応に用いる試薬としては例えばトリ置換ホスフィ
ンとアゾジカルボン酸エステルを挙げることができる。
Examples of reagents used in the dehydration reaction include tri-substituted phosphine and azodicarboxylic acid ester.

用いられるトリ置換ホスフィンとしては例えば、トリフ
ェニルホスフィンなどのトリ了リールホスフィン、トリ
フエノキシホスフィンなどのトリアリールオキシホスフ
ィン、トリエトキシホスフィンなどのトリアルコキシホ
スフィン、またはトリエチルホスフィンなどのトリアル
キルホスフィンが挙げられる。用いられるアゾジカルボ
ン酸エステルとしては、アゾジカルボン酸ジエチル、ア
ゾジカルボン酸ジイソプロピルなどが挙げられる。
Examples of the trisubstituted phosphine used include triarylphosphines such as triphenylphosphine, triaryloxyphosphine such as triphenoxyphosphine, trialkoxyphosphine such as triethoxyphosphine, or trialkylphosphine such as triethylphosphine. . Examples of the azodicarboxylic acid esters used include diethyl azodicarboxylate and diisopropyl azodicarboxylate.

溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ンなど芳香族系溶媒、ヘキサメチルホスフォリックトリ
アミドなど、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the solvent include ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, and diethyl ether, aromatic solvents such as benzene and toluene, hexamethylphosphoric triamide, and mixtures thereof.

一般式(Xll)、(XIX)、(XX)、(XXII
[) 、1りは(XXVI)の化合物に対し、−数式(
Xlll)の化合物は0.5〜2倍モル、好ましくは0
,8〜1.2倍モル、トリ置換ホスフィンは1〜3倍モ
ル、好ましくは1〜1.5倍モル、アゾジカルボン酸エ
ステルは1〜3倍モル、好ましくは1〜1.5倍モル用
いられる。
General formula (Xll), (XIX), (XX), (XXII
[), 1 is for the compound of (XXVI) - formula (
The compound of
, 8 to 1.2 times the mole, trisubstituted phosphine is used 1 to 3 times the mole, preferably 1 to 1.5 times the mole, and azodicarboxylic acid ester is used 1 to 3 times the mole, preferably 1 to 1.5 times the mole. It will be done.

反応温度は一50℃〜80℃、好ましくは30℃〜30
℃である。反応は1〜数十時間で完了する。
The reaction temperature is -50°C to 80°C, preferably 30°C to 30°C.
It is ℃. The reaction is completed in 1 to several tens of hours.

(ニ)閉環反応 一般式、(Xll) (XV)、(XX)またハ(XX
I)ノ化合物もしくはその塩類に、−数式(XVII)
の化合物を反応させることにより行う。
(d) General formula for ring-closing reaction, (Xll) (XV), (XX) and (XX
I) the compound or its salt, - formula (XVII)
This is done by reacting the following compounds.

この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、本
反応を阻害しない限りいかなるものでもよいが、たとえ
ば、水、メタノール、エタノール、アセトン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、N。
This reaction is usually carried out in a solvent. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, and examples thereof include water, methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, and N.

N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、N−メチルピリドンなど、またはこれら二種以上
の混合溶媒が用いられる。脱酸剤の添加は、特に必要と
しないが、セファロスポリン骨格に変化を与えない範囲
の量の脱酸剤を添加すると円滑に反応が進行することも
ある。この反応に用いられる脱酸剤としては、水酸化ア
ルカリ金属塩、炭酸水素アルカリ金属塩、トリエチルア
ミン、ピリジン、N、  N−ジメチルアニリンなどの
無機または有機塩基が挙げられる。
N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyridone, or a mixed solvent of two or more of these is used. Although it is not particularly necessary to add a deoxidizing agent, the reaction may proceed smoothly if the deoxidizing agent is added in an amount within a range that does not change the cephalosporin skeleton. Examples of deoxidizers used in this reaction include inorganic or organic bases such as alkali metal hydroxides, alkali metal hydrogencarbonates, triethylamine, pyridine, and N,N-dimethylaniline.

反応は一般に0〜100℃の範囲で行われる。The reaction is generally carried out at a temperature in the range of 0 to 100°C.

通常、一般式(Xll)、(XV)、(XX)まりL!
(XXI)の化合物、もしくはその塩類に対し、1〜数
倍モルの(XVII)が用いられる。反応時間は通常、
1〜数十時間、好ましくは1〜10時間である。
Usually, the general formula (Xll), (XV), (XX) MariL!
(XVII) is used in an amount of one to several times the mole of the compound (XXI) or its salt. The reaction time is usually
The time is from 1 to several tens of hours, preferably from 1 to 10 hours.

(ホ)オキシム化反応 一般式、(X)、(XV[)まタハ(×xII)ノ化合
物またはその塩類に、一般式(XVIII)の化合物ま
たはその塩類を反応させることによって行う。
(e) Oxime formation reaction The reaction is carried out by reacting a compound of general formula (X), (XV[), or (xxII) or a salt thereof with a compound of general formula (XVIII) or a salt thereof.

一般式(XVIII)の化合物の塩類としては、例えば
塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが挙げられる。そし
て、この反応は、通常、水、アルコールなどの溶媒のほ
かに、反応に不活性な溶媒、またはこれらの混合溶媒中
で行われ、反応は通常、0〜100℃、好ましくは10
〜50℃の範囲で行われ、10分〜48時間で完了する
Examples of the salts of the compound of general formula (XVIII) include hydrochloride, hydrobromide, and sulfate. This reaction is usually carried out in a solvent such as water or alcohol, a solvent inert to the reaction, or a mixed solvent thereof, and the reaction is usually carried out at a temperature of 0 to 100°C, preferably 10°C.
It is carried out at a temperature of ~50°C and is completed in 10 minutes to 48 hours.

一般式(X)、(XVI)まタハ(XX I I) ノ
化合物またはその塩類に対して、1〜数倍モルの一般式
(XVIII)の化合物が用いられる。
The compound of general formula (XVIII) is used in an amount of 1 to several times the molar amount of the compound of general formula (X), (XVI) or its salt.

(へ)脱フタロイル反応 一般式(XXIX)の化合物の脱フタロイル反応は、通
常の脱フタロイル反応、例えば抱水ヒドラジン、N−メ
チルヒドラジンなどのヒドラジンを用いて行われる。
(f) Defthaloyl reaction The dephthaloyl reaction of the compound of general formula (XXIX) is carried out using a conventional dephthaloyl reaction, for example, using hydrazine such as hydrazine hydrate or N-methylhydrazine.

溶媒は用いなくてもよいが、通常溶媒としてメタノール
、エタノール、塩化メチレンなどが用いられ、反応は通
常0〜100℃の範囲で行われ、数分〜数日で完了する
Although it is not necessary to use a solvent, methanol, ethanol, methylene chloride, etc. are usually used as the solvent, and the reaction is usually carried out at a temperature of 0 to 100°C and is completed in a few minutes to several days.

以上のようにして合成された本発明の誘導体の単離は、
それ自体公知の単離手段(抽出法、カラムクロマトグラ
フィー法、再結晶法等)を適宜利用して行うとよい。
Isolation of the derivative of the present invention synthesized as described above is as follows:
This may be carried out by appropriately utilizing isolation methods known per se (extraction method, column chromatography method, recrystallization method, etc.).

さらに本発明の一部の誘導体には光学異性体が存在する
が、この場合には、それらの各異性体及びそれらの混合
物も本発明に含まれる。本発明化合物が標記の化学構造
を有することは、元素分析、赤外吸収スペクトル、核磁
気共鳴スペクトル、質量分析等によって確認された。
Further, some of the derivatives of the present invention have optical isomers, and in this case, each of these isomers and mixtures thereof are also included in the present invention. It was confirmed by elemental analysis, infrared absorption spectrum, nuclear magnetic resonance spectrum, mass spectrometry, etc. that the compound of the present invention has the chemical structure described above.

以上のようにして得られた一般式(1)の化合物または
その塩類は、遊離の形、非毒性塩、及び生体内でそれら
に変換され得る化合物の形で人および動物に投与するこ
とができる。その場合、通常セファロスポリン系薬剤に
適用されている列形に調製すればよく、例えば錠剤、カ
プセル剤、散剤、顆粒剤、丸刑などの固形剤形、または
例えば溶液、懸濁液、エマルジョンなどの液体列形が挙
げられる。上記の製剤を調製する際、必要に応じ、例え
ばデンプン、乳糖、グルコース、リン酸カルシウムなど
の賦形剤、デンプン、結晶セルロース、カルボキシメチ
ルセルロースなどの結合剤、タルク、ステアリン酸マグ
ネシウムなどの潤沢剤、および崩壊剤、希釈剤、添加剤
などを用いてもよい。
The compound of general formula (1) or its salts obtained as described above can be administered to humans and animals in the form of free forms, non-toxic salts, and compounds that can be converted into these in vivo. . In that case, it may be prepared in the form usually applied to cephalosporin drugs, such as solid dosage forms such as tablets, capsules, powders, granules, and pills, or solutions, suspensions, and emulsions. Examples of liquid column types include: When preparing the above formulations, if necessary, excipients such as starch, lactose, glucose, calcium phosphate, binders such as starch, microcrystalline cellulose, carboxymethyl cellulose, lubricants such as talc, magnesium stearate, and disintegrating Agents, diluents, additives, etc. may also be used.

投与は経口的にも非経口的にも投与することができる。Administration can be carried out either orally or parenterally.

非経口的投与としては例えば静脈内投与、筋肉的投与、
皮下投与または半割が挙げられる。
Examples of parenteral administration include intravenous administration, intramuscular administration,
Examples include subcutaneous administration or halving.

投与量は投与対象者の年令、性別、体重あるいは症状な
どによって変動するが、通常成人1人当り、1日約50
〜5000mgを1〜4回に分けて投与すればよい。
The dosage varies depending on the age, sex, weight, symptoms, etc. of the subject, but it is usually about 50 mg per adult per day.
~5000 mg may be administered in 1 to 4 divided doses.

次に実施例により本発明を説明する。Next, the present invention will be explained with reference to examples.

〔実施例〕〔Example〕

参考例1 没食子酸(340mg、2.0 mmole)および、
メトキシエトキシメチルクロライド(2,2m+j!、
19.3mmo le)のTHF溶液(8mn)に0℃
で撹拌しながらジイソプロピルエチルアミン(2,8+
nj!、16、1 mmole)を滴下した。室温で6
時間撹拌したのち、水、および酢酸エチルで希釈した。
Reference Example 1 Gallic acid (340 mg, 2.0 mmole) and
Methoxyethoxymethyl chloride (2,2m+j!,
19.3 mmole) in THF solution (8 mn) at 0°C.
Diisopropylethylamine (2,8+
nj! , 16, 1 mmole) was added dropwise. 6 at room temperature
After stirring for an hour, the mixture was diluted with water and ethyl acetate.

酢酸エチルで2回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し
たのち無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
して得られた残留物を、THF (15mβ)に溶かし
、アルゴン下、0℃で撹拌しながら、LM  LAHエ
ーテル溶液(6mj!、6mmole)を滴下した。1
時間撹拌し、水、酢酸エチルで希釈した。反応液をろ過
し、酢酸エチルで2回抽出し、その有機層を減圧濃縮し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(Si20
10 g−酢酸エチル)により精製し標題化合物を無色
油状物質として809mg(収率96%)得た。
Extracted twice with ethyl acetate, the organic layer was washed with saturated brine and dried over anhydrous sodium sulfate. The residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure was dissolved in THF (15 mβ), and LM LAH ether solution (6 mj!, 6 mmole) was added dropwise while stirring at 0°C under argon. 1
Stir for an hour, dilute with water and ethyl acetate. The reaction solution was filtered, extracted twice with ethyl acetate, and the organic layer was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography (Si20
10 g of ethyl acetate) to obtain 809 mg (yield: 96%) of the title compound as a colorless oil.

NMR:  δ1.6−1.7(LH,br )、 3
.36(3)1. s )。
NMR: δ1.6-1.7 (LH,br), 3
.. 36(3)1. s).

3.38(6H,s )、 3.56(6)1. m 
)、 3゜82(4H1m )。
3.38(6H,s), 3.56(6)1. m
), 3°82 (4H1m).

3.98(2H,m)、 4.58(2H,s)、 5
.19(2H,s)。
3.98 (2H, m), 4.58 (2H, s), 5
.. 19 (2H, s).

5.27(4H,s )、 6.90(IH,s )M
S : 420(M”) 参考例2 7 イ:/ (94mg、 0.36mmole)およ
びN−ヒドロキシフタルイミド(60,5mg、0.3
6 mmole)を加え10分撹拌したのち一20℃で
ジエチルアゾジカルボン酸を3分間で滴下した。同温度
で30分間撹拌したのち30分かけて室温へと戻し、反
応液をろ過し、濾液を減圧濃縮した。残留物を、ローパ
ーカラム(メルク社製、5160.5ize A。
5.27 (4H,s), 6.90 (IH,s)M
S: 420 (M”) Reference Example 2 7 I:/ (94 mg, 0.36 mmole) and N-hydroxyphthalimide (60.5 mg, 0.3
After stirring for 10 minutes, diethyl azodicarboxylic acid was added dropwise over 3 minutes at -20°C. After stirring at the same temperature for 30 minutes, the mixture was returned to room temperature over 30 minutes, the reaction solution was filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was collected using a Roper column (manufactured by Merck & Co., Ltd., 5160.5ize A).

Hexane: Ac0Et= 3 : 1−1 : 
1−+1 : 2−+Ac0Etonly)で精製し、
標題化合物184mgを無色油状物として得た。
Hexane: Ac0Et=3:1-1:
1-+1: 2-+Ac0Etonly),
184 mg of the title compound was obtained as a colorless oil.

NMR:  δ3.36(3H,s )、 3.38(
6H,s )、 3.55(6H,m )、 3.8H
4H,m )、 3.96(2H,m )。
NMR: δ3.36(3H,s), 3.38(
6H,s), 3.55(6H,m), 3.8H
4H,m), 3.96 (2H,m).

5.12(2日、 s ) 5.20(2tl、 s 
)、 5.28(4H,s )。
5.12 (2 days, s) 5.20 (2tl, s
), 5.28 (4H,s).

7.06(2)1. s )、 7.73(2H,m 
)、 7.lH(2)(、m )MS : 565(M
”) 参考例3 参考例1の化合物(126mg、0.30 mole)
のTHF溶液(3+y+j7)に室温でトリフェニルホ
ス参考例2の化合物(171mg、0.30 mmol
e)の塩化メチレン溶液(3mjlりに室温でヒドラジ
ン水和物(35μβ、0.72 mole)を加え、1
時間撹拌した。反応液に水を加え、塩化メチレン層を水
で2回洗浄し、無水硫酸す) IJウムで脱水したのち
溶媒を減圧留去し標題化合物130mg(収率100%
)を無色油状物として得た。
7.06(2)1. s ), 7.73 (2H, m
), 7. lH(2)(,m)MS: 565(M
”) Reference Example 3 Compound of Reference Example 1 (126 mg, 0.30 mole)
The compound of triphenylphos Reference Example 2 (171 mg, 0.30 mmol) was added to a THF solution (3+y+j7) at room temperature.
Hydrazine hydrate (35 μβ, 0.72 mole) was added to 3 mjl of the methylene chloride solution (e) at room temperature, and 1
Stir for hours. Water was added to the reaction solution, the methylene chloride layer was washed twice with water, and then dried with anhydrous sulfuric acid. After dehydration with IJium, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 130 mg of the title compound (yield 100%).
) was obtained as a colorless oil.

NMR:  δ3.38(9)1. s )、 3.5
7(6H,m )、 3.82(4H,m )、 3.
98(2H,m )、 4.60(2H,s )。
NMR: δ3.38(9)1. s), 3.5
7 (6H, m ), 3.82 (4H, m ), 3.
98 (2H, m), 4.60 (2H, s).

5.20(2H,s )、 5.28(4H,s )、
 5.’42(1)1. br、s)。
5.20 (2H,s), 5.28 (4H,s),
5. '42 (1) 1. br, s).

6.90(2H,s ) 実施例1 参考伊13の化合物(65mg、0.15 mmole
)のメタノール溶液(1mA)に(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−グリオキシル酸(26mg、0.15mm
ole)を加え、室温で1時間撹拌したのち、反応液を
ろ過した。この濾液を濃縮し標題化合物85mg (収
率97%)を無色油状物質として得た。
6.90 (2H,s) Example 1 Compound of Reference I13 (65 mg, 0.15 mmole
) in methanol solution (1 mA) of (2-amino-4-thiazolyl)-glyoxylic acid (26 mg, 0.15 mm
After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction solution was filtered. The filtrate was concentrated to obtain 85 mg (yield 97%) of the title compound as a colorless oil.

NMR: δ3.28(9H,m )、 3.57(6
日、 m )、 3.81(4H,m )、  3.9
8(2H,m )、  5.10(2H,s )。
NMR: δ3.28 (9H, m), 3.57 (6
day, m), 3.81 (4H, m), 3.9
8 (2H, m), 5.10 (2H, s).

5.18(2H,m >、  5.24(4H,m )
、  6.80(IH,s )。
5.18 (2H, m >, 5.24 (4H, m )
, 6.80 (IH,s).

6.90(2N、  s ) 実施例2 参考例3の化合物(28mg、0.06 mmole)
のメタノール溶液(1+r+jりに(2−トリチルアミ
ノ4−チアゾリル)−グリオキシル酸(27mg。
6.90 (2N, s) Example 2 Compound of Reference Example 3 (28 mg, 0.06 mmole)
methanol solution (1+r+j) of (2-tritylamino-4-thiazolyl)-glyoxylic acid (27 mg).

0、06 mmole)を加え、室温で30分間撹拌し
たのち、反応液を酢酸エチルを加え5%クエン酸水溶液
、飽和食塩水で順次洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで
脱水し溶媒を減圧留去し標題化合物52mg (収率9
8%)を無色油状物質として得た。
After stirring at room temperature for 30 minutes, the reaction mixture was added with ethyl acetate and washed successively with a 5% aqueous citric acid solution and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Compound 52 mg (yield 9
8%) was obtained as a colorless oil.

NMR: δ3.3B(3H,s )、 3.39(6
H,s )、 3.543.61(6H,m )、 3
.79−3.82(4)1. m )、 3.96(2
H。
NMR: δ3.3B(3H,s), 3.39(6
H,s), 3.543.61(6H,m), 3
.. 79-3.82 (4) 1. m ), 3.96 (2
H.

m ) 5.18(21(、s )、 5.20(2)
1. s )、 5.22(4H。
m) 5.18(21(,s), 5.20(2)
1. s), 5.22 (4H.

s )、 6.62(it(、s )、 6.96(2
H,s )、 7.24−7.32(15H,m ) 実施例3 メチル 実施例1の化合物(80mg、0.14 mmole)
の塩化メチレン溶液(2mりに水冷下、7β−アミノ−
3−[[2−(ジフェニルメトキシカルボニル)−5−
メチル[1,2,4] )リアゾロ〔1゜5−a〕ピリ
ミジン−7−イル]チオメチル〕3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチル(純度88%、116mg、
0.14 mmole)、DCC(34mg、 0.1
6 mmole)、メタンスルホン酸(8,8μi、0
.16 mmole)を加え、室温で1時間撹拌した。
s ), 6.62(it(,s), 6.96(2
H,s), 7.24-7.32 (15H,m) Example 3 Methyl Compound of Example 1 (80 mg, 0.14 mmole)
methylene chloride solution (7β-amino-
3-[[2-(diphenylmethoxycarbonyl)-5-
Diphenylmethyl methyl[1,2,4])riazolo[1゜5-a]pyrimidin-7-yl]thiomethyl]3-cephem-4-carboxylate (purity 88%, 116 mg,
0.14 mmole), DCC (34 mg, 0.1
6 mmole), methanesulfonic acid (8.8 μi, 0
.. 16 mmole) and stirred at room temperature for 1 hour.

生じた不溶物(ジシクロへキシルウレア)を濾過し、濾
液を酢酸エチルで希釈し、5%クエン酸水溶液、5%炭
酸水素す) IJウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し
、無水硫酸す) IJウムて脱水後、溶媒を減圧留去し
た。生じた残留物を、ローバーカラム(メルク社製、5
i60.5ize A、 [fl[J 3only−C
H[l:A 3: !、1eOfl= 20 : 1 
)で精製し、標題化合物128mg(収率71%)を赤
褐色固体として得た。
The resulting insoluble matter (dicyclohexylurea) was filtered, and the filtrate was diluted with ethyl acetate, washed with a 5% aqueous citric acid solution and 5% hydrogen carbonate, washed sequentially with an aqueous solution of IJ and saturated saline, and dissolved with anhydrous sulfuric acid. After dehydration, the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting residue was transferred to a Rover column (manufactured by Merck & Co., Ltd., 5
i60.5ize A, [fl[J 3only-C
H[l:A 3: ! , 1eOfl=20:1
) to obtain 128 mg (yield 71%) of the title compound as a reddish brown solid.

NMR: δ252(3H,s )、 3.24(6H
,s )、 3.30(3H,’ s )、 3.42
−3.52(6H,m )、 3.84−3.88(4
日。
NMR: δ252(3H,s), 3.24(6H
, s ), 3.30 (3H,' s ), 3.42
-3.52 (6H, m), 3.84-3.88 (4
Day.

m ) 3.92−3.96(2H,m )、 4.2
8(IH,ABq )。
m) 3.92-3.96 (2H, m), 4.2
8 (IH, ABq).

4.31(LH,ABq )、 5.08(1)1. 
d )、 5.15−5.20(48m )、 5,2
2(4)1. s )、 5.62(2H,m )、 
5.94(LH。
4.31 (LH,ABq), 5.08(1)1.
d), 5.15-5.20 (48m), 5,2
2(4)1. s ), 5.62 (2H, m ),
5.94 (LH.

dd )、 6.78(LH,s >、 6.88(L
H,s )、 6.90(IH6)、 6.92(IH
,s )、 7.20−7.42(16H,m )。
dd ), 6.78(LH,s >, 6.88(L
H,s), 6.90 (IH6), 6.92 (IH
,s), 7.20-7.42 (16H,m).

7.48−7.52(4H,m ) MS(FAB): 1326(MH”)[R(KBr)
: 1790.1740 cm実施例4 7β[(Z)−2−(2−)リチルアミノチアゾールー
4−イル)−2−(3,4,5−)リメトキシエトキシ
メトキシベンジルオキシイミノ)実施例2の化合物(5
3mg、0.06 mmole)の塩化メチレン溶液(
1mi )に氷冷下7−β−アミノ−3−[(1−メチ
ルテトラゾール−5−イル)チオメチル〕−3−セフェ
ムー4−カルボン酸ジフェニルメチル(32mg、 0
.06 +u+ole)、DCC(16mg、0.08
 mmole)を加え、室温で終夜撹拌した。生じた不
溶物(ジシクロへキシルウレア)を濾過し、濾液を酢酸
エチルで希釈し、5%クエン酸水溶液、5%炭酸水素す
) IJウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸す) IJウムで脱水後、溶媒を減圧留去した。生じ
た残留物を、ローパーカラム(メルク社製5160.5
ize A、 Hexane:Ac0Et=3 : 1
−1 : 1)で精製し標題化合物44mg(収率52
.8%)を赤褐色固体として得た。
7.48-7.52 (4H, m) MS (FAB): 1326 (MH”) [R (KBr)
: 1790.1740 cm Example 4 7β[(Z)-2-(2-)Ritylaminothiazol-4-yl)-2-(3,4,5-)rimethoxyethoxymethoxybenzyloxyimino) Example 2 Compound (5
3 mg, 0.06 mmole) in methylene chloride solution (
Diphenylmethyl 7-β-amino-3-[(1-methyltetrazol-5-yl)thiomethyl]-3-cephemu-4-carboxylate (32 mg, 0
.. 06 +u+ole), DCC (16mg, 0.08
mmole) and stirred at room temperature overnight. The resulting insoluble matter (dicyclohexylurea) was filtered, and the filtrate was diluted with ethyl acetate, washed with a 5% aqueous citric acid solution and 5% hydrogen carbonate, washed sequentially with an aqueous solution of IJ and saturated saline, and dissolved with anhydrous sulfuric acid. The solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting residue was collected using a Roper column (Merck 5160.5).
ize A, Hexane:Ac0Et=3:1
-1:1) to give the title compound 44 mg (yield: 52
.. 8%) was obtained as a reddish-brown solid.

NMR: δ3.22(6H,s )、 3.38(3
)1. s )、 3.463.50(4H,m )、
 3.52−3.56(2H,m )、 3.64(2
H。
NMR: δ3.22 (6H,s), 3.38 (3
)1. s ), 3.463.50 (4H, m ),
3.52-3.56 (2H, m), 3.64 (2
H.

d )  3.74−3.78(4H,m )、  3
.82(3H,s )、  3.94−3y98(2H
,m )、’ 4.22(1)1.  ABq )、 
 4.40(1tlABq )、  5.02(LH,
d )、  5.16(2H,s )、  5.22(
4H,s )、  5.94(IH,dd )、  6
.74(LH,s )。
d) 3.74-3.78 (4H, m), 3
.. 82(3H,s), 3.94-3y98(2H
,m),' 4.22(1)1. ABq),
4.40 (1tlABq), 5.02 (LH,
d), 5.16(2H,s), 5.22(
4H,s), 5.94(IH,dd), 6
.. 74 (LH,s).

6.88(2H,s >、  6.92(18,s )
、  7.22−7.36(231(。
6.88 (2H, s >, 6.92 (18, s )
, 7.22-7.36 (231(.

m )、  7.40−7.44(2H,m )MS(
FAB):  13080.IH”)IR(CHCβ3
) 1790. 1720cm実施例5 実施例1の化合物(44mg、0.08 mmole)
の塩化メチレン溶液(1mj2)に水冷下3−アセトキ
シメチルメチル−7−β−了ミノー3−セフェム=4−
カルボン酸ジフェニルメチル(33mg。
m), 7.40-7.44 (2H, m) MS (
FAB): 13080. IH”)IR(CHCβ3
) 1790. 1720cm Example 5 Compound of Example 1 (44 mg, 0.08 mmole)
3-acetoxymethylmethyl-7-β-reduced minnow 3-cephem = 4- in methylene chloride solution (1mj2) under water cooling.
Diphenylmethyl carboxylate (33 mg.

0、08 mmole)、DCC(19mg、0.09
 mmole)、メタンスルホン酸(4,9μn、0.
09 mmole)を加え、室温で1時間撹拌した。生
じた不溶物(ジシクロへキシルウレア)を濾過し、濾液
を酢酸エチルで希釈し、5%クエン酸水溶液、5%炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで脱水後、溶媒を減圧留去した。
0.08 mmole), DCC (19 mg, 0.09
mmole), methanesulfonic acid (4.9 μn, 0.
09 mmole) and stirred at room temperature for 1 hour. The resulting insoluble matter (dicyclohexylurea) was filtered, the filtrate was diluted with ethyl acetate, washed successively with 5% citric acid aqueous solution, 5% sodium bicarbonate aqueous solution, and saturated saline, and after dehydration with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure.

生じた残留物を、ローバーカラム(メルク社製、5i6
0 、 s+ze  A、  Hexane=AcOE
t  :  3  :  1 →1  :  1−+ 
1 : 2−+Ac0Et only)で精製し、標題
化合物52mg(収率69.3%)を赤褐色固体として
得た。
The resulting residue was collected using a Rover column (manufactured by Merck & Co., Ltd., 5i6
0, s+ze A, Hexane=AcOE
t: 3: 1 → 1: 1-+
1:2-+Ac0Et only) to obtain 52 mg (yield 69.3%) of the title compound as a reddish-brown solid.

NMR: δ2.07(3H,s )、 3.26(6
H,s )、 3.36(3H,s )、 3.44−
3.50(4ft、 m )、 3.52−3.58(
2H。
NMR: δ2.07 (3H,s), 3.26 (6
H,s), 3.36(3H,s), 3.44-
3.50 (4ft, m), 3.52-3.58 (
2H.

m )、 3.74−3.79(4H,m )、 3.
95−3.99(2H,m )。
m), 3.74-3.79 (4H, m), 3.
95-3.99 (2H, m).

4.79(IH,ABq )、 5.00(IH,AB
q )、 5.06(LH。
4.79 (IH, ABq ), 5.00 (IH, AB
q), 5.06 (LH.

d )、 5.18−5.21(4H,m )、 5.
22(4H,s )、 5.50(2H,br、s )
、 5.96(LH,dd )、 6.92(3H,m
 )。
d), 5.18-5.21 (4H, m), 5.
22 (4H, s), 5.50 (2H, br, s)
, 5.96 (LH, dd ), 6.92 (3H, m
).

6.97(LH,s )、 7.28−7.40(8H
,m )、 7.42−7.46(2H,m ) MS(FAB): 1010(MH−)IRlolo(
: 1790 1730 cm実施例6 実施例3の化合物(44mg、0.03 mmole)
に氷冷下、アニソール(72μA、0.66 mmol
e)、トドリフルオロ酢酸(307μf、3.98 m
mole)を加え、室温で2時間撹拌した。これを減圧
濃縮したのち、イソプロピルエーテルを加え、生じた粉
末を濾取し、減圧乾燥した。得られた粗生成物に水(約
0.5m1)を加え、水冷下、lNNa叶水溶液で、p
H7に調整し、溶液とした。これを三菱化成製吸着樹脂
ダイヤイオンHP−20カラムクロマトグラフイー(樹
脂量40m1.10mβ/3m1n/ 1 fr、)に
付し、水、10%メタノール水溶液にて順次溶出し、3
00nmにUV吸収のある画分を集め、濃縮、凍結乾燥
することにより、標題化合物10.7mg(収率40 して得た。
6.97 (LH,s), 7.28-7.40 (8H
, m), 7.42-7.46 (2H, m) MS (FAB): 1010 (MH-)IRlolo (
: 1790 1730 cm Example 6 Compound of Example 3 (44 mg, 0.03 mmole)
Anisole (72 μA, 0.66 mmol) was added under ice cooling.
e), Todorifluoroacetic acid (307 μf, 3.98 m
mole) and stirred at room temperature for 2 hours. After concentrating this under reduced pressure, isopropyl ether was added, and the resulting powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. Water (approximately 0.5 ml) was added to the obtained crude product, and p
The temperature was adjusted to H7 and a solution was obtained. This was subjected to Mitsubishi Kasei's adsorption resin Diaion HP-20 column chromatography (resin amount 40 ml 1.10 mβ/3 ml n/1 fr), sequentially eluted with water and a 10% methanol aqueous solution, and 3
Fractions with UV absorption at 00 nm were collected, concentrated, and lyophilized to obtain 10.7 mg of the title compound (yield: 40 nm).

N!JR(020) : δ2.63(3H,s )。N! JR (020): δ2.63 (3H, s).

3.63(Ift、 ABq )、 4.16(IH。3.63 (Ift, ABq), 4.16 (IH.

ABq >、 5.00−5.10(3H,m )。ABq>, 5.00-5.10 (3H, m).

6.94(2H,s )、 7.17(LH,sん!5
(FAB): 774(λ)Ho)IR(KBr): 
1760 cm 実施例7 1%)を白色固体と 3.32(1)1.ABq )。
6.94(2H,s), 7.17(LH,s!5
(FAB): 774(λ)Ho)IR(KBr):
1760 cm Example 7 1%) with a white solid and 3.32(1)1. ABq).

ABq )、  4.49(IH。ABq), 4.49 (IH.

5.71(LH,d ) 実施例4の化合物(44mg、0.03 mmole)
に氷冷下、アニソール(73μA’、 0.67mmo
le)、トリフルオロ酢酸(311μ!、4.04 m
mole)を加え、水冷下30分、室温で1.5時間撹
拌した。これを減圧濃縮したのち、イソプロピルエーテ
ルを加え、生じた粉末を濾取し、減圧乾燥した。得られ
た粗生成物に水(約0.5m1)を加え、水冷下、lN
Na叶水溶液で、pH7に調整し、溶液とした。
5.71(LH,d) Compound of Example 4 (44 mg, 0.03 mmole)
Anisole (73 μA', 0.67 mmo) was added under ice cooling.
le), trifluoroacetic acid (311 μ!, 4.04 m
mole) was added thereto, and the mixture was stirred for 30 minutes under water cooling and for 1.5 hours at room temperature. After concentrating this under reduced pressure, isopropyl ether was added, and the resulting powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. Water (approximately 0.5 ml) was added to the obtained crude product, and the mixture was heated to 1N under water cooling.
The pH was adjusted to 7 with a Na leaf aqueous solution to form a solution.

これを三菱化成製吸着樹脂ダイヤイオンHP20カラム
クロマトグラフィー(樹脂量40m1.10 ml! 
/ 3 min/ 1 fr、)に付し、水、20%メ
タノール水溶液、50%メタノール水溶液にて順次溶出
し、:300nmにUV吸収のある画分を集約、濃縮、
凍結乾燥することにより、標題化合物14.9mg (
収率67.7%)を白色固体として得た。
This was applied to Mitsubishi Kasei's adsorption resin Diaion HP20 column chromatography (resin amount 40ml, 1.10ml!
/ 3 min/ 1 fr,) and sequentially eluted with water, 20% methanol aqueous solution, and 50% methanol aqueous solution, and collected and concentrated fractions with UV absorption at 300 nm.
By freeze-drying, 14.9 mg of the title compound (
Yield: 67.7%) was obtained as a white solid.

NMR(020) : δ3.35(LH,ABq >
、 3.68(IH,ABq )。
NMR (020): δ3.35 (LH, ABq >
, 3.68 (IH,ABq).

4.00−4.08(4H,m )、 4.30(LH
,ABq )、 5.045.10(3H,m )、 
5.70(LH,d )、 6.60(2H,s)。
4.00-4.08 (4H, m), 4.30 (LH
,ABq), 5.045.10(3H,m),
5.70 (LH, d), 6.60 (2H, s).

7.00(LH,s ) MS(FAB): 658(MH”) IR(KBr): 1760 cm 実施例8 実施例5の化合物(50mg、0.05 mmole)
に水冷下、アニソール(108uL 1.00mmol
e)、トリフルオロ酢酸(463μA、6. OOmm
ole)を加え、室温で2時間撹拌した。これを減圧濃
縮したのち、イソプロピルエーテルを加え、生じた粉末
を濾取し、減圧乾燥した。得られた粗生成物に水(約0
.5+y+A>を加え、水冷下、lNNa叶水溶液で、
pH7に調整し、溶液とした。これを三菱化成製吸着樹
脂ダイヤイオンHP−20カラムクロマト□グラフイー
(樹脂量40m+j!、10mβ/3m1n/ 1 f
r、)に付し、水、20%メタノール水溶液、50%メ
タノール水溶液にて順次溶出し、300nmにUV吸収
のある両分を集め、濃縮、凍結乾燥することにより、標
題化合物19.3mg(収率64.8%)を白色固体と
して得た。
7.00 (LH,s) MS (FAB): 658 (MH”) IR (KBr): 1760 cm Example 8 Compound of Example 5 (50 mg, 0.05 mmole)
under water cooling, anisole (108uL 1.00mmol
e), trifluoroacetic acid (463μA, 6.OOmm
ole) and stirred at room temperature for 2 hours. After concentrating this under reduced pressure, isopropyl ether was added, and the resulting powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. The obtained crude product was added with water (approximately 0
.. 5+y+A>, and with lNNa leaf aqueous solution under water cooling,
The pH was adjusted to 7 to form a solution. This was applied to Mitsubishi Kasei's adsorption resin Diaion HP-20 column chromatography (resin amount 40m+j!, 10mβ/3m1n/1 f
r,) and sequentially eluted with water, 20% methanol aqueous solution, and 50% methanol aqueous solution, and collected both fractions with UV absorption at 300 nm, concentrated, and lyophilized to obtain 19.3 mg of the title compound (yield). 64.8%) was obtained as a white solid.

NMR(020) : δ2.12(3H,s )、 
3.28(LH,八〇q)。
NMR (020): δ2.12 (3H,s),
3.28 (LH, 80q).

3.58(LH,ABq )、 4.76(IH,AB
q )、 4.88(LH。
3.58 (LH, ABq), 4.76 (IH, AB
q), 4.88 (LH.

ABq )、 5.06(2H,s )、 5.12(
IH,d )、 5.87(LH,d )、 6.62
(2H,s )、 7.00(IH,s >MS(FA
B): 602(MH“) IR(KBr):  1760 cm 実施例9 本発明の代表的な化合物:こつl−1での抗菌力試験を
日本化学療法学会標準法iこより行った。得られた抗菌
力を表1に示す。
ABq ), 5.06 (2H,s ), 5.12 (
IH, d), 5.87 (LH, d), 6.62
(2H,s), 7.00(IH,s >MS(FA
B): 602 (MH") IR (KBr): 1760 cm Example 9 An antibacterial activity test was carried out using the representative compound of the present invention: Kotsu 1-1 using the Japanese Society of Chemotherapy Standard Method I. Obtained The antibacterial activity is shown in Table 1.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記一般式〔 I 〕で表わされるチアゾール誘導
体又はその無毒性塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
〕 (式中、R^1,R^2,R^3は同一でも異なってい
てもよく、水素、置換又は未置換のアルキル基、置換又
は未置換のアシル基、ヒドロキシル保護基であるか、又
はR^1とR^2あるいはR^2とR^3とが一緒にな
って環状ジオール保護基を形成してもよく、R^4はア
ミノ基又は保護されたアミノ基であり、R^5は水素、
エステル残基又はカルボキシ保護基を表わし、Xは水素
、ハロゲノ基、アルコキシ基、アルキル基、ビニル基又
はCH_2Y(Yは水素又は求核性残基である)で示さ
れる基である。)
(1) A thiazole derivative represented by the following general formula [I] or a non-toxic salt thereof. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼・・・・・・〔I
] (In the formula, R^1, R^2, R^3 may be the same or different, and are hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted acyl group, a hydroxyl protecting group, Alternatively, R^1 and R^2 or R^2 and R^3 may be combined to form a cyclic diol protecting group, R^4 is an amino group or a protected amino group, and R^ 5 is hydrogen,
It represents an ester residue or a carboxy protecting group, and X is hydrogen, a halogeno group, an alkoxy group, an alkyl group, a vinyl group or a group represented by CH_2Y (Y is hydrogen or a nucleophilic residue). )
(2)下記一般式(II)で表わされるチアゾール誘導体
又はその塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔II〕 (式中、R^1〜R^5は請求項1記載の式〔 I 〕に
おけると同じである。)
(2) A thiazole derivative or a salt thereof represented by the following general formula (II). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼・・・・・・[II] (In the formula, R^1 to R^5 are the same as in the formula [I] of claim 1.)
(3)請求項1記載の式〔 I 〕で表わされるチアゾー
ル誘導体又はその無毒性塩を有効成分とする抗菌剤。
(3) An antibacterial agent containing a thiazole derivative represented by formula [I] according to claim 1 or a nontoxic salt thereof as an active ingredient.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000198772A (en) * 1998-05-11 2000-07-18 Takeda Chem Ind Ltd Oxyiminoalkanoic acid derivative

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JP2000198772A (en) * 1998-05-11 2000-07-18 Takeda Chem Ind Ltd Oxyiminoalkanoic acid derivative

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