JPH032152A - Stereo-selective production of 2-substituted-3-aminocarbonylpropionic acid - Google Patents

Stereo-selective production of 2-substituted-3-aminocarbonylpropionic acid

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JPH032152A
JPH032152A JP2037340A JP3734090A JPH032152A JP H032152 A JPH032152 A JP H032152A JP 2037340 A JP2037340 A JP 2037340A JP 3734090 A JP3734090 A JP 3734090A JP H032152 A JPH032152 A JP H032152A
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject compound useful as a synthetic intermediate for an inhibiting agent for acidic protease such as renin, in high stereo-selectivity and yield, by reducing an alpha,beta-unsaturated carboxylic acid derivative in the presence of an asymmetrically hydrogenating transition metal catalyst. CONSTITUTION:The objective compound of formula II (* represents asymmetric C) can be produced by the catalytic reduction of an alpha,beta-unsaturated carboxylic acid derivative of formula I (R<1> is aryl; R<2> and R<3> are H, lower alkyl, 3-8C cycloalkyl or amino-protecting group: R<2> and R<3> may together form 2-6C alkylene, etc.; R<4> is H or lower alkyl) in the presence of an asymmetrically hydrogenating catalyst in a solvent (e.g. methanol) under 0-200atm at 0-200 deg.C in a hydrogen gas atmosphere. The catalyst is a hydrogenating catalyst containing asymmetric C in the molecule and its amount is 1/100 to 1/1000mol per 1mol of the compound of formula I.

Description

【発明の詳細な説明】 〔目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、レニン等の酸性プロテアーゼに対して優れた
阻害活性を有する化合物の合成において、有用となる光
学活性な合成中間体の製造法に関する。
Detailed Description of the Invention [Objective] (Industrial Application Field) The present invention provides an optically active synthetic intermediate useful in the synthesis of a compound having excellent inhibitory activity against acidic proteases such as renin. Regarding manufacturing methods.

(従来の技術) レニン等の酸性プロテアーゼに対する阻害剤は、その立
体構造が活性の強さに重要な影響を及ぼし、特に、その
重要構成成分である(2R)−2−置換−3−アミノカ
ルボニルプロピオン酸の類縁化合物においては、(2R
)の絶対配位を有するものが阻害活性が強く、医療品と
しては好ましいことが知られている。
(Prior art) The three-dimensional structure of inhibitors against acidic proteases such as renin has an important influence on the strength of their activity, especially the (2R)-2-substituted-3-aminocarbonyl In analogues of propionic acid, (2R
) is known to have a strong inhibitory activity and is preferable as a medical product.

従来、かかる不斉化合物を合成する方法とじては、例え
ば、エバンス等の不斉アルキル化反応を利用した方法[
特開昭63−63649号公報]の方法が知られている
が、多工程を要するものである。
Conventionally, methods for synthesizing such asymmetric compounds include, for example, a method using an asymmetric alkylation reaction such as Evans et al.
The method disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-63649 is known, but it requires multiple steps.

一方、ラセミ化合物の合成法としては、例えば、飯塚等
の方法[J、Med、Chem、、 3XL701 (
1988)]が知られているが、エナンチオマーの分離
という煩雑な作業を要し、多くの場合に分離が極めて困
難であり、実用に適さないものである。
On the other hand, as a method for synthesizing racemic compounds, for example, the method of Iizuka et al. [J, Med, Chem, 3XL701 (
1988)], but it requires a complicated process of separating enantiomers, and in many cases separation is extremely difficult, making it unsuitable for practical use.

(当該発明が解決しようとする課題) 本発明者等は、光学活性な2−置換−3−アミノカルボ
ニルプロピオン酸類の合成について、永年に亘り鋭意研
究を行なった結果、α、β−不飽和不飽和ノルボン酸類
として、不斉水素化遷移金属触媒を用いて、接触還元反
応を行なった場合に、上記の好ましい絶対配位を有する
、不斉な2−置換−3−アミノカルボニルプロピオン酸
類が、優れた立体選択性で、かつ高収率で得られること
及び用いる触媒が再生使用可能であること等を見い出し
、本発明を完成した。
(Problems to be Solved by the Invention) As a result of extensive research over many years on the synthesis of optically active 2-substituted-3-aminocarbonylpropionic acids, the present inventors discovered that α,β-unsaturated unsaturated When a catalytic reduction reaction is carried out using an asymmetric hydrogenation transition metal catalyst as a saturated norboxylic acid, asymmetric 2-substituted-3-aminocarbonylpropionic acids having the above-mentioned preferred absolute coordination are excellent. The present invention was completed based on the discovery that the catalyst can be obtained with high stereoselectivity and in high yield, and that the catalyst used can be reused.

〔構成〕〔composition〕

本発明の一般式 [式中、R1は、置換されていてもよいアリール基を示
し、 R2及びR3は、同−又は異なって、水素原子、低級ア
ルキル基、置換された低級アルキル基(該置換基として
は、保護されていてもよいアミノ基、モノ若しくはジ低
級アルキル置換アミノ基、保護されていてもよい水酸基
、置換されていてもよいアリール基若しくは置換されて
いてもよい炭素数3乃至8個のシクロアルキル基を示す
。)、置換されていてもよい炭素数3乃至8個のシクロ
アルキル基又はアミノ基の保護基を示すか、或いはR2
及びR3が一緒になって、炭素数2乃至6個のアルキレ
ン基又は酸素原子、硫黄原子若しくは窒素原子で中断さ
れた炭素数2乃至6個のアルキレン基を示し、R4は、
水素原子又は低級アルキル基を示し、木は不斉炭素原子
を示す。]で表わされる新規な2−置換−3−アミノカ
ルボニルプロピオン酸の立体選択的製法は、一般式 (式中、R1、R′L、R3及びR4は、前記と同意義
を示す。)で表わされるα、β−、β−カルボン酸誘導
体を、不斉水素化遷移金属触媒の存在下しこ還元するこ
とを特徴とする。
The general formula of the present invention [wherein R1 represents an optionally substituted aryl group, and R2 and R3 are the same or different, a hydrogen atom, a lower alkyl group, a substituted lower alkyl group (the substituted Examples of the group include an optionally protected amino group, a mono- or di-lower alkyl-substituted amino group, an optionally protected hydroxyl group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted group having 3 to 8 carbon atoms. ), an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms or a protecting group for an amino group, or R2
and R3 together represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, sulfur atom or nitrogen atom, and R4 is
It represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and wood represents an asymmetric carbon atom. The novel stereoselective method for producing 2-substituted-3-aminocarbonylpropionic acid represented by The method is characterized in that α, β-, β-carboxylic acid derivatives are reduced in the presence of an asymmetric hydrogenation transition metal catalyst.

上記一般式(I)及び(II)において、R1、R2及
びR3の定義における「置換されていてもよいアリール
基」とは、アリール基の環上に、1乃至4個の下記より
選択される置換基を有していてもよいアリール基を示す
。アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルのよ
うな炭素数6乃至10個の芳香族炭化水素基を挙げるこ
とができ、好適にはフェニル基、1−ナフチル及び2−
ナフチル基である。該環上の置換基としては、アミノ基
;ニトロ基;シアノ基:後記低級アルキル又は後記ハロ
ゲノ低級アルキル基で置換されていてもよいカルボキシ
基;カルバモイル基:弗素、塩素、臭素、沃素のような
ハロゲン原子;後記低級アルキル基;メトキシ、エトキ
シ、プロポキシのような低級アルコキシ基;トリフルオ
ロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、ジフ
ルオロメチル、ジクロロメチル、フルオロメチル、クロ
ロメチル、2−ブロモエチル、2−クロロエチル、2−
フルオロエチル、2,2−ジブロモエチル、2,2,2
−トリフルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル
、n−トリフルオロプロピル、2−トリフルオロメチル
ブチル、4−トリフルオロメチルペンチル、3−トリフ
ルオロメチルペンチル、2−トリフルオロメチルペンチ
ル、3,3−トリフルオロジメチルブチル等の炭素数1
乃至6個の直鎖若しくは分枝鎖のハロゲノ低級アルキル
基;前記脂肪族アシル基及びメチレンジオキシ、エチレ
ンジオキシ、プロピレンジオキシのような炭素数1乃至
4個のアルキレンジオキシ基を挙げることができ、好適
には、低級アルキル基、ハロゲン原子又はハロゲノ低級
アルキル基である。
In the above general formulas (I) and (II), the "optionally substituted aryl group" in the definition of R1, R2 and R3 refers to 1 to 4 selected from the following on the ring of the aryl group. Indicates an aryl group that may have a substituent. Examples of the aryl group include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl and naphthyl, preferably phenyl, 1-naphthyl and 2-naphthyl.
It is a naphthyl group. Substituents on the ring include amino group; nitro group; cyano group: carboxy group optionally substituted with lower alkyl group described below or halogeno lower alkyl group described later; carbamoyl group: fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc. Halogen atom; lower alkyl group as described below; lower alkoxy group such as methoxy, ethoxy, propoxy; trifluoromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, fluoromethyl, chloromethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl , 2-
Fluoroethyl, 2,2-dibromoethyl, 2,2,2
-trifluoroethyl, 2,2,2-trichloroethyl, n-trifluoropropyl, 2-trifluoromethylbutyl, 4-trifluoromethylpentyl, 3-trifluoromethylpentyl, 2-trifluoromethylpentyl, 3, 1 carbon number such as 3-trifluorodimethylbutyl
to 6 linear or branched halogeno lower alkyl groups; include the above-mentioned aliphatic acyl groups and alkylenedioxy groups having 1 to 4 carbon atoms such as methylenedioxy, ethylenedioxy, and propylenedioxy; It is preferably a lower alkyl group, a halogen atom, or a halogeno-lower alkyl group.

「置換されていてもよいアリール基」の具体例としては
、例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチルのよ
うなアリール基;2−フルオロフェニル、3−フルオロ
フェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニル
、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−ブロ
モフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル
、3,5−ジフルオロフェニル、2゜5−ジフルオロフ
ェニル、2,6−ジフルオロフェニル、2.4−ジフル
オロフェニル、3,5−ジブロモフェニル、2.5−ジ
ブロモフェニル、2,6−ジクロロフェニル、2.4−
ジクロロフェニル、2,3.ロートリフルオロフェニル
、2,3,4−トリフルオロフェニル、3,4,5−ト
リフルオロフェニル、2,5.ロートリフルオロフェニ
ル、2.4.ロートリフルオロフェニル、2,3,6−
トリブロモフェニル、2,3.4−トリブロモフェニル
、3,4,5−トリブロモフェニル、2,5,6−トリ
クロロフェニル、2.4,6− トリクロロフェニルの
ようなハロゲン原子で置換されたアリール基;2−トリ
フルオロメチルフェニル、3−トリフルオロメチルフェ
ニル、4−トリフルオロメチルフェニル、2−トリクロ
ロメチルフェニル、3−ジクロロメチルフェニル、4−
トリクロロメチルフェニル、2−トリブロモメチルフェ
ニル、3−ジブロモメチルフェニル、4−ジブロモメチ
ルフェニル、3,5−ビストリフルオロメチルフェニル
、2,5−ビストリフルオロメチルフェニル、2,6−
ビストリフルオロメチルフェニル、2,4−ビストリフ
ルオロメチルフェニル、3,5−ビストリブロモメチル
フェニル、2,5−ビスジブロモメチルフェニル、2.
6−ビスジクロロメチルメチルフェニル、2,4−ビス
ジクロロメチルフェニル、2,3,6−トリストリフル
オロメチルフェニル、2,3,4− トリストリフルオ
ロメチルフェニル、3,4,5−トリストリフルオロメ
チルフェニル、2,5,6−トリストリフルオロメチル
フェニル、2,4,6−トリストリフルオロメチルフェ
ニル、2,3,6−トリストリブロモメチルフェニル、
2.3,4−トリスジブロモメチルフェニル、3,4,
5−トリストリブロモメチルフェニル、2,5,6−ト
リスジクロロメチルメチルフエニル、2,4,6−トリ
スジクロロメチルフエニルのようなハロゲノ低級アルキ
ル基で置換されたアリール基;2−メチルフェニル、3
−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2−エチルフ
ェニル、3−プロピルフェニル、4−エチルフェニル、
2−ブチルフェニル、3−ペンチルフェニル、4ペンチ
ルフエニル、3,5−ジメチルフェニル、2,5ジメチ
ルフエニル、2,6−ジメチルフェニル、2,4−ジメ
チルフェニル、3,5−ジブチルフェニル、2,5−ジ
ブチルフェニル、2,6−ジプロピルメチルフェニル、
2,4−ジプロピルフェニル、2,3,6−トリメチル
フェニル、2,3,4−トリメチルフェニル、3,4,
5−トリメチルフェニル、2,5,6−トリメチルフェ
ニル、2.4,6−トリメチルフェニル、2,3,6−
トリブチルフェニル、2,3,4−トリペンチルフェニ
ル、3,4.5−トリブチルフェニル、2,5,6−ト
リプロビルメチルフェニル、2,4,6−トリプロビル
フエニルのような低級アルキル基で置換されたアリール
基;2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4
−メトキシフェニル、2−エトキシフェニル、3−プロ
ポキシフェニル、4−エトキシフェニル、2−ブトキシ
フェニル、3−ペントキシフェニル、4−ペントキシフ
ェニル、3.5−ジメトキシフェニル、2,5−ジメト
キシフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4−
ジメトキシフェニル、3,5−ジブトキシフェニル、2
,5−ジニトロフェニル、2,6−ジプロポキシメトキ
シフェニル、2.4−ジプロポキシフェニル、2,3,
6−トリメトキシフェニル、2,3,4− トリメトキ
シフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、2,
5,6−トリメトキシフェニル、2,4,6−トリメト
キシフェニル、2,3,6−トリブトキシフェニル、2
,3,4〜トリペントキシフエニル、3,4,5−トリ
ブトキシフェニル、2,5,6−トリプロポキシフエニ
ル、2,4,6−トリプロボキシフエニルのような低級
アルコキシ基で置換されたアリール基;2−アミノフェ
ニル、3−アミノフェニル、4−アミノフェニル、3,
5−ジアミノフェニル、2,5−ジアミノフェニル、2
,6−ジアミノフェニル、2,4−ジアミノフェニルの
ようなアミノ基で置換されたアリール基;2−ニトロフ
ェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3
,5−ジニトロフェニル、2,5−ジニトロフェニル、
2.6−ジニトロフェニル、2,4−ジニトロフェニル
のようなニトロ基で置換されたアリール基;2−シアノ
フェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、
3,5−ジシアノフェニル、2.5−ジシアノフェニル
、2,6−ジシアノフェニル、2.4−ジシアノフェニ
ルのようなシアノ基で置換されたアリール基;2−アセ
チルフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフ
ェニル、3,5−ジアセチルフェニル、2,5−ジアセ
チルフェニル、2,6−ジアセチルフェニル、2,4−
ジアセチルフェニル、2,3゜6−トリプロピオニルフ
エニルのような脂肪族アシル基で置換されたアリール基
;2−カルボキシフェニル、3−カルボキシフェニル、
4−カルボキシフェニルのようなカルボキシ基で置換さ
れたアリール基;2−カルバモイルフェニル、3−カル
バモイルフェニル、4−カルバモイルフェニル、3,5
−ジカルバモイルフェニル、2,5−ジカルバモイルフ
ェニル、2゜6−ジカルバモイルフエニル、2,4−ジ
カルバモイルフェニルのようなカルバモイル基で置換さ
れたアリール基;3,4−メチレンジオキシフェニルの
ようなアルキレンジオキシ基で置換されたアリール基を
拳げることかできる。
Specific examples of the "optionally substituted aryl group" include aryl groups such as phenyl, 1-naphthyl, and 2-naphthyl; 2-fluorophenyl, 3-fluorophenyl, 4-fluorophenyl, and 2-fluorophenyl; Chlorophenyl, 3-chlorophenyl, 4-chlorophenyl, 2-bromophenyl, 3-bromophenyl, 4-bromophenyl, 3,5-difluorophenyl, 2゜5-difluorophenyl, 2,6-difluorophenyl, 2.4- Difluorophenyl, 3,5-dibromophenyl, 2,5-dibromophenyl, 2,6-dichlorophenyl, 2,4-
Dichlorophenyl, 2,3. Lotrifluorophenyl, 2,3,4-trifluorophenyl, 3,4,5-trifluorophenyl, 2,5. rottrifluorophenyl, 2.4. Lotrifluorophenyl, 2,3,6-
Substituted with halogen atoms such as tribromophenyl, 2,3.4-tribromophenyl, 3,4,5-tribromophenyl, 2,5,6-trichlorophenyl, 2.4,6-trichlorophenyl Aryl group; 2-trifluoromethylphenyl, 3-trifluoromethylphenyl, 4-trifluoromethylphenyl, 2-trichloromethylphenyl, 3-dichloromethylphenyl, 4-
Trichloromethylphenyl, 2-tribromomethylphenyl, 3-dibromomethylphenyl, 4-dibromomethylphenyl, 3,5-bistrifluoromethylphenyl, 2,5-bistrifluoromethylphenyl, 2,6-
Bistrifluoromethylphenyl, 2,4-bistrifluoromethylphenyl, 3,5-bistribromomethylphenyl, 2,5-bisdibromomethylphenyl, 2.
6-bisdichloromethylmethylphenyl, 2,4-bisdichloromethylphenyl, 2,3,6-tristrifluoromethylphenyl, 2,3,4-tristrifluoromethylphenyl, 3,4,5-tristrifluoro Methylphenyl, 2,5,6-tristrifluoromethylphenyl, 2,4,6-tristrifluoromethylphenyl, 2,3,6-tristribromomethylphenyl,
2.3,4-trisdibromomethylphenyl, 3,4,
Aryl group substituted with a halogeno lower alkyl group such as 5-tristribromomethylphenyl, 2,5,6-trisdichloromethylmethylphenyl, 2,4,6-trisdichloromethylphenyl; 2-methylphenyl ,3
-methylphenyl, 4-methylphenyl, 2-ethylphenyl, 3-propylphenyl, 4-ethylphenyl,
2-butylphenyl, 3-pentylphenyl, 4-pentylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,5 dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 3,5-dibutylphenyl, 2,5-dibutylphenyl, 2,6-dipropylmethylphenyl,
2,4-dipropylphenyl, 2,3,6-trimethylphenyl, 2,3,4-trimethylphenyl, 3,4,
5-trimethylphenyl, 2,5,6-trimethylphenyl, 2.4,6-trimethylphenyl, 2,3,6-
Lower alkyl groups such as tributylphenyl, 2,3,4-tripentylphenyl, 3,4.5-tributylphenyl, 2,5,6-triprobylmethylphenyl, 2,4,6-triprobylphenyl Substituted aryl group; 2-methoxyphenyl, 3-methoxyphenyl, 4
-methoxyphenyl, 2-ethoxyphenyl, 3-propoxyphenyl, 4-ethoxyphenyl, 2-butoxyphenyl, 3-pentoxyphenyl, 4-pentoxyphenyl, 3.5-dimethoxyphenyl, 2,5-dimethoxyphenyl, 2,6-dimethoxyphenyl, 2,4-
Dimethoxyphenyl, 3,5-dibutoxyphenyl, 2
, 5-dinitrophenyl, 2,6-dipropoxymethoxyphenyl, 2,4-dipropoxyphenyl, 2,3,
6-trimethoxyphenyl, 2,3,4-trimethoxyphenyl, 3,4,5-trimethoxyphenyl, 2,
5,6-trimethoxyphenyl, 2,4,6-trimethoxyphenyl, 2,3,6-tributoxyphenyl, 2
, 3,4-tripentoxyphenyl, 3,4,5-tributoxyphenyl, 2,5,6-tripropoxyphenyl, 2,4,6-triproxyphenyl. Aryl group; 2-aminophenyl, 3-aminophenyl, 4-aminophenyl, 3,
5-diaminophenyl, 2,5-diaminophenyl, 2
, 6-diaminophenyl, 2,4-diaminophenyl; 2-nitrophenyl, 3-nitrophenyl, 4-nitrophenyl, 3
, 5-dinitrophenyl, 2,5-dinitrophenyl,
Aryl group substituted with nitro group such as 2.6-dinitrophenyl, 2,4-dinitrophenyl; 2-cyanophenyl, 3-cyanophenyl, 4-cyanophenyl,
Aryl groups substituted with cyano groups such as 3,5-dicyanophenyl, 2,5-dicyanophenyl, 2,6-dicyanophenyl, 2,4-dicyanophenyl; 2-acetylphenyl, 3-acetylphenyl, 4 -acetylphenyl, 3,5-diacetylphenyl, 2,5-diacetylphenyl, 2,6-diacetylphenyl, 2,4-
Aryl groups substituted with aliphatic acyl groups such as diacetylphenyl, 2,3゜6-tripropionylphenyl; 2-carboxyphenyl, 3-carboxyphenyl,
Aryl group substituted with a carboxy group such as 4-carboxyphenyl; 2-carbamoylphenyl, 3-carbamoylphenyl, 4-carbamoylphenyl, 3,5
-Aryl group substituted with a carbamoyl group such as dicarbamoylphenyl, 2,5-dicarbamoylphenyl, 2゜6-dicarbamoylphenyl, 2,4-dicarbamoylphenyl; 3,4-methylenedioxyphenyl Aryl groups substituted with alkylenedioxy groups such as

R2、R3及びR4の定義における「低級アルキル基」
とは、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、S−ブチル、t−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチル、
ネオペンチル、n−ヘキシル、4−メチルペンチル、3
−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3.3−ジメ
チルブチル、2,2−ジメチルブチル、■、1−ジメチ
ルブチル、L、2−ジメチルブチル、1,3−ジメチル
ブチル、2,3−ジメチルブチルのような炭素数1乃至
6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、好適には炭素
数1乃至4個のアルキル基である。
"Lower alkyl group" in the definition of R2, R3 and R4
For example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, S-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl,
Neopentyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3
-Methylpentyl, 2-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, ■, 1-dimethylbutyl, L, 2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl represents a straight or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

R2及びR3の定義における「保護されていてもよいア
ミノ基」の「保護基」及び「アミノ基の保護基」とは、
下記の保護基群より選択される1又は2個の保護基を示
し、該保護基としては、通常アミノ基の保護基として使
用するものであれば限定はないが、好適には、例えば、
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、インブ
チリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバ
レリル、オクタノ′イル、ラウロイル、ミリストイル、
トリデカノイル、バルミトイル、ステアロイルのような
アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセ
チル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよ
うなハロゲン化脂肪族アシル基、メトキシアセチルのよ
うな低級アルコキシ脂肪族アシル基、(E)−2−メチ
ル−2−ブテノイルのような不飽和脂肪族アシル基等の
脂肪族アシル基;ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナ
フトイルのようなアリールカルボニル基、2−ブロモベ
ンゾイル、4−クロロベンゾイルのようなハロゲン化ア
リールカルボニル基、2,4.6−トリメチルベンゾイ
ル、4−トルオイルのような低級アルキル化アリールカ
ルボニル基、4−アニソイルのような低級アルコキシ化
アリールカルボニル基、4−ニトロベンゾイル、2−ニ
トロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基
、2−(メトキシカルボニル)ベンゾイルのような低級
アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、4−フ
ェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニ
ル基等の芳香族アシル基;メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブトキシ
カルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−トリメチ
ルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリ
低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基;ビニルオキシカ
ルボニル、アリルオキシカルボニルのようなアルケニル
オキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル、4−
メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニルの
ような、1乃至2個の低級アルコキシ又はニトロ基でア
リール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカル
ボニル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソ
プロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、
メチルジイソプロピルシリル、メチルジーし一ブチルシ
リル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキ
ルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチ
ルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フエニルジ
イソプロピルシリルのような1乃至2個のアリール基で
置換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル基又は
ベンジル、フェネチル、3−フェニルプロピル、αナフ
チルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、
トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、
9−アンスリルメチルのような1乃至3個のアリール基
で置換された低級アルキル基、4−メチルベンジル、2
,4,6−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチ
ルベンジル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフエ
ニルジフェニルメチル、2−二トロベンジル、4−ニト
ロベンジル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル
、4−シアノベンジル、4−シアノベンジルジフェニル
メチル、ビス(2−二トロフェニル)メチル、ピペロニ
ルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハ
ロゲン、シアノ基でアリール環が置換された1乃至3個
のアリール基で置換された低級アルキル基等のアラルキ
ル基であり、更に好適には、脂肪族アシル基又は芳香族
アシル基である。
The "protecting group" of "optionally protected amino group" and "protecting group of amino group" in the definition of R2 and R3 are:
One or two protecting groups selected from the group of protecting groups shown below are shown, and the protecting groups are not limited as long as they are normally used as protecting groups for amino groups, but preferably, for example,
Formyl, acetyl, propionyl, butyryl, imbutyryl, pentanoyl, pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl, lauroyl, myristoyl,
Alkylcarbonyl groups such as tridecanoyl, balmitoyl, and stearoyl; halogenated aliphatic acyl groups such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, and trifluoroacetyl; lower alkoxyaliphatic acyl groups such as methoxyacetyl; (E)- Aliphatic acyl groups such as unsaturated aliphatic acyl groups such as 2-methyl-2-butenoyl; arylcarbonyl groups such as benzoyl, α-naphthoyl, β-naphthoyl, 2-bromobenzoyl, 4-chlorobenzoyl, etc. halogenated arylcarbonyl groups such as 2,4.6-trimethylbenzoyl, lower alkylated arylcarbonyl groups such as 4-toluoyl, lower alkoxylated arylcarbonyl groups such as 4-anisoyl, 4-nitrobenzoyl, 2-nitrobenzoyl, etc. Aromatic acyl groups such as nitrated arylcarbonyl groups such as benzoyl, lower alkoxycarbonylated arylcarbonyl groups such as 2-(methoxycarbonyl)benzoyl, and arylated arylcarbonyl groups such as 4-phenylbenzoyl; methoxycarbonyl; Lower alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, 2,
Alkoxycarbonyl groups such as lower alkoxycarbonyl groups substituted with halogen or tri-lower alkylsilyl groups such as 2,2-trichloroethoxycarbonyl and 2-trimethylsilylethoxycarbonyl; alkenyloxycarbonyl such as vinyloxycarbonyl and allyloxycarbonyl Group; benzyloxycarbonyl, 4-
Even if the aryl ring is substituted with one or two lower alkoxy or nitro groups, such as methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl, and 4-nitrobenzyloxycarbonyl. Good aralkyloxycarbonyl group; trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl,
Substituted with a tri-lower alkylsilyl group such as methyldiisopropylsilyl, methyldi-butylsilyl, triisopropylsilyl, or one or two aryl groups such as diphenylmethylsilyl, diphenylbutylsilyl, diphenylisopropylsilyl, phenyldiisopropylsilyl silyl groups such as tri-lower alkylsilyl groups, or benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, α-naphthylmethyl, β-naphthylmethyl, diphenylmethyl,
triphenylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl,
Lower alkyl group substituted with 1 to 3 aryl groups such as 9-anthrylmethyl, 4-methylbenzyl, 2
, 4,6-trimethylbenzyl, 3,4,5-trimethylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 4-methoxyphenyldiphenylmethyl, 2-nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, 4-chlorobenzyl, 4-bromobenzyl, 1 to 3 aryl rings substituted with lower alkyl, lower alkoxy, nitro, halogen, or cyano groups such as 4-cyanobenzyl, 4-cyanobenzyldiphenylmethyl, bis(2-nitrophenyl)methyl, and piperonyl; It is an aralkyl group such as a lower alkyl group substituted with an aryl group, and more preferably an aliphatic acyl group or an aromatic acyl group.

R2及びR3の定義における「モノ若しくはジ低級アル
キル置換アミノ基」とは、メチルアミノ、エチルアミノ
、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、プロピルアミノ、
ブチルアミノのような炭素数1乃至6個のアルキル基が
モノ若しくはジ置換したアミノ基を挙げることができ、
好適には、炭素数1乃至4個のアルキル基がモノ若しく
はジ置換したアミノ基である。
The "mono- or di-lower alkyl-substituted amino group" in the definition of R2 and R3 refers to methylamino, ethylamino, dimethylamino, diethylamino, propylamino,
Examples include amino groups mono- or di-substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as butylamino,
Preferably, it is an amino group in which an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is mono- or di-substituted.

R2及びR3の定義における「保護されていてもよい水
酸基」の保護基としては、例えば、前記脂肪族アシル基
;前記芳香族アシル基;テトラヒドロピラン−2−イル
、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メト
キシテトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオ
ピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラ
ン−4−イルのようなテトラヒドロピラニル又はテトラ
ヒドロチオピラニル基;テトラヒドロフラン−2−イル
、テトラヒドロチオフラン−2−イルのようなテトラヒ
ドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル基;前記シ
リル基;メトキシメチル、1,1−ジメチル−1−メト
キシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソ
プロポキシメチル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチ
ルのような低級アルコキシメチル基、2−メトキシエト
キシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメ
チル基、2,2.2−トリクロロエトキシメチル、ビス
(2−クロロエトキシ)メチルのようなハロゲノ低級ア
ルコキシメチル等のアルコキシメチル基;1−エトキシ
エチル、■−メチルー1−メトキシエチル、■−(イソ
プロポキシ)エチルのような低級アルコキシ化エチル基
、2,2.2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エ
チル基、2−(フェニルゼレニル)エチルのようなアリ
ールゼレニル化エチル基等の置換エチル基:前記アラル
キル基;前記アルコキシカルボニル基:前記アルケニル
オキジカルボニル基;前記アラルキルオキシカルボニル
基を挙げることができる。
Examples of the protecting group for the "optionally protected hydroxyl group" in the definitions of R2 and R3 include the aliphatic acyl group; the aromatic acyl group; tetrahydropyran-2-yl, 3-bromotetrahydropyran-2- tetrahydropyranyl or tetrahydrothiopyranyl groups such as yl, 4-methoxytetrahydropyran-4-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl, 4-methoxytetrahydrothiopyran-4-yl; Tetrahydrofuranyl or tetrahydrothiofuranyl groups such as thiofuran-2-yl; said silyl groups; methoxymethyl, 1,1-dimethyl-1-methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, butoxymethyl, t -Lower alkoxymethyl groups such as butoxymethyl, lower alkoxylated lower alkoxymethyl groups such as 2-methoxyethoxymethyl, halogenated lower groups such as 2,2.2-trichloroethoxymethyl, bis(2-chloroethoxy)methyl Alkoxymethyl groups such as alkoxymethyl; lower alkoxylated ethyl groups such as 1-ethoxyethyl, ■-methyl-1-methoxyethyl, ■-(isopropoxy)ethyl, and halogenated groups such as 2,2.2-trichloroethyl. Substituted ethyl groups such as ethyl groups and arylzelenylated ethyl groups such as 2-(phenylzelenyl)ethyl; the aralkyl groups; the alkoxycarbonyl groups; the alkenyloxycarbonyl groups; and the aralkyloxycarbonyl groups.

R2及びR3の定義における[置換されていてもよい炭
素数3乃至8個のシクロアルキル基]とは、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
、シクロヘプチル、シクロオクチルのような3乃至8貝
飽和環状炭化水素基(好適には5乃至7員飽和環状炭化
水素基)の環上に、前記「置換されていてもよいアリー
ル基」において記載した置換基より選択される置換基が
1乃至4個置換していてもよい基を示す。
[Optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms] in the definitions of R2 and R3 refers to a saturated cyclic group having 3 to 8 shells such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl. 1 to 4 substituents selected from the substituents described in the above "optionally substituted aryl group" are substituted on the ring of the hydrocarbon group (preferably a 5- to 7-membered saturated cyclic hydrocarbon group). Indicates an optional group.

R2及びR3が一緒になって示す「炭素数2乃至6個の
アルキレン基」とは、例えばエチレン、トリメチレン、
テトラメチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチル
トリメチレン、3−メチルトリメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレンのような炭素数2乃至6個のアルキ
レン基を挙げることができ、好適にはエチレン、トリメ
チレン又はテトラメチレンである。
The "alkylene group having 2 to 6 carbon atoms" represented by R2 and R3 together includes, for example, ethylene, trimethylene,
Examples include alkylene groups having 2 to 6 carbon atoms such as tetramethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 3-methyltrimethylene, pentamethylene, and hexamethylene, with preference given to ethylene and trimethylene. Or tetramethylene.

R2及びR3が一緒になって示す「酸素原子、硫黄原子
若しくは窒素原子で中断された炭素数2乃至6個のアル
キレン基」とは、例えばメチレンオキシメチレン、メチ
レンアミノメチレン、メチレンチオメチレン、エチレン
オキシメチレン、エチレンアミノメチレン、エチレンチ
オメチレン、トリメチレンオキシメチレン、トリメチレ
ンアミノメチレン、トリメチレンチオメチレン、エチレ
ンオキシエチレン、エチレンアミノエチレン、エチレン
チオエチレン、テトラメチレンオキシメチレン、テトラ
メチレンアミノメチレン、テトラメチレンチオメチレン
、トリメチレンオキシエチレン、トリメチレンアミノエ
チレン、トリメチレンチオエチレン、ペンタメチレンオ
キシメチレン、ペンタメチレンアミノメチレン、ペンタ
メチレンチオメチレン、テトラメチレンオキシエチレン
、テトラメチレンアミノエチレン、テトラメチレンチオ
エチレン、トリメチレンオキシトリメチレン、トリメチ
レンアミノトリメチレン、トリメチレンチオトリメチレ
ンのような酸素原子、硫黄原子若しくは窒素原子で中断
された炭素数2乃至6個のアルキレン基を挙げることが
でき、更に、このアルキレン基には、前記低級アルキル
基が置換していてもよく、この結果、R2及びR3が、
隣接する窒素原子と一緒になって、例えば、ピペラジニ
ル、モルホリノ、2,6−ジメチルモルホリノ、2−メ
チルモルホリノ、チオモルホリノ、N−メチルピペラジ
ニル、ピペリジノ、ピロリジノのような飽和複素環基を
示す。
The "alkylene group having 2 to 6 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, sulfur atom, or nitrogen atom" represented by R2 and R3 together includes, for example, methyleneoxymethylene, methyleneaminomethylene, methylenethiomethylene, ethyleneoxy Methylene, ethylene aminomethylene, ethylene thiomethylene, trimethylene oxymethylene, trimethylene amino methylene, trimethylene thiomethylene, ethylene oxyethylene, ethylene amino ethylene, ethylene thioethylene, tetramethylene oxymethylene, tetramethylene amino methylene, tetramethylene thiomethylene Methylene, trimethyleneoxyethylene, trimethyleneaminoethylene, trimethylenethioethylene, pentamethyleneoxymethylene, pentamethyleneaminomethylene, pentamethylenethiomethylene, tetramethyleneoxyethylene, tetramethyleneaminoethylene, tetramethylenethioethylene, trimethyleneoxy Examples include alkylene groups having 2 to 6 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, sulfur atom, or nitrogen atom, such as trimethylene, trimethyleneaminotrimethylene, and trimethylenethiotrimethylene; may be substituted with the lower alkyl group, and as a result, R2 and R3 are
together with adjacent nitrogen atoms represents a saturated heterocyclic group such as, for example, piperazinyl, morpholino, 2,6-dimethylmorpholino, 2-methylmorpholino, thiomorpholino, N-methylpiperazinyl, piperidino, pyrrolidino .

本発明の方法に使用される[不斉水素化遷移金属触媒]
としては、その触媒の分子内に、不斉炭素原子を有する
水素化触媒であれば、特に、限定はないが、例えば、ル
テニウムを遷移金属として有する、 一般式 Ru(X 1)2(binap)、[Ru (
X ” )2 (binap) ]″″Y−又はRu2
(X2)4(binap)2 ・Z[式中、Ruはルテ
ニウム原子を示し、Xlは、塩素、臭素、沃素のような
ハロゲン原子又はアセトキシ、トリフルオロアセトキシ
のようなハロゲン化されていてもよい脂肪族アシルオキ
シ基を示し、X2は、Xlにおけるハロゲン原子と同様
の基を示し、 binapとは、 を有する基(式中、R6は、置換されていてもよいアリ
ール基、置換されていてもよい直鎖若しくは分枝鎖の低
級アルキル基又は置換されていてもよい炭素数3乃至8
個のシクロアルキル基を示す。)を示し、分子不斉を有
するものである。
[Asymmetric hydrogenation transition metal catalyst] used in the method of the present invention
As long as it is a hydrogenation catalyst having an asymmetric carbon atom in the molecule of the catalyst, there is no particular limitation, but for example, a hydrogenation catalyst having the general formula Ru(X 1) 2 (binap) having ruthenium as a transition metal , [Ru (
X ”)2 (binap) ]””Y- or Ru2
(X2)4(binap)2 ・Z [In the formula, Ru represents a ruthenium atom, and Xl may be a halogen atom such as chlorine, bromine, or iodine, or a halogen atom such as acetoxy or trifluoroacetoxy. represents an aliphatic acyloxy group, X2 represents a group similar to the halogen atom in Xl, and binap represents a group having (wherein R6 is an optionally substituted aryl group, an optionally substituted Straight chain or branched lower alkyl group or optionally substituted carbon number 3 to 8
cycloalkyl group. ) and has molecular asymmetry.

Y−は、過塩素酸イオン、トリフルオロホウ素イオンの
ような酸性アニオンを示し、Zは、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、ピリジンのような第三級の有機アミ
ン化合物を示す。]を有する不斉水素化触媒をあげるこ
とができる。
Y- represents an acidic anion such as perchlorate ion or trifluoroborate ion, and Z represents trimethylamine,
Indicates tertiary organic amine compounds such as triethylamine and pyridine. ] The asymmetric hydrogenation catalyst can be mentioned.

本発明は、化合物(1)を溶媒に溶かし、凍結脱気させ
、この溶液に不斉水素化遷移金RfIIA媒を加え、更
にこの溶液を凍結脱気した後、オートクレーブ中で、水
素ガス雰囲気下にて攪拌し、接M!還元することにより
達成される。
In the present invention, compound (1) is dissolved in a solvent, freeze-degassed, an asymmetric hydrogenated transition gold RfIIA medium is added to this solution, and the solution is further freeze-degassed, and then placed in an autoclave under a hydrogen gas atmosphere. Stir with M! This is achieved by giving back.

使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、好適には、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類、エーテル、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類;ジクロロメタン、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類及びこれらの
混合溶媒を挙げることができ、更に好適には、アルコー
ル類又はアルコール類と上記他の溶媒との混合溶媒であ
る。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but preferably alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, ether, Examples include ethers such as dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, and tetrahydrofuran; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, and mixed solvents thereof; more preferably alcohols or alcohols and other solvents mentioned above. It is a mixed solvent with

使用される不斉水素化遷移金属触媒としては、前記定義
された化合物であれば特に限定はないが、好適には、前
記式(III)及び(TV)に於いて(1)R6が、置
換されていてもよいアリール基である化合物 (2)R6が、フェニル又はトリルである化合物を挙げ
ることができる 不斉水素化遷移金属触媒の量は、多量に使用しても問題
はないが、通常、一般式(I)を有する化合物に対して
1/100〜1/1000モルを用いることによって実
施される。
The transition metal catalyst for asymmetric hydrogenation to be used is not particularly limited as long as it is a compound as defined above, but preferably, in the formulas (III) and (TV), (1) R6 is a substituted The amount of the transition metal catalyst for asymmetric hydrogenation can be exemplified by compounds in which compound (2) R6, which is an aryl group that may be , by using 1/100 to 1/1000 mol based on the compound having general formula (I).

尚、本発明化合物(II)の2位の立体配位は、不斉水
素化遷移金属触媒の不斉によって、選択的に決定される
。例えば、原料化合物(I)を用いて、(2R)の本発
明化合物(TI)を合成するためには、(S)−bin
ap (IV)を用いれば良い。
The steric configuration at the 2-position of the compound (II) of the present invention is selectively determined by the chirality of the transition metal catalyst for asymmetric hydrogenation. For example, in order to synthesize the compound (TI) of the present invention (2R) using the starting compound (I), (S)-bin
ap (IV) may be used.

反応圧力は、通常、0〜200気圧で行なわれるが、好
適には1〜50気圧である。
The reaction pressure is usually 0 to 200 atm, preferably 1 to 50 atm.

反応温度は、通常0℃乃至200℃で行なわれるが、好
適には、20℃乃至100℃である。
The reaction temperature is usually 0°C to 200°C, preferably 20°C to 100°C.

反応時間は、主に、反応圧力、反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常12時
間乃至200時間である。
The reaction time mainly varies depending on the reaction pressure, reaction temperature, raw material compound, and type of solvent used, but is usually 12 hours to 200 hours.

反応終了後1本反応の目的化合物(II)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
After completion of the reaction, the target compound (II) for one reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent that is immiscible with water to the reaction mixture, washing with water, and then distilling off the solvent. The obtained target compound can be further purified, if necessary, by conventional methods such as recrystallization, reprecipitation, or chromatography.

本発明の方法の原料化合物であるα、β−不飽和カルポ
ン酸類(I)は、公知化合物(特開昭61−18636
6号公報記′U、)であるか、例えば、ホーニング等の
方法[E、C,Horning、 J、ArM、Che
n+、So6.、 渥□5147 (1952)]に準
じて容易に合成できる。
The α,β-unsaturated carboxylic acids (I), which are the raw material compounds for the method of the present invention, are known compounds (Japanese Patent Application Laid-open No. 18636-1989).
For example, the method of Horning et al. [E, C, Horning, J, ArM, Che
n+, So6. , Atsushi 5147 (1952)].

一方、不斉水素化遷移金属触媒は、例えば、野依ら[J
、 Org、 Chem、、 5L 629 (198
6)、J、 Am。
On the other hand, asymmetric hydrogenation transition metal catalysts, for example, Noyori et al. [J
, Org, Chem,, 5L 629 (198
6), J. Am.

Chem、 Soc、、 108.7117−7119
 (1986)及びJ、 Am。
Chem, Soc, 108.7117-7119
(1986) and J. Am.

Chem、 Soc、、 109.5856 (198
7)]の方法に従って、原料として光学活性なルテニウ
ム化合物を用い、有機酸塩をメタノール、エタノール、
t−ブタノールのようなアルコール類の溶媒中で、20
〜110℃の温度で3〜15時間反応させた後、溶媒を
留去して、エーテル、テトラヒドロフランのような工−
チル類又はメタノール、エタノール、t−ブタノールの
ようなアルコール類の溶媒で抽出後、乾固することによ
り得ることができ、更に、再結晶することにより、精製
品を得ることができる。
Chem, Soc, 109.5856 (198
7)], using an optically active ruthenium compound as a raw material, the organic acid salt was mixed with methanol, ethanol,
In an alcoholic solvent such as t-butanol, 20
After reacting for 3 to 15 hours at a temperature of ~110°C, the solvent was distilled off and the reactants such as ether, tetrahydrofuran, etc.
It can be obtained by extraction with a solvent such as chloride or an alcohol such as methanol, ethanol, or t-butanol, followed by drying, and further, a purified product can be obtained by recrystallization.

反応終了後、保護基の除去はその種類によって異なるが
、一般にこの分野の技術において周知の方法によって以
下の様に実施される。
After completion of the reaction, removal of the protecting group varies depending on the type of protecting group, but is generally carried out as follows by methods well known in the art.

アミノ基及び/又は水酸基の保護基として、トリ低級ア
ルキルシリル基を使用した場合には、通常弗化テトラブ
チルアンモニウムのような弗素アニオンを生成する化合
物で処理することにより除去する。反応溶媒は反応を阻
害しないものであれば特に限定はないが、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適である。
When a tri-lower alkylsilyl group is used as a protecting group for an amino group and/or a hydroxyl group, it is usually removed by treatment with a compound that generates a fluorine anion, such as tetrabutylammonium fluoride. The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are preferred.

反応温度及び反応時間は特に限定はないが、通常室温で
10乃至18時間反応させる。
Although the reaction temperature and reaction time are not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature for 10 to 18 hours.

アミノ基及び/又は水酸基の保護基が、脂肪族アシル基
、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場
合には、水性溶媒の存在下に酸又は塩基で処理すること
により除去することができる。酸としては、塩酸、硫酸
、リン酸、臭化水素酸が用いられ、塩基としては、化合
物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定は
ないが、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのようなアルカリ金属水酸化物又は濃アンモ・ニア
−メタノールを用いて実施される。尚、塩基による加水
分解では異性化が起こることがある。使用される溶媒と
しては通常の加水分解反応に使用されるものであれば特
に限定はなく、水又は水とメタノール、エタノール、n
−プロパツールのようなアルコール類若しくはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類のような有
機溶媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時
間は出発物質及び用いる塩基等によって異なり特に限定
はないが、副反応を抑制するために、通常は0℃乃至1
50℃で、■乃至10時間である。
When the protecting group for an amino group and/or a hydroxyl group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treatment with an acid or base in the presence of an aqueous solvent. As acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and hydrobromic acid are used, and as bases, there are no particular limitations as long as they do not affect other parts of the compound, but sodium carbonate and carbonate are preferably used. It is carried out using an alkali metal carbonate such as potassium, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or concentrated ammonia-nia-methanol. Note that isomerization may occur during hydrolysis with a base. The solvent used is not particularly limited as long as it is used in normal hydrolysis reactions, and water or water and methanol, ethanol, n
- Mixed solvents with organic solvents such as alcohols such as propatool or ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are suitable. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the base used, etc., and are not particularly limited, but in order to suppress side reactions, they are usually 0°C to 1°C.
At 50°C, for 1 to 10 hours.

アミノ基及び/又は水酸基の保護基が、アラルキル基又
はアラルキルオキシカルボニル基である場合には、白金
若しくはパラジウム炭素のような触媒を使用して、常温
で接触還元を行ない、除去する方法又は酸化剤を用いて
除去する方法が好適である。
When the protecting group for an amino group and/or a hydroxyl group is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group, a method for removing it by performing catalytic reduction at room temperature using a catalyst such as platinum or palladium on carbon or an oxidizing agent. It is preferable to use a method for removing it.

還元による除去において使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノール、イソプロパツールのようなアルコール
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレン
のような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン
のような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル
のようなエステル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれら
の有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。
The solvent used in the removal by reduction is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, Aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene, and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane, esters such as ethyl acetate and propyl acetate, fatty acids such as acetic acid, or these organic solvents and water. A mixed solvent with is suitable.

使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用さ
れるものであれば、特に限定はないが、好適にはパラジ
ウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウ
ム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化
ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。圧
力は、特に限定はないが、通常1乃至10気圧で行なわ
れる。反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種
類等により異なるが、通常、0℃乃至100”Cで、5
分乃至24時間実施される。
The catalyst used is not particularly limited as long as it is normally used in catalytic reduction reactions, but palladium on carbon, Raney nickel, platinum oxide, platinum black, rhodium-aluminum oxide, triphenylphosphine- Rhodium chloride and palladium-barium sulfate are used. The pressure is not particularly limited, but the pressure is usually 1 to 10 atm. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the type of catalyst, but are usually 0°C to 100"C, 5
It can be carried out from minutes to 24 hours.

酸化による除去において使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には
、含水有機溶媒である。このような有機溶媒として好適
には、アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素
類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類及び
ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げる
ことができる。使用される酸化剤としては、通常、酸化
に使用される化合物であれば特に限定はないが、好適に
は過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセ
リウムナイトレイト(CAN)、2,3−ジクロロ−5
,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)が用いら
れる。
The solvent used in the removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but preferably a water-containing organic solvent. Preferably, such organic solvents include ketones such as acetone, methylene chloride,
chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, nitriles such as acetonitrile, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylformamide, dimethylacetamide,
Mention may be made of amides such as hexamethylphosphorotriamide and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. The oxidizing agent used is not particularly limited as long as it is a compound normally used for oxidation, but potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium cerium nitrate (CAN), and 2,3-dichloro- 5
, 6-dicyano-p-benzoquinone (DDQ) is used.

反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種類等に
より異なるが、通常、0℃乃至150℃で、10分乃至
24時間実施される。
Although the reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the type of catalyst, the reaction is usually carried out at 0°C to 150°C for 10 minutes to 24 hours.

アミノ基及び/又は水酸基の保護基がアルケニルオキシ
カルボニル基である場合は、通常前記アミノ基の保護基
が脂肪族アシル基、芳香族アシル基又は低級アルコキシ
カルボニル基である場合の除去反応の条件と同様にして
塩基と処理することにより脱雛させることができる。尚
、アリルオキシカルボニルの場合は、特にパラジウム及
びトリフェニルホスフィン若しくはニッケルテトラカル
ボニルを使用して除去する方法が前便で、副反応が少な
〈実施することができる。
When the protecting group for the amino group and/or hydroxyl group is an alkenyloxycarbonyl group, the conditions for the removal reaction when the protecting group for the amino group is usually an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, or a lower alkoxycarbonyl group. In the same manner, chicks can be removed by treatment with a base. In the case of allyloxycarbonyl, the removal method using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is particularly convenient and can be carried out with fewer side reactions.

水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
好適には塩酸、酢酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸又
は酢酸等である。
When the protecting group for the hydroxyl group is an alkoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrofuranyl group, or a substituted ethyl group, it can be removed by treatment with an acid in a normal solvent. The acid used is
Preferred are hydrochloric acid, acetic acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid or acetic acid.

使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノール、エタノールのような
アルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が
好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用い
る酸の種類等によって異なるが、通常は0℃乃至50℃
で、10分乃至18時間である。
The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, or a mixed solvent of these organic solvents and water may be used. suitable. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the type of acid used, but are usually 0°C to 50°C.
The duration ranges from 10 minutes to 18 hours.

上記のアミノ基及び/又は水酸基の保護基の除去反応は
、順不同で希望する除去反応を順次実施することができ
る。
The above reaction for removing the protecting group for the amino group and/or hydroxyl group can be carried out sequentially in any desired order.

以下に、実施例及び参考例をあげて本発明を更に具体的
に説明する。
The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples and Reference Examples.

尚、以下の実施例において、鏡像体過剰率は、本不斉水
素化反応により合成したカルボン酸をメチルエステルと
した後、光学異性体分離カラム(CHIRALCEL 
QC)に付し、ヘキサン=2−プロパツールを用い、U
V波長254 nmで検出することにより決定した。
In the following examples, the enantiomeric excess is calculated using an optical isomer separation column (CHIRALCEL) after converting the carboxylic acid synthesized by this asymmetric hydrogenation reaction into a methyl ester.
QC), using hexane=2-propertool, U
It was determined by detecting at a V wavelength of 254 nm.

実施上1 E−2−(1−ナフチルメチレン)−3−(モルホリノ
カルボニル)プロピオン酸100 mg(0,31ミリ
モル)を、無水メタノール2 ml中に溶解し、凍結脱
気を3回行なった。アルゴンガス雰囲気下、Ru (O
Ac) 2 [(S)−binap] 2 mg(2,
38XIO−6モル)を加え、更に凍結脱気を3回繰り
返し、この溶液をカニュラーを用い、ステンレス・スチ
ール・オートクレーブに移し、水素圧を4気圧かけ、5
0’Cにて48時間攪拌した。48時間後、溶媒を減圧
留去し、残渣をジアゾメタン−エーテル溶液にてメチル
化した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エー
テル:ヘキサン=4:I)にて積装し、標記光学活性化
合物を、無色アモルファスとして57 mg(54%)
得た。
Example 1 100 mg (0.31 mmol) of E-2-(1-naphthylmethylene)-3-(morpholinocarbonyl)propionic acid was dissolved in 2 ml of anhydrous methanol and freeze-degassed three times. Under an argon gas atmosphere, Ru (O
Ac) 2 [(S)-binap] 2 mg (2,
38
Stirred at 0'C for 48 hours. After 48 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was methylated with a diazomethane-ether solution, and then loaded on a silica gel column chromatography (ether:hexane=4:I) to obtain the title optically active compound as a colorless compound. 57 mg (54%) as amorphous
Obtained.

従来に比べ、立体選択的に、不斉合成できた。Asymmetric synthesis was possible with stereoselectivity compared to conventional methods.

マススペクトル(m/e): 341(Mつ、 129
゜tR値(カラム:CHIRALCEL QC(Dai
cel)溶媒:ヘキサン=2−プロパツール=50:5
0溶出速度:1.5 ml/mj−n):(2R)体:
12.93 min。
Mass spectrum (m/e): 341 (M, 129
゜tR value (column: CHIRALCEL QC (Dai
cel) Solvent: hexane = 2-propertool = 50:5
0 elution rate: 1.5 ml/mj-n): (2R) form:
12.93 min.

(2S)休:20.70 min。(2S) Rest: 20.70 min.

オン  メチルエステル E−2−ベンジリデン−3−(モルホリノカルボニル)
プロピオン酸200 IIIg(0,73ミリモル)を
、無水メタノール3 ml中に溶解し、凍結脱気を3回
行なった。アルゴンガス雰囲気下、Ru(OAc)2[
(S)−binap]2 mg(2,38X 10””
モル)を加え、更に凍結脱気を3回繰り返し、この溶液
をカニュラーを用い、ステンレス・スチール・オートク
レーブに移し、水素圧を2気圧かけ、50℃にて48時
間攪拌した。48時間後、溶媒を減圧留去し、残渣をジ
アゾメタン−エーテル溶液にてメチル化した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:ヘキサン=
4:1)にて精製し、標記光学活性化合物を、白色結晶
として127 mg(60%)得た。
On methyl ester E-2-benzylidene-3-(morpholinocarbonyl)
200 III g (0.73 mmol) of propionic acid were dissolved in 3 ml of absolute methanol and freeze-degassed three times. Under argon gas atmosphere, Ru(OAc)2[
(S)-binap] 2 mg (2,38X 10”)
mol) was added, freeze-degassing was repeated three times, and the solution was transferred to a stainless steel autoclave using a cannula, 2 atmospheres of hydrogen pressure was applied, and the mixture was stirred at 50° C. for 48 hours. After 48 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was methylated with a diazomethane-ether solution, followed by silica gel column chromatography (ether:hexane=
4:1) to obtain 127 mg (60%) of the title optically active compound as white crystals.

往来に比べ、立体選択的に、不斉合成できた。Asymmetric synthesis was possible with stereoselectivity compared to conventional methods.

融点: 66−68℃ マススペクトル(m/e): 291(Mつ、 129
゜tRf直(カラム:CHIRALCEL QC(Da
icel)溶媒:ヘキサン=2−プロパツール=30ニ
ア0溶出速度:1.Oml/+n1n): (2R)体:11.90 min。
Melting point: 66-68°C Mass spectrum (m/e): 291 (M, 129
゜tRf Direct (Column: CHIRALCEL QC (Da
icel) Solvent: Hexane = 2-propertool = 30 near 0 Elution rate: 1. Oml/+n1n): (2R) body: 11.90 min.

(2S)体:15.60 min。(2S) Body: 15.60 min.

実差准脳 2−(R)−ベンジル−3−ベンジルメチルアミノカル
ボE−2−ベンジリデン−3−(モルホリノカルボニル
)プロピオン酸Zoo mg(0−64ミリモル)を、
無水メタノール3 ml中に溶解し、凍結脱気を3回行
なった。アルゴンガス雰囲気下、Ru (OAc) z
[(S)−binapJ2 mg(2,38X 10−
6モル)を加え、更に凍結脱気を3回繰り返し、この溶
液をカニュラーを用い、ステンレス・スチール・オート
クレーブに移し、水素圧を2気圧かけ、50℃にて48
時間攪拌した。48時間後、溶媒を減圧留去し、精製し
、標記光学活性化合物を、121 mg(60幻得た。
Zoo mg (0-64 mmol) of 2-(R)-benzyl-3-benzylmethylaminocarbo E-2-benzylidene-3-(morpholinocarbonyl)propionic acid,
It was dissolved in 3 ml of anhydrous methanol and freeze-degassed three times. Ru (OAc) z under argon gas atmosphere
[(S)-binapJ2 mg (2,38X 10-
6 mol) was added and freeze-degassed three times, and the solution was transferred to a stainless steel autoclave using a cannula and heated to 48°C at 50°C under 2 atmospheres of hydrogen pressure.
Stir for hours. After 48 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure and purified to obtain 121 mg (60 mg) of the title optically active compound.

従来に比べ、立体選択的に、不斉合成できた。Asymmetric synthesis was possible with stereoselectivity compared to conventional methods.

融点: 119−121℃ マススペクトル(m/e): 311(M”)、 12
0.91゜参考音牡 コハク酸ジエチル16.15 g(92,7ミリモル)
及び1−ナフトアルデヒド14.50 g(92,8ミ
リモル)を無水エタノール1.60 ml中に溶解し、
水冷下に5ば水素化ナトリウム5.35 gを加え、3
0分間加熱還流した。
Melting point: 119-121°C Mass spectrum (m/e): 311 (M”), 12
0.91゜ Reference diethyl succinate 16.15 g (92.7 mmol)
and 14.50 g (92.8 mmol) of 1-naphthaldehyde were dissolved in 1.60 ml of absolute ethanol,
Add 5.35 g of sodium hydride under water cooling,
The mixture was heated to reflux for 0 minutes.

更に、I規定水酸化ナトリウム水溶液115 mlを加
え、1時間加熱還流した。溶媒を減圧留去後、水を加え
てエーテル抽出を行なった。水層を濃塩酸にて酸性とし
た後、エーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、減圧留去した。残渣にベンゼンを加え
、析出結晶を濾取し、2−(1−ナフチルメチレン)コ
ハク酸15.3 gを得た。
Furthermore, 115 ml of IN aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was heated under reflux for 1 hour. After the solvent was distilled off under reduced pressure, water was added to perform ether extraction. The aqueous layer was made acidic with concentrated hydrochloric acid, and then extracted with ether. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and then evaporated under reduced pressure. Benzene was added to the residue, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 15.3 g of 2-(1-naphthylmethylene)succinic acid.

2−(1−ナフチルメチレン)コハク酸14.0 gに
無水酢酸150 mlを加え、60℃にて1時間加熱し
た。溶媒を減圧留去後、残渣にベンゼン:ヘキサン=1
:1の混合溶液を加え、析出結晶を濾取し、2−(1−
ナフチルメチレン)無水コハク酸8.78 gを得た。
150 ml of acetic anhydride was added to 14.0 g of 2-(1-naphthylmethylene)succinic acid and heated at 60°C for 1 hour. After distilling off the solvent under reduced pressure, benzene:hexane=1 is added to the residue.
: Add a mixed solution of 1, collect the precipitated crystals by filtration, and add 2-(1-
8.78 g of succinic anhydride (naphthylmethylene) was obtained.

次いで、この2−(1−ナフチルメチレン)無水コハク
酸5.00 g(21,0ミリモル)をメチレンクロリ
ド150 ml中に溶解し、モルホリン2.56 ml
(21,2ミリモル)を加え、室温にて2時間攪拌した
。溶媒を減圧留去後、残渣を酢酸エチル:ベンゼン:ヘ
キサン=1:1:1の混合溶媒にて結晶化を行ない、更
に、酢酸エチルにて再結晶を行ない、標記化合物を白色
結晶として、5.93 g(87幻を得た二融点二14
5−147℃ 元素分析値:C19H19NO4として計算値Cニア0
.14. H:5−89. N:4.31゜実測値C:
69.40. H:6.08. N:4.42゜質量分
析スペクトル(m/e): 325(M+)、 238
.165゜前記ホーニング等の方法に準じて、(F、)
−ベンジリデン無水コハク酸を合成した。
5.00 g (21.0 mmol) of this 2-(1-naphthylmethylene)succinic anhydride was then dissolved in 150 ml of methylene chloride, and 2.56 ml of morpholine
(21.2 mmol) was added and stirred at room temperature for 2 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was crystallized from a mixed solvent of ethyl acetate:benzene:hexane=1:1:1, and further recrystallized from ethyl acetate to obtain the title compound as white crystals. .93 g (2 melting points obtained 87 phantom 214
5-147℃ Elemental analysis value: Calculated value as C19H19NO4 C Near 0
.. 14. H:5-89. N: 4.31°Actual measurement value C:
69.40. H:6.08. N: 4.42° Mass spectrometry spectrum (m/e): 325 (M+), 238
.. 165° According to the method of honing, etc., (F,)
-Benzylidene succinic anhydride was synthesized.

この(E)−ベンジリデン無水コハク酸568 mg(
3.02ミリモル)をメチレンクロリド15m1中に溶
解し、更に、モルホリン0.4 ml(3,31ミリモ
ル)を加え、室温にて1時間攪拌後、2時間加熱遍流し
た。
This (E)-benzylidene succinic anhydride 568 mg (
3.02 mmol) was dissolved in 15 ml of methylene chloride, and further 0.4 ml (3.31 mmol) of morpholine was added, and after stirring at room temperature for 1 hour, the mixture was heated for 2 hours with constant flow.

酢酸エチルを加え、■規定塩酸、飽和食塩水にて順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。
Ethyl acetate was added, and the mixture was washed successively with normal hydrochloric acid and saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate.

溶媒を減圧上留去後、残渣を酢酸エチルにて再結晶し、
標記化合物を白色結晶として650 mg(73%)得
た。
After distilling off the solvent under reduced pressure, the residue was recrystallized from ethyl acetate.
650 mg (73%) of the title compound was obtained as white crystals.

融点: 123−1.24℃ 元素分析値:C15H17NO4として計算値C:65
,44. H:6.22. N:5.09゜実測値C:
65.07. H:6.27. N:5−21゜質量分
析スペクトル(m/e): 275(M+)、 188
.116゜え、室温にて1時間攪拌後、2時+?U加熱
還流した。
Melting point: 123-1.24℃ Elemental analysis value: Calculated value as C15H17NO4 C: 65
,44. H:6.22. N: 5.09° Actual value C:
65.07. H:6.27. N: 5-21° Mass spectrometry spectrum (m/e): 275 (M+), 188
.. 116°, after stirring at room temperature for 1 hour, 2 o'clock+? The mixture was heated to reflux.

酢酸エチルを加え、2規定塩酸、飽和食塩水にて順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。
Ethyl acetate was added, and the mixture was washed successively with 2N hydrochloric acid and saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate.

溶媒を減圧上留去後、残渣をイソプロピルエーテルにて
再結晶し、標記化合物を白色納品として3.1 g(6
3%)得た。
After distilling off the solvent under reduced pressure, the residue was recrystallized from isopropyl ether to obtain 3.1 g (6.0 g) of the title compound as a white product.
3%) obtained.

融点: 115−117℃ 元素分析値:C19H19NO3として計算値Cニア3
.77、 H:6.19. N:4.53゜実測値Cニ
ア3.90. H:6.29. N:4.51゜質量分
析スペクトル(I!l/e): 308(M+)。
Melting point: 115-117℃ Elemental analysis value: Calculated value as C19H19NO3 C Near 3
.. 77, H:6.19. N: 4.53° Actual value C near 3.90. H:6.29. N: 4.51° Mass spectrometry spectrum (I!l/e): 308 (M+).

特許出願人    三共株式会社 代理人 弁理士 大 野 彰 夫Patent applicant: Sankyo Co., Ltd. Agent: Patent Attorney Akio Ohno

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 R^1は、置換されていてもよいアリール基を示し、 R^2及びR^3は、同一又は異なって、水素原子、低
級アルキル基、置換された低級アルキル基(該置換基と
しては、保護されていてもよいアミノ基、モノ若しくは
ジ低級アルキル置換アミノ基、保護されていてもよい水
酸基、置換されていてもよいアリール基若しくは置換さ
れていてもよい炭素数3乃至8個のシクロアルキル基を
示す。)、置換されていてもよい炭素数3乃至8個のシ
クロアルキル基又はアミノ基の保護基を示すか、或いは
R^2及びR^3が一緒になって、炭素数2乃至6個の
アルキレン基又は酸素原子、硫黄原子若しくは窒素原子
で中断された炭素数2乃至6個のアルキレン基を示し、 R^4は、水素原子又は低級アルキル基を示す。]で表
わされる、α,β−不飽和カルボン酸誘導体を、不斉水
素化遷移金属触媒の存在下に還元することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1、R^2、R^3、R^4は、前記と同
意義を示し、*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる
光学活性な2−置換−3−アミノカルボニルプロピオン
酸の立体選択的製法。
[Claims] General formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (I) [In the formula, R^1 represents an optionally substituted aryl group, R^2 and R^3 are Same or different hydrogen atoms, lower alkyl groups, substituted lower alkyl groups (such substituents include optionally protected amino groups, mono- or di-lower alkyl substituted amino groups, optionally protected hydroxyl groups) , an optionally substituted aryl group or an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms), an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an amino group or R^2 and R^3 taken together represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, or an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, sulfur atom, or nitrogen atom. It represents an alkylene group, and R^4 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) ( In the formula, R^1, R^2, R^3, and R^4 have the same meanings as above, and * indicates an asymmetric carbon atom.) Optically active 2-substituted-3-amino Stereoselective method for producing carbonylpropionic acid.
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US5739373A (en) * 1992-11-20 1998-04-14 Monsanto Company Optically active phosphono analogs of succinates and synthesis thereof
US6316656B1 (en) 1992-06-15 2001-11-13 Monsanto Company Process for making optically active alpha-amino ketones and selected novel optically active alpha-amino ketones

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5654462A (en) * 1992-06-15 1997-08-05 Monsanto Company Process for making chiral alpha-amino phosphonates and selected novel chiral alpha-amino phosphonates
US5703263A (en) * 1992-06-15 1997-12-30 Monsanto Company Process for making chiral alpha-amino phosphonates and selected novel chiral alpha-amino phosphonates
US6316656B1 (en) 1992-06-15 2001-11-13 Monsanto Company Process for making optically active alpha-amino ketones and selected novel optically active alpha-amino ketones
US6541654B2 (en) 1992-06-15 2003-04-01 Monsanto Company Process for making optically active α-amino ketones and selected novel optically active α-amino ketones
US6849756B2 (en) 1992-06-15 2005-02-01 Monsanto Company Process for making optically active α-amino ketones and selected novel optically active α-amino ketones
US7211686B2 (en) 1992-06-15 2007-05-01 Pharmacia Corporation Process for making optically active α-amino ketones and selected novel optically active α-amino ketones
US5739373A (en) * 1992-11-20 1998-04-14 Monsanto Company Optically active phosphono analogs of succinates and synthesis thereof

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