JPH037404Y2 - - Google Patents

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JPH037404Y2
JPH037404Y2 JP2193686U JP2193686U JPH037404Y2 JP H037404 Y2 JPH037404 Y2 JP H037404Y2 JP 2193686 U JP2193686 U JP 2193686U JP 2193686 U JP2193686 U JP 2193686U JP H037404 Y2 JPH037404 Y2 JP H037404Y2
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plating
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chopper
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reactor
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、めつき処理の際に用いられるめつ
き用直流電源装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to a plating DC power supply device used during plating processing.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、多量の被めつき物のめつき処理を行なう
場合、大容量の直流電源により複数のめつき槽の
めつき電極に給電していたが、経済的理由によ
り、一品種、多量の大規模なめつき処理から多品
種、少量の小規模なめつき処理に移行せざるを得
ないことがあり、この場合、それまで使用してい
た大容量の直流電源により少量の被めつき物のめ
つき処理を行なうと損失が大きく、非常に不経済
である。
Conventionally, when plating a large amount of materials to be plated, a large-capacity DC power supply was used to supply power to the plating electrodes in multiple plating tanks. There are times when we have to shift from plating to small-scale plating of a wide variety of products and small quantities. Doing so results in large losses and is extremely uneconomical.

〔考案が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention attempts to solve]

そこで、新たに小容量の直流電源を設けること
が考えられるが、設置スペースを新しく確保する
必要があり、しかも既存の大容量の直流電源が遊
ぶことになり、やはり経済性に欠けるという問題
点がある。
Therefore, it may be possible to install a new small-capacity DC power supply, but this would require new installation space, and the existing large-capacity DC power supply would be idle, which would be uneconomical. be.

したがつて、この考案は、既存の大容量の直流
電源を用いて小規模なめつき処理を経済的に行な
えるようにすることを技術的課題とする。
Therefore, the technical problem of this invention is to enable small-scale plating processing to be performed economically using the existing large-capacity DC power supply.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この考案は、前記の点に留意してなされたもの
であり、大容量直流電源と、前記直流電源の両出
力端子に並列に接続されたスイツチング素子の高
周波スイツチングによる複数個のチヨツパ型の直
流−直流変換部と、前記各変換部の出力端子にそ
れぞれめつき用電極が接続された複数個のめつき
槽とを備えためつき用直流電源装置である。
This invention was made with the above points in mind, and uses a large-capacity DC power supply and a plurality of chopper-type DC power sources using high-frequency switching of switching elements connected in parallel to both output terminals of the DC power supply. The present invention is a DC power supply device for laminating, which includes a DC converter and a plurality of plating tanks each having a plating electrode connected to an output terminal of each converter.

〔作用〕[Effect]

そして、この考案では、大容量直流電源の直流
出力が各チヨツパ型直流−直流変換部によりそれ
ぞれ各めつき用負荷に分配されることになり、既
存の大容量直流電源を用いて小規模なめつき処理
を経済的に行なえる。
In addition, with this idea, the DC output of a large-capacity DC power supply is distributed to each plating load by each chopper type DC-DC converter, so that small-scale plating can be performed using an existing large-capacity DC power supply. Processing can be done economically.

このとき、複数個のチヨツパ型直流−直流変換
部を用い、しかも各変換部を構成するスイツチン
グ素子を高周波スイツチングさせるため、直流レ
ギユレータ等に比べ、各変換部における損失を軽
減でき、電源の運転効率の向上が図れる。
At this time, since multiple chopper type DC-DC converters are used and the switching elements constituting each converter are subjected to high frequency switching, the loss in each converter can be reduced compared to a DC regulator, etc., and the operating efficiency of the power supply can be improved. can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

つぎに、この考案を、その1実施例を示した図
面とともに詳細に説明する。
Next, this invention will be explained in detail with reference to drawings showing one embodiment thereof.

まず、第1図において、1は大容量直流電源、
21,22,23,……,2Nは電源1の両出力
端子に並列に接続されたスイツチング素子の高周
波スイツチングによるチヨツパ型の第1、第2、
第3,…,第N直流−直流変換部(以下第1〜第
N変換部という)、31,32,33,…,3N
はめつき金属塩溶液が注入された第1、第2、第
3,…,第Nめつき槽であり、各変換部21〜2
Nの両出力端子それぞれに、溶液中に浸漬された
めつき金属および被めつき金属からなるめつき用
電極が接続されている。
First, in Fig. 1, 1 is a large-capacity DC power supply;
21, 22, 23, . . . , 2N are chopper-type first, second, and
3rd,..., Nth DC-DC converters (hereinafter referred to as 1st to Nth converters), 31, 32, 33,..., 3N
These are first, second, third, ..., N-th plating tanks into which the plating metal salt solution is injected, and each of the conversion units 21 to 2
Plating electrodes made of a plating metal and a plating metal immersed in a solution are connected to both output terminals of the N.

つぎに、各変換部21〜2Nの詳細な構成を示
す第2図において、1a,1bは電源1の正、負
出力端子、4は一端が正出力端子1aに接続され
た平滑用第1リアクトル、5は両端が第1リアク
トル4の他端および負出力端子1bに接続された
平滑用第1コンデンサ、6はそれぞれドレインが
正出力端子1aに接続されゲートが後述のゲート
制御回路に接続されたスイツチング素子としての
複数個のFET6a,6b,…からなる第1チヨ
ツパ部、7は第2チヨツパ部であり、それぞれド
レインが正出力端子1aに接続されゲートが後述
のゲート制御回路に接続されたスイツチング素子
としての複数個のFET7a,7b,…により構
成されている。
Next, in FIG. 2 showing the detailed configuration of each conversion unit 21 to 2N, 1a and 1b are the positive and negative output terminals of the power source 1, and 4 is a first smoothing reactor whose one end is connected to the positive output terminal 1a. , 5 is a first smoothing capacitor whose both ends are connected to the other end of the first reactor 4 and the negative output terminal 1b, and 6 is a first smoothing capacitor whose drain is connected to the positive output terminal 1a and whose gate is connected to a gate control circuit to be described later. A first chopper section consisting of a plurality of FETs 6a, 6b, . . . as switching elements, and a second chopper section 7, each having a drain connected to the positive output terminal 1a and a gate connected to a gate control circuit described later. It is composed of a plurality of FETs 7a, 7b, . . . as elements.

8は一端が両チヨツパ部6,7の各FET6a,
6b,…,7a,7b,…のソースに接続された
平滑用第2リアクトル、9は両端が第2リアクト
ル8の他端および負出力端子1bに接続された平
滑用第2コンデンサ、10はアノード、カソード
が負出力端子1b、第2リアクトル8の一端に接
続されたフライホイルダイオード、11a,11
bはそれぞれ第2リアクトル8の他端および負出
力端子1bに接続された変換部の正、負出力端
子、12は両負出力端子1b,11b間に挿入さ
れめつき電流、すなわち負荷電流を検出して該電
流に応じた検出信号を出力する電流検出器、13
はゲート制御回路であり、前記検出信号が入力さ
れ、両チヨツパ部6および7のFET6a,6b,
…および7a,7b,…のゲートに50kHz程度の
高周波数のゲート制御信号を出力し、各FET6
a,…,7a…を高周波スイツチングさせ、負荷
電流が一定になるように両チヨツパ部6,7をパ
ルス幅制御するようになつており、第2図に示す
回路により、各変換部21〜2Nが構成されてい
る。
8 is each FET 6a with one end having both tipper portions 6 and 7,
A second smoothing reactor is connected to the sources of 6b, ..., 7a, 7b, ..., a second smoothing capacitor 9 has both ends connected to the other end of the second reactor 8 and the negative output terminal 1b, and 10 is an anode. , a flywheel diode whose cathode is connected to the negative output terminal 1b and one end of the second reactor 8, 11a, 11
12 is inserted between both negative output terminals 1b and 11b to detect the plating current, that is, the load current. a current detector that outputs a detection signal according to the current;
is a gate control circuit to which the detection signal is input, and FETs 6a, 6b,
...and 7a, 7b, ... output a high frequency gate control signal of about 50kHz to the gates of each FET6.
a, . . . , 7a . is configured.

なお、各変換部21〜2Nの両チヨツパ部6,
7のFETの数は負荷電流の大きさに応じて選定
されているものとする。
In addition, both chopper parts 6 of each conversion part 21-2N,
It is assumed that the number of FETs 7 is selected depending on the magnitude of the load current.

そして、電源1の出力電流が各変換部21〜2
Nに入力されると、各変換部21〜2Nの第1リ
アクトル4、第1コンデンサ5により電源1の出
力が平滑され、ゲート制御回路13からのゲート
制御信号により、第1チヨツパ部6の各FET6
a,…および第2チヨツパ部7の各FET7a,
…がそれぞれ第3図a,bに示すように交互にオ
ン、オフし、オン状態の第1チヨツパ部6の各
FET6a,…または第2チヨツパ部7の各FET
7a,…を介して前記平滑された電源1の出力電
流が第2リアクトル8に流れ、第2リアクトル
8、第2コンデンサ9によりさらに平滑され、電
源1の出力が各変換部21〜2Nにより分配され
て各めつき槽31〜3Nそれぞれのめつき用電極
に所定の負荷電流が供給され、各めつき槽31〜
3Nにおいて被めつき物のめつき処理が行なわれ
る。
Then, the output current of the power supply 1 is
When input to N, the output of the power supply 1 is smoothed by the first reactor 4 and first capacitor 5 of each conversion section 21 to 2N, and the output of the power supply 1 is smoothed by the first reactor 4 and first capacitor 5 of each conversion section 21 to 2N. FET6
a, ... and each FET7a of the second chopper section 7,
... are turned on and off alternately as shown in FIG. 3a and b, and each of the first chopper parts 6 in the on state
FET6a,... or each FET of the second chopper section 7
The smoothed output current of the power source 1 flows through the second reactor 8 through the second reactor 8 and the second capacitor 9, and is further smoothed by the second reactor 8 and the second capacitor 9, and the output of the power source 1 is distributed by each converter 21 to 2N. A predetermined load current is supplied to each plating electrode of each plating tank 31 to 3N, and each plating tank 31 to
At 3N, plating processing of the plated object is performed.

このとき、検出器12により検出される負荷電
流にもとづき、ゲート制御回路13により両チヨ
ツパ部6,7がパルス幅制御され、負荷電流が所
定の値に定電流制御されることになる。
At this time, based on the load current detected by the detector 12, the gate control circuit 13 controls the pulse width of both chopper sections 6 and 7, and the load current is controlled to be a constant current at a predetermined value.

また、両チヨツパ部6および7の各FET6a,
…および7a,…を交互にオン、オフさせること
により、各FET6a,…,7a,…のスイツチ
ング周波数を高くしても、損失の大きくなること
が防止されている。
In addition, each FET6a of both tipper portions 6 and 7,
By alternately turning on and off FETs 6a, 7a, . . . , even if the switching frequency of each FET 6a, 7a, . . . is increased, loss is prevented from increasing.

さらに、両チヨツパ部6,7の各FET6a,
…,7a,…を、ゲート制御回路13からの同じ
ゲート制御信号により、第4図に示すように、オ
フ期間を短くしてオン、オフさせてもよい。
Furthermore, each FET 6a of both tipper portions 6, 7,
. . , 7a, . . . may be turned on and off by the same gate control signal from the gate control circuit 13 with shortened off periods, as shown in FIG.

なお、前記実施例では、各変換部21〜2Nか
ら負荷への負荷電流が一定になるように定電流制
御する場合について説明したが、定電圧制御を行
なうようにしても、あるいは各変換部21〜2N
の入力電圧に応じて出力電圧を変動させる制御を
行なうようにしても、この考案を同様に実施する
ことができる。
In the above embodiment, a case has been described in which constant current control is performed so that the load current from each conversion unit 21 to 2N to the load is constant. However, even if constant voltage control is performed, or each conversion unit 21 ~2N
This idea can be implemented in the same way even if the output voltage is controlled to vary according to the input voltage of the output voltage.

また、各変換部21〜2Nの構成は前記したも
のに限るものではない。
Further, the configuration of each conversion section 21 to 2N is not limited to the above-mentioned configuration.

〔考案の効果〕[Effect of idea]

以上のように、この考案のめつき用直流電源装
置によると、既存の大容量直流電源1を用いて、
小規模なめつき処理を行なうことができ、非常に
経済的である。
As described above, according to the DC power supply device for plating of this invention, using the existing large capacity DC power supply 1,
It is possible to perform small-scale plating processing and is very economical.

さらに、FETの高周波スイツチングによるチ
ヨツパ型の変換部21〜2Nを用いたため、各変
換部21〜2Nにおける損失を小さくすることが
でき、いつそう経済的であり、電源1の運転効率
の向上を図ることができる。
Furthermore, since the chopper-type conversion sections 21 to 2N are used by high-frequency switching of FETs, the loss in each conversion section 21 to 2N can be reduced, which is very economical and improves the operating efficiency of the power source 1. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は、この考案のめつき用直流電源装置の1
実施例を示し、第1図はブロツク図、第2図は一
部の詳細な結線図、第3図a,bおよび第4図は
それぞれ動作説明図である。 1…大容量直流電源、21〜2N……変換部、
31〜3N……めつき槽、6,7……チヨツパ
部。
The drawing shows one of the DC power supply devices for plating of this invention.
An embodiment is shown in which FIG. 1 is a block diagram, FIG. 2 is a partial detailed wiring diagram, and FIGS. 3a, 3b, and 4 are operation explanatory diagrams, respectively. 1...Large capacity DC power supply, 21~2N...Conversion section,
31~3N...Metting tank, 6,7...Chiyotsupa part.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 大容量直流電源と、前記直流電源の両出力端子
に並列に接続されたスイツチング素子の高周波ス
イツチングによる複数個のチヨツパ型の直流−直
流変換部と、前記各変換部の出力端子にそれぞれ
めつき用電極が接続された複数個のめつき槽とを
備えためつき用直流電源装置。
A large-capacity DC power supply, a plurality of chopper-type DC-DC converters using high-frequency switching of switching elements connected in parallel to both output terminals of the DC power supply, and plating to the output terminals of each of the converters. A DC power supply device for plating equipped with multiple plating tanks to which electrodes are connected.
JP2193686U 1986-02-18 1986-02-18 Expired JPH037404Y2 (en)

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JP2193686U JPH037404Y2 (en) 1986-02-18 1986-02-18

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JP2193686U JPH037404Y2 (en) 1986-02-18 1986-02-18

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JPS62136581U JPS62136581U (en) 1987-08-28
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