JPH0333066Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0333066Y2
JPH0333066Y2 JP20286286U JP20286286U JPH0333066Y2 JP H0333066 Y2 JPH0333066 Y2 JP H0333066Y2 JP 20286286 U JP20286286 U JP 20286286U JP 20286286 U JP20286286 U JP 20286286U JP H0333066 Y2 JPH0333066 Y2 JP H0333066Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
wafers
transfer
sensor
boat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP20286286U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS63105335U (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP20286286U priority Critical patent/JPH0333066Y2/ja
Publication of JPS63105335U publication Critical patent/JPS63105335U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0333066Y2 publication Critical patent/JPH0333066Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の目的〕 (産業上の利用分野) この考案は、半導体製造工程において用いる自
動ウエハ移替え装置に関するものである。
[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Field of industrial application) This invention relates to an automatic wafer transfer device used in a semiconductor manufacturing process.

(従来の技術) ウエハを熱処理する場合には、キヤリア内のウ
エハを石英ボートに移し替えるが、この移し替え
には、自動ウエハ移替え機が用いられる。
(Prior Art) When heat-treating wafers, the wafers in a carrier are transferred to a quartz boat, and an automatic wafer transfer machine is used for this transfer.

周知のように、この移替え機は、キヤリア内で
突き上げられているウエハをチヤツクで挾持し、
石英ボート上の移替え位置に運んだ後チヤツクを
開いてウエハを石英ボートのウエハ溝に収容せし
めるものであるが、通常、キヤリアには、25枚の
ウエハしか入らないので、100枚のウエハが入る
石英ボートを満たすには複数回の移し替え操作が
必要となる。
As is well known, this transfer machine uses a chuck to hold the wafer being pushed up inside the carrier.
After the wafers are transported to the transfer position on the quartz boat, the chuck is opened and the wafers are loaded into the wafer grooves of the quartz boat.Normally, only 25 wafers can fit in the carrier, so 100 wafers can be loaded into the carrier. Multiple transfer operations are required to fill the incoming quartz boat.

従来は、第1キヤリア内のウエハを石英ボート
に移し替えた後、オペレータが第1キヤリア内に
あつたウエハの枚数を駆動制御装置に入力し、こ
の装置によりコントロールしながら該移替え機を
次の移替え位置まで移動せしめて次の移し替えを
行つている。
Conventionally, after transferring the wafers in the first carrier to a quartz boat, the operator inputs the number of wafers in the first carrier into a drive control device, and the device controls the transfer machine to the next transfer machine. It is moved to the transfer position and the next transfer is performed.

(考案が解決しようとする課題) 従来例の自動ウエハ移替え機は、石英ボートへ
ウエハを移し替える時には、制御装置に入力され
たウエハ枚数のデータがその移替え位置にウエハ
が無いという前提のもとで移し替えを行つてい
る。
(Problem to be solved by the invention) When the conventional automatic wafer transfer machine transfers wafers to a quartz boat, the data on the number of wafers input to the control device is based on the assumption that there are no wafers at the transfer position. We are currently undergoing a transfer.

そのため、オペレータが自動化の初期入力にお
いてウエハの枚数を誤つて、例えば25枚を24枚と
入力すると、最後の1枚の上にウエハを重ね置い
てしまうので、ウエハの破損事故が生じる。そこ
で、ウエハチヤツク下部のウエハを検出するた
め、センサを用いることが考えられる。しかしウ
エハ移し替え装置には特殊な事情があり、ただ単
にセンサを設けるだけでは誤判を生じ、ウエハの
重ね置き事故が発生する。
Therefore, if the operator makes a mistake in the number of wafers in the initial input of automation, for example inputting 24 instead of 25, the wafer will be placed on top of the last wafer, resulting in wafer damage. Therefore, it is conceivable to use a sensor to detect the wafer at the bottom of the wafer chuck. However, wafer transfer equipment has special circumstances, and simply providing a sensor will result in misjudgments and wafer stacking accidents.

この考案は、上記事情に鑑み、キヤリア内のウ
エハを石英ボートに移し替える場合に、ウエハの
重ね置きを防止することを目的とする。
In view of the above-mentioned circumstances, this invention aims to prevent wafers from being stacked on top of each other when transferring wafers in a carrier to a quartz boat.

〔考案の構成〕[Structure of the idea]

(課題を解決するための手段) この考案は、摺動可能な基台に、昇降可能なウ
エハチヤツクを設けた自動ウエハ移し替え装置に
おいて、前記基台に、ウエハ検出用光センサを設
け、該光センサの光軸がウエハボートの周面に衝
突し、かつ、その衝突点が前記ウエハチヤツクの
最先端のウエハからウエハボート内の隣接するウ
エハの対向面間の間隔の範囲内で該ウエハボート
のウエハ側に位置するようにするとともに該セン
サに移し替え駆動制御手段を接続したことを特徴
とする自動ウエハ移し替え装置である。
(Means for Solving the Problems) This invention is an automatic wafer transfer device in which a wafer chuck that can be raised and lowered is provided on a slidable base. The optical axis of the sensor collides with the circumferential surface of the wafer boat, and the point of collision is between the most advanced wafer of the wafer boat and the wafer of the wafer boat within the distance between the facing surfaces of adjacent wafers in the wafer boat. This is an automatic wafer transfer apparatus characterized in that the sensor is located on the side and a transfer drive control means is connected to the sensor.

(作用) 位置調整機構によりウエハ検出用センサの位置
を調整した後、キヤリア内の複数枚のウエハをウ
エハチヤツクで挾持し、チヤツクを石英ボートに
沿つて移動させ、移替え位置までウエハチヤツク
を運ぶ。
(Operation) After adjusting the position of the wafer detection sensor by the position adjustment mechanism, a plurality of wafers in the carrier are held between the wafer chucks, the chucks are moved along the quartz boat, and the wafer chucks are carried to the transfer position.

この時、ウエハ検出用センサが作動している
が、移替え位置の石英ボートにウエハが存在する
と、発光部の光は、ウエハに当たつて反射し、そ
の反射光は、受光部に入つて、駆動制御装置を作
動させ、チヤツクの移動を停止させる。
At this time, the wafer detection sensor is operating, but if there is a wafer in the quartz boat at the transfer position, the light from the light emitting section will be reflected by hitting the wafer, and the reflected light will enter the light receiving section. , actuates the drive control and stops the chuck from moving.

(実施例) この考案の一実施例を添付図面により説明する
が、同一図面符号は、その名称も機能も同一であ
る。
(Embodiment) An embodiment of this invention will be described with reference to the accompanying drawings, where the same reference numerals have the same names and functions.

自動ウエハ移替え機1の基台2には、昇降機構
を介して開閉自在なウエハチヤツク3と、パルス
モータ4に連結したボールねじBと、重ね置き防
止装置5が設けられている。
A base 2 of the automatic wafer transfer machine 1 is provided with a wafer chuck 3 which can be opened and closed via an elevating mechanism, a ball screw B connected to a pulse motor 4, and an overlapping prevention device 5.

重ね置き防止装置5は、第2図に示すようにウ
エハ検出用センサ6と該センサ6の位置を調整す
る位置調整機構7とを備えている。
The overlapping prevention device 5 includes a wafer detection sensor 6 and a position adjustment mechanism 7 for adjusting the position of the sensor 6, as shown in FIG.

ウエハ検出用センサ6は、この例では発光部9
と受光部10とを備えた反射型センサであり、固
定プレート8に設けられている。
In this example, the wafer detection sensor 6 is a light emitting section 9.
It is a reflective sensor comprising a light receiving section 10 and a light receiving section 10, and is provided on the fixed plate 8.

センサ6の位置決めは、位置調整機構7を用い
て行われる。
Positioning of the sensor 6 is performed using a position adjustment mechanism 7.

位置調整機構7は、上下方向調整長穴11及び
ねじ12と、左右方向調整送りねじ15と、左右
方向固定ねじ16とを備えている。
The position adjustment mechanism 7 includes a vertical adjustment elongated hole 11 and a screw 12, a left and right adjustment feed screw 15, and a left and right fixing screw 16.

発光部9は、その光軸Lが石英ボート上のウエ
ハ14の中心と一致するように調整すると、ウエ
ハ14の位置検出は、より正確なものになる。
When the light emitting unit 9 is adjusted so that its optical axis L coincides with the center of the wafer 14 on the quartz boat, the position of the wafer 14 can be detected more accurately.

センサ6は、発光部9の光軸Lとウエハチヤツ
ク3の最先端のウエハ14aとの間隔t1が例えば
3/32インチ(約2.38mm)になるように左右方向送
りねじ15で調整される。
The sensor 6 is adjusted by the left-right feed screw 15 so that the distance t 1 between the optical axis L of the light emitting unit 9 and the most advanced wafer 14a of the wafer chuck 3 is, for example, 3/32 inch (approximately 2.38 mm).

これは、第3図に示す様に、石英ボート13の
ウエハ溝のピツチ間隔t2が、3/16インチであり例
えば、ウエハ溝20aにウエハ14aを置いた場
合、間隔t2の約半分、即ち、3/32インチ離れた位
置で、ウエハ溝20aの位置にウエハ14bが有
るか無いかを検出し移し替えを行う。次にこのウ
エハ14を移し替えている時ウエハ14bとウエ
ハ14cとの間にセンサ6の光軸Lが位置するこ
とになり次のウエハ溝のウエハ14の誤検出を防
止することができる。
As shown in FIG. 3, the pitch interval t 2 of the wafer grooves of the quartz boat 13 is 3/16 inches . That is, at a position 3/32 inch apart, it is detected whether or not the wafer 14b is present in the wafer groove 20a, and the wafer 14b is transferred. Next, when this wafer 14 is transferred, the optical axis L of the sensor 6 is located between the wafer 14b and the wafer 14c, making it possible to prevent erroneous detection of the wafer 14 in the next wafer groove.

センサ6の受光部10は、パルスモータ4を制
御する駆動制御装置Cと電気的に接続されてい
る。
The light receiving section 10 of the sensor 6 is electrically connected to a drive control device C that controls the pulse motor 4.

次に、この実施例の作動について説明する。 Next, the operation of this embodiment will be explained.

オペレータがキーボードKを操作し移し替えを
行うキヤリア数とウエハ枚数を入力し自動移替え
装置を始動させると、パルスモータ4を駆動し
て、ボールねじBを回転させ移替え機1をテーブ
ル21上の第1のキヤリア22まで移動させる。
When the operator inputs the number of carriers and wafers to be transferred using the keyboard K and starts the automatic transfer device, the pulse motor 4 is driven to rotate the ball screw B and the transfer device 1 is placed on the table 21. to the first carrier 22.

そこで、第1キヤリア22内のウエハ25枚を図
示しない突き上げ機構により突き上げ、このウエ
ハをウエハチヤツク3で挾持すると、上記突き上
げ機構が下がりパルスモータ4が前記と逆方向に
回転し、移替え機1をウエハチヤツク下部にある
石英ボート13の移替え位置Wまで移動させる。
Therefore, when the 25 wafers in the first carrier 22 are pushed up by a push-up mechanism (not shown) and these wafers are clamped by the wafer chuck 3, the push-up mechanism is lowered and the pulse motor 4 rotates in the opposite direction to the above, and the transfer machine 1 is rotated. The wafer is moved to the transfer position W of the quartz boat 13 located at the bottom of the wafer chuck.

この移替え機1の移動は、移替え位置近傍まで
は、高速にして時間を短縮し、それ以後は、低速
にして、急停止できるようにしてある。
The transfer machine 1 is moved at high speed to shorten the time up to the vicinity of the transfer position, and after that, the transfer machine 1 is moved at low speed so as to be able to stop suddenly.

この時、センサ6の発光部9の出射光は、移替
え位置Wに向かつて照射されているが、ウエハ1
4がないため、その光は直進し受光部10に入ら
ない。
At this time, the light emitted from the light emitting part 9 of the sensor 6 is irradiated toward the transfer position W, but the wafer 1
4, the light travels straight and does not enter the light receiving section 10.

従つて、ウエハチヤツク3下部の移替え位置W
にウエハが存在しないことが確認され、ウエハの
移し替えは、設定どうり行われる。
Therefore, the transfer position W of the lower part of the wafer chuck 3
It is confirmed that there is no wafer in the wafer, and the wafer is transferred according to the settings.

即ち、ウエハチヤツク3は、下降してウエハ1
4を石英ボート13のウエハ溝20に収容した
後、そのウエハ14を開放して上昇すると共にウ
エハ移替え機1は、高速で第2キヤリア23まで
移動する。
That is, the wafer chuck 3 is lowered and the wafer 1
After storing the wafers 4 in the wafer grooves 20 of the quartz boat 13, the wafers 14 are released and raised, and the wafer transfer machine 1 moves at high speed to the second carrier 23.

次に、先にオペレータが、キーボードKを操作
し第1キヤリア22に25枚入つていたウエハの枚
数を誤認し、例えば24枚と入力していたとする
と、パルスモータ4は、その指示にしたがいウエ
ハ移替え機1を移替え位置まで移動せんとする
が、移し替え予定のウエハ溝20aにウエハ14
bが入つているので、センサ6の発光部9の光り
はウエハの周面にあたつて反射し、その反射光は
受光部10に入る。
Next, if the operator operates the keyboard K and misidentifies the number of wafers that were 25 in the first carrier 22 and inputs, for example, 24, the pulse motor 4 will follow that instruction. The wafer transfer machine 1 is not moved to the transfer position, but the wafer 14 is placed in the wafer groove 20a to be transferred.
b, the light from the light emitting section 9 of the sensor 6 hits the circumferential surface of the wafer and is reflected, and the reflected light enters the light receiving section 10.

受光部10に反射光が入ると重ね置き防止装置
5で検出され、この検出信号により駆動制御装置
Cが駆動してパルスモータ4を停止させると共に
アラームを発生させる。
When reflected light enters the light receiving section 10, it is detected by the overlapping prevention device 5, and the detection signal drives the drive control device C to stop the pulse motor 4 and generate an alarm.

次に、オペレータが、ウエハ14bをピンセツ
ト等で取り出し、スタートスイツチ(図示せず)
を押すと、パルスモータ4は、再び駆動して移替
え機1を次の移替え位置Wまで移動させると共
に、前回の要領でウエハの移し替えが行われる。
Next, the operator takes out the wafer 14b using tweezers or the like, and turns on the start switch (not shown).
When is pressed, the pulse motor 4 is driven again to move the transfer machine 1 to the next transfer position W, and the wafer transfer is performed in the same manner as before.

このようにして、キヤリア内のウエハを石英ボ
ート13に移し替え、石英ボート13のウエハ溝
全部にウエハを収容する。
In this way, the wafers in the carrier are transferred to the quartz boat 13, and the wafers are accommodated in all the wafer grooves of the quartz boat 13.

この考案は、上記実施例に限定されるものでは
なく、例えば、重ね置き防止装置5のウエハ検出
用センサを、反射型の代わりに、発光部と受光部
とが同一直線上で対向する所謂透過型センサを用
いてもよいことは勿論である。
This invention is not limited to the above-mentioned embodiment. For example, the wafer detection sensor of the overlapping prevention device 5 may be of a so-called transmission type in which a light emitting part and a light receiving part face each other on the same straight line instead of a reflective type. Of course, a type sensor may also be used.

〔考案の効果〕[Effect of idea]

この考案は、以上のように構成したので、所定
のウエハ移替え位置にウエハが存在していると、
ウエハ検出用センサにより検出され、所定のウエ
ハ移し替え作業が停止するので、ウエハの重ね置
きは完全に防止することが出来るという顕著な効
果がある。又、ウエハ検出用センサの光軸がウエ
ハボートのウエハの周面に衝突し、かつ、その衝
突点が前記ウエハチヤツクの最先端のウエハから
ウエハボート内の隣接するウエハの対向面間の間
隔の範囲内で該ウエハボートのウエハ側に位置す
るようにしたので、ウエハ検出用光センサはウエ
ハチヤツクの最先端のウエハから前記ウエハ対向
面間の間隔の範囲内でウエハボートに収容されて
いる最後端のウエハを検出するとともに移し替え
後は光軸が前記最後端のウエハの周面に衝突しな
い。
Since this invention is configured as described above, when a wafer exists at a predetermined wafer transfer position,
Since the wafer is detected by the wafer detection sensor and the predetermined wafer transfer operation is stopped, there is a remarkable effect that overlapping of wafers can be completely prevented. Further, the optical axis of the wafer detection sensor collides with the circumferential surface of the wafer in the wafer boat, and the point of collision is within the range of the distance between the most advanced wafer in the wafer chuck and the opposing surfaces of adjacent wafers in the wafer boat. Since the optical sensor for wafer detection is located on the wafer side of the wafer boat within the range of the distance between the most advanced wafer of the wafer chuck and the wafer facing surface, the wafer detection optical sensor After the wafer is detected and transferred, the optical axis does not collide with the peripheral surface of the rearmost wafer.

従つて、移し替えるべき位置にウエハがあるか
否かを正確に検出することができるとともにウエ
ハ移し替え後に誤検出することがない。
Therefore, it is possible to accurately detect whether or not there is a wafer at the position to be transferred, and there is no possibility of false detection after the wafer is transferred.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第4図はこの考案の実施例を示す図
で、第1図はその斜視図、第2図は第1図の重ね
置き防止装置を示す拡大斜視図、第3図〜第4図
は使用状態を示す図である。 1……移替え機、2……基台、3……ウエハチ
ヤツク、5……重ね置き防止装置、6………ウエ
ハ検出用センサ、7……位置調整機構、W……移
替え位置。
1 to 4 are views showing an embodiment of this invention, FIG. 1 is a perspective view thereof, FIG. 2 is an enlarged perspective view showing the overlapping prevention device of FIG. 1, and FIGS. 3 to 4 The figure shows the state of use. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Transfer machine, 2... Base, 3... Wafer chuck, 5... Overlap prevention device, 6... Wafer detection sensor, 7... Position adjustment mechanism, W... Transfer position.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 摺動可能な基台に、昇降可能なウエハチヤツク
を設けた自動ウエハ移し替え装置において、前記
基台に、ウエハ検出用光センサを設け、該光セン
サの光軸が、ウエハボートのウエハの周面に衝突
し、かつ、その衝突点が前記ウエハチヤツクの最
先端のウエハからウエハボート内の隣接するウエ
ハの対向面間の間隔の範囲内で該ウエハボートの
ウエハ側に位置するようにするとともに該センサ
に移し替え駆動制御手段を接続したことを特徴と
する自動ウエハ移替え装置。
In an automatic wafer transfer device that includes a wafer chuck that can be raised and lowered on a slidable base, an optical sensor for wafer detection is installed on the base, and the optical axis of the optical sensor is aligned with the circumferential surface of the wafer on the wafer boat. and the collision point is located on the wafer side of the wafer boat within the distance between the most advanced wafer of the wafer chuck and the opposing surfaces of adjacent wafers in the wafer boat, and the sensor An automatic wafer transfer device characterized in that a transfer drive control means is connected to the wafer transfer device.
JP20286286U 1986-12-24 1986-12-24 Expired JPH0333066Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20286286U JPH0333066Y2 (en) 1986-12-24 1986-12-24

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20286286U JPH0333066Y2 (en) 1986-12-24 1986-12-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63105335U JPS63105335U (en) 1988-07-08
JPH0333066Y2 true JPH0333066Y2 (en) 1991-07-12

Family

ID=31167645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20286286U Expired JPH0333066Y2 (en) 1986-12-24 1986-12-24

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0333066Y2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3014433B2 (en) * 1990-10-26 2000-02-28 富士通株式会社 Wafer transfer method

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63105335U (en) 1988-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100380623B1 (en) Semiconductor manufacturing method and semiconductor manufacturing apparatus
EP0313466B1 (en) Wafer positioning apparatus
JPH06244268A (en) Transfer equipment
JPH10233426A (en) Automatic teaching method
JPH1087070A (en) Control device for carrying ic
JPH0333066Y2 (en)
JP2536982B2 (en) Reversing device for conveyor
JP2529637Y2 (en) Substrate rotation holding device
JP4352159B2 (en) Wafer transfer device
JPH05343499A (en) Transferring apparatus for treated object and driving method therefor
KR100294445B1 (en) Wafer misalignment sensing method and wafer conveying apparatus using same
JPH07169823A (en) Substrate detecting device
JP2853889B2 (en) Substrate transfer device
JPH08241851A (en) Substrate rotating device
JP3133572B2 (en) Disc player
JP2688554B2 (en) Wafer abnormality detection device and wafer inspection method
KR100266678B1 (en) Center checking system for wafer in semiconductor wafer coating equipment
KR100239758B1 (en) Wafer identification character arrangement apparatus for a automatical setting of a camera
KR19980058173A (en) Orienting Chamber
JPS6226829A (en) Die bonding device
JPH03280447A (en) Detection of substrate
JPH10154740A (en) Setting system for wafer and tray, and device for setting wafer on tray for that purpose
KR20020032702A (en) Apparatus for holding in check drop of wafer adapted to semiconductor fabrication equipment
JPH06177175A (en) Carrier device of lead frame
JPH07147317A (en) Wafer detector