JPH0373493A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH0373493A
JPH0373493A JP1207811A JP20781189A JPH0373493A JP H0373493 A JPH0373493 A JP H0373493A JP 1207811 A JP1207811 A JP 1207811A JP 20781189 A JP20781189 A JP 20781189A JP H0373493 A JPH0373493 A JP H0373493A
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data line
dummy
signal
circuit
read
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Masao Mizukami
水上 雅雄
Yoichi Sato
陽一 佐藤
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Hitachi Ltd
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To attain rapid and stably reading by amplifying a reading signal of a comparatively small signal level read out from a memory cell with a single end constitution by a differential sense amplifier based upon a reference voltage formed by a dummy cell. CONSTITUTION:A Y-group decoder DCR decodes a Y-group address signal to form a data line selecting signal and a Y selection circuit YSW connects the data line of a memory array M-ARY consisting of memory cells with single end constitution to a common data line CD. The dummy data line of a dummy array DCA is connected to a common dummy line CDD through a dummy switch circuit DSW and the reading signal of the common data line CD is supplied to the differential sense amplifier SA using the potential of the CDD as a reference voltage and highly stably and rapidly amplified. Consequently, high sensitive and rapid reading can be attained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、1本のデータ線に
結合されるシングルエンド構成のスタティック型RAM
に利用して有効な技術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor memory device, and relates to a static RAM with a single-end configuration coupled to one data line.
It is related to effective technology that can be used for.

(従来の技術) 実質的に1本のデータ線にし、このデータ線により書き
込み動作と読み出し動作とを行うスタティック型RAM
が、特開昭56−105387号公報によりv1案され
ている。このRAMにおけるメモリセルは、CMOSイ
ンバータ回路と、その出力信号を選択的に入力側に帰還
するクロックドインバータ回路と、書き込み信号を伝え
る伝送ゲ−)MOSFET、及び読み出し信号を出力す
る読み出し用クロックドインバータ回路からII威され
る、これにより、このメモリセルは、入力専用端子と出
力専用端子とを持ち、それぞれ人力用と出力用のパスラ
イン(データ線)に接続される。
(Prior art) A static type RAM that has essentially one data line and performs write and read operations using this data line.
However, the v1 version has been proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 56-105387. The memory cell in this RAM consists of a CMOS inverter circuit, a clocked inverter circuit that selectively feeds back its output signal to the input side, a transmission gate MOSFET that transmits a write signal, and a read clock gate that outputs a read signal. This memory cell has an input-only terminal and an output-only terminal, and is connected to pass lines (data lines) for human power and output, respectively.

このとき、隣接するメモリセルに対して、例えば上記出
力用パスラインを入力用パスラインとして用いるように
することによって、パスラインの数を通常の相補データ
線を用いたRAMに比べて半減させるものである。
At this time, the number of pass lines can be halved compared to a RAM using normal complementary data lines by using, for example, the output pass line as an input pass line for adjacent memory cells. It is.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記のRAMにあっては、実質的にパスライン(データ
線)が約1/2に半減できる利点はある反面、メモリセ
ルとして上記のようなりロックドインバータ回路を用い
るものであるため素子数が多くなる0例えば、」二記メ
モリセルを0M05回路により構成した場合、1つのク
ロックドインバータ回路において4個のMOS F E
Tを必要とするから、MOSFETの数が全体で12個
も必要になる等の問題がある。ちなみに、完全スタティ
ック型メモリセルにおいては、全部で6個のMOSFE
Tから構成されるものである。
The above RAM has the advantage that the number of pass lines (data lines) can be reduced by about half, but on the other hand, the number of elements is reduced because the memory cell uses a locked inverter circuit as described above. For example, if the memory cells listed in "2" are configured with a 0M05 circuit, one clocked inverter circuit will have 4 MOS F E
Since T is required, there are problems such as a total of 12 MOSFETs are required. By the way, in a fully static memory cell, there are a total of 6 MOSFEs.
It is composed of T.

この発明の目的は、高集積化と低消費電力化を実現した
新規なシングルエンド構成のスタティック型RAMを提
供することにある。
An object of the present invention is to provide a new static RAM with a single-end configuration that achieves high integration and low power consumption.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔!1題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
[! Means for Solving a Problem] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、シングルエンド構成のスタティック型メモリ
セルからの読み出し信号を、ワード線とダミーデータ線
との交点に設けられたダミーセルにより形成された基準
電、圧を受L」る差動型のセンスアンプにより増幅する
In other words, a read signal from a static memory cell with a single-end configuration is processed by a differential sense amplifier that receives a reference voltage and voltage formed by a dummy cell provided at the intersection of a word line and a dummy data line. Amplify.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、シングルエンド構成のメモリセ
ルからの比較的小さな信号レベルの読み出し信号をダミ
ーセルにより形成された基準電圧を用いて差動型のセン
スアンプを用いて増幅するため高速で安定した読み出し
が可能になる。
According to the above-mentioned means, a read signal with a relatively small signal level from a memory cell with a single-end configuration is amplified using a differential sense amplifier using a reference voltage formed by a dummy cell. Reading becomes possible.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明に係るスタティック型RAMの一
実施例のブロック図が示されている。同図の各回路ブロ
ックは、公知の半導体集積回路の製造技術により、単結
晶シリコンのような1個の半導体基板上において形成さ
れる。
FIG. 1 shows a block diagram of an embodiment of a static RAM according to the present invention. Each circuit block in the figure is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon using a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

複数ビットからなるアドレス端子A1は、アドレスバフ
ファADHに伝えられる。このアドレスバフファADB
に取り込まれたアドレス信号は、デコーダDCHにより
解読される。X系のデコーダDCRは、X系のアドレス
信勺を解読してワード線の選択信号を形成する。ワード
線選択信号は、特に制限されないが、ワードドライバD
RVに伝えられる。このようなワードドライバDRVを
設けるこLにより、多数のメモリセルが結合されること
によって比較的大きな負荷容量を持つワード線を高速に
選択/非選択に切り換えるようにされる。なお、メモリ
セルが後述するような読み出し用と書き込み用の・一対
のワード線に結合される場合、ワードドライバDRVは
、それぞれの動作モードに応じたワード線の選択動作を
行う。
Address terminal A1 consisting of multiple bits is transmitted to address buffer ADH. This address buffer ADB
The address signal taken in is decoded by the decoder DCH. The X-system decoder DCR decodes the X-system address message to form a word line selection signal. The word line selection signal is not particularly limited, but word driver D
This will be communicated to the RV. By providing such a word driver DRV, a word line having a relatively large load capacitance due to the coupling of a large number of memory cells can be switched between selection and non-selection at high speed. Note that when a memory cell is coupled to a pair of word lines for reading and writing as described later, the word driver DRV performs a word line selection operation according to each operation mode.

メモリアレイM−ARYは、後述するようなシングルエ
ンド構成のメモリセルがマトリンクス配置されて構成さ
れる。すなわち、データ線とワード線との交差点に各メ
モリセルが配置される。
The memory array M-ARY is configured by arranging memory cells in a single-end configuration as described later in a matrix. That is, each memory cell is arranged at the intersection of a data line and a word line.

このようなメモリアレイM−ARYに対して、その読み
出し参照電圧を形成するダミーセルからなるダミーセル
アレイOCAが設けられる。ダミーセルアレイは、各ワ
ード線とダミーデータ線との交点にそれぞれ設けられる
。すなわち、ダミーセレイOCAは、ダミーセルが1列
分により構成される。
A dummy cell array OCA consisting of dummy cells forming a read reference voltage is provided for such a memory array M-ARY. A dummy cell array is provided at each intersection of each word line and dummy data line. That is, the dummy cell OCA is composed of one column of dummy cells.

Y系のデコーダDCRは、Y系のアドレス48号を解読
してデータ線の選択信号を形成する。データ線選択信号
は、Y選択回路(カラムスインチ)YSWに伝えられる
。Y選択回路YSWは、データ線の選択信号にしかって
メモリアレイM−ARYのデー・夕線を共通データ&I
CDに接続させる。
The Y-system decoder DCR decodes the Y-system address No. 48 to form a data line selection signal. The data line selection signal is transmitted to the Y selection circuit (column switch) YSW. The Y selection circuit YSW selects the data and evening lines of the memory array M-ARY from the common data &I in accordance with the selection signal of the data line.
Connect to CD.

この実施例では、上記ダミーセレイDCAのダミーデー
タ線がダミースイッチ回路DSWを介して共通ダミーデ
ータ線CDDに接続される。上記共通データ線CDの読
み出し信号は、共通ダミーデータ線CDDの電位を参照
電圧とする差動型のセンスアンプSAに供給され、ここ
で高安定にかつ高速に増幅される。センスアンプSAの
増幅出カイ8号は、データ出力回路DOBを通して出力
端子Doutから送出される。
In this embodiment, the dummy data line of the dummy seray DCA is connected to the common dummy data line CDD via a dummy switch circuit DSW. The read signal from the common data line CD is supplied to a differential sense amplifier SA that uses the potential of the common dummy data line CDD as a reference voltage, and is amplified there with high stability and high speed. The amplified output No. 8 of the sense amplifier SA is sent out from the output terminal Dout through the data output circuit DOB.

タイごング制御回路TGは、クロック信号CLKと制御
信号R/Wを受けて、内部動作に必要なプリチャージ信
号PCやセンスアンプ動作タイミング信号3C等を形成
する。
The timing control circuit TG receives the clock signal CLK and the control signal R/W and forms a precharge signal PC, a sense amplifier operation timing signal 3C, etc. necessary for internal operation.

データ入力回路DIBは、入力端子Dinから供給され
た書き込みデータを受けて、共通データ線CDに伝える
The data input circuit DIB receives write data supplied from the input terminal Din and transmits it to the common data line CD.

第2図には、この発明に係るスタティック型RAMの要
部一実施例の回路図が示されている。同図の回路は0M
O3(相補型MO3)回路から構成されており、Pチャ
ンネルMO3FETは、そのチャンネル(バンクゲート
)部に矢印が付加されることによってNチャンネルMO
S F ETと区別される。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of a main part of a static type RAM according to the present invention. The circuit in the same figure is 0M
It is composed of an O3 (complementary type MO3) circuit, and the P-channel MO3FET becomes an N-channel MO3FET by adding an arrow to its channel (bank gate) section.
Distinguished from SFET.

この実施例におけるメモリセルMCは、高集積化のため
にシングルエンド構成とされる。すなわち、メモリセル
MCは、そのうちの1個のメモリセルMCが例示的に示
されているように、一対のCMOSインバータ回路Nl
とN2の入力と出力とが交差接続されてラッチ形態にさ
れる。この場合、インバータ回路N1の入力端子からの
み保持情報の書き換えを可能とするために、言い換える
ならば、シングルエンド構成とするために、インバータ
回路N1を構成するMOSFETのサイズ(コンダクタ
ンス)が大きくされ、インバータ回路N2を構成するM
OSFETのサイズ(コンダクタンス)が小さくされる
。これにより、インバータ回路N1の人力とインバータ
回路N2の出力の接続点がラッチ回路の入出力端子とさ
れ、この入出力端子をハイレベル/ロウレベルにすれば
、それに応じて保持情報が決定される。
Memory cell MC in this embodiment has a single-ended configuration for high integration. That is, the memory cell MC is connected to a pair of CMOS inverter circuits Nl, as one memory cell MC is exemplarily shown.
The inputs and outputs of and N2 are cross-connected into a latch configuration. In this case, in order to make it possible to rewrite the held information only from the input terminal of the inverter circuit N1, in other words, in order to have a single-ended configuration, the size (conductance) of the MOSFET that constitutes the inverter circuit N1 is increased, M constituting inverter circuit N2
The size (conductance) of the OSFET is reduced. Thereby, the connection point between the human power of the inverter circuit N1 and the output of the inverter circuit N2 is used as an input/output terminal of the latch circuit, and when this input/output terminal is set to a high level/low level, held information is determined accordingly.

上記ラッチ回路の入出力端子は、書き込み用のアドレス
選択スイッチMO3FETQ3を通してデータ線DOに
接続される。この書き込み用のアドレス選択スイッチM
O5FETQ3のゲートは、対応する書き込みワード線
WOWに接続される。
The input/output terminals of the latch circuit are connected to the data line DO through a write address selection switch MO3FETQ3. Address selection switch M for this write
The gate of O5FETQ3 is connected to the corresponding write word line WOW.

上記ラッチ回路の入出力端子は、読み出し用の増幅MO
3FETQIのゲートに接続される。この増幅MO3F
ETQIのソースは接地され、ドレインと上記対応する
データIDOとの間に読み出し用のアドレス選択スイン
チMO3FETQ2が設けられる。この読み出し用のア
ドレス選択スイッチMO3FETQ2のゲートは、対応
する読み出しワード線WORに接続される。
The input/output terminal of the latch circuit is an amplification MO for reading.
Connected to the gate of 3FETQI. This amplification MO3F
The source of ETQI is grounded, and an address selection switch MO3FETQ2 for reading is provided between the drain and the corresponding data IDO. The gate of this read address selection switch MO3FETQ2 is connected to the corresponding read word line WOR.

メモリアレイM−ARYを構成する同じ行に設けられる
他のメモリセルも上記同様な構成とされ、上記ワード線
WOW、VOR及びWIW、WIRに対応するアドレス
選択用スイッチMO3FETのゲートがそれぞれ接続さ
れる。同図には、行方向には2個分のメモリセルの具体
的回路が例示的に示されている。
The other memory cells provided in the same row constituting the memory array M-ARY have the same configuration as above, and the gates of the address selection switches MO3FET corresponding to the word lines WOW, VOR and WIW, WIR are respectively connected. . The figure exemplarily shows a specific circuit of two memory cells in the row direction.

メモリアレイM−ARYを構成する同じ列に設けられる
他のメモリセルも上記同様な構成とされ、上記データ線
DO2Diに接続される。同図には、縦方向にも2個分
のメモリセルの具体的回路が例示的に示されている。
Other memory cells provided in the same column constituting memory array M-ARY have the same configuration as described above, and are connected to the data line DO2Di. The figure also exemplarily shows a specific circuit of two memory cells in the vertical direction.

上記データ線DO,DI・・・及び後述するダミーデー
タ線DD等には、Pチャンネル型のプリチャージMO3
FETQ5、Q6及びQ7が設けられる。これらのMO
3FETQ5.Q6及びQ7のゲートには、プリチャー
ジ信号PCが共通に供給される。
The data lines DO, DI, . . . and the dummy data line DD, which will be described later, are provided with a P-channel type precharge MO3.
FETs Q5, Q6 and Q7 are provided. These M.O.
3FETQ5. A precharge signal PC is commonly supplied to the gates of Q6 and Q7.

この実施例では、上記メモリセルからの読み出し動作に
おいて用いられる参照電圧を形成するダミーセルが設け
られる。ダミーセルDCは、直列形態にされたMO3F
ETQ3とQ4から構成される。上記ダミーセルDCを
構成する一方のMO3FETQ3のゲートは、対応する
読み出しワード線WORに接続される。他方のMO3F
ETQ4のゲートは、特に制限されないが、上記プリチ
ャージ信号PCが伝えられる。これにより、プリチャー
ジ期間においてMO3FETQ4がオフ状態となり、読
み出し期間にMOS F ETQ 4等がオン状態にな
り2.ダミーセル列がアクティブにされる。
In this embodiment, a dummy cell is provided that forms a reference voltage used in a read operation from the memory cell. The dummy cell DC is MO3F arranged in series.
Consists of ETQ3 and Q4. The gate of one MO3FETQ3 constituting the dummy cell DC is connected to the corresponding read word line WOR. the other MO3F
The gate of ETQ4 is not particularly limited, but the precharge signal PC is transmitted thereto. As a result, MO3FETQ4 is turned off during the precharge period, and MOSFETQ4 etc. are turned on during the readout period.2. A dummy cell column is activated.

上記各データ&lDO,Di・・等は、カラム選択回路
を構成する並列形態のPチャンネルMO3FETとNチ
ャンネルMO3FETからなるCMOSスイッチ回路Q
IO,Qll、Ql2.Ql3を介して共通データIc
Dに接続される。これに対して、ダミーデータ綿DDは
、同様なCMOSスイッチ回路Q14.Ql5を介して
ダミー共通データ線CDDに結合される。
Each of the above data &lDO, Di, etc. is a CMOS switch circuit Q consisting of a parallel P-channel MO3FET and an N-channel MO3FET that constitute a column selection circuit.
IO, Qll, Ql2. Common data Ic via Ql3
Connected to D. On the other hand, the dummy data DD is a similar CMOS switch circuit Q14. It is coupled to the dummy common data line CDD via Ql5.

上記Nチャンネル型のスイッチMO3FETQ11のゲ
ートはYi!択b’りYoに接続され、Pチャンネル型
のスイッチMO3FETQI Oのゲートには、インバ
ータ回路NIOを通したY選択MIYOの選!R信号が
伝えられる。データIDIに対応したMO3FETQ1
2.Ql3も、上記同様に対応するY選択線Y1の選択
信号が伝えられる。
The gate of the above N-channel type switch MO3FETQ11 is Yi! The gate of the P-channel type switch MO3FETQIO is connected to the selection b' selection Yo, and the selection of the Y selection MIYO is connected to the inverter circuit NIO. An R signal is transmitted. MO3FETQ1 compatible with data IDI
2. Similarly to the above, the selection signal of the corresponding Y selection line Y1 is also transmitted to Ql3.

また、ダミーデータ線DDに設けられるダミース・イン
チMO3FETQI 4.Ql 5のゲートにも、ダミ
ー選lR線DYの選択信号が同様に供給される。
In addition, a dummy inch MO3FETQI provided on the dummy data line DD4. The selection signal of the dummy selection lR line DY is similarly supplied to the gate of Ql5.

ダミー選択線DYは、定常的に選択レベルに固定される
ものの他、メモリアクセスに同期してその都度選択レベ
ルにしてもよい。
The dummy selection line DY may be fixed at the selection level constantly, or may be set to the selection level each time in synchronization with memory access.

上記共通データ線CDとダ逅−共通データ線CDDの信
号は、次に説明するような差動型のセンスアンプによっ
て増幅される。
The signals on the common data line CD and the common data line CDD are amplified by a differential sense amplifier as described below.

この実施例におけるセンスアンプは、増幅回路が2段縦
列形態に接続されて構成される0人力段回路は、次の回
路から構成される。
The sense amplifier in this embodiment is a zero-power stage circuit in which two amplifier circuits are connected in series, and the zero-power stage circuit is comprised of the following circuits.

上記共通データ線CDとダミー共通データ1cDDの信
号は、レベルシフト動作を行うソースフォロワ形態のN
チャンネルMOSFETQ16とQl7のゲートに伝え
られる。これらのMO3FETQ16とQl7のソース
側には、電流ミラー形態にされたNチャンネルMO3F
ETQ18゜Ql9が設けられ、これらのMO3FET
Q1B。
The signals of the common data line CD and the dummy common data 1cDD are connected to a source follower type N which performs a level shift operation.
It is transmitted to the gates of channel MOSFETs Q16 and Ql7. On the source side of these MO3FETs Q16 and Ql7, there is an N-channel MO3F in a current mirror configuration.
ETQ18°Ql9 is provided, and these MO3FETs
Q1B.

Ql9の共通ソースと回路の接地電位点ε間には、スイ
ッチMO3FETQ20が設けられる。このスイッチM
OSFETQ20は、センスアンプ動作タイミング信号
3Cが供給され、タイミング信号scがハイレベルにさ
れたときにオン状態になり、センスアンプを活性化させ
る。
A switch MO3FET Q20 is provided between the common source of Ql9 and the ground potential point ε of the circuit. This switch M
The OSFET Q20 is supplied with the sense amplifier operation timing signal 3C and turns on when the timing signal sc is set to high level, activating the sense amplifier.

第2段目の増幅回路は、ダブルの差動回路から構成され
る。すなわち、NチャンネルMO3FETからなる差動
MOS F ETと、そのドレイン側に設けられたPチ
ャンネル型の電流ミラー形態の負荷MOS F ETと
からなる2対の差動増幅回路の入力を交差的に接続し、
そのダブルエンドの差動出力を得るものである。これら
2対の差動MOSFETの共通ソースと回路の接地電位
点との間には、上記タイミング信号SCを受けるNチャ
ンネルMO3FETQ21が設けられ、タイミング信号
scがハイレベルにされたときに上記同様に活性化され
る。
The second stage amplifier circuit is composed of a double differential circuit. In other words, the inputs of two pairs of differential amplifier circuits consisting of a differential MOS FET consisting of an N-channel MO3FET and a P-channel current mirror type load MOS FET provided on the drain side of the differential MOS FET are cross-connected. death,
This is to obtain a double-ended differential output. Between the common source of these two pairs of differential MOSFETs and the ground potential point of the circuit, an N-channel MO3FET Q21 is provided which receives the timing signal SC, and is activated in the same manner as above when the timing signal SC is set to high level. be converted into

上記一対の差動回路の一対の出力端子とta電圧Vee
との間には、上記タイミング信号scを受けるPチャン
ネル型のプリチャージMOSFE’rが設けられる。そ
して、上記差動回路の出力信号は、インバータ回路N4
とN5を通して形成された相補的な出力信号AとBが出
力回路に伝えられる。
The pair of output terminals of the pair of differential circuits and the ta voltage Vee
A P-channel type precharge MOSFET'r that receives the timing signal sc is provided between the two. Then, the output signal of the differential circuit is transferred to the inverter circuit N4.
Complementary output signals A and B formed through N5 and N5 are transmitted to the output circuit.

出力回路は、上記インバータ回路N4とN5を通した相
補出力信号AとBを受けるプッシュプル形態のNチャン
ネルMO3FETQ23.Q24及びQ25.Q26と
、上記プッシュプル回路の出力信号をそれぞれ受けるラ
ンチ形態に接続された一対のインバータ回路から構成さ
れる。上記ブンシュブル回路Q23.Q24とQ25.
Q26のゲートには、上記イδ号AとBが交差的に供給
さされる。例えば、出力信号AがハイレベルならMO3
FETQ23とQ26がオン状態になり、その信号レベ
ルがランチ回路に取り込まれるとともに、出力端子Do
utからはロウレベルの信号が出力される。出力信号B
がハイレベルならMOSFETQ24とQ25がオン状
態になり、その信号レベルがラッチ回路に取り込まれる
とともに、出力端子Doutからはハイレベルの信号が
出力される。
The output circuit includes a push-pull type N-channel MO3FETQ23. which receives complementary output signals A and B passed through the inverter circuits N4 and N5. Q24 and Q25. Q26, and a pair of inverter circuits connected in a launch configuration, each receiving an output signal from the push-pull circuit. The above Bunschbul circuit Q23. Q24 and Q25.
The above δ numbers A and B are cross-supplied to the gate of Q26. For example, if output signal A is high level, MO3
FETQ23 and Q26 are turned on, their signal level is taken into the launch circuit, and the output terminal Do
A low level signal is output from ut. Output signal B
If is at a high level, MOSFETs Q24 and Q25 are turned on, the signal level is taken into the latch circuit, and a high level signal is output from the output terminal Dout.

なお、上記共通データ&iCDには、書き込み動作のと
き書き込み信号を伝える入力回路DIBの出力端子も結
合される。
Note that the output terminal of the input circuit DIB, which transmits a write signal during a write operation, is also coupled to the common data &iCD.

上記ワード線WOR,WIR及びWOW、WIWeは、
X系の選択回路であるXアドレスバフファXADBと、
アドレスバソファXADBを還して取り込まれたアドレ
ス信号を解読するとともに図示しないリート′/ライト
信号に応じて書き込み又は読み出L7用の1本のワード
線の選択信号を形成するデコーダ回路DCHにより選択
される。同図では、アドレスバッファどデコーダとを合
わせてXADB、DCHのように表している。なお、デ
コーダ回路DCHの出力部には、図示しないが前記のよ
うなワー・ドドライバが設けられるものと理解されたい
The word lines WOR, WIR and WOW, WIWe are as follows:
An X address buffer XADB, which is an X-based selection circuit,
Selection is made by a decoder circuit DCH that decodes the address signal taken in by returning the address bus sofa XADB and forms a selection signal for one word line for writing or reading L7 in response to a read/write signal (not shown). be done. In the figure, the address buffer and decoder are collectively represented as XADB and DCH. It should be understood that the output section of the decoder circuit DCH is provided with a word driver as described above, although not shown.

上記Y選択線YO,Y1等は、Y系の選択回路であるY
アドレスバッファYADBと、アドレスバソファYAD
Bを通して取り込まれたアドレス信号を解読して1本の
データ線の選択信号を形成するデコーダ回路により選択
される。同図では、アドレスバッファとデコーダとを合
わせてYADB、OCRのように表している。
The above Y selection lines YO, Y1, etc. are the Y selection circuits of the Y system.
Address buffer YADB and address buffer YAD
A decoder circuit decodes an address signal taken in through B and forms a selection signal for one data line. In the figure, the address buffer and decoder are collectively represented as YADB and OCR.

第7図には、この実施例のスタティック型RAMの動作
の一例を説明するためのデータ線りとダミーデータ線D
D波形図が示されている。
FIG. 7 shows a data line and a dummy data line D for explaining an example of the operation of the static RAM of this embodiment.
A waveform diagram D is shown.

プリチャージ期間において、データ線りとダミーデータ
線DDは、共にハイレベルHにプリチャージされている
During the precharge period, both the data line and the dummy data line DD are precharged to a high level H.

読み出L7期間では、読み出しワード線が選択される。In the read L7 period, the read word line is selected.

また、上記プリチャージ期間の終了によりダミーセルの
MO3FETQ4等がオン状態になっている。もしも、
選択されたメモリセルにおいてランチ回路の入出力端子
がハイレベルならMO5FETQ1等がオン状態になっ
ている。したがって、データ線りは読・み出し用のアド
レス選択スイッチMO3FETと上記読み出しMOSF
ETを通してロウレベルLにディスチャージされる。
Further, due to the end of the precharge period, the dummy cell MO3FETQ4 and the like are turned on. If,
If the input/output terminal of the launch circuit in the selected memory cell is at a high level, MO5FETQ1 etc. are in an on state. Therefore, the data line is connected to the readout address selection switch MO3FET and the readout MOSFET.
It is discharged to low level L through ET.

このとき、ダミーセルはMO3FETQ4がメモリセル
のMO3FETQ1等のコンダクタンスの約1/2に設
定されいるから、ダミーデータ線DDにおけるディスチ
ャージ動作により形成される基準電圧VRがデータ線り
の半分にされる。このようなレベル差(VR−L)を差
動型のセン人アンプSAが増幅して、ロウレベルLの読
み出し信号に対応した出力信号Doutを形成する。
At this time, since the conductance of the MO3FET Q4 of the dummy cell is set to about 1/2 of the conductance of the MO3FET Q1 etc. of the memory cell, the reference voltage VR formed by the discharge operation on the dummy data line DD is made half of that of the data line. The differential amplifier SA amplifies this level difference (VR-L) to form an output signal Dout corresponding to the low level L read signal.

一方、選択されたメモリセルにおいてラッチ回路の入出
力端子がロウレベルならMO5FETQ1等がオフ状態
になっている。したがって、読み出し用のワード線VO
Rがハイレベルに選択されてアドレス選択スイッチMO
3FETQ2等がオン状態にされても、データ線DO等
はハイレベルI(のプリチャージレベルのままにされる
。このとき、ダミーセルは上記のようなディスチャージ
動作を行って基準電圧VRを形成する。このようなレベ
ル差(H−VR)を差動型のセンスアンプSAが増幅し
て、ハイレベルHの読み出し信号に対応した出力信号D
oatを形成する。
On the other hand, if the input/output terminal of the latch circuit in the selected memory cell is at a low level, MO5FETQ1 etc. are in an off state. Therefore, the read word line VO
R is selected to high level and address selection switch MO
Even when the 3FET Q2 etc. are turned on, the data line DO etc. are kept at the high level I (precharge level).At this time, the dummy cell performs the above-described discharge operation to form the reference voltage VR. A differential sense amplifier SA amplifies this level difference (H-VR) and outputs an output signal D corresponding to the high level H read signal.
Form oat.

また、書き込み動作のときには、入力端子Dlnから供
給された書き込みデータが入カバソファ回路DIBを通
して共通データ線CDに伝えられる。
Further, during a write operation, write data supplied from the input terminal Dln is transmitted to the common data line CD through the input buffer circuit DIB.

この共通データkICDに伝えられたハイレベル/ロウ
レベルの書き込み(8号は、カラムスイソチ回路ysw
、データ線を通して選択された書き込みワード線に対お
した1つのメモリセルに伝えられることによって書き込
みが行われる。すなわち、この実施例のメモリセルは、
インバータ回路N2を1Iti、するMOS F ET
のコンダクタンスが小さく設定されているから、上記選
択経路及びスイッチMO3FETQ3を通して伝えられ
た信号レベルに従って、その保持レベルが決定される。
High level/low level writing transmitted to this common data kICD (No. 8 is column switch circuit ysw
, to one memory cell corresponding to the selected write word line through the data line. That is, the memory cell of this example is
MOS FET that makes inverter circuit N2 1Iti
Since the conductance of MO3FETQ3 is set to be small, its holding level is determined according to the signal level transmitted through the selection path and switch MO3FETQ3.

この実施例のスタティック型RAMは、上記のようにシ
ングルエンド型のメモリセルを用いるものであるため、
セル面積を小さくでき高集積化が可能になる。この読み
出し信号は、ダミーセルにより形成された基準電圧を参
照して差動型のセンスアンプにより増幅されるものであ
るから、高速に高安定に読み出される。
Since the static type RAM of this embodiment uses single-ended type memory cells as described above,
The cell area can be reduced and high integration becomes possible. Since this read signal is amplified by a differential sense amplifier with reference to a reference voltage formed by a dummy cell, it is read out at high speed and with high stability.

第3図には、この発明に係るスタティック型RAMの他
の一実施例の回路図が示されている。
FIG. 3 shows a circuit diagram of another embodiment of the static RAM according to the present invention.

この実施例におけるメモリセルは、前記のようなインバ
ータ回路NlとN2からなるラッチ回路の入出力端子が
アドレス選択用スイッチMO3FETQlとQ2を通し
てデータ線DOに接続される。上記スイッチMO3FE
TQIのゲートは、同図において横方向に延長されるワ
ード線WOに接続され、この実施例では上記スインチM
O3FETQ2のゲートは、同図において縦方向に延長
されるY選択′ayoに接続される。
In the memory cell in this embodiment, the input/output terminals of a latch circuit made up of inverter circuits Nl and N2 as described above are connected to a data line DO through address selection switches MO3FETQl and Q2. Above switch MO3FE
The gate of the TQI is connected to the word line WO extending in the horizontal direction in the figure, and in this embodiment, the gate of the above-mentioned switch M
The gate of O3FETQ2 is connected to Y selection 'ayo, which extends vertically in the figure.

メモリアレイM−ARYをI或する同じ行に設けられる
他のメモリセルも上記同様な構成とされ、上記ワード線
WOに対応するアドレス選択計スイッチMO5FETの
ゲートが接続される。同図には、行方向には2個分のメ
モリセルの具体的回路が例示的に示されている。
The other memory cells provided in the same row of the memory array M-ARY have the same configuration as described above, and the gate of the address selector switch MO5FET corresponding to the word line WO is connected. The figure exemplarily shows a specific circuit of two memory cells in the row direction.

メモリアレイM−ARYを構成する同じ列に設けられる
他のメモリセルも上記同様な構成とされ、上記データ線
L)0に接続される。そして、上記Y選択線に対応する
アドレス選択用スイッチMO3FETのゲートが共通に
接続される。同図には、縦方向にも2個分のメモリセル
の具体的回路が例示的に示されている。
Other memory cells provided in the same column constituting the memory array M-ARY have the same configuration as described above, and are connected to the data line L)0. The gates of the address selection switches MO3FET corresponding to the Y selection line are connected in common. The figure also exemplarily shows a specific circuit of two memory cells in the vertical direction.

上記データ線D1、Dl・・・及び後述するダミーデー
タ100D等には、Pチャンネル型のプリチャージMO
3FETQ5、Q6及びQ7設けられる。これらのMO
SFETQ5.Q6及びQ7のゲートには、プリヂャー
ジ信号PCが共通に供給される。
The data lines D1, Dl... and dummy data 100D, which will be described later, are provided with P-channel precharge MO
Three FETs Q5, Q6 and Q7 are provided. These M.O.
SFETQ5. A precharge signal PC is commonly supplied to the gates of Q6 and Q7.

この実施例では、上記メモリセルからの読み出し動作に
おいて用いられる参照電圧を形成するダく−セルが設け
られる。ダミーセルDCは、直列形態にされたMO3F
ETQ3とQ4からtl或される。上記ダミーセルDC
を構成する一方のMOSFETQ3のゲートは、対応す
るワード線に接続される。他方のMO3FETQ4のゲ
ートは、ダミー選択線DY’ に接続される。このダミ
ー選択線DY’ は、−E記プリチャージ信号PCが伝
えられる。これにより、プリチャージ期間においてMO
3FETQ4がオン状態とμす、ダミーセルの保持情報
をロウレベルにリセットし、メモリアクセスが行われる
とき、選択されたワード線に対応したMO3FETQ3
がオン状態となり、上記ロウレベルの保持情報とダミー
データ、%iDDとを結合し−C、ダミーデータ線DD
のプリチャージ電位の引き抜きを行う、このダミーデー
タ線の電位引き電位は、上記メモリセルからのロウレベ
ルの読み出し動作におけるデータ線の電位低下分の半分
に設定される。それ故、ダミーセルDCは、MOSFE
TQ3とQ4の接続点の寄生容量が不足するなら容量素
子が付加される。
In this embodiment, a dark cell is provided which forms a reference voltage used in a read operation from the memory cell. The dummy cell DC is MO3F arranged in series.
tl is removed from ETQ3 and Q4. The above dummy cell DC
The gate of one MOSFET Q3 constituting the transistor is connected to the corresponding word line. The gate of the other MO3FET Q4 is connected to a dummy selection line DY'. The -E precharge signal PC is transmitted to the dummy selection line DY'. As a result, MO during the precharge period
When 3FETQ4 is turned on, the information held in the dummy cell is reset to low level, and when memory access is performed, MO3FETQ3 corresponding to the selected word line is
is turned on, the above-mentioned low-level held information and dummy data, %iDD are combined, and -C and dummy data line DD are connected.
The potential of this dummy data line, from which the precharge potential is extracted, is set to half the potential drop of the data line in the low-level read operation from the memory cell. Therefore, the dummy cell DC is a MOSFE
If the parasitic capacitance at the connection point between TQ3 and Q4 is insufficient, a capacitive element is added.

上記各データ線DO,DI・・等は、前記同様なカラム
スイッチ回路を介して共通データ線CDに接続される。
The data lines DO, DI, etc. are connected to the common data line CD via column switch circuits similar to those described above.

ダミーデータ100も同様にしてダミー共通データ線C
ODに結合される。
Similarly, the dummy data 100 is also connected to the dummy common data line C.
Coupled to OD.

上記共通データ線CDとダミー共通データA11CDD
の信号は、前記同様なセンスアンプによって増輻される
。センスアンプにおけるインバータ回路N5の出力信号
Aは、次の再書き込み回路に伝えられる。再書き込み回
路は、再書き込みデータRWDを形成する・インバータ
回*N8と、上記出力信号へを受けて、上記再書き込み
データRWDの出力1iiJ 御信号を形成する縦列形
態とインバータ回路N6.N7と、このインバータ回路
N7により出力される出力制御信号を受けて、上記再書
キ込みデータRWDを共通データ線CDに伝えるMOS
FETQ22から構成される。
The above common data line CD and dummy common data A11CDD
signal is amplified by a sense amplifier similar to that described above. The output signal A of the inverter circuit N5 in the sense amplifier is transmitted to the next rewriting circuit. The rewrite circuit includes an inverter circuit *N8 for forming rewrite data RWD, a cascade type inverter circuit N6. N7 and a MOS that receives the output control signal output from the inverter circuit N7 and transmits the rewrite data RWD to the common data line CD.
It is composed of FETQ22.

この実施例のスタティック型RAMの読み出し動作の概
略は次の通りである。
The outline of the read operation of the static RAM of this embodiment is as follows.

プリチャージ信号PC(クロックパルスCLK)がロウ
レベルのとき、RAMは非動作状態になり、プリチャー
ジMO3FETQ5〜Q7がオン状態になってデータ線
DO,DI・・・、ダミーデータ1iDD等をハイレベ
ルにプリチャージしている。このとき、センスアンプか
らの出力信号AεBも、それに対応したインバータ回路
N4とN5の入力に設けられたプリチャージMO3FE
Tのオン状態によってロウレベルにされている。
When the precharge signal PC (clock pulse CLK) is at a low level, the RAM becomes inactive, and the precharge MO3FETs Q5 to Q7 are turned on, causing the data lines DO, DI, . . . , dummy data 1iDD, etc., to go to a high level. It is pre-charged. At this time, the output signal AεB from the sense amplifier is also applied to the precharge MO3FE provided at the input of the corresponding inverter circuits N4 and N5.
It is set to low level by the on state of T.

これにより、一対のプッシュプル回路の出力がハイイン
ピーダンス状態になり、出力端子Doutにはランチ回
路に保持された出力信号が伝えられている。
As a result, the outputs of the pair of push-pull circuits enter a high impedance state, and the output signal held by the launch circuit is transmitted to the output terminal Dout.

プリチャージ信号PC(クロソクパルスCLK)がロウ
レベルからハイレベルに変化すると、それにめして、ア
ドレス信号の取り込みが行われ、デコーダがそれを解読
して例えばワード線WOとY選択線YOが選択状態にさ
れる。
When the precharge signal PC (cross clock pulse CLK) changes from a low level to a high level, an address signal is taken in accordingly, a decoder decodes it, and, for example, the word line WO and Y selection line YO are set to a selected state. Ru.

これにより、上記ワードvAwoとY選択線YOとの交
点に設けられた1つのメモリセルのみが選択され、その
ラッチ回路の入出力端子がデータ線DOと結合される。
As a result, only one memory cell provided at the intersection of the word vAwo and the Y selection line YO is selected, and the input/output terminal of the latch circuit is coupled to the data line DO.

このメモリセルMCの保持レベルがロウレベルのとき、
データIDOのプリチャージレベルが、メモリセルMC
のロウレベルによりワウレベル側に低下させられる。す
なわち、データ線DOの寄生容量とメモリセルMCにお
けるう・ノチ回路の入出力端子の寄生容量との容量比に
対応したチャージシェアが生じる。このとき、データ線
00の容量値に対してメモリセルの容量値は小さいから
、データ1DOの電位は僅かに低トするのに対して、メ
モリセルMCの保持電位は、急激に上昇してラッチ回路
を構成するインバータ回INIのロジックスレッシッル
ド電圧を超えCしまう、それ故、メモリセルMCの保持
レベルは、ロウレベルからハイレベルに反転させられて
しまう、言い換えるならば、この実施例におけるメモリ
セルの読み出し動作は、上記のように保持レベルがロウ
レベルのときには、プリチャージレベルをロウレベルに
引き抜く反作用として保持レベルがハイレベル倒に破壊
されることによって行われる。
When the holding level of this memory cell MC is low level,
The precharge level of data IDO is
It is lowered to the wah level side by the low level. That is, a charge share occurs that corresponds to the capacitance ratio between the parasitic capacitance of the data line DO and the parasitic capacitance of the input/output terminal of the circuit in the memory cell MC. At this time, since the capacitance value of the memory cell is smaller than the capacitance value of data line 00, the potential of data 1DO drops slightly, while the holding potential of memory cell MC rises rapidly and latches. The logic threshold voltage of the inverter circuit INI constituting the circuit is exceeded, so the retention level of the memory cell MC is inverted from low level to high level.In other words, the memory cell in this embodiment The read operation is performed by destroying the holding level to the high level as a reaction to pulling the precharge level to the low level when the holding level is low as described above.

上記のようなデータIDOのプリチャージ電位の微小な
電位低下を検出するために、ダ主−セルDCが使われる
。すなわち、ワード1woのAイレベルに対応してMO
3FETQ3がオン状態になり、プリチャージ期間のと
きオン状態になっているMO3FETQ4によりロウレ
ベルにされていたMO3FETQ3とQ4の接続点のノ
ードとダミーデータ11iDDとを接続させる。これに
より、ダミーデータ線DDの電位が、上記データIDO
のロウレベル読み出しにおける低下分の約半分だけ低下
するようにダミーデータ線とダ藁−セルの寄生容置比が
設定されている。
The main cell DC is used to detect a slight drop in the precharge potential of the data IDO as described above. That is, MO corresponds to the Ai level of word 1wo.
The 3FET Q3 is turned on, and the dummy data 11iDD is connected to the node at the connection point between the MO3FETs Q3 and Q4, which was kept at a low level by the MO3FET Q4, which was turned on during the precharge period. As a result, the potential of the dummy data line DD becomes equal to the potential of the data IDO.
The parasitic space ratio between the dummy data line and the dummy cell is set so that the dummy data line and the dummy cell are reduced by about half of the reduction in low level reading.

上記データIDOとダミーデータ11DDの電位変化分
は、カラムスイッチ回路を通して共通データ線CDと共
通ダる一デー・りvCDD′4c通し、てセンスアンプ
SAに伝えられ、その増幅動作が行われる。上記のよう
にメモリセルからの読み出し信号がロウレベルのとき、
センスアンプの出力(” 号Aがハイレベルになり、イ
ンバータ回路N8を通し、て共通データIcDの電位を
ロウレベルにする。
The potential change between the data IDO and the dummy data 11DD is transmitted to the sense amplifier SA through the column switch circuit and the common data line CD and the common data line vCDD'4c, where it is amplified. As mentioned above, when the read signal from the memory cell is low level,
The output of the sense amplifier (A) becomes high level, and the potential of the common data IcD becomes low level through the inverter circuit N8.

したがって、データ1DOの電位がロウレベルに変化し
て、選択されたメモリセルにはロウレベルが再書き込み
されることになり、上記のような読み出し5動作によっ
ていったん破壊された保持情報がロウレヘルに回復され
る。また、上記信号Aのハイレベル、信号Bのロウレベ
ルにより、出力回路は、出力端子Doutからロウレベ
ルの出力信号を送出するとともに、その出力信号をラン
チ回路に保持する。
Therefore, the potential of data 1DO changes to low level, and the selected memory cell is rewritten to low level, and the retained information once destroyed by the read 5 operation described above is restored to low level. . Further, due to the high level of the signal A and the low level of the signal B, the output circuit sends out a low level output signal from the output terminal Dout, and holds the output signal in the launch circuit.

なお、選択されたワード線WOに結合された他のメモリ
セルは、Y選択線Y1等がロウレベルの非選択状態にな
っている。それ故、ワード線WOに対応した他のメモリ
セルは、ラッチ回路により保持動作が行われており、そ
れに対応して他のデータ線D1等はプリチャージ電位を
維持するものである。
Note that the other memory cells coupled to the selected word line WO are in a non-selected state with the Y selection line Y1 and the like being at a low level. Therefore, the other memory cells corresponding to the word line WO are held by the latch circuit, and the other data lines D1 and the like correspondingly maintain the precharge potential.

例えば、次の動作サイクルにおいて、ワード線YOに代
わってYlが選択され、このワード線Ylに対応したメ
モリセルがハイレベルを保持しているなら、データ線D
iの電位はプリチャージ電位のままにされる。このとき
には、センスアンプSAの出力信号Aがロウレベルにな
り、再書き込み回路のスイッチMO3FETQ22をオ
フ状態のままにする。すなわち、上記のようなハイレベ
ルの読み出し動作のときには、メモリセルの保持情報は
破壊されないから、再書き込み動作が省略される。
For example, in the next operation cycle, if Yl is selected instead of word line YO and the memory cell corresponding to word line Yl holds a high level, data line D
The potential of i is left at the precharge potential. At this time, the output signal A of the sense amplifier SA becomes low level, and the switch MO3FETQ22 of the rewrite circuit remains in the off state. That is, during the high-level read operation as described above, the information held in the memory cell is not destroyed, so the rewrite operation is omitted.

この実施例のRAMでは、ワード線が1本から構成され
ることに代わってY選択線が追加されるが、実質的に1
つのメモリセルしか選択されないから低消費電力化が可
能になる。
In the RAM of this embodiment, a Y selection line is added in place of one word line, but in reality one
Since only one memory cell is selected, power consumption can be reduced.

第4図には、この発明に係るスタティック型RAMの更
に他の一実施例の要部回路図が示されでいる。すなわち
、2ボー1−RAMの一実施例である、この実施例では
、データ線が読み出し用と書き込み用に分けられろとと
もに、書き込み用のデータ線のうち隣接するものが共通
化される。すなわち、メモリアレイM−ARYに前記第
3図の実施例のようなY選択&IYO3Y1等を設けて
、メモリセルMCの書き込み甲のアドレス選択スイッチ
MO3FETQ3’ のゲートに供給する。スイッチM
OSFETQ3°は、隣接するメモリセルのスイーノチ
MO3F已′rと接続される。これら隣接するスイッチ
MO3FETの共通接続点と書き込み用データIWDO
Iとの間には、書き込みワード線WOW+、こデートが
接続された前記スイッチMO5FETQ3を設ける。こ
のスインチMO3FETQ3は、隣接する2つの列のメ
モリセルに対して共通に用いられる。
FIG. 4 shows a circuit diagram of still another embodiment of the static RAM according to the present invention. That is, in this embodiment, which is an embodiment of a 2-baud 1-RAM, the data lines are divided into read and write data lines, and adjacent data lines for write use are shared. That is, the memory array M-ARY is provided with Y selection &IYO3Y1, etc. as in the embodiment shown in FIG. 3, and is supplied to the gate of the address selection switch MO3FETQ3' of the write A of the memory cell MC. Switch M
OSFETQ3° is connected to the switch MO3F of the adjacent memory cell. Common connection point of these adjacent switches MO3FET and write data IWDO
The switch MO5FETQ3 to which the write word lines WOW+ and WOW+ are connected is provided between the write word lines WOW+ and WOW+. This sinch MO3FET Q3 is commonly used for memory cells in two adjacent columns.

なお、特に制限されないが、この実施例では、メモリセ
ルからの読み出し信号は、書き込み信号と同極性が出力
される。tわなち、書き込み用の・インバー・夕回路N
1の出力端子側に読み出し用のMO5FETQIとスイ
ッチMO5FETQ2が設けられる。この構成に代えて
、ランチ回路の同じ入出力端子側から上記読み出しと書
き込みを行うようにするものであってもよい。
Although not particularly limited, in this embodiment, the read signal from the memory cell has the same polarity as the write signal. Invert circuit N for writing
MO5FETQI for reading and a switch MO5FETQ2 are provided on the output terminal side of 1. Instead of this configuration, the reading and writing may be performed from the same input/output terminal side of the launch circuit.

この構成では、書き込み用と読み出し用のデータ線が設
けられることに対応して、書き込み信号を同じサイクル
で読み出すことができる。すなわち、書き込み動作の確
認を同じメモリサイクル中に行うことができる。このよ
うな動作モードを実行する場合には、書き込み用と読み
出し用のワード線が共に選択される。
With this configuration, since data lines for writing and reading are provided, the write signal can be read in the same cycle. That is, the write operation can be confirmed during the same memory cycle. When executing such an operation mode, both write and read word lines are selected.

第5図には、この発明が適用された2ボー)RAMの一
実施例のブロック図が示されている。
FIG. 5 shows a block diagram of an embodiment of a 2-baud RAM to which the present invention is applied.

メモリアレイは、M−ARYIとM−ARY2からms
される。これらのメモリアレイM−ARY1とM−AR
Y2は、前記実施例のようなシングルエンドi或のメモ
リセルを用いて構成される。
The memory array is ms from M-ARYI and M-ARY2.
be done. These memory arrays M-ARY1 and M-AR
Y2 is constructed using a single-ended memory cell as in the previous embodiment.

それ故、その読み出しのためのダミーアレイDC1、D
C2がそれぞれのメモリアレイM−ARY1、M−AR
Y2に対応して設けられる。
Therefore, the dummy array DC1,D for its readout
C2 is the respective memory array M-ARY1, M-AR
It is provided corresponding to Y2.

アドレスバッファは、読み出し用アドレス信号AR4を
少ける読み出し系アドレスバソファRABと、査き込み
用アドレス信号AWiを受ける書き込み系アドレスバッ
ファWABから構成される。
The address buffer is composed of a read-related address buffer RAB that reduces the read-out address signal AR4, and a write-related address buffer WAB that receives the read-in address signal AWi.

上記アドレスバッファRABとWABの出力信号は、そ
れぞれ対へする読み出し系アドレスデコーダRDCR1
書き込み系アドレスデコーダ回路WDCRに供給される
The output signals of the address buffers RAB and WAB are sent to the respective pair of read-related address decoders RDCR1.
It is supplied to the write system address decoder circuit WDCR.

ヒ記アドレスデコーダRDCRεWDCHにより形成さ
れたX系の選択信号は、読み出し系のワードトライバR
DVと書き込み系のワードドライバWDVを介してメモ
リアレイM−ARY 1とMへRY 2の読み出しワー
ド線、書き込みワード線に伝えられる。
The X-system selection signal formed by the address decoder RDCRεWDCH is the read-system word driver R.
It is transmitted to the read word line and write word line of RY 2 to the memory arrays M-ARY 1 and M through DV and the write system word driver WDV.

上記アドレスデコーダRD CR,とWDCRにより形
成されたY系の選択信号は、Y選択回路YSW1.YS
W2と、書を込み系のYワードドライバに伝えられる。
The Y-system selection signals formed by the address decoders RDCR and WDCR are supplied to the Y selection circuits YSW1. Y.S.
W2 is transmitted to the write-type Y word driver.

上記一対からなるメモリアレイM−ARYI。A memory array M-ARYI consisting of the above pair.

M−ARY2とダミーセルDCI、DC2からの読み出
し信号と基準電圧とはセンスアンプSAに入力され、こ
こで増幅されてデータ出力回路T)OBを通して出力さ
れる。
The read signals and reference voltages from M-ARY2 and dummy cells DCI and DC2 are input to the sense amplifier SA, where they are amplified and output through the data output circuit T)OB.

書き込み信号Dinを受ける書き込み回路(データ入カ
バソファ)DIBの出力信号は、上記Y選択回路YSW
I、YSW2に伝えられる。
The output signal of the write circuit (data input cover sofa) DIB that receives the write signal Din is output from the Y selection circuit YSW.
I, conveyed to YSW2.

読み出し用クロック偲号RCは、読み出し系のタイミン
グ発生回路RTGに入力され、ここで読み出し動作に必
要な内部のタイミング信号が形成される。!き込み用ク
ロック信号WCは、書き込み系のタイ壽ング発生回路W
TGに人力され、ここで書き込み動作に必要な内部のタ
イミング信号が形成される。
The read clock signal RC is input to a read system timing generation circuit RTG, where an internal timing signal necessary for the read operation is formed. ! The writing clock signal WC is a writing system tie generation circuit W.
The internal timing signals necessary for the write operation are generated by the TG.

アドレス比較回路ACOMPは、読み出し系の内部アド
レス信号ariと書き込み系の内部アドレス信号avy
lとを受けて、書き込みアドレスと読み出しアドレスが
競合したことを検出し2、その検出出力をY選択回路Y
SW1.YSW2に伝える。
The address comparison circuit ACOMP has a read-related internal address signal ari and a write-related internal address signal avy.
1, it detects that there is a conflict between the write address and the read address 2, and sends the detection output to the Y selection circuit Y.
SW1. Tell YSW2.

上記アドレス比較回路A COM Pは、肉アドレス信
号ariとaviとが一致したときには、うチイトデー
タを優先させて、選択されるメモリセルには書き込み動
作を行わせる。そして、メモリセルの読み出しを行わな
いで、上記書き込み系の共通データ線と読み出し系の共
通データ線を短絡して書き込みデータをそのまま読み出
しデータとして出力させる。この構成を採ることによっ
て、同じメモリセルに対する書き込みと読み出しを実質
的に同時に行わせることが可能になる。
When the actual address signals ari and avi match, the address comparator circuit A COMP gives priority to the bypass data and causes the selected memory cell to perform a write operation. Then, without performing reading from the memory cell, the writing system common data line and the reading system common data line are short-circuited to output the write data as is as read data. By adopting this configuration, writing and reading to the same memory cell can be performed substantially simultaneously.

この実施例では、メモリアレイM−ARYを2つ分割し
、それに対応してそれぞれにダミーセル列DCIとDC
2を設ける。この理由は、例えばメモリアレイM−AR
Y 1のデータ線を選択したときには、メモリアレイM
−ARY2側のダ6−セル列DC2を選んで基準電圧を
形成する。逆に、メモリアレイM−ARY2のデータ線
を選択したときには、メモリアレイM−ARY l側の
ダミーセル列DCIを選らんで基準電圧を形成する。こ
のm戒では、メモリアレイM−ARY 1のデータ線か
らの読み出しく8号は、メモリアレイM−ARYl(又
はM−ARY2)の共通データ線から出力され、ダミー
セル列DC2(又はDCI)からの基準電圧は、メモリ
アレイM−ARY2 (又はメモリアレイM−ARYI
)Iの共通データ線を通して出力される。これにより、
vf4信号が共に等しい寄生容量を持つ共通データ線を
通してセンスアンプSAに伝えられる。これにより、信
号伝達経路の寄生容量がバランスし、メモリセルとダミ
ーセルをII戒するMOS F ETのコンダクタンス
比に従ってレベル差を持つ読み出し信号と基準電圧を得
ることができる。
In this embodiment, the memory array M-ARY is divided into two, and correspondingly, dummy cell columns DCI and DC are divided into two.
2 will be provided. The reason for this is, for example, the memory array M-AR
When data line Y1 is selected, memory array M
- Select the cell column DC2 on the ARY2 side to form a reference voltage. Conversely, when the data line of memory array M-ARY2 is selected, the dummy cell column DCI on the memory array M-ARY l side is selected to form a reference voltage. In this precept, No. 8 read from the data line of memory array M-ARY 1 is output from the common data line of memory array M-ARYl (or M-ARY2), and read from the dummy cell column DC2 (or DCI). The reference voltage is memory array M-ARY2 (or memory array M-ARYI
) I is output through the common data line. This results in
The vf4 signal is transmitted to the sense amplifier SA through a common data line that both have the same parasitic capacitance. As a result, the parasitic capacitance of the signal transmission path is balanced, and it is possible to obtain a read signal and a reference voltage having a level difference according to the conductance ratio of the MOS FET that controls the memory cell and the dummy cell.

第6図には、上記2ボ一トRAMにおける書き込み系の
共通データ線と読み出し系の共通データ線の一実施例の
回路図が示されている。
FIG. 6 shows a circuit diagram of an embodiment of a write-related common data line and a read-related common data line in the two-bottom RAM.

書き込みアドレスと読み出しアドレスが一致した場合、
書き込み系の共通データbIDiと読み出し系の共通デ
ータIRcDIを短絡させるスイソチMO3FETQ3
0.Q31及びQ32.Q33を設ける。すなわち、ア
ドレス比較回路ACOMPがハイレベルの比較一致出力
を形成17たとき、ネイソチMO3FETQ31とQ3
3をオン状態1?\ にする、このとき、メモリアレイM−ARYiを選択す
る反転アドレス信号AR9がハイレベルなら、スイッチ
MO3FETQ32がオン状態になって書き込み系の共
通データ線Diと読み出し系の共通データ線RDC1に
接続して、書き込み信号をそのまま伝える。このとき、
メモリアレイM−ARY2側では、書き込み系の共通デ
ータ線D1の信号がインバータ回路を介して反転されて
読み出し系の共通データ線RDC2に伝えられる。
If the write address and read address match,
Swissochi MO3FETQ3 that short-circuits the write system common data bIDi and the read system common data IRcDI
0. Q31 and Q32. Q33 will be established. That is, when the address comparison circuit ACOMP forms a high-level comparison match output, the NISOCH MO3FETs Q31 and Q3
3 on state 1? At this time, if the inverted address signal AR9 that selects the memory array M-ARYi is at a high level, the switch MO3FETQ32 is turned on and connected to the write system common data line Di and the read system common data line RDC1. The write signal is transmitted as is. At this time,
On the memory array M-ARY2 side, the signal on the write system common data line D1 is inverted via an inverter circuit and transmitted to the read system common data line RDC2.

これにより、センスアンプSAには差動13号が入力さ
れ、それの増幅出力信男が読み出し信号として出力され
る。おな、メモリアレイM−ARY 2側が選択される
ときには、書き込み系の共通データ線D1の信号がイン
バータ回路N30によって反転されてスイフチMO3F
ETQ31とQ32を通して読み出し共通データ線Rc
D1に伝えられ、上記のような擬似的な参照電圧として
センスアンプSAに伝えられる。
As a result, the differential signal No. 13 is input to the sense amplifier SA, and its amplified output signal is output as a read signal. Note that when the memory array M-ARY 2 side is selected, the signal of the writing system common data line D1 is inverted by the inverter circuit N30 and the switch MO3F
Read common data line Rc through ETQ31 and Q32
The voltage is transmitted to D1, and is transmitted to the sense amplifier SA as a pseudo reference voltage as described above.

なお、図示しないが、センスアンプSAとしては6.シ
ングルエンドの差動増幅回路を2側設j十で、その入力
に差動的に上記読み出し系の共通データ線RCDIとR
CD2を接続し、上記アドレス信号AR9とAR9によ
り一方のセンスアンプを活性化するものであってもよい
。すなわち、負荷に電流ξラー回路を用いたシングルエ
ンド構成の差動増幅回路では、出力取り出し側が高感度
であるので、高感度にある方のセンスアンプを上記アド
レス信号AR9とAR9により選択するものである。
Although not shown, the sense amplifier SA is 6. A single-ended differential amplifier circuit is installed on two sides, and its input is differentially connected to the common data lines RCDI and R of the readout system.
CD2 may be connected and one sense amplifier may be activated by the address signals AR9 and AR9. In other words, in a single-ended differential amplifier circuit using a current ξ error circuit as a load, the output extraction side has high sensitivity, so the sense amplifier with high sensitivity is selected by the address signals AR9 and AR9. be.

第8図には、上記第5図に示した2ボ一トRAMにおけ
るダミーセル列の一実施例の回路図が示されている。
FIG. 8 shows a circuit diagram of an embodiment of the dummy cell array in the two-bottom RAM shown in FIG. 5 above.

この実施例では、メモリアレイM−ARY1に対応した
ダミーセルは1つのMOS F ETから構成され、他
方のメモリアレイM−ARY2に対応したダミーセルを
構成する同様なMOS F ETと直列形態に接続され
る。すなわち、メモリアレイM−ARY1とM−ARY
2の一対からなるダよ一データ線間が上記ダミーセルを
構成する2つの一象5FETにより接続される。
In this embodiment, the dummy cell corresponding to the memory array M-ARY1 is composed of one MOS FET, and is connected in series with a similar MOS FET constituting the dummy cell corresponding to the other memory array M-ARY2. . That is, memory arrays M-ARY1 and M-ARY
The data lines consisting of the two pairs of data lines are connected by two single 5FETs constituting the dummy cells.

この実施例では、メモリアレイのデータ線及びダミーデ
ータ線は、PチャンネルMO3FETQ32なしいQ3
7からなるMOSFETにより回路の接地電位のような
ロウレベルにプリチャージされる。これに対して、共通
データICDIとCD2は、NチャンネルMO8FET
Q3oとQ31により電源電圧Vccのようなハイレベ
ルにプリチャージされる。
In this embodiment, the data lines and dummy data lines of the memory array are P-channel MO3FETs Q32 and Q3.
It is precharged to a low level, such as the ground potential of the circuit, by MOSFET 7. On the other hand, the common data ICDI and CD2 are N-channel MO8FETs.
It is precharged to a high level such as power supply voltage Vcc by Q3o and Q31.

この構成においても、メモリアレイM−ARYlのデー
タ線が選択されときには、メモリアレイM−ARYI側
のダミーデータ線DD2が選択れ、メモリアレイM−A
RY2のデータ線が選択さりときにはメモリアレイM−
AR¥1側のダミーデータ線DDIが選択される。これ
により、データ線とダミーデータ線がそれぞれ共通デー
タ線CDIとCD2を介してセンスアンプに伝えられ、
共通データ線の寄生容量を等しくできる。
Also in this configuration, when the data line of memory array M-ARYl is selected, the dummy data line DD2 on the memory array M-ARYI side is selected, and the dummy data line DD2 of memory array M-ARYI is selected.
When the data line of RY2 is selected, the memory array M-
Dummy data line DDI on the AR\1 side is selected. As a result, the data line and dummy data line are transmitted to the sense amplifier via the common data lines CDI and CD2, respectively.
The parasitic capacitance of the common data line can be made equal.

また、上記のようになプリチャージレベルに設定すると
、データ線及びダミーデータ線が選択されたとき、読み
出し16号レベルは両者の電荷結合によりハーフプリチ
ャージ電位になり、そのハーフプリチャージ電位を基準
にして、前記第7図に示したようにロウレベルLと基準
電圧VRが変化する。これにより、差動型のセンスアン
プの最も感度が高い中間電位ごの差信号を形成すること
ができる。
In addition, when the precharge level is set as described above, when the data line and dummy data line are selected, the readout No. 16 level becomes a half precharge potential due to charge coupling between the two, and the half precharge potential is used as the reference. Then, as shown in FIG. 7, the low level L and the reference voltage VR change. Thereby, it is possible to form a difference signal for each intermediate potential, which has the highest sensitivity of the differential sense amplifier.

このとき、共通データ線の寄生容量がデータ線やダミー
データ線の寄生容量に比べて小さいことにより、上記ハ
ーフプリチャージ電位が下がり過ぎると、センスアンプ
の感度を悪くする方向に作用する。このときには、上記
カラム選択動作が行われた後に、上記スイッチMO3F
ET’Q30とQ31を再びオン状態にして、上記読み
出し信号の直流レベルを持ち上げるようにするものであ
ってもよい。
At this time, since the parasitic capacitance of the common data line is smaller than the parasitic capacitance of the data line and the dummy data line, if the half precharge potential drops too much, the sensitivity of the sense amplifier becomes worse. At this time, after the column selection operation is performed, the switch MO3F
ET'Q30 and Q31 may be turned on again to raise the DC level of the read signal.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)一方の入出力端子から書き込みが可能にされたラ
ッチ回路を用いたシングルエンド構成のメモリセルを用
いて高集積化を図るとLもに、メモリセルからの読み出
し信号とダミーセルを用いた形成した基準電圧とを差動
型のセンスアンプにより増幅することにより、高感度で
高速の読み出しが可能になるとい・)効果が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. In other words, (1) If high integration is achieved by using a memory cell with a single-ended configuration using a latch circuit that allows writing from one input/output terminal, both L and L By amplifying the formed reference voltage using a differential sense amplifier, high-sensitivity and high-speed readout is possible.

(2)メモリアレイを2分割し、それぞれにダミーセル
列ヲ設けて、メモリセルとダミーセルからの読み出し信
号を上記分割されたメモリアレイに対応した共通データ
線を通して出力させることにより、読み出し信号経路を
バランスさせることができるから、いっそうの読み出し
動作の安定化を実現できるという効果が得られる。
(2) The read signal path is balanced by dividing the memory array into two, providing a dummy cell column in each, and outputting read signals from the memory cells and dummy cells through common data lines corresponding to the divided memory arrays. Therefore, the effect of further stabilizing the read operation can be obtained.

(3)データ線やダミーデ・−り線と共通データ線を逆
のIノベルにプリチャージしておいて、カラム選択動作
によりハーフ電位にすることにより、差動型のセンスア
ンプを最も感度が高い領域で動作させることができると
いう効果が得られる。
(3) By precharging the data line, dummy data line, and common data line to the opposite I novel, and setting it to half potential by column selection operation, the differential sense amplifier has the highest sensitivity. The effect is that it can be operated in a specific area.

(4)上記(3)において、ハーフ電位が落ち込みすぎ
たとき、プリチャージMO3FETを再び動作状態にす
ることによって、上記センスアンプを高感度?iw域で
動作させることができるという効果が得られる。
(4) In (3) above, when the half potential drops too much, the sense amplifier can be set to high sensitivity by putting the precharge MO3FET into operation again. The effect is that it can be operated in the iw range.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない0例えば、ダ旦−セルの構
成は、メモリセルの読み出し方式に応じて種々の実施形
態を採ることができるものである。出力回路は、上記の
ようなラッチ回路を持つの他、動作タイミング信号に応
じてセンスアンプの出力信号を出力する構成としてもよ
い。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. For example, the structure of the data cell can take various embodiments depending on the reading method of the memory cell. In addition to having the latch circuit as described above, the output circuit may be configured to output the output signal of the sense amplifier in accordance with the operation timing signal.

RAMは、クロック信号CLKにより動作させるもの他
、チップイネーブル信号又はチップ選択信号により、そ
の動作を開始させるようにするものであってもよい。R
AMは、スタンダードセル方式やゲートアレイ等のよう
なカスタム用大規模集積回路に内蔵されるものであって
もよい、この場合、アドレスバッファを省略して内部ア
ドレスバス等から供給されるアドレス13号を直接的に
デコーダ回路に供給する構成としてもよい。
The RAM may be operated by the clock signal CLK, or may be started by a chip enable signal or a chip selection signal. R
The AM may be built in a custom large-scale integrated circuit such as a standard cell system or a gate array. In this case, the address buffer is omitted and the address No. 13 supplied from an internal address bus etc. is used. A configuration may also be adopted in which the signal is directly supplied to the decoder circuit.

この発明は、シングルエンド構成のメモリセルを用いた
スタティック型RAMとして広く利用できる。
The present invention can be widely used as a static RAM using memory cells with a single-end configuration.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、一方の入出力端子から書き込みが可能にさ
れたラッチ回路を用いたシングルエンド構成のメモリセ
ルを用いて高集積化を図るとともに、メモリセルからの
読み出し信号とダミーセルを用いた形成した基準電圧と
を差動型のセンスアンプにより増幅することにより、高
感度で高速の読み出しが可能になる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. In other words, high integration is achieved by using a memory cell with a single-end configuration using a latch circuit that allows writing from one input/output terminal, and a reference voltage formed using a read signal from the memory cell and a dummy cell. By amplifying this with a differential sense amplifier, high-sensitivity and high-speed readout becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明に係るスタティック型RAMの一実
施例を示すブロック図、 第2図は、この発明に係るスタティック型RAMの一実
施例を示す要部回路図、 第3図は、この発明に係るスタティック型RAMの他の
一実施例を示す要部回路図、 第4図は、この発明に係るスタティック型RAMの更に
他の一実施例を示す要部回路図、第5図は、この発明が
適用された2ボ一トRAMの一実施例を示すブロック図
、 第6図は、上記2ボ一トRAMにおける書き込み系の共
通データ線と読み出し系の共通データ線の一実施例を示
す回路図、 第7図は、この発明に係るシングルエンド構成のメモリ
セルの読み出し動作の一例を説明するための波形図、 第8図は、上記2ボー)RAMにおけるダミーセル列の
一実施例の回路図が示されている。 XADB、YADB、ADB・・アドレスバッファ、R
AB・・読み出し系アドレスバッファ、WAB・・書き
込み系アドレスバッファ、DCR・・デコーダ回路、R
DCR・・読み出し系アドレスデコーダ回路、WDCR
・・書き込み系アドレスデコーダ回路、DRV・・ドラ
イバ、RDV・・読み出し系ワードドライバ、書き込み
系ワードトライバ、WYDVI、WYDV2 ・−書き
込み系Yワードドライバ、M−ARY、M−ARYl、
M−ARY2・・メモリアレイ、DCA・・ダミーセル
アレイ、DCI、DC2・・ダミーセル列、YSW・・
Y選択回路(カラムスイッチ回路)、SA・・センスア
ンプ、RWA・・再書き込み回路、DOB・・データ出
カバソファ、DIB・・データ入力バンファ、TG・・
タイミング制御回路、RTG・・読み出し系タイミング
発生回路、WTG・・書き込み系タイミング発生回路、
ACOMP・・アドレス比較回路 第1図 第 4 (支) 第 図 第 図 第 6 図 第 図 第 図
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a static RAM according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of a main part showing an embodiment of a static RAM according to the invention, and FIG. FIG. 4 is a circuit diagram of a main part showing still another embodiment of a static RAM according to the invention. FIG. 5 is a circuit diagram of a main part showing still another embodiment of a static RAM according to the invention. FIG. 6 is a block diagram showing an embodiment of a 2-bot RAM to which the present invention is applied. FIG. FIG. 7 is a waveform diagram for explaining an example of a read operation of a memory cell with a single-end configuration according to the present invention, and FIG. A circuit diagram is shown. XADB, YADB, ADB...address buffer, R
AB: Read system address buffer, WAB: Write system address buffer, DCR: Decoder circuit, R
DCR...Reading address decoder circuit, WDCR
・Write system address decoder circuit, DRV driver, RDV ・Read system word driver, write system word driver, WYDVI, WYDV2 ・-Write system Y word driver, M-ARY, M-ARYl,
M-ARY2...Memory array, DCA...Dummy cell array, DCI, DC2...Dummy cell column, YSW...
Y selection circuit (column switch circuit), SA...Sense amplifier, RWA...Rewrite circuit, DOB...Data output cover sofa, DIB...Data input bumper, TG...
Timing control circuit, RTG: read timing generation circuit, WTG: write timing generation circuit,
ACOMP...Address comparison circuit Fig. 1 Fig. 4 (Support) Fig. Fig. Fig. 6 Fig. Fig. Fig.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、シングルエンド構成のスタティック型メモリセルか
らの読み出し信号を、ワード線とダミーデータ線との交
点に設けられたダミーセルにより形成された基準電圧を
受ける差動型のセンスアンプにより増幅することを特徴
とする半導体記憶装置。 2、上記スタティック型メモリセルがマトリックス配置
されてなるメモリアレイとそれに対応したダミーアレイ
とを一対として共通データ線を設けるとともに、一方の
メモリアレイからの読み出し動作のとき、他方のメモリ
アレイに対応したダミーセルを選択してそれぞれの共通
データ線の信号を差動型のセンスアンプに入力すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装
置。 3、データ線を一方の電位にプリチャージし、共通デー
タ線を他方の電位にプリチャージするとともに、上記ダ
ミーセルは対応するものが直列形態に接続されるもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の半導
体記憶装置。
[Claims] 1. A differential sense amplifier that receives a read signal from a static memory cell with a single-end configuration and a reference voltage formed by a dummy cell provided at the intersection of a word line and a dummy data line. A semiconductor memory device characterized by amplification by. 2. A memory array in which the static type memory cells are arranged in a matrix and a corresponding dummy array are provided as a pair, and a common data line is provided, and when a read operation is performed from one memory array, a data line is provided corresponding to the other memory array. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the dummy cells are selected and the signals of the respective common data lines are inputted to a differential sense amplifier. 3. The data line is precharged to one potential, the common data line is precharged to the other potential, and corresponding dummy cells are connected in series. The semiconductor memory device according to scope 2.
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