JPH03286494A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH03286494A
JPH03286494A JP2231647A JP23164790A JPH03286494A JP H03286494 A JPH03286494 A JP H03286494A JP 2231647 A JP2231647 A JP 2231647A JP 23164790 A JP23164790 A JP 23164790A JP H03286494 A JPH03286494 A JP H03286494A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
level
potential
data
initialization
memory cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP2231647A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Daisuke Azuma
東 大祐
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to US07/673,532 priority Critical patent/US5325325A/en
Publication of JPH03286494A publication Critical patent/JPH03286494A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To exactly initialize a prescribed memory cell to prescribed data at high speed by providing a potential forcing means to force the memory node of the prescribed memory cell to a potential corresponding to the initializing data and a means to activate all the potential forcing means in response to the turn-on of a power source. CONSTITUTION:In response to a master reset signal MR, transistors TR3 and TR4 are turned to an OFF state and inverters INV1 and INV2 are electrically disconnected from a power source VCC and a ground GND. However, since the inverters INV1 and INV2 form a latch circuit, the potentials of these control points, namely, of memory nodes n1 and n2 are held at a level which is decided while the master reset signal MR is at an 'H' level. In such a way, the stored data of memory cells MC1 and MC2 are initialized to a logic value '0' when the power source is turned on. Thus, the stored data of the memory cells decided in advance can be initialized to the initializing data decided in advance at high speed than the conventional processing.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は半導体記憶装置に関し、特に、メモリセルの記
憶データを初期化する機能を有する半導体記憶装置に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a semiconductor memory device having a function of initializing data stored in a memory cell.

[従来の技術] 現在、RAM (ランダムアクセスメモリ)等の半導体
記憶装置は、種々の半導体集積回路に1チツプ化されて
組込まれたり、あるいは、単体としても種々の分野で用
いられている。このような半導体記憶装置は、その用途
によっては、電源投入時(使用開始時)に、実際の使用
に際してメモリアレイの記憶データパターンを予め定め
られたものに設定される(初期化される)必要がある場
合がある。そのような半導体記憶装置の一例としては、
キャッシュメモリやマツチングメモリ等がある。キャッ
シュメモリは、主記憶装置の記憶内容を転送記憶するた
めに用いられる非常に高速に動作するメモリである。ま
た、マツチングメモリは、識別子を必要とするデータフ
ロープロセッサ等の計算機システムにおいて、この識別
子を記憶し、この識別子に従って種々のデータ処理を行
なうようなメモリである。このような“データの初期化
”が必要な半導体記憶装置では、メモリアレイ内のすべ
てのメモリセルあるいは、一部のメモリセル(たとえば
キャッシュメモリの場合には、識別子が記憶されるアド
レスのメモリセル)の記憶データか、この初期化によっ
て論理値“1”にセットまたは論理値“0”にリセット
される。
[Prior Art] Currently, semiconductor memory devices such as RAM (Random Access Memory) are integrated into various semiconductor integrated circuits as a single chip, or are used as a single chip in various fields. Depending on the use of such semiconductor storage devices, the storage data pattern of the memory array may need to be set (initialized) to a predetermined value when the power is turned on (when the device starts to be used) for actual use. There may be cases. An example of such a semiconductor memory device is
There are cache memories, matching memories, etc. Cache memory is a very fast operating memory used to transfer and store the contents of main memory. Furthermore, a matching memory is a memory that stores an identifier in a computer system such as a data flow processor that requires an identifier, and performs various data processing according to this identifier. In semiconductor storage devices that require such "data initialization," all memory cells in the memory array or some memory cells (for example, in the case of cache memory, the memory cell at the address where the identifier is stored) ) is set to a logic value "1" or reset to a logic value "0" by this initialization.

第14図は、このような初期化を実行する機能を備えた
従来のSRAM(スタティックランダムアクセスメモリ
)の全体構成の一例を示す概略ブロック図である。第1
4図を参照して、このSRAMは、入力データを記憶す
るメモリセルが行および列方向にマトリクス状に配され
る、複数のブロックからなるメモリアレイ1bと、入力
データおよび出力データを受けるデータ入出力端子TD
と、メモリアレイ1a内のブロックにおけるいずれかの
行を選択するロウアドレス信号を外部から受けるロウア
ドレス入力端子Arと、メモリアレイ1b内のブロック
におけるいずれかの列を選択するコラムアドレス信号を
外部から受けるコラムアドレス入力端子Acと、メモリ
アレイ1b内のいずれかのブロックを選択するブロック
アドレス選択信号を外部から受けるブロックアドレス入
力端子Abとを含む。
FIG. 14 is a schematic block diagram showing an example of the overall configuration of a conventional SRAM (static random access memory) that has a function of performing such initialization. 1st
4, this SRAM consists of a memory array 1b consisting of a plurality of blocks in which memory cells for storing input data are arranged in a matrix in the row and column directions, and a data input array 1b for receiving input data and output data. Output terminal TD
and a row address input terminal Ar which receives from the outside a row address signal that selects any row in a block in memory array 1a, and a column address input terminal which receives from outside a row address signal that selects any column in a block in memory array 1b. The memory array 1b includes a column address input terminal Ac that receives a column address input terminal Ac, and a block address input terminal Ab that receives a block address selection signal for selecting one of the blocks in the memory array 1b from the outside.

第15図は、メモリアレイ1bの内部構成を示す回路図
である。第9図には、任意のブロックにおける1つのメ
モリセル列が代表的に示される。
FIG. 15 is a circuit diagram showing the internal configuration of memory array 1b. FIG. 9 representatively shows one memory cell column in an arbitrary block.

第15図を参照して、メモリセルMCは、対を構成する
2本のビット線BITおよびBIT間に接続される。
Referring to FIG. 15, memory cell MC is connected between two bit lines BIT forming a pair.

メモリセルMCは、逆並列に接続された2つのインバー
タINVIおよびINV2と、このインバータINV2
の入力端とビット線BITとの間に接続されるNチャン
ネルMOSトランジスタTR1および、インバータIN
VIの入力端と他方ノヒット線BITとの間に接続され
るNチャネルMO3)ランジスタTR2とを含む。トラ
ンジスタTR1およびTR2のゲートはともに同一のワ
ード線WLに接続される。ワード線WLは、第8図にお
いてロウデコーダ3に接続され、ビット線対BIT、B
ITは第8図において110回路6に接続される。
Memory cell MC includes two inverters INVI and INV2 connected in antiparallel, and this inverter INV2.
N-channel MOS transistor TR1 and inverter IN connected between the input terminal of BIT and bit line BIT
and an N-channel MO3 transistor TR2 connected between the input terminal of VI and the other no-hit line BIT. The gates of transistors TR1 and TR2 are both connected to the same word line WL. Word line WL is connected to row decoder 3 in FIG. 8, and bit line pair BIT, B
IT is connected to 110 circuit 6 in FIG.

110回路6は、メモリアレイ1bから読出されたデー
タをメモリアレイlbから出力バッファ9に伝送するた
めの経路および、メモリアレイ1bに書込まれるデータ
を入力データコントロール回路10からメモリアレイ1
bに転送するための経路を形成する。なお、前者の経路
にはメモリアレイlbから読出されたデータを増幅する
センスアンプが含まれる。
110 circuit 6 provides a path for transmitting data read from memory array 1b from memory array lb to output buffer 9, and a path for transmitting data written to memory array 1b from input data control circuit 10 to memory array 1.
Form a route for transferring to b. Note that the former path includes a sense amplifier that amplifies data read from memory array lb.

データ書込時には、ロウアドレス入力端子Arに与えら
れるロウアドレス信号はロウアドレスバッファ2によっ
て取込まれる。
During data writing, the row address signal applied to the row address input terminal Ar is taken in by the row address buffer 2.

次に、ロウデコーダ3がロウアドレスバッファ2によっ
て取込まれたロウアドレス信号をデコードして、このロ
ウアドレス信号か指示するロウアドレスに対応する1行
のメモリセルを選択的にデータ書込/読出可能状態にす
る。
Next, the row decoder 3 decodes the row address signal taken in by the row address buffer 2, and selectively writes/reads data into one row of memory cells corresponding to the row address specified by this row address signal. Make it possible.

すなわち、ロウデコーダ3が、ロウアドレス信号が指示
するメモリセル行に対応するワード線WL(第15図参
照)に“H”レベルの電圧を与える。これによって、“
H″レベルたワード線WLに接続されるすべてのメモリ
セルにおいて、トランジスタTRIおよびTR2がON
状態となり、前記すべてのメモリセルが対応するビット
線対BIT、BITに電気的に接続される。
That is, the row decoder 3 applies an "H" level voltage to the word line WL (see FIG. 15) corresponding to the memory cell row designated by the row address signal. by this,"
In all memory cells connected to word line WL at H'' level, transistors TRI and TR2 are turned on.
state, and all the memory cells are electrically connected to the corresponding bit line pair BIT, BIT.

同時に、ブロックアドレス入力端子Abに人力されるブ
ロックアドレス信号がブロックアドレスバッファ7によ
って取込まれる。次に、ブロックデコーダ8か、ブロッ
クアドレスバッファ7によって取込まれたブロックアド
レス信号をデコードして、110回路6において、取込
まれたブロックアドレス信号が指示する1つのブロック
に対応するすべてのビット線対を選択する。つまり、ブ
ロックデコーダ8はメモリアレイ1a内のブロックのう
ちから1つのブロックを選択する。
At the same time, a block address signal input to the block address input terminal Ab is taken in by the block address buffer 7. Next, the block address signal fetched by the block decoder 8 or the block address buffer 7 is decoded, and the 110 circuit 6 decodes all the bit lines corresponding to one block indicated by the fetched block address signal. Select a pair. That is, block decoder 8 selects one block from among the blocks in memory array 1a.

同様に、コラムアドレス入力端子Acに与えられるコラ
ムアドレス信号はコラムアドレスバッファ4によって取
込まれる。次に、コラムデコーダ5かコラムアドレスバ
ッファ4によって取込まれたコラムアドレス信号をデコ
ードして、ブロックデコーダ8によって選択されたブロ
ックのメモリセルのうち、このコラムアドレス信号が指
示するコラムアドレスに対応する1列のメモリセルへの
データ伝達のみを選択的に可能にする。すなわち、コラ
ムデコーダ5は、110回路6に接続される前記選択さ
れたブロックのビット線対BIT、BITのうち、コラ
ムアドレス信号が指示する列に対応するビット線対のみ
を、110回路6において選択的に入力データコントロ
ール回路10に電気的に接続する。つまり、コラムデコ
ーダ5は、メモリアレイ1b内のビット線対のうちから
1対を選択する。
Similarly, a column address signal applied to column address input terminal Ac is taken in by column address buffer 4. Next, the column address signal taken in by the column decoder 5 or the column address buffer 4 is decoded, and among the memory cells of the block selected by the block decoder 8, the column address corresponding to the column address indicated by this column address signal is assigned. Selectively enables data transmission to only one column of memory cells. That is, the column decoder 5 selects, in the 110 circuit 6, only the bit line pair corresponding to the column indicated by the column address signal among the bit line pairs BIT, BIT of the selected block connected to the 110 circuit 6. electrically connected to the input data control circuit 10. That is, column decoder 5 selects one of the bit line pairs in memory array 1b.

一方、データ書込時には、入力バッファ11が、データ
入出力端子T。に与えられたデータの各ビットの信号を
、取込み入力データコントロール回路10に入力する。
On the other hand, when writing data, the input buffer 11 is connected to the data input/output terminal T. The signals of each bit of data given to the input data control circuit 10 are input to the input data control circuit 10.

入力データコントール回路10は、“初期化”のための
データ書込時ではない通常のデータ書込時においては、
入力バッファ11から与えられるデータを110回路6
に与える。
The input data control circuit 10 performs the following operations during normal data writing, not during data writing for "initialization".
The data given from the input buffer 11 is transferred to the 110 circuit 6.
give to

しかし、前述したように、110回路6においては入力
データコントロール回路10に、コラムデコーダ5によ
って選択されたメモリセル列に対応するビット線対のみ
が電気的に接続される。したかって、110回路6は、
入力データコントロール回路10から与えられたデータ
を相補的なレベルの電圧信号として、第15図のビット
線対BIT、BITに各々与える。具体的には、メモリ
アレイ1bにおいて、ロウデコーダ3によって“H”レ
ベルの電位を付与された1本のワード線(選択されたワ
ード線)WLにゲートを接続されるすべてのトランジス
タTRIおよびTR2がON状態となる。一方、110
回路6は、入力データコントロール回路10から与えら
れるデータに対応する論理値の電位およびその反転電位
を、コラムデコーダ5によって選択されたビット線対を
構成する2本のビット線BITおよびBITに各々与え
る。このため、第15図を参照して、コラムデコーダ5
によって選択された列と、ロウデコーダ3によって選択
された行の交点に配されるメモリセルにおいて、対応す
るビット線の一方BITに与えられた電位がトランジス
タTR2を介してインバータINVIに入力される。イ
ンバータINV1はこの電位を反転してインバータIN
V2に出力する。一方、インバータINV2には、他方
のビット線BITからトランジスタTRIを介して、イ
ンバータINVIの入力電位とは逆レベルの電位が付与
される。したがって、このメモリセルにおいて、インバ
ータINVIおよびINV2の接続点は、ビット線BI
Tに与えられた、入力データとは逆の論理値に対応する
電位および、ビ・ソト線BITに与えられた入力データ
に対応する電位に確定される。つまり、入力データがこ
のメモリセルに書込まれる。その後、ロウデコーダ3は
このメモリセルに対応するワード線WLの電位を“L”
に立下げる。これによって、このメモリセルを含む、選
択されたワード線WLに接続されるすべてのメモリセル
において、トランジスタTR1およびTR2がOFF状
態となる。しかし、インバータINVIの出力およびI
NV2の出力は各々、互いの入力にフィードバックされ
るため、インバータINVIおよびINV2の接続点の
電位は、データ書込時のレベルに保持される。つまり、
このメモリセルに書込データが記憶される。
However, as described above, in the 110 circuit 6, only the bit line pair corresponding to the memory cell column selected by the column decoder 5 is electrically connected to the input data control circuit 10. Therefore, 110 circuit 6 is
Data applied from the input data control circuit 10 is applied as complementary level voltage signals to the bit line pair BIT, BIT in FIG. 15, respectively. Specifically, in the memory array 1b, all the transistors TRI and TR2 whose gates are connected to one word line (selected word line) WL to which an "H" level potential is applied by the row decoder 3 It becomes ON state. On the other hand, 110
The circuit 6 applies a logic value potential corresponding to the data given from the input data control circuit 10 and its inverted potential to two bit lines BIT and BIT constituting the bit line pair selected by the column decoder 5. . For this reason, referring to FIG. 15, the column decoder 5
In the memory cell arranged at the intersection of the column selected by and the row selected by the row decoder 3, the potential applied to one of the corresponding bit lines BIT is input to the inverter INVI via the transistor TR2. Inverter INV1 inverts this potential and inverts IN
Output to V2. On the other hand, a potential at a level opposite to the input potential of the inverter INVI is applied to the inverter INV2 from the other bit line BIT via the transistor TRI. Therefore, in this memory cell, the connection point between inverters INVI and INV2 is connected to bit line BI
A potential corresponding to a logical value opposite to the input data applied to T and a potential corresponding to input data applied to the bi-soto line BIT are determined. That is, input data is written into this memory cell. After that, the row decoder 3 sets the potential of the word line WL corresponding to this memory cell to "L".
lower it. As a result, transistors TR1 and TR2 are turned off in all memory cells connected to the selected word line WL, including this memory cell. However, the output of inverter INVI and I
Since the outputs of NV2 are fed back to each other's inputs, the potential at the connection point of inverters INVI and INV2 is held at the level at the time of data writing. In other words,
Write data is stored in this memory cell.

以下、インバータINVIおよびINV2の接続点のよ
うに、データに応じた電位か保持されるノードを記憶ノ
ードと呼ぶ。
Hereinafter, a node where a potential corresponding to data is held, such as the connection point between inverters INVI and INV2, will be referred to as a storage node.

このようにして、メモリアレイ1b内のブロックのうち
ブロックアドレス信号が指示するブロックにおいて、コ
ラムアドレス信号によって指示された列とロウアドレス
信号によって指示された行との交点に配されたメモリセ
ルにデータ入出力端子T。から入力されたデータが書込
まれ記憶される。
In this way, in the block specified by the block address signal among the blocks in memory array 1b, data is stored in the memory cell arranged at the intersection of the column specified by the column address signal and the row specified by the row address signal. Input/output terminal T. The data input from is written and stored.

第16図は第14図におけるメモリアレイ1bに含まれ
るメモリセルの各々の構成をさらに詳細に示す回路図で
ある。第16図を参照して、第15図に示されるメモリ
セルを含む、メモリアレイ1b内のメモリセルMCの各
々は、前述のトランジスタTRIおよびTR2と、2つ
のPチャネルMOSトランジスタ210および220な
らびに2つのNチャネルMOSトランジスタ230およ
び240とを含む。トランジスタ210および230は
、電源Vccと接地GNDとの間に直列に接続されて、
インバータINVIを構成する。トランジスタ210お
よび230の接続点n1がこのインバータINVIの出
力端である。一方、トランジスタ220および240も
電源■。0と接地GNDとの間に直列に接続されてイン
バータINV2を構成する。トランジスタ220および
240の接続点n2がこのインバータINV2の出力端
である。トランジスタ210のゲートとトランジスタ2
30のゲートとは互いに接続される。
FIG. 16 is a circuit diagram showing in more detail the structure of each memory cell included in memory array 1b in FIG. 14. Referring to FIG. 16, each memory cell MC in memory array 1b including the memory cell shown in FIG. N-channel MOS transistors 230 and 240. Transistors 210 and 230 are connected in series between power supply Vcc and ground GND,
Configure inverter INVI. A connection point n1 between transistors 210 and 230 is the output terminal of this inverter INVI. On the other hand, transistors 220 and 240 are also connected to the power source ■. 0 and the ground GND to constitute an inverter INV2. A connection point n2 between transistors 220 and 240 is the output terminal of this inverter INV2. Gate of transistor 210 and transistor 2
The 30 gates are connected to each other.

トランジスタ210および230のゲート接続点はイン
バータINVIの入力端としてインバータINV2の出
、刃端n2に接続される。一方、トランジスタ220の
ゲートとトランジスタ240ゲートとも互いに接続され
る。トランジスタ220および240のゲート接続点は
インバータINV2の入力端としてインバータINVI
の出力端n1に接続される。
The gate connection point of transistors 210 and 230 is connected to the output edge n2 of inverter INV2 as the input end of inverter INVI. Meanwhile, the gate of transistor 220 and the gate of transistor 240 are also connected to each other. The gate connection point of transistors 220 and 240 is connected to inverter INVI as the input terminal of inverter INV2.
is connected to the output terminal n1 of.

データ続出時には、ロウアドレスバッファ2およびロウ
デコーダ3と、コラムアドレスバッファ4およびコラム
デコーダ5と、ブロックアドレスバッファ7およびブロ
ックデコーダ8とがデータ書込時と同様に動作して、メ
モリアレイ1b内のメモリセルのうち、ブロックアドレ
ス信号、コラムアドレス信号およびロウアドレス信号に
よって選択されたメモリセルのみがデータ書込/読出可
能状態となる。
When data continues to be written, row address buffer 2 and row decoder 3, column address buffer 4 and column decoder 5, and block address buffer 7 and block decoder 8 operate in the same way as when writing data. Among the memory cells, only the memory cells selected by the block address signal, column address signal, and row address signal become data writeable/readable.

つまり、第15図を参照して、ブロックデコーダ8によ
って選択されたブロックにおいて、ロウデコーダ3によ
って“H”レベルの電位を付与されたワード線WLに対
応し、かつ、コラムデコーダ5によって選択されたビッ
ト線対に対応する1つのメモリセルにおいて、トランジ
スタTRIおよびTR2がON状態となるとともに、対
応するビット線対BIT、BITが110回路6を介し
て出力バッファ9に電気的に接続される。トランジスタ
TRIおよびTR2がON状態となることによって、記
憶ノードであるインバータINVIおよびINV2の接
続点の電位によって、前記対応するビット線対BIT、
BITの電位が変化する。つまり、選択されたメモリセ
ルの記憶データが対応するビット線対に読出される。こ
のビット線対BIT、BITの電位変化は、■/○70
回路6ンスアンプによって感知・増幅されて、前記記憶
データに対応する電位に変換された後、出力バッファ9
に与えられる。出力バッファ9は、この記憶データに対
応する電位をデータ入出力端子TDに読出データとして
導出する。
That is, with reference to FIG. In one memory cell corresponding to the bit line pair, transistors TRI and TR2 are turned on, and the corresponding bit line pair BIT, BIT is electrically connected to the output buffer 9 via the 110 circuit 6. When the transistors TRI and TR2 are turned on, the corresponding bit line pair BIT,
The potential of BIT changes. That is, the data stored in the selected memory cell is read to the corresponding bit line pair. The potential change of this bit line pair BIT, BIT is ■/○70
After being sensed and amplified by the circuit 6 amplifier and converted to a potential corresponding to the stored data, the output buffer 9
given to. Output buffer 9 derives the potential corresponding to this stored data to data input/output terminal TD as read data.

実際には、データ書込時およびデータ読出時にこのSR
AMが前述のように動作するよう、ロウアドレスバッフ
ァ2.コラムアドレスバッファ4゜ブロックアドレスバ
ッファ7、出力バッファ9゜および入カッFツファ11
の動作タイミングがチップおよび入出力制御回路13に
よって制御される。
In reality, this SR is used when writing and reading data.
In order for the AM to operate as described above, the row address buffer 2. Column address buffer 4°, block address buffer 7, output buffer 9° and input buffer 11
The operation timing of the chip is controlled by the chip and input/output control circuit 13.

この制御回路13は、チップイネーブル端子CEに外部
より与えられるチップイネーブル信号。
This control circuit 13 receives a chip enable signal externally applied to a chip enable terminal CE.

書込イネーブル端子WEに外部より与えられる書込イネ
ーブル信号、および出力イネーブル端子OEに外部より
与えられる出力イネーブル信号に基づいてこの制御を行
なう。チップイネーブル信号は、このSRAMが搭載さ
れた装置において現在どのチップが動作すべきかを選択
するものであり、このSRAMチップが動作すべきとき
には、このチップセレクト信号が“L”レベルとなる。
This control is performed based on a write enable signal externally applied to write enable terminal WE and an output enable signal externally applied to output enable terminal OE. The chip enable signal selects which chip should currently operate in a device equipped with this SRAM, and when this SRAM chip should operate, this chip select signal goes to "L" level.

書込イネーブル信号は、このメモリが現在データ書込モ
ードにあるかべき否かを示すものであり、データ書込モ
ードにあるべきときには、“L”レベルとなる。出力イ
ネーブル信号は、現在このメモリから読出データが出力
されるべきか否かを示すものであり、読出データが出力
されるべきときには“L″ レベルとなる。
The write enable signal indicates whether or not this memory should currently be in the data write mode, and goes to the "L" level when it should be in the data write mode. The output enable signal indicates whether or not read data is currently to be output from this memory, and becomes "L" level when read data is to be output.

チップイネーブル信号が“L”レベルである、このSR
AMチップが動作すべき期間には、制御回路13はロウ
アドレスバッファ2.コラムアドレスバッファ4.ブロ
ックアドレスバッファ7の動作を能動化する。また、書
込イネーブル信号が“L”レベルである、このメモリに
データ書込みが行なわれるべき期間には、制御回路↓3
は入出力端子TDに与えられたデータがSRAM内に取
込まれるように、入力バッファ11の動作を能動化する
。また、出力イネーブル信号が“L”レベルにあり、読
出データが出力されるべき期間には、制御回路13はメ
モリアレイ1bからの続出データが外部に出力されるよ
うに、出力バッファ9の動作を能動化する。
This SR whose chip enable signal is at “L” level
During the period when the AM chip is to operate, the control circuit 13 uses the row address buffers 2. Column address buffer 4. Activate the operation of block address buffer 7. In addition, during the period when the write enable signal is at the “L” level and data is to be written to this memory, the control circuit ↓3
activates the operation of the input buffer 11 so that the data applied to the input/output terminal TD is taken into the SRAM. Furthermore, during a period when the output enable signal is at the "L" level and read data is to be output, the control circuit 13 controls the operation of the output buffer 9 so that successive data from the memory array 1b is output to the outside. Activate.

以上のこのSRAMの動作は、初期化機能を有さない通
常のSRAMの場合と同様である。
The above-described operation of this SRAM is similar to that of a normal SRAM that does not have an initialization function.

しかし、このSRAMでは、上述のような通常のSRA
Mに備えられる機能部に加えて、初期化データコントロ
ール回路12.クロック生成回路14、および初期化ア
ドレス生成回路15が付加される。
However, in this SRAM, the normal SRAM as mentioned above
In addition to the functional units provided in M, an initialization data control circuit 12. A clock generation circuit 14 and an initialization address generation circuit 15 are added.

初期化アドレス生成回路15は、予め定められた初期化
すべきメモリセルのアドレスに対応するブロックアドレ
ス、ロウアドレス、およびコラムアドレスを各々示すブ
ロックアドレス信号、ロウアドレス信号、およびコラム
アドレス信号を生成して、これらを各々ブロックデコー
ダ8.コラムデコーダ5.およびロウデコーダ3に与え
る。
The initialization address generation circuit 15 generates a block address signal, a row address signal, and a column address signal each indicating a block address, a row address, and a column address corresponding to a predetermined address of a memory cell to be initialized. , these are each processed by a block decoder 8. Column decoder5. and is given to the row decoder 3.

初期化データコントロール回路12は、前記初期化すべ
きメモリセルに、初期時に与えるべき予め定められたデ
ータ(初期化データ)を作成して入力データコントロー
ル回路10に与える。
The initialization data control circuit 12 creates predetermined data (initialization data) to be given to the memory cell to be initialized at the time of initialization, and supplies it to the input data control circuit 10.

クロック生成回路14は、初期化信号入力端子T1に外
部から与えられる初期化のための制御信号(初期化信号
)に基づいて、初期化アドレス生成回路15における、
ブロックアドレス信号、ロウアドレス信号、およびコラ
ムアドレス信号の発生のためのクロック信号および、初
期化データコントロール回路工2における、初期化デー
タの発生のためのクロック信号を生成する。
The clock generation circuit 14 performs the following operations in the initialization address generation circuit 15 based on an initialization control signal (initialization signal) externally applied to the initialization signal input terminal T1.
A clock signal for generating a block address signal, a row address signal, a column address signal, and a clock signal for generating initialization data in the initialization data control circuit 2 are generated.

電源投入時には、初期化信号入力端子T、に初期化信号
が付与される。この初期化信号に応答して、クロック生
成回路14が前述のクロ・yり信号を生成する。次に、
このクロック信号に基づいて初期化データコントロール
回路12および初期化アドレス生成回路15が前述のよ
うに動作する。
When the power is turned on, an initialization signal is applied to the initialization signal input terminal T. In response to this initialization signal, the clock generation circuit 14 generates the aforementioned black/y signal. next,
Based on this clock signal, initialization data control circuit 12 and initialization address generation circuit 15 operate as described above.

このような初期化時には、外部からの入力データを取込
む入力バッファ11はまだ制御回路13によって不能化
されており、通常の書込データは入力データコントロー
ル回路10に入力されず、入力データコントロール回路
10は初期化データコントロール回路12から与えられ
るデータを書込データとして110回路6に与える。同
様に、このときロウアドレスバッファ2.コラムアドレ
スバッファ4.およびブロックアドレスバッファ7はま
だ制御回路13によって不能化されており、ロウデコー
ダ3.コラムデコーダ5.およびブロックデコーダ8に
は外部から入力されるアドレス信号は与えられない。し
たがって初期化時にはロウデコーダ3.コラムデコーダ
5.およびブロワ、クデコーダ8は各々初期化アドレス
生成回路15から与えられるロウアドレス信号、コラム
アドレス信号、およびブロックアドレス信号のみを受け
てこれをデコードする。したがって、この場合には、メ
モリアレイ1bにおいて、初期化されるべきメモリセル
が1アドレスずつ順次選択されて、初期化データコント
ロール回路12によって生成された初期化データを書込
まれる。
At the time of such initialization, the input buffer 11 that receives input data from the outside is still disabled by the control circuit 13, and normal write data is not input to the input data control circuit 10. 10 supplies data given from the initialization data control circuit 12 to the 110 circuit 6 as write data. Similarly, at this time, row address buffer 2. Column address buffer 4. and block address buffer 7 are still disabled by control circuit 13, and row decoder 3 . Column decoder5. Also, the block decoder 8 is not given an address signal input from the outside. Therefore, at initialization, row decoder 3. Column decoder5. The blower and block decoder 8 each receive only the row address signal, column address signal, and block address signal provided from the initialization address generation circuit 15, and decode them. Therefore, in this case, memory cells to be initialized in memory array 1b are sequentially selected one address at a time, and initialization data generated by initialization data control circuit 12 is written into them.

なお、初期化データコントロール回路12および初期化
アドレス生成回路15には直接必要なりロックが入力さ
れてもよい。
Note that the lock may be directly input to the initialization data control circuit 12 and the initialization address generation circuit 15 if necessary.

このように、この半導体記憶装置では、電源投入時に、
装置内部に特別に設けられた初期化のための回路によっ
て、すなわち、ハード的に所定のメモリセルの記憶デー
タが初期化される。初期化データコントロール回路12
.クロック生成回路14、および初期化アドレス生成回
路15の初期化のための回路は、予めこの半導体記憶装
置に組込まれるものである。このため、初期化のために
生成されるアドレス信号は、単一である。したがって、
初期化のたびに、異なるアドレスのメモリセルを初期化
したり、異なるデータを初期化データとすることはでき
ない。そこで、一般には、このような不規則な初期化を
行なう場合には、ノ\−ド的な初期化ではなくソフト的
な初期化が行なわれる。
In this way, in this semiconductor memory device, when the power is turned on,
The data stored in a predetermined memory cell is initialized by a specially provided initialization circuit inside the device, that is, by hardware. Initialization data control circuit 12
.. A circuit for initializing the clock generation circuit 14 and the initialization address generation circuit 15 is built into this semiconductor memory device in advance. Therefore, only one address signal is generated for initialization. therefore,
It is not possible to initialize memory cells at different addresses or to use different data as initialization data each time the initialization is performed. Therefore, in general, when performing such irregular initialization, software initialization is performed instead of node initialization.

ソフト的な初期化とは、たとえば半導体記憶装置を用い
て構成しているシステムにおいてプログラム等のソフト
により初期化を実行することである。具体的には、アド
レスやデータを発生させる初期化のためのプログラムを
システムに与えておき、このプログラムをシステムが実
行することにより、システム自身が初期化すべきアドレ
スおよび初期化データを半導体記憶装置外部で発生して
半導体記憶装置に与える。そして、半導体記憶装置が通
常のデータ書込時と同様に動作して、前記発生されたア
ドレスに前記発生されたデータを書込んでいく。このよ
うな初期化では、半導体記憶装置内部に先に示したよう
な初期化のための回路は一切必要でない。つまり、半導
体記憶装置は、初期化のためのデータ書込みおよび通常
のデータ書込みのいずれに際しても、与えられたアドレ
スに対して与えられたデータを書込むという動作を区別
なく実行する。もちろん、この場合には、システムに、
半導体記憶装置を書込モードにするためのモード設定命
令や、半導体記憶装置に適宜与えるべき書込アドレスお
よび書込データをプログラム等に記述する必要がある。
Software initialization is, for example, initialization performed by software such as a program in a system configured using a semiconductor memory device. Specifically, an initialization program that generates addresses and data is given to the system, and when the system executes this program, the addresses and initialization data that the system itself should initialize are transferred externally to the semiconductor storage device. is generated and applied to the semiconductor memory device. Then, the semiconductor memory device operates in the same manner as when writing normal data, and writes the generated data to the generated address. Such initialization does not require any initialization circuit as described above inside the semiconductor memory device. In other words, the semiconductor memory device performs the operation of writing given data to a given address without distinction in both data writing for initialization and normal data writing. Of course, in this case, the system
It is necessary to write a mode setting command for setting the semiconductor memory device in a write mode, a write address and write data to be appropriately given to the semiconductor memory device in a program or the like.

さて、ハード的な初期化を行なう場合、初期化すべきデ
ータビットがアドレスにかかわらず固定されており、か
つ、記憶データを初期化すべきメモリセルのアドレスが
、たとえばメモリアレイにおける全アドレス、全偶数ア
ドレス、全奇数アドレス、0番地から所定の番地までの
連続したアドレス等の規則的なものであり、書込むべき
初期化データもアドレスごとに同一であるなど規則的で
ある場合には、第14図における初期化データコントロ
ール回路12.クロック生成回路14.オよび初期化ア
ドレス生成回路15は比較的単純な構成の回路で実現す
ることができる。しかし、初期化されるデータビット、
初期化されるべきアドレス、書込まれるべき初期化デー
タ等が不規則なものである場合には、これら初期化のた
めの回路は複雑なものとなる。たとえば、初期化アドレ
ス生成回路15は、一般に、クロック生成回路14から
のクロックをカウントすることによってアドレス信号を
生成する回路であり、このカウントを行なうためのカウ
ンタを含む。生成すべきアドレスが不規則であると、こ
のカウンタの計数動作に対して複雑な制御を行なう必要
がある。このため、初期化すべきアドレスが複雑となる
と初期化アドレス生成回路15の構成は複雑なものとな
る。したがって、複雑な初期化を実行するには、初期化
のための回路が膨大となり、これらを半導体記憶装置内
部に設け、ることが不可能となる場合がある。
Now, when performing hardware initialization, the data bits to be initialized are fixed regardless of the address, and the addresses of the memory cells whose stored data should be initialized are, for example, all addresses in the memory array, all even addresses, etc. , all odd-numbered addresses, consecutive addresses from address 0 to a predetermined address, etc., and if the initialization data to be written is also regular such as the same for each address, then Initialization data control circuit 12. Clock generation circuit 14. The initialization address generation circuit 15 can be realized by a circuit with a relatively simple configuration. But the data bits that are initialized,
If the address to be initialized, the initialization data to be written, etc. are irregular, the circuit for these initializations will be complicated. For example, the initialization address generation circuit 15 is generally a circuit that generates an address signal by counting clocks from the clock generation circuit 14, and includes a counter for performing this counting. If the addresses to be generated are irregular, it is necessary to perform complex control over the counting operation of this counter. Therefore, if the address to be initialized becomes complex, the configuration of the initialization address generation circuit 15 becomes complicated. Therefore, in order to perform complicated initialization, the number of circuits for initialization becomes enormous, and it may be impossible to provide these circuits inside the semiconductor memory device.

このため、そのような場合にはこれらの回路部を半導体
記憶装置とは別に特別に構成する必要が生じる。そこで
、複雑な初期化は一般には前述のソフト的な初期化によ
って実行される。
Therefore, in such a case, it becomes necessary to specially configure these circuit sections separately from the semiconductor memory device. Therefore, complex initialization is generally performed by the aforementioned software initialization.

[発明が解決しようとする課題] 以上のように、従来、半導体記憶装置の記憶データを初
期化する方法にはハード的に実行する方法とソフト的に
実行する方法とがあった。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, conventional methods for initializing data stored in a semiconductor memory device include a hardware-based method and a software-based method.

前者の方法が用いられる場合、初期化に要する時間は半
導体記憶装置内部に設けられた初期化のための回路(第
14図における初期化データコントロール回路12.ク
ロック生成回路14.および初期化アドレス生成回路1
5)によるアドレスおよびデータの生成時間および、生
成されたすべてのアドレスに生成されたデータがすべて
書込まれるのに要する時間に依存する。後者の方法が用
いられる場合、初期化に要する時間は、その半導体記憶
装置が搭載されたシステムが初期化のためのプログラム
を実行するのに要する時間に依存する。しかしながら、
このいずれの場合にも、初期化データの書込みは、半導
体記憶装置の通常の書込動作によって行なわれる。
When the former method is used, the time required for initialization depends on the initialization circuits provided inside the semiconductor memory device (initialization data control circuit 12, clock generation circuit 14, and initialization address generation circuit in FIG. 14). circuit 1
5) depends on the generation time of addresses and data and the time required for all generated data to be written to all generated addresses. When the latter method is used, the time required for initialization depends on the time required for a system equipped with the semiconductor memory device to execute a program for initialization. however,
In either case, the initialization data is written by a normal write operation of the semiconductor memory device.

SRAM等の半導体記憶装置では、データ書込時には前
述のように、データ書込みが行なわれるべきアドレスが
1つずつ順次選択され、この選択されたアドレスに、対
応する入力データが書込まれる。したがって、複数のア
ドレスに同時にデータを書込むことができない。このた
め、初期化すべきメモリセルの数が増加するほど、スナ
ワチ、初期化すべきアドレスおよびデータビットの数が
増加するほど、初期化データの書込みに要する時間が増
大する。したがって、初期化に要する時間が増大する。
In a semiconductor memory device such as an SRAM, when writing data, addresses to which data is to be written are sequentially selected one by one as described above, and corresponding input data is written to the selected addresses. Therefore, data cannot be written to multiple addresses simultaneously. Therefore, as the number of memory cells to be initialized increases, and as the number of addresses and data bits to be initialized increases, the time required to write initialization data increases. Therefore, the time required for initialization increases.

近年、半導体記憶装置は大容量化が進んでおり、これに
伴い初期化すべきメモリセルの数も増大しつつある。し
たがって、このような従来の初期化方法によれば、初期
化時間が長くなり結果的に半導体記憶装置の動作速度、
ひいてはこれが搭載されたシステムの動作速度が劣化す
るという問題が生じる。
In recent years, the capacity of semiconductor memory devices has been increasing, and the number of memory cells to be initialized is also increasing. Therefore, according to such a conventional initialization method, the initialization time becomes longer, and as a result, the operating speed of the semiconductor memory device decreases.
As a result, a problem arises in that the operating speed of the system in which this is installed deteriorates.

また、前述したように半導体記憶装置の記憶データをハ
ード的に初期化する場合には、複雑な初期化を実行しよ
うとすると、多大な付加回路が必要となるという問題が
ある。このような付加回路の増大はそれによる消費電力
の増大、チップ面積の増大などを生じさせ、半導体集積
回路装置の低消費電力化および微小化という観点から好
ましくない。このような複雑な初期化をソフト的に行な
う場合には、そのためのプログラムが複雑なものとなる
ため、プログラムサイズの増大によってその実行時間も
増大する。この結果初期化時間も長くなる。
Further, as described above, when data stored in a semiconductor memory device is initialized using hardware, there is a problem in that a large amount of additional circuitry is required if complicated initialization is to be performed. Such an increase in the number of additional circuits causes an increase in power consumption, an increase in chip area, etc., which is undesirable from the viewpoint of reducing power consumption and miniaturization of semiconductor integrated circuit devices. If such complicated initialization is performed using software, the program for this will be complicated, and as the program size increases, the execution time will also increase. As a result, initialization time also increases.

それゆえに本発明の目的は、上記のような問題点を解決
し、初期化すべきアドレスや初期化データ等が不規則な
場合でも、初期化のための付加回路を著しく増大させる
ことなく、所定のメモリセルを所定のデータに高速にか
つ正確に初期化することができる半導体記憶装置を提供
することである。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and even when the address to be initialized, the initialization data, etc. are irregular, the predetermined initialization can be performed without significantly increasing the number of additional circuits for initialization. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can quickly and accurately initialize memory cells to predetermined data.

[課題を解決するための手段] 上記のような目的を達成するために本発明に係る半導体
記憶装置は、記憶データの初期化が可能であり、各々が
、記憶データに対応する電位に保持されるべき記憶ノー
ドを有する複数のメモリセルと、予め定められる初期化
データに対応して複数のメモリセルのうちの所定のメモ
リセルの各々に設けられて、所定のメモリセルの記憶ノ
ードを初期化データに対応する電位に強制する電位強制
手段と、電源投入に応答して電位強制手段をすべて能動
化する手段とを備える。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned objects, a semiconductor memory device according to the present invention is capable of initializing stored data, and each memory data is held at a potential corresponding to the stored data. a plurality of memory cells each having a storage node to be set, and a predetermined memory cell of the plurality of memory cells corresponding to predetermined initialization data to initialize the storage node of the predetermined memory cell. The device includes potential forcing means for forcing a potential corresponding to data, and means for activating all of the potential forcing means in response to power-on.

[作用] 本発明に係る半導体記憶装置は上記のように構成される
ため、この半導体記憶装置に電源が投入されると、所定
のメモリセルの各々の記憶ノートが一斉に、対応する電
位強制手段によって初期化データに対応する電位に強制
される。つまり、所定のメモリセルの記憶データが電源
投入に応答して同時に初期化される。
[Operation] Since the semiconductor memory device according to the present invention is configured as described above, when power is applied to the semiconductor memory device, each memory note of a predetermined memory cell is simultaneously activated by the corresponding potential forcing means. is forced to the potential corresponding to the initialization data. That is, the data stored in a predetermined memory cell is initialized simultaneously in response to power-on.

[実施例] 第1図は本発明の一実施例のSRAMにおけるメモリア
レイの部分回路図であり、第7図は本実施例のSRAM
の全体構成を示す概略ブロック図である。このSRAM
では、初期化されるべきメモリセルおよび初期化時にこ
れらに書込まれるべき初期化データは、初期化のたびに
異なるものではなく、予め定められたものに固定されて
いるものとする。
[Embodiment] FIG. 1 is a partial circuit diagram of a memory array in an SRAM according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a partial circuit diagram of an SRAM according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic block diagram showing the overall configuration of FIG. This SRAM
Now, it is assumed that the memory cells to be initialized and the initialization data to be written into them at the time of initialization do not differ each time the initialization is performed, but are fixed to predetermined values.

第12図を参照して、このSRAMの全体構成は、従来
の一般的なSRAMと同様の構成、すなわち、第14図
に示されるSRAMから、ハード的な初期化を行なうた
めの回路部(初期化データコントロール回路12.クロ
ック生成回路14゜および初期化アドレス生成回路15
)が除去された構成を有する。第12図に示される機能
ブロックの動作は「従来の技術」において説明されたと
おりである。
Referring to FIG. 12, the overall configuration of this SRAM is similar to that of a conventional general SRAM, that is, from the SRAM shown in FIG. initialization data control circuit 12, clock generation circuit 14° and initialization address generation circuit 15
) is removed. The operation of the functional blocks shown in FIG. 12 is as explained in "Prior Art".

しかしながら、このSRAMでは、従来と異なり、この
SRAMまたは、このSRAMが搭載されたシステムに
対して、SRAMの記憶データの初期化とは別のリセッ
ト(ハードリセット)を行なうためのリセット信号(以
下、マスクリセット信号と呼ぶ。)MRがメモリアレイ
1aに入力される。マスクリセット信号MRは、電源投
入に応答してシステム内部やSRAM内部で発生される
、あるいは外部から入力されるワンショットパルスであ
る。このワンショットパルスは、システム内の回路の所
定の部分の電位を使用開始に際しであるべき所定の電位
に強制する。本実施例では、このマスタリセット信号M
Rは、SRAM内部において発生されるものとする。
However, unlike conventional SRAMs, this SRAM uses a reset signal (hereinafter referred to as "hard reset") to perform a reset (hard reset) for this SRAM or a system in which this SRAM is installed, in addition to initializing the data stored in the SRAM. (referred to as a mask reset signal) MR is input to the memory array 1a. The mask reset signal MR is a one-shot pulse that is generated inside the system or SRAM in response to power-on, or is input from the outside. This one-shot pulse forces the potential of a predetermined portion of the circuitry within the system to the predetermined potential it should be upon start-up. In this embodiment, this master reset signal M
It is assumed that R is generated inside the SRAM.

第12図において、リセット信号発生回路16は、たと
えば、内部リセットのためのいわゆるパワー・オン・リ
セット信号を作成する、従来より多くの半導体記憶装置
に設けられている回路である。リセット信号発生回路1
6は電源V。0に接続され、この電源V。0の電位の立
上がりに応答して所定の短期間“H” レベルの信号を
マスクリセット信号MRとして発生する。
In FIG. 12, a reset signal generation circuit 16 is, for example, a circuit provided in many conventional semiconductor memory devices that generates a so-called power-on reset signal for internal reset. Reset signal generation circuit 1
6 is the power supply V. 0 and this power supply V. In response to the rise of the 0 potential, a signal at the "H" level for a predetermined short period of time is generated as the mask reset signal MR.

第13図は、マスクリセット信号MRおよびその反転信
号MRの波形を示す図である。マスクリセット信号MR
は、第13図(a)に示されるように、電源投入に応答
して“H”レベルに立上った後、一定期間後にL”レベ
ルに立下がり、以後“L”レベルに保持される。したが
って、このマスクリセット信号MRの反転信号MRは、
第13図(b)に示されるように、電源投入に応答して
“L”レベルに立下がった後、前記一定期間後に“H”
 レベルに立上る。そして、以後この反転信号M Rは
“H”レベルに保持される。
FIG. 13 is a diagram showing the waveforms of the mask reset signal MR and its inverted signal MR. Mask reset signal MR
As shown in FIG. 13(a), after rising to the "H" level in response to power-on, it falls to the "L" level after a certain period of time, and thereafter remains at the "L" level. Therefore, the inverted signal MR of this mask reset signal MR is:
As shown in FIG. 13(b), after falling to "L" level in response to power-on, it goes to "H" level after the certain period of time.
rise to the level. Thereafter, this inverted signal MR is held at the "H" level.

次に、メモリアレイ1aの内部構成について構成する。Next, the internal configuration of memory array 1a will be described.

第1図には、このメモリアレイ1aの内部構成が、1つ
のメモリセル列について代表的に示される。
FIG. 1 typically shows the internal configuration of this memory array 1a for one memory cell column.

第1図を参照して、このSRAMにおいても従来と同様
に、1列のメモリセルは同じビット線対を構成する2本
のビット線BITおよびBIT間に接続される。また、
各行のメモリセルは対応する]−本のワード線WLに接
続される。
Referring to FIG. 1, in this SRAM as well, one column of memory cells is connected between two bit lines BIT forming the same bit line pair. Also,
The memory cells in each row are connected to corresponding word lines WL.

しかし、記憶データを論理値“0”に初期化されるべき
メモリセルMCIおよびMC2の各々は、従来と異なり
、書込まれたデータを保持するためのラッチ回路を構成
する2つのインバータINVlおよびINV2ならびに
、対応するビット線対に記憶データを読出し、かつ、前
記対応するビット線対に与えられたデータを前記ラッチ
回路に伝達するためのトランスファゲートであるNチャ
ネルMOSトランジスタTRIおよびTR2に加えて、
初期化のためのNチャネルMO8)ランジスタ(以下、
初期化トランジスタと呼ぶ。)TR3およびTR4を含
む。
However, each of the memory cells MCI and MC2 whose stored data is to be initialized to a logical value "0" has two inverters INVl and INV2 forming a latch circuit for holding the written data, unlike the conventional case. In addition to N-channel MOS transistors TRI and TR2, which are transfer gates for reading stored data onto the corresponding bit line pair and transmitting data applied to the corresponding bit line pair to the latch circuit,
N-channel MO8) transistor for initialization (hereinafter referred to as
It is called an initialization transistor. ) including TR3 and TR4.

前記トランジスタTR3は、前記ラッチ回路を構成する
一方のインバータINV2の入力端と電源■。0との間
に設けられ、前記トランジスタTR4は他方のインバー
タINVIの入力端と接地GNDとの間に設けられる。
The transistor TR3 is connected to the input terminal of one of the inverters INV2 constituting the latch circuit and the power supply (2). 0, and the transistor TR4 is provided between the input terminal of the other inverter INVI and the ground GND.

このトランジスタTR3およびTR4のゲートには前述
のマスタリセット信号MRか第7図におけるリセット信
号発生回路16から入力される。マスクリセット信号M
RがトランジスタTR3およびTR4のゲートに付与さ
れると、メモリセルMCIおよびMC2の各々において
トランジスタTR3およびTR4がON状態となる。ト
ランジスタTR4およびTR3か導通ずることにより、
接地GNDの低電位によってインバータINVIの入力
端に電圧降下が生じ、かつ、電源Vcoの高電位によっ
てインバータINV2の入力端に電圧上昇が各々生じる
The aforementioned master reset signal MR is inputted to the gates of these transistors TR3 and TR4 from the reset signal generation circuit 16 shown in FIG. Mask reset signal M
When R is applied to the gates of transistors TR3 and TR4, transistors TR3 and TR4 are turned on in each of memory cells MCI and MC2. By making transistors TR4 and TR3 conductive,
The low potential of the ground GND causes a voltage drop at the input end of the inverter INVI, and the high potential of the power supply Vco causes a voltage rise at the input end of the inverter INV2.

この結果、インバータINVIの入力端の電位がインバ
ータ、INVIの入力反転電圧を越え、インバータ2N
V1はインバータINV2の入力端に“H”レベルの電
位を与える。同様に、インバータINV2の入力端の電
位がインバータINV2の人力反転電圧を越え、インバ
ータINV2は、インバータINVIの入力端に“L”
レベルの電位を与える。これによって、インバータIN
VIの出力端およびインバータI N’V 2の出力端
の電位は各々“H″レベルL”レベルに確定される。
As a result, the potential at the input terminal of inverter INVI exceeds the input inversion voltage of inverter INVI, and inverter 2N
V1 provides an "H" level potential to the input terminal of the inverter INV2. Similarly, the potential at the input terminal of the inverter INV2 exceeds the manual inversion voltage of the inverter INV2, and the inverter INV2 becomes "L" at the input terminal of the inverter INVI.
Give a level potential. This allows the inverter IN
The potentials at the output terminal of VI and the output terminal of inverter IN'V2 are each determined to be "H" level and L level.

なお、電源投入時には第12図のロウアドレスバッファ
2.コラムアドレスバッファ4.およびブロックアドレ
スバッファ7の動作が不能化されているため、メモリア
レイ1aにおいてはいずれのワード線WLおよびビット
線対も選択されない。
Note that when the power is turned on, the row address buffer 2. of FIG. Column address buffer 4. Since the operation of block address buffer 7 is disabled, no word line WL or bit line pair is selected in memory array 1a.

したがって、いずれのメモリセルにおいても、トランス
ファゲートTRIおよびTR2かOFF状態であるから
、第1図のメモリセルMCIおよびMC2においては、
インバータINVIおよび■NV2の接続点の電位はO
N状態にあるトランジスタTR3およびTR4によって
伝達される電位のみによって決定される。
Therefore, in any memory cell, transfer gates TRI and TR2 are in the OFF state, so in memory cells MCI and MC2 in FIG.
The potential at the connection point of inverters INVI and ■NV2 is O
It is determined only by the potential transmitted by transistors TR3 and TR4 in the N state.

マスクリセット信号MRはワンショットパルスであるか
ら、所定の短時間だけ“H”レベルとなった後“L″レ
ベル戻これに応答して、トランジスタTR3およびTR
4はOFF状態となり、インバータINVIおよびIN
V2は電源■CCおよび接地GNDと電気的に遮断され
る。しかし、インバータINVIおよびINV2はラッ
子回路を形成しているため、これらの接続点、すなわち
、記憶ノードn1およびn2の電位は、マスクリセット
信号MRが“H”レベルである期間に確定されたレベル
に保持される。このようにして、メモリセルMCIおよ
びMC2の記憶データは、電源投入時に論理値“0″に
初期化される。
Since the mask reset signal MR is a one-shot pulse, it goes to the "H" level for a predetermined short time and then returns to the "L" level. In response, the transistors TR3 and TR
4 is in the OFF state, and inverters INVI and IN
V2 is electrically cut off from the power supply CC and the ground GND. However, since the inverters INVI and INV2 form a latch circuit, the potentials at their connection points, that is, storage nodes n1 and n2, are at the level determined during the period when the mask reset signal MR is at the "H" level. is maintained. In this way, the data stored in memory cells MCI and MC2 are initialized to the logical value "0" when the power is turned on.

次に、記憶データを論理値“1”に初期化されるべきメ
モリセルMC3は、前述のMCIおよびMC2と同様に
インバータINVIおよびINV2ならびに、トランス
ファゲートTRIおよびTR2に加えて、ゲートにマス
クリセット信号MRを受けるトランジスタTR3および
TR4を含む。
Next, the memory cell MC3 whose stored data is to be initialized to the logical value "1" receives a mask reset signal to the gate in addition to the inverters INVI and INV2 and the transfer gates TRI and TR2, similar to the aforementioned MCI and MC2. It includes transistors TR3 and TR4 that receive MR.

しかし、メモリセルMC3においては、メモリセルMC
IおよびMC2の場合とは逆に、電源V。
However, in memory cell MC3, memory cell MC
Contrary to the case of I and MC2, the power supply V.

。に接続されるトランジスタTR3がインバータINV
Iの入力端側に、接地GNDに接続されるトランジスタ
TR4がインバータINV2の入力端側に設けられる。
. Transistor TR3 connected to inverter INV
A transistor TR4 connected to the ground GND is provided on the input side of the inverter INV2.

すなわち、トランジスタTR3か電源V。0とインバー
タINVIの入力端との間に接続され、トランジスタT
R4は接地GNDとインバータINV2の入力端との間
に接続される。これによって、マスクリセット信号MR
が付与される期間に、記憶ノードn1の電位は接地GN
Dの低電位およびインバータINVIの出力電位によっ
て“L″レベル確定、かつ、記憶ノードn2の電位は電
源■。0の高電位およびインバータINV2の出力電位
によっ“H”レベルに確定される。そして、マスクリセ
ット信号MRがL″ レベルに戻りトランジスタTR3
およびT R’4がOFF状態となると、インバータI
Nv1およびINV2の反転動作によって、記憶ノード
n1およびn2の電位レベルは前記確定された電位に保
持される。このように、メモリセルMC3においては、
マスクリセット信号MRに応答して、対応するビット線
BIT側の保持電位(インバータINVIの入力端の電
位)が”H”レベルとなり、対応する他方のビット線B
IT側の保持電位(記憶ノードn1に保持される電位)
が“L″レベル。つまり、メモリセルMC3の記憶デー
タは電源投入時に“1”に初期化される。
That is, transistor TR3 or power supply V. 0 and the input terminal of the inverter INVI, and the transistor T
R4 is connected between ground GND and the input terminal of inverter INV2. As a result, the mask reset signal MR
is applied, the potential of the storage node n1 is the ground GN.
The "L" level is determined by the low potential of D and the output potential of inverter INVI, and the potential of storage node n2 is at power supply ■. 0 and the output potential of the inverter INV2 are determined to be at the "H" level. Then, the mask reset signal MR returns to the L'' level and the transistor TR3
And when TR'4 becomes OFF state, inverter I
By the inversion operation of Nv1 and INV2, the potential levels of storage nodes n1 and n2 are held at the determined potential. In this way, in memory cell MC3,
In response to the mask reset signal MR, the potential held on the corresponding bit line BIT side (the potential at the input terminal of the inverter INVI) goes to "H" level, and the potential on the other corresponding bit line B becomes "H" level.
Holding potential on the IT side (potential held at storage node n1)
is “L” level. That is, the data stored in the memory cell MC3 is initialized to "1" when the power is turned on.

なお、インバータINVIおよびINV2ならびにトラ
ンジスタTR3およびTR4の特性は、マスクリセット
信号MRの入力に応答した前記電圧降下および電圧上昇
によって確定されたインバータINVIおよびINV2
の入力端の電位が各々インバータINVIおよびINV
2の各入力反転電圧を越え、かつ、前記電圧降下や電圧
上昇によって前記入力端のレベルが確定されるのに要す
る時間か各々、インバータINVIおよびINV・2の
信号遅延時間よりも長くなるように設計される。これに
よって、インバータINVIおよびインバータINV2
は各々、マスクリセット信号MRに応答して確実に初期
化データに応じたレベルの電圧を出力する。
Note that the characteristics of the inverters INVI and INV2 and the transistors TR3 and TR4 are determined by the voltage drop and voltage rise in response to the input of the mask reset signal MR.
The potential at the input terminal of inverters INVI and INV respectively
2, and the time required for the level of the input terminal to be determined by the voltage drop or voltage rise is longer than the signal delay time of inverters INVI and INV・2, respectively. Designed. This causes inverter INVI and inverter INV2 to
Each of them reliably outputs a voltage at a level corresponding to the initialization data in response to the mask reset signal MR.

次に、メモリセルMC4は、初期化の必要のないメモリ
セルであり、初期化のためのトランジスタTR3および
TR4を有さない従来と同一の構成を有する。したがっ
て、マスクリセット信号MRによってメモリセルMC4
は何ら影響を受けず、メモリセルMC4の記憶データは
前述のメモリセルMCI〜MC3のように電源投入時に
初期化されない。
Next, memory cell MC4 is a memory cell that does not require initialization, and has the same configuration as the conventional one without transistors TR3 and TR4 for initialization. Therefore, by mask reset signal MR, memory cell MC4
is not affected in any way, and the data stored in memory cell MC4 is not initialized when the power is turned on, unlike the aforementioned memory cells MCI to MC3.

このように、本実施例では、第7図におけるメモリアレ
イ1aを構成するすべてのメモリセルのうち、初期化の
必要なメモリセルには、マスクリセット信号MRに応答
して導通ずる初期化のための2つのトランジスタTR3
およびTR4か、与えられるべき初期化データに応じた
位置に設けられる。このため、電源投入直後の、マスク
リセット信号MRが“H”レベルである期間(第13図
における初期化期間τ)において、所定のメモリセルの
記憶データが、−斉に所定のデータに初期化される。し
たがって、初期化されるべきメモリセルの数にかかわら
ず、初期化に要する時間は一定である。この一定時間は
1つのメモリセルの記憶ノードの電位を初期化トランジ
スタによって初期化データに応じたものに確定するのに
要する時間である。通常のデータ書込み時には、書込デ
ータである“H″および“L”レベルの電位は第7図に
おけるデータ入出力端子Toからメモリアレイla内の
選択されたビット線対に、バッファやデコーダ等の多く
の回路を経由して伝達される。
As described above, in this embodiment, among all the memory cells constituting the memory array 1a in FIG. two transistors TR3
and TR4, or at a position corresponding to the initialization data to be provided. Therefore, during the period when the mask reset signal MR is at the "H" level (initialization period τ in FIG. 13) immediately after the power is turned on, the data stored in the predetermined memory cells is initialized to the predetermined data all at once. be done. Therefore, the time required for initialization is constant regardless of the number of memory cells to be initialized. This fixed time is the time required for the initialization transistor to determine the potential of the storage node of one memory cell to a value corresponding to the initialization data. During normal data writing, the "H" and "L" level potentials, which are write data, are transferred from the data input/output terminal To in FIG. It is transmitted through many circuits.

これに対し、初期化の際には、書込まれるべき“H”お
よびL”レベルの電位は、初期化トランジスタTR3お
よびTR4のみを経由して記憶ノードに直接与えられる
。したがって、初期化トランジスタTR3およびTR4
によって記憶ノードに“H”および“L”レベルの電位
を伝達するのに要する時間は、このSRAMにおいて通
常のデータ書込時に1つのアドレスにデータが書込まれ
るのに要する時間(1読出サイクル期間)よりも短い。
On the other hand, during initialization, the "H" and L level potentials to be written are directly applied to the storage node via only the initialization transistors TR3 and TR4.Therefore, the initialization transistor TR3 and TR4
The time required to transmit "H" and "L" level potentials to the storage node is the time required to write data to one address during normal data writing in this SRAM (one read cycle period). ) is shorter than

したがって、本実施例によれば、メモリアレイ1aに対
する初期化に要する時間は従来に比べ大幅に短縮される
Therefore, according to this embodiment, the time required to initialize the memory array 1a is significantly reduced compared to the conventional method.

本実施例では、初期化のためのトランジスタが初期化す
べきメモリセル1つにつき2個設けられたが、これらの
うちの1つを除去してもメモリセルの記憶データを任意
のデータに初期化することができる。
In this embodiment, two initialization transistors are provided for each memory cell to be initialized, but even if one of these transistors is removed, the data stored in the memory cell cannot be initialized to arbitrary data. can do.

第2図は、初期化のために単一のトランジスタが用いら
れた場合のメモリセルの構成を示す回路図であり、本発
明の他の実施例を示す。第2図には、記憶データを論理
値“0”に初期化されるべきメモリセルの構成および、
記憶データを論理値41111に初期化されるべきメモ
リセルの構成が示される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell when a single transistor is used for initialization, and shows another embodiment of the present invention. FIG. 2 shows the configuration of a memory cell whose stored data is to be initialized to a logical value "0", and
The configuration of a memory cell whose stored data is to be initialized to a logical value 41111 is shown.

第2図(a)を参照して、このメモリセルMC5は、第
1図に示されるメモリセルMC1およびMC2に含まれ
る初期化トランジスタTR3を有さない。しかし、マス
クリセット信号MRが“H”レベルに立上がることによ
って、もう1つの初期化トランジスタTR4がON状態
となって、記憶ノードn2の電位を接地GNDによって
“L”レベルに引下げる。この記憶ノードn2の“L”
レベルの電位を、インバータINVIが反転してもう一
方の記憶ノードn1に出力するため、記憶ノードn1の
電位は“H” レベルに確定される。マスクリセット信
号MRが“L”レベルに立下がると、初期化トランジス
タTR4はOFF状態となるが、記憶ノードn2の電位
は記憶ノードn2の“H”レベルの電位を反転するイン
バータINV1の出力によって、“L″レベル保持る。
Referring to FIG. 2(a), memory cell MC5 does not have initialization transistor TR3 included in memory cells MC1 and MC2 shown in FIG. However, when the mask reset signal MR rises to the "H" level, another initialization transistor TR4 is turned on, and the potential of the storage node n2 is lowered to the "L" level by the ground GND. “L” of this storage node n2
Since the inverter INVI inverts the level potential and outputs it to the other storage node n1, the potential of the storage node n1 is determined to be at the "H" level. When the mask reset signal MR falls to the "L" level, the initialization transistor TR4 is turned off, but the potential of the storage node n2 is changed by the output of the inverter INV1, which inverts the "H" level potential of the storage node n2. Maintain “L” level.

したがって、マスクリセット信号MRが立下がった後も
、記憶ノードn1およびn2の電位は各々“H”レベル
および“L” レベルに保持される。
Therefore, even after mask reset signal MR falls, the potentials of storage nodes n1 and n2 are held at "H" level and "L" level, respectively.

このようにしてこのメモリセルMC5の記憶データは、
マスクリセット信号MRに応答して論理値“O”に初期
化される。
In this way, the data stored in this memory cell MC5 is
It is initialized to logic value "O" in response to mask reset signal MR.

なお、インバータINVIおよびINV2ならびに初期
化トランジスタTR3の特性は、マスクリセット信号M
Rが“H”レベルである期間に記憶ノードn2の電位が
インバータINVIの入力反転電圧を越え、かつ、記憶
ノードn2の電位がマスタリセット信号MRに応答して
“L”レベルになるのに要する時間がインバータINV
Iにおける信号遅延時間よりも長くなるように設計され
る。これによって、マスクリセット信号MRが“H“レ
ベルである期間に記憶ノードn1およびn2の電位が各
々確実に“H”レベルおよびL”レベルとなる。
Note that the characteristics of the inverters INVI and INV2 and the initialization transistor TR3 are based on the mask reset signal M.
It is necessary for the potential of the storage node n2 to exceed the input inversion voltage of the inverter INVI during the period when R is at the "H" level, and for the potential of the storage node n2 to become the "L" level in response to the master reset signal MR. time is inverter INV
It is designed to be longer than the signal delay time at I. This ensures that the potentials of storage nodes n1 and n2 are at the "H" level and L level, respectively, during the period when the mask reset signal MR is at the "H" level.

さて、上記と逆に、記憶データを論理値“1”に初期化
されるべきメモリセルMC6に関しては、第2図(b)
に示されるように、NチャネルMOSトランジスタTR
4を初期化トランジスタとして記憶ノードn1と接地G
NDとの間に設ければよい。この場合には、マスクリセ
ット信号MRか“H”レベルとなっている期間に、ON
状態である初期化トランジスタTR4が接地GNDの電
位によって“L″レベル引下れる。これに応答して、イ
ンバータINV2の出力が“H″レベル反転方の記憶ノ
ードn1の電位が“H”レベルに確定される。そして、
マスクリセット信号MRが“L” レベルに立下がると
、インバータINVIおよびINV2の反転動作によっ
て記憶ノードn1およびn2の電位はマスクリセット信
号MRが“H″レベル期間に確定された電位に保持され
る。つまり、このメモリセルMC6のデータが論理値“
1”に初期化される。
Now, contrary to the above, regarding the memory cell MC6 whose stored data is to be initialized to the logical value "1", as shown in FIG.
As shown in FIG.
4 is used as an initialization transistor to connect storage node n1 and ground G.
It may be provided between the ND and the ND. In this case, during the period when the mask reset signal MR is at "H" level, the ON
The initialization transistor TR4 in the current state is pulled down to the "L" level by the potential of the ground GND. In response to this, the potential of the storage node n1 in which the output of the inverter INV2 is inverted to the "H" level is determined to be the "H" level. and,
When mask reset signal MR falls to the "L" level, the potentials of storage nodes n1 and n2 are held at the potential determined during the "H" level period of mask reset signal MR by the inverting operations of inverters INVI and INV2. In other words, the data in this memory cell MC6 has the logical value "
It is initialized to 1”.

もちろん、この場合には、インバータINVIおよびI
NV2ならびに初期化トランジスタTR4の特性は、マ
スクリセット信号MRが“H”レベルである期間内に記
憶ノードnlおよびn2の電位が確実に前述のような変
化をするように設計される。
Of course, in this case, inverters INVI and I
The characteristics of NV2 and initialization transistor TR4 are designed so that the potentials of storage nodes nl and n2 reliably change as described above during the period when mask reset signal MR is at "H" level.

上記実施例では、初期化トランジスタは記憶ノードの電
位を引下げるものであったが、逆に記憶ノードの電位を
マスクリセット信号MRに応答して引上げるものであっ
てもよい。第3図(a)および(b)はそのような場合
の、初期化の必要なメモリセルの構成を示す回路図であ
り、本発明のさらに他の実施例を示す。
In the above embodiment, the initialization transistor lowers the potential of the storage node, but it may conversely raise the potential of the storage node in response to the mask reset signal MR. FIGS. 3(a) and 3(b) are circuit diagrams showing the configuration of memory cells that require initialization in such a case, and show still another embodiment of the present invention.

第3図(a)を参照して、記憶データを論理値“0”に
初期化すべきメモリセルMC7は、第1図におけるメモ
リセルMCIおよびMC2から初期化トランジスタTR
4が除去された構成を有する。このメモリセルMC7に
おいては、マスクリセット信号MRが“H”である期間
初期化トランジスタTR3が導通して、記憶ノードn1
の電位を電源VCCによって“H”レベルに引上げる。
Referring to FIG. 3(a), the memory cell MC7 whose stored data is to be initialized to a logical value "0" is connected to the initialization transistor TR from the memory cells MCI and MC2 in FIG.
4 is removed. In this memory cell MC7, the initialization transistor TR3 is conductive during the period when the mask reset signal MR is "H", and the storage node n1
The potential of is raised to the "H" level by the power supply VCC.

したがって、記憶ノードn2の電位は記憶ノードn1の
“H” レベルの電位を反転するインバータINV2の
出力によって“L″レベル。したがって。このメモリセ
ルMC7においても、マスクリセット信号MRに応答し
て記憶データが論理値“0”に初期化される。
Therefore, the potential of the storage node n2 is brought to the "L" level by the output of the inverter INV2, which inverts the "H" level potential of the storage node n1. therefore. In this memory cell MC7 as well, the stored data is initialized to the logical value "0" in response to the mask reset signal MR.

第3図(b)を参照して、上記とは逆に、記憶データを
論理値″1″に初期化されるメモリセルMC8について
は、トランジスタTR4は記憶ノードn2と電源V。C
との間に設けられる。したがって、この場合にはマスク
リセット信号MRが“L”レベルである期間に、記憶ノ
ードn1およびn2の電位が各々“L”および“H”に
確定される。
Referring to FIG. 3(b), contrary to the above, for the memory cell MC8 whose stored data is initialized to the logical value "1", the transistor TR4 is connected to the storage node n2 and the power supply V. C
established between. Therefore, in this case, the potentials of storage nodes n1 and n2 are determined to be "L" and "H", respectively, during the period when mask reset signal MR is at "L" level.

なお、この場合にも、インバータINVIおよびINV
2ならびに初期化トランジスタTR3の特性は、マスク
リセット信号MRが“H”レベルである期間内に記憶ノ
ードnlおよびn2に上述のような電位変化が確実に生
じるように設定される。
Note that in this case as well, inverters INVI and INV
The characteristics of initialization transistor TR2 and initialization transistor TR3 are set so that the above-described potential change reliably occurs at storage nodes nl and n2 during the period when mask reset signal MR is at the "H" level.

第1図〜第3図に示される実施例では、初期化トランジ
スタとしてNチャネルMOSトランジスタのみが用いら
れる場合が説明されたが、PチャネルMO3)ランジス
タが用いられてもよい。
In the embodiments shown in FIGS. 1 to 3, a case has been described where only an N-channel MOS transistor is used as the initialization transistor, but a P-channel MO3) transistor may also be used.

第4図は、初期化トランジスタとしてNチャネルMOS
トランジスタおよびPチャネルMOSトランジスタを用
いた場合のメモリセルの構成を示す回路図であり、本発
明のさらに他の実施例を示す。
Figure 4 shows an N-channel MOS as an initialization transistor.
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a memory cell using a transistor and a P-channel MOS transistor, and shows still another embodiment of the present invention.

第4図(a)を参照して、記憶データを論理値“O”に
初期化されるべきメモリセルMC9は、第1図にお、け
るメモリセルMCIおよびMC2においてNチャネルM
OSトランジスタTR3をPチャネルMO8)ランジス
タTR5に置換えた構成を有する。但し、この場合には
、トランジスタTR4のゲートにはマスクリセット信号
MRがそのまま入力される一方、トランジスタTR5の
ゲートにはマスクリセット信号MRの反転信号MRが入
力される。この反転信号MRは第6図におけるリセット
信号発生回路16から出力されるマスタリセット信号M
Rをインバータ(図示せず)等によって反転させること
によって、あるいは、リセット信号発生回路16におい
てマスクリセット信号を相補信号対として作成すること
によって得られる。
Referring to FIG. 4(a), memory cell MC9 whose stored data is to be initialized to a logical value "O" is an N-channel M in memory cells MCI and MC2 in FIG.
It has a configuration in which the OS transistor TR3 is replaced with a P-channel MO8) transistor TR5. However, in this case, the mask reset signal MR is input as is to the gate of the transistor TR4, while the inverted signal MR of the mask reset signal MR is input to the gate of the transistor TR5. This inverted signal MR is the master reset signal M output from the reset signal generation circuit 16 in FIG.
This can be obtained by inverting R using an inverter (not shown) or by creating a mask reset signal as a complementary signal pair in the reset signal generation circuit 16.

本実施例では、マスクリセット信号MRが“H”のワン
ショットパルスであるから、その反転信号MRはマスタ
リセット信号MRが“H”レベルである期間に逆に“L
”となる、“L”レベルのワンショットパルスである。
In this embodiment, since the mask reset signal MR is a one-shot pulse of "H", the inverted signal MR is "L" during the period when the master reset signal MR is at the "H" level.
”, which is a one-shot pulse of “L” level.

したがって、マスクリセット信号MRが“H″′である
期間にはトランジスタTR5およびTR4がともにON
状態となる。
Therefore, during the period when the mask reset signal MR is "H'', both transistors TR5 and TR4 are ON.
state.

これによって、トランジスタTR5は記憶ノードn1に
電源VCCの電位を供給して記憶ノードn1の電位を′
H″レベルにし、トランジスタTR4は記憶ノードn2
の電位を接地GNDの電位によって“L” レベルに引
下げる。そして、マスクリセット信号MRが11 L 
lに立下がると(反転信号MRが“H”レベルに立上が
ると)、記憶ノードnlおよびn2の電位レベルはその
まま保持される。したがって、このような構成のメモリ
セルにおいても電源投入時に記憶データを論理値“0”
に初期化することができる。
As a result, the transistor TR5 supplies the potential of the power supply VCC to the storage node n1 and changes the potential of the storage node n1 to '
H'' level, transistor TR4 connects to storage node n2
The potential of the ground GND is lowered to the "L" level by the potential of the ground GND. Then, the mask reset signal MR becomes 11 L.
When the potential level of storage nodes nl and n2 falls to "H" level (when inverted signal MR rises to "H" level), the potential levels of storage nodes nl and n2 are maintained as they are. Therefore, even in a memory cell with such a configuration, the stored data is set to the logical value "0" when the power is turned on.
can be initialized to .

第4図(b)を参照して、逆に記憶データを論理値“1
″に初期化すべきメモリセルMC10においては、トラ
ンジスタTR4およびTR5が各々上記とは逆に記憶ノ
ードn1およびn2に接続されればよい。これによって
、電源投入に応答して、マスクリセット信号MRが“H
″レベルている期間に、記憶ノードn1およびn2の電
位を各々トランジスタTR4およびTR5によってそれ
ぞれ“L”レベルおよび“H”レベルにすることができ
る。
Referring to FIG. 4(b), conversely, the stored data is set to the logical value "1".
In the memory cell MC10 to be initialized to ``, the transistors TR4 and TR5 may be connected to the storage nodes n1 and n2, respectively, contrary to the above.Thereby, in response to power-on, the mask reset signal MR is set to ``. H
During the period when the storage nodes n1 and n2 are at the "L" level and the "H" level by the transistors TR4 and TR5, respectively.

第4図に示される実施例では、初期化トランジスタとし
てPチャネルMO8)ランジスタおよびNチャネルMO
8)ランジスタの2つのトランジスタが用いられたが、
もちろんPチャネルMOSトランジスタのみを用いるこ
とも可能である。
In the embodiment shown in FIG. 4, a P-channel MO transistor and an N-channel MO transistor are used as initialization transistors.
8) Two transistors of transistors were used,
Of course, it is also possible to use only P-channel MOS transistors.

第5図は、PチャネルMOSトランジスタ1つを用いて
初期化を行なうことができるメモリセルの構成を示す回
路図であり、本発明のさらに他の実施例を示す。
FIG. 5 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell that can be initialized using one P-channel MOS transistor, and shows still another embodiment of the present invention.

第5図(a)および(b)は各々、第4図(a)および
(b)から、初期化トランジスタTR4が除去された構
成を有する。したがって、この場合には、相補的なマス
クリセット信号は必要ではない。
FIGS. 5(a) and 5(b) have a configuration in which the initialization transistor TR4 is removed from FIGS. 4(a) and 4(b), respectively. Therefore, a complementary mask reset signal is not required in this case.

第5図(a)を参照して、記憶データを論理値“0″に
初期化されるべきメモリセルMCIIにおいては、電源
投入に応答して反転マスクリセット信号MRが“L”と
なっている期間に記憶ノードn1は電源Vccの電位を
供給されて“H”レベルとなる。したがって、記憶ノー
ドn2の電位はこの記憶ノードn1の電位に反転するイ
ンバータINV2によって“L”レベルとなる。
Referring to FIG. 5(a), in the memory cell MCII whose stored data is to be initialized to the logical value "0", the inverted mask reset signal MR becomes "L" in response to power-on. During the period, the storage node n1 is supplied with the potential of the power supply Vcc and becomes "H" level. Therefore, the potential of storage node n2 becomes "L" level by inverter INV2 which is inverted to the potential of storage node n1.

逆に、第5図(b)を参照して、記憶データを論理値“
1”に初期化されるべきメモリセルMC12においては
、トランジスタTR5が記憶ノードn2側に設けられる
。このため、このメモリセルでMC12は、反転マスク
リセット信号MRが“L”である期間に記憶ノードnl
およびn2の電位が“L”レベルおよび“H″レベル。
Conversely, referring to FIG. 5(b), the stored data is converted into a logical value "
In the memory cell MC12 to be initialized to "1", the transistor TR5 is provided on the storage node n2 side. Therefore, in this memory cell MC12, the storage node is initialized during the period when the inverted mask reset signal MR is "L". nl
and the potential of n2 is "L" level and "H" level.

このように、PチャネルMO8)ランジスタのみを用い
てもメモリセルの記憶データを任意のデータに初期化す
ることが可能である。なお、この場合にも、インバータ
INVIおよびINV2ならびに初期化トランジスタT
R5等の特性は、マスクリセット信号MRが“H” レ
ベルである期間内に記憶ノードn1およびn2の電位が
確実に前述のような変化をするように設計される。
In this way, it is possible to initialize the data stored in the memory cell to arbitrary data using only the P-channel MO8) transistor. In this case as well, the inverters INVI and INV2 and the initialization transistor T
The characteristics of R5 and the like are designed so that the potentials of storage nodes n1 and n2 reliably change as described above during the period when mask reset signal MR is at "H" level.

このように、上記いずれの実施例においても、メモリア
レイ製造時に、初期化すべき任意のメモリセルに、初期
化データに応じた位置に少なくとも1つの初期化トラン
ジスタを設けるだけで、所望の初期化を迅速に行なうこ
とができる。但し、2個のトランジスタを用いる場合に
は、2つの記憶ノードの電位が初期化データに対応する
ものに同時に強制されるのに対し、1個のトランジスタ
が用いられる場合には一方の記憶ノードの電位は他方の
記憶ノードの電位が確定されてから確定されるため、2
個のトランジスタを初期化トランジスタ等として用いる
方が初期化時間はより短縮される。しかし、1個の初期
化トランジスタを用いる方が、メモリセルの構成素子数
が少なくなるため、初期化用素子が付加されることによ
って増加するメモリセルアレイの面積は、小さくなる。
In this way, in any of the above embodiments, desired initialization can be carried out by simply providing at least one initialization transistor in a position corresponding to the initialization data in any memory cell to be initialized when manufacturing the memory array. It can be done quickly. However, when two transistors are used, the potentials of the two storage nodes are simultaneously forced to correspond to the initialization data, whereas when one transistor is used, the potential of one storage node is forced to the one corresponding to the initialization data. The potential is determined after the potential of the other storage node is determined, so 2
Initialization time can be further reduced by using two transistors as initialization transistors. However, when one initialization transistor is used, the number of elements constituting the memory cell is reduced, so the area of the memory cell array that increases due to the addition of the initialization element becomes smaller.

したがって、初期化すべきメモリセルをいずれの構成に
するかは、その半導体記憶装置の用途等に応じて任意に
選択されればよい。
Therefore, the configuration of the memory cell to be initialized may be arbitrarily selected depending on the application of the semiconductor memory device.

さて、上記いずれの実施例においても、マスクリセット
信号MRおよびその反転信号MRは初期化トランジスタ
のON10 F Fを制御するためだけに用いられる。
In any of the above embodiments, the mask reset signal MR and its inverted signal MR are used only to control ON10FF of the initialization transistor.

しかし、このマスクリセット信号MRやその反転信号内
1を初期化のためにメモリセルに書込むデータとして用
いることも可能である。
However, it is also possible to use this mask reset signal MR or its inverted signal 1 as data to be written into a memory cell for initialization.

第6図は、マスクリセット信号MRおよびその反転信号
百軒を初期化のためのデータとして取込むことがてきる
メモリセルの構成を示す回路図であり、本発明のさらに
他の実施例を示す。
FIG. 6 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell that can take in the mask reset signal MR and its inverted signal Hyakken as data for initialization, and shows still another embodiment of the present invention. .

第6図(a)を参照して、このメモリセルMC13は、
フリップフロップを構成するインバータINVIおよび
INV2ならびにトランスフアゲ−hTRlおよびTR
2に加えて、初期化トランジスタとしてPチャネルMO
SトランジスタTR6およびNチャネルMO8)ランジ
スタTR7を含む。トランジスタTR6はインバータI
NVIの出力端とトランジスタTR7のゲートとの間に
接続される。一方、トランジスタ7はインバータINV
2の出力端とトランジスタTR6のゲートとの間に接続
される。トランジスタTR7のゲートおよびトランジス
タTR6のゲートにはそれぞれ、マスクリセット信号M
Rおよびその反転信号MRが与えられる。
Referring to FIG. 6(a), this memory cell MC13 is
Inverters INVI and INV2 and transfer gates hTRl and TR that constitute a flip-flop
2 plus a P-channel MO as an initialization transistor.
It includes an S transistor TR6 and an N channel MO8) transistor TR7. Transistor TR6 is inverter I
It is connected between the output terminal of NVI and the gate of transistor TR7. On the other hand, transistor 7 is inverter INV
The transistor TR6 is connected between the output terminal of the transistor TR6 and the gate of the transistor TR6. A mask reset signal M is applied to the gate of the transistor TR7 and the gate of the transistor TR6, respectively.
R and its inverted signal MR are applied.

電源投入時にマスクリセット信号MRおよびその反転信
号MRがそれぞれH”レベルおよび“L″レベルと、ト
ランジスタTR6およびTR7がそれぞれ前記反転信号
内1およびマスクリセット信号MRに応答して導通する
。これによって、マスタリセット信号MRがトランジス
タTR6を介してインバータrNV2の入力端に与えら
れ、前記反転信号MRがトランジスタTR7を介してイ
ンバータINVlの入力端に与えられる。この結果、記
憶ノードn1の電位は上昇し記憶ノードn2の電位は下
降する。したがって、第4図(a)に示される実施例の
場合と同様に、インバータINVIおよびINV2なら
びにトランジスタTR6およびTR7の特性を、記憶ノ
ードn1の電位がマスクリセット信号MRの電位によっ
て上昇し始めてから“H” レベルに達するまでの時間
がインバータINVIの信号遅延時間よりも長く、かつ
記憶ノードn2の電位が前記反転信号MRの電位によっ
て下降し始めてからL”レベルに達するまでの時間がイ
ンバータINV2の信号遅延時間よりも長くなるように
設定することにより、記憶ノードn1およびn2の電位
はマスタリセット信号MRが“H”レベルである短期間
にそれぞれ“H”レベルおよび“L”レベルに強制され
る。マスクリセット信号MRおよびその反転信号MRが
それぞれ“L”レベルおよび“H″レベル戻、トランジ
スタTR6およびTR7は非導通状態となる。これによ
って、マスクリセット信号MRおよびその反転信号内1
はインバータINVIおよびINV2と電気的に遮断さ
れる。しかし、記憶ノードn1およびn2の電位はイン
バータINVIおよびINV2の反転動作によって、そ
れぞれ強制された電位“H” レベルおよび“L″レベ
ル保持る。つまり、このメモリセルMC13の記憶デー
タが電源投入に応答して、論理値“0”に初期化される
When the power is turned on, the mask reset signal MR and its inverted signal MR go to H" level and "L" level, respectively, and the transistors TR6 and TR7 become conductive in response to the inverted signal 1 and the mask reset signal MR, respectively. As a result, The master reset signal MR is applied to the input terminal of the inverter rNV2 via the transistor TR6, and the inverted signal MR is applied to the input terminal of the inverter INV1 via the transistor TR7.As a result, the potential of the storage node n1 rises and the memory is stored. The potential of the node n2 decreases.Therefore, as in the embodiment shown in FIG. The time from when the potential of the storage node n2 starts to rise due to the potential of the inverted signal MR until it reaches the "H" level is longer than the signal delay time of the inverter INVI, and after the potential of the storage node n2 starts to fall due to the potential of the inverted signal MR, it reaches the "L" level. By setting the time to be longer than the signal delay time of inverter INV2, the potentials of storage nodes n1 and n2 reach "H" level and "H" level, respectively, during a short period when master reset signal MR is at "H" level. Forced to L” level. Mask reset signal MR and its inverted signal MR return to "L" and "H" levels, respectively, and transistors TR6 and TR7 become non-conductive. As a result, mask reset signal MR and its inverted signal 1
is electrically isolated from inverters INVI and INV2. However, the potentials of storage nodes n1 and n2 are held at the forced "H" level and "L" level, respectively, by the inverting operations of inverters INVI and INV2. That is, the data stored in this memory cell MC13 is initialized to a logical value of "0" in response to power-on.

逆に、電源投入時に記憶データを論理値“1”に初期化
されるべきメモリセルMC14は、たとえば第6図(b
)に示されるように構成されればヨイ。スナワち、上記
の場合とは逆に、マスクリセット信号MRに結合される
トランジスタTR6が記憶ノードn2側に設けられ、マ
スクリセット信号MRの反転信号MRが記憶ノードn1
側に設けられる。このメモリセルMC14においては、
マスクリセット信号MRが“H”レベルである期間に、
記憶ノードn1の電位が前記反転信号MRの電位によっ
て“L”レベルに強制され、記憶ノードn2の電位がマ
スクリセット信号MRの電位によってH”レベルに強制
される。
On the other hand, the memory cell MC14 whose stored data should be initialized to the logical value "1" when the power is turned on is, for example, shown in FIG. 6(b).
) if it is configured as shown. Contrary to the above case, the transistor TR6 coupled to the mask reset signal MR is provided on the storage node n2 side, and the inverted signal MR of the mask reset signal MR is connected to the storage node n1.
installed on the side. In this memory cell MC14,
During the period when the mask reset signal MR is at “H” level,
The potential of the storage node n1 is forced to the "L" level by the potential of the inverted signal MR, and the potential of the storage node n2 is forced to the H level by the potential of the mask reset signal MR.

以上述べてきた実施例によれば、記憶データを初期化さ
れるべきメモリセルの各々の2つの記憶ノードのうちの
少な(とも一方が初期化データに応じた電位に直接的に
強制される。しかし、マスクリセット信号MRまたはそ
の反転信号用1を用いてこれら2つの記憶ノードのうち
の少なくとも一方の電位を間接的に初期化データに応じ
た電位に強制することも可能である。
According to the embodiments described above, one of the two storage nodes of each memory cell whose storage data is to be initialized is directly forced to a potential corresponding to the initialization data. However, it is also possible to indirectly force the potential of at least one of these two storage nodes to a potential corresponding to the initialization data using the mask reset signal MR or its inverted signal 1.

第7図は、マスクリセット信号MRまたはその反転信号
MRによって制御されて記憶ノードの電位を間接的に初
期化データに応じた電位に強制できるメモリセルの構成
を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell that can indirectly force the potential of a storage node to a potential corresponding to initialization data by being controlled by a mask reset signal MR or its inverted signal MR.

第7図(a)を参照して、このメモリセルMC15は、
第1図ないし第6図に示されるメモリセルMCI〜MC
14におけるインバータINVIに代えて、2人力NA
NDゲーhND1を含む。
Referring to FIG. 7(a), this memory cell MC15 is
Memory cells MCI to MC shown in FIGS. 1 to 6
In place of the inverter INVI in 14, two-man power NA
Includes ND game hND1.

このメモリセルMC15の他の部分の構成は第15図に
示される従来のメモリセルMCと同一である。NAND
ゲートND1の一方の入力端は記憶ノードn2に接続さ
れ、NANDゲー)NDlの出力端は記憶ノードn1に
接続される。NANDゲー)NDlの他方の入力端には
マスクリセット信号MRの反転信号MRが与えられる。
The structure of other parts of this memory cell MC15 is the same as that of the conventional memory cell MC shown in FIG. 15. NAND
One input terminal of the gate ND1 is connected to the storage node n2, and the output terminal of the NAND gate ND1 is connected to the storage node n1. An inverted signal MR of the mask reset signal MR is applied to the other input terminal of the NAND game (NDl).

NANDゲートの出力論理レベルは、その入力端のうち
の少なくとも1つの電位が“L” レベルであれば、他
の入力端の電位にかかわらず“H”レベルとなる。した
がって、前記反転信号MRの電位が“L″レベルば、こ
のメモリセルMC15においてNANDゲートND1の
出力電位は“H”レベルに固定される。逆に、前記反転
信号内項の電位が“H”レベルであれば、NANDゲー
トNDIの出力電位は、このNANDゲートNDIの反
転信号MRを受けない入力端の電位レベル、すなわち、
記憶ノードn2の電位レベルに依存する。つまり、記憶
ノードn2電位が“H”レベルであれば、NANDゲー
トND1は“L″レベル電位力し、記憶ノードn2の電
位が“L”レベルであれば、NANDゲートNDIは“
H″レベル電位力する。このように、NANDゲーhN
D1は、反転信号内1の電位が“H”であるときにはイ
ンバータとして動作し、反転信号MRの電位が“L”で
ある期間にのみ記憶ノードn2の電位レベルにかかわら
ずH”レベルの電位を出力する。したがって、電源投入
に応答して反転信号内1が“L”レベルとなる期間に、
記憶ノードn1の電位がNANDゲートND1の出力電
位によって“H”レベルに固定される。
If the potential of at least one of the input terminals of the NAND gate is at the "L" level, the output logic level of the NAND gate becomes the "H" level regardless of the potential of the other input terminals. Therefore, when the potential of the inverted signal MR is at the "L" level, the output potential of the NAND gate ND1 in this memory cell MC15 is fixed at the "H" level. Conversely, if the potential of the inverted signal is at the "H" level, the output potential of the NAND gate NDI is the potential level of the input terminal that does not receive the inverted signal MR of the NAND gate NDI, that is,
It depends on the potential level of storage node n2. That is, when the storage node n2 potential is at the "H" level, the NAND gate ND1 is at the "L" level, and when the storage node n2 potential is at the "L" level, the NAND gate NDI is at the "L" level.
In this way, the NAND game hN
D1 operates as an inverter when the potential of the inverted signal 1 is "H", and maintains the "H" level potential only during the period when the potential of the inverted signal MR is "L" regardless of the potential level of the storage node n2. Therefore, during the period when the inverted signal 1 is at "L" level in response to power-on,
The potential of storage node n1 is fixed at "H" level by the output potential of NAND gate ND1.

この記憶ノードn1の電位レベルはインバータINV’
2によって反転されて記憶ノードn2に伝達される。こ
の結果、記憶ノードn2の電位は“L”レベルに固定さ
れる。反転信号内1が“H”レベルに戻ると、NAND
ゲートNDIの出力電位は記憶ノードn2の電位レベル
に応じて変化し得る状態となる。しかしながら、以後記
憶ノードn1およびn2の電位レベルが変化するのは、
外部からのデータ書込によって、記憶ノードn1および
n2にそれぞれトランスファゲートTRIおよびTR2
を介してビット線BITおよびBITの電位が付与され
る場合のみである。一方、反転信号■の電位が“H”で
あれば、NANDゲートND1はインバータとして動作
する。したがって、記憶ノードn1およびn2に外部か
らのデータ書込によって新たなデータが与えられるまで
、記憶ノードn1およびn2の電位はNANDゲートN
D1およびインバータINVIの反転動作によってそれ
ぞれ“H″レベルL”レベルに保持される。
The potential level of this storage node n1 is determined by the inverter INV'
2 and transmitted to storage node n2. As a result, the potential of storage node n2 is fixed at "L" level. When the inverted signal 1 returns to “H” level, the NAND
The output potential of gate NDI is in a state where it can change depending on the potential level of storage node n2. However, the potential level of storage nodes n1 and n2 changes after that because
Transfer gates TRI and TR2 are applied to storage nodes n1 and n2, respectively, by external data writing.
This is only the case where the potentials of bit lines BIT and BIT are applied via the bit lines BIT and BIT. On the other hand, if the potential of the inverted signal ■ is "H", the NAND gate ND1 operates as an inverter. Therefore, the potentials of storage nodes n1 and n2 remain at the NAND gate N until new data is given to storage nodes n1 and n2 by external data writing.
The inverting operations of D1 and inverter INVI maintain them at the "H" level and the "L" level, respectively.

このように、本実施例によれば、記憶ノードn1の電位
レベルがマスクリセット信号の反転信号MRが“L”レ
ベルである期間に間接的に“H”レベルに強制されるこ
とによって、メモリセルMC15の記憶データが論理値
“0”に初期化される。
As described above, according to the present embodiment, the potential level of the storage node n1 is indirectly forced to the "H" level during the period when the inverted signal MR of the mask reset signal is at the "L" level, so that the memory cell The data stored in the MC 15 is initialized to a logical value of "0".

逆に、記憶データを論理値“1”に初期化されるべきメ
モリセルMC16はたとえば第7図(b)のように構成
されればよい。すなわち、メモリセルMC16は、第7
図(a)においてNANDゲートND1を単なるインバ
ータに置換え、かつインバータINV2を反転信号MR
を入力として受ける2人力NANDゲートNDIで置換
えた構成を有する。この場合、電源投入に応答して反転
信号MRが“L”レベルとなる期間には記憶ノードn2
の電位が“H”レベルに固定される。一方、それ以外の
期間には、NANDゲートNDIが単なるインバータと
して動作する。したがって、記憶ノードn1およびn2
の電位はそれぞれ電源投入に応答して一旦“L”レベル
および“H”レベルに強制された後、トランスファゲー
トTR1およびTR2がON状態であるときにビット線
BITおよび■了1の電位に応じて変化し得る状態とな
る。
On the contrary, the memory cell MC16 whose stored data is to be initialized to the logical value "1" may be configured as shown in FIG. 7(b), for example. That is, the memory cell MC16 is the seventh
In figure (a), the NAND gate ND1 is replaced with a simple inverter, and the inverter INV2 is replaced with an inverted signal MR.
It has a configuration in which it is replaced with a two-manpower NAND gate NDI that receives as input. In this case, storage node n2
The potential of is fixed at "H" level. On the other hand, during other periods, the NAND gate NDI operates as a mere inverter. Therefore, storage nodes n1 and n2
The potentials of are once forced to the "L" level and "H" level in response to power-on, respectively, and then, when the transfer gates TR1 and TR2 are in the ON state, they are changed according to the potentials of the bit lines BIT and ■R1. It becomes a state that can change.

第7図に示される実施例では、メモリセルにおいてフリ
ップフロップを構成するインバータI NvlおよびI
NV2のうちの一方がNANDゲートで置換えられた。
In the embodiment shown in FIG. 7, inverters I Nvl and I
One of NV2 was replaced with a NAND gate.

しかし、マスクリセット信号MRそのものを用いれば、
インバータINVIおよびTNV2のうちの一方をNO
Rゲートで置換えることに′よって記憶ノードn1およ
びn2の電位レベルを初期化することも可能である。
However, if the mask reset signal MR itself is used,
One of inverters INVI and TNV2 is set to NO
It is also possible to initialize the potential levels of storage nodes n1 and n2 by replacing them with R gates.

第8図は、そのような方法で記憶データを初期化できる
メモリセルの構成を示す回路図であり、本発明のさらに
他の実施例を示す。
FIG. 8 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell in which stored data can be initialized by such a method, and shows still another embodiment of the present invention.

第8図(a)を参照して、このメモリセルMC17は、
第7図(b)のメモリセルMC16においてNANDゲ
ートNDIを2人力NORゲートに置換え、かつ反転信
号MRをマスタリセット信号MRに置換えた構成を有す
る。マスクリセット信号MRの電位が“H”レベルであ
る期間には、NORゲートNRIは記憶ノードn1の電
位レベルにかかわらず“L″レベル電位力する。
Referring to FIG. 8(a), this memory cell MC17 is
In the memory cell MC16 of FIG. 7(b), the NAND gate NDI is replaced with a two-manufactured NOR gate, and the inverted signal MR is replaced with a master reset signal MR. During the period when the potential of mask reset signal MR is at "H" level, NOR gate NRI outputs "L" level potential regardless of the potential level of storage node n1.

マスクリセット信号MRの電位が“L” レベルである
期間には、NORゲー)NRIはインバータとして動作
して、記憶ノードn1の電位レベルとは逆の論理レベル
の電位を出力する。したがって、電源投入に応答してマ
スクリセット信号MRが“H”となる期間に、記憶ノー
ドn2の電位はNORゲートNRIの出力電位によって
“L”レベルに固定される。これに応答して、記憶ノー
ドn1の電位もインバータINVIの出力電位によって
“H” レベルに固定される。マスクリセット信号MR
の電位が“L”レベルに戻ると、記憶ノードn1および
n2の電位レベルは外部からのデータ書込のみに応答し
て変化し得る状態となる。このように、NORゲートを
用いてもメモリセルの記憶データを論理値“0”に初期
化することができる。
During the period when the potential of the mask reset signal MR is at the "L" level, the NOR gate (NRI) operates as an inverter and outputs a potential at a logic level opposite to the potential level of the storage node n1. Therefore, during the period in which mask reset signal MR goes to "H" in response to power-on, the potential of storage node n2 is fixed to "L" level by the output potential of NOR gate NRI. In response, the potential of storage node n1 is also fixed at the "H" level by the output potential of inverter INVI. Mask reset signal MR
When the potential of storage nodes n1 and n2 returns to the "L" level, the potential levels of storage nodes n1 and n2 enter a state where they can change only in response to external data writing. In this way, the data stored in the memory cell can be initialized to the logical value "0" even by using the NOR gate.

第8図(b)を参照して、記憶データを論理値“1”に
初期化されるべきメモリセルMC18は、第7図(a)
に示されるメモリセルMC15においてNANDゲート
NDIを2人力NORゲートNR1に置換え、かつ、反
転信号MRをマスクリセット信号MRに置換えた構成を
有する。この場合には、電源投入に応答してマスクリセ
ット信号MRが“H″レベル期間に、記憶ノードn1の
電位がNORゲートNRIの出力によって“L″レベル
固定る。したがって、先の場合とは逆に、記憶ノードn
1およびn2の電位はそれぞれ電源投入に応答して一旦
“L″レベル“H”レベルに強制される。
Referring to FIG. 8(b), the memory cell MC18 whose stored data is to be initialized to the logical value "1" is shown in FIG. 7(a).
The memory cell MC15 shown in FIG. 1 has a configuration in which the NAND gate NDI is replaced with a two-manual NOR gate NR1, and the inverted signal MR is replaced with a mask reset signal MR. In this case, the potential of the storage node n1 is fixed at the "L" level by the output of the NOR gate NRI while the mask reset signal MR is at the "H" level in response to power-on. Therefore, contrary to the previous case, storage node n
The potentials of 1 and n2 are once forced to the "L" level and the "H" level in response to power-on, respectively.

このように、第7図および第8図で示される実施例の場
合には、記憶ノードn1およびn2の電位を保持するた
めのフリップフロップを構成する論理回路が初期化のた
めのマスクリセット信号MRあるいはその反転信号MR
によって直接制御される。このため、記憶ノードn1お
よびn2の電位が初期化データに応じたレベルに強制さ
れるのに要する時間は、記憶ノードn1およびn2の電
位がフリップフロップを構成する論理回路(具体的には
、インバータINVIおよびINV2ならびにNAND
ゲートND1およびNORゲートNR1)の出力電位レ
ベルに達するのに要する時間である。したがって、マス
クリセット信号MRの電位が“H”レベルである期間の
長さは、前記論理回路における信号遅延時間程度に設定
されればよい。したがって、第7図および第8図で示さ
れる実施例によれば、より高速にメモリセルの記憶デー
タを初期化することかできる。
As described above, in the embodiment shown in FIGS. 7 and 8, the logic circuit constituting the flip-flop for holding the potentials of storage nodes n1 and n2 receives the mask reset signal MR for initialization. Or its inverted signal MR
Directly controlled by. Therefore, the time required for the potentials of storage nodes n1 and n2 to be forced to a level corresponding to the initialization data is the time required for the potentials of storage nodes n1 and n2 to be INVI and INV2 and NAND
This is the time required to reach the output potential level of gate ND1 and NOR gate NR1). Therefore, the length of the period during which the potential of the mask reset signal MR is at the "H" level may be set to approximately the signal delay time in the logic circuit. Therefore, according to the embodiments shown in FIGS. 7 and 8, data stored in memory cells can be initialized more quickly.

第7図および第8図におけるNANDゲートND1およ
びNORゲートNRIは各々、たとえばMOSトランジ
スタで構成された場合、8個のトランジスタを必要とす
る。しかし、マスクリセット信号MRおよびその反転信
号MRの両方を用いれば、これらの論理ゲートを各々、
7個のMOSトランジスタで構成することも可能である
NAND gate ND1 and NOR gate NRI in FIGS. 7 and 8 each require eight transistors, for example, if they are constructed from MOS transistors. However, if both the mask reset signal MR and its inverted signal MR are used, each of these logic gates becomes
It is also possible to configure it with seven MOS transistors.

第9図は、第81m (a)に示されるメモリセルMC
17と同じ論理動作をより少ないトランジスタで実現す
るメモリセルMC19の構成を詳細に示す回路図であり
本発明のさらに他の実施例を示す。第9図を参照して、
第8図(a)に示されるインバータINVIは電源VC
Cと接地GNDとの間に直列に接続されるPチャネルM
O8)ランジスタ110およびNチャネルMOSトラン
ジスタ120を含む、いわゆるCMOSインバータであ
る。このトランジスタ110および120の接続点が記
憶ノードn1である。一方、NORゲートNR2は、記
憶ノードn1にゲートを接続される、PチャネルMO3
)ランジスタ130およびNチャネルMOSトランジス
タ140と、前記トランジスタ130と接地GNDとの
間に設けられるNチャネルMOSトランジスタ150と
を含む。
FIG. 9 shows the memory cell MC shown in No. 81m(a).
17 is a circuit diagram showing in detail the configuration of a memory cell MC19 that realizes the same logical operation as MC17 with fewer transistors, and shows still another embodiment of the present invention. Referring to Figure 9,
The inverter INVI shown in FIG. 8(a) is connected to the power supply VC.
P channel M connected in series between C and ground GND
O8) This is a so-called CMOS inverter including a transistor 110 and an N-channel MOS transistor 120. The connection point between transistors 110 and 120 is storage node n1. On the other hand, NOR gate NR2 has a gate connected to storage node n1, and P-channel MO3
) A transistor 130, an N-channel MOS transistor 140, and an N-channel MOS transistor 150 provided between the transistor 130 and the ground GND.

トランジスタ140は、トランジスタ130および15
0の接続点と接地GNDとの間に設けられる。トランジ
スタ130および150の接続点は、インバータINV
Iの入力端である、トランジスタ110および120の
ゲート接続点に接続される。トランジスタ130および
150の接続点がこのNORゲートNR2の出力端、す
なわち、記憶ノードn2である。トランジスタ150の
ゲートにはマスクリセット信号MRが与えられ、トラン
ジスタ130のソースにはマスクリセット信号MRの反
転信号MRが与えられる。
Transistor 140 is connected to transistors 130 and 15
0 connection point and ground GND. The connection point of transistors 130 and 150 is connected to inverter INV
It is connected to the gate connection point of transistors 110 and 120, which is the input terminal of I. The connection point between transistors 130 and 150 is the output terminal of this NOR gate NR2, ie, storage node n2. A mask reset signal MR is applied to the gate of the transistor 150, and an inverted signal MR of the mask reset signal MR is applied to the source of the transistor 130.

第9図において、マスクリセット信号MRが“H”レベ
ルである期間には、トランジスタ150が導通する。こ
のため、トランジスタ140が非導通状態であっても、
記憶ノードn2から接地GNDに電流が流れる。また、
マスクリセット信号MRが“H″レベル期間には、その
反転信号ぷ「が“L”レベルである。したがって、トラ
ンジスタ130が導通状態であっても、記憶ノードn2
には“L″レベル電位えられる。
In FIG. 9, transistor 150 is conductive during a period when mask reset signal MR is at "H" level. Therefore, even if the transistor 140 is in a non-conducting state,
A current flows from storage node n2 to ground GND. Also,
While the mask reset signal MR is at the "H" level, its inverted signal P' is at the "L" level. Therefore, even if the transistor 130 is conductive, the storage node n2
The "L" level potential is applied to the "L" level potential.

それゆえ、マスクリセット信号MRが“H”レベルであ
る期間には、トランジスタ130および140のゲート
電位にかかわらず記憶ノードn2の電位は“L” レベ
ルとなる。記憶ノードn2の電位が“L″レベルと、イ
ンバータI NV2においてトランジスタ110が導通
して記憶ノードn1に電源VCCの電位を伝達する。こ
れによって、記憶ノードn1の電位が“H”レベルとな
る。
Therefore, during the period when mask reset signal MR is at "H" level, the potential of storage node n2 is at "L" level regardless of the gate potentials of transistors 130 and 140. When the potential of the storage node n2 goes to the "L" level, the transistor 110 in the inverter INV2 becomes conductive and transmits the potential of the power supply VCC to the storage node n1. As a result, the potential of storage node n1 becomes "H" level.

マスクリセット信号MRが“L”レベルである期間には
トランジスタ150が非導通状態にある。
During the period when mask reset signal MR is at "L" level, transistor 150 is in a non-conductive state.

一方、マスクリセット信号MRが“L″レベル期間には
その反転信号MRが“H”レベルであるので、トランジ
スタ130のソース電位が“H”レベルとなる。したが
って、トランジスタ130および140は、トランジス
タ110および120と同様に、CMOSインバータと
して動作する。
On the other hand, while the mask reset signal MR is at the "L" level, its inverted signal MR is at the "H" level, so the source potential of the transistor 130 is at the "H" level. Therefore, transistors 130 and 140, like transistors 110 and 120, operate as CMOS inverters.

このように、本実施例によっても第8図(a)に示され
るメモリセルMC17と動作上、等価なメモリセルを得
ることができる。なお、第8図(b)に示されるメモリ
セルMC18と同じ論理動作をより少ないトランジスタ
で実現するには、第8図(b)のインバータINV2お
よびNORゲートNR1にもそれぞれ、たとえば第9図
に示される構成のインバータINVIおよびNORゲー
トNR2が用いられればよい。
In this way, according to this embodiment as well, a memory cell which is operationally equivalent to the memory cell MC17 shown in FIG. 8(a) can be obtained. Note that in order to realize the same logic operation as the memory cell MC18 shown in FIG. 8(b) with fewer transistors, the inverter INV2 and NOR gate NR1 in FIG. Inverter INVI and NOR gate NR2 having the configuration shown may be used.

第10図は第7図(a)に示されるメモリセルMC15
と同じ論理動作をより少ないトランジスタで実現するメ
モリセルMC20の構成を詳細に示す回路図であり、本
発明のさらに他の実施例を示す。第10図を参照して、
第7図(a)におけるインバータINV2は、電源Vc
cと接地GNDとの間に直列に接続されるPチャネルM
O8)ランジスタ160およびNチャネルMO3)ラン
ジスタ170を含むCMOSインバータである。
FIG. 10 shows the memory cell MC15 shown in FIG. 7(a).
FIG. 3 is a circuit diagram showing in detail the configuration of a memory cell MC20 that realizes the same logical operation as with fewer transistors, and shows still another embodiment of the present invention. Referring to Figure 10,
The inverter INV2 in FIG. 7(a) has a power supply Vc
P channel M connected in series between C and ground GND
O8) A CMOS inverter including transistor 160 and N-channel MO3) transistor 170.

トランジスタ160および170の接続点が記憶ノード
n2である。一方、NANDゲートND2は、記憶ノー
ドn2にゲートを接続される、NチャネルMOSトラン
ジスタ190およびPチャネルMOSトランジスタ20
0と、電源Vccとトランジスタ190との間に設けら
れるPチャネルMO8)ランジスタ180とを含む。ト
ランジスタ200は電源Vccと、インバータINV2
の入力端である、トランジスタ160および170のゲ
ート接続点との間に設けられる。トランジスタ180お
よび190の接続点がこのNANDゲ−)ND2の出力
端、すなわち、記憶ノードn1である。トランジスタ1
90のソースにはマスクリセット信号MRが与えられ、
トランジスタ180のゲートにはマスクリセット信号M
Rの反転信号MRが与えられる。
The connection point between transistors 160 and 170 is storage node n2. On the other hand, NAND gate ND2 includes N-channel MOS transistor 190 and P-channel MOS transistor 20 whose gates are connected to storage node n2.
0 and a P-channel MO8) transistor 180 provided between the power supply Vcc and the transistor 190. Transistor 200 is connected to power supply Vcc and inverter INV2.
It is provided between the gate connection point of transistors 160 and 170, which is the input terminal of the transistors 160 and 170. The connection point between transistors 180 and 190 is the output terminal of this NAND gate ND2, ie, storage node n1. transistor 1
A mask reset signal MR is applied to the source of 90,
A mask reset signal M is applied to the gate of the transistor 180.
An inverted signal MR of R is applied.

第10図において、マスクリセット信号MRの反転信号
MRが“L” レベルである期間には、トランジスタ1
80が導通する。このため、トランジスタ200が非導
通状態であっても電源Vccから記憶ノードn1に電流
が流れる。一方、前記反転信号MRが“L”レベルであ
る期間には、マスクリセット信号MRは“H” レベル
である。したがって、トランジスタ190が導通状態で
あっても、記憶ノードn1の電位は“H”レベルとなる
。それゆえ、前記反転信号MRが“L”である期間には
、トランジスタ190および200のゲート電位にかか
わらず、記憶ノードnlの電位は“H” レベルとなる
。記憶ノードn1の電位が“H″レベルと、インバータ
INV2においてトランジスタ170が導通するので、
記憶ノードn2の電位は“L” レベルとなる。
In FIG. 10, during the period when the inverted signal MR of the mask reset signal MR is at "L" level, the transistor 1
80 is conductive. Therefore, even if transistor 200 is non-conductive, current flows from power supply Vcc to storage node n1. On the other hand, while the inverted signal MR is at the "L" level, the mask reset signal MR is at the "H" level. Therefore, even if transistor 190 is conductive, the potential of storage node n1 is at "H" level. Therefore, during the period when the inverted signal MR is "L", the potential of the storage node nl becomes "H" level regardless of the gate potentials of transistors 190 and 200. Since the potential of the storage node n1 is at the "H" level and the transistor 170 in the inverter INV2 becomes conductive,
The potential of storage node n2 becomes "L" level.

前記反転信号MRが“H”レベルである期間には、トラ
ンジスタ180が非導通状態にある。
During the period when the inverted signal MR is at the "H" level, the transistor 180 is in a non-conductive state.

方、この期間にはマスクリセット信号MRが“L″レベ
ルので、トランジスタ190のソース電位が“L”レベ
ルとなる。このため、トランジスタ190および200
は、トランジスタ160および170と同様にCMOS
インバータとして動作する。
On the other hand, since the mask reset signal MR is at the "L" level during this period, the source potential of the transistor 190 is at the "L" level. Therefore, transistors 190 and 200
are CMOS transistors like transistors 160 and 170.
Operates as an inverter.

それゆえ、本実施例によっても、第7図(a)に示され
る構成のメモリセルMC15と動作上、等価なメモリセ
ルを得ることができる。なお、第7図(b)に示される
メモリセルMC16と同じ論理動作をより少ないトラン
ジスタで実現するには、第7図(b)のインバータIN
VIおよびNANDゲートNDIもそれぞれ、たとえば
第10図に示されるインバータINV2およびNAND
ゲートND2と同様に構成されればよい。
Therefore, according to this embodiment as well, a memory cell which is operationally equivalent to the memory cell MC15 having the configuration shown in FIG. 7(a) can be obtained. Note that in order to realize the same logic operation as the memory cell MC16 shown in FIG. 7(b) with fewer transistors, the inverter IN shown in FIG. 7(b)
VI and NAND gate NDI are also connected to inverter INV2 and NAND, respectively, as shown in FIG. 10, for example.
It may be configured similarly to gate ND2.

このように第9図および第10図で示される実施例によ
れば、2つの制御信号(MRおよび魚1)が必要となる
ものの、より少ない素子でメモリセルの記憶データの初
期化を実現できる。したがって、これらの実施例は、初
期化のための回路が従来のメモリセルの構成素子に付加
されることによるメモリセルサイズの増大を抑制するこ
とができる。
In this way, according to the embodiment shown in FIGS. 9 and 10, although two control signals (MR and FISH1) are required, initialization of data stored in a memory cell can be realized with fewer elements. . Therefore, these embodiments can suppress an increase in memory cell size due to the addition of an initialization circuit to a conventional memory cell component.

上記すべての実施例では、本発明が、2個のインバータ
によって構成されるラッチ回路を含むSRAMに適用さ
れた場合について説明されたが、本発明はDRAM (
ダイナミックランダムアクセスメモリ)等の、SRAM
とはメモリセルの内部構成が基本的に異なる半導体記憶
装置に適用することも可能である。第11図は本発明を
DRAMに適用した場合のメモリセルの内部構成を示す
回路図であり、本発明のさらに他の実施例を示す。
In all of the above embodiments, the present invention was applied to an SRAM including a latch circuit constituted by two inverters, but the present invention is applied to a DRAM (
dynamic random access memory), etc.
It is also possible to apply the present invention to a semiconductor memory device in which the internal configuration of memory cells is fundamentally different from that of the present invention. FIG. 11 is a circuit diagram showing the internal structure of a memory cell when the present invention is applied to a DRAM, and shows still another embodiment of the present invention.

第11図(a)を参照して、通常DRAMのメモリセル
MCD1は基本的にはたとえば、ビット線BITと所定
の低電位に固定されるセルプレートCPとの間に直列に
接続される、NチャネルMOSトランジスタTR8およ
びメモリキャパシタCによって構成される。前記トラン
ジスタTR6のゲートはワ、−ド線WLに接続される。
Referring to FIG. 11(a), a memory cell MCD1 of a normal DRAM is basically connected in series between a bit line BIT and a cell plate CP fixed at a predetermined low potential. It is composed of a channel MOS transistor TR8 and a memory capacitor C. The gate of the transistor TR6 is connected to the word line WL.

通常のデータ書込時には、SRAMの場合と同様に、ワ
ード線WLに“H″レベル電圧えられ、トランジスタT
R8がON状態となる。同時に、ビット線BITには書
込まれるべきデータに対応する電位(論理値“0”に対
応する電位レベル“L”または論理値“1”に対応する
電位レベル″H”)が与えられる。したがって、通常の
データ書込時には、ビット線とメモリセルとを接続する
トランスファゲートであるトランジスタTR8およびメ
モリキャパシタCの接続点n3にトランジスタTR8を
介して書込データに対応する電位か伝達される。この電
位が“H″レベルばメモリキャパシタCは充電され、逆
にこの電位が“L″レベルばメモリキャパシタCには放
電が生じる。このように、DRAMでは、メモリセル内
のキャパシタの放電または充電によって記憶ノードn3
にデータが書込まれる。書込みが終了するとワード線W
Lの電位は“L”レベルに戻るためトランジスタTR8
はOFF状態となるが、記憶ノードn3の電位はメモリ
キャパシタCの容量に応じた時間(通常数100 ミI
J秒)保持される。
During normal data writing, as in the case of SRAM, an "H" level voltage is applied to the word line WL, and the transistor T
R8 becomes ON state. At the same time, a potential corresponding to the data to be written (potential level "L" corresponding to a logical value "0" or potential level "H" corresponding to a logical value "1") is applied to the bit line BIT. Therefore, during normal data writing, a potential corresponding to the write data is transmitted to the connection point n3 between the transistor TR8, which is a transfer gate connecting the bit line and the memory cell, and the memory capacitor C, via the transistor TR8. When this potential is at the "H" level, the memory capacitor C is charged, and conversely, when this potential is at the "L" level, the memory capacitor C is discharged. In this way, in a DRAM, storage node n3 is
Data is written to. When writing is completed, the word line W
Since the potential of L returns to the “L” level, the transistor TR8
is in the OFF state, but the potential of storage node n3 remains unchanged for a period of time (usually several hundred milliseconds) depending on the capacitance of memory capacitor C.
J seconds) is held.

さて、このような構成のメモリセルの記憶データを本発
明を適用して初期化するには、たとえば、記憶ノードn
3にゲートおよびドレインに前述のようなマスクリセッ
ト信号MRを受けるNチャネルMOS)ランジスタTR
9か接続される。電源投入時にマスクリセット信号MR
が“H″レベル立上と、トランジスタTR9かON状態
となって、この“H”レベルの電圧を記憶ノードn3に
供給する。これによって、通常の書込時と同様にメモリ
キャパシタCが充電され論理値“1”がこのメモリセル
MCD1に初期化データとして書込まれる。そして、マ
スクリセット信号MRが“L” レベルに立下がると初
期化トランジスタTR9はOFF状態となって記憶ノー
ドn3の電位をいずれのレベルにも強制しなくなる。し
かし、通常のデータ書込時と同様に記憶ノードn3の電
位レベルはメモリキャパシタCによって前記所定時間保
持される。
Now, in order to initialize the storage data of the memory cell having such a configuration by applying the present invention, for example, the storage node n
3 is an N-channel MOS transistor TR whose gate and drain receive the mask reset signal MR as described above.
9 is connected. Mask reset signal MR when power is turned on
When the transistor TR9 rises to the "H" level, the transistor TR9 turns on and supplies this "H" level voltage to the storage node n3. As a result, the memory capacitor C is charged in the same manner as in normal writing, and the logical value "1" is written into this memory cell MCD1 as initialization data. Then, when the mask reset signal MR falls to the "L" level, the initialization transistor TR9 is turned off and does not force the potential of the storage node n3 to any level. However, as in normal data writing, the potential level of storage node n3 is maintained by memory capacitor C for the predetermined time.

逆にDRA、Mのメモリセルの記憶データを論理値“0
”に初期化する場合には、たとえば第11図(b)を参
照して、前述の初期化のためのトランジスタTR9のゲ
ートには先と同じようにマスタリセット信号MRを与え
る一方、トランジスタTR9のドレインはセルプレー)
CPに接続される。これによって、電源投入時にマスク
リセット信号が“H”レベルとなっている期間に記憶ノ
ードn3の電位はセルプレートCPの電位によって引下
げられる。したがって、この場合には記憶ノードn3の
電位が“L″レベルて、このメモリセルMCD2の記憶
データが論理値“0″に初期化される。
Conversely, the data stored in the memory cells of DRA and M are set to the logical value “0”.
11(b), the master reset signal MR is applied to the gate of the transistor TR9 for initialization in the same way as before, while the gate of the transistor TR9 is Drain is cell play)
Connected to CP. As a result, the potential of storage node n3 is lowered by the potential of cell plate CP during the period when the mask reset signal is at the "H" level when the power is turned on. Therefore, in this case, the potential of storage node n3 is at the "L" level, and the data stored in memory cell MCD2 is initialized to the logical value "0".

上記2つの例では、初期化のためのトランジスタとして
NチャネルMO3)ランジスタが用いられたが、Pチャ
ネルMOSトランジスタが用いられることも可能である
。そのような場合にはたとえば、第11図(C)に示さ
れるように、ゲートにマスクリセット信号MRの反転信
号MRを受け、かつドレインにマスクリセット信号MR
を受けるPチャネルMO8)ランジスタTR10が記憶
ノードn3に接続される。前記反転信号MRは前述した
ようにたとえばマスタリセット信号MRをインバータI
NV3によって反転することによって得られる。マスク
リセット信号MRが“H” レベルであるときにはその
反転信号MRは逆に“L”レベルであるため、このメモ
リセルMCD3においては、マスクリセット信号MRが
“H”レベルである期間にトランジスタTR10はやは
りON状態となって、ドレインに与えられる反転されな
いマスクリセット信号MRの電位“H”を記憶ノードn
3に供給する。したがって、この場合にはこのメモリセ
ルMCD3の記憶データは論理値“1”に初期化される
In the above two examples, an N-channel MOS transistor was used as the initialization transistor, but a P-channel MOS transistor may also be used. In such a case, for example, as shown in FIG. 11(C), the gate receives the inverted signal MR of the mask reset signal MR, and the drain receives the mask reset signal MR.
P-channel MO8) transistor TR10 receiving the data is connected to storage node n3. As described above, the inverted signal MR is generated by converting the master reset signal MR into an inverter I, for example.
Obtained by inverting with NV3. When the mask reset signal MR is at the "H" level, its inverted signal MR is at the "L" level, so in this memory cell MCD3, the transistor TR10 is in the "H" level while the mask reset signal MR is at the "H" level. It is also in the ON state, and the potential “H” of the uninverted mask reset signal MR applied to the drain is transferred to the storage node n.
Supply to 3. Therefore, in this case, the data stored in this memory cell MCD3 is initialized to the logical value "1".

また、このように相補的なマスタリセット信号MR,M
Rを用いてメモリセルの記憶データを論理値“0”に初
期化することも可能である。この場合には、たとえばト
ランジスタTR10のドレインに、電源投入時に“H”
レベルとなるマスタリセット信号MRではなく、その反
転信号MRが与えられればよい。
Furthermore, the complementary master reset signals MR, M
It is also possible to use R to initialize the data stored in the memory cell to a logical value of "0". In this case, for example, the drain of the transistor TR10 is set to "H" when the power is turned on.
Instead of the master reset signal MR that becomes the level, it is sufficient if its inverted signal MR is given.

さらに、このように相補的なマスクリセット信号を用い
てメモリセルの記憶データを論理値“O”に初期化する
場合、初期化トランジスタとしてNチャネルMOSトラ
ンジスタを用いることも可能である。たとえば第11図
(d)を参照して、このメモリセルMCD4においては
、記憶ノードn3に初期化トランジスタとしてNチャネ
ルMOSトランジスタTR9が接続される。このトラン
ジスタTR9のドレインにはマスクリセット信号MRの
反転信号MRが与えられ、トランジスタTR9のゲート
には、この反転信号MRかインバータINV4によって
再度反転されて与えられる。したがって、マスタリセッ
ト信号MRが“H” レベルである期間に、トランジス
タTR9はインバータINV4から“H”レベルの電圧
を受けて導通し、記憶ノードn3の電位を“L”レベル
の信号MRによって引下げる。したがって、このメモリ
セルMCD4の記憶データは論理値“Onに初期化され
る。
Furthermore, when data stored in a memory cell is initialized to the logical value "O" using complementary mask reset signals in this manner, it is also possible to use an N-channel MOS transistor as the initialization transistor. For example, referring to FIG. 11(d), in memory cell MCD4, an N-channel MOS transistor TR9 is connected to storage node n3 as an initialization transistor. An inverted signal MR of the mask reset signal MR is applied to the drain of the transistor TR9, and this inverted signal MR is inverted again by an inverter INV4 and applied to the gate of the transistor TR9. Therefore, during the period when the master reset signal MR is at the "H" level, the transistor TR9 receives the "H" level voltage from the inverter INV4 and becomes conductive, and the potential of the storage node n3 is lowered by the "L" level signal MR. . Therefore, the data stored in this memory cell MCD4 is initialized to the logical value "On".

なお、第11図(a)〜(d)においてマスクリセット
信号MRおよびその反転信号MRは第1図に示されるS
RAMの場合と同様に、たとえば、同一のビット線に接
続される1列のメモリセル内に設けられる初期化トラン
ジスタに、共通の接続線を介して与えられればよい。
In addition, in FIGS. 11(a) to 11(d), the mask reset signal MR and its inverted signal MR are
As in the case of a RAM, for example, it may be applied to initialization transistors provided in one column of memory cells connected to the same bit line via a common connection line.

上記のようにDRAMにおいても、初期化すべきメモリ
セルごとに初期化のためのトランジスタを設け、この初
期化のためのトランジスタのゲートおよびドレインに初
期化データに応してマスクリセット信号MRまたはその
反転信号MRが与えられるようにメモリアレイを設計す
ることによって、電源投入に応答して所定のメモリセル
の記憶データを一斉に初期化することができる。
As mentioned above, in a DRAM as well, a transistor for initialization is provided for each memory cell to be initialized, and a mask reset signal MR or its inverse is applied to the gate and drain of the transistor for initialization according to the initialization data. By designing the memory array so that signal MR is applied, data stored in predetermined memory cells can be initialized all at once in response to power-on.

このように本発明はDRAMにも適用可能であるが、本
来DRAMは1つのトランジスタと工っのキャパシタと
いう非常に少ない回路素子でメモリセルを構成すること
によって、メモリセルのチップ上における占有面積をで
きるだけ小さくなるように構成されたものである。した
がって、本発明のDRAMへの適用は、初期化のための
トランジスタをメモリセル内部に設けることによって生
じる、メモリセル1個あたりの面積の増大というリスク
と、初期化時間の短縮というメリットのいずれに重点が
置かれるべきかをその使用目的等から十分に考慮して行
われるべきである。
In this way, the present invention is also applicable to DRAM, but DRAM originally consists of a memory cell with very few circuit elements, one transistor and an artificial capacitor, thereby reducing the area occupied by the memory cell on the chip. It is designed to be as small as possible. Therefore, the application of the present invention to DRAM takes advantage of both the risk of increasing the area per memory cell caused by providing a transistor for initialization inside the memory cell and the advantage of shortening the initialization time. The emphasis should be given to the purpose of use and other factors.

なお、以上述べたいずれの実施例においてもマスクリセ
ット信号MRはH”レベルのワンショットパルスであっ
たか、逆に“L”レベルのワンショットパルスであって
も、用いる初期化トランジスタの極性を逆にすることに
よって、同様の効果が得られる。
In any of the embodiments described above, the mask reset signal MR is a one-shot pulse at the "H" level, or conversely, even if it is a one-shot pulse at the "L" level, the polarity of the initialization transistor used can be reversed. A similar effect can be obtained by doing so.

また、メモリセルの記憶データの初期化を指示するため
に用いられる信号はマスクリセット信号に限定されず、
電源投入に応答して一定の短期間前記初期化を指示する
レベルとなるような、チップ内部において発生する信号
あるいはチップの外部から与えられる信号であればよい
Furthermore, the signal used to instruct the initialization of the data stored in the memory cell is not limited to the mask reset signal;
The signal may be any signal generated within the chip or applied from outside the chip that is at a level that instructs the initialization for a certain period of time in response to power-on.

このように、これらの実施例によれば、初期化すべきア
ドレスや初期化データ等に規則性がない複雑な初期化で
さえも、従来のメモリアレイにごく簡単な回路を付加す
るだけで従来よりもはるかに高速に確実に実行すること
かできる。
In this way, according to these embodiments, even complex initialization with no regularity in addresses to be initialized, initialization data, etc. can be performed more easily than before by simply adding a very simple circuit to a conventional memory array. It can also be done much faster and reliably.

[発明の効果] 以上のように本発明によれば、メモリセル内に簡単な初
期化のための回路を付加することにより、予め定められ
たメモリセルの記憶データを予め定められた初期化デー
タに従来よりも高速に初期化することができる。したが
って、複雑な初期化をも、高速にかつ高い信頼性で実行
できる半導体記憶装置が提供される。この結果、このよ
うな半導体記憶装置を種々の半導体集積回路装置やシス
テムに用いることにより、その半導体集積回路装置やシ
ステムの機能を向上することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, by adding a circuit for simple initialization in the memory cell, predetermined storage data of the memory cell can be converted to predetermined initialization data. can be initialized faster than before. Therefore, a semiconductor memory device is provided that can perform even complex initialization at high speed and with high reliability. As a result, by using such a semiconductor memory device in various semiconductor integrated circuit devices and systems, the functions of the semiconductor integrated circuit devices and systems can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例のSRAMにおけるメモリア
レイの部分回路図、第2図は本発明の他の実施例におけ
るメモリセルの構成を示す回路図、第3図は本発明のさ
らに他の実施例におけるメモ・リセルの構成を示す回路
図、第4図は本発明のさらに他の実施例におけるメモリ
セルの構成を示す回路図、第5図は本発明のさらに他の
実施例におけるメモリセルの構成を示す回路図、第6図
は本発明のさらに他の実施例におけるメモリセルの構成
を示す回路図、第7図は本発明のさらに他の実施例にお
けるメモリセルの構成を示す回路図、第8図は本発明の
さらに他の実施例におけるメモリセルの構成を示す回路
図、第9図は本発明のさらに他の実施例におけるメモリ
セルの構成を示す回路図、第1O図は本発明のさらに他
の実施例におけるメモリセルの構成を示す回路図、第1
1図は本発明のさらに他の実施例のDRAMにおけるメ
モリセルの構成を示す回路図、第12図は本発明の実施
例のSRAMの全体構成を示す概略ブロック図、第13
図はマスクリセット信号MRおよび、その反転信号MR
の波形図、第14図はメモリアレイの記憶データをハー
ド的に初期化する機能を有する従来のSRAMの全体構
成を示す概略ブロック図、第15図は従来のSRAMに
おけるメモリアレイの部分回路図、第16図は従来のS
RAMにおけるメモリセルの構成を詳細に示す回路図で
ある。 図において、MC,MCI〜MC20,およびMCD工
〜MCD4はメモリセル、WLはワード線、BITおよ
びBITはビット線、V((は電源、GNDは接地、C
Pはセルプレート、TR1゜TR2およびTR6はトラ
ンスファゲート、INv■〜INV4はインバータ、T
R3〜TR7゜TR9およびTR10は初期化トランジ
スタ、1aおよび1bはメモリアレイ、2はロウアドレ
スバッファ、3はロウデコーダ、4はコラムアドレスバ
ッファ、5はコラムデコーダ、6は110回路、7はブ
ロックアドレスバッファ、8はブロックデコーダ、9は
出力バッファ、10は入力データコントロール回路、1
1は大力バッファ、12は初期化データコントロール回
路、13はチップおよび入出力制御回路、14はクロッ
ク生成回路、15は初期化アドレス生成回路、n1〜n
3は記憶ノードである。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a partial circuit diagram of a memory array in an SRAM according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell in another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a structure of a memory cell in another embodiment of the present invention. 4 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell in yet another embodiment of the present invention. FIG. 5 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell in yet another embodiment of the present invention. 6 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell in yet another embodiment of the present invention; FIG. 7 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell in yet another embodiment of the present invention. 8 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell in still another embodiment of the invention, FIG. 9 is a circuit diagram showing the structure of a memory cell in still another embodiment of the invention, and FIG. 1O is a circuit diagram showing the structure of a memory cell in still another embodiment of the invention. A first circuit diagram showing the configuration of a memory cell in still another embodiment of the present invention.
FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell in a DRAM according to another embodiment of the present invention, FIG. 12 is a schematic block diagram showing the overall configuration of an SRAM according to an embodiment of the present invention, and FIG.
The figure shows the mask reset signal MR and its inverted signal MR.
14 is a schematic block diagram showing the overall configuration of a conventional SRAM having a function of hardware initializing data stored in a memory array, FIG. 15 is a partial circuit diagram of a memory array in a conventional SRAM, Figure 16 shows the conventional S
FIG. 2 is a circuit diagram showing in detail the configuration of a memory cell in a RAM. In the figure, MC, MCI to MC20, and MCD to MCD4 are memory cells, WL is a word line, BIT and BIT are bit lines, V(( is a power supply, GND is a ground, and C
P is a cell plate, TR1゜TR2 and TR6 are transfer gates, INv■ to INV4 are inverters, T
R3 to TR7゜TR9 and TR10 are initialization transistors, 1a and 1b are memory arrays, 2 is a row address buffer, 3 is a row decoder, 4 is a column address buffer, 5 is a column decoder, 6 is a 110 circuit, 7 is a block address Buffer, 8 block decoder, 9 output buffer, 10 input data control circuit, 1
1 is a large power buffer, 12 is an initialization data control circuit, 13 is a chip and input/output control circuit, 14 is a clock generation circuit, 15 is an initialization address generation circuit, n1 to n
3 is a storage node. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 各々が、記憶データに対応する電位に保持されるべき記
憶ノードを有する複数のメモリセルと、予め定められる
初期化データに対応して、前記複数のメモリセルのうち
の所定のメモリセルの各々に設けられて、前記所定のメ
モリセルの記憶ノードの電位を前記初期化データに対応
する電位に強制する電位強制手段と、 電源投入に応答して、前記電位強制手段をすべて能動化
する手段とを備えた、記憶データの初期設定が可能な半
導体記憶装置。
[Scope of Claims] A plurality of memory cells each having a storage node to be held at a potential corresponding to storage data, and a predetermined portion of the plurality of memory cells corresponding to predetermined initialization data. potential forcing means, provided in each of the memory cells, for forcing the potential of the storage node of the predetermined memory cell to a potential corresponding to the initialization data; and in response to power-on, all of the potential forcing means What is claimed is: 1. A semiconductor memory device that is capable of initializing stored data and is provided with a means for activating data.
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