JPH0367238A - Scanning type exposing device - Google Patents

Scanning type exposing device

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JPH0367238A
JPH0367238A JP2085150A JP8515090A JPH0367238A JP H0367238 A JPH0367238 A JP H0367238A JP 2085150 A JP2085150 A JP 2085150A JP 8515090 A JP8515090 A JP 8515090A JP H0367238 A JPH0367238 A JP H0367238A
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projection lens
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玲 森本
Satoru Tachihara
立原 悟
Yuji Matsui
祐二 松井
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Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

Abstract

PURPOSE:To prevent the degradation in the accuracy of the patterns formed on an exposing object by moving the exposing object in accordance with the movement of the scale image actually projected via a projecting lens system. CONSTITUTION:A scale 22b to form the scale image moved together with the pattern image of an original picture is provided and the movement of the actual pattern image is detected by detecting the state of this scale image by a photodetecting means 48. The movement of the exposing object is controlled in accordance with this detection. Since the exposing object is thereby moved in follow up to the movement of the projected scale image, the errors, etc., of the projecting lens system 30 are canceled. The degradation in the accuracy of the patterns is prevented in this way even if there are the error in the magnification of the projecting lens system or the error in the moving quantity of the original picture and the exposing object.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、露光対象に原画の一部の像を形成し、露光
対象と原画とを相対的にスライドさせることにより、露
光対象全体の露光を行う走査型の露光装置に関するもの
である。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention forms an image of a part of an original image on an exposure target, and then slides the exposure target and the original image relative to each other, thereby exposing the entire exposure target. The present invention relates to a scanning type exposure apparatus that performs.

[従来の技術] このように原画と露光対象とを投影レンズに対して相対
的に移動させて露光を行う走査型の露光装置としては、
コピー機、あるいはステッパーと呼ばれる細密パターン
用の露光装置等がある。
[Prior Art] As described above, a scanning exposure apparatus that performs exposure by moving an original image and an exposure target relative to a projection lens,
There are copiers and exposure devices for fine patterns called steppers.

コピー機は、原稿の像を回転する感光体ドラム上に連続
的に投影、露光するものである。また、ステッパーは、
マスクと露光対象とを断続的に移動させつつ、マスクの
像を部分部分に分けて露光対象上に投影、露光するもの
である。
A copy machine continuously projects and exposes an image of an original onto a rotating photosensitive drum. In addition, the stepper
While the mask and the exposure target are moved intermittently, the image of the mask is divided into parts and projected onto the exposure target for exposure.

ところで、上記のような走査型露光装置においては、原
稿上の投影部分の移動量と、露光対象上での露光部分の
移動量とを投影レンズ系の倍率を考慮して関連付ける必
要がある。
Incidentally, in the above-described scanning type exposure apparatus, it is necessary to correlate the amount of movement of the projection portion on the document with the amount of movement of the exposed portion on the exposure target, taking into consideration the magnification of the projection lens system.

コピー機のように高精度が求められない装置は、機械的
なリンクにより移動量の関連付けを行っている。また、
ステッパーのような高精度が要求される装置は、マスク
、露光対象それぞれの移動量を、例えば移動量に応じて
出力されるパルス数により電気的にI!1jllL、こ
れらの関連付けを行っている。
Devices that do not require high precision, such as copy machines, use mechanical links to correlate the amount of movement. Also,
A device such as a stepper that requires high precision measures the amount of movement of the mask and the exposure target electrically by, for example, the number of pulses output according to the amount of movement. 1jllL, these associations are being made.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述した従来の走査型露光装置は、原画
、露光対象のそれぞれに対する移動111g4はなされ
たとしても、これらの移動量制御は予め定められて固定
された係数に基づいて実行されるため、実際に投影され
たパターン像の移動に対してはオープンループとなり、
フィードバックをかけることができない。
[Problem to be Solved by the Invention] However, in the above-described conventional scanning exposure apparatus, even though the original image and the exposure target are moved 111g4, the amount of movement is controlled using predetermined and fixed coefficients. Since the execution is based on the
I can't give feedback.

従って、投影レンズの倍率に誤差が含まれる場合、ある
いは原画と露光対象との移動の関連付けに誤差があった
場合には、露光対象上に形成されるパターンの精度が低
下するという問題がある。
Therefore, if there is an error in the magnification of the projection lens, or if there is an error in the association of movement between the original image and the exposure target, there is a problem that the precision of the pattern formed on the exposure target is reduced.

[発明の目的] この発明は、上記の課題に鑑み、投影レンズ系の倍率誤
差、あるいは原画、露光対象の移動量誤差があった場合
にも、パターンの精度の低下を防止することができる走
査型露光装置を提供することを目的とする。
[Object of the Invention] In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a scanning method that can prevent a decrease in pattern accuracy even when there is a magnification error in the projection lens system or an error in the amount of movement of the original image or exposure target. The purpose is to provide a mold exposure device.

[課題を解決するための手段] この発明は、上記の目的を達成させるため、原画のパタ
ーン像と共に移動するスケール像を形成するスケールを
設け、このスケールf!Iの状態を受光手段により検出
することにより、現実のパターンIIの移動を検出し、
これに基づいて露光対象の移動を制御することを特徴と
する。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a scale that forms a scale image that moves together with the pattern image of the original image, and this scale f! By detecting the state of I with a light receiving means, the movement of the actual pattern II is detected,
It is characterized in that the movement of the exposure target is controlled based on this.

[作用] 上記の構成によれば、投影されたスケール像の移動に追
従して露光対象が移動されるため、投影レンズ系の誤差
等はキャンセルされる。
[Operation] According to the above configuration, since the exposure target is moved following the movement of the projected scale image, errors and the like of the projection lens system are canceled.

[実施例] 以下、この発明を図面に基づいて説明する。[Example] The present invention will be explained below based on the drawings.

(第1実施例) 第1図〜第5図は、この発明に係る走査型露光装置の第
1実施例を示したものである。
(First Embodiment) FIGS. 1 to 5 show a first embodiment of a scanning exposure apparatus according to the present invention.

この装置は、第1図に示すように光源としての水銀灯1
1を備える光源部10と、露光パターンが描かれ′!:
RWであるマスクとしての液晶ライトバルブ21を有す
るマスク部20と、液晶ライトバルブ21を透過した光
束により原画のf象を投影する投影レンズ系30と、露
光対象であるプリント基板等のワーク41を有するワー
ク部40とから概略構成されている。
This device consists of a mercury lamp 1 as a light source, as shown in FIG.
1, and an exposure pattern is drawn'! :
A mask unit 20 having a liquid crystal light valve 21 as a RW mask, a projection lens system 30 that projects an f-elephant of the original image using the light beam transmitted through the liquid crystal light valve 21, and a workpiece 41 such as a printed circuit board to be exposed. The workpiece section 40 is generally composed of a workpiece section 40 and a workpiece section 40.

光源部lOは、水銀灯11から発する光をインテグレー
タ12により平均化すると共に、コンデンサレンズ13
によって液晶ライトバルブ21上に集光させる。
The light source unit IO averages the light emitted from the mercury lamp 11 using an integrator 12, and also uses a condenser lens 13 to average the light emitted from the mercury lamp 11.
The light is focused onto the liquid crystal light valve 21.

液晶ライトバルブ21は、図示せぬ書き込み光学系によ
り露光パターンが形成されるものであり、マスクテーブ
ル22上に載置されている。このマスクテーブル22は
、静止系であるマスクペース23のガイドレール23a
、23aに係合してスライド自在に設けられている。
The liquid crystal light valve 21 has an exposure pattern formed by a writing optical system (not shown), and is placed on a mask table 22 . This mask table 22 has guide rails 23a of a mask space 23 which is a stationary system.
, 23a so as to be freely slidable.

また、マスクペース23の中央には、液晶ライトバルブ
21を透過した光束をワーク部40側へ透過させる開口
23bが穿設されている。
Furthermore, an opening 23b is provided in the center of the mask space 23 to allow the light beam that has passed through the liquid crystal light valve 21 to pass through to the workpiece 40 side.

マスクペース23の両端に設けられた軸受24,24間
には、ガイドレール23aと平行に送りネジ25が架設
されており、マスクテーブル22にはこの送りネジ25
に螺合する送りナツト22aが設けられている。送りネ
ジ25は、サーボモータ26によって回転駆動され、こ
れによってマスクテーブル22がガイドレール23aに
沿ってスライドされる。これらの送りネジ25、送りナ
ツト22a、サーボモータ26は、原画と投影レンズ系
とを相対的に移動させる第1の駆動機構を構成する。
A feed screw 25 is installed parallel to the guide rail 23a between bearings 24, 24 provided at both ends of the mask space 23, and this feed screw 25 is installed on the mask table 22.
A feed nut 22a is provided which is screwed into the feed nut 22a. The feed screw 25 is rotationally driven by a servo motor 26, thereby causing the mask table 22 to slide along the guide rail 23a. These feed screw 25, feed nut 22a, and servo motor 26 constitute a first drive mechanism that relatively moves the original image and the projection lens system.

なお、サーボモータ26には、その回転軸の回転速度を
検出する速度検出器26aが取り付けられている。
Note that a speed detector 26a is attached to the servo motor 26 to detect the rotation speed of its rotating shaft.

マスクテーブル22の一部には、マスクテーブル22の
スライド方向に沿って透過率が切り替わる縞状の投影ス
ケール22bが液晶ライトバルブ21に隣接して設けら
れている。この投影スケール22bを透過した光束は、
投影レンズ系30を介してワーク部40上に縞状のパタ
ーン像を形成する。
A striped projection scale 22b whose transmittance changes along the sliding direction of the mask table 22 is provided in a part of the mask table 22 adjacent to the liquid crystal light valve 21. The light flux transmitted through this projection scale 22b is
A striped pattern image is formed on the workpiece 40 via the projection lens system 30.

更に、マスクテーブル22の側部には、テーブルのスラ
イド方向に沿って透過率が切り替わる綿状のパターンを
有する第1リニアスケール22cが取り付けられており
、マスクペース23にはこの第1リニアスケール22c
を挾んで第1リニアヘツド27が設けられている。第1
リニアヘツド27は、リニアスケール22cを挟んで対
向する発光部と受光部とを有しており、第1リニアスケ
ールの移動に伴って移動量に対応するパルスを出力する
Further, a first linear scale 22c having a cotton-like pattern whose transmittance changes along the sliding direction of the table is attached to the side of the mask table 22, and the first linear scale 22c is attached to the mask space 23.
A first linear head 27 is provided between the two. 1st
The linear head 27 has a light emitting part and a light receiving part facing each other with the linear scale 22c in between, and outputs a pulse corresponding to the amount of movement as the first linear scale moves.

投影レンズ系30は、露光対象の平面度が低い場合、あ
るいは投影レンズ系のデフォーカスがあった場合にも正
確なパターンを形成できるように、fi(IIにテレセ
ントリックなレンズ系が用いられている。但し、回転対
称なレンズから構成されるテレセントリックレンズは、
露光対象側のレンズ径が少なくとも露光対象全体を含む
大きさとなるため、露光対象が大きくなるとレンズの作
成がコスト的に困難となるという問題がある。
The projection lens system 30 uses a telecentric lens system for fi (II) so that an accurate pattern can be formed even when the flatness of the exposure target is low or the projection lens system is defocused. However, a telecentric lens consisting of a rotationally symmetrical lens is
Since the diameter of the lens on the exposure target side is large enough to include at least the entire exposure target, there is a problem in that as the exposure target becomes larger, it becomes difficult to manufacture the lens in terms of cost.

そこで、この実施例の投影レンズ系30は、回転対称な
第1レンズ群31と、円形レンズの直径を含む一部を平
面長方形に切り出した形状の第2レンズ群32とから構
成されており、液晶ライトバルブ21及び開口23bを
透過した光源部10からの光束をワーク41に対してス
リット状に結像させる。
Therefore, the projection lens system 30 of this embodiment is composed of a rotationally symmetrical first lens group 31 and a second lens group 32 having a shape in which a portion of a circular lens including the diameter is cut out into a planar rectangle. The light beam from the light source unit 10 that has passed through the liquid crystal light valve 21 and the opening 23b is imaged onto the workpiece 41 in the form of a slit.

ワーク部40は、ワーク41が載置されるワークテーブ
ル42と、静止系であるワークベース43とを備えてい
る。ワークテーブル42は、ワークベース43に設けら
れたガイドレール43a、43aに係合してスライド自
在とされている。
The work unit 40 includes a work table 42 on which a work 41 is placed, and a work base 43 that is a stationary system. The work table 42 is slidably engaged with guide rails 43a, 43a provided on the work base 43.

ワークベース43の両端に設けられた軸受44,44間
には、ガイドレール43aと平行に送りネジ45が架設
されており、ワークテーブル42にはこの送りネジ45
に螺合する送りナツト42aが設けられている。送りネ
ジ45は、サーボモータ46によって回転駆動され、こ
れによってワークテーブル42がガイドレール43aに
沿ってスライドされる。これらの送りネジ45、送りナ
ツト42a、サーボモータ46は、露光対象と投影レン
ズ系とを相対的に移動させる第2の駆動機構を構成する
A feed screw 45 is installed parallel to the guide rail 43a between bearings 44, 44 provided at both ends of the work base 43, and the feed screw 45 is installed on the work table 42.
A feed nut 42a is provided which is screwed into the feed nut 42a. The feed screw 45 is rotationally driven by a servo motor 46, thereby causing the work table 42 to slide along the guide rail 43a. These feed screw 45, feed nut 42a, and servo motor 46 constitute a second drive mechanism that relatively moves the exposure target and the projection lens system.

なお、サーボモータ46には、その回転軸の回転速度を
検出する速度検出器46aが取り付けられている。
Note that a speed detector 46a is attached to the servo motor 46 to detect the rotation speed of its rotating shaft.

更に、ワークテーブル42の側部には、テーブルのスラ
イド方向に沿って透過率が切り替わる綿状のパターンを
有する第2リニアスケール42bが取り付けられており
、ワークベース43にはこの第2リニアスケール42b
を挟んで第2リニアヘツド47が設けられている。第2
リニアヘツド47は、リニアスケール42bを挟んで対
向する発光部と受光部とを有しており、第2リニアスケ
ールの移動に伴って移動量に対応するパルスを出力する
Furthermore, a second linear scale 42b having a cotton-like pattern whose transmittance changes along the sliding direction of the table is attached to the side of the work table 42, and the second linear scale 42b is attached to the work base 43.
A second linear head 47 is provided on both sides. Second
The linear head 47 has a light emitting section and a light receiving section that face each other with the linear scale 42b in between, and outputs a pulse corresponding to the amount of movement of the second linear scale.

また、第2レンズ群32の下方には、第2リニアヘツド
47に隣接して受光器としての第3リニアヘツド48が
設けられている。第3リニアヘツド48上にはマスクテ
ーブルの移動に伴って移動する投影スケール22bの像
が形成され、マスクテーブル22の移動量に対応したパ
ルスが出力される。
Further, below the second lens group 32, a third linear head 48 as a light receiver is provided adjacent to the second linear head 47. An image of the projection scale 22b that moves as the mask table moves is formed on the third linear head 48, and pulses corresponding to the amount of movement of the mask table 22 are output.

第2図は、上述した装置の制御系を示したものである。FIG. 2 shows the control system of the device described above.

この装置は、全体の制御を行う中央制御装置100を中
心として、マスクテーブル22の移動を制御する系と、
このマスクテーブル22の移動量に基づいてワークテー
ブル42の移動を制御する系とが独立して設けられてい
る。
This device includes a system that controls the movement of the mask table 22, centered around a central controller 100 that controls the entire system;
A system for controlling the movement of the work table 42 based on the amount of movement of the mask table 22 is provided independently.

マスク側の系は、移動量を決定するパルス分配器110
と、決定されたパルスと第1リニアヘツド27から検出
される実際の移動パルスとの偏差を検出して補正をかけ
る偏差カウンタ111と、偏差カウンタ111の出力を
アナログ変換するD/Aコンバータ112と、速度検出
器26aの出力に基づくフィードバックを受けつつサー
ボモータ26に駆動電流を供給するサーボアンプ113
とを備えている。
The mask side system includes a pulse distributor 110 that determines the amount of movement.
a deviation counter 111 that detects and corrects the deviation between the determined pulse and the actual movement pulse detected from the first linear head 27; and a D/A converter 112 that converts the output of the deviation counter 111 into analog. A servo amplifier 113 that supplies drive current to the servo motor 26 while receiving feedback based on the output of the speed detector 26a.
It is equipped with

一方、ワーク側の系は、第3リニアヘツド48の出力に
基づいて光学系の倍率誤差を含むマスクテーブル22の
移動量を検出してワークテーブル42の移動量を決定す
るリンク手段としてのパルス分配器120と、第2リニ
アヘツド47の出力C:基づいて偏差を検出する偏差カ
ウンタ121と、D/Aコンバータ122と、速度検出
器46aの出力に基づいてサーボモータ46に駆動電流
を供給するサーボアンプ123とを備えている。
On the other hand, the work side system is a pulse distributor serving as a link means that detects the movement amount of the mask table 22 including the magnification error of the optical system based on the output of the third linear head 48 and determines the movement amount of the work table 42. 120, a deviation counter 121 that detects a deviation based on the output C of the second linear head 47, a D/A converter 122, and a servo amplifier 123 that supplies a drive current to the servo motor 46 based on the output of the speed detector 46a. It is equipped with

上記溝底により、マスクテーブル22は中央制御装置1
00からの指令によって所定のスピードで移動される。
Due to the groove bottom, the mask table 22 is connected to the central controller 1.
It is moved at a predetermined speed according to commands from 00.

一方、ワークテーブル42は、第3リニアヘツド48か
ら出力される投影レンズ系30の倍!!誤差を含むマス
クテーブルの移動量に基づいて移動される。
On the other hand, the work table 42 is twice as large as the projection lens system 30 output from the third linear head 48! ! The mask table is moved based on the amount of movement of the mask table including the error.

第3図は、投影スケールをマスクテーブル側の移動量検
出とワークテーブル側の移動量検出とで共用する例を示
したものである。
FIG. 3 shows an example in which the projection scale is shared for detecting the amount of movement on the mask table side and detecting the amount of movement on the work table side.

すなわち、光源部lOからの光束をハーフミラ−50で
分割し、反射成分をミラー51で反射させて投影スケー
ル22bを介して第1ソニアヘツド27で受光すると共
に、透過成分を投影スケール22b、投影レンズ系30
を介して第3リニアヘツド48で受光する。
That is, the light beam from the light source unit 10 is divided by the half mirror 50, the reflected component is reflected by the mirror 51, and is received by the first sonia head 27 via the projection scale 22b, and the transmitted component is transmitted to the projection scale 22b and the projection lens system. 30
The light is received by the third linear head 48 via.

第1リニアヘツド27からは、マスクテーブル22の移
動量を検出し、第3リニアヘツド48からは投影レンズ
の倍率誤差を含んだマスクテーブル22の移動量を検出
する。
The first linear head 27 detects the amount of movement of the mask table 22, and the third linear head 48 detects the amount of movement of the mask table 22 including the magnification error of the projection lens.

検出後の制御については上記の実施例と同様である。Control after detection is the same as in the above embodiment.

なお、上記の実施例では、両テーブルをクローズトルー
プで制御しているが、マスクテーブル22側は原理的に
はオーブンループで制御することもできる。但し、レジ
スト等の感材に微細なパターンを描画する装置において
は、露光量の微小な変化が線幅に大きく影響するため、
上記のようにマスクテーブル側もクローズトループで制
御する必要がある。
In the above embodiment, both tables are controlled in a closed loop, but the mask table 22 side can also be controlled in an oven loop in principle. However, in devices that draw fine patterns on photosensitive materials such as resists, minute changes in the exposure amount can greatly affect the line width.
As mentioned above, the mask table side also needs to be controlled in a closed loop.

また、第3リニアヘツド48は、単一のフォトダイオー
ド等の受光素子であってもよいが、第4図に示したよう
な構成とすることもできる。
Further, the third linear head 48 may be a light-receiving element such as a single photodiode, but it may also have a configuration as shown in FIG. 4.

すなわち、この例で示した第3リニアヘツド48は、投
影されたスケール像のピッチに対して1/4ピツチづつ
位相が相違する4つの受光素子48a、48b、48c
That is, the third linear head 48 shown in this example has four light receiving elements 48a, 48b, and 48c whose phases are different by 1/4 pitch with respect to the pitch of the projected scale image.
.

48dと、これらの受光素子に対応する開口が形成され
た走査板48eとを有している。それぞれの受光素子4
8a〜48dの位相差は、スケール像のピッチに対して
0°、90’、180°、270@ となる。
48d, and a scanning plate 48e in which openings corresponding to these light receiving elements are formed. Each light receiving element 4
The phase differences of 8a to 48d are 0°, 90', 180°, and 270@ with respect to the pitch of the scale image.

このようなリニアヘッドを利用した信号検出を第5図に
基づいて説明する。
Signal detection using such a linear head will be explained based on FIG. 5.

受光素子48aと48c、受光素子48bと48dとの
出力をブツシュグル接続し、互いに90°位相変化した
2つのプッシュプル信号11.I2を得る。 II、I
2はアナログ出力であるので、波形整形回路により矩形
波信号[1,02としてデジタル化する。
The outputs of the light receiving elements 48a and 48c and the light receiving elements 48b and 48d are connected in a bushing manner to generate two push-pull signals 11. whose phases are shifted by 90 degrees from each other. Obtain I2. II, I
Since 2 is an analog output, it is digitized by a waveform shaping circuit as a rectangular wave signal [1,02.

次に、矩形波信号111,112のエツジを検出してパ
ルスを発生させることにより、プッシュプル信号■1、
I2の4倍の周波数を持つパルス信号Upを生成し、こ
の信号に同期してワークテーブルを駆動する。
Next, by detecting the edges of the rectangular wave signals 111 and 112 and generating pulses, push-pull signals ■1,
A pulse signal Up having a frequency four times that of I2 is generated, and the work table is driven in synchronization with this signal.

原理的には、前述したように1つの受光素子によっても
検出可能であるが、スケール像のピッチに対して相対的
に90°位相が異なる位置に配置された4つの受光素子
を用いることにより、移動方向の検出を可能とすること
ができ、更に4倍の周波数のパルスを発生させることに
より移動量検出の精度を向上させることができる。
In principle, detection is possible with one light-receiving element as described above, but by using four light-receiving elements arranged at positions with a phase difference of 90 degrees relative to the pitch of the scale image, The direction of movement can be detected, and the accuracy of detecting the amount of movement can be improved by generating pulses with four times the frequency.

また、180°づつ位相が異なる受光素子の出力を組に
してプッシュプル接続することにより、光学系の倍率誤
差によりスケール像のピッチが変化した場合にも、SN
比は低下するが、パルスの周期は変化させずに検出する
ことができる。
In addition, by pairing the outputs of the light receiving elements with phases different by 180° and connecting them in a push-pull manner, even if the pitch of the scale image changes due to a magnification error in the optical system, the SN
Although the ratio decreases, the pulse period can be detected without changing.

(第2実施例) 第6図及び第7図は、この発明の第2実施例を示したも
のである。
(Second Embodiment) FIGS. 6 and 7 show a second embodiment of the present invention.

描画するパターンの精度が比較的緩い場合、あるいは、
露光対象の感材としてリスフィルムのような感光の立ち
上がりが急峻な感材を用いる場合には、第1実施例のよ
うにマスクテーブルの移動速度は厳密に制御する必要が
ない。第2実施例では、このような場合に、マスクテー
ブルの移動をオープンループとして制御の簡略化を図っ
た装置を示している。
If the precision of the pattern to be drawn is relatively loose, or
When using a photosensitive material with a steep rise in exposure, such as lithographic film, as the photosensitive material to be exposed, it is not necessary to strictly control the moving speed of the mask table as in the first embodiment. The second embodiment shows an apparatus in which the movement of the mask table is performed in an open loop to simplify control in such a case.

この装置では、マスクテーブルの移動量を検出するリニ
アスケールと、モータの回転速度を検出する速度検出機
とが設けられておらず、第1の駆動手段としてステッピ
ングモータ27を用いている。
This apparatus does not include a linear scale for detecting the amount of movement of the mask table and a speed detector for detecting the rotational speed of the motor, and instead uses a stepping motor 27 as the first driving means.

他の構成は第1実施例と同様である。The other configurations are the same as in the first embodiment.

回路構成は、第7図に示した通りであり、ステッピング
モータ27は中央制御装置100からの指令に基づいて
パルス分配器110から出力されるパルスに基づいて直
接駆動される構成となっている。ワークテーブル側の制
御は第1実施例と同様である。
The circuit configuration is as shown in FIG. 7, and the stepping motor 27 is directly driven based on pulses output from the pulse distributor 110 based on commands from the central controller 100. Control on the work table side is the same as in the first embodiment.

なお、上記の2つの実施例では、原画、スケールを透過
した光束により、像を形成する装置についてのみ述べて
いるが、この発明は、例えばコピー機のように反射光束
により像を形成する装置に適用することも可能である。
In the above two embodiments, only a device that forms an image using a light beam transmitted through an original image and a scale is described, but the present invention is applicable to a device that forms an image using a reflected light beam, such as a copy machine, for example. It is also possible to apply

また、露光対象としては、上記のような平面の感材のみ
でなく、ドラム状の感光体を露光させる構成としてもよ
い。
Further, as the object to be exposed, not only the flat photosensitive material as described above but also a drum-shaped photoreceptor may be exposed.

〔効果] 以上説明した通り、この発明によれば、投影レンズ系を
介して実際に投影されたスケール像の移動に基づいて露
光対象を移動させる構成としたため、投影レンズ系に倍
率誤差が存在する場合、あるいは原画の移動が不安定と
なった場合にも、これらの誤差を含んだ形で露光対象を
移動させることができる。
[Effect] As explained above, according to the present invention, since the exposure target is moved based on the movement of the scale image actually projected through the projection lens system, there is a magnification error in the projection lens system. Even if the movement of the original image becomes unstable, the exposure target can be moved in a manner that includes these errors.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明に係る走査型露光装置の第1実施例を
示す光学系の説明図、第2図は第1図に示した装置の制
御系を示すブロック図、第3図は第1図に示した装置の
変形例を示す光学系の説明図、第4図はリニアヘッドの
詳細を示す説明図、第5図は第4図に示したリニアヘッ
ドからの信号処理を示すグラフである。 第6図はこの発明の第2実施例を示す光学系の説明図、
第7図は第6図に示した装置の制御系を示すブロック図
である。 21・・・液晶ライトバルブ(原fli)30・・・投
影レンズ系 41・・・ワーク(露光対象) 48・・・第3リニアヘツド(受光手段)22b・・・
投影スケール 120・・・パルス分配器(リンク手段)第1図 第3図 第 5 図 第 図
FIG. 1 is an explanatory diagram of an optical system showing a first embodiment of a scanning exposure apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a control system of the apparatus shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram showing details of the linear head; FIG. 5 is a graph showing signal processing from the linear head shown in FIG. 4. . FIG. 6 is an explanatory diagram of an optical system showing a second embodiment of the present invention;
FIG. 7 is a block diagram showing the control system of the apparatus shown in FIG. 6. 21... Liquid crystal light valve (original fli) 30... Projection lens system 41... Workpiece (exposure target) 48... Third linear head (light receiving means) 22b...
Projection scale 120...Pulse distributor (link means) Fig. 1 Fig. 3 Fig. 5 Fig. 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】 露光パターンが描かれた原画の一部を露光対象に対して
結像させる投影レンズ系と、 前記原画と前記投影レンズ系とを相対的に移動 させる
第1の駆動機構と、 前記露光対象と前記投影レンズ系とを相対的に移動させ
る第2の駆動手段と、 前記原画と共に移動され、投影レンズ系を介して前記露
光対象側にスケール像を形成する投影スケールと、 該スケール像の移動を検出する受光手段と、該受光手段
の出力に基づいて前記原画の像の移動状態を検出するこ
とにより、該像の移動に同期させて露光対象を移動させ
るよう前記第2の駆動手段を制御するリンク手段とを備
えることを特徴とする走査型露光装置。
[Scope of Claims] A projection lens system that images a part of an original image on which an exposure pattern is drawn onto an exposure target; and a first drive mechanism that relatively moves the original image and the projection lens system. , a second driving means for relatively moving the exposure target and the projection lens system; a projection scale that is moved together with the original image and forms a scale image on the exposure target side via the projection lens system; a light-receiving means for detecting movement of the scale image; and a light-receiving means for detecting the movement state of the image of the original image based on the output of the light-receiving means, so that the exposure target is moved in synchronization with the movement of the image. 1. A scanning exposure apparatus comprising: a link means for controlling a drive means.
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