JPH0322065U - - Google Patents

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JPH0322065U
JPH0322065U JP8230189U JP8230189U JPH0322065U JP H0322065 U JPH0322065 U JP H0322065U JP 8230189 U JP8230189 U JP 8230189U JP 8230189 U JP8230189 U JP 8230189U JP H0322065 U JPH0322065 U JP H0322065U
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JP
Japan
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sample
plasma
plasma flow
shutter
flow
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Pending
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JP8230189U
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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の処理装置の概略構成図である
。第２図は従来装置の概略構成図である。第３図
は従来のＥＣＲ装置のシヤツタの開閉動作による
動作説明図である。第４図は本考案のシヤツタの
実施例の構成図である。第５図及び第６図は本考
案装置の異なる処理動作の説明図である。第７図
と第８図は本考案装置の異なる実施例の側面図と
平面図である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. プラズマ発生源と、該プラズマ発生源からのプ
    ラズマ流を受ける試料を設置する試料台と、前記
    プラズマ発生源と前記試料台の間に設備され前記
    プラズマ流の前記試料への付与を許容若しくは禁
    止するシヤツタとを備えてなる電子サイクロトロ
    ン共鳴プラズマ処理装置において、前記シヤツタ
    は、前記プラズマ流を受ける遮蔽部と、前記プラ
    ズマ流の前記試料への付与を許容する通過部とを
    有しており、前記処理装置はさらに、前記試料台
    とシヤツタとを相対的に移動させる駆動手段と、
    該駆動手段を制御するため用意され、前記試料台
    上の試料に付与されるプラズマ流の流束を、前記
    シヤツタにより開閉するように制御する制御手段
    とを備えており、前記制御手段は前記試料台上の
    試料への前記プラズマ流の流量が全プラズマ流付
    与期間を通じて実質的に一定になるように、前記
    駆動手段を制御することを特徴とする電子サイク
    ロトロン共鳴プラズマ処理装置。
JP8230189U 1989-07-13 1989-07-13 Pending JPH0322065U (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6115964A (ja) * 1984-06-29 1986-01-24 Fujitsu Ltd 真空蒸着装置
JPS6267171A (ja) * 1985-09-18 1987-03-26 Kawasaki Steel Corp 連続式真空蒸着用蒸気シ−ルド

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6115964A (ja) * 1984-06-29 1986-01-24 Fujitsu Ltd 真空蒸着装置
JPS6267171A (ja) * 1985-09-18 1987-03-26 Kawasaki Steel Corp 連続式真空蒸着用蒸気シ−ルド

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