JPH03234672A - Thermal head - Google Patents

Thermal head

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Publication number
JPH03234672A
JPH03234672A JP3222290A JP3222290A JPH03234672A JP H03234672 A JPH03234672 A JP H03234672A JP 3222290 A JP3222290 A JP 3222290A JP 3222290 A JP3222290 A JP 3222290A JP H03234672 A JPH03234672 A JP H03234672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
heating
electrode
individual
thermal head
Prior art date
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Pending
Application number
JP3222290A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kyoji Shirakawa
白川 享志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
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Publication of JPH03234672A publication Critical patent/JPH03234672A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve the thermal efficiency and at the same time, improve the high speed thermal response property by a method wherein on a heating resistance body layer, an insulator layer or which slits are respectively formed on each individual electrode is formed, and on this insulator layer and in each slit, a plurality of individual lead wires to correspond with respective individual electrodes are formed. CONSTITUTION:On a glaze layer 2 and each electrode 4 which are provided on a base with insulating property 1, a heating resistance body layer which constitutes a heating resistance body 3 and an insulator layer 14 are laminated to form a thermal head, and after performing heat treatment by heating this thermal head in an oven, the thermal head is taken out of the oven. Then, by etching the insulator layers 14 which are directly above individual electrodes 46, a plurality of slits 14A are formed, and the heating resistance body 3 is exposed, and at the same time, the insulator layer 14 above the outer connecting terminal for a common electrode 4a is removed. Then, on the insulator layer 14, an electrode layer which consists of high melting point metals, W, Mo, Ti, Cr, etc., and an electrode layer which consists of Al, Cu, Au, etc., are laminated in order. When these electrode layers are etched, a plurality of individual lead wires 15 are formed with intervals between them. Each individual lead wire 15 is directly connected to the heating resistance body 3, and indirectly connected to each individual electrode 4b.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、サーマルプリンタに搭載され、印字情報に従
って通電加熱することにより所望の印字を行なうサーマ
ルヘッドに係り、特に、その熱効率の改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thermal head that is installed in a thermal printer and performs desired printing by applying electricity and heating according to printing information, and particularly relates to improving its thermal efficiency.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、感熱プリンタ、熱転写プリンタ等のサーマルプ
リンタに搭載されるサーマルヘッドは、例えば、複数の
発熱抵抗体を絶縁性基板上に直線的に整列配置し、印字
情報に従って前記各発熱抵抗体を選択的に通電加熱させ
て、感熱プリンタにおいては、感熱記録紙に発色記録さ
せ、また、熱転写プリンタにおいては、インクリボンの
インクを溶融して酋通紙に転写記録させるようになって
いる。
In general, a thermal head installed in a thermal printer such as a thermal printer or a thermal transfer printer has, for example, a plurality of heating resistors arranged in a straight line on an insulating substrate, and selectively selects each of the heating resistors according to printed information. In a thermal printer, the ink is heated and energized to record color on the thermal recording paper, and in a thermal transfer printer, the ink on the ink ribbon is melted and transferred and recorded on the paper.

第7図は従来のこの種のサーマルヘッドの一側を示すも
のであり、アルミナ等の絶縁性基板1の上面には、蓄熱
層として機能するガラスからなるグレーズ層2が上面が
断面円弧状となるように部分的に積層されており、この
グレーズ層2の上面から絶縁性基板1の上面にかけては
、Ta2N等からなる複数の発熱抵抗体3が、蒸着、ス
パッタリング等により全体的に積層された後にフォトリ
ソグラフィ技術のエツチングを行なうことにより直線状
に整列して形成されている。これらの各発熱抵抗体3の
両側の上面には、各発熱抵抗体3に対して通電するため
の共通電極4aおよび個別電極4bがそれぞれ形成され
ている。これらの各電極4a、4bは、例えば、AN 
、Cu 、ALl等の軟質金属からなり、約2μ班の厚
みに蒸着、スパッタリング等により全体的に積層された
後にフォトリソグラフィ技術のエツチングを行なうこと
により所望の形状のパターンに形成されている。そして
、前記各発熱抵抗体3は、前記共通電極4aおよび個別
電極4b間に、最小印字単位たる1ドツト相当分の発熱
ドツト3Aを露出するようにして各個独立に形成され、
この発熱抵抗体3の発熱ドツト3Aは、前記各電極48
.4b間に電圧を印加することにより発熱されるように
なっている。
FIG. 7 shows one side of a conventional thermal head of this type. On the upper surface of an insulating substrate 1 made of alumina or the like, a glaze layer 2 made of glass that functions as a heat storage layer is arranged so that the upper surface has an arcuate cross section. From the upper surface of the glaze layer 2 to the upper surface of the insulating substrate 1, a plurality of heating resistors 3 made of Ta2N etc. are laminated as a whole by vapor deposition, sputtering, etc. Later, by performing etching using photolithography, they are formed in linear alignment. A common electrode 4a and individual electrodes 4b for supplying current to each heating resistor 3 are formed on the upper surfaces of both sides of each heating resistor 3, respectively. Each of these electrodes 4a, 4b is, for example, AN
, Cu, AL1, etc., and is formed into a pattern of a desired shape by laminating the entire layer to a thickness of approximately 2 μm by vapor deposition, sputtering, etc., and then performing etching using photolithography technology. Each of the heating resistors 3 is formed independently between the common electrode 4a and the individual electrodes 4b so as to expose a heating dot 3A corresponding to one dot, which is the minimum printing unit,
The heating dots 3A of the heating resistor 3 are connected to each of the electrodes 48.
.. Heat is generated by applying a voltage across 4b.

前記絶縁性基板1、グレーズ層2、各発熱抵抗体3およ
び各電極4a、4bの上面には、各発熱抵抗体3および
電極4a、4bを保護する約7〜10μ扉の膜厚の保護
115が積層されており、この保護1t5は、発熱抵抗
体3を酸化による劣化から保護するSiO2等からなる
ほぼ2μ虱の膜厚の耐酸化層6と、この酸化層上に積層
され感熱記録紙、インクリボン等の感熱記録部材との接
触による摩耗から各発熱抵抗体3および電極4a。
On the upper surface of the insulating substrate 1, glaze layer 2, each heating resistor 3, and each electrode 4a, 4b, a protection film 115 with a thickness of approximately 7 to 10 μm is provided to protect each heating resistor 3 and electrodes 4a, 4b. This protection 1t5 includes an oxidation-resistant layer 6 made of SiO2 or the like having a thickness of approximately 2 μm and protecting the heat-generating resistor 3 from deterioration due to oxidation, and a thermal recording paper laminated on the oxidation layer. Each heating resistor 3 and electrode 4a are protected from wear due to contact with a heat-sensitive recording member such as an ink ribbon.

4bを保護するTa205等からなるほぼ5〜8μ扉の
膜厚の耐摩耗層7とから構成されており、この保護I!
25は、前記各電極4a、4bの端子部以外の表面のす
べてを被覆するようになっている。
4b, and a wear-resistant layer 7 made of Ta205 or the like and having a film thickness of approximately 5 to 8 μm, and this protection I!
25 covers the entire surface of each electrode 4a, 4b other than the terminal portion.

この保護層5の耐酸化層6および耐摩耗層7は、スパッ
タリング等の手段により順次形成されるようになってい
る。
The oxidation-resistant layer 6 and the wear-resistant layer 7 of the protective layer 5 are sequentially formed by means such as sputtering.

なお、実際のサーマルヘッドの製造においては、ひとつ
の絶縁性基板1上に複数個のサーマルヘッドを形成する
ようになっているため、最終工程において前記絶縁性基
板1を分割して所定数のサーマルヘッドチップを得るよ
うになっている。
Note that in actual manufacturing of thermal heads, multiple thermal heads are formed on one insulating substrate 1, so in the final process, the insulating substrate 1 is divided into a predetermined number of thermal heads. Now you get a head chip.

前述した従来のサーマルヘッドを使用する熱転写プリン
タにおいては、このサーマルヘッドをインクリボンを介
して用紙に圧接させ、所定の印字情報に基づいて所望の
ドツトに対応する個別電極4bに通電することにより、
その発熱抵抗体層3を発熱させ、前記インクリボンのイ
ンクを前記用紙に溶融転写させることにより、前記用紙
上に所望の印字を行なうことができる。
In the thermal transfer printer using the conventional thermal head described above, the thermal head is brought into pressure contact with the paper via the ink ribbon, and the individual electrodes 4b corresponding to the desired dots are energized based on predetermined print information.
By causing the heating resistor layer 3 to generate heat and melting and transferring the ink of the ink ribbon onto the paper, desired printing can be performed on the paper.

第8図は従来のこの種のサーマルヘッドの他側を示すも
のであり、前述した第7図のものどはグレーズ層2の形
状が異なっている。
FIG. 8 shows the other side of a conventional thermal head of this type, and the shape of the glaze layer 2 is different from that shown in FIG. 7 described above.

すなわち、第7図のグレーズ層2は上面が断面円弧状と
なるように絶縁性基板1上に部分的に形成されていたの
に対し、第8図のグレーズ層2は上面が平面となるよう
に絶縁性基板1−[の所定範囲の全域に形成されている
。したがって、この第8図のものは第7図のものより上
面が平面に近くなっている。なお、その他の構成は第7
図と同様である。
That is, the glaze layer 2 in FIG. 7 is partially formed on the insulating substrate 1 so that the top surface has an arc-shaped cross section, whereas the glaze layer 2 in FIG. 8 is formed so that the top surface is flat. It is formed over the entire predetermined range of the insulating substrate 1-[. Therefore, the upper surface of the one shown in FIG. 8 is closer to a flat surface than that of FIG. 7. In addition, the other configurations are as follows.
It is similar to the figure.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、前述した従来のサーマルヘッドにおいて
は、前記発熱抵抗体3において通電により発生した熱量
、グレーズ層2方向に伝達されてそのほぼ40%の熱量
が失われるとともに、各電極4a、4b方向にもほぼ4
0%の熱量が伝達されて失われてしまうことから、わず
か20%の熱量のみが印字エネルギとして有効に利用さ
れるにすぎない。したがって、熱効率が著しく低下して
しまい、印字エネルギ密度を高く保持することができず
、大きなエネルギ損失を生じてしまうという問題点を有
している。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional thermal head described above, approximately 40% of the heat generated by energization in the heat generating resistor 3 is transmitted toward the glaze layer 2 and is lost. , approximately 4 in the direction of each electrode 4a, 4b.
Since 0% of the heat is transferred and lost, only 20% of the heat is effectively utilized as printing energy. Therefore, there is a problem in that thermal efficiency is significantly reduced, printing energy density cannot be maintained high, and large energy loss occurs.

また、熱効率を向上するために前記グレーズ層2の厚さ
寸法を大きく形成すると、グレーズ層2の熱容量が大き
くなって蓄熱量が増大し、高速印字に必要な高速熱応答
性を得ることができなくなってしまうという問題点を有
している。
Furthermore, if the thickness of the glaze layer 2 is made large in order to improve thermal efficiency, the heat capacity of the glaze layer 2 increases and the amount of heat storage increases, making it possible to obtain the high-speed thermal response necessary for high-speed printing. The problem is that it disappears.

本発明は、前述した従来のものにおける問題点を解決し
、熱効率を向上するとともに、高速熱応答性を高めるこ
とのできるサーマルヘッドを提供することを目的とする
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a thermal head capable of solving the above-described problems in the conventional head, improving thermal efficiency, and increasing high-speed thermal response.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

前述した目的を達成するため請求項第1項のサーマルヘ
ッドは、絶縁性基板上にグレーズ層を形成し、このグレ
ーズ層上に、複数の発熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に
選択的に通電する複数の電極をそれぞれ整列状に積層し
て各発熱抵抗体に発熱ドツトを形成し、これらの上方を
保護層により被覆してなるサーマルヘッドにおいて、前
記グレーズ層上に、基部の一側に多数の細片を平行に突
設してなる共通電極、ならびに、隣位の1対の前記細片
間にそれぞれ間隔を隔てて配設された多数の個別電極を
形成し、これらのグレーズ層、共通電極および各個別電
極上に、共通電極の隣位の1対の細片間にそれぞれ発熱
ドツトが形成されるように発熱抵抗体層を形成し、この
発熱抵抗体層上に、前記各―別置極上にそれぞれスリッ
トの形成された絶縁体層を形成し、この絶縁体層上およ
び前記各スリット内に各個別電極に対応する複数の個別
リード線を形成したことを特徴としている。
In order to achieve the above-mentioned object, the thermal head of claim 1 forms a glaze layer on an insulating substrate, and selectively energizes a plurality of heating resistors and each heating resistor on this glaze layer. In a thermal head in which a plurality of electrodes are laminated in an aligned manner to form heating dots on each heating resistor, and the upper part of these is covered with a protective layer, a large number of electrodes are formed on one side of the base on the glaze layer. A common electrode formed by protruding strips in parallel, and a large number of individual electrodes arranged at intervals between a pair of adjacent strips, and these glaze layers and the common electrode. A heating resistor layer is formed on each individual electrode so that a heating dot is formed between a pair of adjacent strips of the common electrode, and each of the above-mentioned separate electrodes is formed on this heating resistor layer. The present invention is characterized in that an insulating layer each having a slit is formed on the top thereof, and a plurality of individual lead wires corresponding to each individual electrode are formed on this insulating layer and within each of the slits.

また、請求項第2項のサーマルヘッドは、絶縁性基板上
にグレーズ層を形成し、このグレーズ層上に、複数の発
熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に選択的に通電する複数
の電極をそれぞれ整列状に積層して各発熱抵抗体に発熱
ドツトを形成し、これらの上方を保護層により被覆して
なるサーマルヘッドにおいて、前記グレーズ層上に、基
部の一側に多数の細片を平行に突設してなる共通電極を
形成し、これらのグレーズ層および共通電極上に、共通
電極の隣位の1対の細片間にそれぞれ発熱ドツトが形成
されるように発熱抵抗体層を形成し、この発熱抵抗体層
上に、前記各発熱ドツト上にそれぞれスリットの形成さ
れた絶縁体層を形成し、この絶縁体層上および前記各ス
リット内に各発熱ドツトに対応する複数の個別リード線
を形成したことを特徴としている。
Further, in the thermal head according to claim 2, a glaze layer is formed on an insulating substrate, and a plurality of heating resistors and a plurality of electrodes for selectively energizing each heating resistor are provided on the glaze layer. In a thermal head in which heating dots are formed on each heating resistor by stacking them in an aligned manner, and the upper part of these heating dots is covered with a protective layer, a large number of strips are placed in parallel on one side of the base on the glaze layer. A protruding common electrode is formed, and a heating resistor layer is formed on the glaze layer and the common electrode so that heating dots are formed between each pair of adjacent strips of the common electrode. , an insulating layer having slits formed on each of the heating dots is formed on the heating resistor layer, and a plurality of individual lead wires corresponding to each heating dot are provided on the insulating layer and in each of the slits. It is characterized by the formation of

さらに、請求項第3項のサーマルヘッドは、絶縁性基板
上にグレーズ層を形成し、このグレーズ層上に、複数の
発熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に選択的に通電する複
数の電極をそれぞれ整列状に積層して各発熱抵抗体に発
熱ドツトを形成し、これらの上方を保i1層により被覆
してなるサーマルヘッドにおいて、前記グレーズ層上に
発熱抵抗体層を形成し、この発熱抵抗体層上に、基部の
一側に多数の細片を隣位の1対の細片間にそれぞれ発熱
ドツトが形成されるように平行に突設してなる共通電極
、ならびに、隣位の1対の前記細片間にそれぞれ間隔を
隔てて配設された多数の個別電極を形成し、これらの発
熱抵抗体層、共通電極および各個別電極上に、前記各電
極上にそれぞれスリットの形成された絶縁体層を形成し
、この絶縁体層上および前記各スリット内に各個別電極
に接続される複数の個別リード線を形成したことを特徴
としている。
Furthermore, in the thermal head according to claim 3, a glaze layer is formed on the insulating substrate, and on the glaze layer, a plurality of heating resistors and a plurality of electrodes that selectively conduct electricity to each heating resistor are respectively provided. In a thermal head in which heating dots are formed on each heating resistor by stacking them in an aligned manner, and the upper part of these is covered with an insulating layer, a heating resistor layer is formed on the glaze layer, and the heating resistor layer is formed on the glaze layer. On the layer, there is a common electrode formed by protruding a large number of strips in parallel on one side of the base so that heating dots are formed between each pair of adjacent strips, and a pair of adjacent strips. A large number of individual electrodes are formed at intervals between the strips, and slits are formed on the heating resistor layer, the common electrode, and each of the individual electrodes. The present invention is characterized in that an insulating layer is formed, and a plurality of individual lead wires connected to each individual electrode are formed on the insulating layer and in each of the slits.

さらにまた、請求項第4項のサーマルヘッドは、絶縁性
基板上にグレーズ層を形成し、このグレーズ層上に、複
数の発熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に選択的に通電す
る複数の電極をそれぞれ整列状に積層して各発熱抵抗体
に発熱ドツトを形成し、これらの上方を保護層により被
覆してなるサーマルヘッドにおいて、前記グレーズ層上
に、発熱抵抗体層を形成し、この発熱抵抗体層上に、基
部の一側に多数の細片を隣位1対の細片間にそれぞれ発
熱ドツトが形成されるように平行に突設してなる共通電
極を形成し、これらの発熱抵抗体層および共通電極上に
、前記各発熱ドツト上にそれぞれスリットの形成された
絶縁体層を形成し、この絶縁体層上および前記各発熱ド
ツト内に接続される複数の個別リード線を形成したこと
を特徴とじている。
Furthermore, in the thermal head according to claim 4, a glaze layer is formed on an insulating substrate, and a plurality of heating resistors and a plurality of electrodes for selectively energizing each heating resistor are provided on the glaze layer. In a thermal head in which heating dots are formed on each heating resistor by laminating them in an aligned manner, and the top of these is covered with a protective layer, a heating resistor layer is formed on the glaze layer, and the heating resistor layer is formed on the glaze layer. On the body layer, a common electrode is formed by protruding a large number of strips in parallel on one side of the base so that heat-generating dots are formed between each pair of adjacent strips, and these heat-generating resistors An insulating layer having slits formed above each of the heating dots was formed on the body layer and the common electrode, and a plurality of individual lead wires were formed on the insulating layer and connected to each of the heating dots. It is characterized by

〔作 用〕[For production]

前述した構成からなる請求項第1項ないし第4項に記載
した本発明のサーマルヘッドによれば、発熱抵抗体層の
いずれかの発熱ドツトへの通電により発生した熱は、発
熱抵抗体層上に絶縁体層を介して配置された個別リード
線が絶縁体層と保護層の間に介装されているため、各個
別リード線により保護層側への伝達性が著しく向上する
。この結果、グレーズ層を介して絶縁性基板へ放熱して
いた熱量が低減されるようになり、熱効率が向上し、印
字エネルギ密度を高くすることができる。
According to the thermal head of the present invention as set forth in claims 1 to 4 having the above-described configuration, the heat generated by energizing any of the heating dots of the heating resistor layer is transferred to the heating resistor layer. Since the individual lead wires arranged through the insulating layer are interposed between the insulating layer and the protective layer, the transmission performance to the protective layer side is significantly improved by each individual lead wire. As a result, the amount of heat radiated to the insulating substrate through the glaze layer is reduced, thermal efficiency is improved, and printing energy density can be increased.

また、本発明の電極構成によれば、サーマルヘッドの各
発熱ドツトを絶縁性基板の端部に位置させるいわゆるリ
アルエツジ化を極限化できるため、プラテンとの接触性
をより高めることができ、高度の高速印字性を達成する
ことができる。
Furthermore, according to the electrode structure of the present invention, it is possible to minimize the so-called real edge design in which each heating dot of the thermal head is located at the edge of the insulating substrate, so that contact with the platen can be further improved, and a high degree of High-speed printing can be achieved.

〔実施例] 以下、本発明を図面に示す実施例により説明する。なお
、前述した従来のものと同一ないしは相当する構成につ
いては、図面中に同一の符号を付して説明する。
[Example] The present invention will be explained below using examples shown in the drawings. It should be noted that structures that are the same as or correspond to those of the conventional structure described above will be described with the same reference numerals in the drawings.

第1図は請求項第1項に対応する実施例を示すものであ
り、アルミナ等からなる絶縁性基板1上には、ガラス等
からなるグレーズ層2が焼付けにより上面が平面とする
ようにほぼ全面に積層されている。
FIG. 1 shows an embodiment corresponding to claim 1, in which a glaze layer 2 made of glass or the like is baked on an insulating substrate 1 made of alumina or the like so that the upper surface is almost flat. Laminated all over.

前記グレーズ層2の上には、はぼ0.3μmの膜厚で、
WやMoからなる電極4を構成する電極層が積層され、
この電極層をフォトリソグラフィ技術によりエツチング
を行なって、共通電極4aおよび複数の個別電極4bが
形成される。このうち共通電極4aは、前記絶縁性基板
1のほぼ全面に形成され、第2図に示すように、後述す
る各発熱抵抗体3の発熱ドツト3Aの両側に間隔を隔て
て配設され、それぞれ長方形状で大型の基部10゜11
と、これらの基部10.11間を連通する複数本の細長
い直線状の細片12とにより構成されている。そして、
両基部10.11と1対の細片12.12により囲繞さ
れた長方形の各空間13の幅方向の中央部内に前記各個
別電極4bが各細片12と同方向に延在するように直線
状に島状に形成されている。したがって、共通電極4a
は全体的に格子状パターンとされている。
On the glaze layer 2, there is a film with a thickness of about 0.3 μm,
Electrode layers constituting the electrode 4 made of W or Mo are laminated,
This electrode layer is etched by photolithography to form a common electrode 4a and a plurality of individual electrodes 4b. Among these, the common electrode 4a is formed on almost the entire surface of the insulating substrate 1, and as shown in FIG. Large rectangular base 10°11
and a plurality of elongated linear strips 12 communicating between these base portions 10.11. and,
A straight line is formed so that each individual electrode 4b extends in the same direction as each strip 12 within the widthwise center of each rectangular space 13 surrounded by both bases 10.11 and a pair of strips 12.12. It is formed like an island. Therefore, the common electrode 4a
The overall pattern is a grid pattern.

前記グレーズ層2および各電極4上には、Ta−8i0
2等からなる発熱抵抗体3を構成する発熱抵抗体層が積
層され、また、この発熱抵抗体層の上に約0.3μ扉の
膜厚の5in2等からなる絶縁体層14が積層される。
On the glaze layer 2 and each electrode 4, Ta-8i0
A heating resistor layer constituting the heating resistor 3 made of 2 etc. is laminated, and an insulator layer 14 made of 5 in 2 etc. with a film thickness of about 0.3 μm is laminated on this heating resistor layer. .

そして、このようにして形成された製造の中間段階のサ
ーマルヘッドを約700℃の空気雰囲気炉内で加熱し、
発熱抵抗体3の焼入れならびに絶縁体層14のピンホー
ル欠陥部における発熱抵抗体3の酸化による絶縁性の安
定化処理を行なう。
Then, the thermal head formed in this way at an intermediate stage of manufacturing is heated in an air atmosphere furnace at about 700°C,
Insulation stabilization treatment is performed by hardening the heating resistor 3 and oxidizing the heating resistor 3 at the pinhole defect portion of the insulating layer 14.

つぎに、熱処理の終った製造の中間段階のサーマルヘッ
ドを炉から取出し、フォトリソグラフィ技術のエツチン
グにより前記個別電極4bの直上の絶縁体層14をエツ
チングして、この絶縁体層14に複数のスリット14A
を形成し、各スリット14A内に発熱抵抗体3を露出さ
せる。また、このエツチング時に、共通型ff14aの
外部接続端子(図示せず〉上の絶縁体層14も同時に除
去する。その後、前記絶縁体層14上に約0.2μmの
膜厚の高融点金属W、MOlTi、Cr等からなる電極
層、ならびにA、Il 、Cu、Au等からなる電極層
を順次積層し、フォトリソグラフィ技術によりこれらの
電極層をエツチングして第3図に示すように、複数本の
個別リード線15が相互に間隔を隔てて形成される。各
個別リード線15は、絶縁体層14に形成した対応する
スリット14Aを介して発熱抵抗体3に直接接続され、
各発熱抵抗体3を介して間接的ながら各個別N極4bと
電気的に接続されている。また、各個別電極15は、対
応する発熱抵抗体3の発熱ドツト3Aのほぼ全面に配置
され、かつ、外部接続用の個別端子〈図示せず〉に連な
るように形成されている。なお、発熱ドツト3Aの近傍
は上部のAJ) 、Cu、Au等からなる電極層を除去
して下部の高融点金属からなる電極層のみとしている。
Next, the thermal head, which has been heat-treated and is in an intermediate stage of manufacture, is taken out of the furnace, and the insulator layer 14 directly above the individual electrodes 4b is etched using photolithography, and a plurality of slits are formed in the insulator layer 14. 14A
is formed, and the heating resistor 3 is exposed in each slit 14A. In addition, at the time of this etching, the insulator layer 14 on the external connection terminal (not shown) of the common type FF 14a is also removed at the same time. Thereafter, a high melting point metal W with a thickness of about 0.2 μm is formed on the insulator layer 14. , MOLTi, Cr, etc., and electrode layers made of A, Il, Cu, Au, etc. are sequentially laminated, and these electrode layers are etched using photolithography technology to form a plurality of electrode layers as shown in Fig. 3. individual lead wires 15 are formed at intervals from each other.Each individual lead wire 15 is directly connected to the heating resistor 3 through a corresponding slit 14A formed in the insulating layer 14.
It is electrically connected to each individual N pole 4b via each heating resistor 3, albeit indirectly. Further, each individual electrode 15 is arranged on almost the entire surface of the heating dot 3A of the corresponding heating resistor 3, and is formed so as to be connected to an individual terminal (not shown) for external connection. In addition, in the vicinity of the heating dot 3A, the upper electrode layer made of AJ), Cu, Au, etc. is removed, leaving only the lower electrode layer made of a high melting point metal.

前記絶縁体@14、個別電極15などの上には、513
N4等からなる約3〜5μ次の膜厚の保護層5が積層さ
れている。なお、保護層5の表面に生じる個別電極15
等による凹凸は、ラッピングペーパー等により研磨され
て滑らかに仕上げられる。
513 on the insulator @14, individual electrode 15, etc.
A protective layer 5 made of N4 or the like and having a thickness of about 3 to 5 μm is laminated. Note that the individual electrodes 15 formed on the surface of the protective layer 5
Irregularities caused by such things can be polished to a smooth finish using wrapping paper or the like.

このように本実施例のサーマルヘッドは、発熱抵抗体1
4のパターニングが不要となるように、格子型の共通電
極4aを配置し、この共通電極4aにより囲繞した空間
13に各個別電極4bを配置させるように電極パターン
を構成しており、この電極4および発熱抵抗体3上に発
熱電極体層および絶縁体層14を積層して、空気雰囲気
で高温焼入れを行なって発熱抵抗体3の安定化と絶縁体
層14のピンホール欠陥を補修することにより、絶縁体
層14の膜厚を非常に薄いものとしながら層間における
電気的絶縁性を安定して確保することができ、電気的な
らびに機械的安定性と高い加工性を得ることができる。
In this way, the thermal head of this embodiment has the heating resistor 1
4, the grid-shaped common electrode 4a is arranged, and the electrode pattern is configured such that each individual electrode 4b is arranged in a space 13 surrounded by this common electrode 4a. By laminating a heating electrode layer and an insulating layer 14 on the heating resistor 3 and performing high temperature quenching in an air atmosphere, the heating resistor 3 is stabilized and pinhole defects in the insulating layer 14 are repaired. Although the thickness of the insulating layer 14 is made very thin, electrical insulation between the layers can be stably ensured, and electrical and mechanical stability and high workability can be obtained.

また、各発熱ドツト3Aの上方の各絶縁体1i14にそ
れぞれスリット14Aを形成し、個別電極15を形成す
るとき、個別電極4bがあらかじめ形成されていること
により、エツチングにおけるマスク合わせ精度を比較的
緩くすることができ、製造を容易にすることができる。
In addition, when forming individual electrodes 15 by forming slits 14A in each insulator 1i14 above each heating dot 3A, since the individual electrodes 4b are formed in advance, the accuracy of mask alignment during etching can be made relatively loose. This can facilitate manufacturing.

なお、個別電極4bを前述したように共通電極4aの空
間13上に共通電極4aと同一高さに形成しなくとも、
前述したように個別電極15を、本実施例で説明したよ
うに、絶縁体層14の各スリット14A内に形成するだ
けで、共通電極4aと各個別電極15との間に通電を行
なうことができるので、サーマルヘッドを構成すること
ができる。この構成は、請求項第2項に相当するもので
ある。
Note that even if the individual electrodes 4b are not formed at the same height as the common electrode 4a above the space 13 of the common electrode 4a, as described above,
As described above, electricity can be passed between the common electrode 4a and each individual electrode 15 by simply forming the individual electrode 15 in each slit 14A of the insulating layer 14 as described in this embodiment. Therefore, a thermal head can be constructed. This configuration corresponds to claim 2.

また、前記各個別電極15は、発熱ドツト3Aの上方の
中央部に設けられたスリット14Aに合致するようにい
わゆる櫛型に形成して、各発熱ドツト3Aの上方の全面
に形成しなくてもよいが、各発熱ドツト3Aの上方のほ
ぼ全面に高融点金属からなる個別電極15を配設する方
が製造が容易であり、かつ、発熱抵抗体3において発生
した熱を吸収する効果が大であるし、速やかに発熱ドラ
1−3 Aの全体を加熱する効果を生じる。
Further, each of the individual electrodes 15 does not have to be formed in a so-called comb shape so as to match the slit 14A provided at the center above the heat generating dot 3A, so that it does not have to be formed on the entire surface above each heat generating dot 3A. However, it is easier to manufacture and more effective in absorbing the heat generated in the heat generating resistor 3 by disposing the individual electrode 15 made of a high melting point metal on almost the entire surface above each heat generating dot 3A. In addition, the effect of quickly heating the entire heating drum 1-3A is produced.

この結果、発熱ドツト3Aの温度弁tfiは、ピーク4
度の上昇、発熱面積の広がりにより印加電圧に対する印
字エネルギ密度が著しく高まり、より高速な印字を可能
とし、サーマルヘッドの寿命を伸ばすこともできる。
As a result, the temperature valve tfi of the heating dot 3A has a peak of 4
The increase in temperature and the expansion of the heat generating area significantly increase the printing energy density with respect to the applied voltage, enabling faster printing and extending the life of the thermal head.

さらにまた、本実施例のサーマルヘッドにおける電極の
構成によれば、各発熱抵抗体3の発熱ドツト3Aを絶縁
性基板1の端部に位置せしめて、プラテンによりバック
アップされたインクリボン、感熱記録紙等の感熱記録部
材との接触状態を良好にするいわゆるリアルエツジ型の
サーマルヘッドにおいて、発熱ドツト3Aを絶縁性基板
1の端にきわめて近接させることができる。
Furthermore, according to the configuration of the electrodes in the thermal head of this embodiment, the heating dots 3A of each heating resistor 3 are positioned at the end of the insulating substrate 1, and the ink ribbon and thermal recording paper backed up by the platen are In a so-called real-edge type thermal head that makes good contact with a heat-sensitive recording member such as the above, the heating dot 3A can be placed very close to the edge of the insulating substrate 1.

第4図A、Bはこのようなリアルエツジ型のサーマルヘ
ッドの実施例を示すものであり、これらの図においてサ
ーマルヘッドは、その製造の中間段階にある。
FIGS. 4A and 4B show an embodiment of such a real edge thermal head, and in these figures the thermal head is at an intermediate stage in its manufacture.

第4図A、Bにおいて、絶縁性基板1の一端部の近傍の
グレーズ層2の上面には、各発熱抵抗体3の発熱ドツト
3Aが絶縁性基板1の一端近傍の頂部に形成されるよう
に、直線状に延在する縦断面脚台形の隆起部2Aが形成
されている。
In FIGS. 4A and 4B, the heating dots 3A of each heating resistor 3 are formed on the top surface of the glaze layer 2 near one end of the insulating substrate 1. A raised portion 2A having a trapezoidal vertical cross-section and extending linearly is formed on.

そして、この実施例における共通電極4aは、ひとつの
基部10と、この基部10の一側に突設され先端が絶縁
性基板1の一端に近接する位置まで延在する複数本の細
片12とによりいわゆる櫛型に形成されている。また、
これらの基部1oと1対の細片12.12により3方を
囲繞された各空間13内の中央部に各個別電極4bが配
設されている。
The common electrode 4a in this embodiment includes one base 10 and a plurality of strips 12 that protrude from one side of the base 10 and whose tips extend to a position close to one end of the insulating substrate 1. It is formed into a so-called comb shape. Also,
Each individual electrode 4b is arranged at the center of each space 13 surrounded on three sides by the base 1o and the pair of strips 12, 12.

なお、これらの上に発熱抵抗体層、スリット14Aの形
成された絶縁体層14、個別リード線15および保護層
5を積層する構成は、前述した実施例と同様である。
The structure in which the heating resistor layer, the insulating layer 14 in which the slits 14A are formed, the individual lead wires 15, and the protective layer 5 are laminated thereon is the same as in the embodiment described above.

このようにして構成されるリアルエツジ型のサーマルヘ
ッドは、各発熱抵抗体3の発熱ドツト3Aが絶縁性基板
1の端部に位置しているので、さらに良好な印字を行な
うことができる。
The real edge type thermal head constructed in this manner can perform better printing because the heating dots 3A of each heating resistor 3 are located at the end of the insulating substrate 1.

第5図および第6図は請求項第3項に対応する実施例を
示すものであり、アルミナ等からなる絶縁性基板1上に
ガラス等からなる細片12が焼付けにより積層されてい
る。このグレーズ層2は、絶縁性基板1の一端部におい
て縦断面がほぼ台形状となる隆起部2Aがフォトリソグ
ラフィ技術のエツチングにより形成され、プラテンにバ
ックアップされた感熱記録部材との接触性が改良されて
いる。このグレーズ層2上には、約0.3μ扉の膜厚の
Ta−8in3等からなる発熱抵抗体層が積層されてい
る。この発熱抵抗体12には、熱安定性を高めるために
真空焼入れ炉において数100℃の熱処理を加えている
。この発熱抵抗体層上には、W、MO等からなる約0.
2μ仇の膜厚の電極層が積層され、フォトリソグラフィ
技術のエツチングにより共通電極4aおよび個別電極4
bが、前述した第4図の実施例とほぼ同様のパターンと
なるように形成されている。これにより共通電極4aの
各空間13内に各発熱抵抗体3の発熱ドツト3Aが位置
することになる。
5 and 6 show an embodiment corresponding to claim 3, in which a strip 12 made of glass or the like is laminated by baking on an insulating substrate 1 made of alumina or the like. In this glaze layer 2, a raised part 2A having a substantially trapezoidal longitudinal section is formed at one end of the insulating substrate 1 by etching using photolithography technology, and the contact with the heat-sensitive recording member backed up on the platen is improved. ing. On this glaze layer 2, a heating resistor layer made of Ta-8in3 or the like and having a film thickness of about 0.3 μm is laminated. This heating resistor 12 is subjected to heat treatment at several hundred degrees Celsius in a vacuum hardening furnace in order to improve its thermal stability. On this heat generating resistor layer, about 0.0 mm is made of W, MO, etc.
Electrode layers with a film thickness of 2 μm are laminated, and a common electrode 4a and individual electrodes 4 are formed by etching using photolithography technology.
b is formed in a pattern substantially similar to that of the embodiment shown in FIG. 4 described above. As a result, the heating dots 3A of each heating resistor 3 are located in each space 13 of the common electrode 4a.

前記各発熱抵抗体3および電極4上には、S i 02
等からなる絶縁体層14が約1μmの膜厚で積層され、
フォトリソグラフィ技術のエツチングにより前記各国別
電極4bの直上にそれぞれスリット14Aが形成される
。このとき、共通電極4aの外部接続端子〈図示せず〉
上の絶縁体層14も同時に除去する。なお、この絶縁体
1114による層間絶縁の信頼性は、まず、スパッタリ
ングによりS + 02を約0.5μ仇に形成した後、
PSGを塗布焼成して約0.5μ肌に形成するという複
層構造によりピンホール等の欠陥をより防止できる。ま
た、スパッタリングを2工程に分割することも有効であ
る。
On each heating resistor 3 and electrode 4, S i 02
An insulator layer 14 consisting of etc. is laminated with a thickness of about 1 μm,
A slit 14A is formed directly above each of the electrodes 4b for each country by photolithographic etching. At this time, the external connection terminal of the common electrode 4a (not shown)
The upper insulator layer 14 is also removed at the same time. Note that the reliability of the interlayer insulation by this insulator 1114 is determined by first forming S + 02 to a thickness of about 0.5μ by sputtering, and then
Defects such as pinholes can be further prevented by the multilayer structure in which PSG is coated and fired to form a skin of approximately 0.5 μm. It is also effective to divide sputtering into two steps.

前記絶縁体J114上には、約0.2μ扉の膜厚のWX
MOまたは他の高融点金属からなる電極および抵抗値を
下げるためのAjl 1CU@からなる電極を重積状に
積層し、フォトリソグラフィ技術のエツチングにより間
隔を隔てた複数の個別リード線15が形成される。この
個別電極15は、発熱ドツト3Aの上方においては、絶
縁体層14に形成したスリット14Aを介して各個別電
極4bと電気的に接続されるとともに、外部接続用の個
別端子に連なるように形成されている。なお、個別電極
15の発熱ドツト3Aの近傍には、下層の高融点金属か
らなる電極のみが配設されている。
On the insulator J114, WX with a film thickness of approximately 0.2 μm is applied.
Electrodes made of MO or other high melting point metals and electrodes made of Ajl 1CU@ for lowering the resistance value are laminated in a stacked manner, and a plurality of individual lead wires 15 spaced apart are formed by etching using photolithography technology. Ru. Above the heat generating dots 3A, the individual electrodes 15 are electrically connected to each individual electrode 4b via slits 14A formed in the insulating layer 14, and are formed so as to be connected to individual terminals for external connection. has been done. Note that in the vicinity of the heating dots 3A of the individual electrodes 15, only the electrodes made of the lower layer high-melting point metal are disposed.

絶縁体層14および各個別電極15上には、Si3N4
等からなる約3〜5μ肌の膜厚の保護層5が積層されて
いる。
On the insulator layer 14 and each individual electrode 15, Si3N4
A protective layer 5 having a thickness of about 3 to 5 microns is laminated thereon.

このような本実施例のサーマルヘッドによれば、前述し
た第1実施例と同様の作用効果を奏することができる。
According to the thermal head of this embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be achieved.

なお、本実施例においても、各個別電極4bを省略する
ことが可能である。
Note that also in this embodiment, it is possible to omit each individual electrode 4b.

また、本発明は、前述した各実施例に限定されるもので
はなく、必要に応じて種々の変更が可能である。
Further, the present invention is not limited to the embodiments described above, and various changes can be made as necessary.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明に係るサーマルヘッドは、熱
効率を向上するとともに、高速熱応答性を高めることが
できるという優れた効果を秦する。
As explained above, the thermal head according to the present invention has excellent effects of improving thermal efficiency and high-speed thermal response.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第3図は本発明に係るサーマルヘッドの第
1実施例を示すものであり、第1図は縦断面図、第2図
は電極パターンを示す平面図、第3図は一部省略した平
面図、第4図A、Bは本発明の第2実施例を示す電極パ
ターン側面図および平面図、第5図および第6図は本発
明の第3実施例を示すものであり、第5図は縦断面図、
第6図は電極パターンを示す平面図、第7図および第8
図はそれぞれ従来のサーマルヘッドを示す縦断面図であ
る。 1・・・絶縁性基板、2・・・グレーズ層、3・・・発
熱抵抗体、3A・・・発熱ドツト、4・・・電極、4a
・・・共通電極、4b・・・個別電極、5・・・保護層
、14・・・絶縁体層、14A・・・スリット、15・
・・個別リード線。
1 to 3 show a first embodiment of a thermal head according to the present invention, in which FIG. 1 is a longitudinal sectional view, FIG. 2 is a plan view showing an electrode pattern, and FIG. 3 is a partial view. The omitted plan view and FIGS. 4A and 4B are side views and plan views of electrode patterns showing the second embodiment of the present invention, and FIGS. 5 and 6 show the third embodiment of the present invention. Figure 5 is a longitudinal sectional view;
Figure 6 is a plan view showing the electrode pattern, Figures 7 and 8.
Each figure is a longitudinal sectional view showing a conventional thermal head. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Insulating substrate, 2... Glaze layer, 3... Heat generating resistor, 3A... Heat generating dot, 4... Electrode, 4a
...Common electrode, 4b...Individual electrode, 5...Protective layer, 14...Insulator layer, 14A...Slit, 15...
・Individual lead wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)絶縁性基板上にグレーズ層を形成し、このグレーズ
層上に、複数の発熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に選択
的に通電する複数の電極をそれぞれ整列状に積層して各
発熱抵抗体に発熱ドットを形成し、これらの上方を保護
層により被覆してなるサーマルヘッドにおいて、前記グ
レーズ層上に、基部の一側に多数の細片を平行に突設し
てなる共通電極、ならびに、隣位の1対の前記細片間に
それぞれ間隔を隔てて配設された多数の個別電極を形成
し、これらのグレーズ層、共通電極および各個別電極上
に、共通電極の隣位の1対の細片間にそれぞれ発熱ドッ
トが形成されるように発熱抵抗体層を形成し、この発熱
抵抗体層上に、前記各個別電極上にそれぞれスリットの
形成された絶縁体層を形成し、この絶縁体層上および前
記各スリット内に各個別電極に対応する複数の個別リー
ド線を形成したことを特徴とするサーマルヘッド。 2)絶縁性基板上にグレーズ層を形成し、このグレーズ
層上に、複数の発熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に選択
的に通電する複数の電極をそれぞれ整列状に積層して各
発熱抵抗体に発熱ドットを形成し、これらの上方を保護
層により被覆してなるサーマルヘッドにおいて、前記グ
レーズ層上に、基部の一側に多数の細片を平行に突設し
てなる共通電極を形成し、これらのグレーズ層および共
通電極上に、共通電極の隣位の1対の細片間にそれぞれ
発熱ドットが形成されるように発熱抵抗体層を形成し、
この発熱抵抗体層上に、前記各発熱ドット上にそれぞれ
スリットの形成された絶縁体層を形成し、この絶縁体層
上および前記各スリット内に各発熱ドットに対応する複
数の個別リード線を形成したことを特徴とするサーマル
ヘッド。 3)絶縁性基板上にグレーズ層を形成し、このグレーズ
層上に、複数の発熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に選択
的に通電する複数の電極をそれぞれ整列状に積層して各
発熱抵抗体に発熱ドットを形成し、これらの上方を保護
層により被覆してなるサーマルヘッドにおいて、前記グ
レーズ層上に発熱抵抗体層を形成し、この発熱抵抗体層
上に、基部の一側に多数の細片を隣位の1対の細片間に
それぞれ発熱ドットが形成されるように平行に突設して
なる共通電極、ならびに、隣位の1対の前記細片間にそ
れぞれ間隔を隔てて配設された多数の個別電極を形成し
、これらの発熱抵抗体層、共通電極および各個別電極上
に、前記各電極上にそれぞれスリットの形成された絶縁
体層を形成し、この絶縁体層上および前記各スリット内
に各個別電極に接続される複数の個別リード線を形成し
たことを特徴とするサーマルヘッド。 4)絶縁性基板上にグレーズ層を形成し、このグレーズ
層上に、複数の発熱抵抗体ならびに各発熱抵抗体に選択
的に通電する複数の電極をそれぞれ整列状に積層して各
発熱抵抗体に発熱ドットを形成し、これらの上方を保護
層により被覆してなるサーマルヘッドにおいて、前記グ
レーズ層上に、発熱抵抗体層を形成し、この発熱抵抗体
層上に、基部の一側に多数の細片を隣位1対の細片間に
それぞれ発熱ドットが形成されるように平行に突設して
なる共通電極を形成し、これらの発熱抵抗体層および共
通電極上に、前記各発熱ドット上にそれぞれスリットの
形成された絶縁体層を形成し、この絶縁体層上および前
記各発熱ドット内に接続される複数の個別リード線を形
成したことを特徴とするサーマルヘッド。
[Claims] 1) A glaze layer is formed on an insulating substrate, and a plurality of heating resistors and a plurality of electrodes for selectively energizing each heating resistor are laminated on the glaze layer in an aligned manner. In the thermal head, in which heating dots are formed on each heating resistor, and the upper part of these heating dots is covered with a protective layer, a large number of strips are provided in parallel on one side of the base on the glaze layer. a common electrode, and a large number of individual electrodes arranged at intervals between adjacent pairs of the strips, and a common electrode is formed on the glaze layer, the common electrode, and each individual electrode. A heating resistor layer is formed so that heating dots are formed between each pair of adjacent strips, and on this heating resistor layer, an insulator having slits formed on each of the individual electrodes. 1. A thermal head characterized in that a plurality of individual lead wires corresponding to each individual electrode are formed on the insulating layer and in each of the slits. 2) A glaze layer is formed on an insulating substrate, and on this glaze layer, a plurality of heating resistors and a plurality of electrodes that selectively conduct electricity to each heating resistor are laminated in an aligned manner to form each heating resistor. In the thermal head, in which heat-generating dots are formed on the glaze layer, and the upper part of these is covered with a protective layer, a common electrode is formed on the glaze layer, and the common electrode is formed by protruding a large number of strips in parallel on one side of the base. , forming a heating resistor layer on the glaze layer and the common electrode so that heating dots are formed between each pair of strips adjacent to the common electrode;
An insulating layer in which slits are formed on each of the heating dots is formed on the heating resistor layer, and a plurality of individual lead wires corresponding to each heating dot are provided on the insulating layer and in each of the slits. A thermal head characterized by a formed 3) A glaze layer is formed on an insulating substrate, and on this glaze layer, a plurality of heating resistors and a plurality of electrodes that selectively conduct electricity to each heating resistor are laminated in an aligned manner to form each heating resistor. In the thermal head, a heat generating resistor layer is formed on the glaze layer, and a large number of heat generating dots are formed on one side of the base on the heat generating resistor layer. A common electrode formed by protruding strips in parallel so that heating dots are formed between each pair of adjacent strips, and a common electrode with a space between each pair of adjacent strips. A large number of individual electrodes are formed, and an insulating layer having a slit formed on each electrode is formed on the heating resistor layer, a common electrode, and each individual electrode, and this insulating layer A thermal head characterized in that a plurality of individual lead wires connected to each individual electrode are formed on the top and in each of the slits. 4) A glaze layer is formed on an insulating substrate, and on this glaze layer, a plurality of heating resistors and a plurality of electrodes that selectively conduct electricity to each heating resistor are laminated in an aligned manner to form each heating resistor. In the thermal head, a heat generating resistor layer is formed on the glaze layer, and a large number of heat generating dots are formed on one side of the base on the heat generating resistor layer. A common electrode is formed by protruding parallel strips such that heat-generating dots are formed between each adjacent pair of strips, and each of the heat-generating dots is placed on these heat-generating resistor layers and the common electrode. 1. A thermal head characterized in that an insulating layer in which slits are formed is formed on each dot, and a plurality of individual lead wires are formed on the insulating layer and in each of the heating dots.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0674995A2 (en) * 1994-03-29 1995-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Substrate for ink jet head, ink jet head, ink jet pen, and ink jet apparatus
CN100406265C (en) * 2005-02-07 2008-07-30 阿尔卑斯电气株式会社 Thermal head including bonding pads having irregular surfaces formed by forming irregularities on underlayer
JP2012206257A (en) * 2011-03-29 2012-10-25 Toshiba Hokuto Electronics Corp Thermal head and method for manufacturing the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0674995A2 (en) * 1994-03-29 1995-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Substrate for ink jet head, ink jet head, ink jet pen, and ink jet apparatus
EP0674995A3 (en) * 1994-03-29 1997-01-15 Canon Kk Substrate for ink jet head, ink jet head, ink jet pen, and ink jet apparatus.
CN100406265C (en) * 2005-02-07 2008-07-30 阿尔卑斯电气株式会社 Thermal head including bonding pads having irregular surfaces formed by forming irregularities on underlayer
JP2012206257A (en) * 2011-03-29 2012-10-25 Toshiba Hokuto Electronics Corp Thermal head and method for manufacturing the same

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