JPH03261795A - 2-deoxyaldose derivative and production thereof - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規化合物２−デオキシアルドース誘導体とそ
の製造方法に間するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is directed to a novel compound 2-deoxyaldose derivative and a method for producing the same.
２−デオキシアルドース誘導体は、抗生物質の配糖体の
構成成分として、また、抗ウィルス活性、抗腫瘍活性な
どを持つヌクレオシド類の糖部分として知られており、
医薬品の合成開発を行う上で重要な化合物である。2-deoxyaldose derivatives are known as constituents of antibiotic glycosides and as sugar moieties of nucleosides that have antiviral and antitumor activities.
It is an important compound in the synthetic development of pharmaceuticals.
２−デオキシアルドース誘導体を得る従来の方法として
は天然より得られる糖類を修飾して行うか、炭素数の少
ない光学活性物質を増炭する方法がある。しかしながら
、前者の方法では合成できる２−デオキシアルドースの
置換基の種類やその立体配座に限界がある。後者の方法
では、増炭後２−デオキシアルドースへ変換するまでに
様々な官能基変換を行わなければならず、長く複雑な反
応工程を必要とする。Conventional methods for obtaining 2-deoxyaldose derivatives include modifying naturally occurring saccharides or carbonizing optically active substances with a small number of carbon atoms. However, the former method has limitations in the types of substituents of 2-deoxyaldose that can be synthesized and in its conformation. In the latter method, various functional group conversions must be performed after carbonization and before conversion to 2-deoxyaldose, requiring a long and complicated reaction process.
本発明は工業的に重要な２−デオキシアルドースへ簡便
な方法で晒導できる新規な化合物を提供することを主た
る目的とするものである。The main object of the present invention is to provide a novel compound that can be exposed to 2-deoxyaldose, which is industrially important, by a simple method.
本発明者らは、２−デオキシアルドースを簡便に得る有
用な方法を６１発すべく研究を重ねた結果、−紋穴［１
１で表される化合物がその誘導体として優れていること
を見いだした０本発明は、誼知見に基づいて完成された
ものである。As a result of repeated research to find 61 useful methods for easily obtaining 2-deoxyaldose, the inventors of the present invention discovered that -Momonana [1
The present invention was completed based on the discovery that the compound represented by 1 is excellent as a derivative thereof.
すなわち、本発明は、−紋穴［１１
メチル基、Ｘは、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基であることをそれぞれ示
す、）で表される２−デオキシアルドース誘導体に間す
るものである。 また、本発明は、下記の工程よりな
る上記−紋穴［１］で表される２−デオキシアルドース
誘導体の製造法に間するものである。That is, the present invention relates to a 2-deoxyaldose derivative represented by -Moretsu [11 methyl group, X represents an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, respectively] It is. The present invention also provides a method for producing the 2-deoxyaldose derivative represented by the above-mentioned -Momona [1], which comprises the following steps.
１
１
［ｉｌ
［Ｉｒ］
［Ｗ］
（式中、Ｒ１は、水素原子まｋはアルキル基、アリール
基、およびエーテル、エステル等任意の官能基を含む置
換基、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子またはアルキル基、アリ
ール基、 Ｒ４、Ｒｓは、水１１Ｍ子またはハロゲン、
アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、適
当に保護されたアルコキシ１
８
〔１］
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ’およびＸＬｔ前
記と同意義、）
以下、本発明について詳述する。1 1 [il [Ir] [W] (wherein, R1 is a hydrogen atom; k is a substituent containing an alkyl group, an aryl group, and any functional group such as ether or ester; R2 and R3 are a hydrogen atom or Alkyl group, aryl group, R4, Rs are 11M water molecules or halogen,
Alkyl group, aryl group, alkoxycarbonyl group, appropriately protected alkoxy 1 8 [1] (wherein R1, R2, R3, R4, R' and XLt have the same meanings as above) The present invention will be described in detail below. do.
本発明化合物である２−デオキシアルドース誘導体は、
前記一般式［１］で表されるものである。The 2-deoxyaldose derivative which is the compound of the present invention is
It is represented by the general formula [1].
該一般式におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５および
Ｘは、前記定義のとおりである。R1, R2, R3, R4, R5 and X in the general formula are as defined above.
このような本発明化合物の代表例としては、たとえば、
エチル ３． ５； ６． ７−ジー０−イソプロピ
リデン−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコ−へブトフラノ
シド、メチル ３． ５； ６． ７−ジーＯ−イソ
プロピリデン−２−デオキシ−２−Ｃ−フェニルーβ−
Ｄ−イドーＤ−グリセロ−へブトフラノシド、メチル
３．５−０−イソプロピリデン−２−デオキシ−２−Ｃ
−フェニル−α−Ｄ−キシロ−ベントフラノシド、二チ
ル ６−０−ベンジル−３，５−０−イソプロピリデン
−２−デオキシ−α−Ｄ−アラビノ−へキソフラノシド
、二チル ６−０− （ｔ−ブチルジメチルシリル）−
３，５−０−イソプロピリデン−２，２−Ｃ−ジメチル
−２−デオキシ−α−Ｄ−アラビノ−へキソフラノシド
、エテル ６−０− （ｔ−ブチルジメチルシリル）−
３，５−０−イソプロピリデン−２−ブロモ−２−デオ
キシ−α−Ｄ−グルコ−へキソフラノシド、フェニル
３． ５； ６゜７−ジーＯ−イソプロピリデン−２
−デオキシ−１−チオーβ−Ｄ−グルコ−へブトフラノ
シド、メチル ３． ５； ６． ７−ジー０−イソ
プロピリデン−２−デオキシ−２−Ｃ−フェニルー−１
−チオβ−Ｌ−イドーＬ−グリセロ−へブトフラノシド
、フェニル ３．５−０−ベンジリデン−６゜７−０−
イソプロピリデン−２−Ｃ−アセトキシメチル−２−デ
オキシ−１−チオーβ−Ｄ−イドーＤ−グリセロ−へブ
トフラノシドなとの２−デオキシアルドース誘導体が挙
げられる。Representative examples of such compounds of the present invention include, for example,
Ethyl 3. 5; 6. 7-di-0-isopropylidene-2-deoxy-β-D-gluco-hebutofuranoside, methyl 3. 5; 6. 7-diO-isopropylidene-2-deoxy-2-C-phenyl-β-
D-ido D-glycero-hebutofuranoside, methyl
3.5-0-isopropylidene-2-deoxy-2-C
-Phenyl-α-D-xylo-bentofuranoside, dithyl 6-0-benzyl-3,5-0-isopropylidene-2-deoxy-α-D-arabino-hexofuranoside, dithyl 6-0- ( t-butyldimethylsilyl)-
3,5-0-isopropylidene-2,2-C-dimethyl-2-deoxy-α-D-arabino-hexofuranoside, ether 6-0- (t-butyldimethylsilyl)-
3,5-0-isopropylidene-2-bromo-2-deoxy-α-D-gluco-hexofuranoside, phenyl
3. 5; 6゜7-diO-isopropylidene-2
-deoxy-1-thio β-D-gluco-hebutofuranoside, methyl 3. 5; 6. 7-di-0-isopropylidene-2-deoxy-2-C-phenyl-1
-thio β-L-ido L-glycero-hebutofuranoside, phenyl 3.5-0-benzylidene-6゜7-0-
Examples include 2-deoxyaldose derivatives such as isopropylidene-2-C-acetoxymethyl-2-deoxy-1-thio β-D-ido-D-glycero-hebutofuranoside.
本発明化合物は、新規化合物であり、上記に述べた反応
工程により製造することができる。その反応について以
下拝趨に説明する。The compound of the present invention is a new compound and can be produced by the reaction process described above. The reaction will be explained below.
本発明方法における原料化合物の一つであるアルデヒド
−アルドース誘導体は一般式［１１］で表されるもので
ある。該式中のＲ１、Ｒ２およびＲ３は前記定義のとお
りであり、Ｒ１、Ｒ２の具体例としては、両方が共にア
ルキル基である場合、一方がアルキル基またはアリール
基で他方が水素原子の場合などがあり、さらに具体的に
は、Ｒ１、Ｒ２が共にメチル、エチルあるいは環状のエ
チレン、 トリメチレンなとか、Ｒ’がメチル、エチル
、フェニル、４−メトキシフェニルで、Ｒ２が水素原子
のものなどが挙げられる。The aldehyde-aldose derivative, which is one of the raw material compounds in the method of the present invention, is represented by the general formula [11]. In the formula, R1, R2 and R3 are as defined above, and specific examples of R1 and R2 include when both are alkyl groups, when one is an alkyl group or an aryl group and the other is a hydrogen atom, etc. More specifically, R1 and R2 are both methyl, ethyl, or cyclic ethylene or trimethylene, R' is methyl, ethyl, phenyl, or 4-methoxyphenyl, and R2 is a hydrogen atom. It will be done.
本原料化合物は公知の方法を応用して合成することがで
きる０例えば、アルデヒド−アルドース誘導体の２．３
位の水酸基をアルデヒドまたはケトンで保護し環状アセ
タールまたはケタールを形成させ調製することが可能で
ある。使用されるアルドースとしては一般に容易に入手
できる三〜六炭糖で、例えば、グリセルアルデヒド、エ
リトロース、 トレオース、アラビノース、 リボース
、グルコース、マンノース、ガラクトース、ラムノース
などが挙げられる。This raw material compound can be synthesized by applying a known method. For example, 2.3 of an aldehyde-aldose derivative.
It is possible to prepare a cyclic acetal or ketal by protecting the hydroxyl group at the position with an aldehyde or ketone. The aldoses used are generally easily available tri- to hexoses, such as glyceraldehyde, erythrose, threose, arabinose, ribose, glucose, mannose, galactose, and rhamnose.
もう一つの原料であるオレフィン化合物は一般式［１［
［］で表されるものである。該式中のＲ４、Ｒ５および
Ｘは、前に定義のとおりであり、Ｒ４、Ｒ５の具体例と
しては、Ｒ−１Ｒ６の両方が共に水素原子、アルキル基
であるか、Ｒ′、Ｒ５のどちらか一方が水素原子で他方
がアルキル基、アリール基、ハロゲン、アルコキシカル
ボニル基、保護されたヒドロキシメチル基、さらに具体
的にはメチル、エチル、フェニル、クロル、ブロム、エ
トキシカルボニル、アセトキシメチル、ベンゾイルオキ
シメチル、ベンジルオキシメチルなどが挙げられる。ま
た、Ｘの具体例としてはメトキシ、エトキシ、ベンジル
オキシ、フェノキシ、メチルチオ、フェニルチオなどが
ある。Another raw material, an olefin compound, has the general formula [1[
It is represented by [ ]. In the formula, R4, R5 and One is a hydrogen atom and the other is an alkyl group, aryl group, halogen, alkoxycarbonyl group, protected hydroxymethyl group, more specifically methyl, ethyl, phenyl, chloro, bromo, ethoxycarbonyl, acetoxymethyl, benzoyloxy Examples include methyl and benzyloxymethyl. Specific examples of X include methoxy, ethoxy, benzyloxy, phenoxy, methylthio, and phenylthio.
本発明方法における環化縮合の触媒となるルイス酸の具
体例としては、チタン塩（ＥＶ）、スズ塩（ｆＶ）、ア
ルミニウム塩（ＩＩＩ）、マグネシウム塩（ＩＩ）、亜
鉛塩（１１）、ボロン塩（ｍ）等周知のものが挙げられ
るが、塩化スズ、塩化アルミニウム、フッ化ホウ素等が
良く、三フフ化ホウ素・エーテラートが特に有用である
。Specific examples of Lewis acids that serve as catalysts for cyclocondensation in the method of the present invention include titanium salts (EV), tin salts (fV), aluminum salts (III), magnesium salts (II), zinc salts (11), and boron salts. Well-known salts (m) can be used, but tin chloride, aluminum chloride, boron fluoride, etc. are good, and boron trifluoride etherate is particularly useful.
反応に用いる溶媒はエーテル、ベンゼン、 トルエン、
ジクロロメタン、クロロホルム等周知の非掻性溶媒がよ
く、特に制限はない。Solvents used for the reaction are ether, benzene, toluene,
Well-known non-scratchable solvents such as dichloromethane and chloroform are suitable, and there are no particular limitations.
反応温度、反応時間は用いる触媒、溶媒等により異なり
、特に限定されないが、それぞれ１０分〜ｌＯ時間、−
１００〜３０℃、好ましくは一７８〜０℃が適当である
。The reaction temperature and reaction time vary depending on the catalyst, solvent, etc. used, and are not particularly limited, but each ranges from 10 minutes to 10 hours, -
A temperature of 100 to 30°C, preferably -78 to 0°C is suitable.
触媒の使用量に特に制限はないが、通常はアルデヒドに
対して０．２〜１．０当量の範囲で添加する。There is no particular restriction on the amount of catalyst used, but it is usually added in an amount of 0.2 to 1.0 equivalents relative to the aldehyde.
アルデヒドに対して置換オレフィンを過剰に用いること
も可能であるが、通常は１．０〜１．２当量である。ま
た、逆にアルデヒドを過剰に用いることができることは
言うまでもない。Although it is possible to use an excess of the substituted olefin relative to the aldehyde, the amount is usually 1.0 to 1.2 equivalents. Moreover, it goes without saying that, conversely, aldehyde can be used in excess.
本発明方法は、有用な新規物質である２−デオキシアル
ドース誘導体を簡便に製造できるという利点を有する。The method of the present invention has the advantage that 2-deoxyaldose derivatives, which are useful new substances, can be easily produced.
また、特殊な装置を必要としないので大量合成も可能で
あり、その工業的価罐は大である。Furthermore, since no special equipment is required, large-scale synthesis is possible, and its industrial value is large.
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
より何等の制限も受けるものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited in any way by the Examples unless the gist of the invention is exceeded.
逍
２．３ ：４．５−ジーＯ−イソブロビリデンーアルテ
ヒドーＤ−アラビノース ３８９ｍｇ（１，６７ｍｍｏ
ｌ）とエチルビニルエーテル ０．１４ｍ１（２，０３
ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下ジクロロメタン１７−１
に溶解し、ドライアイス−ヘキサン浴で一７８℃に冷却
する。これに三フッ化ホウ素・エーテラート２４ｍｇ（
０，１７ｍｍｏ １ ）のジクロロメタン溶液１ｍｌを
ゆっくり滴下する。 １０分後トリエチルアミンを０．
１ｍｌ加え室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えたのちジクロロメタンにより抽出する。硫酸マグ
ネシウムで乾燥後Ｓａｔ、、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより単離精製して目的物４８０ｍｇ（９４
モル％）を得た。Sho2.3: 4,5-di-O-isobropylidene-altehyde D-arabinose 389 mg (1,67 mmo
l) and ethyl vinyl ether 0.14 ml (2,03
mmol) in dichloromethane 17-1 under argon atmosphere
and cooled to -78°C in a dry ice-hexane bath. Add to this 24 mg of boron trifluoride etherate (
1 ml of a dichloromethane solution of 0.17 mmol 1 ) was slowly added dropwise. After 10 minutes, add 0.0% triethylamine.
Add 1 ml, return to room temperature, add saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and extract with dichloromethane. After drying with magnesium sulfate, it was isolated and purified by Sat. silica gel column chromatography to obtain 480 mg (94 mg) of the target product.
mol %) was obtained.
融点：３９．５〜４１’Ｃ
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）： δ １．２１（ｔ、Ｊ
＝７．０８Ｈｚ、３Ｎ＞、 １．３６（Ｓ、６Ｈ）、１
．４２（８，３１１）、 １．４３ＣＢ、３Ｎ＞、 ２
．０１（ｔｄ、Ｊ＝４．６４，１４．１６Ｈｚ、ＩＨ）
、 ２．２６（ｄｄ、Ｊ＝５．７４゜目、１６Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、 ３．５１（ｄｄ、Ｊ＝７．０８，１０．０ＩＨ
ｚ、１Ｍ）、 ３．８１（ｄｄ、Ｊ＝７．０８，１０．
０ＩＨｚ、ＩＮ）、 ３．８９（ｔ、Ｊ＝２．２０Ｈｚ
、１Ｎ）、 ３．９２（ｄｄ、Ｊ＝２．２０，７．３３
，１ｌｌ）、 ３．９６（ｄｄ、Ｊ＝５．３７，８．５
４Ｈｚ、ＩＮ）、 ４．０７（ｄｄ、Ｊ＝８ｉ０，８．
５４．ＩＮ）、 ４．３３（ｄｄｄ、Ｊ＝５．３７，６
．１０，７．３３Ｈｚ、ＩＨ）、 ４．４１（ｄｄ、Ｊ
＝２．２０，４．６４Ｈ２，ＩＨ）、５．３６（ｄｄ、
Ｊ＝４．６４．５．７４Ｈ２，ＩＮ）。Melting point: 39.5-41'C'HNMR (CDCIs): δ 1.21 (t, J
=7.08Hz, 3N>, 1.36(S, 6H), 1
．． 42 (8,311), 1.43CB, 3N>, 2
．． 01 (td, J=4.64, 14.16Hz, IH)
, 2.26(dd, J=5.74゜th, 16Hz, I
H), 3.51 (dd, J=7.08, 10.0IH
z, 1M), 3.81 (dd, J=7.08, 10.
0IHz, IN), 3.89(t, J=2.20Hz
, 1N), 3.92 (dd, J=2.20, 7.33
, 1ll), 3.96 (dd, J=5.37, 8.5
4Hz, IN), 4.07(dd, J=8i0,8.
54. IN), 4.33(ddd, J=5.37,6
．． 10,7.33Hz, IH), 4.41(dd, J
=2.20,4.64H2,IH),5.36(dd,
J=4.64.5.74H2, IN).
元素分析ＩＩ： Ｃ＋ａＨａｓＯｓとして計算１１
Ｃ： ５９． ５Ｂ、 Ｈ： ８． ６７％実
＃［Ｃ： ５Ｂ、 ４２． Ｈ： ８． ４０
％実施例 ２ エニル ° −８−口
ｌ １ ゝ
−１−−−Ｄ−ルコーヘブ
上記実施例１のエチルビニルエーテルの代わりにフェニ
ルビニルスルフィドを使用し、次いで同じ試薬で反応を
行わせ同様に処理することにより目的物を６９モル％の
収率で得ることができた。Elemental Analysis II: Calculated as C+aHasOs 11
C: 59. 5B, H: 8. 67% real #[C: 5B, 42. H: 8. 40
% Example 2 Enyl ° -8-mouth
l 1 ゝ-1--D-rucoheb By using phenyl vinyl sulfide instead of ethyl vinyl ether in Example 1 above, and then carrying out the reaction with the same reagent and treating in the same manner, the desired product was obtained with a yield of 69 mol%. I was able to get it at a reasonable rate.
融点： ６９〜７０℃
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３）： δ １．３６．
１．３９，１．４３゜１．４４（ｓ、１２８）、 ２
．０７（ｄｄｄ、Ｊ＝５．７．５．１４Ｈｚ、ＩＨ）、
２゜４７（ｄｄ、Ｊ＝７．５．１４Ｈｚ、ＩＨ）、
３．９４（ｄｄ、Ｊ＝６．９Ｈｚ、ＩＩＩ）。Melting point: 69-70°C 'HNMR (CDCI 3): δ 1.36.
1.39, 1.43° 1.44 (s, 128), 2
．． 07 (ddd, J=5.7.5.14Hz, IH),
2°47 (dd, J=7.5.14Hz, IH),
3.94 (dd, J=6.9Hz, III).
３．９７（ｄｄ、、ｌ”２．５Ｈｚ、１Ｍ）、 ３．
９９（ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ、ｌｌ＋）、４．０６（ｄｄ、Ｊ
＝６．９Ｈｚ、ＩＨ）、 ４．３３（ｄｄ、Ｊ＝６．
７Ｈｚ、ＩＨ）、４．４１（ｄｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ、Ｉ
Ｎ）、 ５．７０（ｔ、Ｊニア、５Ｈｚ、ＩＩＩ）、
７．２４−７．３０（雪、３Ｈ）、７．５６−７．
５８（ｍ、２Ｈ）。3.97 (dd,,l”2.5Hz, 1M), 3.
99 (t, J=2Hz, ll+), 4.06 (dd, J
=6.9Hz, IH), 4.33(dd, J=6.
7Hz, IH), 4.41(dd, J=2.5Hz, I
N), 5.70 (t, J near, 5Hz, III),
7.24-7.30 (snow, 3H), 7.56-7.
58 (m, 2H).
元素分析１［： Ｃ＋ｓｌ（２１１０ｓＳとして計算
値 Ｃ： ６２． ２８． Ｈ： ７． １５．
Ｓ：８．７３ ％
実測値
Ｃ：
６２゜
５１゜
Ｈニ
ア。Elemental analysis 1 [: C+sl (calculated value as 2110sS) C: 62. 28. H: 7. 15.
S: 8.73% Actual value C: 62°51°H near.
１８゜ 実測値 Ｃ： ６７゜ ６９゜ Ｈニ ア。18° Actual value C: 67° 69° H ni a.
６１ ％
： ９゜
０５ ％
２．３−０−イソプロピリデン−〇−グリセルアルデヒ
ドと（Ｚ）−メチルスチリルエーテルとの反応を実施例
１と同じ試薬を用いて行い同様に処理することにより目
的物を２１モル％で得ることができた。61%: 9.05% 2.3-0-Isopropylidene-〇-glyceraldehyde and (Z)-methylstyryl ether were reacted using the same reagents as in Example 1, and the desired reaction was carried out in the same manner. It was possible to obtain 21 mol% of the product.
融点： ９７〜９７．５℃
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩａ）： δ １．３４．１．３
７（ｓ、６Ｈ）、 ３．２８（ｓ、３Ｈ）、 ３．４８
（ｔ、Ｃ４，７Ｈｚ、ＩＮ）、 ３．７６−４．１０（
雪、２Ｈ）、 ４．１５−４．３７（■、ＩＮ）、
４．５１（ｔ、Ｊ＝４．７Ｈｚ、ＩＨ）、 ５．１５
（ｄ、Ｊ＝５．０６．ＩＨ）、７．２６（ｓ、５Ｈ）。Melting point: 97-97.5°C 'HNMR (CDCIa): δ 1.34.1.3
7 (s, 6H), 3.28 (s, 3H), 3.48
(t, C4, 7Hz, IN), 3.76-4.10(
Snow, 2H), 4.15-4.37 (■, IN),
4.51 (t, J=4.7Hz, IH), 5.15
(d, J=5.06.IH), 7.26 (s, 5H).
元素分析値： Ｃ＋ｓＨ２＠０４として計算値 Ｃ：
６８． １６． Ｈ： ７． ６３％４−Ｏ−
（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２゜３−０−イソプロ
ピリデン−アルデヒド−Ｄ−エリトロースとｌ−エトキ
シ−２−メチル−１−プロペンとの反応を等モルの三フ
ッ化ホウ素・エーテラートを用いて行わせ実施例１と同
様に処理することにより目的物を８７モル％で得ること
かでき た。Elemental analysis value: Calculated value as C+sH2@04 C:
68. 16. H: 7. 63%4-O-
(t-Butyldimethylsilyl)-2゜3-0-isopropylidene-aldehyde-D-erythrose and l-ethoxy-2-methyl-1-propene were reacted using equimolar boron trifluoride etherate. By carrying out the same treatment as in Example 1, it was possible to obtain the desired product at 87 mol%.
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）： δ ０．０８（８
，６１１）、 ０゜９１（ｓ、９Ｍ）、 ０．９９
（ｓ、３Ｈ）、 １．０３（ｓ、３Ｈ）、 １．１
９（ｔ、Ｊ＝７Ｎ２．３Ｈ）、 １．３１（８，３Ｈ
）、 １．３３（ｓ、３Ｈ）、 ３．４０−４．０
９（−，７Ｈ）、 ４．７６（ｓ、ＩＮ）。'HNMR (CDCIs): δ 0.08 (8
, 611), 0°91 (s, 9M), 0.99
(s, 3H), 1.03 (s, 3H), 1.1
9 (t, J=7N2.3H), 1.31 (8,3H
), 1.33 (s, 3H), 3.40-4.0
9(-,7H), 4.76(s, IN).
実施例
５ エ ル ６−０− ｔ −ルＳ
ルー −一 ’−１−
上記実施例４の１−エトキシ−２−メチル−１−プロペ
ンの代わりにβ−ブロモビニルエチルエーテルを使用し
、次いて同じ試薬で反応を行わせ同様に処理することに
より目的物を８２モル％の収率で得ることができた。Example 5 L6-0-t-L S
Lu-1'-1- Using β-bromo vinyl ethyl ether instead of 1-ethoxy-2-methyl-1-propene in Example 4 above, and then carrying out the reaction with the same reagent and treating in the same manner. The target product could be obtained in a yield of 82 mol%.
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１ｘ＞： δ ０．０７（Ｓ、
６Ｈ）、 ０．９０（ｓ、９Ｈ）、 １．２５（ｔ、Ｊ
＝７Ｈｚ、３Ｈ）、 １．３５（ｓ、６Ｈ）、 ３．３
８−３．９０（■、５Ｈ）、 ４．００！、２２（ｍ、
２Ｈ）、 ４．４４（ｄｄ、Ｊ＝４．５．２Ｈｚ）、
５．０４（ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ、ＩＨ）。'HNMR(CDC1x>: δ 0.07(S,
6H), 0.90(s, 9H), 1.25(t, J
=7Hz, 3H), 1.35(s, 6H), 3.3
8-3.90 (■, 5H), 4.00! , 22 (m,
2H), 4.44 (dd, J=4.5.2Hz),
5.04 (d, J=4Hz, IH).
２．３−Ｏ−（４−メトキシベンジリデン）−４，５−
０−イソプロピリデン−アルデヒド−Ｄ−アラビノース
と２倍モルの３−アセトキシ−１−フェニルチオ−１−
プロペンの反応を１．２倍モルの三フッ化ホウ素・エー
テラートを用いて行わせ実施例１と同様に処理すること
により目的物を７６モル％で得ることができた。2.3-O-(4-methoxybenzylidene)-4,5-
0-isopropylidene-aldehyde-D-arabinose and 2 times the mole of 3-acetoxy-1-phenylthio-1-
The reaction of propene was carried out using 1.2 times the molar amount of boron trifluoride etherate, and the same treatment as in Example 1 yielded the desired product at 76 mol %.
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）： ６１．３９（ｓ、３Ｈ
）、 １゜４５（ｓ、３Ｈ）、 ２．０６（ｓ、３Ｈ）
、 ２．８５（ｔｄ、Ｊ＝３．８，７．６Ｈｚ。'HNMR (CDCI3): 61.39 (s, 3H
), 1°45 (s, 3H), 2.06 (s, 3H)
, 2.85 (td, J=3.8, 7.6Hz.
ｌ１１）、 ３．８０（ｓ、３Ｈ）＋ ３．８４−４．
６０．（＠、８Ｎ）、 ５．３３（ｄ、Ｊ＝３．８Ｈｚ
、ＩＨ）、 ５．４６（ｓ、１Ｎ）、 ６．９０（ｄ、
Ｊ＝９．５Ｈｚ、２Ｈｚ）、 ７．１７−８．１６（
園、７Ｎ）。l11), 3.80 (s, 3H) + 3.84-4.
60. (@, 8N), 5.33 (d, J=3.8Hz
, IH), 5.46 (s, 1N), 6.90 (d,
J=9.5Hz, 2Hz), 7.17-8.16(
Sono, 7N).
ロ −−ゝB −−ゝ
Claims (1)
ル基、およびエーテル、エステル等の官能基を含む置換
基、Ｒ＾２、Ｒ＾３は、水素原子またはアルキル基、ア
リール基、Ｒ＾４、Ｒ＾５は、水素原子またはハロゲン
、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、
適当に保護されたヒドロキシメチル基、Ｘは、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基であることをそれぞれ示す。）で表される２−デオ
キシアルドース誘導体。 ２、一般式［II］、［III］ ▲数式、化学式、表等があります▼＋▲数式、化学式、
表等があります▼ ［II］［III］ →▲数式、化学式、表等があります▼ ［ I ］ （式中、Ｒ＾１は、水素原子またはアルキル基、アリー
ル基、およびエーテル、エステル等の官能基を含む置換
基、Ｒ＾２、Ｒ＾３は、水素原子またはアルキル基、ア
リール基、Ｒ＾４、Ｒ＾５は、水素原子またはハロゲン
、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、
適当に保護されたヒドロキシメチル甚、Ｘは、アルコキ
シ墓、アリールオキシ墓、アルキルチオ基、アリールチ
オ基であることをそれぞれ示す。）で表される化合物を
適当なルイス酸を触媒として環化縮合させ、一般式［
I ］で表される２−デオキシアルドース誘導体を製造す
る方法。[Claims] 1. General formula [I] ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [I] (In the formula, R^1 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an ether, ester, etc.) A substituent containing a functional group, R^2 and R^3 are a hydrogen atom or an alkyl group, an aryl group, R^4 and R^5 are a hydrogen atom or a halogen, an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group,
The appropriately protected hydroxymethyl group and X represent an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, and an arylthio group, respectively. ) 2-deoxyaldose derivative represented by. 2. General formulas [II], [III] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼＋▲Mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc. ▼ [II] [III] →▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. A substituent containing a group, R^2 and R^3 are a hydrogen atom or an alkyl group, an aryl group, R^4 and R^5 are a hydrogen atom or a halogen, an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group,
X represents an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, respectively. ) is subjected to cyclization condensation using a suitable Lewis acid as a catalyst to obtain the general formula [
A method for producing a 2-deoxyaldose derivative represented by [I].
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6229990A JPH03261795A (en) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | 2-deoxyaldose derivative and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6229990A JPH03261795A (en) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | 2-deoxyaldose derivative and production thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03261795A true JPH03261795A (en) | 1991-11-21 |
Family
ID=13196104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6229990A Pending JPH03261795A (en) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | 2-deoxyaldose derivative and production thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03261795A (en) |
-
1990
- 1990-03-12 JP JP6229990A patent/JPH03261795A/en active Pending
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