JPH03241789A - Ceramic multilayer substrate and manufacture thereof - Google Patents

Ceramic multilayer substrate and manufacture thereof

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Publication number
JPH03241789A
JPH03241789A JP25530390A JP25530390A JPH03241789A JP H03241789 A JPH03241789 A JP H03241789A JP 25530390 A JP25530390 A JP 25530390A JP 25530390 A JP25530390 A JP 25530390A JP H03241789 A JPH03241789 A JP H03241789A
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JP
Japan
Prior art keywords
green tape
conductive paste
ceramic substrate
ceramic
paste
Prior art date
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Pending
Application number
JP25530390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shiro Otaki
史郎 大滝
Keiichi Kawakami
圭一 川上
Yoshiyuki Nishihara
芳幸 西原
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
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Publication of JPH03241789A publication Critical patent/JPH03241789A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain an improved operation and effect by laminating a green tape where a conductive paste is formed on a hardened ceramic substrate after calcination. CONSTITUTION:A ceramic substrate 1 after calcination where a via hole 6 in that a conductive paste or a conductive substance is filled is formed is prepared, thus forming an insulation paste 7 in a specified pattern on a single surface or both surfaces of the ceramic substrate 1. Then, a ceramic green tape 2 is prepared, the via hole 6 is formed, a conductive paste 5 is formed on a single surface of the green tape 2 by printing, etc., for enabling the surface of the ceramic substrate 1 to face the surface where a conductive paste is formed and a green tape 2 to be laminated on a single surface or both surfaces of the ceramic substrate 1 before pressing and heating. For further multilayering, a green tape 3 where the via hole 6 is formed is superposed on the green tape 2 on the ceramic substrate 1 and pressing and heating are performed, thus eliminating failure between the hardened ceramic substrate 1 and the entire laminated green tape 2 and enabling productivity to be improved.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、セラミックス多層基板及びその製造方法に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a ceramic multilayer substrate and a method for manufacturing the same.

[従来の技術] 従来、強度に優れたセラミックス多層基板の製造方法と
して、導体パターンが表面に形成された焼成後の固化し
たセラミックス基板の片面にグリーンテープを積層し、
その後グリーンテープの表面に導体パターンを印刷し、
更にグリーンテープを積層する製造方法が報告されてい
る(米国特許4,645,552号、米国特許4.79
9,984号公報)。しかしこの方法であると、グリー
ンテープを重ねるごとに圧着焼成するため、製造工程が
増加する。前記固化したセラミックス基板上の導体パタ
ーンが、該セラミックス基板の表面より突出しているた
め、後に積層するグリーンテープの表面に凹凸が生じ、
該グリーンテープ上に形成する導体パターンのファイン
化が困難になる。また、1層目のグリーンテープを積層
する際、該グリーンテープに不良を生じると交換が不可
能であり、前記固化したセラミックス基板と積層された
グリーンテープ全体が不良となってしまい、生産性が悪
かった。
[Prior Art] Conventionally, as a manufacturing method for a ceramic multilayer board with excellent strength, a green tape is laminated on one side of a ceramic board that has been solidified after firing and has a conductive pattern formed on its surface.
After that, a conductive pattern is printed on the surface of the green tape,
Furthermore, a manufacturing method in which green tape is laminated has been reported (U.S. Pat. No. 4,645,552, U.S. Pat. No. 4.79).
9,984). However, with this method, the number of manufacturing steps increases because the green tape is pressed and fired each time it is layered. Since the conductor pattern on the solidified ceramic substrate protrudes from the surface of the ceramic substrate, unevenness occurs on the surface of the green tape to be laminated later,
It becomes difficult to refine the conductor pattern formed on the green tape. Furthermore, when laminating the first layer of green tape, if a defect occurs in the green tape, it cannot be replaced, and the entire green tape laminated with the solidified ceramic substrate becomes defective, reducing productivity. It was bad.

[発明の解決しようとする課題] 本発明の目的は、従来技術が有していた前述の欠点を解
消しようとするものであり、従来知られていなかったセ
ラミックス多層基板の製造方法を新規に提供することを
目的とするものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The purpose of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art, and to provide a new method for manufacturing a ceramic multilayer substrate that has not been known in the past. The purpose is to

[課題を解決するための手段] 本発明は、前述の課題を解決すべくなされたものであり
、 (1)次の各工程を有することを特徴とするセラミック
ス多層基板の製造方法。
[Means for Solving the Problems] The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. (1) A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, characterized by comprising the following steps.

(イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形成した焼成後のセラミ
ックス基板を準備する。
(a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary.

(ロ)次にセラミックスのグリーンテープを準備し、ビ
アホールを形成する。
(b) Next, prepare a ceramic green tape and form a via hole.

(ハ)導体ペーストを所定のパターンに該グリーンテー
プの少なくとも片面に形成する。
(c) Forming a conductive paste in a predetermined pattern on at least one side of the green tape.

(ニ)該セラミックス基板の面に導体ペーストが形成さ
れた該グリーンテープをセラミックス基板の片面又は両
面に積層する。
(d) Laminating the green tape with conductive paste formed on the surface of the ceramic substrate on one or both sides of the ceramic substrate.

(ネ)積層する際、必要に応じて加圧する。(f) When laminating, apply pressure as necessary.

(へ)(ハ)工程において、上記グリーンテープの片面
に導体ペーストが形成されていない場合には、上記グリ
ーンテープの片面への導体ペーストの形成、(ハ)工程
において上記グリーンテープのヴィアホールへの導体ペ
ーストの充填が行なわれていない場合には該ヴィアホー
ルへの導体ペーストの充填をそれぞれ行ない、焼成する
(f) In the (c) process, if the conductive paste is not formed on one side of the green tape, the conductive paste is formed on one side of the green tape, and in the (c) process, the conductive paste is applied to the via hole of the green tape. If the via holes are not filled with the conductive paste, the via holes are filled with the conductive paste and fired.

別のセラミックス多層基板の製造方法として、2) 次
の各工程を有することを特徴とするセラミックス多層基
板の製造方法。
As another method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, 2) a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate characterized by having the following steps.

(イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形成した焼成後のセラミ
ックス基板を準備する。
(a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary.

(ロ)次にセラミックスのグリーンテープを準備し、ビ
アホールを形成する。
(b) Next, prepare a ceramic green tape and form a via hole.

(ハ)導体ペーストを所定のパターンに該グリーンテー
プの少なくとも片面に形成する。
(c) Forming a conductive paste in a predetermined pattern on at least one side of the green tape.

(ニ)該セラミックス基板の面を導体ペーストが形成さ
れた該グリーンテープの面とを相対向させ、該グリーン
テープをセラミックス基板の片面又は両面に積層する。
(d) The surface of the ceramic substrate is opposed to the surface of the green tape on which the conductive paste is formed, and the green tape is laminated on one or both surfaces of the ceramic substrate.

(ネ)積層する際、必要に応じて加圧する。(f) When laminating, apply pressure as necessary.

(へ)(ハ)工程において、上記グリーンテープの片面
に導体ペーストが形成されていない場合には、上記グリ
ーンテープの片面への導体ペーストの形成、(ハ)工程
において上記グリーンテープのヴィアホールへの導体1 ペーストの充填が行なわれていない場合には該ヴィアホ
ールへの導体ペーストの充填をそれぞれ行ない、焼成す
る。
(f) In the (c) process, if the conductive paste is not formed on one side of the green tape, the conductive paste is formed on one side of the green tape, and in the (c) process, the conductive paste is applied to the via hole of the green tape. Conductor 1 If the paste has not been filled, the via holes are filled with the conductor paste and fired.

(ト)更に、多層化をする場合には、ビアホールを形成
したグリーンテープを上記セラミックス基板上のグリー
ンテープ上に重ね、必要に応じて加圧する。
(g) Furthermore, in the case of multilayering, the green tape with via holes formed thereon is stacked on top of the green tape on the ceramic substrate, and pressure is applied as necessary.

(チ)(ト)工程において重ねられたグリーンテープ上
に導体パターンのため及びビアホールの充填のための導
体ペーストの形成を行なう。
(H) A conductor paste for forming a conductor pattern and for filling via holes is formed on the green tape layered in the step (G).

(す)必要層数に応じて(ト)、(チ)を繰り返す。(S) Repeat (G) and (H) according to the required number of layers.

(ヌ)最後のセラミックス基板とグリーンテープを加圧
、焼成する。
(v) Pressure and fire the final ceramic substrate and green tape.

更に、別のセラミックス多層基板の製造方法として、 3)前記2種のセラミックス多層基板の製造方法におい
てセラミックス基板にグリーンテープを積層する前に、
セラミック基板上グリーンテープとの接着性を向上させ
る絶縁ペースト2 を積層することを特徴とするセラミック多層基板の製造
方法。
Furthermore, as another method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, 3) Before laminating green tape on the ceramic substrate in the above two types of manufacturing methods for ceramic multilayer substrates,
A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, comprising laminating an insulating paste 2 that improves adhesiveness with a green tape on the ceramic substrate.

4)次の各工程を有することを特徴とするセラミックス
多層基板の製造方法。
4) A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, comprising the following steps.

(イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形成した焼成後のセラミ
ックス基板を準備する。
(a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary.

(ロ)セラミックス基板の片面又は両面に所定のパター
ンに該セラミックス基板とグリーンテープとの接着性を
向上させるための絶縁ペーストを形成する。
(b) An insulating paste is formed in a predetermined pattern on one or both sides of the ceramic substrate to improve the adhesion between the ceramic substrate and the green tape.

(ハ)該セラミックス基板上の該絶縁ペースト上に導体
ペーストを所定のパターンに形成する。
(c) forming a conductive paste in a predetermined pattern on the insulating paste on the ceramic substrate;

(ニ)次に、セラミックスのグリーンテープを準備し、
該グリーンテープにビアホールを形成する。
(d) Next, prepare ceramic green tape,
A via hole is formed in the green tape.

(ネ)必要に応じて該グリーンテープの片面への導体ペ
ーストを形成し、必要に応じてグリーンテープのビアホ
ールへの導体ペーストの充填を行なう。
(f) Form a conductive paste on one side of the green tape if necessary, and fill via holes of the green tape with the conductive paste if necessary.

(へ)該セラミックス基板上の片面又は両面に導体ペー
ストが形成されていない該グリーンテープの面を該セラ
ミックス基板と相対向させるようにして該グリーンテー
プを積層する。
(f) The green tape is laminated so that the surface of the green tape on which conductive paste is not formed on one or both surfaces of the ceramic substrate faces the ceramic substrate.

(ト)(ネ)工程において、該グリーンテープ上に導体
ペーストの形成、ビアホールへの導体ペーストの充填が
行なわれなかった場合には、該形成、該充填を行なう。
(g) In the (f) step, if the formation of the conductive paste on the green tape and the filling of the conductive paste into the via hole are not performed, the formation and filling are performed.

(チ)積層する際、加圧し、焼成する。(h) When laminating, pressurize and fire.

等を提供するものである。etc.

以下、図面に従って、本発明の詳細な説明する。The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は、本発明にかかる多層セラミックス基板の基本
的構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing the basic structure of a multilayer ceramic substrate according to the present invention.

第1図において、lは固化したセラミックス基板であり
、材質としては、各種セラミックス具体的にはアルミナ
(A1.O,) 、ベリリア、窒化アルミニウム(AI
N) 、マグネシア(MgO) 、ガラスセラミックス
等が通常使用でき、この中で、強度的には88〜99.
5重量%のアルミナが望ましく、熱伝導率の点ではAI
N又はベリリアが望ましい。
In Fig. 1, l is a solidified ceramic substrate, and the material is various ceramics, specifically alumina (A1.O,), beryllia, aluminum nitride (AI
N), magnesia (MgO), glass ceramics, etc. are commonly used, and among these, the strength is 88 to 99.
5% by weight alumina is preferable, and in terms of thermal conductivity it is better than AI.
N or beryllia is preferred.

2.3は上記セラミックス基板1の上に積層形成された
グリーンテープ層である。
2.3 is a green tape layer laminated on the ceramic substrate 1.

グリーンテープ層2,3の材質は各種セラミックス、具
体的には、アルミナ、ベリリア、AIN、 MgO,ガ
ラスセラミックス等が通常使用でき、焼成温度がセラミ
ックス基板lより低いことが好ましい。グリーンテープ
層2,3の焼成温度がセラミックス基板1より高いと焼
成の際、セラミックス基板1が変形し、好ましくない。
The green tape layers 2 and 3 can be made of various ceramics, specifically alumina, beryllia, AIN, MgO, glass ceramics, etc., and the firing temperature is preferably lower than that of the ceramic substrate 1. If the firing temperature of the green tape layers 2 and 3 is higher than that of the ceramic substrate 1, the ceramic substrate 1 will be deformed during firing, which is not preferable.

従って、セラミックス基板1の材質はアルミナ、グリー
ンテープ層2,3の材質はアルミナより焼成温度の低い
低温焼成のホウケイ酸ガラス系、アルミナ−ガラス系、
ホウ酸チタンスズバリウム系、アルミナ−非ガラス質添
加物系セラミックスの組合せが望ましい。
Therefore, the material of the ceramic substrate 1 is alumina, and the material of the green tape layers 2 and 3 is low-temperature firing borosilicate glass, alumina-glass, etc., which has a lower firing temperature than alumina.
A combination of titanium tin barium borate ceramics and alumina-non-vitreous additive ceramics is desirable.

 5 また、該セラミックス基板1の材質の強度は、グリーン
テープ層2,3の材質より強いことが適当であり、該セ
ラミックス基板1の材質の強度が、グリーンテープ層2
.3の材質とほぼ同程度の場合は、セラミックス基板1
の厚みがグリーンテープ層2,3の厚みより厚いことが
必要である。
5 Further, it is appropriate that the strength of the material of the ceramic substrate 1 is stronger than the material of the green tape layers 2 and 3;
.. If the material is almost the same as 3, use ceramic substrate 1.
It is necessary that the thickness of the green tape layer is thicker than that of the green tape layers 2 and 3.

4.5は導体ペースト層であり、使用する導体ペースト
は、銅(Cu) 、銀(Ag)、 Ag−パラジウム(
Pd)、金(Au)、白金(pg 、タングステン(W
)等、必要に応じて適宜準備する。
4.5 is a conductive paste layer, and the conductive paste used is copper (Cu), silver (Ag), Ag-palladium (
Pd), gold (Au), platinum (pg), tungsten (W
), etc., as appropriate.

次に、実際に本発明にかかるセラミックス多層基板を製
造する手順を説明する。
Next, a procedure for actually manufacturing a ceramic multilayer substrate according to the present invention will be explained.

(イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホール6を必要に応じて形成した焼成後のセラ
ミックス基板を準備する。
(a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes 6 filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary.

(ロ)セラミックス基板1の片面又は両面に絶縁ペース
ト7を所定のパターンに印刷等の方法により形成する。
(b) An insulating paste 7 is formed in a predetermined pattern on one or both sides of the ceramic substrate 1 by a method such as printing.

 6 (ハ)次にセラミックスのグリーンテープ2を準備し、
ビアホールを形成する。
6 (c) Next, prepare ceramic green tape 2,
Form a via hole.

(ニ)導体ペーストを該グリーンテープ2の片面に印刷
等の方法によって、形成する。
(d) A conductive paste is formed on one side of the green tape 2 by a method such as printing.

(ネ)該セラミックス基板1の面を導体ペーストが形成
された面とを相対向させ、該グリーンテープ2をセラミ
ックス基板1の片面又は両面に積層する。
(f) The green tape 2 is laminated on one or both sides of the ceramic substrate 1, with the surface of the ceramic substrate 1 facing the surface on which the conductive paste is formed.

(へ)積層する際必要に応じて加圧、加熱する。(f) Apply pressure and heat as necessary when laminating.

(ト)グリーンテープ2の片面への導体ペーストの形成
、グリーンテープ2のビアホールへの導体ペーストの充
填を行なう。尚、本工程を(ニ)工程で行なっても良い
(g) Forming a conductive paste on one side of the green tape 2 and filling the via holes of the green tape 2 with the conductive paste. Note that this step may be performed in step (d).

すなわち、本工程は(ニ)工程と同時に行なっても良い
、積層後(ホ)工程の後に行なっても良い。また、更に
多層化しない場合は(ト)工程の直後に焼成する。
That is, this step may be performed simultaneously with the step (d) or after the lamination step (e). In addition, if further multilayering is not required, firing is performed immediately after step (g).

(チ)更に多層化する場合には、ビアホールを形成した
グリーンテープを上記セラミックス基板1上のグリーン
テープ2上に重ね、必要に応じて加圧、加熱する。
(h) In the case of further multi-layering, the green tape with via holes formed thereon is stacked on the green tape 2 on the ceramic substrate 1, and pressurized and heated as necessary.

(す)(チ)工程において重ねられたグリーンテープ上
に導体パターンのため及びビアホールの充填のための導
体ペーストの形成を行なう。
(S) A conductor paste for forming a conductor pattern and filling via holes is formed on the green tape stacked in the step (H).

(ヌ)必要層数に応じて(チ)、 (!I)を繰り返す
(J) Repeat (C) and (!I) according to the required number of layers.

(ル)最後にセラミックス基板とグリーンテープを必要
に応じて、加圧、加熱し、焼成する。
(Le) Finally, pressurize, heat, and fire the ceramic substrate and green tape as necessary.

尚、上記(イ)〜(チ)の工程において、(0)の工程
は、セラミックス基板lとグリーンテープの接着性向上
の為に入れたほうが望ましいが、省略しても使用できる
Incidentally, in the above steps (a) to (h), it is desirable to include step (0) in order to improve the adhesion between the ceramic substrate 1 and the green tape, but it can be omitted.

次に、別の本発明にかかるセラミックス基板を製造する
手順を説明する。
Next, a procedure for manufacturing another ceramic substrate according to the present invention will be explained.

(イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形成した焼成後のセラミ
ックス基板を準備する。
(a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary.

(ロ)セラミックス基板1の片面又は両面に絶縁ペース
ト7を所定のパターンに印刷等の方法により形成する。
(b) An insulating paste 7 is formed in a predetermined pattern on one or both sides of the ceramic substrate 1 by a method such as printing.

(ハ)セラミックス基板工上の絶縁ペースト7上に導体
ペースト7を印刷等の方法により形成する。
(c) A conductive paste 7 is formed on the insulating paste 7 on the ceramic substrate by a method such as printing.

(ニ)次に、セラミックスのグリーンテープ2を準備し
、このグリーンテープ2にピアホールを形成する。
(d) Next, a ceramic green tape 2 is prepared, and a pier hole is formed in this green tape 2.

(ネ)セラミックス基板1上の片面又は両面に上記グリ
−テンテープ2を積層する。
(f) The green tape 2 is laminated on one or both sides of the ceramic substrate 1.

(へ)積層する際必要に応じて加圧、加熱する。(f) Apply pressure and heat as necessary when laminating.

(ト)グリーンテープ2の片面への導体ペーストの形成
、グリーンテープ2のビアホールへの導体ペーストの充
填を行なう。尚、本工程を(ニ)工程で行なっても良い
(g) Forming a conductive paste on one side of the green tape 2 and filling the via holes of the green tape 2 with the conductive paste. Note that this step may be performed in step (d).

すなわち、本工程は(ニ)工程と同時に行なっても良い
し、積層後(ネ)工程の後に行なっても良い。更に多層
化しない場合は、 9 この(ト)工程の直後に焼成する。
That is, this step may be performed simultaneously with step (d), or may be performed after lamination and after step (v). If not further multilayered, 9. Fire immediately after this (g) step.

(チ)更に多層化する場合には、ビアホールを形成した
グリーンテープを上記セラミックス基板1上のグリーン
テープ2上に重ね、必要に応じて加圧、加熱する。
(h) In the case of further multi-layering, the green tape with via holes formed thereon is stacked on the green tape 2 on the ceramic substrate 1, and pressurized and heated as necessary.

(す)〔チ)工程において重ねられたグリーンテープ3
上に導体パターンのため及びピアホールの充填のための
導体ペーストの形成を行なう。
(S) [H] Green tape 3 layered in the process
A conductive paste is formed thereon for a conductive pattern and for filling the peer holes.

(ヌ)必要層数に応じて(チ)、(リ)を繰り返す。(J) Repeat (J) and (R) according to the required number of layers.

(ル)最後にセラミックス基板とグリーンテープを必要
に応じて、加圧、加熱し、焼成する。
(Le) Finally, pressurize, heat, and fire the ceramic substrate and green tape as necessary.

次に別の本発明のかかるセラミックス多層基板を製造す
る手順を説明する。
Next, a procedure for manufacturing another ceramic multilayer substrate according to the present invention will be explained.

(イ)最初に予め、ビアホールを有するアルミナ等の焼
成後のセラミックス基板1を準備する。
(a) First, a fired ceramic substrate 1 of alumina or the like having via holes is prepared in advance.

(ロ)次にセラミックスのグリーンテープを必要に応じ
て少なくとも1枚準備し、それぞ0 れにビアホール6を形成し、導体パターン4、ビアホー
ル6の充填のために導体ペーストを印刷等の方法によっ
て該グリーンテープ上に形成する。
(b) Next, prepare at least one piece of ceramic green tape as needed, form a via hole 6 in each piece, and use a method such as printing a conductor paste to fill the conductor pattern 4 and via hole 6. Formed on the green tape.

(ハ)該セラミックス基板1の面と導体ペーストが形成
された面とを相対向させ、該グリーンテープを該セラミ
ックス基板上に重ねる。更に多層化する場合には、必要
に応じて、このような導体ペーストを形成したグリ−テ
ンテープを更に数枚重ねる。
(c) The surface of the ceramic substrate 1 and the surface on which the conductive paste is formed are faced to each other, and the green tape is placed on the ceramic substrate. In order to further increase the number of layers, several more sheets of green tape coated with such a conductive paste are stacked, if necessary.

(ニ)セラミックス基板■に重ねられたグリーンテープ
を必要に応じて加圧、加熱して積層させ、グリーンテー
プの材質の焼成温度付近で焼成する。
(d) The green tape stacked on the ceramic substrate (2) is laminated by applying pressure and heating as necessary, and is fired at around the firing temperature of the material of the green tape.

尚、前述した本発明にかかる数種のセラミックス多層基
板の製造方法において、加圧の条件は1〜500kg/
cm2が適当であり、20〜500kg/cm”が望ま
しい範囲である。又、加熱は、常温(加熱しない)〜1
20℃の範囲が適当である。
In addition, in the method for manufacturing several types of ceramic multilayer substrates according to the present invention described above, the pressure conditions are 1 to 500 kg/
cm2 is appropriate, and 20 to 500 kg/cm" is a desirable range. Also, the heating range is from room temperature (not heated) to 1
A range of 20°C is suitable.

ここで前記グリーンテープの好ましい材質について以下
に述べることにする。尚、以下%は重量%を意味する。
Here, preferred materials for the green tape will be described below. In addition, below, % means weight %.

グリーンテープは無機成分が ガラス粉末     40〜90% 耐火物フィラー  9.99〜60% 酸化剤   0.01〜20% からなる。Green tape has inorganic components. Glass powder 40-90% Refractory filler 9.99-60% Oxidizing agent  0.01~20% Consisting of

無機成分中のガラス粉末の含有量は40%より少ないと
セラミックス基板1との接着性が悪くなり、かつ充分な
緻密焼結層ができず電気特性が低下し好ましくない。一
方90%より多いと銅等の導体との反応性が大きくなり
、銅等の導体の半田漏れ性を損なうので好ましくない。
If the content of glass powder in the inorganic component is less than 40%, the adhesion to the ceramic substrate 1 will be poor, and a sufficiently dense sintered layer will not be formed, resulting in poor electrical properties, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 90%, the reactivity with conductors such as copper increases, which impairs the solder leakage of conductors such as copper, which is not preferable.

耐火物フィラーは、基板の導体ペーストの為のビール強
度向上等のために添加するもので、9.99%より少な
いとこのビール強度が悪くなり60%より多いと焼結性
等が悪くなる。
The refractory filler is added to improve beer strength for the conductor paste of the board, and if it is less than 9.99%, the beer strength will be poor, and if it is more than 60%, the sinterability will be poor.

耐火物フィラーとしてはアルミナ(Al2O3)、ジル
コン(ZrSiO4)、コージェライト(Mg2A14
S150+a) 、フォルステライト(Mg2Si04
Lシリカ(Si02)の混合又は、アルミナ単体が使用
できる。
Refractory fillers include alumina (Al2O3), zircon (ZrSiO4), and cordierite (Mg2A14).
S150+a), forsterite (Mg2Si04
A mixture of L silica (Si02) or alumina alone can be used.

本発明において添加する酸化剤は、酸素濃度約10pp
m以下の非酸化性雰囲気で焼成し回路基板を形成する際
組成物中の有機バインダーを酸化除去する作用がある(
脱バインダー効果)。
The oxidizing agent added in the present invention has an oxygen concentration of about 10 pp.
It has the effect of oxidizing and removing the organic binder in the composition when baking in a non-oxidizing atmosphere of m or less to form a circuit board.
debinding effect).

酸化剤の添加量は、ガラス粉末及び耐火物フィラーの総
量である無機成分に対し重量で0.01〜20%添加す
るのが好ましい。酸化剤の添加量が0.01%未満では
添加による効果が少く、他方20%を越えると基板の耐
電圧特性が低下し、又積層した銅等の導体の配線部分を
焼成の際酸化の効果が強すぎ酸化させるので好ましくな
い。
The amount of the oxidizing agent added is preferably 0.01 to 20% by weight based on the inorganic component, which is the total amount of the glass powder and the refractory filler. If the amount of the oxidizing agent added is less than 0.01%, the effect of the addition will be small, while if it exceeds 20%, the withstand voltage characteristics of the board will decrease, and the effect of oxidation will be reduced when the wiring part of laminated conductors such as copper is fired. is undesirable because it is too strong and causes oxidation.

酸化剤としてはCeO++、TiO□、Ba0z、Sn
O□、CaO2゜v205が使用でき、特にCeO□は
優れている。
Oxidizing agents include CeO++, TiO□, Ba0z, Sn
O□, CaO2°v205 can be used, and CeO□ is particularly excellent.

ガラス粉末は、 St023g〜48% Al2O,1〜8% Mg0        0〜lO% 3 CaO1〜 8% SrOO〜l’5% BaO18〜28% pbo               o〜20%Zn
0            10〜20%BJa   
         0.5〜15%Ti0z+ZrO□
         (1〜 7%LiaO+NazO+
に20     0〜5%からなる組成のものが好まし
い。その理由は次の通りである。
The glass powder is: St023g~48% Al2O, 1~8% Mg00~lO% 3 CaO1~8% SrOO~l'5% BaO18~28% pbo~20% Zn
0 10-20% BJa
0.5-15% Ti0z+ZrO□
(1~7%LiaO+NazO+
It is preferable to have a composition of 200 to 5%. The reason is as follows.

Singは38%より少ないと焼結基板の誘電率が大き
くなり過ぎ、48%を越えると焼結温度が高くなり過ぎ
いずれも好ましくない。
When Sing is less than 38%, the dielectric constant of the sintered substrate becomes too large, and when Sing exceeds 48%, the sintering temperature becomes too high, both of which are unfavorable.

AlaOsは1%より少ないと焼結基板の耐湿性が劣り
、8%を越えるとガラスフリット製造時に失透を生ずる
恐れがありいずれも好ましくない。
If the content of AlaOs is less than 1%, the moisture resistance of the sintered substrate will be poor, and if it exceeds 8%, devitrification may occur during glass frit production, and both are not preferred.

Cab、 BaOは、ガラスフリット製造時の溶解性調
整及び熱膨張係数調整成分で、含有量としてCaOは5
1%、BaOは18%より少ないとガラスフ 4 リットの溶解性が悪くなり好ましくない。
Cab and BaO are components for adjusting the solubility and adjusting the coefficient of thermal expansion during the production of glass frit, and the content of CaO is 5.
If the amount is less than 1% and BaO is less than 18%, the solubility of the glass frit will deteriorate, which is not preferable.

方、CaOは8%、 BaOは28%より多いと基板の
熱膨張係数及び誘電率が大きくなり過ぎ好ましくない。
On the other hand, if the CaO content exceeds 8% and the BaO content exceeds 28%, the thermal expansion coefficient and dielectric constant of the substrate become too large, which is not preferable.

MgO、SrOは本質的にCaO及びBaOと同様の目
的と効果を有する成分であり、MgOは10%。
MgO and SrO are components that essentially have the same purpose and effect as CaO and BaO, and MgO is 10%.

SrOは15%をそれぞれ越えると、ガラス溶解時に失
透がでる恐れがあり好ましくない。
If SrO exceeds 15%, devitrification may occur during glass melting, which is not preferable.

PbOは添加すること°により、ガラス軟化温度が低く
なり、基板の焼結温度が下がる。しかし20%を越える
と基板の誘電率が大きくなり、有機バインダーの除去が
不十分で炭素が残留し望ましくない。望ましくは0〜1
8%であり、特に望ましい範囲は1〜18%である。
By adding PbO, the glass softening temperature is lowered, and the sintering temperature of the substrate is lowered. However, if it exceeds 20%, the dielectric constant of the substrate increases, and the removal of the organic binder is insufficient and carbon remains, which is not desirable. Preferably 0-1
8%, and a particularly desirable range is 1 to 18%.

B2O3はフラックス成分であり、0.5%より少ない
とフラックスとしての効果が少ないので好ましくない。
B2O3 is a flux component, and if it is less than 0.5%, the effect as a flux will be low, which is not preferable.

B2O3の成分が15%より多いと誘電率が1少なくな
り電気的特性は向上するが、有機バインダーの除去が不
十分で炭素が残留しやすい傾向になり望ましくない。
If the B2O3 component is more than 15%, the dielectric constant decreases by 1 and the electrical properties improve, but the removal of the organic binder is insufficient and carbon tends to remain, which is undesirable.

ZnOは、添加することによりガラス軟化温度が低くな
り基板の焼結温度が下がるので望ましい。しかし、20
%より多いと基板の誘電率が大きくなり、10%以下で
あるとガラス軟化温度が高くなるので好ましくない。
ZnO is desirable because its addition lowers the glass softening temperature and lowers the sintering temperature of the substrate. However, 20
If it is more than 10%, the dielectric constant of the substrate increases, and if it is less than 10%, the glass softening temperature becomes high, which is not preferable.

Ti0a+ZrO□は、必須成分ではないが、添加する
ことにより結晶化を調整できるので望ましい。しかし、
7%を越えるとガラスの軟化温度が高くなったり、基板
の誘電率が大きくなるので好ましくない。
Although Ti0a+ZrO□ is not an essential component, it is desirable because crystallization can be adjusted by adding it. but,
If it exceeds 7%, the softening temperature of the glass increases and the dielectric constant of the substrate increases, which is not preferable.

LizO+Na2O+KiOは必須成分ではないが、ガ
ラス溶解性を改善できるので望ましい。しかし電気的マ
イグレーション面より、好ましくは5%未満である。
Although LizO+Na2O+KiO is not an essential component, it is desirable since it can improve glass meltability. However, from the viewpoint of electrical migration, it is preferably less than 5%.

前記耐火物フィラーは重量%表示で アルミナ      10〜60% ジルコン       0〜40% コージェライト    0〜30% 7オルステライト   0〜30% シリカ       0〜30% からなる組成のものが望ましい。The above refractory filler is expressed in weight%. Alumina 10-60% Zircon 0-40% Cordierite 0-30% 7 Orsterite 0-30% Silica 0-30% It is desirable to have a composition consisting of:

その理由は、以下の通りである。The reason is as follows.

アルミナは、10%より少ないとガラスの結晶化率が低
下し、60%より多いと焼結性が悪くなるとともに誘電
率が大きくなる。
When the amount of alumina is less than 10%, the crystallization rate of the glass decreases, and when it is more than 60%, the sinterability deteriorates and the dielectric constant increases.

ジルコンは、熱膨張を小さくするために添加するが、4
0%より多いと焼結性が悪くなる。
Zircon is added to reduce thermal expansion, but 4
If it is more than 0%, sinterability will deteriorate.

コージェライトは、熱膨張を小さくするためと、誘電率
を小さくするために添加するが、30%以上添加すると
焼結性が悪くなる。
Cordierite is added to reduce thermal expansion and dielectric constant, but if it is added in an amount of 30% or more, sinterability deteriorates.

フォルステライトは、誘電率を小さくするため添加する
が、30%以上添加すると焼結性が悪くなる。望ましく
は0〜20%である。
Forsterite is added to reduce the dielectric constant, but if it is added in an amount of 30% or more, sinterability will deteriorate. It is preferably 0 to 20%.

シリカは、誘電率を非常に小さくするために添加するが
、30%以上添加すると焼結性が悪くなる。
Silica is added to make the dielectric constant very low, but if it is added in an amount of 30% or more, sinterability will deteriorate.

本発明に係るグリーンテープは例えば次のようにして製
造される。
The green tape according to the present invention is manufactured, for example, as follows.

本発明にかかる有機バインダー、可塑剤、溶 7 剤を添加し混練してスラリーを作成する。この有機バイ
ンダーとしては、ブチラール樹脂、アクリル樹脂、可塑
剤としてはフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フ
タル酸ブチル−ベンジル、溶剤としては、トルエン、ト
リクレン、アルコール等いずれも常用されているものが
使用できる。
The organic binder, plasticizer, and solvent according to the present invention are added and kneaded to prepare a slurry. As the organic binder, butyral resin, acrylic resin, as the plasticizer, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, butyl-benzyl phthalate, and as the solvent, commonly used ones such as toluene, trichlene, alcohol, etc. can be used. .

次いでこのスラリーをシートに成形し、乾燥することに
より未焼結のいわゆるグリーンテープが作成される。こ
のグリーンテープの厚さは通常70〜300μmである
This slurry is then formed into a sheet and dried to produce an unsintered so-called green tape. The thickness of this green tape is usually 70 to 300 μm.

次に本発明にかかる絶縁ペーストについて述べる。Next, the insulating paste according to the present invention will be described.

本発明にかかる絶縁ペーストの無機成分はセラミックス
基板1との接着性が良い前記したグリーンテープの組成
と同じものが好ましいが、これに限定されず、他の組成
でも使用できる。
The inorganic component of the insulating paste according to the present invention is preferably the same as the composition of the above-mentioned green tape, which has good adhesion to the ceramic substrate 1, but is not limited thereto, and other compositions can also be used.

また、該絶縁ペーストは、例えば次のようにして製造さ
れる。
Further, the insulating paste is manufactured, for example, as follows.

前記本発明にかかるグリーンテープと同じ無 8 機の組成物に有機バインダー溶剤を添加して混練し、該
絶縁ペーストを得る。この有機バインダーとしては、エ
チルセルロース、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等溶剤
としてはα−テレビオネール、ブチルカルピトール等が
使用される。この絶縁ペーストは、前記セラミックス基
板上に厚み5〜50μmの範囲で、スクリーン印刷等に
より形成される。
An organic binder solvent is added to the same inorganic composition as the green tape according to the present invention and kneaded to obtain the insulating paste. As the organic binder, ethyl cellulose, vinyl acetate resin, acrylic resin, etc. are used, and as the solvent, α-televisional, butyl calpitol, etc. are used. This insulating paste is formed on the ceramic substrate to a thickness of 5 to 50 μm by screen printing or the like.

[実施例] 実施例1 ガラスフリット58%、フィラーとしてアルミナ40%
、酸化剤として2%のCeO□からなるガラスセラミッ
クス組成物を準備した。
[Example] Example 1 Glass frit 58%, alumina 40% as filler
A glass-ceramic composition containing 2% CeO□ as an oxidizing agent was prepared.

該ガラスフリットの組成は、SiO□ 43%、A1□
0g  5%、CaO5%、Ba027%、ZnO15
%、820、5%であった。このガラスセラミックス組
成物に有機バインダーとして、メチルメタクリレート樹
脂、可塑剤としてフタル酸ジブチル並びに溶剤としてト
ルエンを添加し混練して粘度10000〜30000 
cpsのスラリーを作成した。次いでこのスラリーを約
0.2 mm厚のシートにした後、70℃で約2時間乾
燥した。このグリーンテープに、銅ペーストを線幅、線
間ともに、それぞれ100μm、125μm、150μ
mの3種のパターンとし、同時にスクリーン印刷した。
The composition of the glass frit is 43% SiO□, A1□
0g 5%, CaO5%, Ba027%, ZnO15
%, 820, 5%. To this glass ceramic composition, methyl methacrylate resin as an organic binder, dibutyl phthalate as a plasticizer, and toluene as a solvent were added and kneaded to obtain a viscosity of 10,000 to 30,000.
A cps slurry was created. This slurry was then formed into a sheet with a thickness of about 0.2 mm and dried at 70° C. for about 2 hours. Copper paste was applied to this green tape with line width and line spacing of 100 μm, 125 μm, and 150 μm, respectively.
Three types of patterns (m) were screen printed at the same time.

次に、0.635mm厚の96%アルミナ基板を準備し
、このアルミナ基板に形成されているビアホールに、上
記銅ペーストを充填し、更に上記グリーンテープと同じ
無機成分のものと有機バインダーとしてエチルセルロー
ス、溶剤としてα−テレビネオールを使用し、混練して
絶縁ペーストを作成し、該アルミナ基板上の両面に20
μmの厚みで印刷した。
Next, a 96% alumina substrate with a thickness of 0.635 mm was prepared, and the via holes formed in this alumina substrate were filled with the copper paste, and the same inorganic components as the green tape and ethyl cellulose as an organic binder were added. Using α-televisionol as a solvent, knead it to create an insulating paste, and apply 20% to both sides of the alumina substrate.
Printed with a thickness of μm.

次に上記グリーンテープをセラミックス基板1の両面に
このグリーンテープ上の銅ペーストが形成された面を相
対向させて積層し、積層体を得た。更に、前記グリーン
テープと同じものを2枚準備し、上記積層体の両面に積
層した。
Next, the green tape was laminated on both sides of the ceramic substrate 1 with the surfaces on which the copper paste was formed facing each other to obtain a laminate. Furthermore, two sheets of the same green tape were prepared and laminated on both sides of the laminate.

その後、このグリーンテープ上へ銅ペーストの印刷を行
なった。
Thereafter, copper paste was printed on this green tape.

次にこれを、70℃−60kg/cm2で熱圧着し、最
高温度900℃、ピーク時間10分、酸素濃度5ppm
 、流量20n /minの窒素雰囲気中で焼成し、セ
ラミックス多層基板を1000枚製造した。このセラミ
ックス多層基板1000枚すべてについて、湾曲、短絡
、断線等を検査した結果、不良は1枚も発見されなかっ
た。尚、パターンの線間のインピーダンスが1014以
下は不良となるような判断方法をとった。
Next, this was thermocompressed at 70℃-60kg/cm2, with a maximum temperature of 900℃, a peak time of 10 minutes, and an oxygen concentration of 5ppm.
, 1000 ceramic multilayer substrates were manufactured by firing in a nitrogen atmosphere at a flow rate of 20 n/min. All 1,000 ceramic multilayer substrates were inspected for bends, short circuits, disconnections, etc., and no defects were found. A determination method was adopted in which a pattern with an impedance of 1014 or less is considered defective.

実施例2 グリーンテープの材質を表−1に示すものを使用する以
外は、実施例1と同じ方法でセラミックス多層基板を製
造して製造枚数は、各サンプル番号毎に1000枚であ
った。結果は実施例1と同じであり、すべて良品であっ
た。
Example 2 Ceramic multilayer substrates were manufactured in the same manner as in Example 1, except that the green tape material shown in Table 1 was used, and the number of sheets manufactured was 1000 for each sample number. The results were the same as in Example 1, and all were good products.

実施例3 アルミナ基板に絶縁ペーストを印刷することはせず、他
は全〈実施例1.2と同じ製造方法、製造枚数でセラミ
ックス多層基板を製造した。結果は、実施例1.2とほ
ぼ同じであり、1 すべて良品であった。
Example 3 A ceramic multilayer substrate was manufactured using the same manufacturing method and number of sheets as in Example 1.2, except that no insulating paste was printed on the alumina substrate. The results were almost the same as in Example 1.2, and all 1 samples were good.

実施例4 アルミナ基板上の絶縁ペースト上に導体ペーストを印刷
し、−層目のグリーンテープには導体ペーストを形成せ
ず、他は実施例1.2と全く同じようにした。結果は、
実施例1.2と全く同じであった。
Example 4 A conductive paste was printed on an insulating paste on an alumina substrate, and no conductive paste was formed on the -th layer of green tape, but the rest was exactly the same as in Example 1.2. Result is,
It was exactly the same as Example 1.2.

実施例5 ガラスフリット58%、フィラーとしてアルミナ40%
、酸化剤としてCeO□2%からなるガラスセラミック
ス組成物を準備した。
Example 5 Glass frit 58%, alumina 40% as filler
A glass ceramic composition containing 2% CeO□ as an oxidizing agent was prepared.

該ガラスフリットの組成は、5iOz  43%、A1
.0fi  5%、CaO5%、BaO27%、Zn0
15%、BJs 5%であった。このガラスセラミック
ス組成物に有機バインダーとして、メチルメタクリレー
ト樹脂、可塑剤としてフタル酸ジブチル並びに溶剤とし
てトルエンを添加し混練して粘度10000〜3000
0 cpsのスラリーを作成した。次いでこのスラリー
を約0.2 mm厚のシートにした後、70℃で約2時
間乾燥した。
The composition of the glass frit is 5iOz 43%, A1
.. 0fi 5%, CaO5%, BaO27%, Zn0
15%, BJs 5%. To this glass ceramic composition, methyl methacrylate resin as an organic binder, dibutyl phthalate as a plasticizer, and toluene as a solvent were added and kneaded to obtain a viscosity of 10,000 to 3,000.
A slurry of 0 cps was prepared. This slurry was then formed into a sheet with a thickness of about 0.2 mm and dried at 70° C. for about 2 hours.

 2 このグリーンテープを2枚、第1図に示すようにビアホ
ールを有する0、635mm厚の96%アルミナ基板上
に2層に重ね、70℃−60kg/am2で熱圧着した
。次いでこれを最高温度900℃、ピーク時間lO分、
酸素濃度5ppm、流量20n /minの窒素雰囲気
中で焼成し、セラミックス多層基板を1000枚製造し
た。
2 Two sheets of this green tape were stacked in two layers on a 0.635 mm thick 96% alumina substrate having via holes as shown in FIG. 1, and thermocompression bonded at 70° C. and 60 kg/am 2 . This was then heated at a maximum temperature of 900°C and a peak time of 10 minutes.
Firing was performed in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 5 ppm and a flow rate of 20 n/min to produce 1000 ceramic multilayer substrates.

このセラミックス多層基板1000枚すべてについて、
湾曲、断線等を検査した結果、不良は1枚も発見されな
かった。
For all 1000 ceramic multilayer substrates,
As a result of inspecting for bends, wire breaks, etc., no defects were found.

比較例1 表−2に比較例を示す。この比較例では、実施例1の製
造方法を使用し、グリーンテープの材質を表−2のもの
を使用して各サンプル番号に1000枚製造したが、表
−2の特性の欄に示す如く、すべて不良品であった。
Comparative Example 1 Table 2 shows a comparative example. In this comparative example, 1000 pieces of green tape were manufactured for each sample number using the manufacturing method of Example 1 and the materials in Table 2, but as shown in the characteristics column of Table 2, All products were defective.

比較例2 セラミックス基板に銅ペーストを線幅、線間ともに、そ
れぞれ100g m 、  125μm 、  150
μmの3種のパターンとして印刷し、最初にセラミック
ス基板に積層するグリーンテープには、銅ペーストを印
刷せず、その他は実施例1〜3と同じ製造方法で同じ枚
数のセラミックス基板を製造した。
Comparative Example 2 Copper paste was applied to a ceramic substrate with line width and line spacing of 100 gm, 125 μm, and 150 gm, respectively.
The same number of ceramic substrates were manufactured using the same manufacturing method as in Examples 1 to 3, except that the green tape was printed as three types of micrometer patterns, and no copper paste was printed on the green tape that was first laminated on the ceramic substrate.

各サンプル番号に対応したものすべてが同じ結果となり
、100μmのパターンのものは不良品50%、 12
5μmのパターンのものは不良品lO%、 150μm
のパターンのものはすべて良品であり、実施例1と同じ
判断方法を採用した。
All samples corresponding to each sample number had the same results, and those with a 100 μm pattern had 50% defective products. 12
5μm pattern is defective 10%, 150μm
All the products with the pattern were good products, and the same judgment method as in Example 1 was adopted.

 5 *は欠陥部分 表 (比較例) [発明の作用、効果] 本発明は、焼成後の固化したセラミックス基板上に導体
ペーストを形成したグリーンテープを積層するので、以
下のような優れた作用・効果を奏することができる。
5 * indicates a table of defective parts (comparative example) [Operations and effects of the invention] Since the present invention laminates a green tape on which a conductive paste is formed on a ceramic substrate that has been solidified after firing, it has the following excellent functions and effects. It can be effective.

1)導体ペーストをグリーンテープ又は絶縁ペーストに
形成するので焼成後のセラミックス基板上に導体ペース
トを形成することと比較すると導体ペーストに含まれて
いる溶剤が、グリーンテープ又は絶縁ペーストの表面で
拡散せず、ファインパターンの形成が容易である。更に
グリーンテープ又は絶縁ペースト上に抵抗ペースト等を
形成する際、不良が少なくなる。
1) Since the conductive paste is formed into a green tape or insulating paste, compared to forming the conductive paste on a ceramic substrate after firing, the solvent contained in the conductive paste does not diffuse on the surface of the green tape or insulating paste. First, it is easy to form fine patterns. Furthermore, when forming a resistive paste or the like on green tape or insulating paste, there are fewer defects.

2) グリーンテープに導体ペーストを形成する場合は
、この段階でそれぞれのグリーンテープの検査をし、検
査合格のグリーンテープのみを使用するので歩留りが向
上し、生産性が向上する。
2) When forming conductive paste on green tapes, each green tape is inspected at this stage and only green tapes that pass the inspection are used, improving yield and productivity.

3) セラミックス基板上に絶縁ペーストを形成 0 した場合は、セラミックス基板とグリーンテープの接着
性が向上する。
3) When an insulating paste is formed on a ceramic substrate, the adhesion between the ceramic substrate and the green tape is improved.

また、本発明にかかるグリーンテープ又は絶縁ペースト
は優れた電気的特性を示すと共に、このグリーンテープ
中又は絶縁ペースト中に含有されているガラス成分の作
用で、セラミックス基板との優れた接着力を示し、眉間
に剥離のない優れたセラミックス多層基板を提供できる
ものである。
In addition, the green tape or insulating paste according to the present invention exhibits excellent electrical properties and also exhibits excellent adhesive strength with ceramic substrates due to the effect of the glass component contained in the green tape or insulating paste. , it is possible to provide an excellent ceramic multilayer substrate without peeling between the eyebrows.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明にかかるセラミックス多層基板の断面
図を示す。 1:セラミックス基板 2ニゲリーンテープ 3ニゲリーンテープ (
FIG. 1 shows a cross-sectional view of a ceramic multilayer substrate according to the present invention. 1: Ceramic substrate 2 Nigeleen tape 3 Nigeleen tape (

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)次の各工程を有することを特徴とするセラミック
ス多層基板の製造方法。 (イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形 成した焼成後のセラミックス基板を準備す る。 (ロ)次にセラミックスのグリーンテープを準備し、ビ
アホールを形成する。 (ハ)導体ペーストを所定のパターンに該グリーンテー
プの少なくとも片面に形成する。 (ニ)該セラミックス基板の面に導体ペーストが形成さ
れた該グリーンテープをセラミッ クス基板の片面又は両面に積層する。 (ホ)積層する際、必要に応じて加圧する。 (へ)(ハ)工程において、上記グリーンテープの片面
に導体ペーストが形成されていない 場合には、上記グリーンテープの片面への 導体ペーストの形成、(ハ)工程において上記グリーン
テープのヴィアホールへの導体 ペーストの充填が行なわれていない場合に は該ヴィアホールへの導体ペーストの充填 をそれぞれ行ない、焼成する。
(1) A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, comprising the following steps. (a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary. (b) Next, prepare a ceramic green tape and form a via hole. (c) Forming a conductive paste in a predetermined pattern on at least one side of the green tape. (d) Laminating the green tape with conductive paste formed on the surface of the ceramic substrate on one or both sides of the ceramic substrate. (e) When laminating, apply pressure if necessary. (f) In the (c) process, if the conductive paste is not formed on one side of the green tape, the conductive paste is formed on one side of the green tape, and in the (c) process, the conductive paste is applied to the via hole of the green tape. If the via holes are not filled with the conductive paste, the via holes are filled with the conductive paste and fired.
(2)次の各工程を有することを特徴とするセラミック
ス多層基板の製造方法。 (イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形 成した焼成後のセラミックス基板を準備す る。 (ロ)次にセラミックスのグリーンテープを準備し、ビ
アホールを形成する。 (ハ)導体ペーストを所定のパターンに該グリーンテー
プの少なくとも片面に形成する。 (ニ)該セラミックス基板の面と導体ペーストが形成さ
れた該グリーンテープの面とを相 対向させ、該グリーンテープをセラミック ス基板の片面又は両面に積層する。 (ホ)積層する際、必要に応じて加圧する。 (へ)(ハ)工程において、上記グリーンテープの片面
に導体ペーストが形成されていない 場合には、上記グリーンテープの片面への 導体ペーストの形成、(ハ)工程において上記グリーン
テープのビアホールへの導体ペ ーストの充填が行なわれていない場合には 該ビアホールへの導体ペーストの充填をそ れぞれ行ない、焼成する。 (ト)更に、多層化をする場合には、ビアホールを形成
したグリーンテープを上記セラミ ックス基板上のグリーンテープ上に重ね、 必要に応じて加圧する。 (チ)(卜)工程において重ねられたグリーンテープ上
に導体パターンのため及びビアホール の充填のための導体ペーストの形成を行な う。 (リ)必要層数に応じて(卜),(チ)を繰り返す。 (ヌ)最後のセラミックス基板とグリーンテープを加圧
、焼成する。
(2) A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, comprising the following steps. (a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary. (b) Next, prepare a ceramic green tape and form a via hole. (c) Forming a conductive paste in a predetermined pattern on at least one side of the green tape. (d) The surface of the ceramic substrate and the surface of the green tape on which the conductive paste is formed are made to face each other, and the green tape is laminated on one or both surfaces of the ceramic substrate. (e) When laminating, apply pressure if necessary. (f) In the (c) process, if the conductive paste is not formed on one side of the green tape, the conductive paste is formed on one side of the green tape, and in the (c) process, the conductive paste is formed on the via hole of the green tape. If the conductive paste has not been filled, the via holes are filled with the conductive paste and fired. (g) Furthermore, in the case of multilayering, the green tape with via holes formed thereon is stacked on top of the green tape on the ceramic substrate, and pressure is applied as necessary. (H) A conductor paste for forming a conductor pattern and for filling via holes is formed on the green tape layered in the step (H). (l) Repeat (卜) and (h) according to the required number of layers. (v) Pressure and fire the final ceramic substrate and green tape.
(3)請求項1または2のセラミックス基板にグリーン
テープを積層する前に、セラミック基板上グリーンテー
プとの接着性を向上させる絶縁ペーストを積層すること
を特徴とするセラミック多層基板の製造方法。
(3) A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, which comprises laminating, before laminating the green tape on the ceramic substrate according to claim 1 or 2, an insulating paste that improves the adhesion between the green tape and the ceramic substrate.
(4)次の各工程を有することを特徴とするセラミック
ス多層基板の製造方法。 (イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形 成した焼成後のセラミックス基板を準備す る。 (ロ)セラミックス基板の片面又は両面に所定のパター
ンに該セラミックス基板とグリー ンテープとの接着性を向上させるための絶 縁ペーストを形成する。 (ハ)該セラミックス基板上の該絶縁ペースト上に導体
ペーストを所定のパターンに形成 する。 (ニ)次に、セラミックスのグリーンテープを準備し、
該グリーンテープにビアホールを 形成する。 (ホ)必要に応じて該グリーンテープの片面への導体ペ
ーストを形成し、必要に応じてグ リーンテープのビアホールへの導体ペース トの充填を行なう。 (ヘ)該セラミックス基板上の片面又は両面に導体ペー
ストが形成されていない該グリー ンテープの面を該セラミックス基板と相対 向させるようにして該グリーンテープを積 層する。 (ト)(ホ)工程において、該グリーンテープ上に導体
ペーストの形成、ビアホールへの導体 ペーストの充填が行なわれなかった場合に は、該形成、該充填を行なう。 (チ)積層する際、加圧し、焼成する。
(4) A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, comprising the following steps. (a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary. (b) An insulating paste is formed in a predetermined pattern on one or both sides of the ceramic substrate to improve the adhesion between the ceramic substrate and the green tape. (c) forming a conductive paste in a predetermined pattern on the insulating paste on the ceramic substrate; (d) Next, prepare ceramic green tape,
A via hole is formed in the green tape. (e) Form a conductive paste on one side of the green tape as necessary, and fill via holes of the green tape with the conductive paste as necessary. (f) The green tape is laminated so that the surface of the green tape on which conductive paste is not formed on one or both surfaces of the ceramic substrate faces the ceramic substrate. (G) In the (E) process, if the conductor paste is not formed on the green tape and the via hole is not filled with the conductor paste, the formation and filling are performed. (h) When laminating, pressurize and fire.
(5)次の各工程を有することを特徴とするセラミック
ス多層基板の製造方法。 (イ)最初に予め、導体ペースト又は導電物質が充填さ
れたビアホールを必要に応じて形 成した焼成後のセラミックス基板を準備す る。 (ロ)セラミックス基板の片面又は両面に所定のパター
ンに該セラミックス基板とグリー ンテープとの接着性を向上させるための絶 縁ペーストを形成する。 (ハ)セラミックス基板上の絶縁ペースト上に導体ペー
ストを所定のパターンに形成す る。 (ニ)次に、セラミックスのグリーンテープを準備し、
このグリーンテープにビアホール を形成する。 (ホ)必要に応じて該グリーンテープの片面への導体ペ
ーストを形成し、必要に応じてグ リーンテープのビアホールへの導体ペース トの充填を行なう。 (へ)セラミックス基板上の片面又は両面に導体ペース
トが形成されていない該グリー ンテープの面を該セラミックス基板と相対 向させるようにして該グリーンテープを積 層する。 (ト)(ホ)工程において、該グリーンテープ上に導体
ペーストの形成、ビアホールへの導体 ペーストの充填が行なわれなかった場合に は、該形成、該充填を行なう。 (チ)積層する際、必要に応じて加圧する。 (リ)更に、多層化をする場合には、ビアホールを形成
したグリーンテープを上記セラミ ックス基板上のグリーンテープ上に重ね、 必要に応じて加圧する。 (ヌ)(リ)工程において重ねられたグリーンテープ上
に導体ペーストのため及びビアホール の充填のための導体ペーストの形成を行な う。 (ル)必要層数に応じて(リ),(ヌ)を繰り返す。 (オ)最後にセラミックス基板とグリーンテープを加圧
、焼成する。
(5) A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate, comprising the following steps. (a) First, a fired ceramic substrate is prepared in which via holes filled with a conductive paste or a conductive material are formed as necessary. (b) An insulating paste is formed in a predetermined pattern on one or both sides of the ceramic substrate to improve the adhesion between the ceramic substrate and the green tape. (c) Forming a conductive paste in a predetermined pattern on the insulating paste on the ceramic substrate. (d) Next, prepare ceramic green tape,
A via hole is formed in this green tape. (e) Form a conductive paste on one side of the green tape as necessary, and fill via holes of the green tape with the conductive paste as necessary. (f) The green tape is laminated so that the surface of the green tape on which conductive paste is not formed on one or both surfaces of the ceramic substrate faces the ceramic substrate. (G) In the (E) process, if the conductor paste is not formed on the green tape and the via hole is not filled with the conductor paste, the formation and filling are performed. (H) Apply pressure as necessary when laminating. (li) Furthermore, in the case of multilayering, the green tape with via holes formed thereon is stacked on top of the green tape on the ceramic substrate, and pressure is applied as necessary. (n) In the (li) step, a conductive paste is formed on the overlapping green tape and for filling the via holes. (l) Repeat (l) and (n) according to the required number of layers. (E) Finally, pressurize and fire the ceramic substrate and green tape.
(6)前記セラミックス基板が、アルミナ又はベリリア
又は窒化アルミニウムであることを特徴とする第1項乃
至第5項記載のセラミックス多層基板の製造方法。
(6) The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to any one of items 1 to 5, wherein the ceramic substrate is made of alumina, beryllia, or aluminum nitride.
(7)前記グリーンテープ又は絶縁ペーストの内少なく
とも1つの無機成分が重量%表示でガラス粉末40〜9
0、耐火物フィラー9.99〜60、酸化剤0.01〜
20からなり、当該ガラス粉末は、重量%表示で実質的
に SiO_2 38〜48 Al_2O_3 1〜8 MgO 0〜10 CaO 1〜8 SrO 0〜15 BaO 18〜28 PbO 0〜20 ZnO 10〜20 B_2O_3 0.5〜15 TiO_2+ZrO_2 0〜7 LiO_2+Na_2O+K_2O 0〜5からなり、
焼成が実質的に非酸化性雰囲気中で行なわれることを特
徴とする第1項乃至第6項記載のセラミックス多層基板
製造方法。
(7) At least one inorganic component of the green tape or insulating paste is a glass powder of 40 to 9% by weight.
0, refractory filler 9.99~60, oxidizing agent 0.01~
20, the glass powder consists essentially of SiO_2 38-48 Al_2O_3 1-8 MgO 0-10 CaO 1-8 SrO 0-15 BaO 18-28 PbO 0-20 ZnO 10-20 B_2O_3 0 .5 to 15 TiO_2+ZrO_2 0 to 7 LiO_2+Na_2O+K_2O 0 to 5,
7. The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to any one of items 1 to 6, wherein the firing is performed in a substantially non-oxidizing atmosphere.
(8)第1項乃至第7項記載のセラミックス多層基板の
製造方法によって製造されたセラミック多層基板。
(8) A ceramic multilayer substrate manufactured by the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate described in items 1 to 7.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002353623A (en) * 2001-05-24 2002-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing ceramic multilayer board

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002353623A (en) * 2001-05-24 2002-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing ceramic multilayer board

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