JPH03232195A - Nonvolatile semiconductor storage device capable of electronic erasure and write - Google Patents

Nonvolatile semiconductor storage device capable of electronic erasure and write

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Publication number
JPH03232195A
JPH03232195A JP2027610A JP2761090A JPH03232195A JP H03232195 A JPH03232195 A JP H03232195A JP 2027610 A JP2027610 A JP 2027610A JP 2761090 A JP2761090 A JP 2761090A JP H03232195 A JPH03232195 A JP H03232195A
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JP
Japan
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read
digit line
circuit
write
memory cell
Prior art date
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Application number
JP2027610A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takano
高野 拓
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPH03232195A publication Critical patent/JPH03232195A/en
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Abstract

PURPOSE:To attain readout for a prescribed time at any time and to quicken the collation of data by disconnecting a cell for readout during the rewrite cycle from a write digit line and connecting the cell to a readout digit line. CONSTITUTION:The device is provided with a latch circuit 10 latching an output X0 of an X decoder, a level shift circuit 11 shifting a level of an output of the latch circuit 10, an N-channel MOS transistor (TR) (N-channel TR) 12 whose on/off is controlled by an output of the level shift circuit 11, an AND circuit 13 ANDing a readout signal RD and an output X0 of the X decoder, an inverter circuit 14 inverting the output of the latch circuit 10, and an AND circuit 15 ANDing an output of the inverter circuit and an output of the inverter circuit 14. Since the readout is attained at any time, the data verify time is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気的消去・書込み可能な不揮発性半導体記憶
装置に関し、特に書換え動作中のセルの読出し動作を可
能とする電気的消去・書込み可能な不揮発性半導体記憶
装置1−聞オる。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an electrically erasable/writable nonvolatile semiconductor memory device, and particularly to an electrically erasable/writable nonvolatile semiconductor memory device that enables cell read operations during rewriting operations. Non-volatile semiconductor memory device 1 - Listen.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の電気的消去・書込み可能な不揮発性半導体記憶装
置(以下、EEPROMと略す)においては、一つのメ
モリセルに接続されるディジット線は一本だけである。
In a conventional electrically erasable/programmable nonvolatile semiconductor memory device (hereinafter abbreviated as EEPROM), only one digit line is connected to one memory cell.

この−本のディジット線には通常複数個のメモリセルが
接続されている。
A plurality of memory cells are usually connected to these - digit lines.

かかるメモリセルの書換えを行なう場合、まず書換えモ
ートを指示する制御信号を入力すると、内蔵のタイマー
が起動され、タイマーが発生する制御信号に従ってアド
レス・データの取込みと、消去および書込みとが行なわ
れる。
When rewriting such a memory cell, first a control signal instructing a rewrite mode is input, a built-in timer is started, and address data is taken in, erased, and written in accordance with the control signal generated by the timer.

次に、アドレス・データの取込みサイクルにおいて、書
換えを行なうアドレスおよびデータがそれぞれアドレス
ラッチ回路とデータランチ回路に保持され、以後書換え
が終了するまでアドレスバッファとデータハッファは入
力を受けつけない。また、消去サイクルで“は、メモリ
セルのソースおよびドレインが接地され、しかもゲート
にチャージポンプで発生する消去/書換え用の高電圧を
印加して消去する。更に、書込みサイクルでは、メモリ
セルが接続されているディジット線に高電圧が印加され
、ソースにこの高電圧が加わる。上述した消去/書込み
サイクルにおいて、すべての入力信号は受けつけられず
、一方、記憶装置の出力端子はハイインピーダンス状態
になる。
Next, in the address/data fetch cycle, the address and data to be rewritten are held in the address latch circuit and data launch circuit, respectively, and the address buffer and data huffer do not accept inputs thereafter until the rewriting is completed. In addition, in the erase cycle, the source and drain of the memory cell are grounded, and a high voltage for erasing/rewriting generated by a charge pump is applied to the gate.Furthermore, in the write cycle, the memory cell is connected to the A high voltage is applied to the digit line that is connected, and this high voltage is applied to the source. During the erase/write cycle described above, all input signals are not accepted, while the output terminals of the storage device are placed in a high impedance state. .

尚、以下の本文においては、説明を簡略化するために、
消去サイクルおよび書込みサイクルを合わせた期間を書
換えサイクルとする。
In the following text, to simplify the explanation,
The period including the erase cycle and the write cycle is defined as a rewrite cycle.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上述した従来のEEPROMは、一つのメモリセルに接
続されるディジット線が一本であり、ディジット線に印
加される電圧は書換え時と読出し時とで異なるため、書
換えサイクル中には、書換を行なっているセルと同じテ
ィジット線に接続されたメモリセルの読出しを行なうこ
とができない。
In the conventional EEPROM described above, one digit line is connected to one memory cell, and the voltage applied to the digit line differs between rewriting and reading, so rewriting is not performed during the rewriting cycle. It is not possible to read a memory cell connected to the same digit line as the cell being connected.

従って、従来の記憶装置は書換え動作が全て終了するま
でデータの読出しを行なうことができず、データの照合
に時間がかかるだけでなく、定時間読出しを行なうこと
ができないという欠点がある。
Therefore, in the conventional storage device, data cannot be read until all rewriting operations are completed, and there is a drawback that not only does it take time to collate data, but also reading cannot be performed for a fixed period of time.

本発明の目的は、かかるデータの照合を高速化するだけ
でなく、いつでも一定時間の読出しを行なうことのでき
るEEFROMを提供することにある。
An object of the present invention is to provide an EEFROM that not only speeds up such data collation but also allows reading for a fixed period of time at any time.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明のEEP’ROMは、センスアンプを介して読出
し側に接続される読出し用ディジット線と、データ入力
側に接続される書込み用ディジット線と、前記読出し用
および書込み用ディジット線にそれぞれ接続される読出
し用選択トランジスタおよび書込み用選択トランジスタ
と前記両選択トランジスタに接続される一つのメモリセ
ルとを複数組アレイ状に配置してなるメモリセルアレイ
と、前記メモリセルアレイの前記両選択トランジスタお
よび前記メモリセルの各デートに接続され、しかも書換
えサイクル中にデータ書換えを行うメモリセルに対して
は読出し用ディジット線を切り離すとともに書込み用デ
ィジット線に接続して書換えに必要な電圧を与える一方
、書換えサイクル中に読出しを行なうメモリセルに対し
ては書込み用ディジット線を切り離して読出し用ディジ
ット線を接続し読出しに必要な電圧を与える電圧切換え
制御回路とを含んで構成される。
The EEP'ROM of the present invention has a read digit line connected to the read side through a sense amplifier, a write digit line connected to the data input side, and connected to the read and write digit lines, respectively. a memory cell array formed by arranging a plurality of sets of read selection transistors, write selection transistors, and one memory cell connected to both the selection transistors in an array; and the both selection transistors and the memory cells of the memory cell array. For memory cells that are connected to each date and whose data is to be rewritten during the rewrite cycle, the read digit line is disconnected and connected to the write digit line to apply the necessary voltage for rewriting. The memory cell to be read includes a voltage switching control circuit that disconnects the write digit line, connects the read digit line, and applies a voltage necessary for reading.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の第一の実施例を示す不揮発性半導体記
憶装置の回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a nonvolatile semiconductor memory device showing a first embodiment of the present invention.

第1図に示すように、本実施例は読出し用データの出力
バッファ1と、書込みデータの入力バッファ2と、この
人力バッファ2の出力を保持するデータラッチ3と、読
出しデータを増幅して出力バッファ1に供給スるセンス
アンプ4と、メモリのアドレスを入力するアドレスバッ
ファ5と、このアドレスバッファ5の出力をデコードす
る列(Y)デコーダ6および行(X)テコ−グアと、こ
のXデコーダ7の出力X。、X+等に基づき読出し時。
As shown in FIG. 1, this embodiment includes an output buffer 1 for read data, an input buffer 2 for write data, a data latch 3 that holds the output of this manual buffer 2, and amplifies and outputs the read data. A sense amplifier 4 that supplies a buffer 1, an address buffer 5 that inputs a memory address, a column (Y) decoder 6 and a row (X) lever that decode the output of this address buffer 5, and this X decoder. 7 output X. , X+, etc. when reading.

書込時のゲート電圧を決定する電圧切換え制御回路8と
、読出し用および書込み用選択トランジスタMOR1,
MIRI M、W、 M、WとメモリセルC0,C1か
らなるメモリセルアレイ9と、読出し用ディジット線W
LRおよび書込用みディジット線WLWとを有している
A voltage switching control circuit 8 that determines the gate voltage during writing, and a selection transistor MOR1 for reading and writing.
A memory cell array 9 consisting of MIRI M, W, M, W and memory cells C0, C1, and a read digit line W.
LR and a write digit line WLW.

特に、本実施例では、センスアンプ4を介して読出し側
に接続される読出し用ディジット線WLRと、データ入
力側に接続される書込み用ディジット線WLWと、これ
ら読出し用および書込み用ディジット線WLR,WLW
にそれぞれ接続される読出し用選択トランジスタM。R
I MIRおよび書込み用選択トランジスタM O、V
 、 M l 1%とこれら両選択トランジスタに直列
に接続されるメモリセルCo、C,とをアレイ状に配置
してなるメモリセルアレイ9と、このメモリセルアレイ
9の両選択トランジスタM ORI M I R: M
 as52M11、およびメモリセルCo、C+の各テ
ートに信号(線)RXo、WXo。
In particular, in this embodiment, a read digit line WLR is connected to the read side via the sense amplifier 4, a write digit line WLW is connected to the data input side, and these read and write digit lines WLR, WLW
read selection transistors M respectively connected to the readout selection transistors M; R
I MIR and write selection transistor M O, V
, M l 1% and memory cells Co, C, which are connected in series to both selection transistors, are arranged in an array, and both selection transistors of this memory cell array 9 M ORI M I R: M
as52M11, and signals (lines) RXo and WXo to each state of memory cells Co and C+.

GXo ;RX+、WX+、GXoを介して接続され、
しかも書換えサイクル中にデータ書換えを行うメモリセ
ルC8に対しては読出し用ディジット線WLRを切り離
すとともに書込み用ティジット線WLWに接続して書換
えに必要な電圧を与える方、書換えサイクル中に読出し
を行なうメモリセルC1に対しては書込み用ディジット
線WLWを切り離して読出し用ディジット線WLRを接
続し読出しに必要な電圧を与える電圧切換え制御回路8
とを有している。
GXo; connected via RX+, WX+, GXo,
Furthermore, for the memory cell C8 whose data is to be rewritten during the rewrite cycle, the read digit line WLR is disconnected and the write digit line WLW is connected to apply the necessary voltage for rewriting, while the memory cell C8 whose data is to be rewritten during the rewrite cycle For the cell C1, a voltage switching control circuit 8 disconnects the write digit line WLW and connects the read digit line WLR to provide the voltage necessary for reading.
It has

第2図は第1図に示す電圧切換え制御回路の具体的回路
図である。
FIG. 2 is a specific circuit diagram of the voltage switching control circuit shown in FIG. 1.

第2図に示すように、かかる電圧切換え制御回路8は、
Xデコーダの出力X0を保持するラッチ回路10と、こ
のラッチ回路10の出力をレベルシフトスるレベルシフ
ト回路11と、このレベルシフト回路11の出力により
オン・オフを制御されるNチャネルMO3)ランジスタ
(Nch)ランジスタ)12と、読出信号RDおよびX
デロータ出力X0の論理積をとるAND回路13と、ラ
ッチ回路10の出力を反転させるインバータ回路14と
、このインバータ回路14の出力およびAND回路13
の出力の論理積をとるAND回路15とを有している。
As shown in FIG. 2, this voltage switching control circuit 8 is
A latch circuit 10 that holds the output X0 of the (Nch transistor) 12, read signals RD and
An AND circuit 13 that takes the AND of the derota output X0, an inverter circuit 14 that inverts the output of the latch circuit 10, an output of the inverter circuit 14, and an AND circuit 13.
and an AND circuit 15 that performs the logical product of the outputs of.

このAND回路15の出力RXOは読出用のゲート信号
として用いられ、ま・たレベルシフト回路11の出力W
Xoは書込用のゲート信号となる。更に、Nchトラン
ジスタ12の出力GX、はメモリセルに対するワード線
信号となる。
The output RXO of the AND circuit 15 is used as a gate signal for reading, and the output W of the level shift circuit 11
Xo becomes a gate signal for writing. Furthermore, the output GX of the Nch transistor 12 becomes a word line signal for the memory cell.

第3図は第1図および第2図に示す電圧切換え制御回路
における各種信号の波形図である。
FIG. 3 is a waveform diagram of various signals in the voltage switching control circuit shown in FIGS. 1 and 2.

第3図に示すように、本実施例における書換え動作、す
なわち書換えサイクルは図示していないアドレス・デー
タの取込みサイクルのほか、消去サイクルと書込みサイ
クルからなり、ここではメモリセルC0を書換え中にメ
モリセルC1を読出す場合を想定している。
As shown in FIG. 3, the rewrite operation in this embodiment, that is, the rewrite cycle, includes an address/data capture cycle (not shown), an erase cycle, and a write cycle. It is assumed that cell C1 is to be read.

次に、第1図乃至第3図を参照して上述した不揮発性半
導体記憶装置の動作を説明する。
Next, the operation of the above-mentioned nonvolatile semiconductor memory device will be explained with reference to FIGS. 1 to 3.

まず、メモリセルC0,C,は選択トランジスタM01
1. MORI M1112M11介してそれぞれ読出
し用ティジット線WLRと書込み用ディジット線WLW
とに接続されている。いま、メモリセルC8に書換えを
行ない、その書換えサイクル中にメモリセルC1を読み
出すために、第3図に示す各種信号を印加する。
First, memory cells C0, C, select transistor M01
1. The read digit line WLR and the write digit line WLW are connected via MORI M1112M11, respectively.
and is connected to. Now, in order to rewrite the memory cell C8 and read the memory cell C1 during the rewrite cycle, various signals shown in FIG. 3 are applied.

消去サイクルにおいては、メモリセルC8のゲートGX
oに高電圧v、Pが印加される。ここで、メモリセルC
1を選択した場合、メモリセルC2のゲー)GX、には
読出し信号RDの読出し電圧Ovが印加されるので、メ
モリセルの状態により変化する読出し用ディジット線W
LRの電流もしくは電圧の変化がセンスアンプ4て増幅
され、読出しが可能になる。
In the erase cycle, the gate GX of memory cell C8
High voltages v and P are applied to o. Here, memory cell C
If 1 is selected, the read voltage Ov of the read signal RD is applied to the gate (GX) of the memory cell C2, so the read digit line W changes depending on the state of the memory cell.
Changes in the current or voltage of LR are amplified by the sense amplifier 4, making reading possible.

次に、書込みサイクルにおいては、メモリセルCoのゲ
ートに印加されるワード線信号G X oは接地電位と
なり、ドレインには書込み用ディジット線WLWを通じ
てVl、が印加される。このとき、メモリセルC1のゲ
ー)(GXl)にはOvが印加されており、また読出し
用ティジット線WLRは、RX、が“°0”′であるた
め、メモリセルC8と電気的に分離されている。
Next, in a write cycle, the word line signal G X o applied to the gate of the memory cell Co becomes a ground potential, and Vl is applied to the drain through the write digit line WLW. At this time, Ov is applied to the gate (GXl) of the memory cell C1, and the readout line WLR is electrically isolated from the memory cell C8 because RX is "°0"'. ing.

従って、メモリセルC0に書込みを行なうと同時に、メ
モリセルC1の読出しを行なうことができる。
Therefore, it is possible to write to the memory cell C0 and read from the memory cell C1 at the same time.

第4図は本発明の第二の実施例を説明するための電圧切
換え制御回路の具体的回路図である。
FIG. 4 is a specific circuit diagram of a voltage switching control circuit for explaining a second embodiment of the present invention.

第4図に示すように、本実施例における電圧切換え制御
回路8は、前述した第一の実施例と同様に書込み時間の
マージンをとる必要をなくし、しかもデータ照合を確実
にチエツクするための例であり、その構成はXデコーダ
7の出力X。を保持するラッチ回路10と、読出信号R
Dを反転させるインバータ回路17と、ラッチ回路10
およびインバータ7の出力の論理積をとるAND回路1
6と、このAND回路16の出力に基づきレベルシフト
スるレベルシフト回路11と、そのレベルシフト回路1
1の出力を反転するインバータ回路18と、インバータ
回路17の出力をレベルシフトすルレベルシフト回路1
9と、このレベルシフ)回路19の出力およびセルゲー
ト印加電圧V。0の論理積をとるAND回路15とを有
している。
As shown in FIG. 4, the voltage switching control circuit 8 in this embodiment eliminates the need to provide a write time margin, as in the first embodiment described above, and is an example for reliably checking data verification. The configuration is the output X of the X decoder 7. A latch circuit 10 holding the read signal R
An inverter circuit 17 that inverts D and a latch circuit 10
AND circuit 1 which takes the AND of the output of inverter 7
6, a level shift circuit 11 that performs level shifting based on the output of the AND circuit 16, and the level shift circuit 1.
an inverter circuit 18 that inverts the output of the inverter circuit 1; and a level shift circuit 1 that level-shifts the output of the inverter circuit 17.
9, and the output of this level shift) circuit 19 and the cell gate applied voltage V. It has an AND circuit 15 that performs a logical product of 0.

第5図は第4図における各種信号の波形図である。FIG. 5 is a waveform diagram of various signals in FIG. 4.

第5図に示すように、本実施例において、消去サイクル
および書込みサイクルからなる書換えサイクル中に読出
すことのできるセルは、現に書換えを行なっているセル
のみである。
As shown in FIG. 5, in this embodiment, the cells that can be read during a rewrite cycle consisting of an erase cycle and a write cycle are only the cells that are currently being rewritten.

すなわち、前述した第一の実施例(第1図)において、
書換え時はM。1、がオンしてM。Rがオフしているが
、読出し時はM。1がオフし、MARがオンするため、
読出しが可能となる。一方、書込み用高電圧VPPはM
。1、により一時的にカットオフされるため、高電圧は
放電されることなく保持され、書換え再開時に改ためて
充電する時間がかからなくて済む。
That is, in the first embodiment described above (FIG. 1),
M when rewriting. 1 is turned on and M. R is off, but M is on when reading. 1 turns off and MAR turns on, so
Reading becomes possible. On the other hand, the high voltage VPP for writing is M
. 1 is temporarily cut off, the high voltage is maintained without being discharged, and there is no need for recharging when rewriting is resumed.

従って、書換え動作中に現書換えセルの状態を読出すこ
とができ、しかも読出しによる書換え時間の損失を少な
く抑えることができるという利点がある。
Therefore, there is an advantage that the state of the currently rewritten cell can be read out during the rewriting operation, and loss of rewriting time due to reading can be suppressed to a small level.

上述した二つの実施例からも判るよい七本実施例では一
つのメモリセルに対し読出し用および書込み用二本のデ
ィジット線と、読出用および書込用選択トランジスタと
、これらメモリセルおよび選択トランジスタ駆動用電圧
を切換える電圧切換制御回路とを有し、書換えを行なう
メモリセルに対しては書込み用ディジット線を接続して
書換えに必要な電圧を与える一方、書換えサイクル中に
読出しを行なうメモリセルに対しては読出し用ディジッ
ト線に接続して読出しに必要な電圧を与えることにより
、書込んでいるメモリセル以外のメモリセルからの読出
しであれ、あるいは書込んでいるメモリセルそのものか
らの同時読出しであれ、書換えサイクル中の同時読出し
を実現することができる。
As can be seen from the above two embodiments, this embodiment has two digit lines for reading and writing for one memory cell, a selection transistor for reading and writing, and a drive for these memory cells and selection transistors. It has a voltage switching control circuit that switches the voltage for memory cells to be rewritten, and connects the write digit line to apply the voltage necessary for rewriting to the memory cells to be rewritten. By connecting it to the read digit line and applying the necessary voltage for reading, it is possible to read from a memory cell other than the memory cell being written to, or to simultaneously read from the memory cell itself being written to. , simultaneous reading during a rewriting cycle can be realized.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明の電気的消去・書込み可能
な不揮発性半導体記憶装置は、書換えを行なうセルは書
込み用ディジット線に接続され、書換えサイクル中に読
出しを行なうセルは書込み用ティジット線と切り離され
且つ読出し用ディジット線に接続されているので、書換
えサイクル中においてもセルを読出すことができる。従
って、読出し動作がいつでも可能となるので、データベ
リファイの時間を短縮できるという効果がある。
As explained above, in the electrically erasable/writable nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, cells to be rewritten are connected to a write digit line, and cells to be read during a rewrite cycle are connected to a write digit line. Since it is disconnected and connected to the read digit line, the cell can be read even during a rewrite cycle. Therefore, read operations can be performed at any time, which has the effect of shortening data verification time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第一の実施例を示す不揮発性半導体記
憶装置の回路図、第2図は第1図に示す電圧切換え制御
回路の具体的回路図、第3図は第1図および第2図に示
す電圧切換え制御回路における各種信号の波形図、第4
図は本発明の第二の実施例を説明するための電圧切換え
制御回路の具体的回路図、第5図は第4図における各種
信号の波形図である。 1・・・・・・出力バッファ、2・・・・・・入カハッ
ファ、3・・・・・・データラッチ、4・・・・・・セ
ンスアンプ、5・・・・・・アドレスバッファ、6・・
・・・・列デコーダ、7・・・・・・行デコーダ、8・
・・・・・電圧切換え制御回路、9・・・・・・メモリ
セルアレイ、WLW・・・・・・書込用ディジット線、
WLR・・・・・・読出用ディジット線、Co、C+・
・・・・・メモリセル、Mow、 Ml、%・・・・・
・書込用選択トランジスタ、M ORI M IR・・
・・・・読出用選択トランジスタ、X o 、 X 1
”’ ”’行(X)デコーダ、WXO,WX+−=−書
込用ゲート信号、GXo、GX、・・・・・・書込信号
(ワード線信号)、RD・・・・・・読出信号、Vpp
・・・・・・書込・消去高電圧、VCG・・・・・・セ
ルゲート印加電圧、10・・・・・・ラッチ回路、11
.19・・・・・・レベルシフト回路、12・・・・・
・NチャネルMO8)ランジスタ、13.15.16・
・・・・・AND回路、14,17゜18・・・・・・
インバータ回路。 第 1 第2図 第3 図
FIG. 1 is a circuit diagram of a nonvolatile semiconductor memory device showing a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a specific circuit diagram of the voltage switching control circuit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a circuit diagram of the voltage switching control circuit shown in FIG. Waveform diagram of various signals in the voltage switching control circuit shown in Fig. 4.
The figure is a specific circuit diagram of a voltage switching control circuit for explaining the second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a waveform diagram of various signals in FIG. 4. 1: Output buffer, 2: Input buffer, 3: Data latch, 4: Sense amplifier, 5: Address buffer, 6...
... Column decoder, 7... Row decoder, 8.
... Voltage switching control circuit, 9 ... Memory cell array, WLW ... Write digit line,
WLR・・・Reading digit line, Co, C+・
...Memory cell, Mow, Ml, %...
・Write selection transistor, MORIMIR...
...Reading selection transistor, X o , X 1
``'''' Row (X) decoder, WXO, WX+-=- write gate signal, GXo, GX,... write signal (word line signal), RD... read signal ,Vpp
...Write/erase high voltage, VCG...Cell gate applied voltage, 10...Latch circuit, 11
.. 19...Level shift circuit, 12...
・N-channel MO8) transistor, 13.15.16・
...AND circuit, 14,17°18...
inverter circuit. 1 Figure 2 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] センスアンプを介して読出し側に接続される読出し用デ
ィジット線と、データ入力側に接続される書込み用ディ
ジット線と、前記読出し用および書込み用ディジット線
にそれぞれ接続される読出し用選択トランジスタおよび
書込み用選択トランジスタと前記両選択トランジスタに
接続される一つのメモリセルとを複数組アレイ状に配置
してなるメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの
前記両選択トランジスタおよび前記メモリセルの各ゲー
トに接続され、しかも書換えサイクル中にデータ書換え
を行うメモリセルに対しては読出し用ディジット線を切
り離すとともに書込み用ディジット線に接続して書換え
に必要な電圧を与える一方、書換えサイクル中に読出し
を行なうメモリセルに対しては書込み用ディジット線を
切り離して読出し用ディジット線を接続し読出しに必要
な電圧を与える電圧切換え制御回路とを含むことを特徴
とする電気的消去・書込み可能な不揮発性半導体記憶装
置。
A read digit line connected to the read side via a sense amplifier, a write digit line connected to the data input side, a read selection transistor and a write digit line connected to the read and write digit lines, respectively. a memory cell array comprising a plurality of sets of selection transistors and one memory cell connected to both selection transistors arranged in an array; connected to both selection transistors of the memory cell array and each gate of the memory cell; For memory cells whose data is to be rewritten during a rewrite cycle, the read digit line is disconnected and connected to the write digit line to apply the necessary voltage for rewriting. An electrically erasable/writable nonvolatile semiconductor memory device comprising a voltage switching control circuit that disconnects a write digit line, connects a read digit line, and supplies a voltage necessary for reading.
JP2027610A 1990-02-06 1990-02-06 Nonvolatile semiconductor storage device capable of electronic erasure and write Pending JPH03232195A (en)

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JP2027610A Pending JPH03232195A (en) 1990-02-06 1990-02-06 Nonvolatile semiconductor storage device capable of electronic erasure and write

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JP (1) JPH03232195A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08221993A (en) * 1994-03-25 1996-08-30 Seiko Instr Inc Semiconductor integrated circuit device, its manufacture and its driving method

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