JPH0332078A - Laser oscillator - Google Patents

Laser oscillator

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JPH0332078A
JPH0332078A JP1165331A JP16533189A JPH0332078A JP H0332078 A JPH0332078 A JP H0332078A JP 1165331 A JP1165331 A JP 1165331A JP 16533189 A JP16533189 A JP 16533189A JP H0332078 A JPH0332078 A JP H0332078A
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彰 森
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Abstract

PURPOSE:To improve processing accuracy in fine processing by controlling a voltage applied to a liquid crystal mask in accordance with the variation of laser light energy to stabilize it at a desired value. CONSTITUTION:A beam expander 10, a scattering type liquid crystal mask 11, and a condenser lens 12 are successively provided in a light path of laser light A generated at a laser oscillator B. The laser light A is expanded by the expander 10 to be decreased in energy per unit area, and is incident on the mask 11. Then, it is focused by the lens 12 to be increased again in energy per unit area and irradiate a workpiece 13. A controlling circuit 17 controls a voltage applied to the mask in accordance with the laser light energy detected by a detector 18 provided on the output side of the mask 11 and a predetermined energy variation. Thus, the light transmittance is controlled and the energy of the laser light A is stabilized at a predetermined value, so that the processing accuracy in fine processing of the workpiece 13 can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、YAGレーザ等ガラスを透過するレーザ光を
発振するレーザ発振装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a laser oscillation device that oscillates a laser beam such as a YAG laser that transmits through glass.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ガラスを透過するレーザ光を発振するレーザ発振装置と
しては、例えば第7図に示すようなレーザ発振器が知ら
れている。
As a laser oscillation device that oscillates a laser beam that passes through glass, a laser oscillator as shown in FIG. 7, for example, is known.

つまり、皮剥ミラー1と出口ミラー2を備えたレーザロ
ッド3と対向して励起ランプ4を配設し、この励起ラン
プ4の電極5に電源6を接続し、励起ランプ4に電流を
流してレーザロッド3を励起することで出力ミラー2よ
りレーザ光Aを発振するようにしである。
That is, an excitation lamp 4 is disposed opposite a laser rod 3 equipped with a peeling mirror 1 and an exit mirror 2, a power source 6 is connected to an electrode 5 of this excitation lamp 4, and a current is passed through the excitation lamp 4 to generate a laser beam. By exciting the rod 3, the output mirror 2 emits laser light A.

このようなレーザ発振器より発振されるレーザ光は加工
物の切断、穴あけに利用したり、部材表面に文字・図形
などを形成するのに利用され、レーザ光のエネルギーは
加工精度に大きく影響するので、レーザ光のエネルギー
、つまりレーザパワーを一定の値となるように安定化さ
せ、異なる文字・図形を形成するためにレーザ光のモー
ドを任意に切換えることが必要となるしかしながら、前
述のレーザ発振器においては励起ランプ4への電流変動
により励起エネルギーが変動することでレーザパワーが
変動してしまうから、従来は励起ランプ4と電源6との
N源回路7に電流計8を設け、その電流計8で励起ラン
プ4への電流値を検知して一定の値となるように電流を
制御してレーザ光のエネルギーを安定化させている。
The laser light emitted by such a laser oscillator is used for cutting and drilling workpieces, as well as for forming characters and figures on the surface of parts, and the energy of the laser light greatly affects processing accuracy. However, in the laser oscillator described above, it is necessary to stabilize the energy of the laser beam, that is, the laser power, to a constant value, and to arbitrarily switch the mode of the laser beam to form different characters and figures. Conventionally, an ammeter 8 is provided in the N source circuit 7 between the excitation lamp 4 and the power supply 6, and the ammeter 8 The current value to the excitation lamp 4 is detected and the current is controlled to a constant value to stabilize the energy of the laser beam.

また、レーザ光Aの光路に、レンズとマスクの組合せよ
り成るアパーチャーを設けてレーザ光のモードを切換え
ている。
Further, an aperture made of a combination of a lens and a mask is provided in the optical path of the laser beam A to switch the mode of the laser beam.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、レーザ光のエネルギーが変動する要因は
励起ランプ4への電流変動だけではなく、励起ランプ4
のインピーダンス変化、レーザロッドの変形、ミラーの
ゆがみ、光学系のよごれ、励起ランプ4の効率変化、温
度変化などによってもレーザ光のエネルギーが変動し、
前記励起ランプ4のインピーダンスはランプ冷却水温に
よって微妙に変動するばかりでなく、経時変化等により
微小変化するので、前述のように励起ランプ4への電流
を制御したとしてもレーザ光のエネルギーは微小変動し
てしまうから、微細加工にレーザ光を利用した場合には
加工精度が低下してしまう。
However, the factor that causes the energy of the laser beam to fluctuate is not only the current fluctuation to the excitation lamp 4 but also the fluctuation of the current to the excitation lamp 4.
The energy of the laser beam also fluctuates due to impedance changes, deformation of the laser rod, mirror distortion, dirt on the optical system, efficiency changes in the excitation lamp 4, temperature changes, etc.
The impedance of the excitation lamp 4 not only changes slightly depending on the temperature of the lamp cooling water, but also changes over time, so even if the current to the excitation lamp 4 is controlled as described above, the energy of the laser beam will not change slightly. Therefore, when a laser beam is used for microfabrication, the machining accuracy decreases.

また、アパーチャーでレーザ光のモードを切換えるので
、異なるモードに切換えるにはそのモードに適したアパ
ーチャーと交換せねばならず、その操作が面倒であるば
かりか、多数のアパーチャーを準備する必要がある。
Furthermore, since the mode of the laser beam is switched by the aperture, in order to switch to a different mode, the aperture must be replaced with an aperture suitable for that mode, which is not only troublesome to operate, but also requires the preparation of a large number of apertures.

そこで、本発明は前述の課題を解決できるようにしたレ
ーザ発振装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a laser oscillation device that can solve the above-mentioned problems.

〔課題を解決するための手段及び作用〕1、レーザ光を
拡散して散乱型液晶マスクに入射し、その出口側に設け
たディテクタでレーザ光エネルギーを検出し、その検出
したレーザ光エネルギーの変動分に応じて散乱型液晶マ
スクへの印加電圧を制御するようにしたレーザ発振装置
であり、これによってレーザ光のエネルギー変化に応じ
て散乱型液晶マスクの光透過率を変化してレーザ光エネ
ルギーを安定化できる。
[Means and actions for solving the problem] 1. Diffuse the laser light and make it enter the scattering type liquid crystal mask, detect the laser light energy with a detector installed on the exit side, and change the detected laser light energy. This is a laser oscillation device that controls the voltage applied to the scattering type liquid crystal mask according to the amount of time, and by changing the light transmittance of the scattering type liquid crystal mask according to the energy change of the laser beam, the laser beam energy can be increased. It can be stabilized.

2、レーザ光を拡散して、散乱型液晶マスクの透明電極
を任意形状に分割したスクリーンに入射し、その透明電
極の印加電圧をコントロールするようにしたレーザ発振
装置であり、これによって透明電極の印加電圧をコント
ロールすることで散乱型液晶マスクの光透過率を部分的
に異ならせて任意形状のパターンを得ることができる。
2. This is a laser oscillation device that diffuses laser light and makes it incident on a screen that divides the transparent electrode of a scattering type liquid crystal mask into arbitrary shapes, and controls the voltage applied to the transparent electrode. By controlling the applied voltage, the light transmittance of the scattering liquid crystal mask can be partially varied to obtain a pattern of arbitrary shape.

〔実 施 例〕〔Example〕

第1図に示すように、レ−ザ発振器Bから発振されるレ
ーザ光Aの光路にビームエキスパンダー10、散乱型液
晶マスク11、集光レンズ12を順次間隔を置いて配設
する。
As shown in FIG. 1, a beam expander 10, a scattering type liquid crystal mask 11, and a condensing lens 12 are arranged in the optical path of a laser beam A emitted from a laser oscillator B at intervals.

これによって、レ−ザ発振器Bから発振されたレーザ光
Aはビームエキスパンダー10で拡げられ単位面積当り
のエネルギーが低くされ散乱型液晶マスク11に入射さ
れ、集光レンズ12で集束されて単位面積当りのエネル
ギーを再び高く・して加工物13に照W、fされる。
As a result, the laser beam A oscillated from the laser oscillator B is expanded by the beam expander 10 to lower its energy per unit area, enters the scattering type liquid crystal mask 11, and is focused by the condenser lens 12 to reduce the energy per unit area. The energy is increased again and the workpiece 13 is irradiated with light W, f.

前記散乱型液晶マスク11は第2図のように、液晶14
を有するポリマーマトリックス15の両面に透明電極付
プラスチックフィルム16゜16を配設したもので、そ
の透明電極付プラスチックフィルム16.16に印加さ
れる電圧が高くなると透明度、つまり光の透過率が高く
なる性質を有し、第1図に示すように制御回路17まり
印加される電圧でコントロールされる。
The scattering type liquid crystal mask 11 has a liquid crystal 14 as shown in FIG.
Transparent electrode-attached plastic film 16.16 is arranged on both sides of a polymer matrix 15 having As shown in FIG. 1, it is controlled by the voltage applied to the control circuit 17.

前記散乱型液晶マスク11の出口側には、ゲルマニウム
パワ一部等の光のエネルギーを精密に高速で測定できる
ディテクター18が設けられ、散乱型液晶マスク11を
出たレーザ光Aの一部はディテクター18に入光し、そ
の他のレーザ光Aは集光レンズ12によって再び単位面
積当りのエネルギーを高くされ加工物13に照射される
On the exit side of the scattering type liquid crystal mask 11, a detector 18 is provided that can accurately and rapidly measure the energy of light such as a portion of germanium power, and a portion of the laser beam A exiting the scattering type liquid crystal mask 11 is transferred to the detector 18. The other laser beam A is made to have higher energy per unit area again by the condenser lens 12 and is irradiated onto the workpiece 13 .

前記ディテクター18で測定したレーザ光のエネルギー
は制御回路17に人力され、その測定した値が予め設定
した値より変動している場合には、その変動分に応じて
散乱型液晶マスク11への電圧をコントロールしてレー
ザ光のエネルギーを一定に制御する。
The energy of the laser beam measured by the detector 18 is input to the control circuit 17, and if the measured value fluctuates from a preset value, the voltage to the scattering liquid crystal mask 11 is adjusted according to the fluctuation. control to keep the energy of the laser beam constant.

1つはレーザ光のレーザパワーを精密にコントロールす
る可変抵抗である。
One is a variable resistor that precisely controls the laser power of the laser beam.

次に、前記レーザパワーの変動を補正して安定化させる
動作の一例を説明する。
Next, an example of an operation for correcting and stabilizing fluctuations in the laser power will be described.

レーザパワー調整時には散乱型液晶マスク11の電圧を
、最大電圧時の光透過率の60%〜80%の光透過率と
なる値とし、ディテクター18で測定したレーザ光のエ
ネルギーと予じめ設定したレーザ光のエネルギーとの変
動分に応じて電圧を制御して光透過率を40%〜20%
の範囲でコントロールし、測定したレーザ光のエネルギ
ーと予じめ設定したレーザ光のエネルギーを一致させて
安定化する。
When adjusting the laser power, the voltage of the scattering type liquid crystal mask 11 is set to a value that gives a light transmittance of 60% to 80% of the light transmittance at the maximum voltage, and is set in advance to the energy of the laser light measured by the detector 18. The light transmittance is increased from 40% to 20% by controlling the voltage according to the variation with the laser beam energy.
The measured laser beam energy is stabilized by matching it with the preset laser beam energy.

例えば、制御回路17でP−1−D又は学習制御、現代
制御、Fuzzy制御等による方法で変動分に見合う印
加電圧制御量を演算し、それによって散乱型液晶マスク
11の印加電圧を制御して光透過率をコントロールする
ことで、散乱型液晶マスク11を出たレーザ光のエネル
ギーを予じめ設定したレーザ光のエネルギーと一致させ
、加工物13に照射されるレーザ光のエネルギーを一定
として安定化する。
For example, the control circuit 17 calculates the applied voltage control amount corresponding to the variation using P-1-D, learning control, modern control, fuzzy control, etc., and controls the applied voltage of the scattering type liquid crystal mask 11 accordingly. By controlling the light transmittance, the energy of the laser beam exiting the scattering liquid crystal mask 11 is made to match the energy of the laser beam set in advance, and the energy of the laser beam irradiated onto the workpiece 13 is kept constant and stable. become

前記制御回路17は前述の変動分が散乱型液晶マスク1
1の電圧制御による光透過率の変化によって補正できる
範囲であるかを判断する回路を備え、補正できる範囲で
あれば前述のように電圧制御するが、補正できる範囲よ
り変動分が大きい場合には前述の電圧制御を行わずに、
レ−ザ発振器Bの電源に電流制御信号を出力して励起ラ
ンプ4の電流を制御して発振されるレーザ光のエネルギ
ー自体をコントロールして散乱型液晶マスク11を出た
レーザ光のエネルギーを一定の値として安定化させる。
The control circuit 17 controls the scattering type liquid crystal mask 1 by controlling the above-mentioned variation.
It is equipped with a circuit that determines whether the change in light transmittance caused by the voltage control described in step 1 is within a range that can be corrected. Without the voltage control mentioned above,
A current control signal is output to the power source of the laser oscillator B to control the current of the excitation lamp 4 to control the energy itself of the oscillated laser light, thereby keeping the energy of the laser light exiting the scattering type liquid crystal mask 11 constant. It is stabilized as the value of .

この動作をフローチャートで示すと第3図のようになる
This operation is shown in a flowchart as shown in FIG.

第4図に示すように、ビームエキスパンダlOと集光レ
ンズ12との間にスクリーン20を設ける。
As shown in FIG. 4, a screen 20 is provided between the beam expander lO and the condenser lens 12.

該スクリーン20は散乱型液晶マスク11の透明電極付
プラスチックフィルム16を所定パターンに多数分割し
て配設したもの、例えば第5図に示すように散乱型液晶
マスク11の透明電極付プラスチックフィルム16を同
心円状に多数分割したものであり、その各透明電極付プ
ラスチックフィルム16に制御回路17より電圧を印加
制御するようにしてあり、その制御回路17にはディテ
クタ18よりスクリーン20を出たレーザ光のエネルギ
ーがフィードバックされると共に、マンマシーンインタ
ーフェース21よりパターン選択信号が人力されるよう
にしである。
The screen 20 is made by dividing the plastic film 16 with transparent electrodes of the scattering type liquid crystal mask 11 into a plurality of parts in a predetermined pattern, for example, as shown in FIG. The control circuit 17 controls the application of a voltage to each plastic film 16 with transparent electrodes, and the control circuit 17 receives the laser light emitted from the screen 20 by a detector 18. Energy is fed back and a pattern selection signal is manually inputted from the man-machine interface 21.

このようであるから、例えば第1モード選択信号を入力
すると制御回路17より第6図(a)斜線部分の透明電
極付プラスチックフィルム1Bへの印加電圧を低くして
光透過率を低下し、他の透明電極付プラスチックフィル
ム16への印加電圧を高くして光透過率を100%とし
、これによって第6図(a)で示すモードCが得られる
Therefore, for example, when the first mode selection signal is input, the control circuit 17 lowers the voltage applied to the transparent electrode-attached plastic film 1B in the shaded area in FIG. The voltage applied to the transparent electrode-attached plastic film 16 is increased to make the light transmittance 100%, thereby obtaining mode C shown in FIG. 6(a).

同様に第2モード選択信号を入力すると制御回路17よ
り第6図(b)斜線部分の透明電極付プラスチックフィ
ルム16への印加電圧を低くして光透過率を低下し、他
の透明電極付プラスチックフィルム16への印加電圧を
高くして光透過率を100%とし、これによって第6図
(b)で示すモードD゛が得られる。
Similarly, when the second mode selection signal is input, the control circuit 17 lowers the voltage applied to the transparent electrode-attached plastic film 16 in the shaded area in FIG. The voltage applied to the film 16 is increased to make the light transmittance 100%, thereby obtaining mode D' shown in FIG. 6(b).

第3モード選択信号を入力すると第6図(c)に示すよ
うに全ての透明電極付プラスチックフィルム16への印
加電圧を高くして光透過率を100%とし、これによっ
て第6図(C)に示すモードEが得られる。
When the third mode selection signal is input, the voltage applied to all the transparent electrode-attached plastic films 16 is increased to make the light transmittance 100%, as shown in FIG. 6(c). Mode E shown in is obtained.

つまり、散乱型液晶マスク11は透過電極に印加する電
圧によって光透過率が0〜100%の範囲で変化するの
で、透明電極を任意の形状に分割し、その任意の透明電
極の印加電圧を高くし、他の透明電極の印加電圧を低く
すれば、散乱型液晶マスク11の部分的光透過率が異な
るので、任意の形状のモードが得られる。
In other words, the light transmittance of the scattering liquid crystal mask 11 changes in the range of 0 to 100% depending on the voltage applied to the transparent electrode, so the transparent electrode is divided into arbitrary shapes and the voltage applied to the arbitrary transparent electrode is increased. However, if the voltage applied to the other transparent electrodes is lowered, the partial light transmittance of the scattering type liquid crystal mask 11 will be different, so that a mode with an arbitrary shape can be obtained.

また、透明電極への印加電圧をコントロールすることで
光透過率を調整できるから、加工物13に照射されるレ
ーザ光のエネルギーを調整できる。
Furthermore, since the light transmittance can be adjusted by controlling the voltage applied to the transparent electrode, the energy of the laser beam irradiated onto the workpiece 13 can be adjusted.

また、ディテクタ18で散乱型液晶マスク11を出たレ
ーザ光のエネルギーを検出し、その値を制御回路17に
フィードバックして印加電圧を制御できるから、所望す
るエネルギーに精度良く調整できる。
Further, since the energy of the laser beam exiting the scattering liquid crystal mask 11 is detected by the detector 18 and the value is fed back to the control circuit 17 to control the applied voltage, the energy can be precisely adjusted to a desired value.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

1、散乱型液晶マスク11を出たレーザ光エネルギーの
変動分に応じて散乱型液晶マスク11の印加電圧を制御
して光透過率をコントロールし、それによってレーザ光
エネルギーを所望の値として安定化するので、励起ラン
プのインピーダンス変化、レーザロッドの変形、ミラー
のゆがみ、光学系のよごれ、励起ランプの効率変化、温
度変化などがあってもレーザ光のエネルギーを安定化で
き、微細加工時の加工精度を向上できる。
1. Control the light transmittance by controlling the voltage applied to the scattering liquid crystal mask 11 according to the variation in the laser beam energy exiting the scattering liquid crystal mask 11, thereby stabilizing the laser beam energy at a desired value. Therefore, the energy of the laser beam can be stabilized even if there are impedance changes of the excitation lamp, deformation of the laser rod, distortion of the mirror, dirt on the optical system, changes in the efficiency of the excitation lamp, temperature changes, etc. Accuracy can be improved.

マタレーザ光を、ビ−ムエキスパン!−10で単位面積
当りエネルギーを低くしてから散乱型液晶マスク11に
入射し、さらにディテクタ18に一部のレーザ光を入射
するので、散乱型液晶マスク11、ディテクタ18に入
射するレーザ光のエネルギー密度は小さくなって散乱型
液晶マスク11が高温となることがなく、散乱型液晶マ
スク11を構成する高ポリマー物質が変色、変形、塑性
変形等が生じることがなく耐久性が優れたものとなり、
ディテクタ18を熱エネルギーに対して弱い半導体等の
高精度のものを用いることができるのでレーザ光のエネ
ルギー検出精度が良くなってより安定化できる。
Beam expand the mater laser beam! -10, the energy per unit area is lowered before entering the scattering type liquid crystal mask 11, and a part of the laser light is also entering the detector 18, so the energy of the laser light entering the scattering type liquid crystal mask 11 and the detector 18 is The density is reduced so that the scattering type liquid crystal mask 11 does not reach a high temperature, and the high polymer material constituting the scattering type liquid crystal mask 11 does not undergo discoloration, deformation, plastic deformation, etc. and has excellent durability.
Since the detector 18 can be made of a highly accurate material such as a semiconductor that is sensitive to thermal energy, the accuracy of detecting the energy of the laser beam can be improved and it can be made more stable.

2、分割した透明電極への印加電圧をコントロールする
ことで散乱型液晶センサ11の部分的光透過率を異なら
せて任意形状のパターンとすることができ、印加電圧を
コントロールするだけの簡単な操作でレーザ光のパター
ンを任意に変更できる。
2. By controlling the voltage applied to the divided transparent electrodes, the partial light transmittance of the scattering type liquid crystal sensor 11 can be varied to create a pattern of any shape, and the operation is simple, just by controlling the applied voltage. The laser beam pattern can be changed arbitrarily.

散乱型液晶マスク11に入射するレーザ光のエネルギー
密度は小さいので、その散乱型液晶マスク11を構成す
る高ポリマー物質が変色、変形、塑性変形することがな
く、耐久性を向上できる。
Since the energy density of the laser beam incident on the scattering type liquid crystal mask 11 is low, the high polymer material constituting the scattering type liquid crystal mask 11 will not be discolored, deformed, or plastically deformed, and its durability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1実施例を示す全体図、第2図は散
乱型液晶マスクの説明図、第3図は動作フローチャート
、第4図は第2実施例の全体図、第5図はスクリーンの
斜視図、第6図(a)、(b)、(C)はパターン制御
の説明図、第7図はレーザ発振器の説明図である。 10はビームエキスパンダ、11は散乱型液晶マスク、
12は集光レンズ、13は加工物、17は制御回路、1
8はディテクタ、20はスクリーン。 第 3 図 第 図 第 5 図 第 図 (0) 第 図
Fig. 1 is an overall diagram showing the first embodiment of the present invention, Fig. 2 is an explanatory diagram of a scattering type liquid crystal mask, Fig. 3 is an operation flowchart, Fig. 4 is an overall diagram of the second embodiment, and Fig. 5 6 is a perspective view of the screen, FIGS. 6A, 6B, and 6C are explanatory diagrams of pattern control, and FIG. 7 is an explanatory diagram of a laser oscillator. 10 is a beam expander, 11 is a scattering type liquid crystal mask,
12 is a condensing lens, 13 is a workpiece, 17 is a control circuit, 1
8 is a detector, 20 is a screen. Figure 3 Figure 5 Figure 5 Figure (0) Figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、レーザ発振器Bのレーザ光路に、ビームエキスパン
ダ10、散乱型液晶マスク11、集光レンズ12を順次
設け、その散乱型液晶マスク11の出口側にディテクタ
18を設けると共に、そのディクター18の検出したレ
ーザ光エネルギーと所定のレーザ光エネルギーとの変動
分に応じて散乱型液晶マスク11の印加電圧を制御する
制御回路17を設けたことを特徴とするレーザ発振装置
。 2、レーザ発振器Bのレーザー光路に、ビームエキスパ
ンダ10、散乱型液晶センサ11の透明電極を任意形状
に分割したスクリーン20、集光レンズ12を設け、前
記透明電極の印加電圧をコントロールする制御回路17
を設けたことを特徴とするレーザ発振装置。
[Claims] 1. A beam expander 10, a scattering liquid crystal mask 11, and a condensing lens 12 are sequentially provided in the laser optical path of the laser oscillator B, and a detector 18 is provided on the exit side of the scattering liquid crystal mask 11. , a laser oscillation device characterized in that a control circuit 17 is provided for controlling the voltage applied to the scattering type liquid crystal mask 11 according to the variation between the laser light energy detected by the detector 18 and a predetermined laser light energy. 2. A control circuit that includes a beam expander 10, a screen 20 obtained by dividing the transparent electrode of the scattering liquid crystal sensor 11 into arbitrary shapes, and a condenser lens 12 in the laser optical path of the laser oscillator B, and controls the voltage applied to the transparent electrode. 17
A laser oscillation device characterized by being provided with.
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