JPH03176497A - セリン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はセリン誘導体、特に抗ウィルス剤や人工抗原と
して有用な次式で示されるシアロシルセリンあるいはＮ
−アセチルガラクトピラノシルセリン類に関する： ＮＨＲ’ Ｒ−０−ＣＨ，ＣＨ−Ｃ○−Ｒ”　　　　（Ｉ）（式中
、Ｒはシアル酸残基または３位にガラクトース残基をも
っていてもよいＮ−アセチルガラクトサミン残基　Ｒ１
は水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、ｃ＋”ｃ＋ｚアシル、置
換Ｃ１〜Ｃ＋ＺアシルまたはＮ−アルキルカルバモイル
、Ｒ２はヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ，アルコキシ、アミノま
たはＣ１〜Ｃ６アルキルアミノをそれぞれ表す。）。

［従来の技術］ 後天性免疫不全症の原因である後天性免疫不全症ウィル
スは、レトロウィルスであり、Ｔリンパ球を主細胞とす
るものである。その予防または治療のために、ウィルス
阻害剤の開発、特に宿主細胞−ウィルス結合抑制剤ある
いはウィルス複製抑制剤（たとえば逆転写酵素阻害剤、
グリコシダーゼ阻害剤）の開発が進められており、具体
的には核酸誘導体、アミノ糖誘導体、硫酸化糖、天然物
からの抽出化合物（キ）−１，て渣）かＰ゛の中でその
ような用途に適した作用を有する物質の検索が行われて
いる（特開平１−２２１３６４号明細書、特開平ｌ−２
３０５１７号明細書、特開平１−２０７２１５号明細書
、特開平１−２３８５２５号明細書、特開平１−２３８
５３３号明細書など参照）。

他方、セリンはアミノ酸の中でも糖鎖が結合している頻
度の高いアミノ酸の一つであり、セリン−糖誘導体の中
には、Ｔｎ−抗原やＴ−抗原として注目をあびているも
のもある。Ｔｎ−抗原やＴ−抗原に対するモノクローナ
ル抗体は、腫瘍の診断および治療の可能性を有するもの
であるから、糖−セリン誘導体を人工抗原としてモノク
ローナル抗体を作成する試みも行われている［Ｒ，Ｋａ
ｉｒｕら：　Ｃ：ａｒｂｏｈｙｄ、　Ｒｅｓ、、　６９
．７９（１９７９）］　。

［発明が解決しようとする問題点１ 抗ウイルス剤の開発に際して最も問題とされる点は、そ
れらが一般に強い毒性を有することである。従って、単
に抗ウィルス作用を有するのみならず、毒性の低い化合
物の開発が要望されている。

他方、人工抗原としては、有効に抗体を産生出来る物質
であることが要求される。

［問題点を解決するための手段］ 本発明者らは、各種のセリン誘導体を合成し、これらに
ついて検討を重ねた結果、前記式（１）で示されるセリ
ン誘導体が一般に強い抗ウィルス作用を示す一方、その
毒性が比較的弱いものである事実、ならびにそれらのセ
リン誘導体が人工抗原として有効に抗体を産生出来る事
実を見いだし、本発明を完成するに至った。

たとえば、標準の抗エイズウイルステストで測定した場
合、次表の式（ＩＡ）で示されるシアロシルセリン類お
よび式（ＩＢ）で示されるＮ−アセチルガラクトシルピ
ラノシルセリン類はいずれも陽性を示し、特にＲ’−Ｈ
，Ｒ”−ＮＨＣＩＨ，３であるシアロシルセリンは顕著
な抗エイズウイルス作用を示す。

シアロシルセリン類（ＩＡ） 化合物番号 ＩＡ−Ｉ ＩＡ−２ ＩＡ−３ ＩＡ−４ υＮ Ｉ ＣＨ，Ｃ０ Ｃ，Ｈ，、Ｃ０ ＣＩＩＨ２３ＣＯ ３ Ｈ ○Ｈ Ｈ Ｈ ＩＡ−６ ＩＡ−７ ＩＡ−８ ＩＡ−９ ＩＡ−１゜ ＣＨｓＣｏ ／！Ｊ：＞Ｃ０ ＨＯＣＨ，Ｃ０ Ｃ５ＨｙＮＨＣＯ ＮＨＣＩＨ１ｓ ＮＨＣ，Ｈ，。

ＮＨＣ＊Ｈｒｓ Ｈ ＮＨＣ，ＨＩ３ Ｎ−アセチルガラクトシルピラノシルセリン類（Ｉ　Ｂ
） 化合物番号　　　　Ｒ’　　　　　Ｒ”　　　　ＲｓＩ
　Ｂ　−Ｉ　　　Ｃｓ　Ｉ（１＋　ＣＯＮ　ＨＣｓ　Ｈ
＋　ｓ　　ＨＩＢ　　２　　　ＨＮＨＣａＨｌｓ　　Ｈ
ＩＢ３　　　ＨＮＨＣａＨｌｓ　　Ｇａ１ＩＢ４　　　
ＣｓＨ＋＋ＣＯＮＨＣａＨｌｓ　　Ｇａ１Ｇａｌ−βｌ
ガラクトシル 本発明の目的物質であるセリン誘導体（Ｉ）は種々の方
法でこれを製造することが出来る。すなわち、セリン誘
導体（１）を製造するには、（ａ）セリンのヒドロキシ
基にシアル酸残基または３位にガラクトース残基を持っ
ていてもよいＮ−アセチルガラクトサミン残基を導入す
る反応と必要にＦ＋−（ｈ）セ１１ンのアミノ２＋アル
キルイｈ−アシル化またはアミド化する反応および／ま
たは（ｃ）セリンのカルボキシル基をアミド化する反応
を適用する必要があるが、これら（ａ）、（ｂ）および
（Ｃ）の各反応はそれぞれ任意の順序で実施されてよい
。

また、必要に応じセリンに存在する官能基のいずれかを
予め保護しておき、所望の反応が終了してから保護基を
離脱せしめてもよい。以下にセリン誘導体（Ｉ）の典型
的な製法を例示する（チャート１参照）。

第１工程 本工程は化合物（Ａ）（セリンのカルボキシル基保護誘
導体）のアミノ基をアシル化して化合物（ＩＩＩ）を得
る工程である。

上記工程は、化合物（Ａ）にアシル化剤を反応させるこ
とによって行う。アシル化剤としては、保護されたヒド
ロキシ基を有することもあるカルボン酸（炭素数は通常
１２を超えない。）またはその無水物もしくはハライド
が使用される。アシル化剤の具体例としては、酢酸、プ
ロピオン酸、ヘキサン酸、ラウリン酸、０−アセチルグ
リコール酸、安息香酸、ｐ−メチル安息香酸、無水酢酸
、無水プロピオン酸、無水ヘキサン酸、無水ラウリン酸
、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ヘキサノ
イルクロリド、ラウリルクロリドなどが挙げられる。

反応は不活性溶媒（たとえばクロロホルム、ジクロロメ
タン、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、水）中、必
要に応じ塩基（たとえばピリジン、トリエチルアミン、
４−ジメチルアミノピリジン、炭酸セシウム、酢酸ナト
リウム）の存在下に行えばよい。なお、アシル化剤とし
てカルボン酸を使用する場合には、反応を縮合剤（たと
えば２−クロロ−Ｎ−メチルピリジニウムアイオダイド
、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカ
ルボジイミド塩酸塩、トリエチルアミン、ピリジン）の
存在下に行うのが普通である。

反応は冷却下ないし室温で数十分から数時間で行うこと
ができる。

第２工程 本工程は化合物（ＩＩＩ）のヒドロキシ基にシアル酸残
基を導入して化合物（Ｖ）を得る工程である。

上記工程は、化合物（ｎＩ）に糖（シアル酸残基）供与
体の反応させてこれを行う。糖供与体としては、２−ク
ロロシアル酸エステルのヒドロキシル基がアセチル基で
保護されているもの、たとえば５−アセタミド−４，７
，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−２−クロＯ−２，３
，５−トリデオキシ−β−Ｄ−グリセローＤ−ガラクト
ー２−ノ二二ロピラノソン酸メチルエステルあるいはベ
ンジルエステルを用いることができる。また、上記の２
−クロロ体の代わりに、シアル酸の２位に低級アルキル
チオ基（たとえばメチルチオ、エチルチオ）を有する化
合物、たとえば５−アセタミド−４゜７．８．９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−２−メチルチオまたはエチルチオ−
ａ−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロビラノ
ソン酸メチルエステルあるいはベンジルエステルを用い
ることもできる。

反応は糖供与体およびプロモーター存在下に行うことが
できる。糖供与体としてハロゲン化物を使用する場合に
は、プロモーターとして酸化銀、過塩素銀、トリフルオ
ロメタンスルホン酸銀、シアン化第二水銀、臭化水銀な
どが用いられ、糖供与体としてアルキルチオ体を使用す
る場合には、プロモーターとしてジメチル（メチルチオ
）スルホニウムトリフレート、トリフルオロメタン酸メ
チルエステル、フェニルセレニウムトリ７レートなどが
用いられる。反応に際しては、さらにモレキュラーシー
ブ（たとえばＡＷ−３００）、ドライライトのような脱
水乾燥剤を使用してもよい。

使用し得る溶媒としては、具体例としてジクロロメタン
、クロロホルム、１．２−ジクロロエタン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エーテル、テトラヒドロ７ラン、
ジオキサン、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリルなどが挙げられる
。

反応は冷却から４０°Ｃ位まで、数十分から数時間の間
で行うことができる。

糖供与体としてイミデートを用いる場合には、反応はル
イス酸（たとえば三フッ化ホウ素エーテラート、トリチ
メルシリルトリフレート）を用いて行う。この際脱水乾
燥剤としてモレキュラーシーブを共存させてもよい。溶
媒、反応時間は前記の場合と同様であってよい。

第３工程 本工程は、化合物（Ｖ）のカルボキシル基の保護基や糖
残基のヒドロキシ保護基を脱離させてシアロシルアシル
セリン（Ｖｌ）を得る工程である。

上記の工程は、脱離させる保護基の性質に応じ、加水分
解や還元のような常法により行うことが出来る。

ヒドロキシ基のアシル保護基あるいはカルボキシル基の
エステル保護基は塩基を用いた加水分解により行うこと
ができる。塩基としてはアルカリ金属またはアルカリ土
類金属水酸化物、有機塩基などを用いることが出来、具
体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸セシウム、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、アンモニア、メチルアミン、トリメチ
ルアミン、ヒドラジン等が例示される。加水分解は、冷
却下ないし室温で、アルコール（たとえばメタノール、
エタノール、プロパノール、インプバノール）、エーテ
ル（たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）
、水、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドな
どの溶剤中で実施されてよい。反応時間は、通常、数分
から２４時間程度である。

また、保護基がベンジル基である場合には、これを還元
的に除去することができる。還元はパラジウム炭素や白
金のような金属触媒の存在下、常圧または加圧下（５気
圧程度まで）に水素添加を行う。溶媒としてはアルコー
ル（たとえばエタノール、メタノール、インプロパツー
ル）を用いるのが普通であり、これに酢酸やプロピオン
酸のような有Ｉ！酸を添加してもよい。反応は通常数時
間で完結する。

第４工程 本工程はセリンのアミノ基およびカルボキシル基保護誘
導体（■）のヒドロキシ基にジアール酸残基を導入して
保護シアロシルセリン化合物（■）を製造する工程であ
る。

セリンのアミノ基の保護基としては、ベンジルオキシカ
ルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニル、９−フルオレ
ニルメトキシカルボニル、２−ピリジルエトキシカルボ
ニル、アリルオキシカルボニルなどのようなウレタン型
のものを選ぶことができる。また、セリンのカルボキシ
基の保護基としては、ベンジルエステル、アリルエステ
ル、（１゜３−ジチアニル）メチルエステル、ピバロイ
ルエステル、２−ブロムエチルエステル、（２−トリメ
チルシリル）エチルエステルなどのようなエステル型の
ものを選択すればよい。

Ｎ、Ｏ−ジ保護セリン（■）と糖（シアル酸残基）供与
体の反応は、第２工程に記載したと同様の条件により実
施することができる。

第５工程 本工程は、保護シアロシルセリン化合物（■）のカルボ
キシル基の保護基およびジアール酸残基中のヒドロキシ
保護基を脱離させてアミノ基の保護されたシアロシルセ
リン化合物（］Ｉ）を製造する工程であって、これは第
３工程に記載したと同様の条件により実施することがで
きる。

第６エ程 本工程は、アミノ基の保護されたシアロシルセリン化合
物（Ｉりのアミノ保護基を除去してシアロシルセリン（
Ｘ）を得る工程である。

アミノ保護基がベンジルオキシカルボニル基である場合
には、水素添加やシリコン誘導体（たとえばトリエチル
シラン、トリメチルシリルアイオダイド）により除去す
ることができる。水素添加の場合には、触媒としてパラ
ジウム炭素のような金属触媒を用い、常圧ないし加圧（
約５気圧）下ニ行う。溶媒としては、アルコール系の溶
媒（たとえばエタノール、メタノール、インプロパツー
ル）を用いるのが普通であるが、この際、有機酸（たと
えば酢酸、プロピオン酸）を添加してもよい。

シリコン誘導体を用いる場合には、溶媒として双極性非
プロトン溶媒（たとえばアセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド）、ハロゲン化炭化水
素溶媒（たとえばジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素）、エーテル系溶媒（たとえばジエチルエーテル
、テトラヒドロ７ラン、ジオキサン）、芳香族炭化水素
溶媒（たとエバベンゼン、トルエン、クロロベンゼン）
ナトやこれらの混合溶媒が用いられる。

反応は冷却ないし用いる溶媒の沸点下に数十分ないし数
時間で進行する。

第７エ程 本工程は、アミノ基の保護されたセリン化合物（■′）
のカルボキシル基をアミド化してアミン基の保護された
セリンアミド化合物（ｎ）を得る工程である。

この工程は、アミノ基が保護されたセリン（アミン基の
保護基は第４工程に記載したアミノ保護基が用いられて
よい。）に対し、中性に近い条件で、分岐鎖をもってい
てもよいアルキルアミン（たとえばメチルアミン、エチ
ルアミン、イソプロピルアミン、ヘキシルアミン、オク
チルアミン）を、縮合剤（たとえば２−エトキシカルボ
ニル−１゜２−ジヒドロキノリン、ジフェニルホスホル
アミド溶媒としてはハロゲン化炭化水素（たとえばジク
ロロメタン、クロロホルム）、双極性非プロトン性溶媒
（たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド）などが用いられ、必要に応じてトリエチルアミン、
ピリジンのような三級アミン塩基を共存させてもよい。

反応は室温で数十分ないし数時間で進行する。

第８工程 本工程は、アミノ基の保護されたセリンアミド化合物（
ｎ）のヒドロキシ基にジアール酸残基を導入して保護シ
アロシルセリンアミド化合物（ＸＩ［）を製造する工程
である。この工程は、第２工程に記載したと同様の条件
で実施することが出来る。

第９工程 本工程は、保護シアロシルセリンアミド化合物（Ｉｌ［
）のアミノ保護基を除去してシアロシルセリンアミド化
合物（ＸＩ［Ｉ）を得る工程である。

この工程は、第６エ程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。

第１０工程 本工程は、化合物（Ｘｌ１１）のカルボキシル基の保護
基や糖残基のヒドロキシ保護基を脱離させてシアロシル
セリンアミド（Ｘ■）を得る工程である。

この工程は、第３工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。

第１１工程 本工程は、化合物（ｘｍ）のアミノ基をアシル化して化
合物（Ｘ　Ｖ）を得る工程である。

この工程は、第１工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。

第１２工程 本工程は、化合物（Ｘ　Ｖ）のカルボキシル基の保護基
や糖残基のヒドロキシ保護基を脱離させて化合物（ＸＶ
Ｉ）を得る工程である。

この工程は、第３工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。

第１３工程 本工程は、アミノ基の本されたセリンアミド（■）のヒ
ドロキシ基に２−アジドガラクトサミン酸残基を導入し
て本２−アジドガラクトピラノシルセリンアミド化合物
（Ｘ■）を製造する工程である。α−アノマーを得る目
的のためには、糖供与体としてチオグリシドを選ぶこと
ができ、たとえばエチル−３．４．６−１リーＯ−アセ
チル−２アジド−２−デオキシ−１−チオーβ−Ｄ−ガ
ラクトピラノシドを用いる。グリコジル化反応は第２工
程に記載したと同様の条件で実施できる。

第１４工程 本工程は、アジド糖（Ｘ■）を還元し、生皮するアミノ
体を単離精製することなくアシル化してアミド体（Ｘｆ
ｆ）を得る工程である。

アジド基の還元剤としては、トリフェニルホスフィン、
トリエチルホスフィン、水素化アルミニウムリチウム、
トリエチルアミン−硫化水素、トリエチルアミン−メル
カプタンなどから選択すればよい。溶媒としてはアルコ
ール（たとえばメタノール、エタノール）、エーテル（
たとエバジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）など
を用いることができる。ホスフィン類を用いる還元では
最初に生皮するホスフィンイミンの加水分解のために水
が必要である。反応は室温ないし加熱下数時間で行うこ
とができる。なお、本工程の還元は白金、パラジウム−
炭素などの触媒を用いた接触還元でも行うことができる
。

生皮したアミノ体のアシル化は無水酢酸のような無水カ
ルボン酸を用いて行うことができる。溶媒としてはハロ
ゲン化炭化水素（たとえばジクロロメタン、クロロホル
ム）、エーテル（タトエハジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン）などを用いるのが普通であるが、ピリジン
、トリエチルアミンのような塩基を用いてもよい。反応
は室温で数時間ないし数日間で修了する。

第１５工程 本工程は、アミド体（ｘＩＩ）におけるアミノ保護基の
除去とアミノ基のアシル化により化合物（Ｘ）を製造す
る工程である。アミノ保護基の除去は第６エ程における
記載と同様に、またアミノ基のアシル化は第１工程に記
載したと同様に実施することができる。

第１６エ程 本工程は、化合物（Ｘ　Ｘ）のヒドロキシ保護基を脱離
させて、化合物（ｘｎ）を製造する工程である。

この工程は、第３工程に記載したと同様の条件により実
施することができる。

第１７エ程 本工程は、アミド体（Ｘｆｆ）のアミノ保護基とＩ！Ｆ
残基のヒドロキシ保護基を脱離させて、化合物（Ｘ川）
を得る工程である。

この工程におけるアミノ保護基の脱離は第６エ程で記載
したと同様の条件で、ヒドロキシ保護基の脱離は第３工
程で記載したと同様の条件で実施できる。

第１８工程 本工程は、アジド糖（Ｘ■）の糖残基におけるヒドロキ
シ保護基を脱離させて化合物（ｘｘｍ）を得るものであ
る。この工程はＭ３工程で記載したと同様の条件で実施
できる。

第１９工程 本工程は、化合物（ＸＸＩＩ［）の構造をベンジリデン
アセタールとして保護して化合物（ＸＸＩＶ）を得る工
程である。

ベンジリデンアセタール化のためには、ベンズアルデヒ
ドやベンズアルデヒドジメチルアセクールを用いて、酸
（たとえばトリフルオロ酢酸、塩化亜鉛、アンバーリス
ト１５、カンファースルホン酸）の存在下に実施すれば
よい。溶媒としてはエーテル系溶媒（たとえばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン）、双極性溶媒（たとえ
ばジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルス
ルホキシド）などが使用され、またベンジリデン化試薬
を溶媒として使用してもよい。反応温度は室温ないし加
熱下に行い、数十分ないし数時間で反応は進行する。

第２０工程 ドロキシル基にガラクトースをβ位となるよう導入して
化合物（ＸＸＶＩ）を得る工程である。

β−アノマーを得るためには、糖供与体として２．３．
４．６−チトラーＯ−アセチルーσ−Ｄ−ガラクトピラ
ノシル−トリクロロアセトイミデートあるいは対応する
ハライドを使用する。グリコジル化の条件は第２工程に
記載したと同様であってよい。

第２１工程 本工程は、化合物（ＸＸＶＴ）のベンジリデンアセター
ル基を脱離させてうえで遊離のヒドロキシ基を保護して
化合物（ＸＸ■）を得る工程である。

ベンジリデンアセタールの脱離は酸存在下、加水分解に
より行うことができる。ｒａとしてはトリフルオロ酢酸
、カンファースルホン酸などが使用され、また三塩化ホ
ウ素も使用できる。さらにパラジウム−炭素存在下の接
触還元によっても、脱離を遠戚できる。溶媒としてはハ
ロゲン化炭化水ラン）、芳香族炭化水素溶媒（たとえば
ベンゼン、トルエン）などが使用でき、水を共存させて
もよい。反応は冷却下から室温まで数十分から数時間で
終了する。

ヒドロキシ基の保護は自体常套の方法で行えばよい。

第２２工程 本工程は、化合物（ＸＸ■）のアジド基を還元してアミ
ノ基とし、次いでこれをアシル化することにより化合物
（ＸＸ■）を得る工程である。

この工程は、第１４工程に記載したと同様の条件で実施
することが出来る。

第２３工程 本工程は、化合物（ＸＸ■）のアミノ保護基の除去とア
ミノ基のアシル化により化合物（ＸＸｆｆ）を得る工程
である。

この工程は、第１５工程に記載したと同様の条件で実施
することが出来る。

第２４工程 本工程は、化合物（ＸＸｆｆ）の糖残基のヒドロキシ保
護基を脱離させて、化合物（Ｘ　Ｘ　Ｘ）を得る工程で
ある。

この工程は、第３工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。

第２５工程 本工程は、化合物（ＸＸ■）のアミン保護基と糖残基の
ヒドロキシ保護基を脱離させて、化合物（ＸＸｆｌ）を
得る工程である。

この工程は、第３工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。

［実施例］ 以下に実施例を挙げて本発明の目的化合物であるセリン
誘導体（１）の製造法を具体的に説明する（チャート２
参照）。

実施例１ Ｎ−アセチル−Ｌ−セリン・ベンジルエステル（３ａ）
の製造ニー ベンジルセリン（ｌＸ１．１５９　；　５．０ミリモル
）をテトラヒドロ７ラン（４０ｍＭ）に溶かし、５０％
酢酸ナトリウム水溶液（３０ｍ１２）およびアセチルク
ロリド（０，４３＋ｘ（２）を加え、室温で４時間撹拌
する。反応混合物にエーテルを加えて抽出する。抽出物
を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去してＮアセ
チル−Ｌ−セリン・ベンジルエステル（３ａ０５９０ｍ
ｇ）を得る。収率５０％。ｍ　ｐ　７５〜７８°Ｃ０他
のアシル化剤を使用し、上記と同様に反応を行って、第
１表に示すＮ−アシル−Ｌ−セリン・ベンジルエステル
（３ｂ〜３ｅ）ヲ得ル。

実施例２ ０−〔メチル（５−アセタミド−４，７，８，９テトラ
−０−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ）
−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニユロビラノシ
ル）オネート］−Ｎ−アセチルーＬ−セリン・ベンジル
エステル（５ａ）の製造ニーシアル酸供与体である５−
アセタミド−４，７゜８．９−テトラ−０−アセチル−
２−クロロ−２゜３．５−トリデオキシ−β−Ｄ−グリ
セローＤ−ガラクトー２−ノニュロピラノソン酸メチル
エステル（４）を文献記載の方法［Ｃｈｅｍ、　Ｐｈａ
ｒｍ、　Ｂｕｌｌ、。

■、　２７２５（１９８６）］によって合成する。

Ｎ−アセチル−Ｌ−セリン・ベンジルエステル（３ａＸ
５４０＋＋＋ｇ；　２．２８ミリモル）をジクロロメタ
ン（３０−）に溶かし、３Ａモレキユラーシーブを加え
、室温で３０分撹拌する。この混合物を一３０’Ｏに冷
却し、シアル酸供与体（４Ｘ１．４ｈ；２．７４ミリモ
ル）および過塩素銀（０，６８ｇ）を加え、１時間撹拌
し、終夜放置する。反応混合物をセライト上で濾過し、
濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マ、トゲラフイー（溶離剤：酢酸エチル）で分離し、Ｒ
ｒ　＝０．１３　（シリカゲル、酢酸エチル）の溶出分
としてＯ−［メチル（５−アセタミド〜４゜７８．９−
テトラ−○−アセチルー３，５−ジデオキシ−σ（また
はβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピ
ラノシル）オネート１〜Ｎ−アセチルーＬ−セリン・ベ
ンジルエステル（５ａ）（７００ｍｇ）を得る。収率４
３％。油状物質（５ａ）のアノマー比はα／β−ｌ／２
である。

他のＮ−アシル−Ｌ−セリン・ベンジルエステル（３ｂ
〜３ｅ）化剤を使用し、上記と同様に反応を行って、第
２表に示す化合物（５ｂ〜５ｅ）を得る。

なお、上記の反応条件の下においては、一般にβ−アノ
マーが主生成物となる。

実施例３ ０−［メチル（５−アセタミド−３，５−ジデオキシ−
α（またはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノ
ニュロピラノシル）オネート］−Ｎ−アセチルーＬ−セ
リン・ベンジルエステル（６ａ）の製造ニー 〇−保護シアロシルセリン（５ａＸ７００ｍｇ；　０．
９９ミリモル）をメタノール（３ｈｆｆ）に溶かし、Ｎ
−ＮＮ−Ｎａ０Ｈ（４を加え、室温で終夜放置する。こ
の混合物にアンバーライトＣＧ−５０を加え、撹拌する
。これを濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をＣＨ
Ｐ−２０Ｐカラムクロマトグラフイー（溶離剤：　Ｈ，
Ｏ）で分離し、溶出液を濃縮後、エタノールで生成物を
洗い、○−［メチル（５−アセタミド−３，５−ジデオ
キシ−σ（またはβ）−〇−グリセローＤ−ガラクトー
２−ノニュロピラノシル）オネート］−Ｎ−アセチルー
Ｌ−セリンベンジルエステル（６ａ）　（１５０ｍｇ）
を得る。収率２８％。ｍ　ｐ　１９６〜２０６℃（発泡
分解）。

、−瑯ａ悟、ｒ　ロ入ｒへ　、ｒ−ローｎ口、９Ｈ２Ｏ
として 計算値（％）　：　Ｃ４０，１５、Ｈ７，ｌｌ、Ｎ５．
２０実測値（％）　：　Ｃ４０，１２、Ｈ５，８４、Ｎ
５．０２他のｏ−保護シアロシルセリン（５ｂ〜５ｅ）
を使用し、上記と同様に反応を行って、第３表に示す化
合物（６ｂ〜６ｅ）を得る。

第３表“ゝ ａ）Ｉｆｆｉ績体はＬＨ−２０カラムクロマトグラフイ
ーを使用して分離。

実施例４ ０−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９テトラ
−Ｏ−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ）
−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノシ
ル）オネート］−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−
セリン・ベンジルエステル（８）の製造ニー Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−セリン・ベンジル
エステル（７）を文献記載の方法［Ｊ、　Ａｍｅｒ。

Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、、　８１．２１６６（１９５９）
］によって合或する。

Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−セリン・ベンジル
エステル（７）　（２，８１ｇ；　ｔｏミリモル）をジ
クロロメタン（５０ｍ１２）に溶かし、３Ａモレキユラ
ーシーブを加え、室温で３０分撹拌する。この混合物を
一３０°Ｃに冷却し、シアル酸供与体（４）　（５，６
１９；１１ミリモル）、統いて過塩素酸銀（３，２２ｇ
）を加え、同温度で３時間撹拌する。反応混合物を濾過
し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル）で分離し、
Ｏ−［メチル（５−アセタミド−４゜７．８．９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ
）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノ
シル）オネ−）］−］Ｎ−ベンジルオキシカルボニルー
Ｌセリン・ベンジルエステル（８）　（１，３０ｇ）を
得る。収率１７％。油状物質（８）はα、β−アノマー
の混合物である。

実施例５ ０−［メチル（５−アセタミド−３，５−ジデオキシ−
α（またはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラン１−−２−
ノニユロピラノシル）オネー）］−］Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニルーＬセリン（９）の製造： ０−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−３，５−ジデオキシ−σ（またはβ
）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−７ニユロピラノ
シル）オネート１−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ
−セリン・ベンジルエステル（８）（７３０ｍｇ；　０
．９１ミリモル）をメタノール（３０＋ｎ＋２）に溶か
し、Ｎ　−Ｎ　ａｏ　Ｈ（ｈｆｆ）を加え、終夜放置す
る。反応混合物にアンバーライトＣＧ−５０を加え、１
５分撹拌する。混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する。

粗生成物をＣＨＰ−２０Ｐカラムクロマトグラフイー（
溶離剤：水）で分離し、○−［メチル（５−アセタミド
−３，５−ジデオキシ−ａ（まｔ；はβ）−Ｄ−グリセ
ロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノシル）オネート
］−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル− 得る。収率５８％。このＩＲ績体をさらに精製すること
なくそのまま次の反応に用いる。

実施例６ ０−［（５−アセタミド−３．５−ジデオキシ−α（ま
たはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト２−ノニュロピ
ラノシルＭ）−２−イル］　−Ｌ−セリン（１０）の製
造ニー ０−［メチル（５−アセタミド−３．５−ジデオキシ−
α（またはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノ
ニュロピラノシル）オネート］−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−し−セリン（９）　（２４０ｒａｇ；　０．
４５ミリモル）をメタノール（　ｌｏｍＱ．）に溶かし
、１０％パラジウム炭素を加えて水素６化を行う。

反応混合物を終夜放置し、セライト上で濾過し、濾液を
減圧濃縮する。残渣をエタノールで洗い、０−［（５−
アセタミド−３．５−ジデオキシ−σ（またはβ）−Ｄ
−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２ノニユロピラノソンｉｌ
）−２−イル１−Ｌ−セリン（ｔｏ）　（２００，９）
を得る。収率８３％。ｍｐ２００〜２１０’Ｏ（分解）
。

元素分析：　Ｃｌ　４　Ｈ２４Ｎ　２０．・１．５Ｃ２
Ｈ５０Ｈ・３−５ＨｚＯとして 計算値（％）　：　Ｃ３８，６３、Ｈ７，６３、Ｎ５．
３０実測値（％）　：　Ｃ３８，４３、Ｈ５，７１，Ｎ
５．ＯＯマススペクトルＭ　Ｈ”　＝＝　３９７、（Ｍ
　＋　Ｎａ）”＝４１９゜実施例７ ０−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ
）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノ
シル）オネート１−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ
−セリン・ｎ−へキシルアミド（１２）の製造ニー Ｎ−ベンジルオキシカルボニルセリン（６，００９；２
５ミリモル）をジメチルホルムアミド（３ｈＩ２）に溶
かし、トリエチルアミン（２，５３９；　２５ミリモル
）およびジフェニルホスホリルアジド（７，７０９；　
２８ミリモル）、−次いでｎ−ヘキシルアミン（２，５
３ｇ；２５ミリモル）を加え、室温で終夜撹拌する。反
応混合物に酢酸エチルおよび水を加えて抽出する。

抽出物を乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をｎ−ヘキサ
ンで洗い、Ｎ−ベンジルオキシ−Ｌ−セリン・ｎ−ヘキ
シルアミド（１１）　（５，３６ｇ）を得る。

収率６６Ｌ　ｍ　ｐ　１００〜１０２°Ｃ０Ｎ−ベン・
ジルオキシ−Ｌ〜セリン・ｎ−へキシルアミド（１１）
　Ｃ２９４ｍ９；　１゜００ミリモル）をジクロロメタ
ン（ＩｏｎＱ）に溶かし、３Ａモレキユラーシーブを加
え、室温で３０分撹拌する。反応容器を一２０°Ｃに冷
却し、シアル酸供与体（４）　　（６１２ｍｇ；１．２
０ミリモル）、引き続いて過塩素酸銀（３１５ｍｇ；１
．４０ミリモル）を加え、５時間同温度で撹拌する。

反応混合物をセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶離剤ニジ
クロロメタン／メタノール−１９／１容量）で分離し、
Ｒｒ＝０．４２　（シリカゲル、上記展開溶媒）の溶出
分としてＯ−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，
９−テトラ−Ｏ−アセチル３．５−ジデオキシ−ａ（ま
たはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロ
ピラノシル）オネー）］−］Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニルーＬセリン・ｎ−へキシルアミド（１２）　（１９
０＋ｎｇ）を得る。

収率２４％。油状物質（１２）はβ−アノマーが主成分
である。さらにＲｆ＝０．３２の溶出分としてａ−アノ
マーが得られるが、シアル酸供与体（４）の脱塩化水素
体との分離は困難である。

実施例８ ０−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９テトラ
−Ｏ−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ）
−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノシ
ル）オネート］−Ｎ−セリン・ｎヘキシルアミド（１３
）の製造ニー ０−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ
）−〇−グリセローＤ−ガラクトー２−ノニュロピラノ
シル）オネート１−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ
−セリン・ｎ−へキシルアミド（１２）　（２，４０ｇ
；　３．０１ミリモル）をメタノール（６０ｍＱ）に溶
かし、１０％パラジウム炭素（２４０ｍｇ）を加え、水
素添加を行う。１時間１５分撹拌した後、反応混合物を
セライト上で濾過する。濾液を減圧濃縮し、得られる粗
生成物をそのまま次の反応に供する。ここに得られたＯ
−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９−テトラ
−Ｏ−アセチル−３゜５−ジデオキシ−ａ（またはβ）
−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノシ
ル）オネート］−Ｎ−セリン・ｎ−へキシルアミド（１
３）はシリカゲルカラムクロマトグラフィーで不安定で
あり、分子内で脱メタノールしてラクタム誘導体となる
。また、該化合物（１３）は溶液中（メタノール）でも
不安定であり、ゆるやかに分子内ラクタム化が進行する
。

実施例９ ０−［（５−アセタミド−３，５−ジデオキシ−σ（ま
たはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロ
ピラノシル酸）−２−イル１−Ｌ−セリン・ｎ−へキシ
ルアミド（１４）の製造ニー０−［メチル（５−アセタ
ミド−４，７，８，９−テトラ−○−アセチルー３．５
−ジデオキシ−α（またはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガ
ラクト−２−ノニュロピラノシル）オ不−ト］−Ｎ−セ
リン・ｎ　−ヘキシルアミド（１３）　（６５０ｍｇ；
　１．０ミリモル）をメタノール（３０ｍ１２）および
Ｎ−ＮａＯＨ（１０ｍ＋２）に溶かし、終夜放置する。

反応混合物にアンバーリストＣＧ−５０を加え、室温で
１５分撹拌する。

これをセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮する。

粗生成物をＬＨ−２０シリカゲルカラムクロマトグラフ
イー（溶離剤：水／メタノールー１７１容量）で分離し
、Ｏ−［（５−アセタミド−３，５ジデオキシ−σ（ま
たはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクトー２−ノニュロ
ビラノソン酸）−２−イル］−Ｌ−セリン・ｎ−へキシ
ルアミド（１４Ｘ１８０ｍｇ）ヲ得る。収率３８％。ｍ
　ｐ　１８２〜１９２°Ｃ０元素分析：　ＣｘｏＨ３ｙ
ＮｓＯｌｏ　・ＭｅＯＨ−Ｈ２０として 計算値（％）　：　Ｃ４７，６３、Ｈ８，１８、Ｈ７，
９３実測値（％）　：　Ｃ４７，４７、Ｈ７，２２、Ｎ
ａ、２６マススペクトル　ｍ／　Ｚ　＝４８０　（Ｍ＋
　Ｈ）”実施例１０ ０−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９−テト
ラ−０−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ
）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノ
シル）オネート］−Ｎ−アセチルーＬセリン・ｎ−へキ
シルアミド（１５ａ）の製造ニー〇−［メチル（５−ア
セタミド−４，７，８，９−テトラ−０−アセチル−３
，５−ジデオキシ−σ（またはβ）−Ｄ−グリセロ−Ｄ
−ガラクト−２−ノニュロピラノシル）オネート］−Ｎ
−セリン・ｎ　−へキシルアミド（１３）　（４００ｍ
ｇ；　０．６２ミリモル）をテトラヒドロフラン（ｌＯ
ｍＱ）に溶かし、酢酸ナトリウム（５１０ｍｇ；　６．
２ミリモル）の水（２ｍＭ）溶液、次いでアセチルクロ
リド（７３ｍｇ；　０．９３ミリモル）を加え、室温で
２．５時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロ
ロメタンおよび水を加えて抽出する。抽出物を硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤ニジクロロメ
タン／メタ／−ル＝ｌ　４／ｌ容量）で分離し、Ｒｆ　
＝　０．２７　（シリカゲル、上記展開溶媒）の溶出針
としてＯ−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９
−テトラ−○−アセチルー３．５−ジデオキシ−α（ま
たはβ）Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピ
ラノシル）オネート］−Ｎ−アセチル−し一セリン・ｎ
−へキシルアミド（１５ａ０３７０ｍ９）を得る。収率
８４％。ｍ　ｐ　９７〜１００℃ 元素分析：　Ｃ３＋ｌ１ｓＮｓＯ＋ｓ・０．５Ｈ２０と
して 計算値（％）：　Ｃ５２，２４、Ｈ７，０７、Ｈ５，９
０実測値（％）　：　Ｃ５２，２０、Ｈ６，９８、Ｎａ
、０４他のアシル化剤を使用し、上記と同様に反応を行
って、第４表に示す化合物（１５ｂ−１５ｃ）を得る。

ａ）ベンゾイルクロリドを使用。

ｂ）ｎ−プロピルイソシアネートを使用。

実施例１１ ０−［（５−アセタミド−３，５−ジデオキシ−（また
はβ）−Ｄ−グリセロ−〇−ガラクトー２−ノニュロピ
ラノソン＃）−２−イル］−Ｎ−アセチルーＬ−セリン
・ｎ−へキシルアミド（１６ａ）の製造ニー ０−［メチル（５−アセタミド−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−３，５−ジデオキシ−α（またはβ
）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノ
シル）オ不−１−］−Ｎ−アセチルーＬ−セリン・ｎ−
へキシルアミド（１５ａ）　（３７０ｍｇ；　０゜５３
ミリモル）をメタノール（１５ｍ（２）に溶かし、Ｎ−
ＮａＮ−Ｎａ０Ｈ（５を加え、室温で放置する。アンバ
ーライ）ＣＧ−５０を加え、室温で１５分撹拌し、反応
混合物をセライト上で濾過する。濾液を減圧濃縮し、残
渣をＬＨ−２０カラムクロマトグラフイー（溶離剤：１
７％水−メタノール）で分離し、Ｏ−［（５−アセタミ
ド−３，５−ジデオキシ−α（またはβ）−Ｄ−グリセ
ロ−Ｄ−ガラクト−２−ノニュロピラノシル酸）−２−
イル］−Ｎ−７セチルーＬ−セリン・ｎ−へキシルアミ
ド（１６ａ）（１４０ｍｇ）を得る。収率４８％。ｍ　
ｐ　１９５〜２０５°Ｃ０元素分析：Ｃ２□Ｈ３Ｉ　Ｎ
　３０．、−１．５・Ｈ２０として 計算値（％）　：　Ｃ４８，１７、Ｈ７，７２、Ｈ７，
６６実測値（％）　：　Ｃ４８，５６、Ｈ７，２６、Ｈ
７，７５マススペクトルｍ／Ｚ＝５４４　（Ｍ＋Ｎａ）
”同様の脱保護条件により、第５表に示す化合物（１６
ｂ−１６ｃ）を得る。

第５表 ａ　）　ＬＨ−２０カラムクロマトグラフイーて分離。

実施例１２ ｐＪ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（３，４゜６−
トリー〇−アセチルー２−アジド−２−デオキシ−ａ−
Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシル
アミド（１８）の製造ニーエチル−３，４，６−トリー
〇−アセチルー２−アジド−２−デオキシ−１−チオー
β−Ｄ−ガラクトピラノシド（１７）を文献記載の方法
［Ｈ，Ｐａｕｌｓｅｎら：　Ｌｉｅｂｉｇｓ　Ａｎｎ、
　Ｃｈｅｍ、、　１９８８．７５］によって合皮する。

エチル−３，４，６−１−ソー０−アセチル−２−アジ
ド−２−デオキシ−１−チオーβ−Ｄ−ガラクトピラノ
シド（１７）　（１，６ｈ　；　４．４０ミリモル）お
よびＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−セリン・ｎ−
へキシルアミド（１１）　（１，５５９；　５．３０ミ
リモル）をジクロロメタン（６５ｍ（２）およびトルエ
ン（３５ｍ（２）に溶かし、３Ａモレキユラーシープを
加え、室温で１５分撹拌する。反応混合物を５℃に冷却
し、ジメチル（メチルチオ）スルホニウムトリフルオロ
メタンスルホネート［Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、、　
ＰｅｒｋｉｎＴｒａｎｓ　ＩＩ　、　１９８２．１５６
９に記載された方法により調製する。］　（２，２７９
）を加え、冷却槽を外して２４２５時間撹拌する。反応
混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮し、得られる粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤ニジク
ロロメタン／酢酸エチル−４／ｌ容量）で分離し、Ｎ−
ベンジルオキシカルボニル−０−（３，４，６−トリー
Ｏ−アセチルー２−アジド−２−デオキシ−σ−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド
（１８）　（１，０８ｇ）を得る。収率３９％。ｍｐ７
４〜７７°Ｃ０ 元素分析：　Ｃ２ｓ　Ｈｓ　ｓ　Ｎ　ｓ　Ｏ、、・０．
１−Ｈ２０として 計算値（％）　：　Ｃ５４，６４、Ｈ６，５１，ＮＩｏ
、９９実測値（％）　：　Ｃ５４，３４、Ｈ６，３７、
Ｎ１１．０５実施例１３ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−０−（３，４゜６−ト
リー〇−アセチルー２−アセチルアミノ−２−デオキシ
−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へ
キシルアミド（１９）の製造ニーＮ−ベンジルオキシカ
ルボニル−０−（３，４゜６−トリー〇−アセチルー２
−アジド−２−デオキシ−σ−〇−ガラクトピラノシル
）−Ｌ−セリン”ｎ−へキシルアミド（１８）　（４８
０ｍｇ；　０．フロミリモル）をピリジン（５ｍＯおよ
び水（０，５ｍ（２）に溶かし、水冷下に硫化水素ガス
を２時間導入し、室温で３日間放置する。反応混合物を
減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−水に分配して抽出
する。

有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、得られたアミノ体の
ジクロロメタン溶液を濾過し、濾液にピリジン（０，５
＋ｘ（２）および無水酢酸（０，１ｍｆｆ）を加え、終
夜放置する。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチ
ル−水に分配し、有機層を分取し、乾燥する。溶媒を減
圧留去し、粗生成物をエーテルで洗い、これをさらにシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチ
ル）で精製し、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（
３，４，６−トリー〇〜アセチルー２−アセチルアミノ
−２−デオキシ−σ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−
セリン・ｎ−へキシルアミド（１９）　（３７０■）を
得る。

収率７５％。ｍ　ｐ　１３５〜１３８°Ｃ０この物質は
、そのアノメリック水素がＮＭＲでδ４．８７　（ｄ、
　Ｊ＝　４　Ｈｚ）であるところから、σ−アノマーで
あることが理解出来る。

元素分析：　Ｃｓ　ｒ　Ｈ４３Ｎ　ｉ　０１２・０．５
・Ｈ２０として 計算値（％）：　Ｃ５６，５２、Ｈ６，７３、Ｈ６，３
８実測値（％）　：　Ｃ５６，４５、Ｈ６，８１、Ｈ６
，４０実施例１４ Ｎ−（１−ヘキサノイル）−０−（３，４，６−トリー
〇−アセチルー２−アセチルアミノ−２−デオキシ−α
−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシ
ルアミド（２０）の製造ニーＮ−ベンジルオキシカルボ
ニル−〇−（３，４゜６−トリー〇−アセチルー２−ア
セチルアミノ−２−デオキシ−ａ−Ｄ−ガラクトピラノ
シル）Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（１９）　（４
５０ｍ９；　０゜６９ミリモル）をメタノール（４０ｍ
Ｑ）に溶かし、１０％パラジウム炭素を加え、水素ガス
を導入する。

反応混合物をセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮する
。粗製のアミノ体を精製することなくテトラヒドロフラ
ン（ｌＯ−）に溶かし、０℃に冷却し、酢酸ナトリウム
（０，６０９）および水（２−）を加える。次いでｎ−
ヘキサノイルクロリド（０，１４９）を加え、室温で２
時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロ
ロメタンおよび飽和重曹水に分配し、抽出する。有機層
を乾燥後、溶媒を減圧留去し、粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル）で分離
し、Ｎ−（１−ヘキサノイル）−０−（３，４，６−１
−リー〇−アセチルー２−アセチルアミノ−２−デオキ
シ−σ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−
へキシルアミド（２０）　（３００ｍｇ）を得る。

収率７１％。ｍ　ｐ　１３５〜１３６°Ｃ０元素分析：
　Ｃ２１Ｈ４７Ｎ　ｓ　Ｏ＋　＋・０．２Ｈ，Ｏとして
計算値（％）　：　Ｃ５６，４２、Ｈ７，７４、Ｈ６，
８１実測値（％）　：　Ｃ５６，２５、Ｈ７，９０、Ｈ
６，８８実施例１５ Ｎ−（１−ヘキサノイル）−０−（２−アセチルアミノ
−２−デオキシ−σ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−
セリン・ｎ−へキシルアミド（２１）の製造ニー Ｎ−（１−ヘキサノイル）−０−（３，４，６−トリー
〇−アセチルー２−アセチルアミノ−２−デオキシ−σ
−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシ
ルアミド（２０）　（１７０ｍｇ；　０．２８ミリモル
）をメタノール（３−）に溶かし、１８％アンモニア−
メタノール溶液５滴を加え、２時間撹拌する。さらに同
溶液１０滴を添加して、終夜放置する。反応混合物を減
圧濃縮し、粗生成物をエーテルで洗い、Ｎ−（１−ヘキ
サノイル）−〇−（２−アセチルアミノ−２−デオキシ
−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へ
キシルアミド（２１）　（９１ｍｇ）を得る。収率６７
％。ｍｐ２５８〜２６１”Ｏｏ 元素分析：　Ｃｘ５ＨａｌＮｓＯｓ’Ｈ２０として計算
値（％）　：　Ｃ５４，６３、Ｈ８，５７、Ｈ８，３１
実測値（％）　：　Ｃ５４，４６、Ｈ８，５６、Ｈ８，
２５実施例１６ ０−（２−アセチルアミノ−２−デオキシ−α−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド
（２２）　： Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（３，４゜６−ト
リー〇−アセチルー２−アセチルアミノ−２−デオキシ
−ａ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリフ　−ｎ−
ヘキシルアミド（１９）　（１０８ｍｇ；　０゜１７ミ
リモル）をメタノール（２ｍＱ）に溶かし、１０％パラ
ジウム炭素存在下に３０分水素添加を行う。

反応混合物をセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮し、
生成する粗製のアミノ体をメタノールに溶かし、１８％
アンモニア−メタノール溶液３滴を加え、終夜放置する
。反応混合物を減圧濃縮し、粗生成物をエタノールおよ
びエーテルで洗い、０（２−アセチルアミノ−２−デオ
キシ−α−Ｄガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−
へキシルアミド（２２）　（３０ｕ）を得る。収率４５
％。ｍ　ｐ　１５７〜１６２°Ｃ０ 元素分析：　Ｃ＋　ｙ　Ｈｓ　ｒ　Ｎ　ｓ　Ｏ７・０．
８Ｈ，Ｏとして計算値（％）　：　Ｃ５０，６８、Ｈ７
，９１、Ｎ　１０．４３実測値（％）　：　Ｃ５０，９
２、Ｈ８，１３、Ｎ　１０．４１実施例１７ ’ｐＪ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（２−７ジド
ー２−デオキシ−σ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−
セリン・ｎ−へキシルアミド（２３）の製造ニー Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（３，４゜６−ト
リーＯ−アセチルー９−ア・シト−９−、？すキシーａ
−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシ
ルアミド（１８）　（１，８９９；　２．９７ミリモル
）をメタノール（３に４）に溶かし、１１１１％アンモ
ニア−メタノール（ｌＴＲα）を加え、終夜放置する。

反応混合物を濾過し、粗生成物をエタノールで洗い、Ｎ
−ベンジルオキシカルボニル−〇　−（２−アジド−２
−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリ
ン・ｎ−へキシルアミド（２３）（１，４５１１９）を
得る。収率９６％。ｍｐ１８２〜１８４℃。

元素分析：　Ｃ２３Ｈｓ　ｓ　Ｎ　ｓ　Ｏａとして計算
値（％）：　Ｃ５４，２１，Ｈ６，９２、Ｎ１３．７４
実測値（％’）　：　Ｃ５４，０５、Ｈ６，７６、Ｎ１
３．５８実施例１８ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル− ジド−４．６．０−ベンジリデン−２−デオキシ−ａ−
Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシル
アミド（２４）の製造ニー Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（２−アジド−２
−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリ
ン・ｎ−へキシルアミド（２３）　（５０９１９　；　
ｌ　、００ミリモル）をアセトニトリル（２０μＱ）に
溶かし、ベンズアルデヒドジメチルアセクール（４５７
ｒＲｇ；　３．００ミリモル）およびアンバーリスト１
　５　（４０ｍｇ）を室温で加え、３５分撹拌する。反
応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤ニジクロロ
メタン／酢酸エチル−４／１容量）で分離し、Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−〇−（２−アジド−４．６．０
−ベンジリデン−２−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラ
ノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（２４）　
（３１０ｍｇ）を得る。収率５２％。ｍｐ１７７〜１８
０°Ｃ０ 元素分析：Ｃ，。Ｈ　３　１　Ｎ　ＳＯ２として計算値
（％）　：　Ｃ６０．２９、Ｈ６．５８、Ｎ１１．７２
実測値（％）　：　Ｃ６０．３３、Ｈ６．５３、Ｎ１１
．６２実施例１９ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−ｏ−　（３−。

（２．３．４．６−チトラーＯーアセチルーβ−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−２−アジド−４．６．０−ベンジ
リデン−２−デオキシ−ａ−Ｄ−ガラクトピアノシル）
−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（２６）の製造ニー ２、３．４．６−チトラーＯーアセチルーａ−Ｄ−ガラ
クトピラノシルトリクロロアセトイミゾ−１−　（２５
）を文献記載の方法［Ｌｉｅｂｉｇｓ　Ａｎｎ．　Ｃｈ
ｅｍ．。

Ｕ迦，　１２４９］によって合皮する。

Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（２−アジド−４
．６．０−ベンジリデン−２−デオキシ−α−Ｄ−ガラ
クトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（
２４）　（５９８ｍ９；　１．００ミリモル）および２
，３，４．６−チトラーＯーアセチルーα−Ｄ−ガラク
トピラノシルトリクロロアセトイミデート（２５）　（
７４０１１１ｇ；　１．５０ミリモル）をジクロロメタ
ン（１２＋１１２）に溶かし、３Ａモレキユラーシーブ
を加え、０〜５°Ｃ″′ｃｌＯ分撹拌する。次いでトリ
メチルシリルトリフレート（１８μａ）を加え、１時間
撹拌する。さらにトリメチルシリルトリ７レート（２０
μＱ）を加え、室温で３０分撹拌する。反応混合物にト
リエチルアミン３滴と水を加え、抽出する。

媒を減圧留去する。粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶離剤ニジクロロメタン／酢酸エチル−
４／ｌ容量）で分離し、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
− ６−テトラ−０−アセチルーβ−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）−２−アジド−４．６．０−ベンジリデン−２−デ
オキシ−σ−〇−ガラクトピアノシル）−Ｌ−セリン’
ｎ−へキシルアミド（２６Ｘ４８０ｍｇ）をアモルファ
ス状の固体として得る。収率５１％。

実施例２Ｏ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−　（３−０−（２
．３．４．６−チトラーＯーアセチルーβ−Ｄ−ガラク
トピラノシル）−２−アジド−４．６−ジーＯ−アセチ
ル−２−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ
−セリン・ｎ−へキシルアミド（２７）の製造ニー Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−　（３−０−（２
，３，４．６−チトラーＯーアセチルーβ−Ｄ−ガラク
トピラノシル）−２−アジド−４．６．０トビアノシル
）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（２６）　（１，
２６ｇ；　１．３６ミリモル）をジクロロメタン（６３
ｍＱ）に溶かし、−５°Ｃで１０％水−トリフルオロ酢
酸（３，ｂ＋＋ｆｆ）を加え、室温で４．５時間撹拌し
、終夜放置する。反応混合物に飽和重曹水およびジクロ
ロメタンを加えて分液する。有機層は硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗製の脱ベンジリデン体
をピリジン（１０＋＋＋（２）に溶かし、無水酢酸（１
ｍ（２）を加え、終夜撹拌する。反応混合物を減圧濃縮
し、飽和重曹水およびジクロロメタンを加え、抽出する
。有機層を乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗生放物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤ニジクロロ
メタン／酢酸エチル−４／ｌ容量）で分離し、Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−〇−（３−０−（２，３，４，
６テトラーＯ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル
）−２−アジド−４，６−ジー０−アセチル−２−デオ
キシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ
−ヘキシルアミド（２７０１，３ｈ）をアモルファス状
の固体として得る。収率９８％。

実施例２１ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（３−０−（２，
３，４，６−チトラーＯ−アセチル−β−り一ガラクト
ビラノシル）−２−アセチルアミノ−４，６−ジーＯ−
アセチル−２−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル
）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（２８）の製造ニ
ー Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（３−０（２，３
，４，６−チトラーＯ−アセチルーβ−Ｄ−ガラクトピ
ラノシル）−２−アジド−４，６−ジー０−アセチル−
２−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セ
リン・ｎ−へキシルアミド（２７）　（５８０＋＋＋ｇ
；　０．６３ミリモル）をピリジン（６１１（２）およ
び水（０，５ｍＱ）に溶かし、水冷下硫化水素ガスを１
時間導入する。反応混合物を密閉して終夜放置する。黒
赤色反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタンおよび硫
酸ナトリウムを加える。

溶媒を減圧留去し、粗製のアミノ体をピリジン（２ｉＩ
２）および無水酢酸（０，ｈｆｆ）に溶かし、終夜放置
する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタンおよび
飽和重曹水を加え、抽出する。有機層を乾燥後、溶媒を
減圧留去し、粗生放物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離剤ニジクロロメタン／酢酸エチル−１／ｌ
容量、次いで酢酸エチル）で分離し、Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−Ｏ−（３−○−（２，３，４，６−チト
ラー○−アセチルーβ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２
−アセチルアミノ−４，６−ジー０−アセチル−２−デ
オキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌセリン・ｎ
−へキシルアミド（２８）　（５００ｍｇ）をアモルフ
ァス状の固体として得る。収率８４％。

実施例２２ Ｎ−（１−ヘキサノイル）−〇−（３−０−（２゜３．
４．６−テトラ−０−アセチルーβ−Ｄ−ガラクトピラ
ノシル）−２−アセチルアミノ−４，６ジーＯ−アセチ
ル−２−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ
−セリン・ｎ−ヘキシルアミド（２９）の製造ニー Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（３−０−（２，
３，４，６−チトラーＯ−アセチルーβ−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−２−アセチルアミノ−４，６−ジー０−
アセチル−２−デオキシ−αＤ−ガラクトピラノシル）
−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（２８）　（５００
１１９；　０．５３ミリモル）を酢酸１滴を含むメタノ
ール（３５ｎ＋Ｑ）に溶かし、１０％パラジウム炭素を
加え、２時間室温で水素添加を行う。反応混合物をセラ
イト上で濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗製のアミノ体
をテトラヒドロフラン（ｌｂＱ）に溶かし、酢酸ナトリ
ウム（４５０ｍｇ）の水溶液（２＋ｌα）、次いでヘキ
サノイルクロリド（０，１１１Ｑ）を加え、室温で３時
間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタン
および飽和重曹水を加え、抽出する。抽出液を硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗生放物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル
）で分離し、Ｎ−（１−ヘキサノイル）−〇−（３−０
−（２，３，４，６−チトラーＯ−アセチルーβ−Ｄ−
ガラクトピラノシル）−２−アセチルアミノ−４，６−
ジー０−アセチル−２−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピ
ラノシル）−Ｌ−セリン・・ｎ−へキシルアミドＧ２９
）　（２９０ｍｇ）をアモルファス状の固体として得る
。収率６１％。

実施例２３ Ｎ−（１−ヘキサノイル）−０−（３−０−β−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−２−アセチルアミノ−２−デオキ
シ−ａ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−
へキシルアミド（３０）の製造Ｎ−（１−ヘキサノイル
）−０−（３−〇−（２゜３．４．６−チトラーＯ−ア
セチルーβ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−アセチル
アミノ−４，６ジー０−アセチル−２−デオキシ−α−
Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシル
アミド（２９）　（２４０１１９；　０．２６ミリモル
）をメタノール（５ａｆｆｉ）に溶かし、１８％アンモ
ニア−メタノール溶液１０滴を加え、室温で終夜放置す
る。析出する生成物を濾過し、メタノールで洗い、Ｎ−
（１−ヘキサノイル）−０−（３−０−β−Ｄ−ガラク
トピラノシル）−２−アセチルアミノ−２−デオキシ−
α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−ヘキ
シルアミド（３０）　（１２０ｍｇ）を得る。

収率７１％。［σ］ｐ　＋６９．８±２．３　（ｃ　＝
０．４７５．　ＤＭＳｏ）。

マススペクトルｍ／Ｚ＝６５２（Ｍ＋Ｈ）”元素分析：
　Ｃ２１Ｈｓ　ｓ　Ｎ　ｓ　ＯＩｓ・ｌ／４Ｈ２０とし
て計算値（％）　：　Ｃ５３，０８、Ｈ８，２２、Ｈ６
，４０実測値（％）　：　Ｃ５２，８７、Ｈ８，２８、
Ｈ６，６１実施例２４ ｏ−（３−ｏ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ア
セチルアミノ−２−デオキシ−α−Ｄ−ガラクトピラノ
シル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（３１）の製
造： Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−〇−（３−。

−Ｃ２，３，４，６−チトラーＯ−アセチルーβ−Ｄ−
ガラクトビラノシル）−２−アセチルアミノ４．６−ジ
ーＯ−アセチル−２−デオキシ−σＤ−ガラクトピラノ
シル）−Ｌ−セリン・ｎ−へキシルアミド（２８）　（
２１０ｕ　；　０−２２ミリモル）をメタノール（５−
）に溶かし、１０％パラジウム炭素を加え、室温で３時
間水素添加を行う。反応混合物をセライト上で濾過し、
濾液に１８％アンモニア−メタノール溶液１０滴を加え
、室温で終夜放置する。反応混合物を濾過し、濾液を減
圧濃縮する。

粗生成物をエーテルで洗い、０−（３−０−β−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−２−アセチルアミノ−２−デオキ
シ−σ−Ｄ−ガラクトピラノシル）−Ｌ−セリン・ｎ−
へキシルアミド（３１）を得る。

収率２４％。ｍ　ｐ　１５４〜１６０℃。

元素分析：ＣｚｓＨ４ｓＮｓｏｔ・０．３ＨｚＯとして
計算値（％）　：　Ｃ４９，４２、Ｈ７，８０、Ｈ７，
５２実測値（％）　：　Ｃ４９，６１％Ｈ７，６４、Ｈ
７，１３実施ＰＩ７ ＮＩＩＺ 実施例１Ｇ 実施例１１ 実施例１２ ７ ８ 実施例１３ １８ 実施例１４ 実施例１５ ０ ９ １ 実施例Ｉ６ ９ 実施例１７ ８ ３ ２ ３ ４ 実施例２０ 実施例２１ 実施例２２ ９

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒはシアル酸残基または３位にガラクトース残
   基をもっていてもよいＮ−アセチルガラクトサミン残基
   、Ｒ＾１は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿８アルキル、Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿１＿２アシル、置換Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アシルまたは
   Ｎ−アルキルカルバモイル、Ｒ＾２はヒドロキシ、Ｃ＿
   １〜Ｃ＿５アルコキシ、アミノまたはＣ＿１〜Ｃ＿８ア
   ルキルアミノをそれぞれ表す。） で示される化合物またはその塩。