JPH03247726A - 活性金属のプラズマ溶解方法 - Google Patents
活性金属のプラズマ溶解方法Info
- Publication number
- JPH03247726A JPH03247726A JP4625890A JP4625890A JPH03247726A JP H03247726 A JPH03247726 A JP H03247726A JP 4625890 A JP4625890 A JP 4625890A JP 4625890 A JP4625890 A JP 4625890A JP H03247726 A JPH03247726 A JP H03247726A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- melting
- plasma
- active metal
- arc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims abstract description 66
- 230000008018 melting Effects 0.000 title claims abstract description 65
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 46
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- -1 titanium Chemical class 0.000 description 1
- 238000010313 vacuum arc remelting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、活性金属のプラズマ溶解方法に係わり、詳細
にはチタン、ジルコニウム等、あるいは希土類元素等の
活性金属からなる鋳塊を得るに際してのプラズマ溶解方
法に関するものである。
にはチタン、ジルコニウム等、あるいは希土類元素等の
活性金属からなる鋳塊を得るに際してのプラズマ溶解方
法に関するものである。
（従来の技術と発明が解決しようとする課題〕チタン等
の活性金属からなる鋳塊を得るだめの溶解方法としては
、従来より真空アーク再溶解法（以下ＶＡＲ法と称する
）が汎用されている。このＶＡＲ法は、予め活性金属か
らなる電極を製造し、高真空下（１０−２〜１０−’ｔ
ｏｒｒ程度）で電極と水冷るつぼ内熔湯間にアークを発
生させ、アーク熱により電極を溶解させる方法である。
の活性金属からなる鋳塊を得るだめの溶解方法としては
、従来より真空アーク再溶解法（以下ＶＡＲ法と称する
）が汎用されている。このＶＡＲ法は、予め活性金属か
らなる電極を製造し、高真空下（１０−２〜１０−’ｔ
ｏｒｒ程度）で電極と水冷るつぼ内熔湯間にアークを発
生させ、アーク熱により電極を溶解させる方法である。
ところがこのＶＡＲ法では、上述したように溶解に先立
ち活性金属からなる電極を製造する必要があり、また電
極の製造をも含め工程が複雑て鋳塊の生産性が低いとい
う難点があった。
ち活性金属からなる電極を製造する必要があり、また電
極の製造をも含め工程が複雑て鋳塊の生産性が低いとい
う難点があった。
一方、近年、真空技術の進歩および高工不ルギ加工技術
の発達に伴いプラズマ溶解方法を利用したプラズマ溶解
・鋳造方法が提案され注目されている。この方法は、不
活性ガスをプラズマアーク発生ガスとして用い、７６０
〜１Ｏ−２ｔｏｒｒ程度の溶解炉内雰囲気圧下で溶解原
料にプラズマを照射して溶解し、得られた溶湯を順次水
冷鋳型へ供給して鋳塊を得る方法である。そして、この
方法において、プラズマアーク発生ガスとしては一般に
アルゴンガス（以下Ａｒガスと称する）が用いられてい
るが。溶解効率向上を目的として近年、ヘリウムガス（
以下Ｈｅガスと称する）の利用が提案され注目を集めて
いる。その原理は、ＨｅガスはＡｒガスに比べて熱伝導
率が高いので、Ｈｅガスを用いると、プラズマアーク柱
が外部から冷却されアーク柱の断面積が減少する熱的ピ
ンチ効果が得られる。これにより電位傾度が大きくなり
アーク間電圧の増加すなわち電力の増加をもたらすと共
に、アーク柱温度が上昇し溶湯への入熱が大きくなり溶
解効率が向上するものと考えられる。
の発達に伴いプラズマ溶解方法を利用したプラズマ溶解
・鋳造方法が提案され注目されている。この方法は、不
活性ガスをプラズマアーク発生ガスとして用い、７６０
〜１Ｏ−２ｔｏｒｒ程度の溶解炉内雰囲気圧下で溶解原
料にプラズマを照射して溶解し、得られた溶湯を順次水
冷鋳型へ供給して鋳塊を得る方法である。そして、この
方法において、プラズマアーク発生ガスとしては一般に
アルゴンガス（以下Ａｒガスと称する）が用いられてい
るが。溶解効率向上を目的として近年、ヘリウムガス（
以下Ｈｅガスと称する）の利用が提案され注目を集めて
いる。その原理は、ＨｅガスはＡｒガスに比べて熱伝導
率が高いので、Ｈｅガスを用いると、プラズマアーク柱
が外部から冷却されアーク柱の断面積が減少する熱的ピ
ンチ効果が得られる。これにより電位傾度が大きくなり
アーク間電圧の増加すなわち電力の増加をもたらすと共
に、アーク柱温度が上昇し溶湯への入熱が大きくなり溶
解効率が向上するものと考えられる。
そこで、本発明者らも溶解効率向上を確認すべく、プラ
ズマアーク発生カスとして純Ｈｅカスと純Ａｒガスとを
用い、７６０ｔｏｒｒの炉内雰囲気圧下で、切屑材およ
びスポンジチタンの粉砕したものを溶解容器に投入しな
がらプラズマ溶解を試みた。その結果、純Ａｒガスの場
合に比較して純Ｈｅガスの場合は、溶解時間が大幅に短
縮できることが確認されたが、純Ｈｅガスの場合はアー
ク柱が絞られた分、純Ａｒガスの場合に比較して原料へ
のガス噴射力が強くなり、切屑材の飛散や、スポンジ材
のスプラッシュ現象による溶湯の飛散がより多く観察さ
れ溶解歩留りか逆に低下することが知見された。しかも
、このように切屑材や溶湯が多く飛散すると、プラズマ
トーチや炉壁への付着が多くなり、トーチ詰まり、付着
物の溶湯内への落下筒の操業」二のトラブルが発生し易
くなる。
ズマアーク発生カスとして純Ｈｅカスと純Ａｒガスとを
用い、７６０ｔｏｒｒの炉内雰囲気圧下で、切屑材およ
びスポンジチタンの粉砕したものを溶解容器に投入しな
がらプラズマ溶解を試みた。その結果、純Ａｒガスの場
合に比較して純Ｈｅガスの場合は、溶解時間が大幅に短
縮できることが確認されたが、純Ｈｅガスの場合はアー
ク柱が絞られた分、純Ａｒガスの場合に比較して原料へ
のガス噴射力が強くなり、切屑材の飛散や、スポンジ材
のスプラッシュ現象による溶湯の飛散がより多く観察さ
れ溶解歩留りか逆に低下することが知見された。しかも
、このように切屑材や溶湯が多く飛散すると、プラズマ
トーチや炉壁への付着が多くなり、トーチ詰まり、付着
物の溶湯内への落下筒の操業」二のトラブルが発生し易
くなる。
［発明の目的］
本発明は、上記の事情に着目してなされたものであって
、その目的は、溶解原料としてスポンジ材や切屑材を含
む活性金属原料を用いた場合でも、切屑材の飛散や、ス
ポンジ材のスプラッシュ現象による溶湯の飛散を抑制し
て溶解歩留りを低下させることなく、しかも溶解効率を
向上させた活性金属のプラズマ溶解方法を堤供しようと
するものである。
、その目的は、溶解原料としてスポンジ材や切屑材を含
む活性金属原料を用いた場合でも、切屑材の飛散や、ス
ポンジ材のスプラッシュ現象による溶湯の飛散を抑制し
て溶解歩留りを低下させることなく、しかも溶解効率を
向上させた活性金属のプラズマ溶解方法を堤供しようと
するものである。
上記目的を達成するため、本発明に係わる活性金属のプ
ラズマ溶解方法は、スポンジ材および／または切屑材を
含む活性金属原料をプラズマ溶解する方法であって、プ
ラズマアーク発生ガスとしてＨｅガスやネオンガス（以
下Ｎｅガスと称する）を１０％以上含むＡｒガスを用い
、熔解炉内を７６０ｔｏｒｒ未満に減圧して原料をプラ
ズマ溶解するものである。
ラズマ溶解方法は、スポンジ材および／または切屑材を
含む活性金属原料をプラズマ溶解する方法であって、プ
ラズマアーク発生ガスとしてＨｅガスやネオンガス（以
下Ｎｅガスと称する）を１０％以上含むＡｒガスを用い
、熔解炉内を７６０ｔｏｒｒ未満に減圧して原料をプラ
ズマ溶解するものである。
そして、プラズマアーク発生ガスとしては、純Ｈｅガス
または純Ｎｅガスを用いてもよい。
または純Ｎｅガスを用いてもよい。
また、溶解用容器におけるプラズマ照射領域を囲繞する
如く原料と同種の活性金属からなる壁材を溶解用容器上
に記載の活性金属のプラズマ溶解してもよい。
如く原料と同種の活性金属からなる壁材を溶解用容器上
に記載の活性金属のプラズマ溶解してもよい。
〔作 用］
活性金属のプラズマ溶解を行うに当たり、プラズマアー
ク発生ガスとしてＡｒガスにＨｅガスやＮｅガスを１０
％以上含ませると、熱伝導率が向上しプラズマアーク柱
が外部から冷却されアーク柱の断面積が減少する熱的ピ
ンチ効果が得られる。
ク発生ガスとしてＡｒガスにＨｅガスやＮｅガスを１０
％以上含ませると、熱伝導率が向上しプラズマアーク柱
が外部から冷却されアーク柱の断面積が減少する熱的ピ
ンチ効果が得られる。
これにより、電位傾度が大きくなりアーク間電圧の増加
すなわち電力の増加をもたらすと共に、アーク柱温度が
上昇し溶湯への入熱が大きくなり溶解効率すなわち溶解
速度の向上がはかられる。
すなわち電力の増加をもたらすと共に、アーク柱温度が
上昇し溶湯への入熱が大きくなり溶解効率すなわち溶解
速度の向上がはかられる。
加えて、溶解炉内を７６０ｔｏｒｒ未溝の減圧雰囲気と
することにより、溶湯への入熱効果をほぼ享受したまま
で前記アーク柱の断面積の減少が緩和され、アーク柱が
太くなった分プラズマアーク発生ガスが広がり原料への
噴射力が弱まるので、溶解効率をそれほど低下させるこ
となく切屑材の飛散や、スポンジ材のスプラッシュ現象
による溶湯の飛散を抑制することができ、従って溶解歩
留りの低下はもとより、トーチ詰まり等の操業上のトラ
ブルの発生をも抑制することができる。尚、炉内雰囲気
の減圧は、特に制限されるものでは無いが、好ましくは
７１０〜２００ｔｏｒｒ程度がよく、７１０ｔ。
することにより、溶湯への入熱効果をほぼ享受したまま
で前記アーク柱の断面積の減少が緩和され、アーク柱が
太くなった分プラズマアーク発生ガスが広がり原料への
噴射力が弱まるので、溶解効率をそれほど低下させるこ
となく切屑材の飛散や、スポンジ材のスプラッシュ現象
による溶湯の飛散を抑制することができ、従って溶解歩
留りの低下はもとより、トーチ詰まり等の操業上のトラ
ブルの発生をも抑制することができる。尚、炉内雰囲気
の減圧は、特に制限されるものでは無いが、好ましくは
７１０〜２００ｔｏｒｒ程度がよく、７１０ｔ。
ｒｒ以下であれば、上記作用効果が明確に得られ、２０
０ｔｏｒｒ未溝になると、」二記作用効果が飽和する傾
向にあるためである。
０ｔｏｒｒ未溝になると、」二記作用効果が飽和する傾
向にあるためである。
また、熔解用容器におけるプラズマ照射領域を囲繞する
如く原料と同種の活性金属からなる壁材を溶解用容器上
に記載の活性金属のプラズマ溶解することにより、飛散
した切屑材や溶湯が捕捉され、プラズマトーチや炉壁へ
の付着が防止でき、トーチ詰まり、付着物の溶湯内への
落下環の操業上のトラブルの発生が抑制される上に、壁
材をプラズマ熔解原料とすることにより、溶解歩留りの
向上が図られる。
如く原料と同種の活性金属からなる壁材を溶解用容器上
に記載の活性金属のプラズマ溶解することにより、飛散
した切屑材や溶湯が捕捉され、プラズマトーチや炉壁へ
の付着が防止でき、トーチ詰まり、付着物の溶湯内への
落下環の操業上のトラブルの発生が抑制される上に、壁
材をプラズマ熔解原料とすることにより、溶解歩留りの
向上が図られる。
〔実 施 例］
以下、本発明の詳細な説明する。
図は、本実施例で使用したプラズマ溶解炉の概略説明図
である。図において、（１）はプラズマトーチ、（２）
は溶解炉本体、（３）は原料溶解用容器、（４）は原料
供給ホッパ、（５）は原料、（６）は溶解原料と同種の
成分からなる壁材、（７）はプラズマトーチ（１）の先
端を自在に移動するための球面軸受けを示す。
である。図において、（１）はプラズマトーチ、（２）
は溶解炉本体、（３）は原料溶解用容器、（４）は原料
供給ホッパ、（５）は原料、（６）は溶解原料と同種の
成分からなる壁材、（７）はプラズマトーチ（１）の先
端を自在に移動するための球面軸受けを示す。
このように構成されたプラズマ溶解炉を用い、スポンジ
チタン、チタンの切屑を原料とし、プラズマアーク発生
ガス流量（３０Ｅ ／分）および原料供給量（１０ｋｇ
）を同じにし、下表に示す溶解条件の下でプラズマ溶解
を行い、その時の溶解歩留りおよび溶解時間を調べた。
チタン、チタンの切屑を原料とし、プラズマアーク発生
ガス流量（３０Ｅ ／分）および原料供給量（１０ｋｇ
）を同じにし、下表に示す溶解条件の下でプラズマ溶解
を行い、その時の溶解歩留りおよび溶解時間を調べた。
これらの結果も下表に併せて示す。
（以 下 余 白）
上表より明らかなように、Ｎｏ、 １〜Ｎｏ、 ８は原
料にスポンジチタンを用いた場合でる。
料にスポンジチタンを用いた場合でる。
Ｎｏ、 ］は比較例であって、プラズマアーク発生ガス
にＡｒガスのみを使用し雰囲気圧７６０ｔｏｒｒＴ：熔
解したもので、歩留りは９２％と比較的よいが、熔解時
間が３０分と長くかかった。
にＡｒガスのみを使用し雰囲気圧７６０ｔｏｒｒＴ：熔
解したもので、歩留りは９２％と比較的よいが、熔解時
間が３０分と長くかかった。
これに対し、本発明例であるＮｏ、 ３． Ｎｏ、 ５
およびＮｏ、８は、プラズマアーク発生ガスとしてＡ
ｒ ＋１０％Ｈｅガス、純ＨｅガスおよびＡｒ−１−５
０％Ｎｅガスを使用すると共に、雰囲気圧を減圧して溶
解したもので、Ｎｏ、 １に比較して歩留りがほぼ同じ
で溶解時間はＨｅガス等の混合量が増すと共に大幅に短
縮された。
およびＮｏ、８は、プラズマアーク発生ガスとしてＡ
ｒ ＋１０％Ｈｅガス、純ＨｅガスおよびＡｒ−１−５
０％Ｎｅガスを使用すると共に、雰囲気圧を減圧して溶
解したもので、Ｎｏ、 １に比較して歩留りがほぼ同じ
で溶解時間はＨｅガス等の混合量が増すと共に大幅に短
縮された。
また比較のため、上記Ｎｏ、 ３． Ｎｏ、 ５および
Ｎｏ、 ８とプラズマアーク発生ガス条件を同じにし、
雰囲気圧を７６０ｔｏｒｒで溶解したＮｏ、 ２． Ｎ
ｏ、 ４およびＮｏ、 ７は、溶解時間は上記Ｎｏ、
３． Ｎｏ、 ５およびＮｏ、 ８とほぼ同しであった
が、歩留りが大きく低下した。
Ｎｏ、 ８とプラズマアーク発生ガス条件を同じにし、
雰囲気圧を７６０ｔｏｒｒで溶解したＮｏ、 ２． Ｎ
ｏ、 ４およびＮｏ、 ７は、溶解時間は上記Ｎｏ、
３． Ｎｏ、 ５およびＮｏ、 ８とほぼ同しであった
が、歩留りが大きく低下した。
またＮｏ、 ６は、原料溶解用容器（３）の上に溶解原
料と同種の成分からなる壁材（６）を設け、上記Ｎｏ、
５と１０ 同条件でプラズマ溶解したもので、これによると溶解時
間、歩留り甚大幅に向上し得た。
料と同種の成分からなる壁材（６）を設け、上記Ｎｏ、
５と１０ 同条件でプラズマ溶解したもので、これによると溶解時
間、歩留り甚大幅に向上し得た。
Ｎｏ、 ９〜Ｎｏ、 １２は原料にチタン切屑を用いた
場合でるが、上記スポンジチタンの場合と、はぼ同傾向
の結果が得られた。
場合でるが、上記スポンジチタンの場合と、はぼ同傾向
の結果が得られた。
（発明の効果〕
上述したように、本発明に係わる活性金属のプラズマ溶
解方法によれば、溶解原料としてスポンジ材や切屑材を
含む活性金属原料を用いて、これら原料の溶解歩留りを
低下させることなく、溶解効率を向上させたプラズマ溶
解ができる。
解方法によれば、溶解原料としてスポンジ材や切屑材を
含む活性金属原料を用いて、これら原料の溶解歩留りを
低下させることなく、溶解効率を向上させたプラズマ溶
解ができる。
図は、本発明に係わるプラズマ溶解炉の概略説明図であ
る。 （１）プラズマトーチ （２）溶解炉本体（３）原料
溶解用容器 （４）原料供給ホッパ（５）原料
（６）壁材 （７）球面軸受は
る。 （１）プラズマトーチ （２）溶解炉本体（３）原料
溶解用容器 （４）原料供給ホッパ（５）原料
（６）壁材 （７）球面軸受は
Claims (3)
- （１）スポンジ材および／または切屑材を含む活性金属
原料をプラズマ溶解する方法であって、プラズマアーク
発生ガスとしてヘリウムガスやネオンガスを１０％以上
含むアルゴンガスを用い、溶解炉内を７６０ｔｏｒｒ未
満に減圧して原料をプラズマ溶解することを特徴とする
活性金属のプラズマ溶解方法。 - （２）プラズマアーク発生ガスとして、純ヘリウムガス
または純ネオンガスを用いることを特徴とする第１請求
項に記載の活性金属のプラズマ溶解方法。 - （３）上記第１請求項または第２請求項に記載の活性金
属のプラズマ溶解方法において、溶解用容器におけるプ
ラズマ照射領域を囲繞する如く原料と同種の活性金属か
らなる壁材を溶解用容器上に立設してプラズマ溶解する
ことを特徴とする活性金属のプラズマ溶解方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4625890A JPH03247726A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 活性金属のプラズマ溶解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4625890A JPH03247726A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 活性金属のプラズマ溶解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03247726A true JPH03247726A (ja) | 1991-11-05 |
Family
ID=12742174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4625890A Pending JPH03247726A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 活性金属のプラズマ溶解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03247726A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100659285B1 (ko) * | 2005-09-12 | 2006-12-20 | 한국생산기술연구원 | 플라즈마 아크 용해법 및 이를 이용한 고융점 활성금속소경봉 제조방법 |
| CN110527839A (zh) * | 2018-05-25 | 2019-12-03 | 华北电力大学 | 一种利用等离子体回收飞灰中稀土金属的方法 |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP4625890A patent/JPH03247726A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100659285B1 (ko) * | 2005-09-12 | 2006-12-20 | 한국생산기술연구원 | 플라즈마 아크 용해법 및 이를 이용한 고융점 활성금속소경봉 제조방법 |
| CN110527839A (zh) * | 2018-05-25 | 2019-12-03 | 华北电力大学 | 一种利用等离子体回收飞灰中稀土金属的方法 |
| CN110527839B (zh) * | 2018-05-25 | 2020-11-17 | 华北电力大学 | 一种利用等离子体回收飞灰中稀土金属的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8668760B2 (en) | Method for the production of a β-γ-TiAl base alloy | |
| US3005246A (en) | Method of producing high-quality ingots of reactive metals | |
| JP2005002356A (ja) | チタン合金の製造方法 | |
| JP2006299302A (ja) | プラズマアーク溶解による活性高融点金属含有合金の長尺鋳塊の製造方法 | |
| CN103502505A (zh) | Cu-Ga合金溅射靶及其制造方法 | |
| TW201341540A (zh) | 高純度鈦鑄錠、其製造方法及鈦濺鍍靶 | |
| JPH06264232A (ja) | Ｔａ製スパッタリングタ−ゲットとその製造方法 | |
| JP2010037651A (ja) | 真空アーク溶解法によるチタンインゴットの製造方法 | |
| JPH04131330A (ja) | 純チタン又はチタン合金材の製造方法 | |
| JPH03247726A (ja) | 活性金属のプラズマ溶解方法 | |
| US3378671A (en) | Nonconsumable arc-melting and arc-welding electrodes | |
| JPS57146466A (en) | Casting method for titanium casting consisting of pure titanium or alloy consisting essentially of titanium | |
| JP4042095B2 (ja) | 高純度金属粉の製造方法および高純度金属粉の製造装置 | |
| JPS63210206A (ja) | 金属粉末製造装置 | |
| JPH0331405A (ja) | 金属粉末の製造方法及びその装置 | |
| JP3632722B2 (ja) | チタン合金製造用バナジウム含有母合金の製造法 | |
| JPH04218626A (ja) | 高純度高融点材料インゴットの製造法 | |
| JPH0995743A (ja) | 溶製金属系材料の製造方法及び溶製金属系材料並びに電子ビ−ム溶解設備 | |
| JP2784324B2 (ja) | チタンの製造方法 | |
| JPS61106731A (ja) | 高融点活性金属合金の溶製法 | |
| JP2775722B2 (ja) | タンタル又はタンタル合金の溶製法 | |
| RU2191836C2 (ru) | Способ получения слитков | |
| Moss et al. | The arc-melting of niobium, tantalum, molybdenum and tungsten | |
| JPS62153108A (ja) | 溶製方法 | |
| RU2349658C1 (ru) | Способ производства вольфрама высокой чистоты |