JPH03242306A - Preparation of two zone porous substance by catalytic halosilylation - Google Patents

Preparation of two zone porous substance by catalytic halosilylation

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JPH03242306A
JPH03242306A JP2026217A JP2621790A JPH03242306A JP H03242306 A JPH03242306 A JP H03242306A JP 2026217 A JP2026217 A JP 2026217A JP 2621790 A JP2621790 A JP 2621790A JP H03242306 A JPH03242306 A JP H03242306A
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support
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Abstract

PURPOSE: To easily obtain a two-area porous material by mixing a porous support having an OH group with a solvent and a Lewis base catalyst, adding a specific halosilane to the mixture, forming a silyl group of a first type on the outside surface of this support and supplying a silyl group of a second type to its inside surface.
CONSTITUTION: The hydroxyl group-contg. porous support selected from a porous metalloid oxide, metal oxide, etc., is prepd. This porous support is then suspended in a solvent and after the Lewis base catalyst is added thereto, the halosilane which is the halosilane of the amt. of the not exceeding two molecules per unit nM2 of the porous support in this suspension and has the silyl group of the first type is added to the suspension to form the silyl group of the first type on the outside surface of the support by a catalytic reaction. The silyl group of the second type is then supplied to the inside surface of the support and thereafter, the treated support is separated, by which the two-area porous material having the outer area including the outside surface of the porous material and the inner area including the inside surface of the porous material is obtd.
COPYRIGHT: (C)1991,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、多孔性物質の外表面に固定された第一のタイ
プのシリル基を有する外側区域とその多孔性物質の内表
面に固定された第二のタイプのシリル基を有する内側区
域とを有する二区域(dualzone)多孔性物質を
製造するための方法、及びそのように製造された二区域
物質に関する。もっと詳しく言えば、本発明は、ヒドロ
キシル基を有する多孔性支持体の主として外表面を触媒
反応でハロシリル化しそして二区域物質を製造するため
の方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention provides an outer zone having a first type of silyl group fixed to the outer surface of a porous material and a first type of silyl group fixed to the inner surface of the porous material. and an inner zone having a second type of silyl group, and the dual zone material so produced. More particularly, the present invention relates to a method for catalytically halosilylating the primarily external surface of a porous support having hydroxyl groups and producing a two-zone material.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕同時係
属米国特許出願第154754号及び第598120号
明細書には、ヒドロキシル基を有する多孔性支持体、例
えば多孔性シリカ、アルミナ、ジルコニア等の如きもの
を、化学量論的量より少ない量の超高速シリル化剤で処
理することにより作られる二表面(より正確には二区域
と名づけられる)多孔性物質が開示される。このシリル
化剤は、非常に反応性であるため結果として得られる表
面の原子団がそのシリル化剤が多孔質の内側区域へ深く
移動する時間を得る前に多孔性支持体の外側区域で固定
されるものから選ばれる。その後のシリル化反応を使用
して、内側区域に主として存在する残留ヒドロキシル基
を別のタイプの第二の固定された原子団に変えることが
できる。D、E、LeydenliWilliams 
& Tangney著″5ilanes+ 5urfa
ces &Interfaces’(1986)Gor
don & Breach Publisher。
[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] Co-pending U.S. Pat. A bisurface (more accurately termed bizone) porous material is disclosed that is made by treating a kimono with a sub-stoichiometric amount of an ultrafast silylating agent. The silylating agent is so reactive that the resulting surface groups become immobilized in the outer regions of the porous support before the silylating agent has time to migrate deep into the porous inner regions. selected from those that are available. A subsequent silylation reaction can be used to convert the residual hydroxyl groups present primarily in the inner zone to a second fixed group of another type. D.E.LeydenliWilliams
& Tangney “5ilanes+5urfa”
ces &Interfaces' (1986) Gor
Don & Breach Publisher.

p、471ffをも参照されたい。See also p. 471ff.

同時係属米国特許出願第598120号明細書において
は、開示された超高速シリル化剤は反応性シラン中間体
である。同時係属米国特許出願第154754号明細書
では、超高速シリル化剤は、i)置換アミド、ii)置
換アミン又はtii)チオエーテルのような「離脱基」
を有するシランである。これらのたやすく得られる離脱
基は、表面ヒドロキシル基との反応のために必要とされ
る活性化エネルギーを低下させ、かくしてそのシランを
多孔性物質の外側区域で共有結合の形成により捕捉する
ことのできる、すなわちそれがその物質中へ拡散して進
む間に早いうちに捕捉することのできる度合を上昇させ
る。
In co-pending US patent application Ser. No. 598,120, the ultrafast silylating agent disclosed is a reactive silane intermediate. Co-pending U.S. patent application Ser.
It is a silane with These readily available leaving groups reduce the activation energy required for reaction with surface hydroxyl groups, thus making it more difficult for the silane to be captured by covalent bond formation in the outer regions of the porous material. ie increase the degree to which it can be captured early on as it diffuses into the material.

同時係属米国特許出願第154754号及び第5981
20芳容明細書に述べられたように、伝統的なシリル化
反応は一般に、多孔性支持体の外表面の選択的シリル化
を許容するのに十分速くはない。「伝統的なシリル化」
は、ブルードマン(Plueddemann) +“E
ncyclopedia of Chemical T
echnology”第3版第20巻p、962〜96
3に記載される。ブルードマンは、シリル化はシリル基
による活性水素の有機分子からの置換であって、[活性
水素は通常OH、NH又はSHであり、シリル化剤は通
常ハロゲン化トリメチルシリル又は窒素官能性化合物で
ある。複数のシリル化剤の混合物を使用してもよく、ト
リメチルクロロシラン及びヘキサメチルジシラザンの混
合物はどちらかの薬剤だけよりも反応性であって、副生
物は結合して中性の塩化アンモニウムを生成する」と述
べている。
Co-pending U.S. Patent Applications Nos. 154,754 and 5981
As stated in the 20-year-old specification, traditional silylation reactions are generally not fast enough to allow selective silylation of the outer surface of a porous support. "Traditional silylation"
is Plueddemann + “E”
ncyclopedia of Chemical T
technology” 3rd edition, Vol. 20, p. 962-96
3. Broedmann explains that silylation is the displacement of active hydrogen from an organic molecule by a silyl group [the active hydrogen is usually OH, NH or SH, and the silylation agent is usually a trimethylsilyl halide or a nitrogen-functional compound]. . Mixtures of multiple silylating agents may be used; mixtures of trimethylchlorosilane and hexamethyldisilazane are more reactive than either agent alone, and the by-products combine to form neutral ammonium chloride. "I will."

ハロシラン類は、詳しく言うと試みられているけれども
、二区域物質を製造するのには不十分であることが分っ
ている。例えば、ハニカット(M、L、Hunnicu
tt)及びハリス(J9M、Harris)+”Rea
ctivity of Organosilane R
eagents onMicroparticulat
e  5ilica  r  Anal、Chem、、
  Vol、58(1986)は、シリカのシリル化の
細孔拡散の制御を説明しようとしてハロシランの使用を
検討する。
Halosilanes, although specifically attempted, have proven insufficient to produce two-zone materials. For example, Hunnicu (M, L, Hunnicu)
tt) and Harris (J9M, Harris) +”Rea
activity of Organosilane R
agents on Microparticulate
e 5ilica r Anal, Chem,,
Vol. 58 (1986) discusses the use of halosilanes in an attempt to explain the control of pore diffusion in the silylation of silica.

ハニカット及びハリスは、二つのオルガノシラン混合物
とシリカゲルとの間の競合表面反応の結果を検討する。
Honeycutt and Harris discuss the consequences of competitive surface reactions between two organosilane mixtures and silica gel.

使用されたオルガノシラン混合物には、(1−ブロモメ
チル)ジメチルモノクロロシラン、(1−クロロメチル
)ジメチルモノクロロシラン又は(3−クロロプロピル
)ジメチルモノクロロシランのようなハロアルキルシラ
ン二つの混合物も、ハロアルキルシランとへキサメチル
ジシラザン(HMDS)又はトリメチルクロロシラン(
7MC5)のようなアルキルシランとの混合物も含まれ
る。多数の事例において、塩基に触媒される反応のため
にシリカスラリーヘシランを加えるよりも前にピリジン
のような触媒が添加された。ハニカット及びハリスは、
彼らの反応は細孔拡散を抑制しないことを示した。この
ように、彼らは彼らの選定した固定される原子団の差別
的な分布については二区域物質を製造することができな
かった。
The organosilane mixtures used include mixtures of two haloalkylsilanes, such as (1-bromomethyl)dimethylmonochlorosilane, (1-chloromethyl)dimethylmonochlorosilane or (3-chloropropyl)dimethylmonochlorosilane, as well as mixtures of haloalkylsilanes and Hexamethyldisilazane (HMDS) or trimethylchlorosilane (
Mixtures with alkylsilanes such as 7MC5) are also included. In many cases, a catalyst such as pyridine was added prior to adding the silane to the silica slurry for base-catalyzed reactions. Hunnicutt and Harris
It was shown that their reactions do not inhibit pore diffusion. Thus, they were unable to produce bizonal materials for their chosen differential distribution of immobilized groups.

この結果は、い(つかの要因によるものと信じられる。This result is believed to be due to several factors.

最も重要なのは、ハニカット及びハリスにより用いられ
たタイプのクロロシランの混合物は、反応がピリジンで
触媒される場合にも十分な速度で且つ差別的には反応し
ないことである。
Most importantly, mixtures of chlorosilanes of the type used by Honeycutt and Harris do not react sufficiently rapidly and differentially even when the reaction is catalyzed with pyridine.

更に、反応条件は、両方のクロロシランを外側区域で選
択的に一緒に捕捉するという点からも、二区域物質を製
造するようには調整されなかった。
Furthermore, the reaction conditions were not adjusted to produce a two-zone material in that both chlorosilanes were selectively trapped together in the outer zone.

第一に、彼らの使用した溶媒は、非常に極性のあるもの
であって水素結合される複合体におけるプロトン供与体
であることが知られているクロロホルムであった。この
ような溶媒は、恐らくは表面の反応性部位(シラノール
)を隔離しそうして反応速度を遅くすることによって、
細孔拡散の抑制を低減することが分っている。エタノー
ルのようなプロトン性溶媒は、ハロシランが加溶媒分解
されそしてより反応性の低いエトキシシランに変えられ
るので、より一層有害である。第二に、ハニカット及び
ハリスは、平均するとシリカ表面積1平方ナノメートル
(nM2)当り36分子になる過剰量のシランを使用し
たが、これはシリカを飽和させ、かくして二区域構造と
言うよりむしろ不均一に飽和した表面処理を与えたであ
ろう、第三に、シリカスラリーへのシランの添加速度は
極度に速く、約0.3分子/IBM”  −1Iinで
あった。従って、個々のシリカ粒子は異常な投入量のシ
ランにさらされたであろうし、また結果として得られた
粒子間の不均質性はそうでなければ生じたかもしれない
粒子内のいずれの異質性(二区域構造)をも圧倒したで
あろう、それゆえに、たとえハニカット及びハリスが触
媒されるハロシラン反応として説明することのできるも
のを行ったとしても、ハニカット及びハリスはそのよう
な反応機構によっていかにして二区域物質を製造するの
かを当業者に教示しない。
First, the solvent they used was chloroform, which is very polar and is known to be a proton donor in hydrogen-bonded complexes. Such solvents probably act by isolating reactive sites (silanols) on the surface and thus slowing down the reaction rate.
It has been found to reduce inhibition of pore diffusion. Protic solvents such as ethanol are even more harmful because the halosilanes are solvolyzed and converted to less reactive ethoxysilanes. Second, Honeycutt and Harris used an excess of silane, averaging 36 molecules per square nanometer (nM2) of silica surface area, which saturates the silica and thus creates an unstructured rather than two-zone structure. Third, the rate of addition of silane to the silica slurry was extremely fast, approximately 0.3 molecules/IBM"-1Iin, which would have given a uniformly saturated surface treatment. Therefore, individual silica particles would have been exposed to an unusual dosage of silane, and the resulting interparticle heterogeneity would have eliminated any intraparticle heterogeneity (two-zone structure) that might have otherwise occurred. Therefore, even if Honeycutt and Harris carried out what can be described as a catalyzed halosilane reaction, Honeycutt and Harris did not understand how the two-zone material could be produced by such a reaction mechanism. It does not tell those skilled in the art how to make it.

しかもなお、外表面及び内表面に例えば特定のクロマト
グラフィーや触媒への応用のために差別的に選択的な吸
着剤を供給するためには、主として外表面に一つのタイ
プのシリル基を有しそして主として内表面にもう一つの
タイプのシリル基を有する二区域多孔性物質を製造する
ことが望ましいことが知られている。比較的費用がかが
らず且つ容易に入手可能なハロシラン反応物を用いてそ
のようにすることもまた望ましいことであろう。
And yet, in order to provide differentially selective adsorbents on the outer and inner surfaces, for example for specific chromatographic or catalytic applications, it is desirable to have only one type of silyl group on the outer surface. And it is known that it is desirable to produce bizonally porous materials having another type of silyl group primarily on the inner surface. It would also be desirable to do so using relatively inexpensive and readily available halosilane reactants.

しかしながら現在までのところ、この目的のためにハロ
シラン反応物を使用することは可能ではなかった。
However, to date it has not been possible to use halosilane reactants for this purpose.

それゆえに、二区域多孔性物質を製造するのにヒドロキ
シル基を有する多孔性支持体の主として外表面をハロシ
リル化するための方法の要求が取り残されている。
Therefore, there remains a need for a method for halosilylating primarily the outer surface of a porous support having hydroxyl groups to produce bizonally porous materials.

〔課題を解決するための手段及び作用効果〕本発明は、
触媒されるハロシランを使用することにより二区域物質
を製造するための方法を提供することによってその要求
を満たす。本発明で使用される好ましいハロシランは、
第一のタイプのシリル基を有し、そして触媒されるシリ
ル化の後に、多孔性支持体の主として外表面で第一のタ
イプのシリル基を生成する。このように、好ましいハロ
シランは、少なくとも一つの有機基又は有機官能基、例
えばペルフルオロブチルエチレンジメチルシリル基、ク
ロロプロピルシリル基、5iCJaO(CLCHtO)
−R(この式中のaは0〜10であり、そしてRはアル
キル基、アリール基又はアセチル基である)及び CHzCH−CHz し Me2 (上式中のMeはメチル基である)のようなものを有す
る。好ましいのは、式M e 3− @ Cz Ha 
CyI X z□1を有するシリル基(この式中、Xは
ハロゲンであり、nは1以上であり、Meはメチル基で
あり、そしてmは1〜3である)である。
[Means and effects for solving the problem] The present invention has the following features:
That need is met by providing a method for making two-zone materials by using catalyzed halosilanes. Preferred halosilanes for use in the present invention are:
having silyl groups of the first type and, after catalyzed silylation, producing silyl groups of the first type primarily on the outer surface of the porous support. Thus, preferred halosilanes include at least one organic or organic functional group, such as perfluorobutylethylenedimethylsilyl, chloropropylsilyl, 5iCJaO(CLCHtO)
-R (in which a is from 0 to 10 and R is an alkyl, aryl or acetyl group) and CHzCH-CHz Me2 (in which Me is a methyl group) have something Preferred is the formula M e 3- @ Cz Ha
A silyl group having CyI X z□1 in which X is a halogen, n is 1 or more, Me is a methyl group, and m is 1-3.

ハロシランはまた、ケイ素と結合した1又は2以上の離
脱基りを有し、離脱基のうちの少なくとも一つは非フツ
素ハロゲンすなわち塩素、臭素又はヨウ素であって、こ
れは触媒された場合に多孔性支持体の外表面のヒドロキ
シル基と反応する。
Halosilanes also have one or more silicon-bonded leaving groups, at least one of the leaving groups being a non-fluorine halogen, i.e. chlorine, bromine or iodine, which when catalyzed Reacts with hydroxyl groups on the outer surface of the porous support.

少なくとも一つが非フツ素ハロゲンでありそしてそのほ
かが例えばアルコキシ基又はアセトキシ基のようなゆっ
くり離脱する基である混成離脱基も適している。
Hybrid leaving groups in which at least one is a non-fluorine halogen and the others are slowly leaving groups such as eg alkoxy or acetoxy groups are also suitable.

このように、好ましいハロシランは式 LJe3−msicJnca+Xts+xを有し、この
式において、Lは非フツ素ハロゲンであり、Meはメチ
ル基であり、XはLと同じでもよくあるいはLと異なる
ものでもよいハロゲンであり、nは1以上であり、そし
てmは1〜3である。ハロシランは、溶液型混合物で加
えることができる。
Thus, preferred halosilanes have the formula LJe3-msicJnca+Xts+x, where L is a non-fluorine halogen, Me is a methyl group, and X is a halogen which may be the same as or different from L. , n is 1 or more, and m is 1-3. Halosilanes can be added in solution-based mixtures.

ハロシラン混合物は、多孔性支持体、例えば多孔性のメ
タロイド酸化物、多孔性の金属酸化物又はそれらの混合
物のようなもの(好ましくは粒状の形状であり、最も好
ましくは粒状シリカ)を、溶媒と混ぜ合わせて作られた
多孔性支持体懸濁液に加えられる。好ましい溶媒は、ハ
ロシランを加溶媒分解する非プロトン性溶媒である。最
も好ましいのは、ヘキサン、オクタン、デカン、トルエ
ン又はそれらの混合物のような無極性溶媒である。
The halosilane mixture is a porous support, such as a porous metalloid oxide, a porous metal oxide or a mixture thereof (preferably in granular form, most preferably granular silica), combined with a solvent. Add to the porous support suspension made by mixing. Preferred solvents are aprotic solvents that solvolyze the halosilane. Most preferred are non-polar solvents such as hexane, octane, decane, toluene or mixtures thereof.

と言うのは、そのような無極性溶媒は、それらと表面の
反応性部位との相互作用が最小限のため反応速度を遅ら
せないからである。多孔性支持体懸濁液はまた、好まし
くは触媒をも含有する。触媒はルイス塩基触媒であり、
好ましくはピリジン、イミダゾール又はアンモニアのよ
うな塩基性アミンである。ヘキサメチルホスホロアミド
又はジメチルスルホキシド(DMSO)のようなシラン
の加溶媒分解を大いに促進することが知られている求核
剤も有効である。
Such non-polar solvents do not retard the reaction rate because their interaction with surface reactive sites is minimal. The porous support suspension preferably also contains a catalyst. The catalyst is a Lewis base catalyst,
Preferred are basic amines such as pyridine, imidazole or ammonia. Nucleophiles known to greatly promote solvolysis of silanes, such as hexamethylphosphoramide or dimethyl sulfoxide (DMSO), are also effective.

触媒を含有している、ヒドロキシル基を有する多孔性支
持体の懸濁液をハロシランと接触させることの結果とし
て、第一のタイプのシリル基が多孔性支持体の主として
外表面で生成される。これだけで、シリカを多孔性支持
体として使用する場合且つシラノール基が内側区域にお
いて未反応のままである限りは、二区域物質を作り出す
のに十分である。しかしながら好ましくは、多孔性支持
体を続いて第二のタイプのシリル基(第一のタイプのも
のとは異なる)を有する第二のシランと接触させる。そ
のシランは、多孔性支持体の内部へ拡散し、多孔性支持
体のヒドロキシル基と反応することにより共有結合を形
成して、多孔性支持体の内表面で第二のタイプのシリル
基を生成することが可能なものであるべきである。
As a result of contacting the catalyst-containing suspension of the porous support with hydroxyl groups with the halosilane, silyl groups of the first type are produced primarily on the outer surface of the porous support. This alone is sufficient to create a two-zone material if silica is used as the porous support and as long as the silanol groups remain unreacted in the inner zone. Preferably, however, the porous support is subsequently contacted with a second silane having a second type of silyl groups (different from those of the first type). The silane diffuses into the interior of the porous support and forms a covalent bond by reacting with the hydroxyl groups of the porous support to generate a second type of silyl group on the inner surface of the porous support. It should be possible to do so.

好ましいのは、式R,,SiX、を有する第二のシラン
であって、この式中、Rは水素、炭素原子数1〜20個
のアルキル基、フェニル基、ビニル基及びアリル基より
独立に選択され、Xは塩素、炭素原子数1〜4個のアル
コキシ基、アセトキシ基、アミン及びアミド基から選択
される加水分解可能な基であり、そしてeは1.2又は
3の値を有する。そのほかの有機官能性シランを使用し
てもよい。
Preferred is a second silane having the formula R, SiX, where R is independently from hydrogen, alkyl of 1 to 20 carbon atoms, phenyl, vinyl, and allyl. X is a hydrolyzable group selected from chlorine, alkoxy groups of 1 to 4 carbon atoms, acetoxy groups, amines and amide groups, and e has a value of 1.2 or 3. Other organofunctional silanes may also be used.

第二のタイプのシリル基を有する第二のシランを後に多
孔性支持体と接触させると、それは多孔性支持体の内表
面のヒドロキシル基と主として反応する。これは、外表
面のヒドロキシル基の大部分は触媒されるハロシリル化
によって既に消費されているからである。外表面に残る
ヒドロキシル基とのいくらかの反応が起こるかもしれな
いとはる一方内側区域は第二のタイプのシリル基を「主
として」含有するという点で、良好品質の二区域物質を
提供する。
When a second silane having a second type of silyl group is subsequently contacted with the porous support, it reacts primarily with the hydroxyl groups on the inner surface of the porous support. This is because most of the hydroxyl groups on the outer surface have already been consumed by the catalyzed halosilylation. It provides a good quality two-zone material in that the inner zone contains "predominantly" silyl groups of the second type, while some reaction with the hydroxyl groups remaining on the outer surface may occur.

実際には、多孔性支持体の外側区域にあると考えられる
表面積の総計に対する内側区域にあると考えられるそれ
の総計は、種々様々になりうる。
In practice, the amount of surface area considered to be in the inner area relative to the amount of surface area considered to be in the outer area of the porous support may vary.

この発明の目的にとって好ましいのは、内側区域が多孔
性物質の表面積の内側のおおよそ90%を構成し、そし
て外側区域が多孔性物質の表面積の外側のおおよそ10
%を構成する状態である。ハロシランをより多量に使用
すると、多孔性支持体の内部への侵入の度合がより大き
くなり、多孔性支持体の表面のより多数のヒドロキシル
基との反応を引き起こすことになり、そして多孔性支持
体の表面積のうちのより大きな割合を占めるより大きな
外側区域を作り出すことになろう。このように、外側区
域は表面積の0.5%から50%までの範囲に及ぶこと
ができ、内側区域は表面積の50%から99.5%まで
の範囲に及ぶことができる。
Preferably for the purposes of this invention, the inner region comprises approximately the inner 90% of the surface area of the porous material and the outer region comprises approximately the outer 10% of the surface area of the porous material.
%. Using a larger amount of halosilane will result in a greater degree of penetration into the interior of the porous support, causing reaction with a larger number of hydroxyl groups on the surface of the porous support, and would create a larger outer area that would take up a larger proportion of the surface area of. Thus, the outer region can range from 0.5% to 50% of the surface area, and the inner region can range from 50% to 99.5% of the surface area.

いずれにしても、触媒されるハロシリル化の程度を外側
区域の大きさを調節するように制御することが可能であ
る。これは、液体クロマトグラフィーやそのほかにおけ
る充填物質として使用するためのような、分離のための
様々な程度の容量を有する二区域物質を製造するのを可
能にする。
In any case, it is possible to control the degree of catalyzed halosilylation by adjusting the size of the outer zone. This allows the production of two-zone materials with varying degrees of capacity for separation, such as for use as packing materials in liquid chromatography and elsewhere.

従って、触媒されるハロシリル化を利用して二区域多孔
性物質を製造するための改良方法を提供すること及びそ
の方法により製造される二区域物質を提供することが、
本発明の目的である0本発明のそのほかの目的及び利点
は、以下の詳しい説明と特許請求の範囲の記載から明ら
かになろう。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide an improved method for making two-zone porous materials using catalyzed halosilylation and to provide two-zone materials made by the method.
Other objects and advantages of the invention will become apparent from the following detailed description and claims.

この発明において有用であるのが分っている多孔性物質
は、表面にヒドロキシル基を有する多孔性固体である物
質である。そのような物質は、例えば、シリカ、シリカ
ゲル、アルミナ、スタニア、チタニア、ジルコニア、そ
のほか同様のものである。そしてまた、これらの物質は
、その物質がその表面にヒドロキシル基を有しあるいは
表面にヒドロキシル基を生成しさえすれば、多孔性ガラ
ス、多孔性のセラミックス又はプラスチックであること
もできる。
Porous materials that have been found useful in this invention are materials that are porous solids having hydroxyl groups on their surface. Such materials are, for example, silica, silica gel, alumina, stannia, titania, zirconia, and the like. These materials can also be porous glasses, porous ceramics or plastics, as long as the materials have hydroxyl groups on their surface or produce hydroxyl groups on their surface.

多孔性物質の形態は、大して重要ではない0粒状の多孔
性物質も、フィラメント、スラブ、円板、ブロック、球
体、フィルム及びそのほかのそのような形態も、この発
明で用いることができる。やはりこの発明の範囲内にあ
ると考えられるのは、この発明の方法により粒状物質を
処理し、そしてその処理された粒状物質を後に成形して
スラブ、円板、ブロック、球体、フィルム、膜、シート
及び他の同様のものにすることである。
The form of the porous material is not critical; both granular porous materials, filaments, slabs, disks, blocks, spheres, films, and other such forms can be used in the present invention. It is also considered within the scope of this invention to treat particulate material according to the method of this invention and to subsequently form the treated particulate material into slabs, discs, blocks, spheres, films, membranes, etc. to make sheets and other similar things.

この発明にとって好ましいのは、多孔性のメタロイド酸
化物、金属酸化物又はそれらの混合物であり、例えば、
全ての関連のある形態のシリカ、アルミナ、ジルコニア
及びチタニアのようなものである。最も好ましいのは、
細孔径が例えば50人から2000人まで様々であるこ
とができそして粒度が例えば34から10100O11
まで色々であることができる粒状シリカである。
Preferred for this invention are porous metalloid oxides, metal oxides or mixtures thereof, e.g.
Such as silica, alumina, zirconia and titania in all relevant forms. The most preferred is
The pore size can vary, for example from 50 to 2,000 pores and the particle size can vary, for example from 34 to 10,100 pores.
It is a granular silica that can be of various types.

先に言及したように、本発明の二区域多孔性物質の製造
における第一の工程は、多孔性支持体の溶媒懸濁液を作
ることである。この溶媒は、好ましくは非プロトン性溶
媒であり、最も好ましくは無極性溶媒、例えばヘキサン
、オクタン、デカン、トルエン又はそれらの混合物であ
る。好ましくは、粒度3〜1000mの多孔性シリカ粒
子を0.1〜40w/V%の量で溶媒と混ぜ合わせる。
As previously mentioned, the first step in making the bizonally porous materials of the present invention is to create a solvent suspension of the porous support. The solvent is preferably an aprotic solvent, most preferably a non-polar solvent such as hexane, octane, decane, toluene or mixtures thereof. Preferably, porous silica particles with a particle size of 3 to 1000 m are mixed with the solvent in an amount of 0.1 to 40 w/v%.

やはり先に言及したように、この段階でルイス塩基触媒
を加えてもよい。触媒は、アミン様のピリジン又はアン
モニアでよいが、イミダゾールがより好ましい触媒であ
る。一定の条件下でハロシランと複合体を形成すること
が知られている例えばヘキサメチルホスホロアミドのよ
うな求核剤も、シランの加溶媒分解を大いに促進するこ
とが知られているそのほかの例えばジメチルスルホキシ
ドのようなものも、やはり用いることができる。
Also as mentioned above, a Lewis base catalyst may be added at this stage. The catalyst may be amine-like pyridine or ammonia, but imidazole is the more preferred catalyst. Nucleophiles, e.g. hexamethylphosphoramide, which are known to form complexes with halosilanes under certain conditions, as well as others, e.g., which are known to greatly promote solvolysis of silanes. Something like dimethyl sulfoxide can also be used.

使用すべき触媒の量は、シリカ表面1平方ナノメートル
当り少なくとも0.05分子でなければならない。好ま
しい触媒使用量は0.2〜4.8分子/ n M Zで
ある。
The amount of catalyst to be used should be at least 0.05 molecules per square nanometer of silica surface. The preferred amount of catalyst used is 0.2 to 4.8 molecules/nMZ.

次に、多孔性支持体懸濁液ヘハロシランを加えるが、こ
れは好ましくは溶液型混合物の形であって、好ましくは
その多孔性支持体懸濁液で使用するのと同じ溶媒を使用
する。このハロシランは第一のタイプのシリル基を有す
るものである。好ましいハロシランは式L@Me3−@
5iCJ4CJzn+ rを有し、この式中、Lは非フ
ツ素ハロゲンであり、Meはメチル基であり、XはLと
同じでもよくあるいはLと異なるものでもよいハロゲン
であり、nは1以上であり、そしてmは1〜3である。
The porous support suspension hehalosilane is then added, preferably in the form of a solution-based mixture, preferably using the same solvent used in the porous support suspension. This halosilane has the first type of silyl group. Preferred halosilanes have the formula L@Me3-@
5iCJ4CJzn+ r, in which L is a non-fluorine halogen, Me is a methyl group, X is a halogen that may be the same as or different from L, and n is 1 or more; , and m is 1-3.

最も好ましいのはCaF、C,H4SiMezCl 、
すなわちC,F、を含有してなるフルオロアルキルシラ
ンではあるが、CFs、 CgFs、 C5Ft等を使
用することもできよう。
Most preferred are CaF, C, H4SiMezCl,
That is, although it is a fluoroalkylsilane containing C and F, CFs, CgFs, C5Ft, etc. may also be used.

フルオロアルキルシランは、それらを使って外側区域に
フルオロアルキルシリル基を有する二区域多孔性物質を
製造することができるという点で最も好ましい、フルオ
ロアルキルシリル基は、二区域多孔性物質を1987年
6月17日に出願された同時係属米国特許出願第063
576号明細書に開示されるように高圧液体クロマトグ
ラフィーの血清分析のための逆相充填剤物質として使用
する場合に、たん白質物質に対する吸着性のより少ない
疎油性相として働く。
Fluoroalkylsilanes are most preferred in that they can be used to produce bizonally porous materials with fluoroalkylsilyl groups in the outer zone. Co-pending U.S. Patent Application No. 063 filed on May 17th
When used as a reverse phase packing material for high pressure liquid chromatography serum analysis as disclosed in US Pat.

ハロシランは、0.01m/nM”から2.0m/nM
”までの範囲の量で使用することができ、好ましくは多
孔性支持体を0.2m/nM”のハロシランすなわち多
孔性支持体の表面積1平方ナノメートル当り0.2分子
のハロシランと接触させる。
Halosilane ranges from 0.01m/nM” to 2.0m/nM
Preferably, the porous support is contacted with 0.2 m/nM halosilane, or 0.2 molecules of halosilane per square nanometer of surface area of the porous support.

触媒されるハロシリル化は、1分から24時間までの期
間実施することができる。一般に、この発明の目的上は
、触媒されるハロシリル化をおよそ30分から6時間ま
での時間にわたって実施して多孔性物質の外表面が均一
に処理されるのを確実にすることが好ましい。
Catalyzed halosilylation can be carried out for a period of 1 minute up to 24 hours. Generally, for purposes of this invention, it is preferred to conduct the catalyzed halosilylation over a period of approximately 30 minutes to 6 hours to ensure uniform treatment of the outer surface of the porous material.

触媒されるハロシリル化を実行する温度は、厳密には重
要でな(,0°Cから400°Cまでの範囲にわたるこ
とができる。好ましいのは、室温から200”Cまでの
反応混合物温度である。
The temperature at which the catalyzed halosilylation is carried out is not strictly critical (it can range from 0°C to 400°C; preferred is a reaction mixture temperature from room temperature to 200°C). .

一般に、外側区域は多孔性支持体の表面積のうちの外側
の0.5%から50%までであることができる。そうは
言っても、外側と平均の表面組成の間には分析結果のラ
ンダムなばらつきのためそれほど大きくはない違いがし
ばしば存在する。更に、二つの組成間の現実の違いは、
物質の性質に有意の影響を及ぼすのに十分大きくなけれ
ばならない。
Generally, the outer zone can be the outer 0.5% to 50% of the surface area of the porous support. That said, there is often a not-so-significant difference between the outer and average surface compositions due to random variations in the analytical results. Furthermore, the real difference between the two compositions is
It must be large enough to have a significant effect on the properties of the material.

これらの問題を考慮して、意味のある二区域特性は、次
に掲げる条件のうちのどちらかが満たされる場合にのみ
獲得される。
In view of these issues, meaningful bizonal characteristics are obtained only if one of the following conditions is met:

(a)rl(E)/rl(A)2:1.5、r、(E)
2:0.3分子/nM”且つr、(A)≧0.1分子/
nM” (b)  r’、(E) /r’、(A) 2:1.5
、r’、(E)、=(多孔性物質の表面の飽和の15%
)、且つ、r、(A) 、ll= (多孔性物質の表面
の飽和の5%) ここで、r (E)は電子分光化学分析により推測され
たままの外表面密度(分子/nM”)であり、r”、(
A)及びr”、(A)はバルク分析により測定された平
均表面密度の同様な測定値であり、そして下付きの数字
1及び2はそれぞれ、触媒されるハロシランとの反応で
もって最初に固定された原子団及び次いで第二のシラン
との反応でもって固定された原子団に関連する。
(a) rl(E)/rl(A)2:1.5, r, (E)
2: 0.3 molecules/nM” and r, (A)≧0.1 molecules/
nM” (b) r', (E) /r', (A) 2:1.5
, r', (E), = (15% of the saturation of the surface of the porous material
), and r, (A) , ll = (5% of the saturation of the surface of the porous material), where r (E) is the outer surface density (molecules/nM”) as estimated by electron spectrochemical analysis. ), and r”, (
A) and r'', (A) are similar measurements of average surface density determined by bulk analysis, and subscript numbers 1 and 2 are, respectively, initially immobilized by reaction with a catalyzed halosilane. and then immobilized by reaction with a second silane.

濃度は、平方ナノメートル当りの分子数(m/nM”)
のような適当な単位で表される。
Concentration is the number of molecules per square nanometer (m/nM”)
expressed in an appropriate unit such as

R1(E)=Aj  /A。R1(E)=Aj/A.

ここで、xIはバルク元素分析によりシリカ1グラム当
りのモル数で測定されたある原子団(下付き数字1を付
けられる)の量であり、Sはシリカ1グラム当りの平方
メートル数で表される比表面積であり、そしてR1(E
’)は元素jの表面原子組成AJの元素rのそれA、に
対するESCA測定比である。元素jは原子団1に特有
であるように選定され、また元素rは主として多孔性基
材に由来するように選定される。ケイ素が対照元素rと
して選定されたが、これは固定されたシランによるAs
1への寄与が比較的小さいからである。類似の量r’ 
、(A)及びR@、(A)は、組成上の勾配のない固定
された原子団1を有するシリカについての測定により見
いだされる。そのような物質は、単一のシリル化剤での
徹底的な処理により容易に調製される。
where xI is the amount of a certain atomic group (subscripted 1) measured in moles per gram of silica by bulk elemental analysis, and S is expressed in square meters per gram of silica. is the specific surface area, and R1(E
') is the ESCA measurement ratio of the surface atomic composition AJ of element j to that A of element r. Element j is selected to be unique to group 1, and element r is selected to be primarily derived from the porous substrate. Silicon was selected as the control element r, which is due to the immobilized silane
This is because the contribution to 1 is relatively small. similar quantity r'
, (A) and R@, (A) are found by measurements on silica with a fixed group 1 without compositional gradients. Such materials are easily prepared by exhaustive treatment with a single silylating agent.

やはりこの発明の範囲内に含められるのが、中間体であ
る構成物である。これらの構成物は、固定されるケイ素
含有基がその外表面に対して反応しており且つその多孔
質の内表面がヒドロキシル基を含有している多孔性物質
からなる。1掲の量等しいという要件を低下させること
により修正される。
Also included within the scope of this invention are constructs that are intermediates. These constructs consist of a porous material to which the fixed silicon-containing groups have reacted and whose porous inner surface contains hydroxyl groups. Modified by lowering the requirement that the quantities listed above be equal.

これらの中間体は、内部の細孔表面を処理するのに反応
性シランを使って二区域物質を提供するための上に開示
された方法のための有用な製品である。
These intermediates are useful products for the above-disclosed method for providing a two-zone material using reactive silanes to treat internal pore surfaces.

このように、シリカの多孔性支持体にあっては内表面に
本来備わる未反応のシラノール基を内側区域と考えるこ
とが可能ではあるが、好ましくは第二のタイプのシリル
基を、主として外表面に第一のタイプのシリル基を有す
る多孔性支持体を第二のタイプのシリル基を有し且つ多
孔性支持体の内部へ拡散することが可能であるシランと
接触させて生成させる。
Thus, although it is possible to consider the unreacted silanol groups inherent in the inner surface of a porous silica support to be the inner region, it is preferable that the second type of silyl groups are primarily located on the outer surface. A porous support having silyl groups of a first type is contacted with a silane having silyl groups of a second type and capable of diffusing into the interior of the porous support.

この好ましい工程の目的は、第二のシランが多孔性支持
体の細孔中へ拡散するのを可能にすること、そしてこの
シランを内表面と共有結合しているヒドロキシル基と反
応させることである。この反応工程の間に水が加えられ
ると、それは実際上、内側区域のヒドロキシル基と反応
する、シランのシラノール基を有する加水分解生成物に
なり得る。
The purpose of this preferred step is to allow the second silane to diffuse into the pores of the porous support and to react with the hydroxyl groups covalently bonded to the inner surface. . If water is added during this reaction step, it can actually become a hydrolysis product with the silanol groups of the silane reacting with the hydroxyl groups of the inner zone.

多孔性物質の近づきやすい外側区域のヒドロキシル基は
触媒されるハロシリル化により効果的に除去されている
ので、第二のシランは、多孔性支持体の外表面に近づき
やすい反応部位を得ることができない。こうして、第二
のシランは、多孔性支持体の内表面に残っているヒドロ
キシル基のみを反応のために利用することができる。
Since the hydroxyl groups in the accessible outer areas of the porous material have been effectively removed by the catalyzed halosilylation, the second silane cannot obtain accessible reaction sites on the outer surface of the porous support. . Thus, the second silane can utilize only the hydroxyl groups remaining on the inner surface of the porous support for reaction.

従って、この工程は、第二のタイプのシリル基を有する
第二のシランが細孔の中へ拡散しそして第二のシランが
そこで内側区域のヒドロキシル基と反応すること(ある
いはシランが加水分解し次いでその加水分解物が細孔中
へ拡散して反応すること)を可能にするのに十分なだけ
の期間実施されなくてはならない。
This step therefore involves the diffusion of a second silane having a second type of silyl group into the pores and the reaction there of with the hydroxyl groups of the inner zone (or the silane is hydrolyzed). It must then be carried out for a period long enough to allow the hydrolyzate to diffuse into the pores and react.

この工程は、数分から数時間までの期間実行することが
できる。この発明のために好ましいこの工程のための反
応時間は10分から24時間までである、最も好ましい
のは1〜6時間である。
This step can be carried out for a period of minutes up to several hours. The preferred reaction time for this step for this invention is from 10 minutes to 24 hours, most preferably from 1 to 6 hours.

この工程が実施される温度は、大して重要ではない。予
想されるであろうように、温度を上昇させると反応速度
が上昇する。温度を上昇させることが余りにも多(の望
ましくない副反応を促進するようには見えない。このよ
うに、この工程で使用される温度は0°Cから400°
Cまでの範囲にわたることができる。最も好ましいのは
、約70〜120°Cの反応の還流温度である。
The temperature at which this step is carried out is not critical. As one would expect, increasing the temperature increases the reaction rate. Increasing the temperature too much does not appear to promote undesirable side reactions. Thus, the temperatures used in this step range from 0°C to 400°C.
It can range up to C. Most preferred is a reaction reflux temperature of about 70-120°C.

この発明において有用な第二のタイプのシリル基を有す
る第二のシランの量は、細孔内部の表面ヒドロキシルの
うちのどれだけを処理しようとするのかによる。第二の
シランは触媒されるハロシリル化により得られた外側の
表面基のいずれをも置換しないので、過剰の第二のシラ
ンを使用して差支えない。
The amount of the second silane having the second type of silyl group useful in this invention depends on how many of the surface hydroxyls inside the pores are desired to be treated. An excess of the second silane can be used since it does not replace any of the outer surface groups obtained by the catalyzed halosilylation.

この工程において有用な反応性シランは、通常のシリル
化剤として認められる種類のシランである。例えば、第
二のシランは、1988年2月11日出願の米国原特許
出願第154754号明細書の工程■で用いられる反応
性シランのうちのいずれでもよい。
Reactive silanes useful in this step are those types of silanes that are recognized as conventional silylating agents. For example, the second silane can be any of the reactive silanes used in step 2 of U.S. Patent Application No. 154,754, filed February 11, 1988.

第二のシランとして好ましいのは、一般式Rn−3iX
−を有するシランのようなものであって、この式におい
てRは水素、炭素原子数1〜20個のアルキル基、フェ
ニル基、ビニル基及びアリル基から独立に選択され、X
は塩素、炭素原子数1〜4個のアルコキシ基、アセトキ
シ基、アミン及びアミド基より選択される加水分解可能
な基であり、そしてeは1.2又は3の値を有する。そ
のほかの有機官能性シランを使用してもよい。
Preferred as the second silane is the general formula Rn-3iX
-, in which R is independently selected from hydrogen, alkyl groups of 1 to 20 carbon atoms, phenyl groups, vinyl groups, and allyl groups, and
is a hydrolyzable group selected from chlorine, alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, acetoxy groups, amines and amide groups, and e has a value of 1.2 or 3. Other organofunctional silanes may also be used.

ここで有用である具体的なシラン類には、次のものが含
められる。すなわち、トリメチルクロロシラン、ジメチ
ルジクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、N、N’
−ビス(トリメチルシリル)尿素、N−)リメチルシリ
ルジエチルアミン、N−トリメチルシリルイミダゾール
、N、O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、N
、O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトア
ミド、N−メチル−N−)リメチルシリルトリフルオロ
アセトアミド、t−ブチルジメチルシリルイミダゾール
、N−トリメチルシリルアセトアミド、N−トリメチル
シリルピペリジン、ヘキサメチルジシラザン、O−トリ
メチルシリルアセテート、〇−トリメチルシリルトリフ
ルオロアセテート、N−)リメチルシリルジメチルアミ
ン、N−)リメチルシリルモルホリン、N−トリメチル
シリルピロリドン、そしてN−)リメチルシリルアセト
アニリド、である。
Specific silanes that are useful herein include the following: Namely, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, N, N'
-bis(trimethylsilyl)urea, N-)limethylsilyldiethylamine, N-trimethylsilylimidazole, N, O-bis(trimethylsilyl)acetamide, N
, O-bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide, N-methyl-N-)limethylsilyltrifluoroacetamide, t-butyldimethylsilylimidazole, N-trimethylsilylacetamide, N-trimethylsilylpiperidine, hexamethyldisilazane, O-trimethylsilyl acetate, 0-trimethylsilyltrifluoroacetate, N-)limethylsilyldimethylamine, N-)limethylsilylmorpholine, N-trimethylsilylpyrrolidone, and N-)limethylsilylacetanilide.

この発明の更にもう一つの側面は、この工程において有
機官能性シランを使って多孔性物質をシリル化すること
である。この発明において有用なそのようなシラン類に
は、例えば、(α−メタクリロキシプロピル)トリメト
キシシラン、(4−アミノプロピル)トリエトキシシラ
ン、T−(β−アミノエチルアミノ)プロピルトリメト
キシシラン、(T−グリシドキシプロビル)トリメトキ
シシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、(β−メルカプトエチル)ト
リメトキシシラン、(T−メルカプトプロピル)トリメ
トキシシラン、(r−クロロプロピル)トリメトキシシ
ランや、下式のもの、すなわち、 CHz =CHCaH4CHJH(CHz) !NH(
CHz) 5Sj(OCH:+)3・HCI 。
Yet another aspect of the invention is the use of an organofunctional silane to silylate the porous material in this step. Such silanes useful in this invention include, for example, (α-methacryloxypropyl)trimethoxysilane, (4-aminopropyl)triethoxysilane, T-(β-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane, (T-glycidoxypropyl)trimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, (β-mercaptoethyl)trimethoxysilane, (T-mercaptopropyl)trimethoxysilane, (r -chloropropyl)trimethoxysilane, or those of the following formula, i.e., CHz = CHCaH4CHJH(CHz)! NH(
CHz) 5Sj(OCH:+)3・HCI.

(CH30) ssi (CL) J(CHs) zc
+ sHs、cl(CHs) 3si (CHz) s
N (CHs) zc+ zHtscド(CH30) 
3Si (CHz) JCHs(C+zHzs) zC
l−(CH30) ssi (CHz) 9CH31(
CHsO) 3si(CHz)+qCHsや、そのほか
同様のものが含まれる。これらのシランは、内側区域に
、外側区域の原子団の有益な輸送特性と有効に組み合わ
せることのできる様々の有効な化学的性質を与える。
(CH30) ssi (CL) J (CHs) zc
+ sHs, cl (CHs) 3si (CHz) s
N (CHs) zc+ zHtscdo (CH30)
3Si (CHz) JCHs (C+zHzs) zC
l-(CH30) ssi (CHz) 9CH31(
CHsO) 3si(CHz)+qCHs and other similar ones. These silanes provide the inner zone with a variety of useful chemistries that can be effectively combined with the beneficial transport properties of the groups in the outer zone.

例えば、外側の原子団は内側の表面に共有結合されるキ
レート化原子団のイオン選択度を高めることができる。
For example, outer groups can enhance the ion selectivity of chelating groups that are covalently bonded to the inner surface.

この工程における反応が本質的に終了したことが決定さ
れたならば、典型的には生成物を反応混合物から分離す
る。このように、この方法の最終工程は、そのような生
成物を反応混合物から分離することである。これは数多
(のやり方で達成することができる。例えば、液をデカ
ントし、多孔性物質を洗浄し、そして引き続き液をデカ
ントすることができ、あるいは反応混合物をろ過にかけ
て固形生成物から液を除去することができる。最終生成
物はこの形態で使用することができ、あるいはそれを乾
燥させることができる。最終生成物が粒状以外の形状で
ある場合には、それをそのまま使用することができ、あ
るいは、それを有益な性質を失うことなく更に形を付け
て成形することができる。最終生成物が粒状の形状であ
る場合には、それをそのまま使用することができ、ある
いは、それを圧縮し、焼結し、又は別な方法で成形する
ことができる。
Once it is determined that the reaction in this step is essentially complete, the product is typically separated from the reaction mixture. Thus, the final step of the process is to separate such products from the reaction mixture. This can be accomplished in a number of ways; for example, the liquor can be decanted, the porous material washed, and the liquor subsequently decanted, or the reaction mixture can be filtered to separate the liquor from the solid product. The final product can be used in this form or it can be dried. If the final product is in a form other than granules, it can be used as is. , or it can be further shaped and molded without losing its beneficial properties.If the final product is in granular form, it can be used as is or it can be compressed. It can be sintered, sintered, or otherwise shaped.

〔実施例〕〔Example〕

当業者がここに記載された本発明を十分に認め且つ理解
することができるように、以下に掲げる例を例示のみを
目的として提供する。これらの例を、特許請求の範囲に
明確に示される本発明を限定するものと解釈すべきでは
ない。
The following examples are provided for illustrative purposes only so that those skilled in the art may fully appreciate and understand the invention described herein. These examples should not be construed as limiting the invention, which is expressly defined in the claims.

二区域物質を得るためのこの新しい方法の六つの例を示
す。また、「触媒されない」クロロシランが二区域物質
を与えることができない三つの例を示す。次に述べる二
つの異なる多孔性シリカを使用した。そのシリカとは、
すなわち、1)ベーカ−(Baker) #3405−
1クロマトグラフィーグレードの、60〜200メツシ
ユ、細孔径60人、比表面積300Mz/ gのもの、
及び、2)アミコン(Amicon)#84224の、
20I!m粒子、細孔径250人、比表面積320M 
2/ gのもの、であった。
Six examples of this new method for obtaining two-zone materials are presented. Also shown are three examples in which "uncatalyzed" chlorosilanes are unable to provide two-zone materials. Two different porous silicas were used as described below. What is that silica?
That is, 1) Baker #3405-
1 chromatography grade, 60-200 mesh, pore size 60, specific surface area 300 Mz/g,
and 2) Amicon #84224,
20I! m particles, pore diameter 250 m, specific surface area 320 m
2/g.

貫−上:  C4F9CZH4MezSi/5iOH二
区域物質の調製1.00 g (2,40H/ nM2
で1.2 Xl0−3当量OH)の乾燥させたベーカー
シリ力(真空炉/180“C/16時間)及び1000
ccのオクタンを0.017 g (2,5X 10−
 ’当量又は0.5分子/nM”)のイミダゾールと一
緒に、エアーモーター駆動のパドル、添加漏斗そして上
部にNtスウィープを付けた凝縮器を備えた500cc
のひだ付き(indented)丸底フラスコに入れた
。この混合物を10分間かき混ぜ、125°Cで加熱し
て溶媒を還流させて、シリカ懸濁液を作った。次に、3
0ccのオクタン中に0.034 g (1,OX10
−4当量又は0.20m/nMりのC4FqCJJez
SiCj2(PFBCl )の新しく調製した溶液を、
勢いよくかき混ぜながら15分かけて加えた。次いで、
撹拌を行わずに反応混合物を45分間還流させた。冷却
後、シリカをろ過により分離してオクタンで3回、そし
てジエチルエーテルで3回洗浄した。最後に、この処理
されたシリカを真空炉でもって80℃で3時間乾燥させ
、それから分析又は更に別の作業を行った。
Part 1: Preparation of C4F9CZH4MezSi/5iOH two-zone material 1.00 g (2,40H/nM2
1.2 Xl0-3 eq.
0.017 g of cc of octane (2,5X 10-
500cc with air motor driven paddle, addition funnel and condenser with Nt sweep on top
into an indented round bottom flask. The mixture was stirred for 10 minutes and heated at 125°C to reflux the solvent to form a silica suspension. Next, 3
0.034 g (1,OX10
-4 equivalents or 0.20 m/nM of C4FqCJJez
A freshly prepared solution of SiCj2(PFBCl) was
The mixture was added over 15 minutes while stirring vigorously. Then,
The reaction mixture was refluxed for 45 minutes without stirring. After cooling, the silica was separated by filtration and washed three times with octane and three times with diethyl ether. Finally, the treated silica was dried in a vacuum oven at 80° C. for 3 hours before analysis or further work.

バルク分析からは、PFBの0.12m/nM”の平均
表面濃度に相当する1、04重量%のFの値が得られた
。ESCAによる外表面分析からは、PFBの0.75
m/nM”の外表面での濃度に相当する0、54F/S
tの値が得られた。このように、この物質は二区域物質
についての修正された条件(a)を満たす。
Bulk analysis yielded an F value of 1.04% by weight, corresponding to an average surface concentration of 0.12m/nM'' for PFB. External surface analysis by ESCA yielded an F value of 0.75% by weight for PFB.
0.54 F/S, corresponding to a concentration at the outer surface of "m/nM"
The value of t was obtained. Thus, this material satisfies the modified condition (a) for two-zone materials.

バルク分析の値を、シリカの比表面積とじて300M”
/ gの値を使用して平均の表面濃度に変えた。外表面
濃度の計算は、1.11 F / Si (ESCA)
及び10.74重量%のFという参照値を使って行った
The value of bulk analysis is calculated as 300M, including the specific surface area of silica.
/g values were used to convert to the average surface concentration. Calculation of outer surface concentration is 1.11 F/Si (ESCA)
and 10.74% F by weight.

これらの参照値は、上記のクロロシランのN−メチルア
セトアミド誘導体を過剰に用いて完全に処理を行って組
成の勾配が少しも存在しないことを確実にしたベーカー
シリカについて得られた。
These reference values were obtained for Baker silica which was thoroughly treated with the N-methylacetamide derivative of the chlorosilane described above to ensure that no compositional gradients were present.

!lLi:PFB/T門S二区域物質の調製例1におけ
るように処理されたシリカ0.35g及びオクタン10
0ccを、上部にN2スウイーブを付けた凝縮器を備え
た200ccの丸底フラスコに入れた。このスラリーを
1分間かき回し、そして0.13CC(8,4X 10
−’当量又はOHの2倍の当量)のNメチル−N−トリ
メチルシリルアセトアミド(TMSA)を加え、フラス
コを2時間加熱して還流させた。冷却後、処理されたシ
リカを上記のように分離し、洗浄し、そして乾燥させた
! lLi: 0.35 g of silica and 10 octane treated as in Example 1 for the preparation of PFB/T-S two-zone material
0 cc was placed in a 200 cc round bottom flask equipped with a condenser with a N2 sweep on top. This slurry was stirred for 1 minute and 0.13CC (8,4X 10
-' equivalents or twice the equivalents of OH) of N-methyl-N-trimethylsilylacetamide (TMSA) was added and the flask was heated to reflux for 2 hours. After cooling, the treated silica was separated, washed and dried as above.

バルク分析から、0.13m/nM”のPFB及び2.
25m/nM”のTMS ()リメチルシリル)の平均
表面濃度に相当する1、04重量%のF及び4.26重
量%のCの値が得られた。ESCAによる外表面の分析
からは、0.69m / nM”のPFBに相当する0
、49F/Stの値が得られた。このように、この物質
は二区域物質についての条件(a)を満たす。
From bulk analysis, PFB of 0.13 m/nM and 2.
Values of 1.04 wt.% F and 4.26 wt.% C were obtained, corresponding to an average surface concentration of TMS ()trimethylsilyl) of 25 m/nM. Analysis of the outer surface by ESCA revealed that 0.04 wt.% F and 4.26 wt.% C were obtained. 0 corresponding to a PFB of 69m/nM”
, 49F/St was obtained. Thus, this material satisfies condition (a) for a two-zone material.

■−ユニ  PPB/5iOH二区域物質の調製例1の
イミダゾールを20.3+Hのピリジン(0,5m/n
Mりと取替えたことを除き、例1と同じ手順を使用した
■-UNI PPB/5iOH Two-compartment substance preparation example 1 imidazole was added to 20.3+H pyridine (0.5 m/n
The same procedure as in Example 1 was used except that M was replaced.

バルク分析からは、PFBの0.17m/nM”の平均
表面濃度に相当する1、38重量%のFの値が得られた
。外表面の分析からは、0.32m/nM”に相当する
0、23F/Siの値が得られた。このように、この物
質は二区域物質についての修正された条件(a)を満た
した。
Bulk analysis yielded an F value of 1.38 wt%, corresponding to an average surface concentration of 0.17 m/nM'' in PFB; analysis of the outer surface yielded a value of 0.32 m/nM''. Values of 0.23F/Si were obtained. Thus, this material met the modified condition (a) for a two-zone material.

拠−土:  PFB/5iOH二区域物質の調製の失敗
例イミダゾール触媒を省略したことを除いて、例1と同
じ手順を使用した。
Based on: Unsuccessful Preparation of PFB/5iOH Bizonal Material The same procedure as Example 1 was used, except that the imidazole catalyst was omitted.

バルク分析からは、PFBの0.035m/nMzの平
均表面濃度に相当する0、29重量%のFの値が得られ
た。外表面の分析からは、0.08m / nM”に相
当する0、057F/Stの値が得られた。このように
、この物質は条件(a)もしくは(b)又は修正された
条件(a)もしくは(b)のいずれをも満たさなかった
のであり、二区域物質であると考えるべきではない。
Bulk analysis yielded an F value of 0.29% by weight, corresponding to an average surface concentration of 0.035 m/nMz for PFB. Analysis of the outer surface yielded a value of 0,057 F/St, corresponding to 0.08 m/nM''. Thus, this material was tested under conditions (a) or (b) or modified conditions (a). ) or (b), and should not be considered a two-zone substance.

■−5:  PFB/5iOH二区域物質の調製衣に掲
げることを除き、例1と同じ手順を使用した。
■-5: Preparation of PFB/5iOH two-compartment material The same procedure as in Example 1 was used, except as noted above.

すなわち、希硝酸中で2回還流させ、続いて蒸留水で徹
底的に洗浄してこの特定のシリカの初めの触媒活性を取
除いた、1.00 g (2,40H/ nM”で1.
3X10−”当量)の同じように乾燥させたアミコンシ
リカを使った。(上記の活性は、トリメチルシラノール
からのジシロキサンの生成に関係があり、そして表面の
シリル化の速度論には少しも影響を及ぼさなかったかも
しれない。)0.018 g(2,7X10−’当量又
は0.5m/nM”)のイミダゾール及び0.036g
 (1,I Xl0−’当量又は0.2m/nM”)の
PFBCfを使用した。
That is, 1.00 g (2.40 H/nM") was refluxed twice in dilute nitric acid, followed by thorough washing with distilled water to remove the initial catalytic activity of this particular silica.
(3×10-” equivalents) of similarly dried Amicon silica (the above activity is related to the formation of disiloxane from trimethylsilanol and has no effect on the kinetics of surface silylation). ) 0.018 g (2,7 x 10-' equivalents or 0.5 m/nM") of imidazole and 0.036 g
(1, I Xl0-'equivalent or 0.2 m/nM'') of PFBCf was used.

バルク分析からは、PFBの0.18m/nM”の平均
表面濃度に相当する1、58重量%のFの値が得られた
。ESCAによる外表面の分析からは、0.60m/n
M2のPFBに相当する0、39F/Siの値が得られ
た。このように、この物質は二区域物質についての修正
された条件(a)を満たす。
Bulk analysis yielded an F value of 1.58 wt%, corresponding to an average surface concentration of 0.18 m/nM'' for PFB. Analysis of the outer surface by ESCA yielded an F value of 0.60 m/nM.
A value of 0.39F/Si corresponding to the PFB of M2 was obtained. Thus, this material satisfies the modified condition (a) for two-zone materials.

バルク分析の値を、この特定のシリカの比表面積として
320M”/ gの値を使用して平均の表面濃度に変え
た。外表面濃度の計算は、1.21F/5i(ESCA
)及び12.86重量%のFという参照値を使って行っ
た。これらの参照値は、上記のクロロシランのN−メチ
ルアセトアミド誘導体を過剰に用いて完全に処理を行っ
て組成の勾配が少しも存在しないことを確実にしたアミ
コンシリカについて得られた。例6及び7における濃度
変換は同じようにして行った。
The value of the bulk analysis was converted to an average surface concentration using a value of 320 M''/g as the specific surface area for this particular silica.
) and a reference value of 12.86% F by weight. These reference values were obtained for Amicon silica which was thoroughly treated with an excess of the N-methylacetamide derivative of the chlorosilane described above to ensure that no compositional gradients were present. Concentration conversions in Examples 6 and 7 were performed in the same manner.

Li:  PFB/TMS二区域物質の調製上述の例5
の処理されたシリカ0.35gを、例2のために示した
手順のとおりに、0.14ccのTMSA(8,9Xl
0−’当量又はOHの2倍の当量)で処理し、洗浄し、
そして乾燥させた。
Li: Preparation of PFB/TMS two-zone material Example 5 above
0.35 g of treated silica was added to 0.14 cc of TMSA (8,9
0-' equivalents or 2 times equivalents of OH), washed,
And let it dry.

バルク分析から、0.17m/nM”のPFB及び2.
28m / nM”のTMSの平均表面濃度に相当する
1、47重量%のF及び4.69重景%のCの値が得ら
れた。ESCAによる外表面の分析からは、0.56m
/nM”のPFBに相当する0、37F/Stの値が得
られた。
From bulk analysis, PFB of 0.17 m/nM and 2.
Values of 1.47 wt% F and 4.69 wt% C were obtained, corresponding to an average surface concentration of TMS of 28 m/nM. Analysis of the outer surface by ESCA revealed that 0.56 m
A value of 0.37F/St was obtained, corresponding to a PFB of /nM''.

このように、この物質は二区域物質についての修正され
た条件(a)を満たした。
Thus, this material met the modified condition (a) for a two-zone material.

例 7 :  PFB/5iOH二区域物質の調製の失
敗例意図的に加えられた触媒を存在させることなく例5
の手順を繰り返した。
Example 7: Failure to prepare a PFB/5iOH two-zone material Example 5 without the presence of intentionally added catalyst
The procedure was repeated.

バルク分析からは、PFBの0.06m /nM”の平
均表面濃度に相当する0、56重量%のFの値が得られ
た。ESCAによる外表面の分析からは、0.11m/
nM”のPFBに相当する0、07F/Siの値が得ら
れた。このように、この物質は条件(a)もしくは(b
)又は修正された条件(a)もしくは(b)のいずれを
も満たさなかったのであり、二区域物質であると考える
べきではない。
Bulk analysis yielded an F value of 0.56 wt%, corresponding to an average surface concentration of 0.06 m/nM'' in PFB. Analysis of the outer surface by ESCA yielded an F value of 0.11 m/nM''.
A value of 0.07F/Si was obtained, which corresponds to a PFB of nM". Thus, this material can be used under conditions (a) or (b).
) or modified conditions (a) or (b) and should not be considered a two-zone substance.

fLL: cp、c、u4Me!st/ TMS二区域
物質の調製1.00 g (2,40H/ nM”で1
.2 Xl0−’当量OH)ノ180°Cで16時間乾
燥させたべ一カーシリ力及び100ccのヘキサンを0
.017g (2,5Xl0−’当量又は0.5分子/
nM”)のイミダゾールと一緒に、エアーモーター駆動
のパドル、添加漏斗そして上部にN2スウイープを付け
た凝縮器を備えた500ccのひだ付き丸底フラスコに
入れた。この混合物を10分間かき混ぜ、69°Cで加
熱して還流させた。還流している間に、15ccのヘキ
サン中に16.9111(又は0.2m/nM2)のC
FxCHzCHzMezSiCi!、(TFSC42と
表示される)の新しく調製した溶液を5分かけて加え、
続いて1分間かき混ぜた。次いで、この混合物に15c
cのへキサン中の0.18cc (2,8m / nM
2)のTMsCIlを加え、そして撹拌を行わずに2時
間還流させた。
fLL: cp, c, u4Me! Preparation of st/TMS two-zone material 1.00 g (1.00 g at 2,40H/nM”
.. 2Xl0-'equivalent OH)
.. 017g (2,5Xl0-' equivalent or 0.5 molecule/
nM”) of imidazole in a 500 cc fluted round bottom flask equipped with an air motor-driven paddle, an addition funnel, and a condenser with an N2 sweep on top. The mixture was stirred for 10 min and heated at 69° Heat to reflux at C. While at reflux, add 16.9111 (or 0.2 m/nM) of C in 15 cc of hexane.
FxCHzCHzMezSiCi! , (designated TFSC42) was added over 5 minutes,
This was followed by stirring for 1 minute. Then add 15c to this mixture
0.18 cc (2,8 m/nM in hexane of c
TMsCIl from 2) was added and refluxed for 2 hours without stirring.

冷却した混合物からろ過により固形分を取出し、そして
これをヘキサンで2回洗浄し、50150のアセトニト
リル/水で洗浄して塩類を取除き、アセトニトリルで洗
い、そして最後にジエチルエーテルで洗浄した。処理さ
れたシリカは、真空炉でもって80°Cで3時間乾燥さ
せ、そして分析に供した。
The solids were removed from the cooled mixture by filtration and washed twice with hexane, 50150 acetonitrile/water to remove salts, acetonitrile, and finally diethyl ether. The treated silica was dried in a vacuum oven at 80°C for 3 hours and subjected to analysis.

バルク分析からは、TFSの0.11m/nM”及びT
MSの1.38m / nM”の平均表面濃度に相当す
る0、30重量%のFの及び2.66重量%のC値が得
られた。ESCAによる外表面分析からは、TFSの0
.64m/nM”に相当する0、161F/Siの値が
得られた。
From the bulk analysis, 0.11 m/nM” of TFS and T
Values of 0, 30 wt% F and 2.66 wt% C were obtained, corresponding to an average surface concentration of 1.38 m/nM” for MS. External surface analysis by ESCA revealed that 0, 30 wt% F and 2.66 wt% C for TFS
.. A value of 0.161 F/Si was obtained, corresponding to 64 m/nM''.

このように、この物質は二区域物質についての条件(a
)を満たした。
Thus, this material has the condition for a two-zone material (a
) was met.

バルク分析の値を、ベーカーシリカの比表面積として3
00M”/ gの値を使用して平均の表面濃度に変えた
。外表面濃度の計算は、0.412F/5i(ESCA
)及び4.10重量%のFという参照値を使って行った
。これらの参照値は、室温で過剰のTFSAを用いて3
回完全に処理を行って組成の勾配が少しも存在しないこ
とを確実にしたべ一カーシリカについて得られた。例9
における濃度変換はこれと同じようにして行った。
The value of the bulk analysis is expressed as the specific surface area of Baker silica.
The value of 00M”/g was used to convert to the average surface concentration. The calculation of the outer surface concentration was 0.412F/5i (ESCA
) and 4.10% F by weight. These reference values were determined using excess TFSA at room temperature.
A sample of silica was obtained which was thoroughly processed twice to ensure that no compositional gradients were present. Example 9
Concentration conversion was performed in the same manner.

■−■:  TFS/TMS二区域物質の副区域物質例
例8の触媒(イミダゾール)を加えなかったことを除い
て、例8で示した手順に従って調製を試みた。
■-■: TFS/TMS Two-zone Material Sub-zone Material Example A preparation was attempted following the procedure set forth in Example 8, except that the catalyst (imidazole) of Example 8 was not added.

バルク分析からは、TFSの0.039m /nM”及
びTMSの0.27m / nM”の平均表面濃度に相
当する0、11重量%のF及び0.60重量%のCの値
が得られた。ESCAによる外表面の分析がらは、0.
064m/nM2のTFSに相当する0、016F/5
i(7)値が得られた。このように、この物質は条件(
a)もしくは(b)又は修正された条件(a)もしくは
(b)を満たすことができなかったのであり、二区域物
質であると考えるべきではない。
Bulk analysis yielded values of 0.11 wt% F and 0.60 wt% C, corresponding to average surface concentrations of 0.039 m/nM” for TFS and 0.27 m/nM” for TMS. . The analysis of the outer surface by ESCA shows that 0.
0,016F/5 corresponding to a TFS of 064m/nM2
The i(7) value was obtained. In this way, this substance has the condition (
a) or (b) or modified conditions (a) or (b) could not be met and should not be considered a two-zone substance.

本発明を詳細に且つその好ましい態様に言及して説明し
てきたが、特許請求の範囲において定義された本発明の
範囲からは逸脱することなしに改変及び変更が可能であ
ることは明らかであろう。
Although the invention has been described in detail and with reference to its preferred embodiments, it will be obvious that modifications and changes may be made thereto without departing from the scope of the invention as defined in the claims. .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、下記a)〜e)の工程を含む、多孔性物質の外表面
を含んでなる外側区域を有し且つその多孔性物質の内表
面を含んでなる内側区域を有する二区域(dual z
one)多孔性物質を鋼製する方法。 a)多孔性のメタロイド酸化物、多孔性の金属酸化物及
びそれらの混合物からなる群より選択される、ヒドロキ
シル基を有する多孔性支持体を用意する工程 b)この多孔性支持体を溶媒と混ぜ合わせて、ルイス塩
基触媒をも含有している多孔性支持体懸濁液を作る工程 c)この懸濁液へ、この懸濁液中の多孔性支持体の単位
nM^2当り2.00分子を超えない量のハロシランで
あって、第一のタイプのシリル基を有し且つ当該多孔性
支持体の主として外表面でその第一のタイプのシリル基
を生成するように上記の触媒により触媒されるものを加
える工程 d)上記の多孔性支持体の主として内表面に第二のタイ
プのシリル基を供給する工程 e)続いて、このように処理された多孔性支持体を分離
し、それにより当該二区域多孔性物質を供給する工程 2、前記多孔性支持体が粒状シリカである、請求項1記
載の方法。 3、前記ハロシランを加える速度が前記懸濁液中の多孔
性支持体の単位nM^2当り0.2分子/minを超え
ない、請求項1記載の方法。 4、下記a)〜e)の工程を含む方法により調製された
、多孔性物質の外表面を含んでなる外側区域を有し且つ
その多孔性物質の内表面を含んでなる内側区域を有する
二区域多孔性物質からなる構成物。 a)多孔性のメタロイド酸化物、多孔性の金属酸化物及
びそれらの混合物からなる群より選択される、ヒドロキ
シル基を有する多孔性支持体を用意する工程 b)この多孔性支持体を溶媒と混ぜ合わせて、ルイス塩
基触媒をも含有している多孔性支持体懸濁液を作る工程 c)この懸濁液へ、この懸濁液中の多孔性支持体の単位
nM^2当り2.0分子を超えない量のハロシランであ
って、第一のタイプのシリル基を有し且つ当該多孔性支
持体の主として外表面でその第一のタイプのシリル基を
生成するように上記の触媒により触媒されるものを加え
る工程 d)上記の多孔性支持体の主として内表面に第二のタイ
プのシリル基を供給する工程 e)続いて、このように処理された多孔性支持体を分離
し、それにより当該二区域多孔性物質を供給する工程 5、下記a)〜d)の工程を含む、多孔性物質の外表面
を含んでなる外側区域を有し且つその多孔性物質の内表
面を含んでなる内側区域を有する二区域多孔性物質を調
製するのに有用な中間体を鋼製する方法。 a)多孔性のメタロイド酸化物、多孔性の金属酸化物及
びそれらの混合物からなる群より選択される、ヒドロキ
シル基を有する多孔性支持体を用意する工程 b)この多孔性支持体を溶媒と混ぜ合わせて、ルイス塩
基触媒をも含有している多孔性支持体懸濁液を作る工程 c)この懸濁液へ、この懸濁液中の多孔性支持体の単位
nM^2当り2.0分子を超えない量のハロシランであ
って、第一のタイプのシリル基を有し且つ当該多孔性支
持体の主として外表面でその第一のタイプのシリル基を
生成するように上記の触媒により触媒されるものを加え
る工程 d)続いて、このように処理された多孔性支持体を分離
し、それにより当該中間体を供給する工程 6、前記多孔性支持体が粒状シリカである、請求項5記
載の方法。 7、前記ハロシランを加える速度が前記懸濁液中の多孔
性支持体の単位nM^2当り0.2分子/minを超え
ない、請求項5記載の方法。
[Claims] 1. A method comprising steps a) to e) below, having an outer region comprising an outer surface of a porous material and an inner region comprising an inner surface of the porous material. dual z
one) method of making porous materials into steel. a) providing a porous support having hydroxyl groups selected from the group consisting of porous metalloid oxides, porous metal oxides and mixtures thereof; b) mixing this porous support with a solvent; c) Creating a porous support suspension which also contains a Lewis base catalyst c) Adding 2.00 molecules per unit nM^2 of porous support in this suspension to this suspension. an amount of a halosilane having a first type of silyl group and catalyzed by the catalyst to produce the first type of silyl group primarily on the outer surface of the porous support. d) providing a second type of silyl group primarily on the inner surface of the porous support as described above; e) subsequently separating the porous support thus treated, thereby 2. The method of claim 1, wherein step 2 of providing said bizonally porous material, said porous support being particulate silica. 3. The method of claim 1, wherein the rate of addition of the halosilane does not exceed 0.2 molecules/min per nM^2 of porous support in the suspension. 4. A bilayer having an outer region comprising an outer surface of a porous material and an inner region comprising an inner surface of the porous material, prepared by a method comprising steps a) to e) below. A composition consisting of a regionally porous material. a) providing a porous support having hydroxyl groups selected from the group consisting of porous metalloid oxides, porous metal oxides and mixtures thereof; b) mixing this porous support with a solvent; c) Creating a porous support suspension which also contains a Lewis base catalyst c) Adding 2.0 molecules per nM^2 of porous support in this suspension to this suspension. an amount of a halosilane having a first type of silyl group and catalyzed by the catalyst to produce the first type of silyl group primarily on the outer surface of the porous support. d) providing a second type of silyl group primarily on the inner surface of the porous support as described above; e) subsequently separating the porous support thus treated, thereby Step 5 of providing said two-zone porous material, comprising steps a) to d) below, having an outer zone comprising an outer surface of the porous material and comprising an inner surface of the porous material. A method of steelmaking an intermediate useful in preparing a two-zone porous material having an inner zone. a) providing a porous support having hydroxyl groups selected from the group consisting of porous metalloid oxides, porous metal oxides and mixtures thereof; b) mixing this porous support with a solvent; c) Creating a porous support suspension which also contains a Lewis base catalyst c) Adding 2.0 molecules per unit nM^2 of porous support in this suspension to this suspension. an amount of a halosilane having a first type of silyl group and catalyzed by the catalyst to produce the first type of silyl group primarily on the outer surface of the porous support. d) followed by step 6 of separating the porous support thus treated and thereby providing said intermediate, said porous support being granular silica, as claimed in claim 5. the method of. 7. The method of claim 5, wherein the rate of addition of the halosilane does not exceed 0.2 molecules/min per nM^2 of porous support in the suspension.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6900157B2 (en) * 2001-09-10 2005-05-31 Tosoh Corporation Process for production of partially hydrophilized porous adsorbents
JP2017063179A (en) * 2015-09-24 2017-03-30 東京応化工業株式会社 Surface preparation agent and surface treatment method

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