JPH0362579A - レーザシステム - Google Patents
レーザシステムInfo
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- JPH0362579A JPH0362579A JP2075799A JP7579990A JPH0362579A JP H0362579 A JPH0362579 A JP H0362579A JP 2075799 A JP2075799 A JP 2075799A JP 7579990 A JP7579990 A JP 7579990A JP H0362579 A JPH0362579 A JP H0362579A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/0818—Unstable resonators
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/0315—Waveguide lasers
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザシステムにおける特別値からなる安定光
学共鳴装置の改良に関する。本発明によれば、レーザシ
ステムにおいて、レーザ光線を発する媒体の環状形状に
適する安定共鳴器が設けられ、内部くぼみ要素としてワ
キシコンまたはアキシコンが用いられる。新規なシステ
ムは多数の利点を有し、これらの利点の一つにはコンパ
クト、円筒、非環状高品質出力ビームを備える安定動作
の達成がある。
学共鳴装置の改良に関する。本発明によれば、レーザシ
ステムにおいて、レーザ光線を発する媒体の環状形状に
適する安定共鳴器が設けられ、内部くぼみ要素としてワ
キシコンまたはアキシコンが用いられる。新規なシステ
ムは多数の利点を有し、これらの利点の一つにはコンパ
クト、円筒、非環状高品質出力ビームを備える安定動作
の達成がある。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課題〕レー
ザの多様性において、レーザ光線を発する媒体の環内筒
形状が用いられる。このため、高出力レーザの特別の利
点(化学、電気的または光学的に押し込められる)が公
表されている。環状形状はコンパクト設計を可能にし、
効率的なガス冷却、ガス更新、押し込み均−性等を可能
にする。
ザの多様性において、レーザ光線を発する媒体の環内筒
形状が用いられる。このため、高出力レーザの特別の利
点(化学、電気的または光学的に押し込められる)が公
表されている。環状形状はコンパクト設計を可能にし、
効率的なガス冷却、ガス更新、押し込み均−性等を可能
にする。
環状形状はコンパクトビーム領域がどこで要求され、該
モードが軸上のどこで起こるかという単一低位横波モー
ド動作の発生を複雑にするという欠点を有する。フィー
ドバックによってコンパクト領域のモードが環状領域の
放射を制御する。
モードが軸上のどこで起こるかという単一低位横波モー
ド動作の発生を複雑にするという欠点を有する。フィー
ドバックによってコンパクト領域のモードが環状領域の
放射を制御する。
低位単一横波モードが達成可能である中央ビーム領域を
得る一つの方法は、環状ビームをコンパクト円筒のもの
に変換するアキシコンまたはワキシコン形の内部くぼみ
要素を付加的に使用することであり、逆もまた同じであ
る。内部くぼみ要素としてアキシコンまたはワキシコン
が使用される不安定共鳴器はよく知られている。このよ
うな不安定な共鳴器は光学機械の不安定性および光学要
素の誤アライメントに非常に鋭敏である。この鋭敏性は
いくつかの環境条件下で動作する産業レーザに関して特
に重要な問題になる。これまで、この鋭敏性を克服する
手段の1つは平坦フィードバック鏡を、−またはニオー
ダの大きさ・たけ光学アライメント感度を減少させる角
逆反射器に置換することであった。大体積および高出力
を有するco2形の産業レーザに関して、該角逆反射2
=の使用は高価であるといってもよい。相対的に短いゲ
イン媒体に関して、不安定共鳴器は十分に適していない
。出力結合係数が低くすることを求められると、このた
め二つの問題が生じる: (i)横波モード識別の品質低下、および不安定共鳴器
の利点のいくつかの損失二 (ii )産業上の適用に対して不利益である薄環出カ
ビームの発生。
得る一つの方法は、環状ビームをコンパクト円筒のもの
に変換するアキシコンまたはワキシコン形の内部くぼみ
要素を付加的に使用することであり、逆もまた同じであ
る。内部くぼみ要素としてアキシコンまたはワキシコン
が使用される不安定共鳴器はよく知られている。このよ
うな不安定な共鳴器は光学機械の不安定性および光学要
素の誤アライメントに非常に鋭敏である。この鋭敏性は
いくつかの環境条件下で動作する産業レーザに関して特
に重要な問題になる。これまで、この鋭敏性を克服する
手段の1つは平坦フィードバック鏡を、−またはニオー
ダの大きさ・たけ光学アライメント感度を減少させる角
逆反射器に置換することであった。大体積および高出力
を有するco2形の産業レーザに関して、該角逆反射2
=の使用は高価であるといってもよい。相対的に短いゲ
イン媒体に関して、不安定共鳴器は十分に適していない
。出力結合係数が低くすることを求められると、このた
め二つの問題が生じる: (i)横波モード識別の品質低下、および不安定共鳴器
の利点のいくつかの損失二 (ii )産業上の適用に対して不利益である薄環出カ
ビームの発生。
〔課題を解決するための手段および作用1本発明は多様
なレーザシステムにおいて使用される安定光学共鳴器に
関する。本発明は、レーザシステムにおいてレーザ光線
を発する媒質の環形状に適する不安定共鳴器に関し、内
部くぼみ要素としてワキシコンまたはアキシコンを含む
。結果としてのレーザシステムは高性能を与えるもので
ありまたむしろコンパクト形状からなるものである。本
発明の好ましい実施例によるレーザシステムは二つの同
心管状同軸電極間の環ゲイン領域を含む。該二つの円筒
電極は適切な絶縁機械部材によって一定位置に保持され
る。前記円筒電極は中空、二重壁構造からなり、そのた
め適切な冷却媒質が循環可能である内部空間を提供する
。環ゲイン領域の端部の一方にガスまたはガス混合物を
導入する手段が設けられる。環ゲイン領域の両端に適切
な物質の円形窓、例えばベローシール鏡取付部に置換さ
れうるZn5eが設けられる。RF電源を二つの電極へ
印加する手段が設けられ、それ故、ゲイン領域のガス混
合物において放電を確立する。
なレーザシステムにおいて使用される安定光学共鳴器に
関する。本発明は、レーザシステムにおいてレーザ光線
を発する媒質の環形状に適する不安定共鳴器に関し、内
部くぼみ要素としてワキシコンまたはアキシコンを含む
。結果としてのレーザシステムは高性能を与えるもので
ありまたむしろコンパクト形状からなるものである。本
発明の好ましい実施例によるレーザシステムは二つの同
心管状同軸電極間の環ゲイン領域を含む。該二つの円筒
電極は適切な絶縁機械部材によって一定位置に保持され
る。前記円筒電極は中空、二重壁構造からなり、そのた
め適切な冷却媒質が循環可能である内部空間を提供する
。環ゲイン領域の端部の一方にガスまたはガス混合物を
導入する手段が設けられる。環ゲイン領域の両端に適切
な物質の円形窓、例えばベローシール鏡取付部に置換さ
れうるZn5eが設けられる。RF電源を二つの電極へ
印加する手段が設けられ、それ故、ゲイン領域のガス混
合物において放電を確立する。
ゲイン領域の両側に、円筒軸に垂直で、平坦環フィード
バック鏡がそれぞれに設けられ、他端に軸に垂直にワキ
シコンが設けられる。環平坦鏡によって形成される中央
領域に凹面出力カプラが設けられる。アクティブ媒質か
らのレーザービームが環形状を有しさらにZn5e窓の
第1を経て離れまたワキシコンに到着し、そこで出力カ
プラに向けて反射される円筒ビームへ変換され、そこか
ら該ビームの一部が出力ビームとして該システムを離れ
、一方一部が再びその形状を環形状へ変換するワキシコ
ンに向けて後方へ反射され、平坦環フィードバック鏡に
向けられて、環ゲイン領域の増幅を受け、再び後方に反
射され、ゲイン領域の増幅をさらに受け、ワキシコンに
再び向けられ、そこでその形状が円筒のものに再び変化
する。放電および光増幅はレーザ光線を発する領域(ゲ
イン領域)で生じる。該ビームが円筒であるコンバクH
H域はモード制御が実施される領域になる。この領域で
はさらに回折現象によって、該ビームは高品質の低位モ
ードを達成するように制御される。この方法は、レーザ
光線を発するアクティブ媒質の環口径の回折フィルタリ
ング性質によって高められる。このシステムの光学共鳴
器は折りたたまれた共鳴器として口・ツク可能であり、
そこでは折りたたまれた要素はワキシコンである。下記
のようにたのシステムの波伝播分析の結果が与えられる
。
バック鏡がそれぞれに設けられ、他端に軸に垂直にワキ
シコンが設けられる。環平坦鏡によって形成される中央
領域に凹面出力カプラが設けられる。アクティブ媒質か
らのレーザービームが環形状を有しさらにZn5e窓の
第1を経て離れまたワキシコンに到着し、そこで出力カ
プラに向けて反射される円筒ビームへ変換され、そこか
ら該ビームの一部が出力ビームとして該システムを離れ
、一方一部が再びその形状を環形状へ変換するワキシコ
ンに向けて後方へ反射され、平坦環フィードバック鏡に
向けられて、環ゲイン領域の増幅を受け、再び後方に反
射され、ゲイン領域の増幅をさらに受け、ワキシコンに
再び向けられ、そこでその形状が円筒のものに再び変化
する。放電および光増幅はレーザ光線を発する領域(ゲ
イン領域)で生じる。該ビームが円筒であるコンバクH
H域はモード制御が実施される領域になる。この領域で
はさらに回折現象によって、該ビームは高品質の低位モ
ードを達成するように制御される。この方法は、レーザ
光線を発するアクティブ媒質の環口径の回折フィルタリ
ング性質によって高められる。このシステムの光学共鳴
器は折りたたまれた共鳴器として口・ツク可能であり、
そこでは折りたたまれた要素はワキシコンである。下記
のようにたのシステムの波伝播分析の結果が与えられる
。
第1(a)図は光学機械不安定性および該システムの光
学要素のわずかな誤アライメントに対し感度が高い内部
空洞ワキシコンを含む不安定共鳴器の形状を示す。この
図において、Aは平坦フィードバック鏡、Bはレーザ光
線を発する環媒質、Cはワキシコン、Dは平坦折りたた
み環境、Eはスクレーパ鏡、Fは白焼、0は低位横波モ
ードで環出力ビームである。
学要素のわずかな誤アライメントに対し感度が高い内部
空洞ワキシコンを含む不安定共鳴器の形状を示す。この
図において、Aは平坦フィードバック鏡、Bはレーザ光
線を発する環媒質、Cはワキシコン、Dは平坦折りたた
み環境、Eはスクレーパ鏡、Fは白焼、0は低位横波モ
ードで環出力ビームである。
第1 (b)図は角立方体逆反射器の使用のために光学
機械不安定およびわずかな誤アライメントに対して感度
が低い内部くぼみワキシコンを具備する不安定共鳴23
(ADCF)を示す。この図に示される要素は二角立方
体逆反射器A; レーザ光線を発する環媒質B;ワキシ
コンC;平坦折りたたみ鏡り;スクレーパE;凸!JI
F ;および低体積横波モードの環出力ビームOであ
る。
機械不安定およびわずかな誤アライメントに対して感度
が低い内部くぼみワキシコンを具備する不安定共鳴23
(ADCF)を示す。この図に示される要素は二角立方
体逆反射器A; レーザ光線を発する環媒質B;ワキシ
コンC;平坦折りたたみ鏡り;スクレーパE;凸!JI
F ;および低体積横波モードの環出力ビームOであ
る。
第1(C)図は囲焼のため光学機械不安定および光学要
素のある誤アライメントに対して感度が実質的に低下す
る内部くぼみワキシコンを具備する安定共鳴器を示す。
素のある誤アライメントに対して感度が実質的に低下す
る内部くぼみワキシコンを具備する安定共鳴器を示す。
この図のシステムは平坦フィードバックvlA、レーザ
光線を発する環媒質B、ワキシコンC5平坦折りたたみ
鏡りおよび凹面出力鏡Fを含み;0は出力(低体積横波
モード)ビームである。
光線を発する環媒質B、ワキシコンC5平坦折りたたみ
鏡りおよび凹面出力鏡Fを含み;0は出力(低体積横波
モード)ビームである。
本発明は一定尺度に従わない概略図を参照してのみ例に
よって説明する。
よって説明する。
第2図を参照して説明する。本発明のレーザシステムは
1対の同心金属電極lおよび2を組み合わせて含み、該
電極間にはゲイン領域5が設けられ、前記同心電極はセ
ンタリング部材12および3によって保持される。二つ
の電極lおよび2は中空でありまた、それぞれにはチャ
ンネル4および6が設けられ、それぞれ、冷却流体が循
環する。
1対の同心金属電極lおよび2を組み合わせて含み、該
電極間にはゲイン領域5が設けられ、前記同心電極はセ
ンタリング部材12および3によって保持される。二つ
の電極lおよび2は中空でありまた、それぞれにはチャ
ンネル4および6が設けられ、それぞれ、冷却流体が循
環する。
電極1および2は絶縁リング3および12によって互い
に絶縁される。レーザ光線を発するガスは人口ポート8
から領域5に入れられ出口ポート12からこの領域を離
れる。該システムの軸に垂直であって二つの平坦なZn
5e窓が設けられ、一方、14はレーザシステムの一端
に、他方、15はその他端に位置する。これらは窓取付
部11によって一定場所に保持され、そのため外気から
ゲイン領域から隔離する。RF電源を電極1および2へ
印加する手段が設けられ、領域5のガス状媒体における
放電を確立する。レーザ光線を発する過程はワキシコン
(waxicon) 18を介在する環平坦フィード
バック鏡20および凹面出力カプラー17の間で生じる
。
に絶縁される。レーザ光線を発するガスは人口ポート8
から領域5に入れられ出口ポート12からこの領域を離
れる。該システムの軸に垂直であって二つの平坦なZn
5e窓が設けられ、一方、14はレーザシステムの一端
に、他方、15はその他端に位置する。これらは窓取付
部11によって一定場所に保持され、そのため外気から
ゲイン領域から隔離する。RF電源を電極1および2へ
印加する手段が設けられ、領域5のガス状媒体における
放電を確立する。レーザ光線を発する過程はワキシコン
(waxicon) 18を介在する環平坦フィード
バック鏡20および凹面出力カプラー17の間で生じる
。
Aのアクティブ媒体からのビームは環形状を有し、Zn
5e窓15を通過し、Bのワキシコン18に到着し、そ
こからCへさらに出力カプラー17へ反射される。Bお
よびCでの二つの反射後、該ビームは円筒ビーム16の
形状をする。領域CDは「コンパクトSII域」とよば
れ、一方領域BFは「環領域」とよばれる。円筒ビーム
は出力カプラー17に向けられ、ここでDでビームの一
部が伝送され、出力レーザを構成し、前記ビームの一部
がワキシコン18へ向けて後方に反射され、CおよびB
で二つの反射を受け、環形状にもどり、環状ビームがフ
ィードバックm20の方向に伝達され、環状ゲイン領域
5を通過し、ここで光学的増幅を受ける。該ビームはH
で第2のZn5e窓を経てFのフィードバック鏡20へ
通過する。環ビームは鏡20によって再び反射され、領
域5を通過し、光学的増幅を再び受け、ワキシコン18
へ向けて伝達され、ここで該ビームはコンパクトな円筒
形状に再び変えられる。放電および光増幅は環状のレー
ザ光線を発する領域5に生じ、領域CDはモード制御が
なされる場所である。領域CDにおいて、回折現象によ
って、該ビームは低位横波モードビームの形状を保持す
るように制御される。
5e窓15を通過し、Bのワキシコン18に到着し、そ
こからCへさらに出力カプラー17へ反射される。Bお
よびCでの二つの反射後、該ビームは円筒ビーム16の
形状をする。領域CDは「コンパクトSII域」とよば
れ、一方領域BFは「環領域」とよばれる。円筒ビーム
は出力カプラー17に向けられ、ここでDでビームの一
部が伝送され、出力レーザを構成し、前記ビームの一部
がワキシコン18へ向けて後方に反射され、CおよびB
で二つの反射を受け、環形状にもどり、環状ビームがフ
ィードバックm20の方向に伝達され、環状ゲイン領域
5を通過し、ここで光学的増幅を受ける。該ビームはH
で第2のZn5e窓を経てFのフィードバック鏡20へ
通過する。環ビームは鏡20によって再び反射され、領
域5を通過し、光学的増幅を再び受け、ワキシコン18
へ向けて伝達され、ここで該ビームはコンパクトな円筒
形状に再び変えられる。放電および光増幅は環状のレー
ザ光線を発する領域5に生じ、領域CDはモード制御が
なされる場所である。領域CDにおいて、回折現象によ
って、該ビームは低位横波モードビームの形状を保持す
るように制御される。
この過程はアクティブ媒体の見通しのきく口径の回折フ
ィルタリング性質によって高められる。
ィルタリング性質によって高められる。
光学共鳴器F D 、 20−17は折りたたまれた共
鳴器と考慮されてもよく、該折りたたみ要素はワキシコ
ン18である。
鳴器と考慮されてもよく、該折りたたみ要素はワキシコ
ン18である。
第3図は波伝播分析の結果を説明するもので、RF励起
されたC(h Nz He混合物のゲイン飽和状態
を含む。
されたC(h Nz He混合物のゲイン飽和状態
を含む。
(発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、安定共鳴器がレー
ザ光線を発する媒質の環形状を有し、内部くぼみ要素と
してワキシコンまたはアキシコンを含むようにしたので
、動作が安定し、高性能になり、システム形状がコンパ
クトになることが期待される。
ザ光線を発する媒質の環形状を有し、内部くぼみ要素と
してワキシコンまたはアキシコンを含むようにしたので
、動作が安定し、高性能になり、システム形状がコンパ
クトになることが期待される。
第1(a)図は内部くぼみワキシコンを含む不安定共鳴
器の形状を示す図、 第1(b)図は内部くぼみワキシコンを具備する不安定
共鳴器の形状を示す図、 第1 (C)図は内部くぼみワキシコンを具備する安定
共唱3″:1の形状を示す図、 第2図は本発明のレーザシステムの断面側面図、第3図
は本発明のレーザの波伝播分析から生ずるビーム形状で
あってRF励起Co2− N2− tie混合物のゲイ
ン飽和状態を包含するものを示す図である。 図において、 1、2・・・電極、 3・・・絶縁リング、
4.6・・・チャンネル、 5・・・領域、8・・
・人口ポート、 11・・・窓取付部、12・・・
出口ポート、 14.15・・・窓、16・・・円
筒ビーム、 17・・・カブラ、18・・・ワキシ
コン、 20・・・環平坦フィードバック鏡。 図面の浄書(内容に変更なし) 第2−a図の領域(A)および (F)(こおける環形状ビーム 第 図 手 続 補 正 書(方式) %式% 事件の表示 平成2年特許願第75799号 2゜ 発明の名称 レーザシステム 3゜ 補正をする者 事件との関係
器の形状を示す図、 第1(b)図は内部くぼみワキシコンを具備する不安定
共鳴器の形状を示す図、 第1 (C)図は内部くぼみワキシコンを具備する安定
共唱3″:1の形状を示す図、 第2図は本発明のレーザシステムの断面側面図、第3図
は本発明のレーザの波伝播分析から生ずるビーム形状で
あってRF励起Co2− N2− tie混合物のゲイ
ン飽和状態を包含するものを示す図である。 図において、 1、2・・・電極、 3・・・絶縁リング、
4.6・・・チャンネル、 5・・・領域、8・・
・人口ポート、 11・・・窓取付部、12・・・
出口ポート、 14.15・・・窓、16・・・円
筒ビーム、 17・・・カブラ、18・・・ワキシ
コン、 20・・・環平坦フィードバック鏡。 図面の浄書(内容に変更なし) 第2−a図の領域(A)および (F)(こおける環形状ビーム 第 図 手 続 補 正 書(方式) %式% 事件の表示 平成2年特許願第75799号 2゜ 発明の名称 レーザシステム 3゜ 補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光学機械の不安定性および光学部品の誤アライメン
トに対して相対的に低感度であって、同軸対の円筒電極
の組み合わせを含み、冷却手段を備え、これらの間の空
間が環状ゲイン領域を形成し、RF電源を前記電極へ印
加する手段を含み、前記ゲイン領域が二つの平坦窓また
は適切な物質のベローシール鏡によってシールされ、前
記ゲイン領域へレーザ光線を発するガス混合物を導入す
る入口ポートを含み、前記ガス状混合物の出口に対する
出口ポートを含み;ワキシコンまたはアキシコンをシス
テムの一端に設けられまた、中央領域に向かい合う出力
カプラが対向端に設けられさらに環状ゲイン部に面する
平坦環鏡が設けられ、レーザ光線の発生がワキシコンを
介して平坦鏡および出力カプラとの間のゲイン領域で生
じるレーザシステム。 2、前記二つの円筒同軸電極が中空であり、それぞれを
介して冷却流体を循環する手段が備えられる請求項1記
載のレーザシステム。 3、光学共鳴器が折りたたまれたものであり、該折りた
たまれた要素がワキシコンである請求項1または2記載
のレーザシステム。 4、円筒電極間に形成される環状ビームがワキシコンに
よって円筒ビームに変換され、該ビームの一部が凹面出
力鏡を介して出力として離れ、その部分がゲイン部を介
して後方に反射される請求項1〜3のいずれかに記載の
レーザシステム。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6891873B2 (en) | 2000-05-19 | 2005-05-10 | Tomoo Fujioka | Cylindrical straight slab type gas laser |
US6975662B2 (en) | 2000-05-19 | 2005-12-13 | Tomoo Fujioka | Cylindrical straight slab type gas laser |
JP2010192791A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ装置 |
KR101697688B1 (ko) * | 2015-07-31 | 2017-02-01 | (주) 레온 | 골프장갑 및 골프장갑 세트 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4203225C2 (de) * | 1992-02-05 | 1994-06-09 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Wellenleiterlaser |
JP3485329B2 (ja) * | 1992-02-07 | 2004-01-13 | 株式会社町田製作所 | レーザー光発生装置 |
US5327446A (en) * | 1993-03-26 | 1994-07-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Department Of Health And Human Services | Method of exciting laser action and delivering laser energy for medical and scientific applications |
DE4424726C1 (de) * | 1994-07-13 | 1996-02-01 | Rofin Sinar Laser Gmbh | Koaxialer Laser mit einem stabilen Resonator |
IL114120A0 (en) * | 1995-06-12 | 1995-10-31 | Optomic Lasers Ltd | Improved lasers |
DE19631353C2 (de) * | 1996-08-02 | 2003-12-18 | Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt | Laser mit Masteroszillator und Verstärker |
US6282225B1 (en) | 1999-01-14 | 2001-08-28 | Trw Inc. | Method for aligning a cylindrical laser optical resonator |
CN100405678C (zh) * | 2006-03-15 | 2008-07-23 | 华中科技大学 | 直角圆台内侧面与直角圆锥外侧面组合全反镜激光谐振腔 |
CN100367581C (zh) * | 2006-03-15 | 2008-02-06 | 华中科技大学 | 高功率激光谐振腔 |
CN100367582C (zh) * | 2006-03-15 | 2008-02-06 | 华中科技大学 | 不失调激光谐振腔 |
CN103151681B (zh) * | 2013-01-18 | 2015-05-27 | 华北电力大学(保定) | 环形增益介质固体激光器 |
JP7066701B2 (ja) * | 2016-10-24 | 2022-05-13 | コーニング インコーポレイテッド | シート状ガラス基体のレーザに基づく加工のための基体処理ステーション |
CA3089935A1 (en) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | IDEA machine development design AND production ltd. | Compact coaxial laser |
WO2021004717A1 (en) * | 2019-07-11 | 2021-01-14 | Asml Netherlands B.V. | A measurement system for use with a light amplification cavity |
CN110985256B (zh) * | 2019-12-19 | 2021-05-14 | 哈尔滨工程大学 | 一种定容弹反射镜端盖及应用该端盖的多孔喷油器喷雾测试系统 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5943585A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-03-10 | コンパニイ・ジエネラル・デレクトリシテ | ガスフロ−レ−ザ発振器 |
JPS62260379A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレ−ザ発振器 |
JPS63141382A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-06-13 | Laser Tec Kenkyusho:Kk | 固体レ−ザ発振器 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3969687A (en) * | 1975-04-14 | 1976-07-13 | United Technologies Corporation | Standing wave unstable resonators for radial flow lasers |
US4050036A (en) * | 1976-02-25 | 1977-09-20 | Textron Inc. | Optical system for lasers |
US4164366A (en) * | 1977-11-04 | 1979-08-14 | United Technologies Corporation | Variable output coupled resonator |
US4190814A (en) * | 1978-03-01 | 1980-02-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Single axis resonator for laser |
US4514850A (en) * | 1983-05-16 | 1985-04-30 | Rockwell International Corporation | Common-pass decentered annular ring resonator |
US4744090A (en) * | 1985-07-08 | 1988-05-10 | Trw Inc. | High-extraction efficiency annular resonator |
IL81439A (en) * | 1987-01-30 | 1991-08-16 | Alumor Lasers Ltd | Ultra compact,rf excited gaseous lasers |
EP0438405B1 (de) * | 1988-04-22 | 1994-02-09 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Laserresonator |
-
1989
- 1989-03-28 IL IL89781A patent/IL89781A0/xx not_active IP Right Cessation
-
1990
- 1990-03-26 EP EP90105677A patent/EP0390013B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-26 DE DE69009263T patent/DE69009263T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-26 AT AT90105677T patent/ATE106621T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-03-26 ES ES90105677T patent/ES2056278T3/es not_active Expired - Lifetime
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- 1990-03-27 US US07/499,976 patent/US5099492A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5943585A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-03-10 | コンパニイ・ジエネラル・デレクトリシテ | ガスフロ−レ−ザ発振器 |
JPS62260379A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレ−ザ発振器 |
JPS63141382A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-06-13 | Laser Tec Kenkyusho:Kk | 固体レ−ザ発振器 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6891873B2 (en) | 2000-05-19 | 2005-05-10 | Tomoo Fujioka | Cylindrical straight slab type gas laser |
US6975662B2 (en) | 2000-05-19 | 2005-12-13 | Tomoo Fujioka | Cylindrical straight slab type gas laser |
JP2010192791A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ装置 |
KR101697688B1 (ko) * | 2015-07-31 | 2017-02-01 | (주) 레온 | 골프장갑 및 골프장갑 세트 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0390013A2 (en) | 1990-10-03 |
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US5099492A (en) | 1992-03-24 |
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