JPH0336765B2 - - Google Patents

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JPH0336765B2
JPH0336765B2 JP17931985A JP17931985A JPH0336765B2 JP H0336765 B2 JPH0336765 B2 JP H0336765B2 JP 17931985 A JP17931985 A JP 17931985A JP 17931985 A JP17931985 A JP 17931985A JP H0336765 B2 JPH0336765 B2 JP H0336765B2
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JP
Japan
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water
silica
powder
absorbing powder
absorbing
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JP17931985A
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Japanese (ja)
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JPS6241711A (en
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Genji Taga
Ryohei Kataoka
Masami Enoguchi
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Tokuyama Corp
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Tokuyama Corp
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

[産業上の利用分野] 本発明は合成石英ガラスの原料として好適な、
高純度の重質シリカを効率よく製造する方法に関
する。 [技術の背景] 石英ガラスは優れた光学特性、低熱膨張特性を
有しているため、光フアイバー用基材を始め、半
導体封止材用フイラーとして使用されるようにな
つた。このような封止材用フイラー用の石英ガラ
スは従来より珪砂等の天然シリカ原料を溶融して
得られる石英ガラスが一般に使用されているが、
該シリカ原料に基因するウラン、トリウム等の放
射性元素などの不純物が最近問題とされるように
なつた。即ち、封止材フイラーとして石英ガラス
に含まれるウラン、トリウムなどのアルフア線が
ICのソフトエラーを起こす。そのため、かかる
不純物を減少させた高純度のシリカ原料の要求が
高くなつた。 [従来の技術および問題点] 従来、高純度のシリカを工業的に製造する方法
として、ハロゲン化珪素を火炎中で燃焼させる方
法が知られている。 しかしながら、上記方法では、得られるシリカ
の粒子が極めて小さく嵩高いという性質を有す
る。そのため、これを溶融又は焼結して得られる
石英ガラスは、一般に気泡を多量に含有し、前記
用途に供し難いという問題を有する。また、溶
融、焼結時の収縮が非常に大きく、石英ガラスの
製造に大容量の装置を必要とし、工業的に石英ガ
ラスを得るための原料としての使用に困難であ
る。 上記問題を解決するために、本発明者等は、水
で湿潤した吸水性粉体とハロゲン化珪素とを接触
させて、高純度の重質シリカを製造する方法を既
に提案した。 しかしながら、上記方法においては、吸水性粉
体とハロゲン化珪素ガスとの反応によつて生成し
たハロゲン化水素、該反応熱によつて発生した水
蒸気あるいはキヤリヤーガス等を含む排ガスに、
吸水性粉体の一部が浮遊して同伴され損失となる
ばかりでなく、かかる粉体が排ガスの配管、排ガ
スの処理装置等の内壁に付着して該配管等を閉塞
するため、長期問安定して運転を行うことが困難
になるという問題を有する。 [問題を解決するための手段] 本発明者等は、上記問題を解決すべく鋭意研究
を重ねた。その結果、前記吸水性粉体とハロゲン
化珪素との接触を有機質バインダーの存在下に行
うことにより、かかる接触後の排ガスに同伴され
る吸水性粉体の損失量を著しく低減させて、安定
に、しかも経済的に有利にシリカを製造できると
共に、該水溶性高分子は洗浄或いは焼成により容
易に除去することができるため、高純度のシリカ
を得ることができることを見い出し本発明を完成
した。 本発明は、水で湿潤した吸水性粉体とハロゲン
下珪素とを有機質バインダーの存在下に接触させ
ることを特徴とするシリカの製造方法である。 本発明において、湿潤とは吸水性粉体が粉体と
しての流動性を維持する範囲内で水を担持してい
る状態で、一般には吸水性粉体がその吸油量以下
の量の水を吸水した状態である。尚、吸油量は
JIS6200によつて測定した値をいう。 本発明において、用いられる吸水性粉体として
は吸水性を有するものであれば特に制限されない
が、一般に吸油量は0.5c.c./g以上、好ましくは
1c.c./g以上を有していれば充分であり、また、
得られるシリカの用途において悪影響を及ぼす不
純物の量が可及的に少ない粉体を使用することが
望ましい。かかる吸水性粉体を具体的に例示すれ
ば、ヒユームドシリカと称される乾式法による無
水珪酸、ホワイトカーボンと称される湿式法によ
る含水珪酸、後述する反応において生成するシリ
カ等のシリカ粉が一般的であり、そのほかアルミ
ナ、含水珪酸アルミニウム、珪酸カルシウムなど
も使用できる。また、焼成などによつて除去が可
能な多孔質樹脂などの有機物も使用することがで
きる。かかる吸水性粉体は、得られるシリカの使
用目的に応じて、適宜選択して使用すれはよい。
例えば、用途として純質なシリカが必要な場合に
は、シリカ粉を選択して使用すればよい。また、
多成分系粉体を製造する目的の場合には、シリカ
以外の例えば、アルミナ、ジルコニア等の吸水性
粉体を使用すればよい。なお、上述した吸水性粉
体は粒径1mm以下、好ましくは1〜100μのもの
が一般的である。 本発明に使用されるハロゲン化珪素としては四
塩化珪素、トリクロルシラン、ジクロロシランな
どが挙げられ、このうち反応性、経済性の面で特
に四塩化珪素が好適である。また、上記ハロゲン
化珪素は一般にガス状で使用され、この場合にハ
ロゲン化珪素を不活性ガスで希釈して使用しても
よい。 本発明に使用される有機質バインダーは、水の
存在下で粘性を示す有機物であれば特に制限され
ないが、金属を含まないものがシリカの純度を低
下させないために好ましい。好適の有機質バイン
ダーを例示すれば、ポリアクリルアミド等の水溶
性アクリル樹脂、水溶性アルキド樹脂、水溶性メ
ラミン樹脂、水溶性尿素樹脂、水溶性フエノール
樹脂などの水溶性合成樹脂、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導
体などの天然高分子等の水溶性高分子が水洗によ
る除去が容易であり好ましい。中でも、水溶性ア
クリル樹脂が吸水性粉体の凝集効果において特に
好ましい。 本発明において、吸水性粉体とハロゲン化珪素
との接触方法は特に限定されるものではなく、公
知の固一気反応における方法が特に制限なく採用
される。例えば、ハロゲン化珪素と吸水性粉体と
を向流で接触させる方法、流動床を利用する方
法、ハロゲン化珪素の雰囲気中で吸水性粉体を撹
拌翼等の撹拌手段により流動させる方法などが一
般的である。このうち、特に撹拌翼を有する反応
槽を利用する方法が、反応の制御が容易であり、
吸水性粉体中における未反応の水の量をコントロ
ールすることができ好ましい。 また、上記の接触方法において、吸水性粉体に
担持された水とハロゲン化珪素との反応によつて
減少した水を補給しながら行うことも好ましい態
様である。かかる態様によれば、生成するシリカ
の粒度を任意に調整することができる。この場
合、水の補給は吸水性粉体の流動性を維持し得る
範囲内で行うことが必要である。 本発明において、吸水性粉体とハロゲン化珪素
との接触は、連続的に行つてもよいし、バツチで
行つてもよい。連続的に行う場合には、吸水性粉
体を連続又は断続的に供給すればよいが、該吸水
性粉体の少なくとも一部として生成するシリカを
分級し、そのうち微粉を反応系に供給することも
可能である。この場合、シリカの分級は反応装置
外にサイクロンのような分級器を設けて行つても
よい。 また、このように吸水性分体を連続的又は断続
的に反応系に供給する場合に、供給する吸水性粉
体は前記した補給水と混合してスラリー状で供給
することが望ましい。この場合、スラリーの水は
直ちに反応系内の吸水性粉体に吸収されて湿潤状
態が維持される。 本発明の重要な要件は、前記したハロゲン化珪
素と水で湿潤した吸水性粉体との接触において、
有機質バインダーを存在させることにある。即
ち、水溶性バインダーを存在させることにより、
湿潤した吸水性粉体を適度に凝縮させることがで
き、これらの粉体が排ガス中に浮遊して同伴され
る現象を効果的に防止することができる。 上記した有機質バインダーの使用量はあまり多
すぎる場合には、生成するシリカからの分離に時
間がかかると共に、吸水性粉体の凝集粒子が大き
くなり反応性が低下する傾向がある。また、有機
質バインダーの使用量があまり少ない場合には、
吸水性粉体が排ガス中に浮遊し易くなる。従つ
て、有機質バインダーの使用量は、吸水性粉体
(乾燥重量)に対して100〜5000ppm、好ましくは
200〜4000ppmの範囲となるように決定すること
が望ましい。 ハロゲン化珪素と水で湿潤した吸水性粉体との
接触時に有機質バインダーを存在させる方法は特
に制限されないが、該有機質バインダーを均一に
存在させるためには、吸水性粉体に担持させる
水、あるいは前記した補給水に有機質バインダー
を溶解又は分散させることが望ましい。 本発明の方法によつて得られたシリカは水洗お
よび/または焼成することによつて有機質バイン
ダーを容易に除去することができる。 [効 果] 以上の説明により理解される如く、本発明の方
法によれば、ハロゲン化珪素ガスと水で湿潤した
吸水性粉体との接触において、排ガス中に浮遊
し、同伴される吸水性粉体の量を著しく低減する
ことができ、該粉体が排ガス配管、排ガスの処理
装置等への付着を防止し、長期間安定してシリカ
を製造することができる。 本発明の方法によつて得られたシリカは、水洗
あるいは焼成によつて有機質バインダーを容易に
除去して、高純度なシリカとすることができ、光
フアイバー、半導体封止材用フイラー等の原料と
しての用途の他、無機粉体として使用される公知
の分野にも特に制限なく使用される。 [実施例] 本発明を更に具体的に説明するために以下に実
施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。 実施例 1 ヒユームドリシカ(商品名、レオロレール:徳
山曹達(株)製)2.5Kgをヘンシエルミキサーで撹拌
下、イオン交換水2にポリアクリルアミド系高
分子(商品名、クリフロツクPA−318:栗田工業
(株)製)を溶かした溶液を滴下して湿潤粉体を調製
した。その際、ポリアクリルアミドの量は1g、
0.5gの2種類とした。この湿潤ヒユームドシリ
カ粉を内容量40の円筒状撹拌槽に入れ、撹拌下
に槽下部より四塩化珪素を270/hr(0℃、
1atm換算)、槽上部よりイオン交換水を510ml/
hrの速度で導入し、6時間反応させた。排ガスは
サイクロンで粉じんを分離したのちカセイソーダ
溶液に吸収させた。 添加したポリアクリルアミド量とサイクロンで
捕集された粉体の量及び生成物をイオン交換膜で
洗浄後、1000℃、1時間焼成して得られるシリカ
中の不純物を表−1に示す。
[Industrial Application Field] The present invention is suitable as a raw material for synthetic quartz glass,
The present invention relates to a method for efficiently producing high-purity heavy silica. [Technical Background] Since quartz glass has excellent optical properties and low thermal expansion properties, it has come to be used as a filler for semiconductor encapsulants, including substrates for optical fibers. As the quartz glass for such fillers for encapsulants, quartz glass obtained by melting natural silica raw materials such as silica sand has been generally used.
Impurities such as radioactive elements such as uranium and thorium originating from the silica raw material have recently become a problem. In other words, alpha rays such as uranium and thorium contained in quartz glass are used as encapsulant fillers.
Causes IC soft error. Therefore, there has been an increasing demand for high-purity silica raw materials with reduced amounts of such impurities. [Prior Art and Problems] Conventionally, a method of burning silicon halide in a flame has been known as a method for industrially producing high-purity silica. However, the above method has the property that the obtained silica particles are extremely small and bulky. Therefore, quartz glass obtained by melting or sintering this glass generally contains a large amount of bubbles, and has the problem of being difficult to use for the above-mentioned purposes. Furthermore, shrinkage during melting and sintering is very large, and large-capacity equipment is required to produce quartz glass, making it difficult to use as a raw material for industrially obtaining quartz glass. In order to solve the above problem, the present inventors have already proposed a method for producing high-purity heavy silica by bringing water-wetted water-absorbing powder into contact with silicon halide. However, in the above method, the exhaust gas containing hydrogen halide generated by the reaction between the water-absorbing powder and the silicon halide gas, water vapor generated by the reaction heat, carrier gas, etc.
Not only does a part of the water-absorbing powder float and become entrained, resulting in loss, but this powder also adheres to the inner walls of exhaust gas piping, exhaust gas processing equipment, etc. and blocks the piping, etc., resulting in long-term stability. The problem is that it becomes difficult to drive the vehicle. [Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted extensive research in order to solve the above problems. As a result, by bringing the water-absorbing powder into contact with silicon halide in the presence of an organic binder, the amount of loss of the water-absorbing powder entrained in the exhaust gas after such contact is significantly reduced, resulting in stable Furthermore, the present invention has been completed by discovering that silica can be produced economically and that high-purity silica can be obtained because the water-soluble polymer can be easily removed by washing or calcination. The present invention is a method for producing silica, which is characterized by bringing water-moistened water-absorbing powder into contact with halogenated silicon in the presence of an organic binder. In the present invention, wetting refers to a state in which the water-absorbing powder supports water within the range that maintains its fluidity as a powder, and generally the water-absorbing powder absorbs water in an amount less than its oil absorption amount. The situation is as follows. In addition, the oil absorption amount is
This refers to the value measured according to JIS6200. In the present invention, the water-absorbing powder used is not particularly limited as long as it has water-absorbing properties, but generally it has an oil absorption of 0.5 cc/g or more, preferably 1 c.c./g or more. is sufficient, and
It is desirable to use a powder containing as few impurities as possible that would have an adverse effect on the use of the resulting silica. Specific examples of such water-absorbing powders include anhydrous silicic acid produced by a dry process called fumed silica, hydrated silicic acid produced by a wet process called white carbon, and silica powder such as silica produced in the reaction described below. In addition, alumina, hydrated aluminum silicate, calcium silicate, etc. can also be used. Furthermore, organic materials such as porous resins that can be removed by firing or the like can also be used. Such water-absorbing powder may be appropriately selected and used depending on the intended use of the obtained silica.
For example, if pure silica is required for the purpose, silica powder may be selected and used. Also,
If the purpose is to produce a multi-component powder, a water-absorbing powder other than silica, such as alumina or zirconia, may be used. The above-mentioned water-absorbing powder generally has a particle size of 1 mm or less, preferably 1 to 100 microns. Examples of the silicon halide used in the present invention include silicon tetrachloride, trichlorosilane, and dichlorosilane, among which silicon tetrachloride is particularly preferred in terms of reactivity and economy. Further, the silicon halide is generally used in a gaseous state, and in this case, the silicon halide may be diluted with an inert gas before use. The organic binder used in the present invention is not particularly limited as long as it exhibits viscosity in the presence of water, but it is preferable to use one that does not contain metals so as not to reduce the purity of silica. Examples of suitable organic binders include water-soluble acrylic resins such as polyacrylamide, water-soluble synthetic resins such as water-soluble alkyd resins, water-soluble melamine resins, water-soluble urea resins, and water-soluble phenolic resins, methylcellulose,
Water-soluble polymers such as natural polymers such as cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose are preferred because they can be easily removed by washing with water. Among these, water-soluble acrylic resins are particularly preferred in terms of their aggregation effect on water-absorbing powder. In the present invention, the method of contacting the water-absorbing powder with the silicon halide is not particularly limited, and any known method for solid-state reaction may be employed without particular limitation. For example, methods include bringing silicon halide and water-absorbing powder into contact with each other in countercurrent flow, using a fluidized bed, and fluidizing water-absorbing powder in an atmosphere of silicon halide using stirring means such as stirring blades. Common. Among these methods, the method of using a reaction tank with a stirring blade is particularly easy to control the reaction.
This is preferable because the amount of unreacted water in the water-absorbing powder can be controlled. In addition, in the above-mentioned contact method, it is also a preferred embodiment to carry out the contact while replenishing the water that has been reduced by the reaction between the water supported on the water-absorbing powder and the silicon halide. According to this aspect, the particle size of the produced silica can be adjusted as desired. In this case, it is necessary to supply water within a range that can maintain the fluidity of the water-absorbing powder. In the present invention, the contact between the water-absorbing powder and the silicon halide may be carried out continuously or in batches. When carried out continuously, the water-absorbing powder may be supplied continuously or intermittently, but the silica produced as at least a part of the water-absorbing powder may be classified and the fine powder may be supplied to the reaction system. is also possible. In this case, silica may be classified by providing a classifier such as a cyclone outside the reaction apparatus. Further, when the water-absorbing fraction is continuously or intermittently supplied to the reaction system in this way, it is desirable that the water-absorbing powder to be supplied is mixed with the above-mentioned make-up water and supplied in the form of a slurry. In this case, the water in the slurry is immediately absorbed by the water-absorbing powder in the reaction system to maintain a wet state. An important requirement of the present invention is that in the contact between the silicon halide and the water-absorbing powder moistened with water,
The purpose is to have an organic binder present. That is, by making a water-soluble binder exist,
The moist water-absorbing powder can be appropriately condensed, and the phenomenon of these powders floating and being entrained in the exhaust gas can be effectively prevented. If the amount of the above-mentioned organic binder used is too large, it will take time to separate it from the produced silica, and the aggregated particles of the water-absorbing powder will tend to become large and the reactivity will decrease. Also, if the amount of organic binder used is too small,
Water-absorbing powder becomes more likely to float in the exhaust gas. Therefore, the amount of organic binder used is 100 to 5000 ppm, preferably 100 to 5000 ppm based on the water absorbent powder (dry weight).
It is desirable to determine the content within the range of 200 to 4000 ppm. There are no particular restrictions on the method for making the organic binder present when the silicon halide comes into contact with the water-absorbing powder, but in order to make the organic binder uniformly present, it is necessary to use water supported on the water-absorbing powder, or It is desirable to dissolve or disperse the organic binder in the makeup water mentioned above. The organic binder can be easily removed from the silica obtained by the method of the present invention by washing with water and/or firing. [Effect] As understood from the above explanation, according to the method of the present invention, when the silicon halide gas and the water-absorbing powder moistened with water come into contact with each other, the water-absorbing powder suspended in the exhaust gas and entrained is reduced. The amount of powder can be significantly reduced, the powder can be prevented from adhering to exhaust gas piping, exhaust gas processing equipment, etc., and silica can be produced stably over a long period of time. The silica obtained by the method of the present invention can be made into highly pure silica by easily removing the organic binder by washing with water or firing, and can be used as a raw material for optical fibers, fillers for semiconductor encapsulants, etc. In addition to its use as an inorganic powder, it can also be used in known fields without particular restriction. [Examples] Examples are shown below to explain the present invention more specifically, but the present invention is not limited to these Examples. Example 1 2.5 kg of Hyumdrisica (trade name, Rheoroller: manufactured by Tokuyama Soda Co., Ltd.) was stirred with a Henschel mixer, and polyacrylamide-based polymer (trade name, Crylock PA-318: Kurita Water Industries, Ltd.) was added to ion-exchanged water 2.
A wet powder was prepared by adding dropwise a solution containing the following: At that time, the amount of polyacrylamide was 1g,
There were two types of 0.5g. This wet fumed silica powder was placed in a cylindrical stirring tank with an internal capacity of 40°C, and silicon tetrachloride was added at a rate of 270/hr (0°C,
(1atm equivalent), 510ml/510ml of ion-exchanged water from the top of the tank.
It was introduced at a rate of hr and allowed to react for 6 hours. Dust was separated from the exhaust gas using a cyclone and then absorbed into a caustic soda solution. Table 1 shows the amount of polyacrylamide added, the amount of powder collected by the cyclone, and the impurities in the silica obtained by washing the product with an ion exchange membrane and calcining it at 1000° C. for 1 hour.

【表】 ポリアクリルアミドの200ppm添加(ヒユーム
ドシリカ2.5Kgに対しポリアミド0.5g)で排ガス
中へ浮遊してくる粉じんは95%減少した。さら
に、洗浄、焼成後のシリカの不純物量はポリアク
リルアミドの添加によつても変わらず、高純度の
シリカが得られた。 実施例 2 実施例1でポリアクリルアミド系高分子のかわ
りにメチルセルロース系高分子(商品名、メトロ
ース90SH:信越化学(株)製)を2g、10g溶解す
る以外は全く同様に行つた。 添加したメチルセルロース量とサイクロンで捕
集された粉体量の関係を表−2に示す。
[Table] By adding 200 ppm of polyacrylamide (0.5 g of polyamide to 2.5 kg of fumed silica), the amount of dust floating in the exhaust gas was reduced by 95%. Furthermore, the amount of impurities in the silica after washing and firing did not change even with the addition of polyacrylamide, and highly pure silica was obtained. Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 2 g and 10 g of methyl cellulose polymer (trade name: Metrose 90SH, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were dissolved instead of the polyacrylamide polymer. Table 2 shows the relationship between the amount of methylcellulose added and the amount of powder collected by the cyclone.

【表】 メチルセルロースを800ppm(ヒユームドシリカ
2.5Kgに対しメチルセルロース2g)添加するこ
とにより、排ガス中の浮遊粉体は添加しない場合
にくらべ約40%減少し、4000ppm(ヒユームドリ
シカ2.5Kgに対しメチルセルロース10g)添加で
80%減少した。また、洗浄、焼成後のシリカ中の
不純物はU<0.1ppb、Na<2ppm、Cl<4ppm、
Fe<1.5ppmであり、封止材フイラーとして好適
な高純度シリカが得られた。
[Table] 800ppm methylcellulose (humid silica)
By adding 2g of methylcellulose to 2.5Kg, the suspended powder in the exhaust gas is reduced by approximately 40% compared to the case without addition, and by adding 4000ppm (10g of methylcellulose to 2.5Kg)
decreased by 80%. In addition, impurities in the silica after washing and firing are U<0.1ppb, Na<2ppm, Cl<4ppm,
High purity silica with Fe<1.5ppm and suitable as an encapsulant filler was obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 水で湿潤した吸水性粉体とハロゲン化珪素と
を、有機質バインダーの存在下に接触させること
を特徴とするシリカの製造方法。 2 吸水性粉体がシリカ粉である特許請求の範囲
第1項記載の方法。 3 ハロゲン化珪素が四塩化珪素である特許請求
の範囲第1項記載の方法。 4 有機質バインダーの添加量が吸水性粉体の
100〜4000ppmである特許請求の範囲第1項記載
の方法。 5 有機質バインダーが水溶性高分子である特許
請求の範囲第1項記載の方法。
[Scope of Claims] 1. A method for producing silica, which comprises contacting a water-absorbing powder moistened with water with a silicon halide in the presence of an organic binder. 2. The method according to claim 1, wherein the water-absorbing powder is silica powder. 3. The method according to claim 1, wherein the silicon halide is silicon tetrachloride. 4 The amount of organic binder added is
The method according to claim 1, wherein the amount is 100 to 4000 ppm. 5. The method according to claim 1, wherein the organic binder is a water-soluble polymer.
JP17931985A 1985-08-16 1985-08-16 Production of silica Granted JPS6241711A (en)

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