JPH03240786A - Production of (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative - Google Patents

Production of (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative

Info

Publication number
JPH03240786A
JPH03240786A JP3951890A JP3951890A JPH03240786A JP H03240786 A JPH03240786 A JP H03240786A JP 3951890 A JP3951890 A JP 3951890A JP 3951890 A JP3951890 A JP 3951890A JP H03240786 A JPH03240786 A JP H03240786A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
carbon
lower alkyl
triazol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3951890A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanobu Kano
狩野 正信
Fujio Tafusa
不二男 田房
Junichi Namikawa
南川 純一
Yoshiaki Manabe
真鍋 義曄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP3951890A priority Critical patent/JPH03240786A/en
Publication of JPH03240786A publication Critical patent/JPH03240786A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To simply obtain the title high-purity compound without preparing substitution products at the 4-position as by-products by reacting a carbostyril derivative or salt thereof with 4-amino-1,2,4-triazole. CONSTITUTION:A compound shown by formula I (R<1> is H, lower alkyl or phenyl lower alkyl; R<2> is H, halogen, OH, etc.; Z is O, group shown by formula II, group shown by formula III, etc.; A is lower alkylene; X is halogen, lower alkylsulfonyloxy, etc.; carbon-carbon bond between the 3- and 4-positions of carbostyril skeleton is single or double bond) is reacted with preferably 1.5-5mols based on 1mol of the compound shown by formula I of 4-amino-1,2,4-triazole in a solvent such as methanol by adding an inorganic salt such as lithium bromide (preferably 0.5-3mols based 1mol of the compound shown by formula I) preferably at 50-150 deg.C for 1-20 hour to give the objective compound shown by formula IV.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、(1,2,4−トリアゾール−1イル)置換
カルボスチリル誘導体の製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method for producing (1,2,4-triazol-1yl)-substituted carbostyril derivatives.

従来の技術及びその問題点 一般式 [式中、R1は水素原子、低級アルキル基又はフェニル
低級アルキル基を示す。R2は水素原子、ハロゲン原子
、低級アルキルスルホニルオキシ基、低級アルコキシ基
又は水酸基を示す。Zは酸素原子、硫黄原子、基−C 1 基−C−基−CH−(R3は水素原子又1 N−OH,OR3 は低級アルキル基)又は基−NH−を示す。Aは低級ア
ルキレン基を示す。Xはハロゲン原子、低級アルキルス
ルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基又はア
ラルキルスルホニルオキシ基を示す。カルボスチリル骨
格の3位及び4位の炭素間結合は一重結合又は二重結合
を示す。] で表わされる(1. 2. 4−トリアゾール−1イル
)置換カルボスチリル誘導体は、血小板粘着阻害活性を
有する有用な化合物である(特開昭64−6271号公
報参照)。
Prior art and its problems General formula [wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl lower alkyl group]. R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, a lower alkoxy group, or a hydroxyl group. Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a group -C 1 group -C- group -CH- (R3 is a hydrogen atom or 1 N-OH, OR3 is a lower alkyl group), or a group -NH-. A represents a lower alkylene group. X represents a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, or an aralkylsulfonyloxy group. The carbon-carbon bonds at the 3rd and 4th positions of the carbostyril skeleton represent a single bond or a double bond. ] The (1.2.4-triazol-1yl)-substituted carbostyril derivative represented by these formulas is a useful compound having platelet adhesion inhibiting activity (see JP-A No. 64-6271).

上記公報によれば、一般式(1)で表わされる(1.2
.4−トリアゾール−1−イル)置換カルボスチリル誘
導体は、例えば下記反応式に示されるように、一般式(
A)で表わされるカルボスチリル誘導体と1. 2. 
4−トリアゾールとを反応させることにより製造されて
いる。
According to the above publication, (1.2
.. 4-triazol-1-yl) substituted carbostyril derivatives have the general formula (
A) carbostyryl derivative represented by 1. 2.
It is produced by reacting with 4-triazole.

1 (A) 2 (1) + しかしながら、この方法によれば、目的とする一般式(
1)の化合物と共に、一般式(B)で表わされる化合物
が副生するを避は得ず、従って高純度の一般式(1)の
化合物を得る−ためには、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー等による精製工程を必要とし、これは目的物の
大量生産においては操作が煩雑となり、長時間を要し、
また多量の溶媒を必要とするため、高経費となる等の欠
点を有している。
1 (A) 2 (1) + However, according to this method, the target general formula (
Along with the compound of formula (1), the compound represented by the general formula (B) is inevitably produced as a by-product. Therefore, in order to obtain the compound of the general formula (1) with high purity, purification by silica gel column chromatography, etc. is necessary. This requires a process that is complicated and takes a long time in mass production of the target product.
Furthermore, since a large amount of solvent is required, it has disadvantages such as high cost.

近年、アストルフォード(B、^、^5tleford
) らにより、上記一般式(B)の化合物を副生しない
一般式(1)の化合物の合成法が報告されている(J、
 Org、 Chem、 、 54.731 (198
9))。
In recent years, Astleford (B, ^, ^5tleford
) have reported a method for synthesizing the compound of general formula (1) without producing the compound of general formula (B) as a by-product (J,
Org, Chem, , 54.731 (198
9)).

2 1 1 (B) 即ち、本発明は、一般式 しかるに、この方法においては、ニトロソ化反応及び亜
硝酸酸化反応が副反応として進行するため、これらの反
応に感受性の高い官能基や電子密度の高い芳香環を有す
る化合物を使用する場合には、低収率でしか目的物が得
られないという欠点を有している。
2 1 1 (B) That is, the present invention has a general formula. However, in this method, the nitrosation reaction and the nitrite oxidation reaction proceed as side reactions, so functional groups with high sensitivity to these reactions and electron density When using a compound having a high aromatic ring, the disadvantage is that the desired product can only be obtained in a low yield.

問題点を解決するための手段 本発明の目的は、上記欠点を有しない一般式(1)のカ
ルボスチリル誘導体の製造方法を提供することにある。
Means for Solving the Problems The object of the present invention is to provide a method for producing carbostyryl derivatives of general formula (1) which does not have the above-mentioned drawbacks.

R21 1 [式中、R1,R2Z、、A並びにカルボスチリル骨格
の3位及び4位の炭素間結合は前記に同じ。Xはハロゲ
ン原子、低級アルキルスルホニルオキシ基、アリールス
ルホニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を
示ス。]で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩
ニ4−アミノ−1,2,4−)リアゾールを反応させて
、上記一般式(1)で表わされる(1. 2゜4−トリ
アゾール−1−イル)置換カルボスチリル誘導体又はそ
の塩を得ることを特徴とする(1゜2.4−トリアゾー
ル−1〜イル)置換カルボスチリル誘導体の製造法に係
る。
R21 1 [wherein R1, R2Z, , A and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. X represents a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, or an aralkylsulfonyloxy group. ] or its salt di-4-amino-1,2,4-)lyazole is reacted to form (1.2゜4-triazol-1-yl) represented by the above general formula (1). The present invention relates to a method for producing a (1°2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative, which is characterized by obtaining a substituted carbostyryl derivative or a salt thereof.

本明細書において、低級アルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、1erl−
ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
In this specification, lower alkyl groups include methyl,
Ethyl, propyl, isopropyl, butyl, 1erl-
Examples include straight chain or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as butyl, pentyl, and hexyl groups.

フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、2−フェ
ニルエチル、1−フェニルエチル、3−フェニルプロピ
ル、4−フェニルブチル、L1−ジメチル−2−フェニ
ルエチル、5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシ
ル、2−メチル−3−フェニルプロピル基等のアルキル
部分が炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るフェニルアルキル基を例示できる。
Examples of phenyl lower alkyl groups include benzyl, 2-phenylethyl, 1-phenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, L1-dimethyl-2-phenylethyl, 5-phenylpentyl, 6-phenylhexyl, 2- Examples include phenylalkyl groups in which the alkyl moiety is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl-3-phenylpropyl group.

ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
及び沃素原子を例示できる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

低級アルキルスルホニルオキシ基としては、メチルスル
ホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスル
ホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチル
スルホニルオキシ、’terj−ブチルスルホニルオキ
シ、ペンチルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオ
キシ基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキルス
ルホニルオキシ基を例示できる。
Examples of lower alkylsulfonyloxy groups include those having 1 to 6 carbon atoms, such as methylsulfonyloxy, ethylsulfonyloxy, propylsulfonyloxy, isopropylsulfonyloxy, butylsulfonyloxy, 'terj-butylsulfonyloxy, pentylsulfonyloxy, and hexylsulfonyloxy groups. Examples include straight chain or branched alkylsulfonyloxy groups.

低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、1er!−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数1〜
6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる。
Examples of lower alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, 1er! -butoxy, pentyloxy, hexyloxy, etc. having 1 or more carbon atoms
6, a straight chain or branched alkoxy group can be exemplified.

低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、2−メチルトリメチレン、2゜2−ジメチル
トリメチレン、1−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖
状アルキレン基を例示できる。
Examples of lower alkylene groups include carbon groups such as methylene, ethylene, trimethylene, 2-methyltrimethylene, 2゜2-dimethyltrimethylene, 1-methyltrimethylene, methylmethylene, ethylmethylene, tetramethylene, pentamethylene, and hexamethylene groups. Examples include straight chain or branched alkylene groups having numbers 1 to 6.

アリールスル番ニルオキシ基としては、フェニルスルホ
ニルオキシ、4−メチルフェニルスルホニルオキシ、2
−メチルフェニルスルホニルオキシ、4−ニトロフェニ
ルスルホニルオキシ、4−メトキシフェニルスルホニル
オキシ、3−クロロフェニルスルホニルオキシ、α−ナ
フチルフェニルスルホニルオキシ基等を例示できる。
Examples of the arylsulfonyloxy group include phenylsulfonyloxy, 4-methylphenylsulfonyloxy, 2-methylphenylsulfonyloxy,
Examples include -methylphenylsulfonyloxy, 4-nitrophenylsulfonyloxy, 4-methoxyphenylsulfonyloxy, 3-chlorophenylsulfonyloxy, and α-naphthylphenylsulfonyloxy groups.

アラルキルスルホニルオキシ基としては、ベンジルスル
ホニルオキシ、2−フェニルエチルスルホニルオキシ、
4−フェニルブチルスルホニルオキシ、4−メチルベン
ジルスルホニルオキシ、2−メチルベンジルスルホニル
オキシ、4−ニトロベンジルスルホニルオキシ、4−メ
トキシベンジルスルホニルオキシ、α−ナフチルメチル
スルホニルオキシ基等を例示できる。
Examples of the aralkylsulfonyloxy group include benzylsulfonyloxy, 2-phenylethylsulfonyloxy,
Examples include 4-phenylbutylsulfonyloxy, 4-methylbenzylsulfonyloxy, 2-methylbenzylsulfonyloxy, 4-nitrobenzylsulfonyloxy, 4-methoxybenzylsulfonyloxy, and α-naphthylmethylsulfonyloxy groups.

本発明の方法によれば、一般式(2)の化合物と4−ア
ミノ−1,2,4−トリアゾールとの反応は、適当な溶
媒中にて行なわれる。ここで溶媒としては、メタノール
、エタノール、イソプロピルアルコール、ferf−ブ
タノール等のアルコール類、アセトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジ
メチルホルムアミド、ホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン、N、N’  −ジメチルイミダゾリジノン、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒等やこれらと水との混合溶
媒等を挙げることができる。
According to the method of the invention, the reaction of the compound of general formula (2) with 4-amino-1,2,4-triazole is carried out in a suitable solvent. Examples of solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and ferf-butanol, ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, nitriles such as acetonitrile, dimethylformamide, formamide, Examples include aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N'-dimethylimidazolidinone, dimethylsulfoxide, and hexamethylphosphoric triamide, and mixed solvents of these and water.

般式(2)の化合物と4−アミノ−1,2,4−トリア
ゾールとの使用割合としては、特に限定されず広い範囲
内から適宜選択することができるが、通常前者に対して
後者を1〜10倍モル量程度、好ましくは1.5〜5倍
モル量程度とするのがよい。
The ratio of the compound of general formula (2) and 4-amino-1,2,4-triazole is not particularly limited and can be appropriately selected from a wide range, but usually the latter is used in a ratio of 1 to 1 of the former. The amount is preferably about 10 to 10 times the molar amount, preferably about 1.5 to 5 times the molar amount.

上記反応系内には、反応の進行を促進する目的で、臭化
リチウム、臭化カリウム等の臭化物、沃化ナトリウム、
沃化カリウム等の沃化物等の無機塩を添加してもよい。
In the above reaction system, bromides such as lithium bromide and potassium bromide, sodium iodide,
Inorganic salts such as iodides such as potassium iodide may be added.

斯かる無機塩の添加量は、一般式(2)の化合物に対し
て通常0.1〜5倍モル量程度、好ましくは0.5〜3
倍モル量程度とするのがよい。
The amount of such inorganic salt added is usually about 0.1 to 5 times the molar amount, preferably 0.5 to 3 times the amount of the compound of general formula (2).
It is preferable to use about twice the molar amount.

本発明の反応は、通常室温付近〜200℃程度、好まし
くは50〜150℃の範囲内で行なわれ、一般に1〜2
0時間程度で完結する。
The reaction of the present invention is usually carried out at a temperature of around room temperature to about 200°C, preferably 50 to 150°C, and generally 1 to 2
Completed in about 0 hours.

本発明においては、上記溶媒として低沸点溶媒を用いる
場合には、反応内温を上昇させる目的で加圧容器を用い
てもよい。
In the present invention, when a low boiling point solvent is used as the solvent, a pressurized container may be used for the purpose of increasing the internal reaction temperature.

発明の効果 本発明の方法によれば、4位置換体を副生ずることなく
、1位置換体[一般式(1)の化合物]を選択的に得る
ことができ、カラムクロマトグラフィー精製等の煩雑な
操作を要することなく、容易且つ生産性よく、大量に一
般式(1)の化合物を製造し得る。また本発明の反応で
は、ニトロソ化反応及び亜硝酸酸化反応が副反応として
進行するものではないため、これらの反応に感受性の高
い官能基や電子密度の高い芳香環を有する化合物を原料
化合物に使用した場合であっても、目的物を高収率で得
ることができる。
Effects of the Invention According to the method of the present invention, a compound substituted at the 1-position [compound of general formula (1)] can be selectively obtained without producing a compound substituted at the 4-position as a by-product, and complicated operations such as column chromatography purification are not necessary. The compound of general formula (1) can be produced in large quantities easily and with good productivity without the need for. In addition, in the reaction of the present invention, since the nitrosation reaction and nitrite oxidation reaction do not proceed as side reactions, compounds having functional groups that are sensitive to these reactions and aromatic rings with high electron density are used as raw material compounds. Even in this case, the target product can be obtained in high yield.

実施例 以下に実施例を掲げる。Example Examples are listed below.

実施例1 7−(3−クロロ−1−プロポキシ) −2(LH)−
キノリノン30gをジメチルホルムアミド30xl及び
水9 xiの混合溶媒中に懸濁し、4−アミノ−1,2
,4−トリアゾール(60%水溶液)52.6g及び沃
化ナトリウム22.6gを加え、油浴上で11時間加熱
還流した。反応液を放冷後、亜硫酸水素ナトリウム1.
3gを加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を水洗し
、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣を
5%塩酸水溶液160z/に溶解し、活性炭で処理した
。活性炭を消去後、炉液を25%水酸化ナトリウムを用
いてアルカリ性とした後、塩化メチレンで抽出した。塩
化メチレンを留去後、残渣を1.2−ジクロロエタンに
溶解し、有機層を25%水酸化ナトリウム水溶液で洗浄
し、次いで水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去後、残渣を25%エタノール水溶液より再結晶し
て、7−[3−(1,2,4−)リアゾール−1−イル
)プロポキシ]−3,4−ジヒドロカルボスチリル23
gを得た。
Example 1 7-(3-chloro-1-propoxy)-2(LH)-
30 g of quinolinone was suspended in a mixed solvent of 30 xl of dimethylformamide and 9 xl of water, and 4-amino-1,2
, 52.6 g of 4-triazole (60% aqueous solution) and 22.6 g of sodium iodide were added, and the mixture was heated under reflux on an oil bath for 11 hours. After cooling the reaction solution, add sodium bisulfite 1.
3 g was added and extracted with methylene chloride. The organic layer was washed with water and dried over magnesium sulfate. After evaporating the solvent, the residue was dissolved in 5% aqueous hydrochloric acid solution (160 z/ml) and treated with activated carbon. After removing the activated carbon, the furnace solution was made alkaline using 25% sodium hydroxide, and then extracted with methylene chloride. After distilling off methylene chloride, the residue was dissolved in 1,2-dichloroethane, and the organic layer was washed with a 25% aqueous sodium hydroxide solution, then water, and dried over magnesium sulfate. After evaporating the solvent, the residue was recrystallized from a 25% aqueous ethanol solution to give 7-[3-(1,2,4-)riazol-1-yl)propoxy]-3,4-dihydrocarbostyryl 23
I got g.

収率:66% 無色針状晶、融点132〜133.5°C実施例2〜2
1 適当な出発原料を用い、実施例1と同様にして下記第1
表に示す化合物を得た。
Yield: 66% Colorless needle crystals, melting point 132-133.5°C Examples 2-2
1 Using appropriate starting materials, prepare the following 1st procedure in the same manner as in Example 1.
The compounds shown in the table were obtained.

(以 上) 平成3年4月30日(Hereafter Up) April 30, 1991

Claims (1)

【特許請求の範囲】 [1]一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は水素原子、低級アルキル基又はフェニ
ル低級アルキル基を示す。R^2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキルスルホニルオキシ基、低級アルコキ
シ基又は水酸基を示す。Zは酸素原子、硫黄原子、基▲
数式、化学式、表等があります▼ 基▲数式、化学式、表等があります▼基▲数式、化学式
、表等があります▼(R^3は水素原子 又は低級アルキル基)又は基−NH−を示す。 Aは低級アルキレン基を示す。Xはハロゲン原子、低級
アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキ
シ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を示す。カルボ
スチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は一重結合又
は二重結合を示す。] で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩に4−ア
ミノ−1,2,4−トリアゾールを反応させて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1、R^2、Z、A並びにカルボスチリル
骨格の3位及び4位の炭素間結合は前記に同じ。] で表わされる(1,2,4−トリアゾール−1−イル)
置換カルボスチリル誘導体又はその塩を得ることを特徴
とする(1,2,4−トリアゾール−1−イル)置換カ
ルボスチリル誘導体の製造法。
[Claims] [1] General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl lower alkyl group. R^2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, a lower alkoxy group, or a hydroxyl group. Z is oxygen atom, sulfur atom, group ▲
There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Groups ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Groups ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (R^3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group) or indicates a group -NH- . A represents a lower alkylene group. X represents a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, or an aralkylsulfonyloxy group. The carbon-carbon bonds at the 3rd and 4th positions of the carbostyril skeleton represent a single bond or a double bond. ] 4-amino-1,2,4-triazole is reacted with the carbostyryl derivative or its salt represented by the general formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^1, R^2 , Z, A and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. ] (1,2,4-triazol-1-yl) represented by
1. A method for producing a (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyryl derivative, which comprises obtaining a substituted carbostyril derivative or a salt thereof.
JP3951890A 1990-02-19 1990-02-19 Production of (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative Pending JPH03240786A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3951890A JPH03240786A (en) 1990-02-19 1990-02-19 Production of (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3951890A JPH03240786A (en) 1990-02-19 1990-02-19 Production of (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03240786A true JPH03240786A (en) 1991-10-28

Family

ID=12555265

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3951890A Pending JPH03240786A (en) 1990-02-19 1990-02-19 Production of (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03240786A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005501841A5 (en)
US4665188A (en) Certain [(1-imidazolyl)-lower-alkylene]-tetrahydronaphthalenecarboxylic acids or corresponding idan-carboxylic acids which are thromboxane A2
EP1480953A1 (en) Process for preparing aripiprazole
CA1197510A (en) 1-¬3-(6-fluoro-1,2-benzisoxazol-3-yl) propyl|-4- hydroxy-4-phenyl-piperidines
CA1330663C (en) Thiazolidinedione derivatives
JPH03240786A (en) Production of (1,2,4-triazol-1-yl)-substituted carbostyril derivative
Li et al. Microwave-assisted synthesis of new 1, 2, 3-triazoles bearing an isoxazole ring by the azide-alkyne cycloaddition click chemistry
CN110357866A (en) Benzo five-membered oxa- ring-benzimidazole salt compound and its synthetic method and application
JPH0156067B2 (en)
JPS59176234A (en) P-nitrophenyl-3-bromo-2,2-diethoxy-propionate
JPH0564626B2 (en)
FR2684377A1 (en) Benzoxazole and benzothiazole derivatives, their preparation and their use as synthetic intermediates
JPS63215680A (en) Benzopyranotriazole derivative
JP2010070479A (en) 4-aryl-2-(1-naphthylmethyl)imidazole compound
JPS62263165A (en) 1,2,4-triazolin-5-one and production thereof
JPH02262560A (en) Imidazole compound
JPS62138484A (en) Haloacetamide isooxazole derivative
JPS6176485A (en) Novel gamma-pyran derivative
JPH07309845A (en) New production of pyrazine derivative
JPS6344568A (en) Butyric acid derivative
JP2003055375A (en) Method for producing optically active hydrazine compound
JPH045277A (en) 4,5,6,7-tetrahydrobenzimidazole derivative
JPS61183285A (en) Vinylimidazole derivative and salt thereof
JPS62144B2 (en)
JPH03153660A (en) Sulfonic acid ester of 4-halo-3-hydroxybutane nitrile and preparation thereof