JPH03275712A - Thermosetting resin composition - Google Patents

Thermosetting resin composition

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JPH03275712A
JPH03275712A JP7763690A JP7763690A JPH03275712A JP H03275712 A JPH03275712 A JP H03275712A JP 7763690 A JP7763690 A JP 7763690A JP 7763690 A JP7763690 A JP 7763690A JP H03275712 A JPH03275712 A JP H03275712A
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JP
Japan
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compound
epoxy
group
silicon
molecule
Prior art date
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JP7763690A
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Japanese (ja)
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Hiroyuki Miyagawa
宮川 宏幸
Akio Oura
大浦 昭雄
Shoichi Hirose
広瀬 正一
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the title composition useful for sealing, having excellent compatibility with various epoxy resins, comprising a silicon-containing epoxy compound having a specific structural unit and a compound capable of starting ring opening polymerization of epoxy group. CONSTITUTION:The objective composition comprising (A) an organosilicon compound shown by the formula (n is 2 or 3; R is substituent group and 1-20C alkyl, alkoxy or substituted alkyl; m is 0-4) containing three or more structural units directly bonded Si in one molecule and (B) a compound containing two or more functional groups, which can be subjected to addition reaction with epoxy group, in one molecule and/or a compound (e.g. 2-methylimidazole) capable of starting ring opening polymerization of epoxy ring as essential components.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、各種エポキシ樹脂との相溶性に優れ、さらに
加熱によって硬化し、耐湿性、耐熱性および可視性に優
れた硬化物を与えることのできる含ケイ素エポキシ化合
物に基づく熟成化性樹脂組成物に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention provides a cured product that has excellent compatibility with various epoxy resins, is cured by heating, and has excellent moisture resistance, heat resistance, and visibility. The present invention relates to a ripeable resin composition based on a silicon-containing epoxy compound that can be cured.

〈従来の技術〉 電気・電子部品分野においては、電気特性、力学特性お
よび接着特性が優れていることがらエポキシ樹脂か広範
囲に用いられている。
<Prior Art> In the field of electrical and electronic components, epoxy resins are widely used because of their excellent electrical properties, mechanical properties, and adhesive properties.

近年、電気・電子分野における製品の多機能化、高性能
化に件って、樹脂に対してさらに高度の特性、たとえば
可視性を付与したり、熟収縮によって生ずる応力を低減
させることが望まれている。樹脂に可撓性を付与する目
的でエポキシ樹脂と有機ケイ素化合物をともに分子中に
含有する樹脂、たとえばエポキシ変性シリコーン樹脂(
特公昭63−24624号公報)やシリコーン変性エポ
キシ樹脂(特開昭63−22822号公報)が提案され
ている。
In recent years, as products in the electrical and electronic fields have become more multi-functional and high-performance, it has become desirable to give resins more advanced properties, such as visibility, and to reduce stress caused by ripening shrinkage. ing. Resins containing both an epoxy resin and an organosilicon compound in the molecule for the purpose of imparting flexibility to the resin, such as epoxy-modified silicone resins (
Japanese Patent Publication No. 63-24624) and silicone-modified epoxy resins (Japanese Patent Application Laid-open No. 63-22822) have been proposed.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、従来の変性vIJ脂によっては、エポキ
シ樹脂や硬化剤との相溶性が一般に悪く、さらに相溶性
を若干改良した場合でも硬化樹脂にした場合の可視性、
耐熱性および耐湿性のすべてをバランスよく満足させる
ことができながった。
<Problems to be Solved by the Invention> However, conventional modified vIJ resins generally have poor compatibility with epoxy resins and curing agents, and even when the compatibility is slightly improved, the visibility when made into a cured resin,
It was not possible to satisfy both heat resistance and moisture resistance in a well-balanced manner.

く課題を解決するための手段〉 そこで、本発明者らは、相互溶解性および可視性と他の
特性とを同時に満足させることのできる樹脂組成物を提
供するために鋭意検討した結果、特定の含ケイ素エポキ
シ化合物を用いることによって、相溶性に優れ、さらに
、可撓性、耐湿性および耐熱性に優れた硬化物を与える
ことが可能となることを見:11シ、本発明に至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to provide a resin composition that can satisfy mutual solubility, visibility, and other properties at the same time. It was discovered that by using a silicon-containing epoxy compound, it is possible to provide a cured product with excellent compatibility, flexibility, moisture resistance, and heat resistance, leading to the present invention.

すなわち、本発明は、 (A)1分子中に、ケイ素原子に直接結合した下記の構
造単位を3個以上含む有機ケイ素化合物<n=2.3;
Rは同一または相異なる置換基であって、炭素数1〜2
0のアルキル基、アルコキシ基、置換アルキル基を表わ
す;m−0〜4の整数)および (B)エポキシ基と付加反応することが可能な官能基を
1分子中に2個以上含む化合物、および/またはエポキ
シ環の開環重合を開始することが可能な化合物 を必須成分とする熟硬化性樹脂組成物に関するものであ
る。
That is, the present invention provides: (A) an organosilicon compound containing in one molecule three or more of the following structural units directly bonded to a silicon atom <n=2.3;
R is the same or different substituent and has 1 to 2 carbon atoms;
0 alkyl group, alkoxy group, substituted alkyl group; m - an integer from 0 to 4) and (B) a compound containing two or more functional groups in one molecule that can undergo an addition reaction with an epoxy group, and The present invention relates to a mature curable resin composition containing as an essential component a compound capable of initiating ring-opening polymerization of an epoxy ring.

本発明においては、成分(八)のエポキシ基を含む有機
ケイ素化合物(以後、含ケイ素エポキシ化合物と呼ぶ)
を使用することが重要である。
In the present invention, component (8) is an organosilicon compound containing an epoxy group (hereinafter referred to as a silicon-containing epoxy compound).
It is important to use

含ケイ素エポキシ化合物におけるオルガノシロキサン構
造単位 RR′ /\ における置換基R,R′、R″は、同一であっても異な
っていてもよく、炭素原子数1〜4のアルキル基、置換
アルキル基、アルケニル基、アルケニル基またはフェニ
ル基、置換フェニル基を表わす、置換基rt、R′、R
″の具体的な例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ビニル基、アリル基、フェニル基など
が挙げられる。
The substituents R, R', and R'' in the organosiloxane structural unit RR' /\ in the silicon-containing epoxy compound may be the same or different, and may include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a substituted alkyl group, Substituent rt, R', R representing an alkenyl group, an alkenyl group or a phenyl group, a substituted phenyl group
Specific examples of "" include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a vinyl group, an allyl group, and a phenyl group.

本発明で使用する含ケイ素エポキシ化合物の具体的な例
としては、たとえば次式で示されるものが挙げられる。
Specific examples of the silicon-containing epoxy compound used in the present invention include those represented by the following formula.

(m−0,1) (kは3以上の整数、lは整数) 本発明で使用する含ケイ素エポキシ化合物の製造法は特
に限定されないが、たとえば、触媒として塩化白金酸や
塩化白金のオレフィン銘体の存在下、アリルフェニルグ
リシジルエーテルとケイ素に結合した水素を有するシロ
キサン化合物をヒドロシリル化反応させる方法またはア
リルフェノールとシロキサン化合物をヒドロシリル化反
応させたのち、水酸基をグリシジル化する方法などが挙
げられる。
(m-0,1) (k is an integer of 3 or more, l is an integer) The method for producing the silicon-containing epoxy compound used in the present invention is not particularly limited, but for example, olefin name of chloroplatinic acid or platinum chloride can be used as a catalyst. Examples include a method in which allyl phenyl glycidyl ether and a siloxane compound having a silicon-bonded hydrogen are subjected to a hydrosilylation reaction in the presence of a body, or a method in which allylphenol and a siloxane compound are subjected to a hydrosilylation reaction and then the hydroxyl group is glycidylated.

本発明で使用されるエポキシ環の開環重合を開始するこ
とが可能な化合物としては、下記化合物が挙げられるが
特にこれらに限られた訳ではない。
Compounds capable of initiating ring-opening polymerization of epoxy rings used in the present invention include, but are not limited to, the following compounds.

2−メチルイミダゾール、2−エチル−4メチルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4
−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールなどのイ
ミダゾール化合物、またはこれらの醇付加塩、エポキシ
化合物とイミダゾール類との付加反応物、N、N−ジメ
チルベンジルアミン、2.4.6−トリス(ジメチルア
ミンメチル)フェノール、1.8−ジアザビシクロ(5
,4,0)ウンデセン−7,4,ジメチルアミノピリジ
ンなどの3級アミノ化合物。
2-methylimidazole, 2-ethyl-4methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4
-Imidazole compounds such as methyl-5-hydroxymethylimidazole, addition salts thereof, addition reaction products of epoxy compounds and imidazoles, N,N-dimethylbenzylamine, 2.4.6-tris(dimethylaminemethyl ) Phenol, 1,8-diazabicyclo(5
,4,0) Tertiary amino compounds such as undecene-7,4, dimethylaminopyridine.

本発明の組成物に添加される成分Bのitま、通常、成
分A100重量部に対してO11〜1003ij1部で
ある。
The amount of component B added to the composition of the invention is usually 1 part by weight per 100 parts by weight of component A.

本発明で使用する含ケイ素エポキシ化合物は、他のエポ
キシ樹脂と混合して使用することによりさらに特性を向
上させることができる。このように混合して用いて硬化
樹脂を得る場合、ゲル化直前に混合した樹脂が相互に溶
解しているかどうかが重要となる。
The properties of the silicon-containing epoxy compound used in the present invention can be further improved by mixing it with other epoxy resins. When a cured resin is obtained by mixing and using in this way, it is important whether or not the mixed resins are mutually dissolved immediately before gelation.

本発明で使用する含ケイ素エポキシ化合物は、大部分の
他のエポキシ樹脂との相溶性が優れている。fl!!の
エポキシ樹脂としては1分子あたり1個以上のエポキシ
基を有する化合物であれば特に制限はなく、たとえばビ
スフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノール
Aジグリシジルエーテル、テトラブロムビスフェノール
Aジグリシジルエーテル、フロログルシノールトリグリ
シジルエーテル、テトラグリシジルジアミノジフェニル
メタン、トリグリシジルメタアミノフェノール、フェノ
ールノボラック型エポキシ、クレゾールノボラック型エ
ポキシ、15−ナフタレンジオールのジグリシジルエー
テル、1.6−ナフタレンジオールのジグリシジルエー
テル、4.4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
 −3,3′、 5.5 ’−テトラメチルビフェニル
、4.4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフ
ェニル、4,4−ビス〈2.3−エポキシプロポキシ)
 −3,3’ 、 5.5 ’〜テトラエチルビフェニ
ル、レゾルシンジグリシジルエーテル、ネオペンチルグ
リコールジグリシジルエーテル、アリルグリシジルエー
テル、フェニルグリシジルエーテル、P−ターシャリブ
チルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシ
ジルエステル、0−フタル酸ジグリシジルエステル、ジ
ブロモフェニルグリシジルエーテル、クリシジルフタル
イミド、メチルグリシジルエーテル−p−ターシャリブ
チルフェノール、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、
トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタンのトリグリシ
ジルエーテル、ダイマー酸変性エポキシv!Jti、ひ
まし油変性エポキシ樹脂などが挙げられる。これらのエ
ポキシ樹脂は、本発明で使用する含ケイ素エポキシ化合
物に対しての特性を損なわない範囲、すなわち含ケイ素
エポキシ化合物1!量部に対して0.01〜100重量
部混合が可能である。
The silicon-containing epoxy compound used in the present invention has excellent compatibility with most other epoxy resins. Fl! ! The epoxy resin is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups per molecule, such as bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether, phloroglucinol triglycidyl ether, etc. Glycidyl ether, tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylmethaminophenol, phenol novolac type epoxy, cresol novolac type epoxy, diglycidyl ether of 15-naphthalenediol, diglycidyl ether of 1,6-naphthalenediol, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy)
-3,3', 5.5'-tetramethylbiphenyl, 4,4'-bis(2,3-epoxypropoxy)biphenyl, 4,4-bis<2,3-epoxypropoxy)
-3,3', 5.5' ~ Tetraethyl biphenyl, resorcin diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, P-tert-butylphenyl glycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, 0 -phthalic acid diglycidyl ester, dibromophenyl glycidyl ether, chrycidyl phthalimide, methyl glycidyl ether -p-tert-butylphenol, vinylcyclohexene dioxide,
Triglycidyl ether of tris(4-hydroxyphenyl)methane, dimer acid-modified epoxy v! Examples include Jti, castor oil-modified epoxy resin, and the like. These epoxy resins should be used within a range that does not impair the properties of the silicon-containing epoxy compound used in the present invention, that is, the silicon-containing epoxy compound 1! It is possible to mix 0.01 to 100 parts by weight based on the amount.

さらに本発明の熱硬化性樹脂組成物は他の熱硬化性樹脂
を配合して、さらにその特性を発揮させることができる
。配合可能な熱硬化性樹脂としてはフェノール樹脂、ユ
リア樹脂、メラミン樹脂、フラン樹脂、ジアリルフタレ
ート樹脂、ケイ素樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる
Furthermore, the thermosetting resin composition of the present invention can be blended with other thermosetting resins to further exhibit its properties. Examples of thermosetting resins that can be blended include phenol resins, urea resins, melamine resins, furan resins, diallyl phthalate resins, silicone resins, and urethane resins.

本発明で使用されるエポキシ基を付加反応することが可
能な官能基を1分子中に2個以上含む化合物としては下
記化合物が挙げちるが、特にこれらに限られた訳ではな
い。フェノールノボラック、クレゾールノボラック、3
.3′−ジアリル−4,4′−ジヒド0キシビスフェノ
ールAのごときフェノール系化合物、4.4′−ジアミ
ノジフェニルスルフォン、3,3′−ジアミノジフェニ
ルスルフォン、4.4′−メチレンビス(2−エチルア
ニリン)、4.4′−メチレンビス(2,6−ジニチル
アニリン)、4.4’−メチレンビス(2−エチル−6
−メチルアニリン)などのアミン系化合物、無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無
水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸
などの酸無水物、ジシアンジアミド、テトラメチルグア
ニジン、ジアミノマレオニトリル、メラミンとその′L
A導体、アミンイミド化合物、ポリアミン、アジピン酸
ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジドなどのヒドラ
ジド化合物などが挙げられる。
Compounds containing two or more functional groups capable of undergoing an addition reaction with epoxy groups used in the present invention include the following compounds, but are not particularly limited to these. Phenol novolac, cresol novolac, 3
.. Phenolic compounds such as 3'-diallyl-4,4'-dihydrooxybisphenol A, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-methylenebis(2-ethylaniline) ), 4,4'-methylenebis(2,6-dinitylaniline), 4,4'-methylenebis(2-ethyl-6
- amine compounds such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, dicyandiamide, tetramethylguanidine, diaminomaleonitrile, Melamine and its 'L
Examples include A conductor, amine imide compounds, polyamines, and hydrazide compounds such as adipic acid dihydrazide and isophthalic acid dihydrazide.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、公知の硬化促進剤を
必要に応じて添加することができる。
A known curing accelerator can be added to the thermosetting resin composition of the present invention, if necessary.

硬化促進剤の具体例としてはたとえば、2,4.6トリ
ス(ジメチルアミノメチル)フェノール、t、8−ジア
ザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7,4,ジメチ
ルアミノピリジンなどのアミン化合物またはこれらのヒ
ドロキシ安息香酸またはジヒドロキシ安息香酸などの酸
付加塩など、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン
、トリス(2,6−シメトキシフエニル)ホスフィン、
トリフェニルホスフィン−トリフェニルボラン、テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレートなどのボ
スフィン化合物、トリエチルアンモニウム−テトラフェ
ニルボレート、ピリジニウム−テトラフェニルボレート
などの含ホウ素化合物、アルムニウムアセチルアセトナ
ート、コバルトアセチルアセトナートなどの金属アセチ
ルアセトナート類が挙げられる。
Specific examples of the curing accelerator include amine compounds such as 2,4.6 tris(dimethylaminomethyl)phenol, t,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7,4,dimethylaminopyridine, and the like; acid addition salts such as hydroxybenzoic acid or dihydroxybenzoic acid, triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, bis(diphenylphosphino)methane, tris(2,6-cymethoxyphenyl)phosphine,
Bosphine compounds such as triphenylphosphine-triphenylborane and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, boron-containing compounds such as triethylammonium-tetraphenylborate and pyridinium-tetraphenylborate, and metals such as aluminum acetylacetonate and cobalt acetylacetonate. Examples include acetylacetonates.

本発明の組成物の中には、必要に応じてゴム成分、粉末
状の充填剤、希釈剤、着色剤、顔料および難燃剤などが
添加される。
A rubber component, a powdered filler, a diluent, a coloring agent, a pigment, a flame retardant, and the like are added to the composition of the present invention as necessary.

ゴム成分の例としては特に制限はなく、たとえばシリコ
ーンゴム、カルボキシル基含有化合物による変性ニトリ
ルゴム、アミノ基含有化合物による変性ニトリルゴム、
ポリスチレン、ポリブタジェン、ポリスチレンのトリブ
ロック共重合体またはその水添重合体などが挙げられる
Examples of rubber components are not particularly limited, and include silicone rubber, nitrile rubber modified with a carboxyl group-containing compound, nitrile rubber modified with an amino group-containing compound,
Examples include polystyrene, polybutadiene, triblock copolymers of polystyrene, and hydrogenated polymers thereof.

粉末状の充填剤の例としてたとえば、酸化アルミニウム
、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、水酸化アルミニ
ウムなどの金属水酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウムなどの金属炭酸塩、珪藻土粉、塩基性ケイ酸マグ
ネシウム、焼成りレイ、微粉末シリカ、溶融シリカ、結
晶シリカ、カーボンブラック、カオリン、微粉末マイカ
、石英粉末、グラファイト、アスベスト、二硫化モリブ
デン、三酸化アンチモンなどさらにtIII維質の補強
剤や充填剤、たとえばガラス繊維、ロックウール、セラ
ミックw4維、アスベストおよびカーボンファイバーな
どの無機質繊維ならびにポリアミド繊維などの合成繊維
などが挙げられる。
Examples of powdered fillers include metal oxides such as aluminum oxide and magnesium oxide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide, metal carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate, diatomaceous earth powder, and basic magnesium silicate. , fired clay, finely powdered silica, fused silica, crystalline silica, carbon black, kaolin, finely powdered mica, quartz powder, graphite, asbestos, molybdenum disulfide, antimony trioxide, etc., as well as reinforcing agents and fillers for TIII fibers, Examples include inorganic fibers such as glass fiber, rock wool, ceramic W4 fiber, asbestos and carbon fiber, and synthetic fibers such as polyamide fiber.

希釈剤と例としては、酢酸ブチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソロブなどのセロソルブ類、γ−
ブチロラクトン、ε−カプロラクトン、4−バレロラク
トンなどのラクトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族化合物、酢酸エチル、酢酸メチルなどのエ
ステル類、メチルエチルゲトン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン類、エチレンカーホネート、プロピレン
カーボネートなどのカーボネート類などが挙げられる。
Examples of diluents include cellosolves such as butyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, γ-
Lactones such as butyrolactone, ε-caprolactone, and 4-valerolactone; aromatic compounds such as benzene, toluene, and xylene; esters such as ethyl acetate and methyl acetate; ketones such as methyl ethyl getone and methyl isobutyl ketone; Examples include carbonates such as honate and propylene carbonate.

着色剤や顔料および難燃剤の例としては、二酸化チタン
、黄鉛カーボンブラック、鉄黒、モリブデン赤、糺青、
カドミウム黄、カドミウム赤、赤リンなどの無機リン、
トリフェニルフォスフエイトなどの有機リン、デカブロ
モジフェニルエーテル、ヘキサブロモベンゼンなどのブ
ロム化合物などが挙げられる。
Examples of colorants and pigments and flame retardants include titanium dioxide, yellow lead carbon black, iron black, molybdenum red, red blue,
Inorganic phosphorus such as cadmium yellow, cadmium red, red phosphorus,
Examples include organic phosphorus such as triphenyl phosphate, decabromodiphenyl ether, and bromine compounds such as hexabromobenzene.

本発明の組成物の混合方法としては、必要に応じて高温
で溶融させる方法あるいは室温〜150℃程度の温度で
バンバリーミキサ−、ニーダ−、ロール、−軸もしくは
二軸の押出機、コニーダなどを用い混練する方法などが
適用される。
The composition of the present invention may be mixed, if necessary, by melting at a high temperature, or by using a Banbury mixer, kneader, roll, screw or twin screw extruder, co-kneader, etc. at a temperature of about room temperature to 150°C. A method of using and kneading is applied.

く作用〉 本発明の熟硬化樹脂組成物は、その主成分として1分子
中にオルガノシロキサン骨格とクリシトキシフェニル基
をあわせ持つ化合物を使用しているため、耐湿熱性と可
視性の両特性に優れた硬化物を与えることができる。
Effects> Since the mature cured resin composition of the present invention uses a compound having both an organosiloxane skeleton and a crisitoxyphenyl group in one molecule as its main component, it has excellent properties in both moist heat resistance and visibility. A cured product can be obtained.

く特性の評価方法〉 なお、本発明における特性の評価方法は次のとおりであ
る。
Method for evaluating characteristics> The method for evaluating characteristics in the present invention is as follows.

1、ガラス転移温度 試験片(5tar X 5 cm X 10 ma )
を作成し、pj!、機械的分析装置(セイコー電子工業
−′rMAIO型)を用いて、30℃〜330℃まで1
0℃/manで昇温した時の変位−温度曲線における変
曲点を測定してガラス転移温度とした。
1. Glass transition temperature test piece (5 tar x 5 cm x 10 ma)
Create pj! , using a mechanical analyzer (Seiko Electronics Industries - 'rMAIO type), from 30 to 330 °C.
The inflection point in the displacement-temperature curve when the temperature was raised at 0° C./man was measured and determined as the glass transition temperature.

2、吸水率 成形板(50mφ×3−厚)をルッシャー・クツカー・
テスト装置(P CT)を用いて121°C1関係湿度
100%、100時間吸水させたのちの重量増加を測定
して吸水率を算出した。
2. Water absorption molded plate (50mφ x 3-thickness) by Ruscher, Kutzker,
The water absorption rate was calculated by measuring the weight increase after absorbing water for 100 hours at 121°C1 relative humidity of 100% using a test device (PCT).

3、絶縁抵抗 アルミナ基板に、Cufi厚30IJI+のIPC3M
−840B形のパターンを作威し、ワニスを塗布、硬化
させた後、極超絶縁計(東亜電波工業@JSM−10E
型)を用いて、DC1,00Vの電圧を印加し、1分後
の抵抗値を測定して絶縁抵抗値とした。
3. IPC3M with Cufi thickness 30IJI+ on insulation resistance alumina substrate
- After making a pattern of type 840B, applying varnish and curing it,
A voltage of DC 1,00 V was applied using a mold), and the resistance value after 1 minute was measured and used as the insulation resistance value.

参考例1 (3官能性含ケイ素工ポキシ化合物の合rs、)0−ア
リルフェニルグリシジルエーテル405gと3%の塩化
白金酸のイソプロピルアルコール溶H0,1gを1,0
OOa+を三ツロフラスコに仕込み、撹拌しながら滴下
ロートからメチルトリス(ジメチルシロキサン)シラン
CH35i(O3i (CH3)2H)3 (東芝シリ
コーン■製’I’SL8242)89gを1時間かけて
滴下した0滴下中、反応温度が60°Cになるように加
熱浴で調節した0滴下終了後、そのままの温度で1時間
撹拌した後、70″Cに昇温してさらに2時間撹拌を続
けた。
Reference Example 1 (Synthesis of trifunctional silicon-containing poxy compound) 405 g of 0-allylphenyl glycidyl ether and 0.1 g of 3% chloroplatinic acid in isopropyl alcohol were mixed at 1.0
OOa+ was placed in a Mitsuro flask, and 89 g of methyltris(dimethylsiloxane) silane CH35i (O3i (CH3)2H)3 ('I'SL8242 manufactured by Toshiba Silicone ■) was added dropwise from the dropping funnel over 1 hour while stirring. After the completion of 0 dropwise addition, the reaction temperature was adjusted to 60°C using a heating bath, the mixture was stirred at that temperature for 1 hour, and then the temperature was raised to 70″C and stirring was continued for an additional 2 hours.

反応液を200℃にて真空下(3ai+ll(]以下)
に脱気して、未反応を留去し、目的の3官能含ケイ素工
ポキシ化合物(式1) (式■) (収N 122 g 、収率=94%、粘度500Cp
s (25℃))を得た。1′l下、この化合物を含ケ
イ素エポキシ化合物4S−3と略称する。
The reaction solution was heated to 200°C under vacuum (3ai+ll() or less).
The unreacted substances were distilled off to obtain the desired trifunctional silicon-containing poxy compound (Formula 1) (Formula ■) (Yield: 122 g, Yield = 94%, Viscosity: 500 Cp)
s (25°C)) was obtained. 1'l, this compound is abbreviated as silicon-containing epoxy compound 4S-3.

参考例2 (4官能性含ケイ素工ポキシ化合物の合成)0−アリル
フェニルグリシジルエーテル41゜7gと3%塩化白金
酸のイソグロビルアルコール溶液0.1fを1.0OO
ol三ツロフラスコに仕込み、撹拌しながら滴下ロート
からテトラキス(ジメチルシロキサンシラン)Sl(O
31(CH3)28)4 (東芝シリコーン■製TSL
8248)96gを1時間かけて滴下した。
Reference Example 2 (Synthesis of tetrafunctional silicon-containing poxy compound) 41.7 g of 0-allylphenyl glycidyl ether and 0.1 f of a 3% chloroplatinic acid isoglobil alcohol solution were mixed into 1.0 OO
Tetrakis(dimethylsiloxanesilane)Sl(O
31 (CH3) 28) 4 (TSL manufactured by Toshiba Silicone ■
8248) was added dropwise over 1 hour.

滴下中、反応混合物の温度が60℃になるように加熱浴
で調節した0滴下終了後、そのままの温度で1時間撹拌
した後、70℃に昇温してさらに3時間撹拌を続けた。
During the dropwise addition, the temperature of the reaction mixture was adjusted using a heating bath to be 60°C. After the completion of the dropwise addition, the temperature was stirred for 1 hour, and then the temperature was raised to 70°C and stirring was continued for an additional 3 hours.

以後、実施例1と同様に反応後の処理を行い、目的の4
官能性含ケイ素工ポキシ化合物(式■)を得た(収量1
28g、収率93%、粘度1,0OOcps(25℃)
) 0−アリルフェニルグリシジルエーテル48gを3%塩
化白金酸のイソプロピルアルコール溶i0.1gを1,
000m1三ツロフラスコに仕込み、撹拌しながら滴下
ロートからテトラメチル156gを1時間かけて滴下し
た4滴下中、反応温度が60℃になるように加熱浴で調
節した。
Thereafter, the post-reaction treatment was carried out in the same manner as in Example 1, and the objective 4
A functional silicon-containing poxy compound (formula ■) was obtained (yield: 1
28g, yield 93%, viscosity 1,0OOcps (25°C)
) 48g of 0-allylphenylglycidyl ether dissolved in 3% chloroplatinic acid in isopropyl alcohol.
A heating bath was used to adjust the reaction temperature to 60° C. during the 4 dropwise additions in which 156 g of tetramethyl was added dropwise over 1 hour from the dropping funnel while stirring.

滴下終了後、そのままの温度で1時間撹拌した後、70
℃に昇温してさらに3時間撹拌を続けた。以後、実施例
1と同様にして反応終了後の処理を行い、目的の4官能
性含ケイ素工ポキシ化合物(式11()  <48−c
と略称する)を得た〈収Ji190g、![!率93%
、粘度15. OO0cps)(25℃) 以下この化合物を含ケイ素エポキシ化合物5S−8と略
称する。
After the dropwise addition was completed, stirred at the same temperature for 1 hour, and then
The temperature was raised to 0.degree. C., and stirring was continued for an additional 3 hours. Thereafter, the post-reaction treatment was carried out in the same manner as in Example 1, and the desired tetrafunctional silicon-containing poxy compound (Formula 11() <48-c
(abbreviated as ) was obtained. [! rate 93%
, viscosity 15. OO0cps) (25°C) This compound will be hereinafter abbreviated as silicon-containing epoxy compound 5S-8.

参考例3 (4官能性含ケイ素工ポキシ化合物の合成)実腫例1 オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
■製EOCN1020)100重皿部、参考例1の方法
で合成した含ケイ素エポキシ化合物43−333重量部
、フェノールノボラック樹脂(明相化成■製H−1)6
2重量部、トリフェニルホスフィン(北興化字■製〉1
.33重量部、γ−グリシドキシグロビルトリメトキシ
シラン1.33重量部を計量混合し、100℃に加熱し
たミキシングロールで15分間溶融混練を行い、冷却後
、粉砕を行って粉末状の熱硬化性樹脂組成物を得た。こ
の組成物を100℃に数分間加熱して溶融させた後、真
空脱気して金型に注ぎ込み、120℃、2時間、150
℃で3時間加熱して硬化させ物性評価用の試験片を得た
Reference Example 3 (Synthesis of a tetrafunctional silicon-containing poxy compound) Actual tumor example 1 Orthocresol novolac type epoxy resin (EOCN1020 manufactured by Nippon Kayaku) 100-layer plate part, silicon-containing epoxy compound synthesized by the method of Reference Example 1 43-333 parts by weight, phenol novolac resin (H-1 manufactured by Meiso Kasei ■) 6
2 parts by weight, triphenylphosphine (manufactured by Hokuxingkaji ■) 1
.. 33 parts by weight and 1.33 parts by weight of γ-glycidoxyglobyltrimethoxysilane were weighed and mixed, melt-kneaded for 15 minutes with a mixing roll heated to 100°C, cooled, and then pulverized to form a thermoset powder. A synthetic resin composition was obtained. This composition was heated to 100°C for several minutes to melt it, then vacuum degassed, poured into a mold, heated to 120°C for 2 hours,
It was cured by heating at ℃ for 3 hours to obtain a test piece for physical property evaluation.

TMA法によるガラス転移温度は164℃であった。P
CT試験(121℃、2気圧、100%RI−1,10
0時間)後の吸水率は2.30重量%であり、カラス転
移温度は140°Cに低下した。上記の粉末状の熱硬化
性樹脂組成物40重量部の溶媒(キシレン/n−ブタノ
ール/メチルイソブチルケトン混合溶媒、重量比50:
10:40)60重量部を加え均一に溶解した。
The glass transition temperature determined by TMA method was 164°C. P
CT test (121°C, 2 atm, 100% RI-1,10
After 0 hours), the water absorption rate was 2.30% by weight, and the glass transition temperature decreased to 140°C. 40 parts by weight of the above powdered thermosetting resin composition (mixed solvent of xylene/n-butanol/methyl isobutyl ketone, weight ratio: 50:
10:40) 60 parts by weight were added and uniformly dissolved.

このワニスをクシ型電極上に塗布しく乾燥後の膜厚: 
50ull) PCT試II(121℃、2気圧、10
0%RH1100時間)前後の線間の絶縁抵抗を評価し
た。PCT試験前の絶縁抵抗は4. t x i O)
4Ω、PCT試験後の絶縁抵抗は6、2 X 1011
Ωであった。
This varnish is applied onto the comb-shaped electrode and the film thickness after drying is:
50ull) PCT test II (121℃, 2 atm, 10
The insulation resistance between the wires before and after (0% RH 1100 hours) was evaluated. Insulation resistance before PCT test is 4. t x i O)
4Ω, insulation resistance after PCT test is 6.2 x 1011
It was Ω.

実施例2 実施例1において使用した含ケイ素エポキシ化合!II
J43−833重量部の代りに33重量部の含ケイ素エ
ポキシ化合物51−3を使用し、その他の操作は実施例
1と同一として硬化5fJIJ物性を評価した。
Example 2 Silicon-containing epoxy compound used in Example 1! II
Cured 5f JIJ physical properties were evaluated using the same procedure as in Example 1 except that 33 parts by weight of silicon-containing epoxy compound 51-3 was used instead of 33 parts by weight of J43-833.

TMA法によるガラス転移温度は169℃であった。P
CT試験後(121℃、2気圧、100%RH5100
時間)の吸水率2,38重量%であり、ガラス転移温度
は143℃に低下した。クシ型電極法による絶縁抵抗値
は、PCT試験前において4.6X1014Ω、PCT
試験後には8.7X10IoΩであった。
The glass transition temperature determined by TMA method was 169°C. P
After CT test (121℃, 2 atm, 100%RH5100
The water absorption rate (time) was 2.38% by weight, and the glass transition temperature was lowered to 143°C. The insulation resistance value measured by the comb electrode method was 4.6X1014Ω before the PCT test.
After the test, it was 8.7×10 IoΩ.

実施例3 実施例1において使用した含ケイ素エポキシ化合物4S
−333重量部の代りに33u量部の含ケイ素エポキシ
化合物43−Cを使用し、その他の操作は実施例1と同
一として硬化物物性を評価した。
Example 3 Silicon-containing epoxy compound 4S used in Example 1
-33 parts by weight of silicon-containing epoxy compound 43-C was used instead of 333 parts by weight, and the other operations were the same as in Example 1 to evaluate the physical properties of the cured product.

TMA法によるガラス転移温度は171’Cであった。The glass transition temperature by TMA method was 171'C.

PCT試験後(121℃、2気圧、100%Rl−[,
100時間)の吸水率2.41重量%であり、ガラス転
移温度は147℃に低下した。クシ型t4iF!法によ
る絶縁抵抗値は、PCT試験前において4.4x10M
Ω、PCT試験後には3.8X10和Ωであった。
After PCT test (121°C, 2 atm, 100% Rl-[,
The water absorption rate after 100 hours) was 2.41% by weight, and the glass transition temperature decreased to 147°C. Comb type t4iF! The insulation resistance value according to the method is 4.4x10M before the PCT test.
After the PCT test, it was 3.8×10 sum Ω.

比較例 実施例1において使用した含ケイ素化合物4S−333
11量部の代りに、33重量部の下記m造式 で示されるエポキシ変性シリコーンオイル(東し・ダウ
コーニング・シリコーン■製BX16−855、nの平
均f11#16、エポキシ当量755)を使用し、その
他の操作は実施例1と同一として硬化物物性を評価した
Comparative Example Silicon-containing compound 4S-333 used in Example 1
Instead of 11 parts by weight, 33 parts by weight of epoxy-modified silicone oil shown by the formula m below (BX16-855 manufactured by Toshi Dow Corning Silicone ■, average f11 #16 of n, epoxy equivalent 755) was used. The other operations were the same as in Example 1, and the physical properties of the cured product were evaluated.

T M A法によるガラス転移温度は152℃であった
。PCT試@f&(121℃、2気圧、100%RH,
100時間〉の吸水率2.73重量%であり、ガラス転
移温度は125℃に低下した。クシ型電極法による絶縁
抵抗値は、F) C’r試験前において2.3X10糾
Ω、PCT試験後には7.6X109Ωであった。
The glass transition temperature determined by the TMA method was 152°C. PCT test @ f & (121℃, 2 atm, 100% RH,
The water absorption rate for 100 hours was 2.73% by weight, and the glass transition temperature was lowered to 125°C. The insulation resistance value determined by the comb electrode method was 2.3×10 Ω before the F) C'r test and 7.6×10 9 Ω after the PCT test.

〈発明の効果〉 本発明の熟硬化性樹脂組成物は各種エポキシ樹脂との相
溶性に優れ、さらに、硬化物とした時に可視性、耐湿性
、画然性のすべてがバランスよく満足させるという特性
を有するものである。これらの特徴を生かして、広い範
囲への応用、特に封止用途や接着用途への応用が可能で
ある。
<Effects of the Invention> The mature hardening resin composition of the present invention has excellent compatibility with various epoxy resins, and furthermore, when made into a cured product, visibility, moisture resistance, and sharpness are all satisfied in a well-balanced manner. It has the following. By taking advantage of these characteristics, it is possible to apply it to a wide range of areas, especially to sealing and adhesive applications.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (A)1分子中に、ケイ素原子に直接結合した下記の構
造単位を3個以上含む有機ケイ素化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼ (n=2,3;Rは同一または相異なる置換基であつて
、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、置換ア
ルキル基を表わす;m=0〜4の整数)および (B)エポキシ基と付加反応することが可能な官能基を
1分子中に2個以上含む化合物、および/またはエポキ
シ環の開環重合を開始することが可能な化合物を必須成
分とする熱硬化性樹脂組成物。
[Claims] (A) An organosilicon compound containing three or more of the following structural units directly bonded to a silicon atom in one molecule ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (n = 2, 3; R are the same or different substituents, and represent an alkyl group, an alkoxy group, or a substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; m = an integer of 0 to 4) and (B) can undergo an addition reaction with an epoxy group. A thermosetting resin composition containing as essential components a compound containing two or more functional groups in one molecule and/or a compound capable of initiating ring-opening polymerization of an epoxy ring.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1749848A1 (en) * 2004-05-24 2007-02-07 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Branched polycarbonate resin and process for production thereof
JP2009511638A (en) * 2005-10-18 2009-03-19 ディーシーイー アプリリス,インコーポレイテッド Photopolymerizable media containing siloxane compounds that support cationic polymerization for holographic storage
US20120046485A1 (en) * 2009-03-13 2012-02-23 Momentive Performance Materials Gmbh Novel Polyorganosiloxanes And Use Thereof

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