JPH03195992A - Radiation detector - Google Patents

Radiation detector

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Publication number
JPH03195992A
JPH03195992A JP1334773A JP33477389A JPH03195992A JP H03195992 A JPH03195992 A JP H03195992A JP 1334773 A JP1334773 A JP 1334773A JP 33477389 A JP33477389 A JP 33477389A JP H03195992 A JPH03195992 A JP H03195992A
Authority
JP
Japan
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voltage
detection element
radiation detection
semiconductor radiation
radiation
Prior art date
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Pending
Application number
JP1334773A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Ishibashi
石橋 三男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH03195992A publication Critical patent/JPH03195992A/en
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Abstract

PURPOSE:To correct energy characteristics through an electrical method by applying cyclic voltage, for changing the voltage according to predetermined variation characteristics to a semiconductor radiation detection element, as a bias voltage. CONSTITUTION:A semiconductor radiation detection element 1 is formed into a three-layer structure but a cycle voltage generator 7 cyclically showing voltage change of a predetermined function is connected between an intermediate layer 1b and a cathode layer 1c and this cyclical voltage is applied as bias voltage. Usually, when the bias voltage applied across the intermediate layer 1b and the cathode layer 1c is increased and the peak value of detection output is reduced, a pulse having low peak generated by the mutual action with radiation of low energy can be set at the discrimination voltage of a peak discriminating and setting device 6 or lower and a signal is cut by a peak discriminator 5. By controlling the output of the detection element 1 through this constitution, a radiation detection characteristic can be made flat. Therefore, the bias voltage applied across the intermediate layer 1b and the cathode layer 1C is cyclically changed using the generator 7.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は原子力施設において放射線の強度を監視測定す
る放射線モニタ装置等に使用する半導体放射線検出装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Purpose of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor radiation detection device used in a radiation monitoring device or the like for monitoring and measuring the intensity of radiation in a nuclear facility.

(従来の技術) 原子力施設において、放射線の強度を監視測定する放射
線モニタ装置には、電離箱のような高圧電圧を必要とし
ない小型な半導体放射線検出器が使用されているものが
ある。
(Prior Art) Some radiation monitor devices for monitoring and measuring the intensity of radiation in nuclear facilities use small semiconductor radiation detectors that do not require high voltages like ionization chambers.

半導体放射線検出器は半導体により陽極層1a。The semiconductor radiation detector has an anode layer 1a made of semiconductor.

中間層1b、陰極層1cの3層構造に構成された素子を
使用しており、この半導体放射線検出素子に数V乃至数
十V程度の直流電圧を印加しておくことにより、この半
導体放射線検出素子に放射線が入射すると、その放射線
エネルギにより、半導体に電子・正孔対が発生する。そ
して、発生した電子・正孔対のうち、電子は陽極側に、
そして、正孔は陰極側に集められる結果、半導体放射線
検出器の陽極−陰極間にパルス状の電流が流れることに
なり、これが放射線検出信号となる。
This semiconductor radiation detection element uses a three-layer structure consisting of an intermediate layer 1b and a cathode layer 1c.By applying a DC voltage of several volts to several tens of volts to this semiconductor radiation detection element, this semiconductor radiation detection can be performed. When radiation is incident on a device, the radiation energy generates electron-hole pairs in the semiconductor. Of the generated electron-hole pairs, the electrons are on the anode side,
As a result of the holes being collected on the cathode side, a pulsed current flows between the anode and the cathode of the semiconductor radiation detector, and this becomes a radiation detection signal.

半導体放射線検出器はこのような半導体放射線検出素子
の出力をアンプにより増幅し、波高弁別器にて設定値以
上のレベルの出力を弁別して抽出し、この抽出出力を検
出出力として得る構成としである。
A semiconductor radiation detector has a structure in which the output of such a semiconductor radiation detection element is amplified by an amplifier, the output with a level higher than a set value is discriminated and extracted by a pulse height discriminator, and this extracted output is obtained as a detection output. .

ところで、半導体放射線検出器はその使用する半導体放
射線検出素子の応答特性の関係上、第6図に符号aを付
して示すように、半導体放射線検出器の出力計数率と放
射線エネルギの関係は0.1 [MeV]程度の低エネ
ルギの領域にピークが生じる傾向がある。これは放射線
散乱等により、このエネルギ領域の雑音成分放射線が多
いこと、このエネルギ領域に対して敏感に反応すること
(応答が良いこと)等による。
By the way, due to the response characteristics of the semiconductor radiation detection element used in the semiconductor radiation detector, the relationship between the output count rate and the radiation energy of the semiconductor radiation detector is 0, as indicated by the symbol a in FIG. There is a tendency for a peak to occur in a low energy region of about .1 [MeV]. This is due to the fact that there is a large amount of noise component radiation in this energy range due to radiation scattering, etc., and that it reacts sensitively to this energy range (good response).

一方、測定する放射線のエネルギは不特定であり、その
ために高精度の放射線検出を行うには、測定対象とする
全エネルギ領域に対してフラットな放射線検出特性が要
求される。
On the other hand, the energy of the radiation to be measured is unspecified, and therefore, in order to perform highly accurate radiation detection, flat radiation detection characteristics are required for the entire energy range to be measured.

すなわち、一般に第6図に符号すを付して示すように、
エネルギ依存性の小さい特性を有していることが要求さ
れる。
That is, as generally indicated by the reference numeral in FIG. 6,
It is required to have characteristics with low energy dependence.

そこで、この検出エネルギ特性改善のため、従来は金属
性キャップを検出素子に被せる方法が用いられていた。
Therefore, in order to improve the detection energy characteristics, a method of covering the detection element with a metal cap has conventionally been used.

これは、散乱線はエネルギレベルが低いので、金属によ
るキャップで検出素子を覆うことにより、低エネルギの
放射線を吸収させ、半導体放射線検出器に検出させない
ようにするものである。
This is because scattered radiation has a low energy level, so by covering the detection element with a metal cap, the low-energy radiation is absorbed and not detected by the semiconductor radiation detector.

(発明が解決しようとする課題) 放射線モニタ装置は、測定する放射線のエネルギは不特
定であるため、一般に測定対象とする放射線の全エネル
ギ領域に対して放射線検出器はフラットな検出特性が要
求され、それ故、使用する半導体放射線検出器はエネル
ギ依存性の小さい特性を有していることが要求される。
(Problem to be Solved by the Invention) Since the energy of the radiation to be measured by the radiation monitor device is unspecified, the radiation detector is generally required to have flat detection characteristics for the entire energy range of the radiation to be measured. , Therefore, the semiconductor radiation detector used is required to have characteristics with low energy dependence.

しかしながら、放射線モニタ装置に使用される半導体放
射線検出器は一般的に低エネルギの領域に対して検出感
度が高い傾向にある。そこで、エネルギ依存性の小さい
検出器とするために、従来は放射線検出素子周囲に金属
キャップを取り付ける方法が採用されていた。
However, semiconductor radiation detectors used in radiation monitoring devices generally tend to have high detection sensitivity in low energy regions. Therefore, in order to obtain a detector with low energy dependence, a method of attaching a metal cap around the radiation detection element has conventionally been adopted.

この方法は金属の吸収特性(低エネルギの放射線を吸収
し易い)を利用し、材質・厚さ・スリット等のパラメー
タを選定し、検出器出力にエネルギ依存性の小さい特性
を得ることを特徴としている。
This method utilizes the absorption characteristics of metals (easily absorbing low-energy radiation), selects parameters such as material, thickness, and slits, and is characterized by obtaining characteristics with low energy dependence in the detector output. There is.

しかし、この方法は、検出素子の特性によっては、厚い
金属層を必要とする場合があり、重量が大きくなる問題
がある。また、−旦、製作後は調整する手段がないので
、放射線検出素子毎の特性のばらつきや経時的な変化を
補正するには前記金属性キャップを作り変えなければな
らないと云う欠点がある。
However, this method may require a thick metal layer depending on the characteristics of the detection element, resulting in a problem of increased weight. Furthermore, since there is no adjustment means after manufacturing, there is a drawback that the metal cap must be remade in order to correct variations in characteristics of each radiation detection element and changes over time.

そこで、この発明の目的とするところは、電気的な方法
でエネルギ特性を補正することができるようにした半導
体放射線検出装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, it is an object of the present invention to provide a semiconductor radiation detection device that can correct energy characteristics using an electrical method.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明は次のように構成する
。すなわち、半導体放射線検出素子を検出素子として使
用した放射線検出装置において、前記半導体放射線検出
素子の検出特性に合わせ、電圧を所定の変化特性を以て
変化させる周期電圧を発生する周期電圧発生手段を用い
、この発生周期電圧を前記半導体放射線検出素子にバイ
アス電圧として与えるように構成する。
[Configuration of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows. That is, in a radiation detection device using a semiconductor radiation detection element as a detection element, a periodic voltage generating means for generating a periodic voltage that changes the voltage with a predetermined change characteristic in accordance with the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element is used. The generated periodic voltage is configured to be applied to the semiconductor radiation detection element as a bias voltage.

(作 用) このような構成において、半導体放射線検出素子の検出
特性に合わせ、電圧を所定の変化特性を以て変化させる
周期電圧を発生する周期電圧発生手段を用い、この発生
した周期電圧を前記半導体放射線検出素子にバイアス電
圧として与える。
(Function) In such a configuration, a periodic voltage generating means that generates a periodic voltage that changes the voltage with predetermined change characteristics in accordance with the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element is used, and the generated periodic voltage is applied to the semiconductor radiation detection device. Apply as a bias voltage to the detection element.

半導体放射線検出素子は与えるバイアス電圧を変化させ
ることにより、その検出するエネルギ特性を変化させる
ことができるので、これを利用して、半導体放射線検出
素子の検出特性を所望特性に改善するようにしたもので
あり、半導体放射線検出素子の検出特性に合わせ、ピー
クが発生するエネルギ領域の検出感度が他のエネルギ領
域とほぼ等しくなるように検出感度を落とすべく、最適
な電圧変化とその変化周期となるように周期電圧発生手
段を設定して半導体放射線検出素子にバイアス電圧とし
て与えるようにすることで、検出特性が放射線のエネル
ギに影響されることなく、フラットな検出特性にするこ
とができる。
The semiconductor radiation detection element can change the energy characteristics it detects by changing the applied bias voltage, so this is utilized to improve the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element to desired characteristics. In order to reduce the detection sensitivity so that the detection sensitivity in the energy region where the peak occurs is almost equal to that in other energy regions, the voltage change and its change period are optimized to match the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element. By setting the periodic voltage generating means to apply it to the semiconductor radiation detection element as a bias voltage, the detection characteristics can be made flat without being affected by the energy of the radiation.

本発明では3層構造を有する半導体放射線検出素子に一
定電圧を印加しておくと、放射線が入射した時点で半導
体放射線検出素子内部に放射線との相互作用で電子・正
孔対出来るが、半導体放射線検出素子の中間層の電圧レ
ベルを変化させると、この電子・正孔対の収集効率が変
わる特性を利用している。そして、この収集効率の変化
で出力パルス波高を変えることができるので、不必要に
多く出力されていた波高のパルスを一定の周期で弁別レ
ベルより小さいパルス波高に制御すれば、後は波高弁別
手段でカットできるので、事実上、半導体放射線検出素
子の検出特性が入射放射線のエネルギ如何によらず、フ
ラットとなる。
In the present invention, when a constant voltage is applied to a semiconductor radiation detection element having a three-layer structure, electron-hole pairs are generated inside the semiconductor radiation detection element by interaction with the radiation at the time of incidence of radiation, but the semiconductor radiation This method utilizes the characteristic that the collection efficiency of electron-hole pairs changes when the voltage level of the intermediate layer of the detection element is changed. The output pulse height can be changed by changing the collection efficiency, so if the pulse height that has been outputted unnecessarily is controlled to a pulse height smaller than the discrimination level at a constant cycle, then the pulse height discriminator As a result, the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element become flat regardless of the energy of the incident radiation.

そのため、半導体放射線検出素子の有する放射線の応答
の高い所を多くカットする方向に中間層の電圧制御の速
度を調節することにより、放射線のエネルギに依存しな
い特性の半導体放射線検出装置を得ることができるよう
なる。
Therefore, by adjusting the voltage control speed of the intermediate layer in the direction of cutting off many of the parts of the semiconductor radiation detection element with high radiation response, it is possible to obtain a semiconductor radiation detection device with characteristics that do not depend on the radiation energy. That's how it is.

このように、本発明は半導体放射線検出素子に与えるバ
イアス電圧を変化させることにより、その検出するエネ
ルギ特性を変化させることができることを利用して、半
導体放射線検出素子の検出特性を所望特性に改善するよ
うにしたものであり、半導体放射線検出素子の検出特性
に合わせた周期電圧を発生する周期電圧発生手段を使用
して、電圧変化の速度を調整することで半導体放射線検
出器に与えるバイアス電圧を変えるようにしたものであ
るから、従来のように半導体放射線検出素子の検出特性
を改善するための金属性キャップを使用する必要がなく
なり、これにより、製作後の素子のばらつきや素子特性
の経時変化に対して、特別な改造を行うことなく、単に
周期電圧発生手段の出力特性の調整で対応することがで
きるようになる。
As described above, the present invention utilizes the fact that by changing the bias voltage applied to a semiconductor radiation detection element, the detected energy characteristics can be changed, and improves the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element to desired characteristics. This device uses a periodic voltage generation means that generates a periodic voltage that matches the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element, and changes the bias voltage applied to the semiconductor radiation detector by adjusting the speed of voltage change. This eliminates the need to use a metal cap to improve the detection characteristics of semiconductor radiation detection elements, which is required in the past. On the other hand, it becomes possible to cope with this problem by simply adjusting the output characteristics of the periodic voltage generating means without any special modification.

(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。第
1図は本発明の一実施例示すブロック図である。第1図
において、1は半導体放射線検出素子であり、陽極層1
a、中間層1b、陰極層1cの3層からなる。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a semiconductor radiation detection element, and an anode layer 1
It consists of three layers: a, an intermediate layer 1b, and a cathode layer 1c.

本装置はこのような3層を有する半導体放射線検出素子
1の一方の極側(陽極層1a)は抵抗2を介して正極電
圧+V(例えば、数V乃至数+V程度)に接続し、他方
の極を接地することにより、一定電圧を印加しである。
In this device, one pole side (anode layer 1a) of the semiconductor radiation detection element 1 having three layers is connected to a positive pole voltage +V (for example, about several V to several +V) via a resistor 2, and the other pole side (anode layer 1a) is By grounding the pole, a constant voltage is applied.

また、半導体放射線検出素子1と抵抗2の間にコンデン
サ3を接続し、さらにコンデンサ3はプリアンプ4を介
して波高弁別器5に接続する。波高弁別器5には波高弁
別設定器6が接続してあり、波高弁別器5はこの波高弁
別設定器6により設定された基準値を基準に、該基準を
越える入力があったときに出力を出す構成となっている
Further, a capacitor 3 is connected between the semiconductor radiation detection element 1 and the resistor 2, and the capacitor 3 is further connected to a pulse height discriminator 5 via a preamplifier 4. A wave height discrimination setter 6 is connected to the wave height discriminator 5, and the wave height discriminator 5 outputs an output when there is an input exceeding the reference value based on the reference value set by the wave height discrimination setter 6. It is configured to be released.

なお、半導体放射線検出素子1は3層構造となっている
が、中間層tbと陰極層1cとの間に所定関数の電圧変
化を周期的に示す周期電圧発生器7を接続し、この周期
的な電圧をバイアスとして印加する構成としである。
Note that the semiconductor radiation detection element 1 has a three-layer structure, and a periodic voltage generator 7 that periodically shows a voltage change of a predetermined function is connected between the intermediate layer tb and the cathode layer 1c. This configuration applies a voltage as a bias.

このような構成において、半導体放射線検出素子1に放
射線が入射すると素子内部に電子・正孔対が生成される
。そして、電子は陽極側(陽極層la側)に、また、正
孔は陰極側(陰極層1c)に集められる結果、半導体放
射線検出素子1にパルス状の電流が流れる。これにより
、抵抗2と半導体放射線検出素子1の間の電圧がパルス
状に変化し、これはコンデンサ3を通してプリアンプ4
に送られ、このプリアンプ4で増幅される。そして、こ
の増幅された信号は波高弁別回路5に与えられ、波高弁
別回路5は波高弁別設定器6により与えられる基準値を
越える入力信号を弁別して出力する。
In such a configuration, when radiation is incident on the semiconductor radiation detection element 1, electron-hole pairs are generated inside the element. Then, electrons are collected on the anode side (anode layer la side) and holes are collected on the cathode side (cathode layer 1c), so that a pulsed current flows through the semiconductor radiation detection element 1. As a result, the voltage between the resistor 2 and the semiconductor radiation detection element 1 changes in a pulsed manner, and this changes through the capacitor 3 to the preamplifier 4.
and is amplified by this preamplifier 4. This amplified signal is then given to a pulse height discrimination circuit 5, which discriminates and outputs an input signal exceeding a reference value given by a pulse height discrimination setter 6.

これを利用して、ノイズレベル以下をカットする。Use this to cut below the noise level.

ここで、半導体放射線検出素子1は中間層1bと陰極層
1cとの間にバイアス電圧を加えると、入射放射線によ
り生じた電子・正孔対の収集の割合は該バイアス電圧レ
ベルに応じて変わる性質を持っている。
Here, the semiconductor radiation detection element 1 has a property that when a bias voltage is applied between the intermediate layer 1b and the cathode layer 1c, the collection ratio of electron-hole pairs generated by the incident radiation changes depending on the bias voltage level. have.

そして、本装置では中間層1bと陰極層ICとの間に加
えるバイアス電圧は、所定関数の電圧変化を周期的に示
す周期電圧発生器7により供給する構成としである。
In this device, the bias voltage applied between the intermediate layer 1b and the cathode layer IC is supplied by a periodic voltage generator 7 that periodically shows voltage changes according to a predetermined function.

この結果、中間層tbに与える電圧の変化に伴って、半
導体放射線検出索子1出力の波高値は変化することにな
る。
As a result, the peak value of the output of the semiconductor radiation detection probe 1 changes as the voltage applied to the intermediate layer tb changes.

通常、中間層1bと陰極層1cとの間に加えるバイアス
電圧を大きくして、検出出力の波高値を小さくすると、
低エネルギの放射線との相互作用で生じた低い波高のパ
ルスを波高弁別回路6の弁別電圧以下とすることができ
、波高弁別回路5で信号カットすることができる。
Normally, when the bias voltage applied between the intermediate layer 1b and the cathode layer 1c is increased to reduce the peak value of the detection output,
A pulse with a low wave height generated by interaction with low-energy radiation can be made lower than the discrimination voltage of the wave height discrimination circuit 6, and the signal can be cut by the wave height discrimination circuit 5.

これを利用して本装置では半導体放射線検出索子1の出
力を制御することで放射線検出特性をフラットにしよう
とするものである。そのために、本装置では周期電圧発
生器7を使用して中間層tbと陰極層1cとの間に加え
るバイアス電圧を周期的に変化させる。
Taking advantage of this, this device attempts to flatten the radiation detection characteristics by controlling the output of the semiconductor radiation detection probe 1. To this end, this device uses a periodic voltage generator 7 to periodically change the bias voltage applied between the intermediate layer tb and the cathode layer 1c.

この周期的〆変化は測定しようとするエネルギ範囲や使
用する半導体放射線検出素子に応じて最適なものとする
が、−例をあげると第4図の如きである。
This periodic change is optimal depending on the energy range to be measured and the semiconductor radiation detection element used, and an example is as shown in FIG.

すなわち、第4図では半導体放射線検出器の検出特性が
第6図のaの如きであるので、これを補正すべく該aの
特性曲線に近似した関数を使用している例を示している
。第4図では変化の繰り返し周期はおよそ100 m5
ec程度である。
That is, in FIG. 4, since the detection characteristic of the semiconductor radiation detector is as shown in a in FIG. 6, an example is shown in which a function approximating the characteristic curve a is used to correct this. In Figure 4, the repetition period of change is approximately 100 m5.
It is about ec.

このような周期関数的に変化する電圧を周期電圧発生器
7で発生させ、バイアスとして半導体放射線検出器1に
与えると、第5図のような出力となり、ピークとなるエ
ネルギレベルの放射線の検出出力は抑制され、目的とす
る波高パルスを周期電圧発生器7で発生させたバイアス
変化に対応する所定の割合だけカットすることができる
When such a voltage that changes in a periodic manner is generated by the periodic voltage generator 7 and applied as a bias to the semiconductor radiation detector 1, the output shown in Fig. 5 is obtained, which is the detected output of radiation at the peak energy level. is suppressed, and the target pulse height can be cut by a predetermined proportion corresponding to the bias change generated by the periodic voltage generator 7.

このように、半導体放射線検出器1に与えるバイアス電
圧の変化を適切な関数で変化させることで、第6図のa
の特性をbの特性へと、検出特性を変えることができる
In this way, by changing the bias voltage applied to the semiconductor radiation detector 1 according to an appropriate function, a
The detection characteristic can be changed from the characteristic of b to the characteristic of b.

このように、本装置は半導体放射線検出器に与えるバイ
アス電圧を変化させることにより、その検出するエネル
ギ特性を変化させることができることを利用して、半導
体放射線検出器の検出特性を所望特性に改善するように
したものであり、半導体放射線検出器の検出特性に合わ
せた周期電圧を発生する周期電圧発生器を使用して、電
圧変化の速度を調整することで半導体放射線検出器に与
えるバイアス電圧を変えるようにしたものである。
In this way, this device improves the detection characteristics of the semiconductor radiation detector to desired characteristics by utilizing the fact that the detected energy characteristics can be changed by changing the bias voltage applied to the semiconductor radiation detector. It uses a periodic voltage generator that generates a periodic voltage that matches the detection characteristics of the semiconductor radiation detector, and changes the bias voltage applied to the semiconductor radiation detector by adjusting the speed of voltage change. This is how it was done.

従って、従来のように半導体放射線検出器の検出特性を
改善するための金属性キャップを使用する必要がなくな
り、これにより、製作後の素子のばらつきや素子特性の
経時変化に対して、特別な改造を行うことなく、バイア
ス電圧調整のみで対応することができるようになる。
Therefore, it is no longer necessary to use a metal cap to improve the detection characteristics of semiconductor radiation detectors as in the past. This makes it possible to deal with this problem only by adjusting the bias voltage.

以上の実施例は、半導体放射線検出器に与えるバイアス
電圧を、中間層tbと陰極層fcとの間に加える構成と
したものであった。しかし、第2図および第3図のよう
な構成とすることもできる。
In the embodiments described above, the bias voltage applied to the semiconductor radiation detector was applied between the intermediate layer tb and the cathode layer fc. However, configurations such as those shown in FIGS. 2 and 3 may also be used.

m2図は半導体放射線検出素子1の陽極層1aと中間層
1bの間に周期電圧発生器7を取り付けた構成としたも
のである。また、第3図は中間層1bを中心に、陽極1
a、陰極IC両方に周期電圧発生器7を取り付けた構成
としたものである。
Figure m2 shows a configuration in which a periodic voltage generator 7 is attached between the anode layer 1a and the intermediate layer 1b of the semiconductor radiation detection element 1. In addition, FIG. 3 shows an anode 1 centered on the intermediate layer 1b.
a) This is a configuration in which a periodic voltage generator 7 is attached to both cathode ICs.

このようにすると、放射線との相互作用で発生した電子
・正孔対の収集を制御し、エネルギ特性を改善させると
云う点で第1図の構成と同じ作用効果を示す。
This arrangement exhibits the same effect as the configuration shown in FIG. 1 in that the collection of electron-hole pairs generated by interaction with radiation is controlled and the energy characteristics are improved.

尚、本発明は上記し、且つ、図面に示す実施例に限定す
ることなく、その要旨を変更しない範囲内で適宜変形し
て実施し得るものである。
It should be noted that the present invention is not limited to the embodiments described above and shown in the drawings, but can be implemented with appropriate modifications within the scope without changing the gist thereof.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、検出素子の特性
に合わせて電気的な調節のみで、入射放射線に対する応
答特性を改善でき、どのエネルギ領域においてもフラッ
トな検出特性を得ることができるようになり、測定精度
が向上する他、半導体放射線検出素子の特性のばらつき
や、使用後の経時変化に対しても電気的な調節だけでエ
ネルギ特性の改善が図れるなど、事後の保守や調整も容
品な放射線検出装置を提供することができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the response characteristics to incident radiation can be improved simply by electrical adjustment according to the characteristics of the detection element, and flat detection characteristics can be achieved in any energy range. In addition to improving measurement accuracy, it is now possible to improve energy characteristics simply by electrically adjusting the characteristics of semiconductor radiation detection elements and changes over time after use. A radiation detection device that is easy to maintain and adjust can be provided.

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図お
よび第3図は本発明の他の実施例を示すブロック図、第
4図は本装置に使用する周期電圧発生器の出力電圧波形
例を示す図、第5図は半導体放射線検出素子の検出出力
例を示す図、第6図は一般的な半導体放射線検出素子の
放射線エネルギー出力計数率の特性例を示す図である。 1・・・半導体放射線検出素子、2・・・抵抗、3・・
・コンデンサ、4・・・プリアンプ、5・・・波高弁別
器、6・・・波高弁別設定器、7・・・周期電圧発生器
[Brief Description of the Drawings] Fig. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention, Figs. 2 and 3 are block diagrams showing other embodiments of the present invention, and Fig. 4 is a block diagram showing an embodiment of the present invention. Figure 5 is a diagram showing an example of the output voltage waveform of a periodic voltage generator, Figure 5 is a diagram showing an example of the detection output of a semiconductor radiation detection element, and Figure 6 is a characteristic example of the radiation energy output count rate of a general semiconductor radiation detection element. FIG. 1... Semiconductor radiation detection element, 2... Resistor, 3...
- Capacitor, 4... Preamplifier, 5... Wave height discriminator, 6... Wave height discrimination setting device, 7... Periodic voltage generator.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体放射線検出素子を検出素子として使用した
放射線検出装置において、 前記半導体放射線検出素子の検出特性に合わせ、電圧を
所定の変化特性を以て変化させる周期電圧を発生する周
期電圧発生手段を用い、この発生周期電圧を前記半導体
放射線検出素子にバイアス電圧として与えるようにした
ことを特徴とする放射線検出装置。
(1) In a radiation detection device using a semiconductor radiation detection element as a detection element, using a periodic voltage generation means that generates a periodic voltage that changes the voltage with predetermined change characteristics in accordance with the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element, A radiation detection device characterized in that the generated periodic voltage is applied to the semiconductor radiation detection element as a bias voltage.
(2)周期電圧発生手段は前記半導体放射線検出素子の
検出特性に合わせ、該半導体放射線検出素子の有する放
射線の応答の高い所を多くカットすべく発生電圧の変化
速度を設定することを特徴とする請求項(1)記載の放
射線検出装置。
(2) The periodic voltage generating means is characterized in that the rate of change of the generated voltage is set in accordance with the detection characteristics of the semiconductor radiation detection element so as to cut out many areas of the semiconductor radiation detection element where the response of radiation is high. The radiation detection device according to claim (1).
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014531574A (en) * 2011-08-30 2014-11-27 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ Photon counting detector

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