JPH03193785A - Pyrrolothiazole derivative - Google Patents

Pyrrolothiazole derivative

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JPH03193785A
JPH03193785A JP1335400A JP33540089A JPH03193785A JP H03193785 A JPH03193785 A JP H03193785A JP 1335400 A JP1335400 A JP 1335400A JP 33540089 A JP33540089 A JP 33540089A JP H03193785 A JPH03193785 A JP H03193785A
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JP
Japan
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group
lower alkyl
alkyl group
acid
pyridyl
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Pending
Application number
JP1335400A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyasu Mase
間瀬 年康
Hitoshi Nagaoka
長岡 均
Yutaka Kondo
裕 近藤
Kenichi Tomioka
健一 富岡
Toshimitsu Yamada
山田 利光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:The pyridyl-1H,3H-pyrrolo[1,2-c]thiazole derivative of formula I [R<1> is lower hydroxyalkyl, lower alkoxy-lower alkyl, aryloxy-lower alkyl, formyl (lower alkyl), etc.; R<2> is H or lower alkyl]. EXAMPLE:7-(Hydroxymethyl)-3-(3-pyridyl)-1H,3H-pyrrolo[1,2-c]thiazole of formula II. USE:Antagonist of platelet activation factor(PAF). PREPARATION:The objective compound can be produced by reducing a compound of formula III [A is single bond or 1-5C alkylene; R<3> is COOH, COOR<4> (R<4> is ester residue or anhydride-constituting residue), -COX (X is halogen) or -CONH2] with a reducing agent such as aluminum hydride optionally in an inert solvent such as ether.

Description

【発明の詳細な説明】 皮星上Ω肌■分立 本発明は、血小板活性化因子(PAF)拮抗作用を有す
る新規なピリジルピロロチアゾール誘導体及びその塩に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to novel pyridylpyrrolothiazole derivatives and salts thereof having platelet activating factor (PAF) antagonistic activity.

従来少肢歪 PAFは、ヒトおよび動物の細胞より放出される化学物
質であり、下記式で示されるホスホリルコリンのアセチ
ルグリセリルエーテルである。
Conventional oligolimb strain PAF is a chemical substance released from human and animal cells, and is acetylglyceryl ether of phosphorylcholine represented by the following formula.

CLO(CHJr CHs 一 (式中、lは15または17を意味する。)PAFは、
気道平滑筋の収縮、血管透過性の亢進、血小板の凝集、
血圧降下等の生理活性を有し、喘息、炎症、血栓症、腎
炎、シラツク等の諸症状を惹き起こす因子と考えられて
いる。それ故、PAFの生理活性に拮抗する物質の研究
が進められており、幾つかの抗PAF薬が報告されてい
る(例えば、特開昭59−134798号、特開昭61
−93191号、特開昭60−116679号、特開昭
60−142932号、特開昭59−134798号、
特開昭61−87684号、特開昭61−37726号
、特開昭63−22588号、特開昭63−22589
号)。
CLO (CHJr CHs - (in the formula, l means 15 or 17) PAF is:
airway smooth muscle contraction, increased vascular permeability, platelet aggregation,
It has physiological activities such as lowering blood pressure, and is thought to be a factor that causes various symptoms such as asthma, inflammation, thrombosis, nephritis, and chronic illness. Therefore, research into substances that antagonize the physiological activity of PAF is underway, and several anti-PAF drugs have been reported (for example, JP-A-59-134798, JP-A-61
-93191, JP 60-116679, JP 60-142932, JP 59-134798,
JP 61-87684, JP 61-37726, JP 63-22588, JP 63-22589
issue).

本発明者は、従来の抗PAF薬と化学構造を異にする新
規なピリジルピロロチアゾール誘導体及びその塩に優れ
た抗PAF活性を認め、本発明を完成するに至った。
The present inventors have found that a novel pyridylpyrrolothiazole derivative and its salt, which have a different chemical structure from conventional anti-PAF drugs, have excellent anti-PAF activity, and have completed the present invention.

i   ”l るための 本発明のピリジルピロロチアゾール誘導体は次の一般式
(I)で示される。
The pyridylpyrrolothiazole derivative of the present invention for use in i''l is represented by the following general formula (I).

t (式中、R1は、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アル
コキシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アルキル
基、アリールオキシ低級アルキル基、低級アルカノイル
オキシ低級アルキル基、アリール低級アルカノイルオキ
シ低級アルキル基、アリールカルボニルオキシ低級アル
キル基、アルケニル基、アリールアルケニル基、ホルミ
ル基及びホルミル低級アルキル基よりなる群から選択さ
れる基を、R2は水素原子または低級アルキル基をそれ
ぞれ示す)で示されるピリジル−Il(,3H−ピロロ
(1,2−C)チアゾール誘導体またはその塩。
t (wherein R1 is a hydroxy lower alkyl group, a lower alkoxy lower alkyl group, an aralkyloxy lower alkyl group, an aryloxy lower alkyl group, a lower alkanoyloxy lower alkyl group, an aryl lower alkanoyloxy lower alkyl group, an arylcarbonyloxy lower Pyridyl-Il (,3H-pyrrolo (1,2-C)thiazole derivative or salt thereof.

本発明化合物を更に詳細に説明すると以下の通りである
A more detailed explanation of the compound of the present invention is as follows.

本明細書の一般式の定義において、特に断わらない限り
、「低級」なる用語は炭素数が1乃至6個の直鎖または
分岐状の炭素鎖を意味する。
In the definition of the general formula herein, unless otherwise specified, the term "lower" means a straight or branched carbon chain having 1 to 6 carbon atoms.

ヒドロキシ低級アルキル基としては、低級アルキル基の
任意の水素がヒドロキシル基で置換された基を意味し、
低級アルキル基としては、具体的には例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、5ec−ブチル基、tert−ブチル基、
ペンチル(アミル)基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−
メチルブチル基、1゜2−ジメチルプロピル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メ
チルペンチル基、3−メチルペンチル基、1.1−ジメ
チルブチル基、1゜2−ジメチルブチル基、2,2−ジ
メチルブチル基、13−ジメチルブチル基、2,3−ジ
メチルブチル基、3゜3−ジメチルブチル基、1−エチ
ルブチル基、2−エチルブチル基、1,1.2− トリ
メチルプロピル基、1,2゜2−トリメチルプロピル基
、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2
−メチルプロピル基等が挙げられる。従って、ヒドロキ
シ低級アルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒド
ロキシエチル基、ヒドロキシプロピル等を例示すること
ができる。
The hydroxy lower alkyl group means a group in which any hydrogen of a lower alkyl group is substituted with a hydroxyl group,
Specifically, the lower alkyl group includes, for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, 5ec-butyl group, tert-butyl group,
Pentyl (amyl) group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-
Methylbutyl group, 1゜2-dimethylpropyl group, hexyl group, isohexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 1.1-dimethylbutyl group, 1゜2-dimethylbutyl group , 2,2-dimethylbutyl group, 13-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3゜3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1.2-trimethylpropyl group , 1,2゜2-trimethylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2
-Methylpropyl group and the like. Therefore, examples of the hydroxy lower alkyl group include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, and a hydroxypropyl group.

低級アルコキシ低級アルキル基は、前記した低級アルキ
ル基の任意の水素原子がメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキ
シ基、5ec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペ
ンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチル
オキシ基、tert−ペンチルオキシ基、ペンチルオキ
シ不等炭素数1乃至6個の直鎖又は分岐状のアルコキシ
基で置換された基が挙げられる。従って、低級アルコキ
シ低級アルキル基は、低級アルコキシ基としてメトキシ
基を例にとると、メトキシメチル基、メトキシエチル基
、メトキシプロピル基等を挙げることができる。
The lower alkoxy lower alkyl group is a lower alkyl group in which any hydrogen atom of the above lower alkyl group is a methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, 5ec-butoxy group, tert-butoxy group, or pentyloxy group. , isopentyloxy group, neopentyloxy group, tert-pentyloxy group, pentyloxy group substituted with a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Therefore, examples of the lower alkoxy lower alkyl group include, for example, a methoxy group, a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, a methoxypropyl group, and the like.

アラルキルオキシ低級アルキル基は、前記した低級アル
キル基の任意の水素原子が、アラルキルオキシ基で置換
された基を意味する。
The aralkyloxy lower alkyl group means a group in which any hydrogen atom of the above lower alkyl group is substituted with an aralkyloxy group.

そして、アラルキルオキシ基は前記低級アルコキシ基の
任意の水素原子が後記アリール基で置換した基を意味し
、例えばアリール基としてフェニル基で例示すればベン
ジルオキシ基、フェネチルオキシ基、1−フェニルエト
キシ基、3−フェニルプロポキシ基、2−フェニルプロ
ポキシ基、1−フエニルプロボキシ基、1−メチル−2
−フェニルエトキシ基、4−フェニルブトキシ基、3−
フェニルブトキシ基、2−フェニルブトキシ基、1−フ
ェニルブトキシ基、2−メチル−3−フェニルプロポキ
シ基、2−メチル−2−フェニルプロポキシ基、2−メ
チル−1−フェニルプロポキシ基、1−メチル−3−フ
ェニルプロポキシ基、1−メチル−2−フェニルプロポ
キシ基、■メチルー1−フェニルプロポキシ基、1−エ
チル−2フエニルエトキシ基、1.1−ジメチル−2−
フェニルエトキシ基、5−フェニルペンチルオキシ基、
6−フエニルヘキジルオキシ基などが挙げられる。従っ
て、アラルキルオキシ低級アルキル基は、アラルキルオ
キシ基としてヘンシルオキシ基を例にとるとベンジルオ
キシメチル基、ベンジルオキシエチル基、ベンジルオキ
シプロピル基等を挙げることができる。
The aralkyloxy group means a group in which any hydrogen atom of the lower alkoxy group is substituted with an aryl group described below. Examples of the aryl group include a phenyl group such as a benzyloxy group, a phenethyloxy group, and a 1-phenylethoxy group. , 3-phenylpropoxy group, 2-phenylpropoxy group, 1-phenylproboxy group, 1-methyl-2
-phenylethoxy group, 4-phenylbutoxy group, 3-
Phenylbutoxy group, 2-phenylbutoxy group, 1-phenylbutoxy group, 2-methyl-3-phenylpropoxy group, 2-methyl-2-phenylpropoxy group, 2-methyl-1-phenylpropoxy group, 1-methyl- 3-phenylpropoxy group, 1-methyl-2-phenylpropoxy group, ■Methyl-1-phenylpropoxy group, 1-ethyl-2-phenylethoxy group, 1,1-dimethyl-2-
phenylethoxy group, 5-phenylpentyloxy group,
Examples include 6-phenylhexyloxy group. Therefore, examples of the aralkyloxy lower alkyl group include a benzyloxymethyl group, a benzyloxyethyl group, a benzyloxypropyl group, and the like, for example, a henzyloxy group.

アリールオキシ低級アルキル基は、低級アルキル基の任
意の水素原子がアリールオキシ基で置換された基を意味
する。
The aryloxy lower alkyl group means a lower alkyl group in which any hydrogen atom is substituted with an aryloxy group.

そしてアリール基は特に断わらない限り、炭素環アリー
ル基またはへテロ環アリール基の両者を意味する。
Unless otherwise specified, the aryl group means both a carbocyclic aryl group and a heterocyclic aryl group.

炭素環アリール基には、具体的には例えば、フェニル基
、トリル基、キシキル基、ビフェニル基、ナフチル基、
アントリル基、フェナントリル基等の基や、低級アルコ
キシフェニル基、クロルフェニル基、ニトロフェニル基
等があり、またへテロ環アリール基には、ピリジル基、
ピリミジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基等を
好適なものとして例示することができる。
Specifically, the carbocyclic aryl group includes, for example, a phenyl group, a tolyl group, a xyl group, a biphenyl group, a naphthyl group,
There are groups such as anthryl group, phenanthryl group, lower alkoxyphenyl group, chlorphenyl group, nitrophenyl group, etc., and heterocyclic aryl group includes pyridyl group,
Suitable examples include a pyrimidyl group, a pyrrolyl group, a furyl group, and a thienyl group.

従って、アリールオキシ基としては、フェニルオキシ基
、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ビフェニルオキ
シ基、ナフチルオキシ基などの炭素環アリールオキシ基
、ピリジルオキシ基、ピリミジルオキシ基などのへテロ
環アリールオキシ基等が挙げられる。
Therefore, examples of the aryloxy group include carbocyclic aryloxy groups such as phenyloxy, tolyloxy, xylyloxy, biphenyloxy, and naphthyloxy groups, and heterocyclic aryloxy groups such as pyridyloxy and pyrimidyloxy groups. It will be done.

従って、アリールオキシ低級アルキル基は、フェニル基
やピリジル基で例示すれば、フェノキシメチル基、フェ
ノキシエチル基、フェノキシプロピル基やピリジルオキ
シメチル基、ピリジルオキシエチル基、ピリジルオキシ
プロビル基等を挙げることができる。
Therefore, examples of aryloxy lower alkyl groups include phenyl and pyridyl groups, such as phenoxymethyl, phenoxyethyl, phenoxypropyl, pyridyloxymethyl, pyridyloxyethyl, and pyridyloxypropyl groups. I can do it.

低級アルカノイルオキシ低級アルキル基は、低級アルキ
ル基の任意の水素が低級アルカノイルオキシ基で置換さ
れた基を意味する。低級アルカノイルオキシ基には、ホ
ルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基
、ブチリルオキシ基、バレリルオキシ基等を例示するこ
とができる。従って、低級アルカノイルオキシ低級アル
キル基としては、アセチル基で例示すれば、アセトキシ
メチル基、アセトキシエチル基、アセトキシプロピル基
等を挙げることができる。
A lower alkanoyloxy lower alkyl group means a lower alkyl group in which any hydrogen is substituted with a lower alkanoyloxy group. Examples of the lower alkanoyloxy group include a formyloxy group, an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, and a valeryloxy group. Therefore, examples of the lower alkanoyloxy lower alkyl group include an acetyl group, such as an acetoxymethyl group, an acetoxyethyl group, and an acetoxypropyl group.

アリール低級アルカノイルオキシ低級アルキル基は、前
記の低級アルカノイルオキシ低級アルキル基の中の低級
アルカノイル基の任意の水素がアリール基で置換された
基を意味する。従って、アリール低級アルカノイルオキ
シ低級アルキル基としては、例えばアリール基としてフ
ェニル基を例にとると、ベンジルカルボニルオキシメチ
ル基、ベンジルカルボニルオキシエチル基、ベンジルカ
ルボニルオキシプロビル基等を挙げることができる。
The aryl lower alkanoyloxy lower alkyl group means a group in which any hydrogen of the lower alkanoyl group in the above-mentioned lower alkanoyloxy lower alkyl group is substituted with an aryl group. Therefore, examples of the aryl lower alkanoyloxy lower alkyl group include, for example, a phenyl group as an aryl group, a benzylcarbonyloxymethyl group, a benzylcarbonyloxyethyl group, a benzylcarbonyloxyprobyl group, and the like.

アリールカルボニルオキシ低級アルキル基は、低級アル
キル基の任意の水素原子がアリールカルボキシ基で置換
された基を意味する。このような基としては、例えばア
リール基としてフェニル基を例にとると、ベンゾイルオ
キシメチル基、ヘンジイルオキシエチル基、ヘンゾイル
オキシブロピル基等を挙げることができる。
The arylcarbonyloxy lower alkyl group means a lower alkyl group in which any hydrogen atom is substituted with an arylcarboxy group. Examples of such a group include, for example, a phenyl group as an aryl group, a benzoyloxymethyl group, a hendyloxyethyl group, a hendyloxypropyl group, and the like.

アルケニル基は、炭素数2〜12を有するアルケニル基
を用いることが望ましく、このような基としては、例え
ばエチニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、
1−ブテニルL 2−フチニル基、2−メチルプロペニ
ル基、1−ペンテニル基、2〜ペンテニル基、3−ペン
テニル基、1−へキセニル基、2−ヘキセニル基、3−
へキセニル基、4−ヘキセニル基、1−へブテニル基、
2−へブテニル基、3−へブテニル基、4−へブテニル
基、5−へブテニル基、2−オクテニル基、3−オクテ
ニル基、4−オクテニル基、5−オクテニル基、6−オ
クテニル基、3−ノネニル基、4ノネニル基、5−ノネ
ニル基、6−ノネニル基、4−デセニル基、5−ドデセ
ニル基、6−ウンデセニル基等を挙げることができる。
As the alkenyl group, it is preferable to use an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, and examples of such groups include ethynyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group,
1-Butenyl L 2-phthynyl group, 2-methylpropenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-
hexenyl group, 4-hexenyl group, 1-hebutenyl group,
2-hebutenyl group, 3-hebutenyl group, 4-hebutenyl group, 5-hebutenyl group, 2-octenyl group, 3-octenyl group, 4-octenyl group, 5-octenyl group, 6-octenyl group, 3 -nonenyl group, 4-nonenyl group, 5-nonenyl group, 6-nonenyl group, 4-decenyl group, 5-dodecenyl group, 6-undecenyl group and the like.

アリールアルケニル基は、炭素数2〜6よりなる前記ア
ルケニル基の任意の水素原子がアリール基で置換された
基を意味し、アリール基としてフェニル基ヲ例にとると
、フェニルエチニル基、フェニルプロペニル基、フェニ
ルブテニル基、フェニルメチルプロペニル基等を挙げる
ことができる。
The arylalkenyl group means a group in which any hydrogen atom of the alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms is substituted with an aryl group. Taking a phenyl group as an example of an aryl group, phenylethynyl group, phenylpropenyl group , phenylbutenyl group, phenylmethylpropenyl group, and the like.

またホルミル低級アルキル基は、低級アルキル基の任意
の水素原子がホルミル基で置換された基を意味し、この
ような基としてホルミルメチル基、ホルミルエチル基、
ホルミルプロピル基等を例示することができる。
Further, formyl lower alkyl group means a group in which any hydrogen atom of a lower alkyl group is substituted with a formyl group, and examples of such groups include formylmethyl group, formylethyl group,
A formylpropyl group and the like can be exemplified.

本発明化合物(1)は塩を形成する。本発明には化合物
(1)の塩が包含される。このような塩としては具体的
には、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ化
水素酸等の鉱酸や、酢酸、シュウ酸、コハク酸、クエン
酸、マレイン酸、リンゴ酸、フマール酸、酒石酸、ピク
リン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の有機
酸との酸付加塩、グルタミン酸、アスパラギン酸等のア
ミノ酸との塩、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル
等のハロゲン化アルキルとの結合による第4級アンモニ
ウム塩等が挙げられる。
The compound (1) of the present invention forms a salt. The present invention includes salts of compound (1). Examples of such salts include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrobromic acid, and hydroiodic acid, as well as acetic acid, oxalic acid, succinic acid, citric acid, maleic acid, and apple acid. acids, acid addition salts with organic acids such as fumaric acid, tartaric acid, picric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, salts with amino acids such as glutamic acid and aspartic acid, methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide, etc. Examples include quaternary ammonium salts formed by bonding with alkyl halides.

本発明化合物には、不斉炭素原子に基づく光学異性体や
二重結合の存在に基づく幾何異性体など各種の異性体が
存在する。本発明は、それらの異性体の分離されたもの
および各異性体の混合物を包含する。
The compound of the present invention has various isomers such as optical isomers based on asymmetric carbon atoms and geometric isomers based on the presence of double bonds. The present invention includes separated versions of these isomers as well as mixtures of each isomer.

本発明化合物(I)は、基本骨格及び種々の置換基の特
徴を利用して種々の合成法を適用することによって製造
することができる0次に、その代表的製造法を例示する
Compound (I) of the present invention can be produced by applying various synthetic methods utilizing the characteristics of the basic skeleton and various substituents.A typical method for producing the compound (I) will be exemplified below.

第1製法 キル基、ヘンシル、フェネチル、トリチルなどのアラル
キル基などの基を例示することができる。
Examples of the first production method include groups such as a kyl group, and an aralkyl group such as hensyl, phenethyl, and trityl.

また無水物構成残基には、次式で示される基、アルキル
炭酸残基もしくは有機スルホン酸残基などを例示するこ
とができる。
Examples of the anhydride-constituting residue include a group represented by the following formula, an alkyl carbonate residue, and an organic sulfonic acid residue.

2 (Ia) 〔ただし、式中、R2は水素原子または低級アルキル基
を、Aは単結合または炭素数1〜5の低級アルキレン基
(メチレン、エチレン、メチルメチレン、トリメチレン
、1−プロピレン、2−プロピレン、テトラメチレン、
1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、3
−メチルトリメチレン、ペンタメチレン、1−メチルテ
トラメチレン、2−メチルテトラメチレン、3−メチル
テトラメチレン、などの基)を示す。
2 (Ia) [In the formula, R2 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, and A is a single bond or a lower alkylene group having 1 to 5 carbon atoms (methylene, ethylene, methylmethylene, trimethylene, 1-propylene, 2- propylene, tetramethylene,
1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 3
- methyltrimethylene, pentamethylene, 1-methyltetramethylene, 2-methyltetramethylene, 3-methyltetramethylene, etc.).

また、R3は−COOI(−COOR’−COXまたは
−CONToなどの基(R’は、エステル残基または無
水物構成残基を示す。エステル残基には、前記した低級
アルまた、Xは、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原
子を示す。)を示す〕 還元処理は、金属水素化物や金属水素化錯体などの還元
剤による還元を用いることができる。
In addition, R3 is a group such as -COOI (-COOR'-COX or -CONTo) (R' represents an ester residue or an anhydride-constituting residue. Indicates a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom.) The reduction treatment can be performed using a reducing agent such as a metal hydride or a metal hydride complex.

上記還元剤には、水素化アルミニウム、水素化リチウム
アルミニウム、ジイソブチル水素化アルミニウム、ジ(
2−メトキシエトキシ)水素化アルミニウムナトリウム
、トリメトキシ水素化リチウムアルミニウム、ジポラン
など、場合によっては水素化ホウ素ナトリウム、水素ホ
ウ素ナトリウム−塩化アルミニウムなどを使用すること
もできる。
The above reducing agents include aluminum hydride, lithium aluminum hydride, diisobutyl aluminum hydride, di(
(2-methoxyethoxy) sodium aluminum hydride, trimethoxy lithium aluminum hydride, diporan, etc. In some cases, sodium borohydride, sodium borohydride-aluminum chloride, etc. can also be used.

これらの還元反応は、常法により、無溶媒または必要に
応じエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグ
リム、ベンゼン、メタノール、ヘキサメチルホスホリッ
クトリアミドなどの反応に不活性な溶媒中で行われる。
These reduction reactions are carried out by conventional methods without a solvent or, if necessary, in a solvent inert to the reaction such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, benzene, methanol, hexamethylphosphoric triamide, or the like.

第2製法 処理することが望ましい。酸化剤としては、重クロム酸
ピリジニウム、クロム酸ピリジニウム、クロム酸ピリジ
ニウム塩化物、クロム酸グラファイト、重クロム酸−硫
酸、四酢酸鉛ピリジニウムなどが用いられる。特に、酸
化の進み過ぎによるカルボン酸の副生を防ぐために、適
切な酸化剤を選択することが望ましい。
It is desirable to perform the second manufacturing method treatment. As the oxidizing agent, pyridinium dichromate, pyridinium chromate, pyridinium chromate chloride, graphite chromate, dichromic acid-sulfuric acid, lead pyridinium tetraacetate, etc. are used. In particular, it is desirable to select an appropriate oxidizing agent in order to prevent carboxylic acid from being produced as a by-product due to excessive oxidation.

第3製法 2 (I b) (式中、R2及びAは前記の定義と同様である。)本発
明の式(Ib)で表される化合物は種々の方法で合成す
ることができる。弐Ha)で表される化合物を出発物質
とするときは、第2製法に示すように酸化処理によって
合成するのが好適である。
Third Production Method 2 (Ib) (In the formula, R2 and A are the same as defined above.) The compound represented by the formula (Ib) of the present invention can be synthesized by various methods. When the compound represented by 2Ha) is used as a starting material, it is preferable to synthesize it by oxidation treatment as shown in the second production method.

酸化処理は、常法によって酸化剤で酸化し、水2 (Ic) (式中、R2及びAは、前記の定義と同様である。The oxidation treatment is carried out by oxidizing with an oxidizing agent and adding water 2 (Ic) (In the formula, R2 and A are the same as defined above.

R5は、フェニル基、低級アルキル基または低級アルコ
キシ基を、R6は、フェニル基または低級アルキル基を
、またXIは、沃素原子、臭素原子、塩素原子等のハロ
ゲンを表す) 本発明におけるアルケニル誘導体(Ic)は、化合物(
Ib)を原料とするときは、これにホスホニウム塩(I
II)を反応させるヴイティッヒ(Wittig)反応
によって合成することが好ましい。
R5 represents a phenyl group, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group; R6 represents a phenyl group or a lower alkyl group; and XI represents a halogen such as an iodine atom, a bromine atom, or a chlorine atom). Ic) is the compound (
When Ib) is used as a raw material, it is added with a phosphonium salt (Ib).
II) is preferably synthesized by the Wittig reaction.

この反応は、溶媒中において塩基の存在下室温乃至加温
下で等モル反応によって行われる。
This reaction is carried out in an equimolar reaction in a solvent in the presence of a base at room temperature or at elevated temperature.

溶媒には、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ
ド、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロルメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、エーテル、テトラヒドロフ
ラン等の反応不活性有機溶媒や水が用いられる。
Solvents include dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, benzene, toluene, xylene, dichloromethane,
Reaction-inert organic solvents such as chloroform, carbon tetrachloride, ether, and tetrahydrofuran, and water are used.

また、塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ト
リメチルアミン、1,5−ジアザビシクロ(4,3,0
)ノネン、カリウムt−ブトキシドなどのアルコラード
、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチ
ウムなどが挙げられる。
In addition, examples of the base include sodium hydride, sodium hydroxide, sodium carbonate, triethylamine, trimethylamine, 1,5-diazabicyclo(4,3,0
) nonene, alcoholades such as potassium t-butoxide, methyllithium, n-butyllithium, phenyllithium, and the like.

また、反応は、不活性ガス雰囲気中で行い、化合物(I
[I)を等モルよりや\多く用いる方が望ましい。
Moreover, the reaction was carried out in an inert gas atmosphere, and the compound (I
It is preferable to use more than equimolar amount of [I).

第4製法 R2(Id) (式中、R″及びAは、前記の定義と同様である。Fourth manufacturing method R2(Id) (wherein R″ and A are the same as defined above.

R7は、低級アルキル基、アラルキル基またはアリール
基を示す)。
R7 represents a lower alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group).

本発明におけるエーテル化合物(Id)は、ヒドロキシ
アルキルピロロチアゾール誘導体(Ia)とアルコール
またはフェノール(TV)とを、トリフェニルホスフィ
ン、ジエチルアゾジカルボキシレートの存在下に反応さ
せるMitsunobu反応によって合成することが好
ましい。
The ether compound (Id) in the present invention can be synthesized by the Mitsunobu reaction in which the hydroxyalkylpyrrolothiazole derivative (Ia) and alcohol or phenol (TV) are reacted in the presence of triphenylphosphine and diethyl azodicarboxylate. preferable.

この反応は、化合物(Ia)と化合物(IV)とを等モ
ル乃至化合物(■)をや−過剰に用い、溶媒としてエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の不活性有機溶媒を用い、冷却下乃
至室温下で行うことが望ましい。
This reaction uses equimolar amounts of compound (Ia) and compound (IV) to a slight excess of compound (■), and an inert organic solvent such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, benzene, toluene, or xylene as a solvent. It is desirable to carry out the process under cooling or at room temperature.

第5製法 (ra) R”       (Ie) (式中、R2及びAは、前記の定義と同様である。Fifth manufacturing method (ra) R” (Ie) (In the formula, R2 and A are the same as defined above.

R11は、低級アルキル基、アラルキル基またはアリー
ル基を示す) 本発明における化合物(I e)は、化合物(Ia)と
化合物(V)とをほぼ等モル用い、通常のエステル化反
応によって合成することが好ましい。化金物(V)の反
応性誘導体には、酸ハライドや酸無水物などが用いられ
る。遊離カルボン酸(V)を使用するときはジシクロカ
ルボジイミドの如き縮合剤の存在下に反応させるかまた
は酸触媒の存在下に反応させ、酸ハライドや酸無水物を
使用するときは塩基の存在下に反応させるのが有利であ
る。このような酸触媒としては塩酸、トリフルオロ酢酸
、塩基としてはトリエチルアミンのような有機塩基、水
酸化ナトリウムのような無機塩基が挙げられる。
R11 represents a lower alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group) Compound (Ie) in the present invention can be synthesized by a normal esterification reaction using approximately equal moles of compound (Ia) and compound (V). is preferred. As the reactive derivative of the metal compound (V), acid halides, acid anhydrides, and the like are used. When a free carboxylic acid (V) is used, it is reacted in the presence of a condensing agent such as dicyclocarbodiimide or in the presence of an acid catalyst, and when an acid halide or acid anhydride is used, it is reacted in the presence of a base. It is advantageous to react with Such acid catalysts include hydrochloric acid and trifluoroacetic acid, and bases include organic bases such as triethylamine and inorganic bases such as sodium hydroxide.

また、反応は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチレ
ンクロライド、エーテルテトラヒドロフラン等の反応に
不活性な有機溶媒中で行うのが好適である。
Further, the reaction is preferably carried out in an organic solvent inert to the reaction, such as benzene, toluene, xylene, methylene chloride, ethertetrahydrofuran, or the like.

得られた反応生成物は、遊離のままあるいはその塩とし
て単離され、精製される。塩は通常用いられる造塩反応
に付することにより製造することができる。
The resulting reaction product is isolated and purified in its free form or as a salt thereof. Salts can be produced by subjecting them to commonly used salt-forming reactions.

単離精製は、抽出、濃縮、結晶化、濾過、再結晶、各種
クロマトグラフィー等通常の化学操作を適用して行われ
る。
Isolation and purification is performed by applying ordinary chemical operations such as extraction, concentration, crystallization, filtration, recrystallization, and various chromatography.

光凱■羞来 本発明の化合物(1)及びその塩は、PAF拮抗作用を
有し、PAFによって惹起される種々の疾病の治療、予
防に有用である。殊に抗喘息剤、抗炎症剤、抗腫瘍剤、
ショック症状の緩和剤、虚血性心疾患、肝疾患、血栓症
および腎炎の治療剤、臓器移植時の拒絶抑制剤等として
利用できる。
Compound (1) of the present invention and its salts have PAF antagonistic activity and are useful for the treatment and prevention of various diseases caused by PAF. Especially anti-asthmatic agents, anti-inflammatory agents, anti-tumor agents,
It can be used as a palliative agent for shock symptoms, a therapeutic agent for ischemic heart disease, liver disease, thrombosis and nephritis, and an agent to suppress rejection during organ transplantation.

本発明の化合物の抗PAF作用は次の方法によって確認
されたものである。
The anti-PAF effect of the compound of the present invention was confirmed by the following method.

PAFに   る血l    に する試験方法; 体重的3kg/の雄性日本白色家兎の耳動脈より3.8
%クエン酸ナトリウム水溶液を1容入れたプラスチック
シリンジに血液を9容採取した。血液を270”Xgで
10分間遠心することにより富血小板血漿(P RP 
: platelet rich plasma)とし
、残りの血液をさらにl100X gで15分間遠心し
て乏血小板血漿(P P P’: platelet 
poor plasma)を得た。PRPをPPPで希
釈して血小板数を50万個/μ!に調製した後、PAF
による血小板凝集をボーンとクロス「ジャーナル オブ
 フィジオロジー、第168巻、第178〜195頁(
1963年)」の方法により測定した。
Test method for blood in PAF: 3.8 from the ear artery of a male Japanese white rabbit weighing 3 kg.
Nine volumes of blood were collected into a plastic syringe containing one volume of % sodium citrate aqueous solution. Platelet-rich plasma (PRP) was obtained by centrifuging the blood at 270”Xg for 10 minutes.
The remaining blood was further centrifuged at 1100 x g for 15 minutes to obtain platelet-poor plasma (P P P').
(poor plasma) was obtained. Dilute PRP with PPP to increase the platelet count to 500,000/μ! After preparation, PAF
Platelet aggregation by Born and Cross, Journal of Physiology, Vol. 168, pp. 178-195 (
1963).

すなわち、NBSヘマトレーサー(二元バイオサイエン
ス)を用い、PAF  (10−1IM)によるPRP
の光透過度の変化を測定した。なお、化合物はPAF添
加の2分前に加え、対照におけるPAFによる最大光透
過度に対する抑制率からIC5゜値(50%抑制濃度)
を求めた。
That is, PRP with PAF (10-1 IM) using NBS hematotracer (binary bioscience)
The change in light transmittance was measured. The compound was added 2 minutes before the addition of PAF, and the IC5° value (50% inhibitory concentration) was determined from the inhibition rate of the maximum light transmittance by PAF in the control.
I asked for

本発明の化合物はADP (3μMLアラキドン酸(1
00IIM)およびコラーゲン(10ug/m)による
血小板凝集に対しては抑制を示さないことから、PAF
に特異的な拮抗薬と思われる。
The compound of the present invention is ADP (3μML arachidonic acid (1
00IIM) and collagen (10ug/m), PAF
It seems to be a specific antagonist.

次に参考例及び実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明する。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Reference Examples and Examples.

(参考例1) 7−(カルボメトキシ)−3−(3〜ピリジル)−18
,31+ピロロ(L 2−C)チアゾール・フマル酸塩
の製造3−(3−ピリジル)−18,311−ピロロ(
1,2−C)チアゾール−7−カルボン酸(10,0g
、40.6 m moj2)とメタノール(300In
1)の混合物に、水冷下、濃硫酸(3,0mjりを滴下
した。得られた溶液を加熱還流下12時間攪拌した後、
冷却し、減圧下約半量まで濃縮した。過剰量の炭酸水素
ナトリウムを加えて室温下30分攪拌した後、減圧上濃
縮した。得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
減圧下、溶媒を留去して7−(カルボメトキシ)3−(
3−ピリジ/L/) −IH,3H−ビOt:l (1
,2−C) チアゾール(9,48g、36.4 mm
of、90%)を得た。
(Reference Example 1) 7-(carbomethoxy)-3-(3-pyridyl)-18
, 31+pyrrolo(L 2-C) Production of thiazole fumarate 3-(3-pyridyl)-18,311-pyrrolo(
1,2-C)thiazole-7-carboxylic acid (10,0g
, 40.6 m moj2) and methanol (300 In
Concentrated sulfuric acid (3.0 mj) was added dropwise to the mixture of 1) under water cooling. After stirring the resulting solution under heating and reflux for 12 hours,
It was cooled and concentrated to about half its volume under reduced pressure. After adding an excess amount of sodium hydrogen carbonate and stirring at room temperature for 30 minutes, the mixture was concentrated under reduced pressure. Water was added to the obtained residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to give 7-(carbomethoxy)3-(
3-pyridi/L/) -IH,3H-biOt:l (1
,2-C) Thiazole (9.48g, 36.4mm
of, 90%) was obtained.

部をシリカゲルカラムクロマトグラフィ (溶出液:へ
キサン:酢酸エチル−2:1)で精製して得られた化合
物(61■)をエタノールに溶解し、これにフマール酸
(26■)のエタノール溶液を加えた。
The obtained compound (61■) was purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane: ethyl acetate - 2:1), and the obtained compound (61■) was dissolved in ethanol, and an ethanol solution of fumaric acid (26■) was added thereto. Ta.

室温下10分間攪拌後、減圧上溶媒留去して得られた残
渣をエタノール−ジエチルエーテルで結晶化させ、濾取
して7−(カルボメトキシ)−3−(3−ピリジル)−
1H,38−ピロロ(1,2−C)チアゾール・フマル
酸塩(30■)を得た。
After stirring at room temperature for 10 minutes, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was crystallized from ethanol-diethyl ether, collected by filtration, and 7-(carbomethoxy)-3-(3-pyridyl)-
1H,38-pyrrolo(1,2-C)thiazole fumarate (30 .mu.) was obtained.

この化合物の理化学的性質は次のとおり。The physicochemical properties of this compound are as follows.

核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d、・TMS内部標
準)7.56  (IH,ddd) 8.45〜8.54  (2+1.  m)実施例1 7−(ヒドロキシメチル)−3−(3−ピリジル)−1
L3)1ピロロ(1,2−C)チアゾールの製造アルゴ
ン雰囲気下7−(カルボメトキシ)−3−(3ピリジル
)−11L 3H−ピロロ[1,2−C)チアゾール(
3,40g、 13.1m mon)のトルエン(10
0I!dl) ?8液に一70″CでIN−水素化ジイ
ソブチルアルミニウム・ヘキサン溶液(27,5d)を
滴下した。同温度で6時間撹拌した後IN−水素化ジイ
ソブチルアルミニウム・ヘキサン溶液(3戚)を追加し
、さらに2時間攪拌した。得られた混合物にメタノール
(4d)のトルエン(10Ii)溶液を加え、つづいて
水(2IIi)とメタノール(51d)溶液を加え、室
温まで昇温させ、30分間攪拌した。不溶物を濾去し、
濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧上濃縮した。
Nuclear magnetic resonance spectrum (DMSO-d, ・TMS internal standard) 7.56 (IH, ddd) 8.45-8.54 (2+1. m) Example 1 7-(Hydroxymethyl)-3-(3-pyridyl) )-1
L3) Preparation of 1-pyrrolo(1,2-C)thiazole 7-(carbomethoxy)-3-(3pyridyl)-11L 3H-pyrrolo[1,2-C)thiazole(
3,40g, 13.1m mon) of toluene (10
0I! dl)? IN-diisobutylaluminum hydride/hexane solution (27.5d) was added dropwise to liquid 8 at -70"C. After stirring at the same temperature for 6 hours, IN-diisobutylaluminum hydride/hexane solution (3 relative) was added. , and further stirred for 2 hours. To the resulting mixture, a solution of methanol (4d) in toluene (10Ii) was added, followed by a solution of water (2IIi) and methanol (51d), heated to room temperature, and stirred for 30 minutes. .Filter off insoluble matter,
The filtrate was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure.

得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出液;クロロホルム:メタノール:濃アンモニア水=
40:1:0.1)で精製して7−(ヒドロキシメチル
) −3−(3−ピリジル)−1H,3+1−ピロロ〔
1゜2−C〕チアゾール(2,27g 、9.77 m
 mof)を得た。
The resulting residue was subjected to silica gel column chromatography (
Eluent; Chloroform: Methanol: Concentrated ammonia water =
40:1:0.1) to give 7-(hydroxymethyl)-3-(3-pyridyl)-1H,3+1-pyrrolo[
1゜2-C]thiazole (2.27g, 9.77m
mof) was obtained.

理化学的性質は次のとおり。The physical and chemical properties are as follows.

融点  60°C 元素分析値 (C,□H+zNzO3として)C(χ)
  H(χ)N(χ)  S(χ)理論値 62.04
 5.21 12.06 13.80実験値 61.6
5 5.20 11.90 13.79実施例2 7−(ホルミル)−3−(3−ピリジル)−1H,31
1−ピロロ〔1゜2−C〕チアゾールの製造 質量分析値ニー tm/z 230 (M”)核磁気共
鳴スペクトル(CDCI!、3 、 TMS内部標準)
アルゴン雰囲気下、7−(ヒドロキシメチル)−3(3
−ピリジル)−18,311−ピロロ(1,2−C)チ
アゾール(368■、 1.58m mob) 、重ク
ロム酸ピリジニウム(896oi、3.89 m mo
f) 、ジクロロメタン(3d)の混合物を室温下12
時間攪拌した。得られた混合物をジエチルエーテルで希
釈し、濾過した。得られた結晶に水を加え、炭酸カリウ
ムでpHを10に調整し、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後濾液と合わせて減圧上濃縮した。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;
クロロホルム:メタノール::aアンモニア水−40:
I:0.1)で精製して7−(ホルミル)−3−(3ピ
リジル)−111,3H−ピロロ(1,2−C)チアゾ
ール(149■、 41%)を得た。
Melting point 60°C Elemental analysis value (as C,□H+zNzO3)C(χ)
H(χ) N(χ) S(χ) Theoretical value 62.04
5.21 12.06 13.80 Experimental value 61.6
5 5.20 11.90 13.79 Example 2 7-(formyl)-3-(3-pyridyl)-1H,31
Production mass spectrometry value of 1-pyrrolo[1°2-C]thiazole tm/z 230 (M”) nuclear magnetic resonance spectrum (CDCI!, 3, TMS internal standard)
Under an argon atmosphere, 7-(hydroxymethyl)-3(3
-pyridyl)-18,311-pyrrolo(1,2-C)thiazole (368■, 1.58 m mob), pyridinium dichromate (896 oi, 3.89 m mo
f) a mixture of dichloromethane (3d) at room temperature for 12
Stir for hours. The resulting mixture was diluted with diethyl ether and filtered. Water was added to the obtained crystals, the pH was adjusted to 10 with potassium carbonate, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with water and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then combined with the filtrate and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent;
Chloroform: Methanol::a Aqueous ammonia-40:
I:0.1) to give 7-(formyl)-3-(3pyridyl)-111,3H-pyrrolo(1,2-C)thiazole (149μ, 41%).

理化学的性質は次のとおり。The physical and chemical properties are as follows.

9.77  (18,s) 実施例3 7−(2−フェニルエチニル)−3−(3−ピリジル)
−1H。
9.77 (18,s) Example 3 7-(2-phenylethynyl)-3-(3-pyridyl)
-1H.

(AAAV線は幾何異性体の混合物を示す)アルゴン雰
囲気下、60%油性水素化ナトリウム(100■、2.
50 m mof! )とジメチルスルホキシド(3m
)の混合物を70℃で30分間攪拌した。室温まで冷却
し、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド(9
60ng、 2.47w tIIol )を−気に加え
、得られた混合物を70°Cで15分、室温で15分攪
拌した後、7−(ホルミル)−3−(3−ピリジル)−
1H,3H−ピロロ(1,2−C)チアゾール、(37
9■、 1.65a+ mojりとジメチルスルホキシ
ド(3m)の溶液を滴下した。
(The AAAV line indicates a mixture of geometric isomers) Under an argon atmosphere, 60% oily sodium hydride (100%, 2.
50m mof! ) and dimethyl sulfoxide (3m
) was stirred at 70°C for 30 minutes. Cool to room temperature and add benzyltriphenylphosphonium chloride (9
7-(formyl)-3-(3-pyridyl)-
1H,3H-pyrrolo(1,2-C)thiazole, (37
A solution of dimethyl sulfoxide (3 m) was added dropwise to the flask.

室温で5時間攪拌後、反応液を酢酸エチルで希釈し、水
を加えて酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧上留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出1nn−ヘキサン:酢酸エチル−
3:1)で精製して、7−(2−フェニルエチニル) 
−3−(3−ピリジル)411゜3H−ピロロ(1,2
−C)チアゾール(278■)を得た。
After stirring at room temperature for 5 hours, the reaction solution was diluted with ethyl acetate, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography (elution 1nn-hexane:ethyl acetate-
3:1) to give 7-(2-phenylethynyl)
-3-(3-pyridyl)411゜3H-pyrrolo(1,2
-C) Thiazole (278■) was obtained.

質量分析値:  mHz 304 (M’)核磁気共鳴
スペクトル(CDCI!、3 、 TMS内部標準)8
.44〜8.61(2H,m) 実施例4 7−(フェノキシメチル)−3−(3−ピリジル)−1
H,3H−ピロロ(1,2−C)チアゾールの製造 アルゴン雰囲気下、7−(ヒドロキシメチル)−3(3
−ピリジル)−1H,3H−ピロロ(1,2−C)チア
ゾール(205■、0.8h +5offi)とテトラ
ヒドロフラン(Id)の混合液に、水冷下、フェノール
(91■。
Mass spectrometry value: mHz 304 (M') nuclear magnetic resonance spectrum (CDCI!, 3, TMS internal standard) 8
.. 44-8.61 (2H, m) Example 4 7-(phenoxymethyl)-3-(3-pyridyl)-1
Preparation of H,3H-pyrrolo(1,2-C)thiazole Under argon atmosphere, 7-(hydroxymethyl)-3(3
-Pyridyl)-1H,3H-pyrrolo(1,2-C)thiazole (205■, 0.8h +5offi) and tetrahydrofuran (Id) was added with phenol (91■) under water cooling.

0.97 mmoj2)  とテトラヒドロフラン(1
,5d)の溶液、トリフェニルホスフィン(255■、
0.97 m mol>とテトラヒドロフラン(1,5
d)の溶液、ジエチルアゾジカルボキシレート(170
■、0.98 m mol> とテトラヒドロフラン(
1,5id)の溶液を順次滴下した。得られた混合物を
室温下12時間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。得
られた残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。減圧上濃縮して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキ
サン:酢酸エチル−2:1〜1:1)で精製して、7(
フェノキシメチル)−3−(3−ピリジル)−Il+、
3B−ピロロ〔1,2−C)チアゾール(53mg)を
得た。
0.97 mmoj2) and tetrahydrofuran (1
, 5d), triphenylphosphine (255■,
0.97 m mol> and tetrahydrofuran (1,5
d) solution of diethyl azodicarboxylate (170
■, 0.98 m mol> and tetrahydrofuran (
A solution of 1,5id) was sequentially added dropwise. The resulting mixture was stirred at room temperature for 12 hours, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in ethyl acetate, washed successively with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and saturated brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The residue obtained by concentration under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (eluent; n-hexane:ethyl acetate -2:1 to 1:1) to obtain 7(
phenoxymethyl)-3-(3-pyridyl)-Il+,
3B-pyrrolo[1,2-C)thiazole (53 mg) was obtained.

理化学的性質は次のとおり。The physical and chemical properties are as follows.

質量分析値;  m/z 308 (M”)核磁気共鳴
スペクトル(CDCf 3 、 TMS内部標準)実施
例5 7−(ベンゾイルオキシメチル)−3−(3−ピリジル
)IH,3)1−ピロロ(1,2−C)チアゾールの製
造7−(ヒドロキシメチル)−3−(3−ピリジル)−
1H,3Hピロロ(1,2−C)チアゾール(102■
、 044m mol2)。
Mass spectrometry value; m/z 308 (M”) Nuclear magnetic resonance spectrum (CDCf3, TMS internal standard) Example 5 7-(benzoyloxymethyl)-3-(3-pyridyl)IH,3)1-pyrrolo( 1,2-C) Production of thiazole 7-(hydroxymethyl)-3-(3-pyridyl)-
1H,3H pyrrolo(1,2-C)thiazole (102■
, 044 m mol2).

4− (N、 N−ジメチルアミノ)ピリジン(6■、
0.049 m5of)、安息香酸(59■、 0.4
8+s mol2) 、メチレンクロライド(21d)
の混合物に水冷下、ジシクロへキシルカルボジイミド(
100■、 0.48m mol とメチレンクロライ
ド(2d)の溶液を滴下した。室温で12時間攪拌後、
酢酸エチルで希釈し、不溶物を濾去した。濾液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧上濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;
クロロホルム:メタノール:濃アンモニア水=100:
 1:0.1)で精製して7−(ベンゾイルオキシメチ
ル)3−(3−ピリジル)−II+、3H−ピロロ(1
,2−C)チアゾール(84■)を得た。
4-(N, N-dimethylamino)pyridine (6■,
0.049 m5of), benzoic acid (59■, 0.4
8+s mol2), methylene chloride (21d)
dicyclohexylcarbodiimide (
A solution of 100 μm, 0.48 mmol and methylene chloride (2d) was added dropwise. After stirring at room temperature for 12 hours,
It was diluted with ethyl acetate, and insoluble materials were filtered off. The filtrate was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The residue obtained by concentration under reduced pressure was subjected to silica gel column chromatography (eluent;
Chloroform: Methanol: Concentrated ammonia water = 100:
1:0.1) to give 7-(benzoyloxymethyl)3-(3-pyridyl)-II+, 3H-pyrrolo(1
, 2-C) thiazole (84■) was obtained.

理化学的性質は次のとおり。The physical and chemical properties are as follows.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は、ヒドロキシ低級アルキル基、低級ア
ルコキシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アルキ
ル基、アリールオキシ低級アルキル基、低級アルカノイ
ルオキシ低級アルキル基、アリール低級アルカノイルオ
キシ低級アルキル基、アリールカルボニルオキシ低級ア
ルキル基、アルケニル基、アリールアルケニル基、ホル
ミル基及びホルミル低級アルキル基よりなる群から選択
される基を、R^2は水素原子または低級アルキル基を
それぞれ示す)で示されるピリジル−1H、3H−ピロ
ロ〔1,2−C〕チアゾール誘導体またはその塩。
(1) General formula▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R^1 is hydroxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, aralkyloxy lower alkyl group, aryloxy lower alkyl group, lower alkanoyloxy a group selected from the group consisting of a lower alkyl group, an aryl lower alkanoyloxy lower alkyl group, an arylcarbonyloxy lower alkyl group, an alkenyl group, an aryl alkenyl group, a formyl group, and a formyl lower alkyl group, R^2 is a hydrogen atom or A pyridyl-1H,3H-pyrrolo[1,2-C]thiazole derivative or a salt thereof, each represented by a lower alkyl group.
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