JPH0377976B2 - - Google Patents

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JPH0377976B2
JPH0377976B2 JP18424384A JP18424384A JPH0377976B2 JP H0377976 B2 JPH0377976 B2 JP H0377976B2 JP 18424384 A JP18424384 A JP 18424384A JP 18424384 A JP18424384 A JP 18424384A JP H0377976 B2 JPH0377976 B2 JP H0377976B2
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JP
Japan
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group
mol
layer
silver
silver halide
Prior art date
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Expired
Application number
JP18424384A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6162033A (en
Inventor
Shigeki Yokoyama
Takayuki Inayama
Naohiko Sugimoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP18424384A priority Critical patent/JPS6162033A/en
Publication of JPS6162033A publication Critical patent/JPS6162033A/en
Priority to US06/903,888 priority patent/US4677050A/en
Publication of JPH0377976B2 publication Critical patent/JPH0377976B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/04Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
    • G03C1/053Polymers obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明は写真感光材料に関するものであり、特
に帯電防止性を改良した写真感光材料に関するも
のである。 (従来技術) 写真感光材料は一般に電気絶縁性を有する支持
体および写真層から成つているので写真感光材料
の製造工程中ならびに使用時に同種または異種物
質の表面との間に接触摩擦または剥離をうけるこ
とによつて静電電荷が蓄積されることが多い。こ
の蓄積された静電電荷は多くの障害を引起すが、
最も重大な障害は現像処理前に蓄積された静電電
荷が放電することによつて感光性乳剤層が感光し
写真フイルムを現像処理した際に点状スポツト又
は樹枝状や羽毛状の線班を生ずることである。こ
れがいわゆるスタチツクマークと呼ばれているも
ので写真フイルムの商品価値を著しく損ね場合に
よつては全く失なわしめる。例えば医療用又は工
業用X−レイフイルム等に現われた場合には非常
に危険な判断につながることは容易に認識される
であろう。この現象は現像してみて初めて明らか
になるもので非常に厄介な問題の一つである。ま
たこれらの蓄積された静電電荷はフイルム表面へ
塵埃が付着したり、塗布が均一に行なえないなど
の第2次的な故障を誘起せしめる原因にもなる。 かかる静電電荷は前述したように写真感光材料
の製造および使用時にしばしば蓄積されるのであ
るが例えば製造工程に於ては写真フイルムとロー
ラーとの接触摩擦あるいは写真フイルムの巻取
り、巻戻し工程中での支持体面と乳剤面の剥離等
によつて発生する。またはX−レイフイルムの自
動撮影機中での機械部分あるいは螢光増感紙との
間の接触剥離等が原因となつて発生する。その他
包装材料との接触などでも発生する。かかる静電
電荷の蓄積によつて誘起される写真感光材料のス
タチツクマークは写真感光材料の感度の上昇およ
び処理速度の増加によつて顕著となる。特に最近
においては、写真感光材料の高感度化および高速
塗布、高速撮影、高速自動処理化等の苛酷な取り
扱いを受ける機会が多くなつてことによつて一層
スタチツクマークの発生が出易くなつている。 これらの静電気による障害をなくすためには写
真感光材料に帯電防止剤を添加することが好まし
い。しかしながら、写真感光材料に利用できる帯
電防止剤は、他の分野で一般に用いられている帯
電防止剤がそのまま使用できる訳ではなく、写真
感光材料に特有の種々の制約を受ける。即ち写真
感光材料に利用し得る帯電防止剤には帯電防止性
能が優れていることの他に、例えば写真感光材料
の感度、カブリ、粒状性、シヤープネス等の写真
特性に悪影響を及ぼさないこと、写真感光材料の
膜強度に悪影響を与えないこと(すなわち摩擦や
引掻きに対して傷が付き易くならないこと)、耐
接着性に悪影響を及ぼさないこと(すなわち写真
感光材料の表面同志或いは他の物質の表面とくつ
つき易くなつたりしないこと)、写真感光材料の
処理液の疲労を早めないこと、写真感光材料の各
構成層間の接着強度を低下させないこと等々の性
能が要求され、写真感光材料へ帯電防止剤を適用
することは非常に多くの制約を受ける。 静電気による障害をなくすための一つの方法は
感光材料表面の電気伝導性を上げて蓄積電荷が放
電する前に静電電荷を短時間に逸散せしめるよう
にすることである。 したがつて、従来から写真感光材料の支持体や
各種塗布表面層の導電性を向上させる方法が考え
られ、その一つにイオン性ポリマーの利用が試み
られてきた。例えば、特公昭57−53587号、同57
−15375号、独国特許第1745061号、特公昭49−
23827号、同55−14415号、同55−15267号、特開
昭48−89979号、米国特許第2279410号、同第
3791831号、特公昭47−28937号にはカルボキシル
基を有する(アニオン)ポリマーを写真感光材料
の帯電防止に利用する試みが開示されている。し
かし、これらのポリマーは水可溶性であつて、こ
れらのポリマーを添加したハロゲン化銀写真感光
材料を現像処理すると、これらのポリマーが(水
性の)現像処理液に溶出して、現像処理液中に蓄
積し、その後に現像処理するハロゲン化銀写真感
光材料を汚染したり、ハロゲン化銀写真感光材料
表面に微小な溶出痕を残してハロゲン化銀写真感
光材料に曇りを生ぜしめたりするなどの問題があ
つた。又、これらのポリマーが添加されたハロゲ
ン化銀写真感光材料の層から、これらのポリマー
が他の層へ拡散してしまい帯電防止性能が著しく
低下してしまうという問題もこれらのポリマーは
有していた。このような問題を解決するためにア
クリル酸又はメタクリル酸のポリマーを架橋ラテ
ツクス化する試みが米国特許第4301240号に記載
されている。このアクリル酸又はメタクリル酸の
架橋重合体は、先に述べたカルボキシル基を有す
る非架橋の重合体の有する問題を解決することが
できた。しかしながら、このアクリル酸又はメタ
クリル酸の架橋重合体は常湿ないし高湿では十分
な帯電防止力を有するが、低湿においては十分な
帯電防止力を持たず、写真感光材料にスタチツク
マークの発生を防止することが実質上不可能であ
つた。我々は、架橋重合体の特長を活かし、か
つ、低湿でも十分な帯電防止力を有する帯電防止
剤の開発を目指して鋭意研究を進めた結果、本発
明を成すに至つた。本発明の架橋重合体は一般式
()で表わされるモノマーを共重合成分として
有する点に大きな特徴がある。 一般式() ここでR2,R3,R4およびnは既に示したとお
りである。 (発明の目的) 本発明の目的は十分に帯電防止されたハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。 本発明の第2の目的は特に低湿度でも十分に帯
電防止されたハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることにある。 本発明の第3の目的は現像処理によつてスカム
が発生することのない帯電防止されたハロゲン化
銀写真感光材料を提供することにある。 本発明の第4の目的は現像処理によつて曇りを
生ずることのない帯電防止されたハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。 (発明の構成) これらの目的は、少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料であ
つて、該乳剤層以外の少なくとも一層に下記一般
式()で表わされる架橋重合体を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によつて
達成された。 一般式() 式中、R1およびR2は水素原子、メチル基ある
いはカルボキシルメチル基を表わし、R3は水素
原子、炭素数1〜7の、アルキル基、シクロアル
キル基、アリール基又はアシル基を表わし、R4
は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わ
す。R3とR4とは互いに連結して環を形成しても
よい。又、R3,R4の各基は無置換、あるいは置
換されている。Lは2価、3価又は4価の連結基
を表わす。lは0又は1を、mは1〜3の整数
を、又nは1〜10の整数を表わす。Aは共重合可
能なエチレン性不飽和モノマーを共重合したモノ
マー単位を表わす。Bは共重合可能なエチレン性
不飽和基を少なくとも2つ有する共重合可能な架
橋モノマーを共重合したモノマー単位を表わす。
M は陽イオンを表わす。wは10〜90モル%、x
は3〜88モル%、yは0〜50モル%、zは2〜30
モル%である。 本発明の架橋重合体について以下に詳しく説明
する。 R1およびR2には、水素原子又はメチル基、エ
チル基、n−プロピル基等の無置換アルキル基、
カルボキシメチル基等の置換アルキル基が挙げら
れる。これらのうち水素原子、メチル基又はカル
ボキシメチル基が好ましい。 R3には水素原子又はメチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、
i−ブチル基、n−ヘキシル基、n−ドデシル基
等の無置換アルキル基、ベンジル基、フエネチル
基、2−クロロエチル基等の置換アルキル基、シ
クロヘキシル基等のシクロアルキル基、フエニル
基、p−メチルフエニル基、p−クロルフエニル
基等の無置換又は置換のアリール基、アセチル
基、ベンゾイル基、p−メトキシベンゾイル基等
の無置換又は置換アシル基が挙げられ、これらの
うち炭素原子数1〜7の低級の基が好ましい。
R4には水素原子又はメチル基、エチル基、n−
プロピル基、クロロメチル基等の無置換又は置換
のアルキル基が挙げられ、これらのうち水素原子
又はメチル基が好ましい。R3とR4とが互いに連
結して環を形成する場合の環には例えばテトラヒ
ドロフラン環を挙げることができる。 Lは2価、3価又は4価の連結基であり、2価
の連結基の場合には、−Q−、3価の連結基の場
合には
(Industrial Application Field) The present invention relates to a photographic light-sensitive material, and particularly to a photographic light-sensitive material with improved antistatic properties. (Prior Art) Photographic materials generally consist of an electrically insulating support and a photographic layer, so they are subject to contact friction or peeling with surfaces of the same or different materials during the manufacturing process and during use. This often results in the accumulation of electrostatic charges. This accumulated electrostatic charge causes many problems, but
The most serious problem is that the photosensitive emulsion layer is exposed to light due to the discharge of electrostatic charges accumulated before processing, resulting in dots or dendritic or feather-like streaks when the photographic film is processed. It is something that happens. This is what is called a static mark, and it significantly reduces the commercial value of the photographic film, or in some cases completely destroys it. For example, if it appears in medical or industrial X-ray film, it will be easily recognized that it will lead to a very dangerous judgment. This phenomenon becomes apparent only after development, and is one of the most troublesome problems. Further, these accumulated electrostatic charges may cause secondary failures such as dust adhesion to the film surface or uneven coating. As mentioned above, such electrostatic charges are often accumulated during the production and use of photographic materials. This occurs due to peeling between the support surface and the emulsion surface, etc. Or, it may occur due to contact peeling between the X-ray film and a mechanical part in an automatic photographing machine or a fluorescent intensifying screen. It can also occur due to contact with other packaging materials. Static marks on photographic materials induced by such electrostatic charge accumulation become more noticeable as the sensitivity of photographic materials increases and the processing speed increases. Especially in recent years, as photographic materials have become more sensitive and are subjected to harsh handling such as high-speed coating, high-speed photography, and high-speed automatic processing, static marks are more likely to occur. There is. In order to eliminate these problems caused by static electricity, it is preferable to add an antistatic agent to the photographic material. However, the antistatic agents that can be used in photographic light-sensitive materials cannot be the same as those commonly used in other fields, and are subject to various restrictions specific to photographic light-sensitive materials. That is, in addition to having excellent antistatic properties, antistatic agents that can be used in photographic light-sensitive materials must not have any adverse effect on photographic properties such as sensitivity, fog, graininess, sharpness, etc. of photographic light-sensitive materials; It should not adversely affect the film strength of the photosensitive material (that is, it should not be easily damaged by friction or scratching), and it should not have an adverse effect on the adhesion resistance (i.e., the surface of the photographic material or the surface of other materials should not be affected adversely. Antistatic agents are required to be used in photographic materials, such as not causing the photographic materials to become easily pocked), not accelerating the fatigue of processing solutions for photographic materials, and not reducing the adhesive strength between the constituent layers of photographic materials. application is subject to numerous constraints. One way to eliminate the problems caused by static electricity is to increase the electrical conductivity of the surface of the photosensitive material so that the static charges can be dissipated in a short period of time before the accumulated charges are discharged. Therefore, methods of improving the electrical conductivity of supports and various coated surface layers of photographic light-sensitive materials have been considered, and the use of ionic polymers has been attempted as one of these methods. For example, Special Publication No. 57-53587, No. 57
−15375, German Patent No. 1745061, Special Publication No. 1977−
No. 23827, No. 55-14415, No. 55-15267, JP-A-48-89979, U.S. Patent No. 2279410, No.
No. 3791831 and Japanese Patent Publication No. 47-28937 disclose attempts to utilize (anionic) polymers having carboxyl groups for antistatic purposes in photographic light-sensitive materials. However, these polymers are water-soluble, and when a silver halide photographic light-sensitive material to which these polymers are added is processed, these polymers are eluted into the (aqueous) processing solution and are dissolved in the processing solution. Problems such as accumulation and contamination of silver halide photographic light-sensitive materials that are subsequently developed, or leaving minute elution marks on the surface of silver halide photographic light-sensitive materials, causing cloudiness in the silver halide photographic light-sensitive materials. It was hot. In addition, these polymers also have the problem that these polymers diffuse from the layer of the silver halide photographic light-sensitive material to which they are added into other layers, resulting in a significant decrease in antistatic performance. Ta. In order to solve these problems, an attempt to form a crosslinked latex from a polymer of acrylic acid or methacrylic acid is described in US Pat. No. 4,301,240. This crosslinked polymer of acrylic acid or methacrylic acid was able to solve the above-mentioned problems of the non-crosslinked polymer having carboxyl groups. However, although this crosslinked polymer of acrylic acid or methacrylic acid has sufficient antistatic power at normal humidity to high humidity, it does not have sufficient antistatic power at low humidity, and may cause static marks to appear on photographic materials. It was virtually impossible to prevent it. We have conducted intensive research aimed at developing an antistatic agent that takes advantage of the features of crosslinked polymers and has sufficient antistatic power even at low humidity, and as a result, we have achieved the present invention. A major feature of the crosslinked polymer of the present invention is that it has a monomer represented by the general formula () as a copolymer component. General formula () Here, R 2 , R 3 , R 4 and n are as already shown. (Object of the Invention) An object of the present invention is to provide a silver halide photographic material which is sufficiently prevented from charging. A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic material which is sufficiently prevented from charging even at particularly low humidity. A third object of the present invention is to provide a silver halide photographic material which is antistatic and does not generate scum during development. A fourth object of the present invention is to provide an antistatic silver halide photographic material that does not become cloudy during development. (Structure of the Invention) These objects are a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer, in which at least one layer other than the emulsion layer contains a crosslinked polymer represented by the following general formula (). This was achieved by a silver halide photographic material characterized by containing: General formula () In the formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom, a methyl group or a carboxylmethyl group, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an acyl group having 1 to 7 carbon atoms, and R Four
represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 3 and R 4 may be linked to each other to form a ring. Further, each group of R 3 and R 4 is unsubstituted or substituted. L represents a divalent, trivalent or tetravalent linking group. l represents 0 or 1, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer of 1 to 10. A represents a monomer unit copolymerized with a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer. B represents a monomer unit obtained by copolymerizing a copolymerizable crosslinking monomer having at least two copolymerizable ethylenically unsaturated groups.
M represents a cation. w is 10 to 90 mol%, x
is 3 to 88 mol%, y is 0 to 50 mol%, z is 2 to 30
It is mole%. The crosslinked polymer of the present invention will be explained in detail below. R 1 and R 2 each include a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group;
Examples include substituted alkyl groups such as carboxymethyl group. Among these, a hydrogen atom, a methyl group, or a carboxymethyl group is preferred. R 3 is a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n
-propyl group, i-propyl group, n-butyl group,
Unsubstituted alkyl groups such as i-butyl group, n-hexyl group, n-dodecyl group, substituted alkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, 2-chloroethyl group, cycloalkyl group such as cyclohexyl group, phenyl group, p- Examples include unsubstituted or substituted aryl groups such as methylphenyl group and p-chlorophenyl group; unsubstituted or substituted acyl groups such as acetyl group, benzoyl group, and p-methoxybenzoyl group; Lower groups are preferred.
R 4 is a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-
Examples include unsubstituted or substituted alkyl groups such as a propyl group and a chloromethyl group, and among these, a hydrogen atom or a methyl group is preferred. When R 3 and R 4 are linked to each other to form a ring, an example of the ring is a tetrahydrofuran ring. L is a divalent, trivalent or tetravalent linking group, in the case of a divalent linking group -Q-, in the case of a trivalent linking group

【式】4価の連結基の場合に は[Formula] In the case of a tetravalent linking group teeth

【式】が好ましい。ここにQは2 価の連結基であり、その例はアルキレン基(例え
ばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基)、
アリーレン基(例えばフエニレン基)、
[Formula] is preferred. Here, Q is a divalent linking group, examples of which are alkylene groups (e.g. methylene group, ethylene group, trimethylene group),
arylene group (e.g. phenylene group),

【式】(但し、Xは炭素原子数1〜約6 個のアルキレン基又はアリーレン基を表わす。以
下同じ)(例えば
[Formula] (However, X represents an alkylene group or arylene group having 1 to about 6 carbon atoms. The same applies hereinafter) (For example,

【式】)、【formula】),

【式】(例えば [Formula] (for example

【式】)、【formula】),

【式】 (例えば【formula】 (for example

【式】)、【formula】),

【式】(例えば[Formula] (for example

【式】)、【formula】),

【式】(例えば[Formula] (for example

【式】)、【formula】),

【式】(例えば[Formula] (for example

【式】)、【formula】),

【式】(例えば[Formula] (for example

【式】)等を挙げることが できる。 lは0又は1である。 mは1〜3の整数であり、1又は2が好まし
い。 nは1〜10の整数であり、1〜5の整数が好ま
しい。 モノマーAの例には、エチレン、プロピレン、
ノーブラン、イソブラン、スチレン、α−メチル
スチレン、ビニルトルエン、脂肪酸のエチレン性
不飽和エステル(例えば酢酸ビニル、酢酸アリ
ル)、エチレン性不飽和カルボン酸のエステル
(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、n−ブチルメタクリレート、n−ヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、n−ブチアクリレ
ート、n−ヘキシルアクリレート、2−エチルヘ
キシルアクリレート)、モノエチレン性不飽和化
合物(例えばアクリロニトリル)またはジエル類
(例えばブタジエン、イソプレン)等を挙げるこ
とができる。 モノマーBの例には、ジビニルベンゼン、トリ
ビニルシクロヘキサン、エチレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレートが挙げられる。 M には、水素イオン、ナトリウムイオン、カ
リウムイオン、リチウムイオン、セシウムイオ
ン、アンモニウムイオン等の1価の陽イオンの
他、カルシウムイオン、バリウムイオン、アルミ
ニウムイオン等多価陽イオンを挙げることができ
る。これらのうち、1価陽イオンが好ましい。 wは10〜95モル%、好ましくは30〜80モル%、
xは3〜88モル%、好ましくは10〜60モル%、y
は0〜50モル%、好ましくは0〜30モル%、zは
2〜30モル%、好ましくは5〜20モル%である。 本発明の架橋重合体の合成法を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。第一
に、一般式()で表わされるモノマー、一般式
()で表わされるモノマー、一般式()中に
おいてAで表わされるモノマー、および一般式
()中においてBで表わされるモノマーを例え
ばリサーチ・デイスクロージヤー(Research
Disclosure)誌16巻16102項に記載の方法のよう
に水中で直接乳化共重合したのち、必要に応じて
アルカリで中和する方法が挙げられる。 一般式() ここでR1,L,lおよびmは既に示したとお
りである。 一般式() ここでR2,R3,R4およびnは既に示したとお
りである。 第二に、上記一般式()で表わされるモノマ
ー、一般式()中においてAで表わされるモノ
マーおよび一般式()中においてBで表わされ
るモノマーを水中で乳化共重合して一般式()
で表わされる架橋重合体分散物としたのち例えば
米国特許第4301240号記載の方法と同様にしてア
ルカリでケン化する方法が挙げられる。 一般式() ここでR2,R3,R4,n,A,B,w,x,y,
zは既に示したとおりである。 更に第三に、一般式()で表わされるモノマ
ー、一般式()で表わされるモノマー、一般式
()においてAで表わされるモノマーおよび一
般式()においてBで表わされるモノマーと
を、例えば米国特許第4301240号記載の方法と同
様にして逆相乳化共重合をしたのち生成した架橋
重合体を水中に再分散させ、更に必要に応じてア
ルカリで中和する方法が挙げられる。これらの方
法のうち、各モノマーの種類、共重合比によつて
好ましい方法が選択される。 以下に本発明の架橋重合体の例を示す。 本発明の架橋重合体分散物の合成例を以下に示
す。 合成例1 架橋重合体例1の合成 撹拌器、還流冷却器、温度計を装着した2l三ツ
口フラスコに蒸留水480ml、乳化剤(三洋化成(株)
よりサンデツトBLの商品名で市販されているも
の)1.95gおよびメトキシエチルアクリレート
104.1gとジビニルベンゼン26.0gとの混合液を
加え、窒素気流下90℃、250rpmで撹拌した。器
内の空気を窒素で十分置換したのち、過硫酸カリ
ウム0.54gを蒸留水30mlに溶解した溶液を加えて
乳化重合を開始した。90℃で1時間半加熱撹拌を
続け、白濁した架橋重合体分散物(ラテツクス)
を得た。更に、過硫酸カリウム0.054gを蒸留水
10mlに溶解した溶液を加えて30分間加熱撹拌を続
けたのち、室温に冷却した。若干の凝集物を別
して、固型分濃度19.7wt%の架橋重合体分散物
(ラテツクス)629.5gを得た。動的光散乱法で求
めた架橋重合体粒子径は0.154μであつた。 上記架橋重合体分散物(ラテツクス)を、撹拌
器、還流冷却器、温度計および滴下漏斗を装着し
た別の3l三ツ口フラスコに入れ、室温下300rpm
で撹拌しながら水酸化カリウム4.19gを蒸留水
183mlに溶解した溶液を1時間で滴下した。更に
室温で2時間撹拌を続けたのち98〜99℃に加熱し
て2時間半撹拌した。次いで水酸化カリウム7.42
gを蒸留水183mlに溶解した溶液を30分間で滴下
したのち98〜99℃で3時間半加熱撹拌した。更
に、水酸化カリウム25.6gを蒸留水632mlに溶解
した溶液を30分間で滴下したのち98〜99℃で12時
間加熱撹拌した。室温に冷却し、透析精製後濃縮
して架橋重合体例1の分散物1237gを得た。固型
分濃度は8.77wt%、酸塩基滴定より求めたケン化
率は72.5%、動的光散乱法より求めた架橋重合体
粒子径は0.431μであつた。 合成例2 架橋重合体例6の合成 撹拌器、還流冷却器、温度計および定流量滴下
ポンプを装着した3l三ツ口フラスコに蒸留水1
、乳化剤(合成例1に使用した乳化剤に同じ)
4.45gを加えて窒素気流下94〜95℃、250rpmで
撹拌した。器内の空気を窒素で十分置換したの
ち、(1)アクリル酸90.0g、メトキシエチルアクリ
レート32.5gおよびペンタエリスリトールテトラ
アクリレート58.6gの混合溶液、(2)過硫酸カリウ
ム2.8gを蒸留水140mlに溶解した溶液、(3)亜硫酸
水素ナトリウム1.4gおよび塩化第一鉄0.56gを
蒸留水140mlに溶解した溶液の3者を同時に1時
間半で滴下した。滴下終了後15分間そのまま加熱
撹拌したのち過硫酸カリウム2.8g、亜硫酸水素
ナトリウム2.8gを蒸留水140mlに溶解した溶液を
加え、更に1時間15分加熱撹拌した。次いで水酸
化ナトリウム40.0gを蒸留水200mlに溶解した溶
液をゆつくり注ぎ込んで中和したのち室温まで冷
却した。若干の凝集物を別して架橋重合体例6
の分散物1751gを得た。固型分濃度は11.0wt%、
動的光散乱法で求めた架橋重合体粒径は0.229μで
あつた。 一般式()で表わされる架橋重合体は、使用
する写真感光材料の種類、形態又は塗布方式等に
より、その使用量は異なる。しかしながら、一般
には、その使用量は写真感光材料の1m2当り0.1
〜10gがよく、とくに0.5〜5gが望ましい。 一般式()で表わされる架橋重合体を写真感
光材料の帯電防止層中に適用する方法は水、有機
溶媒(例えば、メタノール、エタノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、アセトニ
トリル、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等、特にメタノール、
エタノールが好ましい)又はこれらの混合溶媒を
加て分散させたのち噴霧、塗布あるいは、該溶液
中に浸漬して乾燥すればよい。 又、ゼラチン、ポリビニルアルコール、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートフタレー
ト、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル等のバインダーと共に用いて帯電防止層として
もよい。 本発明の一般式()で表わされる架橋重合体
を含有する層には含フツ素界面活性剤、マツト剤
を併用するととくに好ましい結果が得られる、と
くに含フツ素界面活性剤の併用では、スタチツク
マーク防止に効果が大きい。更に上記層には硬化
剤、すべり剤、アンチハレーシヨン防止染料等各
種の目的の添加剤を含有させてもよい。 本発明の一般式()で表わされる架橋重合体
と併用して好ましい効果の得られるマツト剤とし
ては硫酸バリウムストロンチウム、ポリメタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸メチル−メタクリル酸
共重合体、粉末シリカ、酸化チタン等がある。マ
ツト剤の粒径としては1〜10μ、特に1〜5μであ
ることが好ましい。マツト剤の使用量としては感
光材料の1m2当り1〜1000mg、特に10〜300mgで
あることが好ましい。 本発明の架橋重合体と併用して特に好ましく用
いられる含フツ素界面活性剤は、下記一般式で表
わされる。 一般式() Rf−A−X 式中Rfは少なくとも3個のフツ素原子を含有
する部分フツ素化又は全フツ素化された置換、無
置換のアルキル基、アルケニル基、もしくはアリ
ール基を表わす。Aは二価の連結基を表わし、X
は水溶性基を表わす。 Aは、好ましくはアルキル基、アリール基及び
アルキルアリール基を表わし、これは酸素、エス
テル基、アミド基、スルホニル基、硫黄の如き異
種原子で中断された二価の置換、無置換の連結基
であつても良い。 Xは親水性基であり、例えば一般式 ―(B−O)o5R13のポリオキシアルキレン基 (ここでBは−CH2CH2−、 −CH2CH2CH2−又は
[Formula]), etc. can be mentioned. l is 0 or 1. m is an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2. n is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 5. Examples of monomer A include ethylene, propylene,
Nobran, isobran, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, ethylenically unsaturated esters of fatty acids (e.g. vinyl acetate, allyl acetate), esters of ethylenically unsaturated carboxylic acids (e.g. methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate) , n-hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, n-butyacrylate, n-hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), monoethylenically unsaturated compounds (e.g. acrylonitrile) or diels (e.g. butadiene, isoprene), etc. be able to. Examples of monomer B include divinylbenzene, trivinylcyclohexane, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, Erythritol tetraacrylate is mentioned. Examples of M include monovalent cations such as hydrogen ions, sodium ions, potassium ions, lithium ions, cesium ions, and ammonium ions, as well as polyvalent cations such as calcium ions, barium ions, and aluminum ions. Among these, monovalent cations are preferred. w is 10 to 95 mol%, preferably 30 to 80 mol%,
x is 3 to 88 mol%, preferably 10 to 60 mol%, y
is 0 to 50 mol%, preferably 0 to 30 mol%, and z is 2 to 30 mol%, preferably 5 to 20 mol%. The method for synthesizing the crosslinked polymer of the present invention is shown below.
The present invention is not limited to these. First, the monomers represented by the general formula (), the monomers represented by the general formula (), the monomers represented by A in the general formula (), and the monomers represented by B in the general formula (), for example, are researched. Disclosure (Research
Examples include a method of direct emulsion copolymerization in water, followed by neutralization with an alkali, if necessary, as described in Vol. 16, Section 16102 of Disclosure. General formula () Here, R 1 , L, l and m are as already shown. General formula () Here, R 2 , R 3 , R 4 and n are as already shown. Second, the monomer represented by the above general formula (), the monomer represented by A in the general formula (), and the monomer represented by B in the general formula () are emulsion copolymerized in water to obtain the general formula ().
An example of this method is to prepare a crosslinked polymer dispersion represented by the following formula and then saponify it with an alkali in the same manner as described in US Pat. No. 4,301,240. General formula () Here R 2 , R 3 , R 4 , n, A, B, w, x, y,
z is as already shown. Furthermore, thirdly, the monomer represented by the general formula (), the monomer represented by the general formula (), the monomer represented by A in the general formula (), and the monomer represented by B in the general formula (), for example, in the US patent An example of this method is to carry out inverse emulsion copolymerization in the same manner as the method described in No. 4301240, then redisperse the produced crosslinked polymer in water, and further neutralize with an alkali if necessary. Among these methods, a preferred method is selected depending on the type of each monomer and the copolymerization ratio. Examples of the crosslinked polymer of the present invention are shown below. Examples of synthesis of the crosslinked polymer dispersion of the present invention are shown below. Synthesis Example 1 Synthesis of Crosslinked Polymer Example 1 In a 2L three-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, and thermometer, 480ml of distilled water and an emulsifier (Sanyo Chemical Co., Ltd.) were added.
(commercially available under the trade name Sandetto BL) 1.95g and methoxyethyl acrylate
A mixed solution of 104.1 g and 26.0 g of divinylbenzene was added, and the mixture was stirred at 90° C. and 250 rpm under a nitrogen stream. After the air in the vessel was sufficiently replaced with nitrogen, a solution of 0.54 g of potassium persulfate dissolved in 30 ml of distilled water was added to start emulsion polymerization. After heating and stirring at 90℃ for 1.5 hours, the crosslinked polymer dispersion (latex) became cloudy.
I got it. Furthermore, add 0.054g of potassium persulfate to distilled water.
After adding the solution dissolved in 10 ml and continuing heating and stirring for 30 minutes, the mixture was cooled to room temperature. After some aggregates were separated, 629.5 g of a crosslinked polymer dispersion (latex) with a solid content concentration of 19.7 wt% was obtained. The crosslinked polymer particle diameter determined by dynamic light scattering was 0.154μ. The above crosslinked polymer dispersion (latex) was placed in a separate 3L three-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer and dropping funnel, and the mixture was heated at 300 rpm at room temperature.
Add 4.19 g of potassium hydroxide to distilled water while stirring.
A solution dissolved in 183 ml was added dropwise over 1 hour. After further stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was heated to 98-99°C and stirred for 2 and a half hours. Then potassium hydroxide 7.42
A solution prepared by dissolving 10 g in 183 ml of distilled water was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was heated and stirred at 98 to 99°C for 3 and a half hours. Furthermore, a solution of 25.6 g of potassium hydroxide dissolved in 632 ml of distilled water was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was heated and stirred at 98 to 99° C. for 12 hours. The mixture was cooled to room temperature, purified by dialysis, and then concentrated to obtain 1237 g of a dispersion of Crosslinked Polymer Example 1. The solid content concentration was 8.77 wt%, the saponification rate determined by acid-base titration was 72.5%, and the crosslinked polymer particle diameter determined by dynamic light scattering was 0.431 μ. Synthesis Example 2 Synthesis of Crosslinked Polymer Example 6 Add 1 liter of distilled water to a 3L three-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, and constant flow rate dropping pump.
, emulsifier (same as the emulsifier used in Synthesis Example 1)
4.45 g was added and stirred at 94-95°C and 250 rpm under a nitrogen stream. After sufficiently replacing the air in the vessel with nitrogen, dissolve (1) a mixed solution of 90.0 g of acrylic acid, 32.5 g of methoxyethyl acrylate, and 58.6 g of pentaerythritol tetraacrylate, and (2) 2.8 g of potassium persulfate in 140 ml of distilled water. (3) A solution in which 1.4 g of sodium bisulfite and 0.56 g of ferrous chloride were dissolved in 140 ml of distilled water were simultaneously added dropwise over an hour and a half. After the dropwise addition was completed, the mixture was heated and stirred for 15 minutes, and then a solution of 2.8 g of potassium persulfate and 2.8 g of sodium bisulfite dissolved in 140 ml of distilled water was added, and the mixture was further heated and stirred for 1 hour and 15 minutes. Next, a solution of 40.0 g of sodium hydroxide dissolved in 200 ml of distilled water was slowly poured into the solution to neutralize it, and then cooled to room temperature. Crosslinked polymer example 6, excluding some aggregates
1751 g of a dispersion of was obtained. Solid content concentration is 11.0wt%,
The particle size of the crosslinked polymer determined by dynamic light scattering was 0.229μ. The amount of the crosslinked polymer represented by the general formula () varies depending on the type, form, coating method, etc. of the photographic material used. However, in general, the amount used is 0.1 per m 2 of photographic material.
-10g is good, especially 0.5-5g is desirable. The method for applying the crosslinked polymer represented by the general formula () into the antistatic layer of a photographic light-sensitive material is to use water, an organic solvent (for example, methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, acetonitrile, dioxane, dimethylformamide, formamide). , dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc., especially methanol,
(preferably ethanol) or a mixed solvent thereof may be added and dispersed, followed by spraying, coating, or immersion in the solution and drying. Further, it may be used together with a binder such as gelatin, polyvinyl alcohol, cellulose acetate, cellulose acetate phthalate, polyvinyl formal, or polyvinyl butyral to form an antistatic layer. Particularly favorable results can be obtained when a fluorine-containing surfactant and a matting agent are used in combination with the layer containing the crosslinked polymer represented by the general formula () of the present invention. Great for preventing tick marks. Furthermore, the above layer may contain additives for various purposes such as a curing agent, a slip agent, and an antihalation dye. Matting agents that can be used in combination with the crosslinked polymer represented by the general formula () of the present invention to obtain a preferable effect include barium strontium sulfate, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, powdered silica, and titanium oxide. etc. The particle size of the matting agent is preferably 1 to 10 microns, particularly 1 to 5 microns. The amount of matting agent used is preferably 1 to 1000 mg, particularly 10 to 300 mg per m 2 of the light-sensitive material. A fluorine-containing surfactant particularly preferably used in combination with the crosslinked polymer of the present invention is represented by the following general formula. General formula () Rf-A-X In the formula, Rf represents a partially fluorinated or fully fluorinated substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, or aryl group containing at least 3 fluorine atoms. . A represents a divalent linking group, and X
represents a water-soluble group. A preferably represents an alkyl group, an aryl group, or an alkylaryl group, which is a divalent substituted or unsubstituted linking group interrupted by a heteroatom such as oxygen, an ester group, an amide group, a sulfonyl group, or sulfur. It's okay if it's hot. X is a hydrophilic group, for example, a polyoxyalkylene group of the general formula -(B-O) o5 R 13 (where B is -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 - or

【式】 を表わし、n5はポリオキシアルキレン基の平均
重合度を表わし、1〜50の数である。又R13は置
換、無置換のアルキル基、アリール基を表わす)
で表わされるノニオン基、親水性ベタイン基例え
[Formula] is represented, and n5 represents the average degree of polymerization of the polyoxyalkylene group, and is a number from 1 to 50. ( R13 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group)
Nonionic group represented by, hydrophilic betaine group, e.g.

【式】及び[Formula] and

【式】(式中AlKは炭素数1〜5 の低級アルキレン基例えばメチレン、エチレン、
プロピレン、ブチレンを表わし、R14,R15は炭
素数1〜8の置換、無置換のアルキル基、アリー
ル基、例えばメチル基、エチル基、ベンジル基等
を表わす)および親水性カチオン基、例えば
[Formula] (In the formula, AlK is a lower alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, such as methylene, ethylene,
propylene, butylene, R 14 and R 15 represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, etc.) and a hydrophilic cation group, such as

【式】 (式中、R14,R15,R16は前記R14と同義であ
り、Y は陰イオンを表わす。) であり、および好ましくは親水性アニオン基例え
ば−SO3M、−OSO3M、−COOM、
[Formula] (wherein R 14 , R 15 , R 16 have the same meanings as R 14 above, and Y represents an anion), and preferably a hydrophilic anion group such as -SO 3 M, -OSO 3 M,−COOM,

【式】等が挙げられる。ここでMは 無機又は有機の陽イオンを表わす。 本発明の代表的な含フツ素界面活性剤の具体例
を以下に示す。 化合物例 −1 C7F15COOH −2 H―(CF2―)8CH2COONH4 −3 C8F17SO3K −5 H―(CF2―)6COOCH2CH2CH2SO3Na −10 C8F17CH2CH2O―(CH2CH2O―)o5H n5:12 本発明で使用される含フツ素界面活性剤の使用
量は一般に写真感光材料の1m2当り0.001〜1g
でよく、特に5〜300mgが好ましい。 本発明の架橋重合体を含む帯電防止層として
は、乳剤層と同じ側の下塗り層、中間層、表面保
護層、オーバーコート層、乳剤層と反対側のバツ
ク層等が挙げられる。この内特に、表面保護層、
オーバーコート層又はバツク層等の最表面層又は
それに隣接する層が好ましい。 本発明の架橋重合体を適用し得る支持体には、
例えば、ポリエチレンのようなポリオレフイン、
ポリスチレン、セルローストリアセテートのよう
なセルロース誘導体、ポリエチレンテレフタレー
トのようなセルロースエステル等のフイルム又は
バライタ紙、合成紙又は紙等の両面をこれらのポ
リマーフイルムで被覆したシートからなる支持体
及びその類似物等が含まれる。 本発明に用いる支持体には、アンチハレーシヨ
ン層を設けることもできる、この目的のためには
カーボンブラツクあるいは各種の染料、例えば、
オキソール染料、アゾ染料、アリーリテン染料、
スチリル染料、アントラキノン染料、メロシアニ
ン染料及びトリ(又はジ)アリルメタン染料等が
あげられる。カーボンブラツク染料のバインダー
としては、セルロースアセテート(ジ又はモノ)、
ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、
ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エス
テル、ポリスチレン、スチレン/無水マレイン酸
共重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル/無水マ
レイン酸共重合体、メチルビニルエーテル/無水
マレイン酸共重合体、ポリ塩化ビニリデン、及び
それらの誘導体を用いることができる。 本発明に係る写真感光材料としては、通常の白
黒ハロゲン化銀写真感光材料(例えば、撮影用白
黒感材、X−ray用白黒感材、印刷用白黒感材、
等)、通常の多層カラー写真感光材料(例えば、
カラーリバーサルフイルム、カラーネガテイブフ
イルム、カラーポジテイブフイルム、等)、種々
の写真感光材料を挙げることができる。とくに、
高温迅速処理用ハロゲン化銀写真感光材料、高感
度ハロゲン化銀写真感光材料に効果が大きい。 本発明の写真感光材料に用いることのできるそ
の他の構成要件、たとえばハロゲン化銀乳剤の種
類及び製法、化学増感剤、分光増感剤、カブリ防
止剤、安定剤、カラーカプラー、ゼラチン等バイ
ンダー、硬膜剤、ポリマーラテツクス、塗布助
剤、すべり剤、本発明の帯電防止剤以外の帯電防
止剤、及び本発明の写真感光材料の露光、現像方
法については特に制限はなく、たとえば
Research Disclosure誌176巻22〜31頁(1978年
12月)の記載を参考にすることができる。 例えばゼラチンとしては酸処理ゼラチン又は石
灰処理ゼラチンを好ましく用いることが出来る。 ポリマーとしては、セルロース化合物、寒天、
デキストランアルギン酸ソーダ、でんぷん誘導体
等の糖誘導体、合成親水性コロイド(例えばポリ
ビニルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリド
ン、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体)を
用いることができる。 硬膜剤としてはビニルスルホン基等を有する活
性ビニル化合物又は2,4ジクロロ−6−ヒドロ
キシ−s−トリアジンの如き活性ハロゲン化合物
が好ましく用いられる。 以下に実施例を挙げて本発明を更に説明するが
本発明はこれに限定されるものではない。 実施例 1 (1) 試料の調製: 下塗りを施した厚さ180μのポリエチレンテレ
フタレートフイルム支持体の上に、下記組成のハ
ロゲン化銀乳剤層を塗布し、更にその上に下記組
成の保護層を塗布し、乾燥して白黒ハロゲン化銀
感光材料を調製した。 (乳剤層) 厚さ:約5μ 組成及び塗布量 石灰処理ゼラチン 2.5g/m2 沃臭化銀(沃化銀1.5モル%) 5g/m2 1−フエニル−5−メルカプトテトラゾール
25mg/m2 (保護層) 厚さ:約1μ 組成及び塗布量 石灰処理ゼラチン 1.7g/m2 2,6−ジクロル−4−ヒドロキシ−1,
3,5−トリアジンナトリウム塩 10mg/m2 N−オレイル−N−メチルタウリン酸ナトリ
ウム 7mg/m2 試料No.1は上記組成のみから成り、試料No.2〜
8は試料No.1の組成に加えて保護層に本発明重合
体又は比較重合体を1.7g/m2相当量加えた。更
に試料No.9〜15は試料No.1の保護層のゼラチンの
半分量を本発明重合体又は比較重合体に置きかえ
(0.85g/m2に相当)作成した。 (2) 帯電防止性の判定法: 帯電防止能は表面抵抗率及びスタチツクマーク
発生の測定によつて決めた。表面抵抗率は試料
の試験片を電極間隔0.14cm、長さ10cmの真鍮製電
極(試験片と接する部分はステンレス使用)に挾
さみ、タケダ理研製絶縁計TR8651型で1分値を
測定する。スタチツクマーク発生試験は、ゴム
シート上に未露光感光材料の帯電防止剤を含む表
面を下向きにして、上からゴムローラーで圧着
後、剥離することによりスタチツクマークを発生
生させる方法によつた。 各測定条件は、表面抵抗率は、25℃、25%RH
および25℃10%RHで測定し、スタチツクマーク
発生試験は、25℃、25%RHおよび25℃、10%
RHで行つた。なお、試料の試験片の調湿は前記
条件で一昼夜行なつた。 スタチツクマークの発生の程度を評価するため
に、各サンプルを次の組成の現像液を用いて20℃
で5分間現像した。 現像液組成 N−メチル−p−アミノフエノール硫酸酸塩
4g 無水亜硫酸塩 60g ハイドロキノン 10g 炭酸ソーダ(1水塩) 53g 臭化カリ 25g 水を加えて1とする。 スタチツクマークの評価は次の5段階の規準に
従つた。 A:スタチツクマークの発生が認められない。 B:スタチツクマークが少し発生する。 C:スタチツクマークが相当発生する。 D:スタチツクマークが著しく発生する。 E:スタチツクマークが全面に発生する。 結果を第1表に示す。
Examples include [Formula]. M here represents an inorganic or organic cation. Specific examples of typical fluorine-containing surfactants of the present invention are shown below. Compound example-1 C 7 F 15 COOH -2 H- (CF 2 -) 8 CH 2 COONH 4 -3 C 8 F 17 SO 3 K -5 H- (CF 2 -) 6 COOCH 2 CH 2 CH 2 SO 3 Na −10 C 8 F 17 CH 2 CH 2 O— (CH 2 CH 2 O—) o5 H n5: 12 The amount of the fluorine-containing surfactant used in the present invention is generally 0.001 to 1 g per 1 m 2 of the photographic material.
5 to 300 mg is particularly preferred. Examples of the antistatic layer containing the crosslinked polymer of the present invention include an undercoat layer on the same side as the emulsion layer, an intermediate layer, a surface protective layer, an overcoat layer, and a back layer on the opposite side to the emulsion layer. Among these, in particular, a surface protective layer,
An outermost layer such as an overcoat layer or a back layer or a layer adjacent thereto is preferred. Supports to which the crosslinked polymer of the present invention can be applied include:
For example, polyolefins such as polyethylene,
Supports made of films such as polystyrene, cellulose derivatives such as cellulose triacetate, and cellulose esters such as polyethylene terephthalate, or sheets of baryta paper, synthetic paper, or paper coated with these polymer films on both sides, and their similar materials, etc. included. The support used in the present invention may also be provided with an antihalation layer; for this purpose, carbon black or various dyes, such as
Oxole dyes, azo dyes, aryrite dyes,
Examples include styryl dyes, anthraquinone dyes, merocyanine dyes, and tri(or di)allylmethane dyes. As a binder for carbon black dye, cellulose acetate (di or mono),
polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral,
polyvinyl acetal, polyvinyl formal,
Polymethacrylic ester, polyacrylic ester, polystyrene, styrene/maleic anhydride copolymer, polyvinyl acetate, vinyl acetate/maleic anhydride copolymer, methyl vinyl ether/maleic anhydride copolymer, polyvinylidene chloride, and Derivatives thereof can be used. The photographic material according to the present invention includes ordinary black-and-white silver halide photographic materials (for example, black-and-white photographic materials, black-and-white photographic materials for X-rays, black-and-white photographic materials for printing,
etc.), ordinary multilayer color photographic materials (e.g.
(color reversal film, color negative film, color positive film, etc.) and various photographic materials. especially,
Great effect on silver halide photographic materials for high-temperature rapid processing and high-sensitivity silver halide photographic materials. Other components that can be used in the photographic material of the present invention, such as the type and manufacturing method of silver halide emulsions, chemical sensitizers, spectral sensitizers, antifoggants, stabilizers, color couplers, binders such as gelatin, There are no particular restrictions on the hardening agent, polymer latex, coating aid, slip agent, antistatic agent other than the antistatic agent of the present invention, and the exposure and development method of the photographic material of the present invention.
Research Disclosure, Vol. 176, pp. 22-31 (1978)
You can refer to the description in December). For example, as the gelatin, acid-treated gelatin or lime-treated gelatin can be preferably used. Polymers include cellulose compounds, agar,
Sugar derivatives such as dextran sodium alginate, starch derivatives, and synthetic hydrophilic colloids (eg, polyvinyl alcohol, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylamide, or derivatives thereof) can be used. As the hardening agent, an active vinyl compound having a vinyl sulfone group or the like or an active halogen compound such as 2,4 dichloro-6-hydroxy-s-triazine is preferably used. The present invention will be further explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 (1) Preparation of sample: A silver halide emulsion layer with the following composition was coated on a polyethylene terephthalate film support with a thickness of 180 μm that had been undercoated, and a protective layer with the following composition was further coated on top of the silver halide emulsion layer. The mixture was dried to prepare a black and white silver halide photographic material. (Emulsion layer) Thickness: Approximately 5μ Composition and coating amount Lime-treated gelatin 2.5g/m 2 Silver iodobromide (silver iodide 1.5 mol%) 5g/m 2 1-phenyl-5-mercaptotetrazole
25mg/m 2 (protective layer) Thickness: approx. 1μ Composition and coating amount Lime-treated gelatin 1.7g/m 2 2,6-dichloro-4-hydroxy-1,
3,5-triazine sodium salt 10 mg/m 2 Sodium N-oleyl-N-methyltaurate 7 mg/m 2 Sample No. 1 consists only of the above composition, and Sample No. 2 to
In Sample No. 8, in addition to the composition of Sample No. 1, the polymer of the present invention or a comparative polymer was added to the protective layer in an amount equivalent to 1.7 g/m 2 . Further, Samples Nos. 9 to 15 were prepared by replacing half of the gelatin in the protective layer of Sample No. 1 with the polymer of the present invention or the comparative polymer (equivalent to 0.85 g/m 2 ). (2) Method for determining antistatic property: Antistatic property was determined by measuring surface resistivity and static mark generation. Surface resistivity is measured by placing a test piece of the sample between brass electrodes with an electrode spacing of 0.14 cm and a length of 10 cm (the part in contact with the test piece is made of stainless steel), and measuring the value for 1 minute using a Takeda Riken insulation meter TR8651. . The static mark generation test was conducted by placing an unexposed photosensitive material on a rubber sheet with the antistatic agent-containing surface facing downward, pressing it with a rubber roller from above, and then peeling it off to generate static marks. . Each measurement condition is surface resistivity: 25℃, 25%RH
Measured at 25℃, 10%RH, static mark generation test is 25℃, 25%RH and 25℃, 10%
I went with RH. The humidity of the sample test piece was maintained under the above conditions all day and night. To evaluate the degree of static mark generation, each sample was incubated at 20°C using a developer with the following composition.
Developed for 5 minutes. Developer composition N-methyl-p-aminophenol sulfate
4g Anhydrous sulfite 60g Hydroquinone 10g Soda carbonate (monohydrate) 53g Potassium bromide 25g Add water to make 1. The evaluation of static marks was based on the following five-level criteria. A: No static marks were observed. B: Some static marks occur. C: Significant static marks occur. D: Significant static marks occur. E: Static marks appear on the entire surface. The results are shown in Table 1.

〔バツク層〕[Back layer]

第1層 塗布量(g/m2) バインダー:ゼラチン 1.644 塗布剤:スルホコハク酸ジオクチルエステルナ
トリウム塩 0.585 増粘剤:ポリスチレンスルホン酸ソーダ 0.023 第2層 バインダー:ゼラチン 6.00 塗布剤:スルホコハク酸ジオクチルエステルナ
トリウム塩 1.725 硬膜剤:2,6−ジクロル−4−ヒドロキシ−
1,3,5−トリアジンナトリウム塩 0.063 バツク保護層(第3層) バインダー:ゼラチン 0.612 マツト剤:ポリメチルメタクリレート(平均粒
径3.5μ) 0.225 塗布剤:スルホコハク酸ジオクチルエステルナト
リウム塩 1.419 含フツ素界面活性剤:化合物例−4 0.005 硬膜剤:2,6−ジクロル−4−ヒドロキシ−
1,3,5−トリアジンナトリウム塩 0.011 〔カラー感光層〕 第1層:ハレーシヨン防止層 黒色コロイド銀を含むゼラチン層 第2層:中間層 2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノンの乳
化分散物を含むゼラチン層 第3層:第1赤感乳剤層 沃臭化銀乳剤(沃化銀:5モル%)…… 銀塗布量 1.79g/m2 増感色素……銀1モルに対して 6×10-5モル 増感色素……銀1モルに対して 1.5×10-5モル カプラーA……銀1モルに対して 0.04モル カプラーC−1……銀1モルに対して 0.0015モル カプラーC−2……銀1モルに対して 0.0015モル カプラーD……銀1モルに対して 0.0006モル 第4層:第2赤感乳剤層 沃臭化銀乳剤(沃化銀:4モル%)…… 銀塗布量 1.4g/m2 増感色素……銀1モルに対して 3×10-5モル 増感色素……銀1モルに対して 1.2×10-5モル カプラーA……銀1モルに対して 0.02モル カプラーC−1……銀1モルに対して 0.0008モル カプラーC−2……銀1モルに対して 0.0008モル 第5層:中間層 第2層と同じ 第6層:第1緑感乳剤層 沃臭化銀乳剤(沃化銀:4モル%)…… 塗布銀量 1.5g/m2 増感色素……銀1モルに対して 3×10-5モル 増感色素……銀1モルに対して 1×10-5モル カプラーB……銀1モルに対して 0.05モル カプラーM−1……銀1モルに対して 0.008モル カプラーD……銀1モルに対して 0.0015モル 第7層:第2緑感乳剤層 沃臭化銀乳剤(沃化銀:5モル%)…… 塗布銀量 1.6g/m2 増感色素……銀1モルに対して 2.5×10-5モル 増感色素……銀1モルに対して 0.8×10-5モル カプラーB……銀1モルに対して 0.02モル カプラーM−1……銀1モルに対して 0.003モル カプラーD……銀1モルに対して 0.0003モル 第8層:イエローフイルター層 ゼラチン水溶液中に黄色コロイド銀と2,5−
ジ−t−オクチルハイドロキノンの乳化分散物
とを含むゼラチン層。 第9層:第1青感乳剤層 沃臭化銀乳剤(沃化銀:6モル%)…… 塗布銀量 1.5g/m2 カプラーY−1……銀1モルに対して 0.25モル 第10層:第2青感乳剤層 沃臭化銀(沃化銀:6モル%)…… 塗布銀量 1.1g/m2 カプラーY−1……銀1モルに対して 0.06モル 第11層:保護層 ポリメチルメタアクリレート粒子(直径約
1.5μ)ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
(100mg/m2相当)を含むゼラチン層を塗布。 各層には上記組成物の他に、ゼラチン硬化剤や
界面活性剤を添加した。 試料を作るのに用いた化合物 増感色素:アンヒドロ−5・5′−ジクロロ−
3・3′−ジ−(γ−スルホプロピル)−9−エチ
ル−チアカルボシアニンヒドロキサイド・ピリ
ジニウム塩 増感色素:アンヒドロ−9−エチル−3・3′−
ジ−(γ−スルホプロピル)−4・5・4′−5′−
ジベンゾチアカルボシアニンヒドロキサイド・
トリエチルアミン塩 増感色素:アンヒドロ−9−エチル−5・5′−
ジクロロ−3・3′−ジ−(γ−スルホプロピル)
オキサカルボシアニン・ナトリウム塩 増感色素:アンヒドロ−5・6・5′・6′−テト
ラクロロ−1・1′−ジエチル−3・3′−ジ−
{β−〔β−(γ−スルホプロポキシ)エトキシ〕
エチルイミダゾロカルボシアニンヒドロキサイ
ドナトリウム塩 試料No.21は、上記組成のみから成り、試料No.22
〜27は試料No.21の組成に加えてバツク層の第2層
に、本発明重合体又は比較重合体を2.13g/m2
加し、試料No.28〜33は、2.66g/m2添加して作成
した。なお、本発明重合体又は比較重合体を添加
した場合、相当量のゼラチンを感じた。 帯電防止性の判定は実施例1と同様である。但
し、現像は富士フイルム(株)のCN−16処理で行な
つた。 結果を第2表に記す。
1st layer coating amount (g/m 2 ) Binder: Gelatin 1.644 Coating agent: Sulfosuccinic acid dioctyl ester sodium salt 0.585 Thickener: Polystyrene sodium sulfonate 0.023 2nd layer binder: Gelatin 6.00 Coating agent: Sulfosuccinic acid dioctyl ester sodium salt 1.725 Hardener: 2,6-dichloro-4-hydroxy-
1,3,5-triazine sodium salt 0.063 Back protective layer (third layer) Binder: Gelatin 0.612 Matting agent: Polymethyl methacrylate (average particle size 3.5μ) 0.225 Coating agent: Sulfosuccinic acid dioctyl ester sodium salt 1.419 Fluorine-containing interface Activator: Compound Example-4 0.005 Hardener: 2,6-dichloro-4-hydroxy-
1,3,5-triazine sodium salt 0.011 [Color photosensitive layer] 1st layer: Antihalation layer Gelatin layer containing black colloidal silver 2nd layer: Intermediate layer Emulsified dispersion of 2,5-di-t-octylhydroquinone Gelatin layer 3rd layer containing: 1st red-sensitive emulsion layer Silver iodobromide emulsion (silver iodide: 5 mol %)... Silver coating amount 1.79 g/m 2 Sensitizing dye... 6 x per 1 mol of silver 10 -5 mol Sensitizing dye... 1.5 x 10 -5 mol per mol of silver Coupler A... 0.04 mol per mol of silver Coupler C-1... 0.0015 mol per mol of silver Coupler C- 2...0.0015 mol per mol of silver Coupler D...0.0006 mol per mol of silver 4th layer: 2nd red-sensitive emulsion layer Silver iodobromide emulsion (silver iodide: 4 mol%)... Silver Coating amount 1.4 g/m 2 Sensitizing dye... 3 x 10 -5 mol per 1 mol of silver Sensitizing dye... 1.2 x 10 -5 mol per 1 mol of silver Coupler A... Per 1 mol of silver 0.02 mol Coupler C-1...0.0008 mol per mol of silver Coupler C-2...0.0008 mol per mol of silver 5th layer: Intermediate layer 6th layer same as 2nd layer: 1st green sense Emulsion layer Silver iodobromide emulsion (silver iodide: 4 mol%) Coated silver amount 1.5 g/m 2 Sensitizing dye... 3 x 10 -5 mol per 1 mol of silver Sensitizing dye... 1 silver 1×10 -5 mole per mole Coupler B...0.05 mole per mole of silver Coupler M-1...0.008 mole per mole of silver Coupler D...0.0015 mole per mole of silver 7th Layer: 2nd green-sensitive emulsion layer Silver iodobromide emulsion (silver iodide: 5 mol%) Coated silver amount 1.6 g/m 2 Sensitizing dye... 2.5 x 10 -5 mol increase per 1 mol of silver Sensitive dye... 0.8×10 -5 mol per mol of silver Coupler B... 0.02 mol per mol of silver Coupler M-1... 0.003 mol per mol of silver Coupler D... 0.003 mol per mol of silver 0.0003 mol 8th layer: Yellow filter layer Yellow colloidal silver and 2,5-
and an emulsified dispersion of di-t-octylhydroquinone. 9th layer: 1st blue-sensitive emulsion layer Silver iodobromide emulsion (silver iodide: 6 mol %)... Coated silver amount 1.5 g/m 2 Coupler Y-1... 0.25 mol per 1 mol of silver 10th Layer: 2nd blue-sensitive emulsion layer Silver iodobromide (silver iodide: 6 mol%) Coated silver amount 1.1 g/m 2 Coupler Y-1... 0.06 mol per mol of silver 11th layer: Protection Layered polymethyl methacrylate particles (diameter approx.
1.5 μ) Apply a gelatin layer containing sodium dodecylbenzenesulfonate (equivalent to 100 mg/m 2 ). In addition to the above composition, a gelatin hardener and a surfactant were added to each layer. Compound sensitizing dye used to prepare the sample: anhydro-5,5'-dichloro-
3,3'-di-(γ-sulfopropyl)-9-ethyl-thiacarbocyanine hydroxide pyridinium salt sensitizing dye: anhydro-9-ethyl-3,3'-
Di-(γ-sulfopropyl)-4,5,4'-5'-
Dibenzothiacarbocyanine hydroxide
Triethylamine salt sensitizing dye: anhydro-9-ethyl-5.5'-
Dichloro-3,3'-di-(γ-sulfopropyl)
Oxacarbocyanine sodium salt sensitizing dye: anhydro-5,6,5',6'-tetrachloro-1,1'-diethyl-3,3'-di-
{β-[β-(γ-sulfopropoxy)ethoxy]
Ethylimidazolocarbocyanine hydroxide sodium salt Sample No. 21 consists only of the above composition, and sample No. 22
-27 added 2.13g/ m2 of the present invention polymer or comparative polymer to the second layer of the back layer in addition to the composition of sample No.21, and sample Nos.28 to 33 added 2.66g/ m2. Created by adding In addition, when the present invention polymer or comparative polymer was added, a considerable amount of gelatin was felt. The antistatic properties were evaluated in the same manner as in Example 1. However, development was carried out using Fuji Film Corporation's CN-16 process. The results are shown in Table 2.

【表】 第2表から明らかなように、比較重合体Aをバ
ツク層に添加したハロゲン化銀カラー写真感光材
料は、25℃25%RHでは十分に帯電防止されてい
るが、25℃10%RHの低湿ではスタチツクマーク
の発生が著しいことが分かる。一方、本発明重合
体をバツク層に添加したハロゲン化銀写真感光材
料は25℃10%RHの低湿でも十分に帯電防止され
ており、スタチツクマークの発生が認められない
ことが分かる。 1 特許請求の範囲において一般式()で表わ
される架橋重合体を含有する層が、表面保護
層、オーバーコート層、バツク層等の最表面層
又はそれに隣接する層であるところのハロゲン
化銀写真感光材料。 2 特許請求の範囲において一般式()で表わ
される架橋重合体を含有する層がハロゲン化銀
乳剤層に隣接する層であるところのハロゲン化
銀写真感光材料。 3 特許請求の範囲において一般式()におけ
るlが0であり、かつmが1であるところのハ
ロゲン化銀写真感光材料。 4 特許請求の範囲において架橋重合体の粒子径
が水中で0.05〜1μであるところのハロゲン化銀
写真感光材料。 5 一般式()で表わされる架橋重合体をハロ
ゲン化銀写真感光材料の構成層のハロゲン化銀
乳剤層以外の少なくとも一層に含有させること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の帯電
防止法。
[Table] As is clear from Table 2, the silver halide color photographic light-sensitive material in which Comparative Polymer A was added to the back layer was sufficiently antistatic at 25°C and 25% RH, but at 25°C and 10% RH. It can be seen that static marks occur significantly at low RH humidity. On the other hand, it can be seen that the silver halide photographic material containing the polymer of the present invention added to the back layer has sufficient antistatic properties even at low humidity of 25° C. and 10% RH, and no static marks are observed. 1 A silver halide photograph in which the layer containing the crosslinked polymer represented by the general formula () in the claims is the outermost layer such as a surface protective layer, overcoat layer, back layer, etc. or a layer adjacent thereto. photosensitive material. 2. A silver halide photographic material in which the layer containing the crosslinked polymer represented by the general formula () in the claims is a layer adjacent to a silver halide emulsion layer. 3. A silver halide photographic material in which l in the general formula () is 0 and m is 1 in the claims. 4. A silver halide photographic material as claimed in the claims, wherein the crosslinked polymer has a particle size of 0.05 to 1 μm in water. 5. A method for preventing static electricity in a silver halide photographic material, which comprises containing a crosslinked polymer represented by the general formula () in at least one of the constituent layers of the silver halide photographic material other than the silver halide emulsion layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料であつて、該乳剤層
以外の少なくとも一層に下記一般式()で表わ
される架橋重合体を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀写真感光材料。 一般式() 式中、R1およびR2は水素原子、メチル基ある
いはカルボキシルメチル基を表わし、R3は水素
原子、炭素数1〜7の、アルキル基、シクロアル
キル基、アリール基又はアシル基を表わし、R4
は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わ
す。R3とR4とは互いに連結して環を形成しても
よい。又、R3,R4の各基は無置換、あるいは置
換されている。Lは2価、3価又は4価の連結基
を表わす。lは0又は1を、mは1〜3の整数
を、又nは1〜10の整数を表わす。Aは共重合可
能なエチレン性不飽和モノマーを共重合したモノ
マー単位を表わす。Bは共重合可能なエチレン性
不飽和基を少なくとも2つ有する共重合可能な架
橋モノマーを共重合したモノマー単位を表わす。
Mは陽イオンを表わす。wは10〜90モル%、x
は3〜88モル%、yは0〜50モル%、zは2〜30
モル%である。
[Scope of Claims] 1. A silver halide photographic material having at least one silver halide emulsion layer, which contains a crosslinked polymer represented by the following general formula () in at least one layer other than the emulsion layer. A silver halide photographic material characterized by: General formula () In the formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom, a methyl group or a carboxylmethyl group, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an acyl group having 1 to 7 carbon atoms, and R Four
represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 3 and R 4 may be linked to each other to form a ring. Further, each group of R 3 and R 4 is unsubstituted or substituted. L represents a divalent, trivalent or tetravalent linking group. l represents 0 or 1, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer of 1 to 10. A represents a monomer unit copolymerized with a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer. B represents a monomer unit obtained by copolymerizing a copolymerizable crosslinking monomer having at least two copolymerizable ethylenically unsaturated groups.
M represents a cation. w is 10 to 90 mol%, x
is 3 to 88 mol%, y is 0 to 50 mol%, z is 2 to 30
It is mole%.
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