JPH039593A - Laser apparatus - Google Patents
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- JPH039593A JPH039593A JP14493189A JP14493189A JPH039593A JP H039593 A JPH039593 A JP H039593A JP 14493189 A JP14493189 A JP 14493189A JP 14493189 A JP14493189 A JP 14493189A JP H039593 A JPH039593 A JP H039593A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明はレーザ装置に関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a laser device.
(従来の技術)
以下、色素レーザ増幅装置の要部について図面を参照し
て説明する。色素レーザ増幅装置1は第4図に示される
ように励起レーザ光pを発光する励起レーザ出力部2を
有しており、この励起レーザ出力部2から出力された励
起レーザ光pの光路上には反射ミラー3が設けられてい
る。この反射ミラー3は励起レーザ光pに対して所定角
度傾けて配置されており、この励起レーザ光pを所定角
度で反射するようになっている。(Prior Art) The main parts of a dye laser amplification device will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 4, the dye laser amplifying device 1 has an excitation laser output section 2 that emits an excitation laser beam p, and there is a laser beam on the optical path of the excitation laser beam p output from the excitation laser output section 2. A reflecting mirror 3 is provided. This reflecting mirror 3 is arranged to be inclined at a predetermined angle with respect to the excitation laser beam p, and is configured to reflect the excitation laser beam p at a predetermined angle.
また、この反射ミラー3の反射面は誘電体多層膜4によ
って形成されており、上記励起レーザ光pを高反射する
ようになっている。さらに、反射ミラー3に反射された
励起レーザ光pの光路上にはシリンドリカルレンズ5が
挿入されている。このシリンドリカルレンズ5によって
集光されたレーザ光pが照射される位置には色素レーザ
媒質が循環される色素セル6が設けられている。この色
素セル6には図面の奥行き方向に向かって色素レーザ媒
質を循環する図示しない循環装置が設けられている。Further, the reflective surface of the reflective mirror 3 is formed of a dielectric multilayer film 4, and is designed to highly reflect the excitation laser beam p. Further, a cylindrical lens 5 is inserted on the optical path of the excitation laser beam p reflected by the reflection mirror 3. A dye cell 6 in which a dye laser medium is circulated is provided at a position where the laser light p focused by the cylindrical lens 5 is irradiated. This dye cell 6 is provided with a circulation device (not shown) that circulates the dye laser medium in the depth direction of the drawing.
そして、上記励起レーザ光pが照射されることで励起さ
れた色素溶液により矢印し方向から入射される色素レー
ザ光の出力を増幅するようになっている。Then, the output of the dye laser light incident from the direction indicated by the arrow is amplified by the dye solution excited by the irradiation with the excitation laser light p.
上述のように構成された色素レーザ増幅装置1は、上記
励起レーザ光pを発生する励起レーザ出力部2において
、光強度分布が均一でない場合、例えば第5図中に示さ
れるような光強度分布の場合には、ごく一部において非
常に強い光が照射される。このように励起レーザ強度の
不均一な状態で十分に色素セル6を励起しようとすると
、強い励起光が照射された一部の色素レーザ媒質からA
S E (AmpHNed 5pontaneous
Emission:自然放射増幅光)が放射され、単
一性の裔い波長の色素レーザ光を出力することが困難で
あった。In the dye laser amplifying device 1 configured as described above, when the light intensity distribution is not uniform in the excitation laser output section 2 that generates the excitation laser light p, the light intensity distribution as shown in FIG. In this case, very strong light is irradiated in a small portion. When trying to sufficiently excite the dye cell 6 with the excitation laser intensity being non-uniform in this way, some of the dye laser medium irradiated with strong excitation light will
S E (AmphNed 5pontaneous
Emission: amplified spontaneous emission light) is emitted, and it has been difficult to output dye laser light with a uniform wavelength.
(発明が解決しようとする課題)
色素レーザ増幅装置は、励起し〜ザ光の光強度分布にむ
らがある場合に、一部に強い励起レーザ光が照射される
と、この部分からはASEが放射され、色素レーザ光の
増幅を阻害するため、レーザ増幅の効率を高めることが
困難であり、また、単一波長の色素レーザを出力するこ
とも困難であった。(Problems to be Solved by the Invention) In a dye laser amplification device, when the light intensity distribution of excited laser light is uneven, if a strong excitation laser light is irradiated on a part, ASE will occur from this part. This makes it difficult to increase the efficiency of laser amplification, and it is also difficult to output a single wavelength dye laser.
本発明は上記課題に着目してなされたものであり、レー
ザ、光の出力部から出力されるレーザ光の強度分布を均
一な状態に近付けることができるレーザ装置を提供する
ことを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a laser device that can bring the intensity distribution of laser light outputted from a laser or light output section closer to a uniform state.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
(1)レーザ光を出力するレーザ出力部を設け、このレ
ーザ光の光軸に傾斜した入射面をもつ反射ミラーを設け
、この反射ミラーは所定の屈折率を有する透光体からな
り入射面には所定の透過率を持つ第1の反射膜を形成し
、上記入射面に対向する反射ミラーの裏側には上記第1
の反射膜に入射され一透過した光およびこの第1の反射
膜の裏面で反射した光を高反射率で反射する第2反射膜
を形成したレーザ装置にある。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) (1) A laser output section that outputs a laser beam is provided, a reflecting mirror having an incident surface inclined to the optical axis of the laser beam is provided, and this reflecting mirror is A first reflective film made of a transparent material having a predetermined refractive index and having a predetermined transmittance is formed on the incident surface, and the first reflective film is formed on the back side of the reflective mirror facing the incident surface.
The present invention provides a laser device in which a second reflective film is formed to reflect at a high reflectance the light that is incident on and passes through the first reflective film and the light that is reflected on the back surface of the first reflective film.
(2)励起レーザ出力部を設け、この励起レーザ光の光
軸に対して入射面を傾斜して反射ミラーを設け、この反
射ミラーを経た励起レーザ光で照射される色素セルを設
け、上記反射ミラーは所定の屈折率を有する透光体にな
り入射面には所定の透過率の第1の反射膜を、形成し、
上記入射面に対向する上記反射ミラーの裏側には上記第
1の反射膜に入射され反ミラーの第1の反射膜の裏面で
反射した光を高9反射率で反射する第2の反射膜を形成
したレーザ装置にある。(2) An excitation laser output section is provided, a reflection mirror is provided with an incident surface inclined with respect to the optical axis of the excitation laser beam, and a dye cell is provided which is irradiated with the excitation laser beam that has passed through the reflection mirror. The mirror becomes a transparent body having a predetermined refractive index, and a first reflective film with a predetermined transmittance is formed on the incident surface,
On the back side of the reflective mirror facing the incident surface, there is a second reflective film that reflects the light that is incident on the first reflective film and reflected on the back surface of the first reflective film of the anti-mirror with a high reflectance of 9. It is in the formed laser device.
る。Ru.
(作 用)
(1)上記反射ミラーの第1の反射膜に入射されたレー
ザ光の一部は所定の反射率で反射され、反射されない一
部のレーザ光は所定の透過率で透過される。第1の反射
膜を透過したレーザ光は反射ミラーの屈折率に従って屈
折され、第2の反射膜で反射される。この第2の反射膜
に反射されたレーザ光の一部は第1の反射膜の入射位置
とは異なる位置から出射される。この出射光は初めに第
1の反射膜で反射された光と平行に透過される。(Function) (1) A portion of the laser light incident on the first reflective film of the reflecting mirror is reflected with a predetermined reflectance, and a portion of the laser light that is not reflected is transmitted with a predetermined transmittance. . The laser beam that has passed through the first reflective film is refracted according to the refractive index of the reflective mirror, and is reflected by the second reflective film. A portion of the laser light reflected by the second reflective film is emitted from a position different from the incident position of the first reflective film. This emitted light is first transmitted in parallel with the light reflected by the first reflective film.
一方、上記第2の反射膜で反射され次ぎに第1の反射膜
の内側面で反射された光成分は再度反射ミラーの屈折率
に従って屈折され第2の反射膜に反射され上述同様の反
射および透過を繰り返す。On the other hand, the light component reflected by the second reflective film and then reflected by the inner surface of the first reflective film is refracted according to the refractive index of the reflective mirror and reflected by the second reflective film, causing the same reflection and reflection as described above. Repeat the transmission.
(2)上記反射ミラーの第1の反射膜に入射されたレー
ザ光の一部は所定の反射率で反射され、反射されない一
部のレーザ光は所定の透過率で透過される。第1の反射
膜を透過したレーザ光は反射ミラーの屈折率に従って屈
折され、第2の反射膜で反射される。この第2の反射膜
に反射されたレーザ光の一部は第1の反射膜の入射位置
とは異なる位置から出射される。この出射光は初めに第
1の反射膜で反射された光と平行に出射される。(2) A portion of the laser light incident on the first reflective film of the reflecting mirror is reflected with a predetermined reflectance, and a portion of the laser light that is not reflected is transmitted with a predetermined transmittance. The laser beam that has passed through the first reflective film is refracted according to the refractive index of the reflective mirror, and is reflected by the second reflective film. A portion of the laser light reflected by the second reflective film is emitted from a position different from the incident position of the first reflective film. This emitted light is first emitted in parallel with the light reflected by the first reflective film.
一方、上記第2の反射膜で高反射され次ぎに第1の反射
膜の内側面で反射された光成分は再度反射ミラーの屈折
率に従って屈折され第2の反射膜に高反射され上述同様
の反射および透過を繰り返す。On the other hand, the light component that is highly reflected by the second reflective film and then reflected by the inner surface of the first reflective film is refracted again according to the refractive index of the reflective mirror and is highly reflected by the second reflective film, as described above. Repeats reflection and transmission.
こうして、光強度が一方向に向けて均一化されたレーザ
光を色素セルに入射し、均一な励起ができる。In this way, the laser light whose light intensity is made uniform in one direction is incident on the dye cell, and uniform excitation can be achieved.
(実施例)
本発明における一実施例を第1図ないし第3図を参照し
て説明する。図中に示される色素レーザ増幅装置10は
励起レーザ光pを出力する励起レーザ出力部11を有し
ている。゛また、この励起レーザ出力部11の出力光の
光路上には後述するように構成された反射ミラー12が
配置されている。さらに、この反射ミラー12に反射さ
れた励起レーザ光pの光路上には色素セル13が設けら
れている。そして、上記反射ミラー12と色素セル13
との間にはシリンドリカルレンズ14が挿入されており
、励起レーザ光pは色素セル13に入射される位置でデ
イフォーカス状態になるように調整されている。そして
、上記励起レーザ光pにより励起された色素セル13中
を色素レーザ光が矢印し方向に透過することでレーザ出
力が増幅される。(Embodiment) An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. A dye laser amplifying device 10 shown in the figure has an excitation laser output section 11 that outputs an excitation laser beam p. Further, on the optical path of the output light of the excitation laser output section 11, a reflecting mirror 12 configured as described later is arranged. Further, a dye cell 13 is provided on the optical path of the excitation laser beam p reflected by the reflecting mirror 12. Then, the reflecting mirror 12 and the dye cell 13
A cylindrical lens 14 is inserted between the cylindrical lens 14 and the excitation laser beam p, which is adjusted so as to be in a defocus state at the position where it enters the dye cell 13. The laser output is amplified by transmitting the dye laser beam in the direction of the arrow through the dye cell 13 excited by the excitation laser beam p.
以下、上記反射ミラー12の構造について説明する。こ
の反射ミラー12は、励起レーザ光pを高効率で透過で
き、且つ所定の屈折率をもつ光透過媒質からなっており
、入射面15とこれに対向する裏面16とが互いに、あ
る平行度を持つ平行平面に形成されている。そして、上
記入射面15には所定の反射率(例えば38,2%)の
誘電体多層膜からなる第1の反射膜17が形成されてい
る。この第1の反射膜17に入射された励起レザ光pは
、その一部が反射され、且つ、反射されない励起レーザ
光成分は透過されるようになっている。The structure of the reflecting mirror 12 will be explained below. This reflecting mirror 12 is made of a light-transmitting medium that can transmit the excitation laser beam p with high efficiency and has a predetermined refractive index, and the incident surface 15 and the back surface 16 facing the same have a certain degree of parallelism to each other. It is formed in parallel planes with. A first reflective film 17 made of a dielectric multilayer film having a predetermined reflectance (for example, 38.2%) is formed on the incident surface 15. A part of the excitation laser light p incident on the first reflective film 17 is reflected, and the excitation laser light component that is not reflected is transmitted.
一方、上記入射面15に対向される裏面16には励起レ
ーザ光Pをほぼ全反射する第2の反射膜18が形成され
ている。On the other hand, a second reflective film 18 that substantially totally reflects the excitation laser beam P is formed on the back surface 16 facing the incident surface 15.
このように構成された上記反射ミラー12は支持台19
に対して回動自在に枢支されている。上記反射ミラー1
2は支持台19に対して回動自在に枢支された枢支プレ
ート20によって支持されている。この支持プレート2
0には上下方向に支軸用の孔が穿設されており、また、
半円状に形成された歯車部21がこの支軸用の孔に同心
状且つ一体的に設けられている。上記支軸用の孔には枢
支軸22が回動自在に挿通されている。この枢支軸22
は上記支持台19に一体的に設けられており、この枢支
軸22を中心に上記反射ミラー12が回動できるように
なっている。The reflecting mirror 12 configured in this way is mounted on a support base 19.
It is rotatably supported. Above reflection mirror 1
2 is supported by a pivot plate 20 rotatably supported on a support base 19. This support plate 2
0 has a hole for the support shaft in the vertical direction, and
A semicircular gear portion 21 is provided concentrically and integrally with this support shaft hole. A pivot shaft 22 is rotatably inserted into the hole for the support shaft. This pivot shaft 22
is provided integrally with the support base 19, and the reflection mirror 12 can rotate around this pivot shaft 22.
さらに、上記歯車部21の歯部にはウオームギヤを構成
するようにウオーム23が設けられている。このウオー
ム23は両端部がそれぞれ軸受は部24.24により、
支持台19に対して回動自在に支持されており、さらに
、このウオーム23の一端にはハンドル25が設けられ
ている。Further, a worm 23 is provided on the teeth of the gear portion 21 so as to constitute a worm gear. This worm 23 has both ends bearing portions 24 and 24, respectively.
The worm 23 is rotatably supported on a support base 19, and a handle 25 is provided at one end of the worm 23.
そして上記ハンドル25を操作することにより、反射ミ
ラー12の角度を変更することができるようになってい
る。By operating the handle 25, the angle of the reflecting mirror 12 can be changed.
以下、上述のように構成された色素レーザ増幅装置10
を作動した状態について説明する。上記励起レーザ出力
部11から出力した励起レーザ光pは上記反射ミラー1
2の入射面15に形成された第1の反射膜17に入射す
る。入射した励起レーザ光pは上記反射率(例えば38
.2%)で反射し光成分b1と、そのまま透過する光成
分t1とに分配される。反射された光成分b1は上記反
射ミラー12の配置角度に従って正反射する。また、透
過した光成分t1は所定の屈折率で屈折し上記第2の反
射膜18に高い効率で反射する。Hereinafter, the dye laser amplification device 10 configured as described above will be described.
The state in which the is activated will be explained. The excitation laser beam p outputted from the excitation laser output section 11 is transmitted to the reflection mirror 1.
The light enters the first reflective film 17 formed on the incident surface 15 of No. 2. The incident excitation laser beam p has the above reflectance (for example, 38
.. 2%) and is divided into a light component b1 that is reflected and a light component t1 that is transmitted as is. The reflected light component b1 is specularly reflected according to the arrangement angle of the reflecting mirror 12. Further, the transmitted light component t1 is refracted at a predetermined refractive index and reflected by the second reflective film 18 with high efficiency.
そして、光成分t1は第2の反射膜から第1の反射[1
7の内側面に入射し、この光成分t1のうちの38.2
%が透過して、透過光b2として第1の反射膜17から
出射する。また、上記光成分t1の一部は第1の反射膜
17に反射され、反射光t2として再度反射ミラー12
の屈折率で屈折され第2の反射膜18に入射および反射
される。Then, the light component t1 is reflected from the second reflection film to the first reflection [1
7, and 38.2 of this light component t1
% is transmitted and exits from the first reflective film 17 as transmitted light b2. Further, a part of the light component t1 is reflected by the first reflective film 17, and is returned to the reflective mirror 12 as reflected light t2.
It is refracted with a refractive index of , and is incident on and reflected by the second reflective film 18 .
以下同様にしてb3.〜b6、t3.〜t6のように反
射および分光を繰り返す。ここで、各出射光t1、〜t
6は、それぞれ、上記色素レーザ光の進行方向りの方向
に微小間隔をもって平行に出射される。Similarly, b3. ~b6, t3. -Repeat reflection and spectroscopy as in t6. Here, each emitted light t1, ~t
6 are emitted in parallel with a minute interval in the direction in which the dye laser light travels.
上記出力光bl、〜b6のそれぞれの光強度の分配比ρ
1.〜ρ6は第1の反射膜17の反射率Rsを38.2
%とした場合に次式のように示される。The distribution ratio ρ of the light intensity of each of the above output lights bl and ~b6
1. ~ρ6 is the reflectance Rs of the first reflective film 17 of 38.2
When expressed as %, it is expressed as follows.
ρ 1−Rs ρj−Rs” (1−Rs)2 (j≧2)となる。ρ 1−Rs ρj−Rs” (1−Rs)2 (j≧2).
反射率Rsが38.2%。Reflectance Rs is 38.2%.
(Rs=0.382)の場合 ρ1.〜ρ5まで計算すると以下のようになる。(Rs=0.382) ρ1. Calculating up to ρ5 results in the following.
ρ 1−0. 382
ρ2−0.382
ρ B−0,146
ρ4−0. 056
ρ5■0.021
へ
なお、ρ6以降は分配比がいずれも1O−2(1%)未
満なので無視できる値である。ρ 1-0. 382 ρ2-0.382 ρ B-0,146 ρ4-0. 056 ρ5■0.021 Note that the distribution ratios after ρ6 are all less than 1O-2 (1%), so they are negligible values.
このように5本のビームに分光された光bl。The light bl is thus split into five beams.
〜b5は、それぞれのビームスポットの間に微小間隔を
もっているので、空間的光強度分布を均一化できる。つ
まり、5つのビームスポットの空間分布はそれぞれの空
間分布の重なりで規定されるので光強度分布を平滑化で
きる。~b5 has a minute interval between each beam spot, so that the spatial light intensity distribution can be made uniform. In other words, since the spatial distribution of the five beam spots is defined by the overlap of the respective spatial distributions, the light intensity distribution can be smoothed.
この状態は第3図に示される。図中において破線で示さ
れる曲線が反射ミラー12に入射したレーザ光pの強度
分布であり、反射ミラー12に反射された後の各光成分
bl、〜b5はそれぞれ所定距離gだけ色素レーザ光の
進行方向に向かってずれる。そして、L方向に光強度が
分割され、光強度分布がフラットな状態に近付けられる
。この時gは、反射ミラー12の厚さ(d)、屈折率(
n)および反射ミラー12へのレーザ光pの入射角θで
決まり、次式のようにあられされる。This situation is shown in FIG. The curve indicated by a broken line in the figure is the intensity distribution of the laser beam p incident on the reflection mirror 12, and each light component bl, ~b5 after being reflected on the reflection mirror 12 is a predetermined distance g of the dye laser beam. Shifts in the direction of travel. Then, the light intensity is divided in the L direction, and the light intensity distribution is brought closer to a flat state. At this time, g is the thickness (d) of the reflecting mirror 12 and the refractive index (
n) and the incident angle θ of the laser beam p to the reflecting mirror 12, and is expressed as the following equation.
例えば、d=15a+I11.θ−45@ n−1,5
とすると、N−7,6ma+となる。For example, d=15a+I11. θ-45@n-1,5
Then, it becomes N-7.6ma+.
なお、これらのビームスポットの重なり状態は上記反射
ミラー12の角度を変更することによって、調整できる
。Note that the overlapping state of these beam spots can be adjusted by changing the angle of the reflecting mirror 12.
上述のように、反射ミラー12により1本のビムpを励
起作用を発生する5つのビームbl。As mentioned above, the five beams bl generate an excitation effect on one beam p by the reflecting mirror 12.
〜b5に分割して色素セル13に照射することにより、
従来構造ではASEを発生してしまう光強度レベルの励
起光でもASEの発生を押さえることができる。By irradiating the dye cell 13 divided into ~b5,
The generation of ASE can be suppressed even with excitation light having a light intensity level that would cause ASE in the conventional structure.
これにより、従来構造に比較して高い出力まで色素レー
ザ光りを単一波長のまま増幅することができる。This allows the dye laser light to be amplified to a higher output than the conventional structure while maintaining a single wavelength.
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものではない
。例えば上記一実施例では実施の対象が色素レーザ増幅
装置10であったが、これに限定されるものではない。Note that the present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, the dye laser amplification device 10 was the object of implementation, but the present invention is not limited to this.
例えば、色素レーザ発振装置に適用することもできる。For example, it can also be applied to a dye laser oscillation device.
また、上記励起レーザ出力部11と反射ミラー12とシ
リンドリカルレンズ14とを一体構造物とし、この一体
構造物を例えばロボットのアーム等に取り付け、移動さ
せることでレーザ光の照射位置を例えばX−Y方向に移
動し、これによりレーザ加工を行うこともできる。この
ように上述の構造をレーザ加工に利用すると、デイフォ
ーカス状態のビームの照射面に対する光強度分布を略均
−に保つことができるので、均質な加工仕上りを得るこ
とができる。また、ハンドル25を操作することでビー
ムどうしの重なり状態を調節できるので、照射光の強度
を変更することもできる。Furthermore, the excitation laser output unit 11, the reflection mirror 12, and the cylindrical lens 14 are made into an integrated structure, and this integrated structure is attached to, for example, a robot arm, and moved, so that the irradiation position of the laser beam can be adjusted, for example, in the X-Y direction. It is also possible to perform laser processing by moving in the direction. When the above-described structure is utilized for laser processing in this manner, the light intensity distribution of the day-focused beam on the irradiation surface can be kept approximately uniform, so that a homogeneous processing finish can be obtained. Moreover, since the overlapping state of the beams can be adjusted by operating the handle 25, the intensity of the irradiated light can also be changed.
また、上記第1の反射膜17の反射率は実施例では38
,2%であり、この数値は、これに限定されないが、3
0〜70%の範囲であることが望まれる。さらに、上記
第4図に示す実施例において色素レーザ光りの進行方向
が逆方向の場合でも同様の作用効果が得られる。Further, the reflectance of the first reflective film 17 is 38 in the example.
,2%, and this figure is, but not limited to, 3%.
A range of 0 to 70% is desirable. Furthermore, similar effects can be obtained even when the dye laser beam travels in the opposite direction in the embodiment shown in FIG. 4.
[発明の効果]
(1)所定の屈折率を有する光透過媒質で形成された反
射ミラーの入射面に所定の透過率をもつ第1の反射膜を
形成し、この入射面に対向する裏面に第2の反射膜を形
成することで、レーザ出力部から出力されたレーザ光を
所定角度で入射すると、第1の反射膜で一部透過および
一部反射し、透過したレーザ光は光透過媒質の屈折率に
従って屈折するとともに、上記第2の反射膜に反射し、
入射位置と異なる位置で上記第1の反射膜に入射し、一
部透過および一部反射する。このとき、上記反射光およ
び透過光はそれぞれが略平行であり、上記反射ミラーに
反射されたレーザ光は空間的光強度分布が均一化される
。[Effects of the Invention] (1) A first reflective film having a predetermined transmittance is formed on the incident surface of a reflective mirror made of a light transmitting medium having a predetermined refractive index, and a first reflective film having a predetermined transmittance is formed on the back surface opposite to the incident surface. By forming the second reflective film, when the laser light output from the laser output section is incident at a predetermined angle, it is partially transmitted and partially reflected by the first reflective film, and the transmitted laser light is transmitted through the light transmission medium. is refracted according to the refractive index of and reflected on the second reflective film,
The light enters the first reflective film at a position different from the incident position, and is partially transmitted and partially reflected. At this time, the reflected light and the transmitted light are each substantially parallel, and the laser light reflected by the reflecting mirror has a uniform spatial light intensity distribution.
(2)所定の屈折率を有する光透過媒質で形成された反
射ミラーの入射面に所定の透過率をもつ第1の反射膜を
形成し、この入射面に対向する裏面に第2の反射膜を形
成することで、励起レーザ出力部から出力された励起レ
ーザ光を上記入射面に入射し、第1の反射膜で一部透過
および一部反射し、透過したレーザ光は光透過媒質の屈
折率に従って屈折するとともに、上記第2の反射膜に反
射し、入射位置と異なる位置で上記第1の反射膜に入射
し、一部透過および一部反射する。このとき、上記反射
光および透過光はそれぞれが略平行であり、上記反射ミ
ラーに反射された励起レーザ光は空間的光強度分布が均
一化される。この、光強度が均一化された励起レーザ光
により色素セルを励起することで、より安定した励起が
でき、かつ、ASEの発生を抑制して、高い色素レーザ
出力を得ることができる。(2) A first reflective film with a predetermined transmittance is formed on the incident surface of a reflective mirror made of a light transmitting medium having a predetermined refractive index, and a second reflective film is formed on the back surface opposite to this incident surface. By forming the excitation laser output section, the excitation laser beam output from the excitation laser output section is incident on the above incident surface, and is partially transmitted and partially reflected by the first reflective film, and the transmitted laser beam is refracted by the light transmission medium. The light beam is refracted according to the index, is reflected by the second reflective film, and is incident on the first reflective film at a position different from the incident position, where it is partially transmitted and partially reflected. At this time, the reflected light and the transmitted light are each substantially parallel, and the excitation laser light reflected by the reflection mirror has a uniform spatial light intensity distribution. By exciting the dye cell with this excitation laser beam with uniform light intensity, more stable excitation can be achieved, generation of ASE can be suppressed, and high dye laser output can be obtained.
第1図ないし第3図は本発明における一実施例であり、
第1図は色素レーザ増幅装置の概略的構成を示す平面図
、第2図は反射ミラーによって入射光が空間的光強度分
布を略均−にして反射する状態を示す平面図、第3図は
反射ミラーに反射した後の光強度分布を示す光強度分布
図、第4図は従来の色素レーザ増幅装置の概略的構成を
示す平面図、第5図は従来の反射ミラーに反射した後の
光強度分布を示す光強度分布図である。
11・・・励起レーザ出力部、12・・・反射ミラー1
3・・・色素セル、17・・・第1の反射膜、18・・
・第2の反射膜。
第1図FIGS. 1 to 3 show an embodiment of the present invention,
Fig. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a dye laser amplification device, Fig. 2 is a plan view showing a state in which incident light is reflected by a reflecting mirror with the spatial light intensity distribution approximately equalized, and Fig. A light intensity distribution diagram showing the light intensity distribution after being reflected on a reflecting mirror. Fig. 4 is a plan view showing the schematic configuration of a conventional dye laser amplification device. Fig. 5 is a diagram showing the light intensity distribution after being reflected on a conventional reflecting mirror. FIG. 3 is a light intensity distribution diagram showing intensity distribution. 11... Excitation laser output section, 12... Reflection mirror 1
3... Dye cell, 17... First reflective film, 18...
-Second reflective film. Figure 1
Claims (2)
光の光軸に対して入射面を傾斜して設けた反射ミラーと
を備えたレーザ装置において、上記反射ミラーは所定の
屈折率を有する透光体になり入射面には所定の透過率を
有する第1の反射膜が形成され、上記入射面に対向する
上記反射ミラーの裏側には上記第1の反射膜に入射され
て反射されずに透過した光およびこの第1の反射膜の裏
面で反射した光を高反射率で反射する第2の反射膜が形
成されていることを特徴とするレーザ装置。(1) In a laser device including a laser output section that outputs laser light and a reflecting mirror provided with an incident surface inclined with respect to the optical axis of the laser light, the reflecting mirror has a predetermined refractive index. A first reflective film having a predetermined transmittance is formed on the incident surface of the light-transmitting body, and on the back side of the reflective mirror facing the incident surface, light is incident on the first reflective film and is not reflected. 1. A laser device characterized in that a second reflective film is formed that reflects, with high reflectance, the light transmitted through the first reflective film and the light reflected on the back surface of the first reflective film.
記励起レーザ光の光軸に対して入射面を傾斜して設けた
反射ミラーと、この反射ミラーを経た励起レーザ光で照
射される色素セルとを備えたレーザ装置において、上記
反射ミラーは所定の屈折率を有する透光体になり入射面
には所定の透過率を有する第1の反射膜が形成され、上
記入射面に対向する上記反射ミラーの裏側には上記第1
の反射膜に入射され反射されずに透過した光およびこの
第1の反射膜の裏面で反射した光を高反射率で反射する
第2の反射膜が形成されていることを特徴とするレーザ
装置。(2) An excitation laser output section that outputs an excitation laser beam, a reflection mirror whose incident surface is inclined with respect to the optical axis of the excitation laser beam, and a dye that is irradiated with the excitation laser beam that passes through this reflection mirror. In the laser apparatus, the reflecting mirror is a transparent body having a predetermined refractive index, a first reflecting film having a predetermined transmittance is formed on the incident surface, and the above-mentioned laser cell facing the incident surface is provided with a first reflective film having a predetermined transmittance. On the back side of the reflecting mirror is the above-mentioned No. 1
A laser device characterized in that a second reflective film is formed that reflects at a high reflectance the light that is incident on the reflective film and is transmitted without being reflected, and the light that is reflected on the back surface of the first reflective film. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14493189A JPH039593A (en) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | Laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14493189A JPH039593A (en) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | Laser apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH039593A true JPH039593A (en) | 1991-01-17 |
Family
ID=15373533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14493189A Pending JPH039593A (en) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | Laser apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH039593A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5224200A (en) * | 1991-11-27 | 1993-06-29 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Coherence delay augmented laser beam homogenizer |
JP2010004053A (en) * | 2003-04-22 | 2010-01-07 | Komatsu Ltd | Two-stage laser device for exposure |
-
1989
- 1989-06-07 JP JP14493189A patent/JPH039593A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5224200A (en) * | 1991-11-27 | 1993-06-29 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Coherence delay augmented laser beam homogenizer |
JP2010004053A (en) * | 2003-04-22 | 2010-01-07 | Komatsu Ltd | Two-stage laser device for exposure |
JP4530302B2 (en) * | 2003-04-22 | 2010-08-25 | 株式会社小松製作所 | Two-stage laser equipment for exposure |
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