JPH03214374A - 光変調器 - Google Patents
光変調器Info
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- JPH03214374A JPH03214374A JP1109790A JP1109790A JPH03214374A JP H03214374 A JPH03214374 A JP H03214374A JP 1109790 A JP1109790 A JP 1109790A JP 1109790 A JP1109790 A JP 1109790A JP H03214374 A JPH03214374 A JP H03214374A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光ニューラルネットワークに使用して好適な光変調器に
関し、 透過率を外部制御して学習の自在性を高めることを目的
とし、 起偏器および験偏器の間に、磁気ファラデー効果を利用
して偏光面の回転角を設定する少なくとも1層の透光層
とk層の透光層とを積層し、該k層の透光層の各層を多
数のセル構造とするとともに、該k層の層毎の偏光面の
回転角の大小関係を20から 2k−1まで異なるもの
に設定し、且つ、前記1層の透光層の偏光面の回転角を
所定の固定角に設定して構成したことを特徴とする。
関し、 透過率を外部制御して学習の自在性を高めることを目的
とし、 起偏器および験偏器の間に、磁気ファラデー効果を利用
して偏光面の回転角を設定する少なくとも1層の透光層
とk層の透光層とを積層し、該k層の透光層の各層を多
数のセル構造とするとともに、該k層の層毎の偏光面の
回転角の大小関係を20から 2k−1まで異なるもの
に設定し、且つ、前記1層の透光層の偏光面の回転角を
所定の固定角に設定して構成したことを特徴とする。
本発明は、光変調器に関し、特に、光ニューラルネット
ワークに使用して好適な光変調器に関する。
ワークに使用して好適な光変調器に関する。
生物の脳機能を模倣したニューラルネ.7トワークは、
ノイマン型コンピュータが不得意とするあいまいな問題
、例えば、パターン認識、音声の認識や合成、複雑な(
あるいは滑らかな)機械制御などに柔軟に適応できるこ
とから近年注目を集めており、既に、半導体技術による
ニューラルネットワーク用のV L S I (ve
ry large scale integratio
n)チンプが各所で作られている。
ノイマン型コンピュータが不得意とするあいまいな問題
、例えば、パターン認識、音声の認識や合成、複雑な(
あるいは滑らかな)機械制御などに柔軟に適応できるこ
とから近年注目を集めており、既に、半導体技術による
ニューラルネットワーク用のV L S I (ve
ry large scale integratio
n)チンプが各所で作られている。
しかし、半導体回路では、ニューラルネソトワークの基
本演算(積和演算)に時間がかかる、ニューロン間の結
線数が指数関数的に増大する配線問題が解決できない、
などの点で実用上の限界が指摘されている。
本演算(積和演算)に時間がかかる、ニューロン間の結
線数が指数関数的に増大する配線問題が解決できない、
などの点で実用上の限界が指摘されている。
そこで、こうした限界を一気に打破できるものとして、
光技術を使ったニューラルネソトワークが着目されてい
る。光ニューラルネノトワークは、光が持つ本質的な並
列性を利用するもので、ニューロン間の高密度相互結合
の実装や、各ニューロンへのシナプス入力の荷重和を高
速に演算する超並列ベクトル一行列積演算機能など、半
導体回路にはない種々の特長を有している。
光技術を使ったニューラルネソトワークが着目されてい
る。光ニューラルネノトワークは、光が持つ本質的な並
列性を利用するもので、ニューロン間の高密度相互結合
の実装や、各ニューロンへのシナプス入力の荷重和を高
速に演算する超並列ベクトル一行列積演算機能など、半
導体回路にはない種々の特長を有している。
第2図は従来の光ニューラルネソトワークの要部を示す
概念図で、1985年にN.H.Farhat, D.
Psaltisが発表した光学式ニューラルネソトシス
テムと同様の基本構成を存している。
概念図で、1985年にN.H.Farhat, D.
Psaltisが発表した光学式ニューラルネソトシス
テムと同様の基本構成を存している。
すなわち、n個の発光ダイオード(LED:Light
E+++itting Diode)からなるLED列
lOおよびm個のフォトダイオード(PD:Phote
Diode)からなるPD列11を備えるとともに、
これらのLED列10、PD列11の間に、シリンドリ
力ルレンズ12、13に挟まれた相互結合マトリソクス
光マスク(以下、華に光マスクという)14を備えて構
成している。
E+++itting Diode)からなるLED列
lOおよびm個のフォトダイオード(PD:Phote
Diode)からなるPD列11を備えるとともに、
これらのLED列10、PD列11の間に、シリンドリ
力ルレンズ12、13に挟まれた相互結合マトリソクス
光マスク(以下、華に光マスクという)14を備えて構
成している。
光マスク14に開けられた多数の穴(マスクパターン)
の形状を変えてLED列10からPD列11への光の透
過率をコントロールする。
の形状を変えてLED列10からPD列11への光の透
過率をコントロールする。
ここで、LEDからの光の強度をaJ (jはLED番
号、すなわちニューロン番号)、光マスク14の透過率
をTiJ(ijはマスクパターンのマトリクス番号)、
PDの受光強度をbH (iはPD番号、すなわちニ
ューロン番号)とすると、次式■に示すような積和演算
弐が成立する。
号、すなわちニューロン番号)、光マスク14の透過率
をTiJ(ijはマスクパターンのマトリクス番号)、
PDの受光強度をbH (iはPD番号、すなわちニ
ューロン番号)とすると、次式■に示すような積和演算
弐が成立する。
但し、n : LEDの数、
m:PDの数、
したがって、各ニューロンへのシナプス入力の荷重和を
高速に演算する超並列へクトルー行列積演算機能が実現
できるとともに、光が持つ本質的な並列性を利用してニ
ューロン間の相互結合を高密度に実装でき、半導体回路
によるニューラルネノトワークの問題、すなわち演算速
度および配線問題を一気に解決できる。
高速に演算する超並列へクトルー行列積演算機能が実現
できるとともに、光が持つ本質的な並列性を利用してニ
ューロン間の相互結合を高密度に実装でき、半導体回路
によるニューラルネノトワークの問題、すなわち演算速
度および配線問題を一気に解決できる。
しかしながら、かかる従来のものにあっては、ニューロ
ン間の結合荷重を、光マスク14に開けた穴の大小によ
って変えるものであったため、ニューラルネソトの学習
の際にはその都度光マスク14を取り替える必要があり
、学習の自在性といった面で解決すべき課題があった。
ン間の結合荷重を、光マスク14に開けた穴の大小によ
って変えるものであったため、ニューラルネソトの学習
の際にはその都度光マスク14を取り替える必要があり
、学習の自在性といった面で解決すべき課題があった。
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、
透過率を外部制御して学習の自在性を高めることを目的
としている。
透過率を外部制御して学習の自在性を高めることを目的
としている。
本発明は、上記目的を達成するために、起偏器および験
偏器の間に、磁気ファラデー効果を利用して偏光面の回
転角を設定する少なくとも1層の透光層とk層の透光層
とを積層し、該k層の透光層の各層を多数のセル構造と
するとともに、該k層の層毎の偏光面の回転角の大小関
係を20から2k−1まで異なるものに設定し、且つ、
前記1層の透光層の偏光面の回転角を所定の固定角に設
定して構成したことを特徴とする。
偏器の間に、磁気ファラデー効果を利用して偏光面の回
転角を設定する少なくとも1層の透光層とk層の透光層
とを積層し、該k層の透光層の各層を多数のセル構造と
するとともに、該k層の層毎の偏光面の回転角の大小関
係を20から2k−1まで異なるものに設定し、且つ、
前記1層の透光層の偏光面の回転角を所定の固定角に設
定して構成したことを特徴とする。
ここで、上記起偏器は光軸に平行する平面内においての
み振動する平面偏光だけを通す別名偏光子ともよばれて
いるものであり、また、一方の験偏器は両者の位置関係
に応して起偏器からの平面偏光の通過度合を変化させる
別名検光子ともよばれているもので、起偏器と験偏器が
平行ニコルの位置関係にあるときに最犬の通過量となり
、千行ニコルから90度回転した交差ニコルの位置関係
にあるときに最小の通過量となる。
み振動する平面偏光だけを通す別名偏光子ともよばれて
いるものであり、また、一方の験偏器は両者の位置関係
に応して起偏器からの平面偏光の通過度合を変化させる
別名検光子ともよばれているもので、起偏器と験偏器が
平行ニコルの位置関係にあるときに最犬の通過量となり
、千行ニコルから90度回転した交差ニコルの位置関係
にあるときに最小の通過量となる。
さらに、磁気ファラデー効果とは、磁場により物質の光
学的性質が変化する磁気光学効果のひとつで、透明物質
を磁場中に置き、磁場に平行に直線偏光を伝播させると
光の偏光面が回転(旋光という)する現象をいう。
学的性質が変化する磁気光学効果のひとつで、透明物質
を磁場中に置き、磁場に平行に直線偏光を伝播させると
光の偏光面が回転(旋光という)する現象をいう。
〔作用]
本発明では、起偏器からの直線偏光が磁気ファラデー効
果により旋光操作され、この旋光量に応して験偏器から
取り出される光量が調節ざれる。
果により旋光操作され、この旋光量に応して験偏器から
取り出される光量が調節ざれる。
すなわち、全ての透光層に対してそれぞれ所定の磁場を
セル単位で独立に与え偏光面の回転角を所定値に設定す
るとともに、各回転方向を右旋または左旋とすれば各透
光層の回転角が加算あるいは減算されて上記旋光量が調
整される。
セル単位で独立に与え偏光面の回転角を所定値に設定す
るとともに、各回転方向を右旋または左旋とすれば各透
光層の回転角が加算あるいは減算されて上記旋光量が調
整される。
しかも、この調整は、k層の異なる回転角の組合せ(2
’通り)に従って2′′段階に多段化され、これにより
、結合荷重のきめ細かな学習が行われる。
’通り)に従って2′′段階に多段化され、これにより
、結合荷重のきめ細かな学習が行われる。
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明に係る光変調器の一実施例を示す図であ
る。
る。
まず、構成を説明する。第1図において、20は図外の
LEDで発生した光を直線偏光に変換する起偏器(ある
いは偏光子ともいう)としての第1偏光板、21は第1
偏光板20に対してほぼ交差ニコルの位置関係にある験
偏器(あるいは検光子ともいう)としての第2偏光板で
あり、第2偏光板21を通過した直線偏光は図外のPD
で受光され、その光量に応じた大きさの電気信号に変換
される。
LEDで発生した光を直線偏光に変換する起偏器(ある
いは偏光子ともいう)としての第1偏光板、21は第1
偏光板20に対してほぼ交差ニコルの位置関係にある験
偏器(あるいは検光子ともいう)としての第2偏光板で
あり、第2偏光板21を通過した直線偏光は図外のPD
で受光され、その光量に応じた大きさの電気信号に変換
される。
ここで、交差ニコルの位置とは、起偏器からの直線偏光
を最大に通過させることのできる千行ニコルの位置から
90度回転した位置をいい、起偏器からの直線偏光をそ
のままで験偏器に与えた場合にその通過量が最小となる
位置をいう。
を最大に通過させることのできる千行ニコルの位置から
90度回転した位置をいい、起偏器からの直線偏光をそ
のままで験偏器に与えた場合にその通過量が最小となる
位置をいう。
第1偏光板20と第2偏光板2lの間には、磁性材料(
例えば、Bi−辺換ガーネソト; B i)( Dy:+−x Ga, F es−y 0
12%または、Ce一置換置換ガーネット; CeX Dyz−x Gay F es−y O+z、
などの強磁性磁気光学物質)から成る第1がら第4まで
の透光層22〜25が介装されており、これらの各層間
は透明誘電体層26〜28によって絶縁されている。
例えば、Bi−辺換ガーネソト; B i)( Dy:+−x Ga, F es−y 0
12%または、Ce一置換置換ガーネット; CeX Dyz−x Gay F es−y O+z、
などの強磁性磁気光学物質)から成る第1がら第4まで
の透光層22〜25が介装されており、これらの各層間
は透明誘電体層26〜28によって絶縁されている。
上記4層の透光層22〜25のうち第1から第3までの
3層(k層)の透光層22〜24は例えばnXm個のセ
ルから成り、セル境界にはX−Y導線(図示略)を敷設
している。
3層(k層)の透光層22〜24は例えばnXm個のセ
ルから成り、セル境界にはX−Y導線(図示略)を敷設
している。
各X−Y導線を外部の例えば電流供給回路に接続し、任
意のX−Y導線対を選択してその導線に電流を供給する
と、各々の導線の回りに電流の大きさと向きに応した磁
場が発生し、その結果、導線対の交差する(但し、互い
に絶縁されている)点付近の領域において、各々の導線
の回りの磁場が互いに打ち消し合う箇所と互いに強め合
う箇所とが発生するが、強め合った箇所におけるトータ
ルの磁場が磁性体の保持力を上回るように設定すること
により、その箇所を含む特定セルの磁化の向きをその磁
場と平行、あるいは反平行の向きに従わせ、もって、交
点に位置する特定セルの偏光面の回転角を所定角度に設
定できる。このとき、2個以上のセルが同時に磁化反転
するのを防ぐために、電流供給と同時に外部(ハイアス
)磁場を印加するζとが望ましい場合もある。なお、第
4透光[25については、磁化は常に一定方向を向いて
おり、固定的な回転角を与える。
意のX−Y導線対を選択してその導線に電流を供給する
と、各々の導線の回りに電流の大きさと向きに応した磁
場が発生し、その結果、導線対の交差する(但し、互い
に絶縁されている)点付近の領域において、各々の導線
の回りの磁場が互いに打ち消し合う箇所と互いに強め合
う箇所とが発生するが、強め合った箇所におけるトータ
ルの磁場が磁性体の保持力を上回るように設定すること
により、その箇所を含む特定セルの磁化の向きをその磁
場と平行、あるいは反平行の向きに従わせ、もって、交
点に位置する特定セルの偏光面の回転角を所定角度に設
定できる。このとき、2個以上のセルが同時に磁化反転
するのを防ぐために、電流供給と同時に外部(ハイアス
)磁場を印加するζとが望ましい場合もある。なお、第
4透光[25については、磁化は常に一定方向を向いて
おり、固定的な回転角を与える。
ここで、磁気ファラデー効果による物質の偏光面の回転
角θは、一般に次弐■で表される。
角θは、一般に次弐■で表される。
θ一VHj2・・・・・・■
但し、Hは磁場(物質が磁性体の場合は磁化)の強さ、
lは磁場に平行な光の伝播距離、■はベルデ定数で物質
の種類や波長によって決まる。
lは磁場に平行な光の伝播距離、■はベルデ定数で物質
の種類や波長によって決まる。
本実施例では、第l透光層22、第2透光層23、第3
透光層24および第4透光層25の各回転角θI〜θ4
を次のように設定する。但し、k層のθ1〜θ3につい
ては、ひとつの透光層を構成するn×m個のセルの回転
7角を表している。
透光層24および第4透光層25の各回転角θI〜θ4
を次のように設定する。但し、k層のθ1〜θ3につい
ては、ひとつの透光層を構成するn×m個のセルの回転
7角を表している。
θ1→+5度あるいは−5度を必要に応じて設定、θ2
→+10度あるいは−10度を必要に応じて設定、θ3
→+20度あるいは−20度を必要に応じて設定、θ4
→+35度あるいは−35度(固定値)但し、土は時計
回りの回転角(右旋)、は反時計回りの回転角(左旋)
、 すなわち、θ1からθ3までの設定回転角の大小関係は
、施光方向を揃えた場合に、θ1に対してθ2が2倍、
θ,が4倍となり、セル構造の透光層の数が本実施例で
はk=3であるから、θ1−20 θ2=21 θ Jk−1 の関係になる。
→+10度あるいは−10度を必要に応じて設定、θ3
→+20度あるいは−20度を必要に応じて設定、θ4
→+35度あるいは−35度(固定値)但し、土は時計
回りの回転角(右旋)、は反時計回りの回転角(左旋)
、 すなわち、θ1からθ3までの設定回転角の大小関係は
、施光方向を揃えた場合に、θ1に対してθ2が2倍、
θ,が4倍となり、セル構造の透光層の数が本実施例で
はk=3であるから、θ1−20 θ2=21 θ Jk−1 の関係になる。
次に、作用を説明する。
(1)今、第1透光層22から第3透光層24まての設
定回転角を全て右旋(+)設定値にすると、直線偏光の
施光量は、 (+5)・・・・・・第1透光層22の右旋回転角+(
+lO)・・・・・・第2透光fi23の右旋回転角+
(+20)・・・・・・第3透光層24の右旋回転角+
(+35)・・・・・・第4透光層25の右旋回転角=
+70度となり、右旋操作される。
定回転角を全て右旋(+)設定値にすると、直線偏光の
施光量は、 (+5)・・・・・・第1透光層22の右旋回転角+(
+lO)・・・・・・第2透光fi23の右旋回転角+
(+20)・・・・・・第3透光層24の右旋回転角+
(+35)・・・・・・第4透光層25の右旋回転角=
+70度となり、右旋操作される。
(II)あるいは、第1透光層22から第3透光N24
までの設定回転角を全て左旋(−)設定値にすると、直
線偏光の施光量は、 (−5)・・・・・一第1透光層22の左旋回転角+
(−10)・・・・・・第2透光層23の左旋回転角十
(−20)・・・・・・第3透光層24の左旋回転角十
(+35)・・・・・・第4透光層25の右旋回転角=
0度となり、旋光操作されない。
までの設定回転角を全て左旋(−)設定値にすると、直
線偏光の施光量は、 (−5)・・・・・一第1透光層22の左旋回転角+
(−10)・・・・・・第2透光層23の左旋回転角十
(−20)・・・・・・第3透光層24の左旋回転角十
(+35)・・・・・・第4透光層25の右旋回転角=
0度となり、旋光操作されない。
すなわち、旋光操作の量は、上記(I)を最大、(II
)を最小として与えられ、さらに、第1透光Ji22か
ら第3透光層24の回転角を適宜組み合わせて設定すれ
ば、表1に示すように、最大(70度)から最小(O度
)まで、10度刻みに2k (本実施例では23=8)
通りの多段階に旋光操作できる。
)を最小として与えられ、さらに、第1透光Ji22か
ら第3透光層24の回転角を適宜組み合わせて設定すれ
ば、表1に示すように、最大(70度)から最小(O度
)まで、10度刻みに2k (本実施例では23=8)
通りの多段階に旋光操作できる。
したがって、第1偏光仮20と第2偏光板21とが交差
ニコルの位置にあるので、例えば旋光操作量を最小(0
度)とし・た場合には、第2偏光板21を通過する光量
が最小となる一方、旋光操作量を最大(70度)とした
場合には、第2偏光板2lを通過する光量が最大となり
、2k通りの多段階に光の透過率を調節できる。
ニコルの位置にあるので、例えば旋光操作量を最小(0
度)とし・た場合には、第2偏光板21を通過する光量
が最小となる一方、旋光操作量を最大(70度)とした
場合には、第2偏光板2lを通過する光量が最大となり
、2k通りの多段階に光の透過率を調節できる。
ニューロン間の結合荷重に応じて、第1から第3透光層
22〜24のセルを選択するとともに、当該選択セルの
回転角を適宜設定すれば、21′通りの荷重値を設定で
き、その結果、透過率を外部制御して学習の自在性を高
めることができる効果が得られる。
22〜24のセルを選択するとともに、当該選択セルの
回転角を適宜設定すれば、21′通りの荷重値を設定で
き、その結果、透過率を外部制御して学習の自在性を高
めることができる効果が得られる。
なお、本実施例では、透光層を4層としているが、この
数に限定されるものではなく、4層以上の多層であって
もよい。
数に限定されるものではなく、4層以上の多層であって
もよい。
また、第1偏光板20と第2偏光板21とを交差ニフル
の位置関係にしているが、千行ニコルの位置関係であっ
てもよい。この場合には、旋光操作量を最小(0度)と
した場合には、第2偏光板21を通過する光量が最大(
上記実施例では最小)になる一方、旋光操作量を最大(
70度)とした場合には、第2偏光板21を通過する光
量が最小(上記実施例では最大)になる。
の位置関係にしているが、千行ニコルの位置関係であっ
てもよい。この場合には、旋光操作量を最小(0度)と
した場合には、第2偏光板21を通過する光量が最大(
上記実施例では最小)になる一方、旋光操作量を最大(
70度)とした場合には、第2偏光板21を通過する光
量が最小(上記実施例では最大)になる。
[発明の効果]
本発明によれば、上記のように構成したので、透過率を
2k通りの多段階に外部制御でき、結合荷重をきめ細か
く外部設定して学習の自在性を高めることができる。
2k通りの多段階に外部制御でき、結合荷重をきめ細か
く外部設定して学習の自在性を高めることができる。
第1図は本発明に係る光変調器の一実施例を示すその構
成図、 第2図は従来の光変調器を示すその概念構成図である。 20・・・・・・第1偏光板(起偏器)、21・・・・
・・第2偏光板(験偏器)、22〜24・・・・・・第
1〜第3透光層(k層の透光層) 25・・・・・・第4透光層(1層の透光層)表1
成図、 第2図は従来の光変調器を示すその概念構成図である。 20・・・・・・第1偏光板(起偏器)、21・・・・
・・第2偏光板(験偏器)、22〜24・・・・・・第
1〜第3透光層(k層の透光層) 25・・・・・・第4透光層(1層の透光層)表1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 起偏器および験偏器の間に、 磁気ファラデー効果を利用して偏光面の回転角を設定す
る少なくとも1層の透光層とk層の透光層とを積層し、 該k層の透光層の各層を多数のセル構造とするとともに
、 該k層の層毎の偏光面の回転角の大小関係を2^0から
2^k^−^1まで異なるものに設定し、且つ、前記1
層の透光層の偏光面の回転角を所定の固定角に設定して
構成したことを特徴とする光変調器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1109790A JPH03214374A (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | 光変調器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1109790A JPH03214374A (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | 光変調器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03214374A true JPH03214374A (ja) | 1991-09-19 |
Family
ID=11768501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1109790A Pending JPH03214374A (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | 光変調器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03214374A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002029477A1 (fr) * | 2000-10-04 | 2002-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Attenuateur optique variable |
-
1990
- 1990-01-19 JP JP1109790A patent/JPH03214374A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002029477A1 (fr) * | 2000-10-04 | 2002-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Attenuateur optique variable |
EP1326126A1 (en) * | 2000-10-04 | 2003-07-09 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Optical variable attenuator |
EP1326126A4 (en) * | 2000-10-04 | 2004-06-09 | Mitsubishi Electric Corp | VARIABLE OPTICAL ATTENUATOR |
US6792192B1 (en) | 2000-10-04 | 2004-09-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Optical variable attenuator |
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