JPH03176497A - セリン誘導体 - Google Patents
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- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はセリン誘導体、特に抗ウィルス剤や人工抗原と
して有用な次式で示されるシアロシルセリンあるいはN
−アセチルガラクトピラノシルセリン類に関する: NHR’ R−0−CH,CH−C○−R” (I)(式中
、Rはシアル酸残基または3位にガラクトース残基をも
っていてもよいN−アセチルガラクトサミン残基 R1
は水素、C1〜C8アルキル、c+”c+zアシル、置
換C1〜C+ZアシルまたはN−アルキルカルバモイル
、R2はヒドロキシ、C1〜C,アルコキシ、アミノま
たはC1〜C6アルキルアミノをそれぞれ表す。)。
して有用な次式で示されるシアロシルセリンあるいはN
−アセチルガラクトピラノシルセリン類に関する: NHR’ R−0−CH,CH−C○−R” (I)(式中
、Rはシアル酸残基または3位にガラクトース残基をも
っていてもよいN−アセチルガラクトサミン残基 R1
は水素、C1〜C8アルキル、c+”c+zアシル、置
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、R2はヒドロキシ、C1〜C,アルコキシ、アミノま
たはC1〜C6アルキルアミノをそれぞれ表す。)。
[従来の技術]
後天性免疫不全症の原因である後天性免疫不全症ウィル
スは、レトロウィルスであり、Tリンパ球を主細胞とす
るものである。その予防または治療のために、ウィルス
阻害剤の開発、特に宿主細胞−ウィルス結合抑制剤ある
いはウィルス複製抑制剤(たとえば逆転写酵素阻害剤、
グリコシダーゼ阻害剤)の開発が進められており、具体
的には核酸誘導体、アミノ糖誘導体、硫酸化糖、天然物
からの抽出化合物(キ)−1,て渣)かP゛の中でその
ような用途に適した作用を有する物質の検索が行われて
いる(特開平1−221364号明細書、特開平l−2
30517号明細書、特開平1−207215号明細書
、特開平1−238525号明細書、特開平1−238
533号明細書など参照)。
スは、レトロウィルスであり、Tリンパ球を主細胞とす
るものである。その予防または治療のために、ウィルス
阻害剤の開発、特に宿主細胞−ウィルス結合抑制剤ある
いはウィルス複製抑制剤(たとえば逆転写酵素阻害剤、
グリコシダーゼ阻害剤)の開発が進められており、具体
的には核酸誘導体、アミノ糖誘導体、硫酸化糖、天然物
からの抽出化合物(キ)−1,て渣)かP゛の中でその
ような用途に適した作用を有する物質の検索が行われて
いる(特開平1−221364号明細書、特開平l−2
30517号明細書、特開平1−207215号明細書
、特開平1−238525号明細書、特開平1−238
533号明細書など参照)。
他方、セリンはアミノ酸の中でも糖鎖が結合している頻
度の高いアミノ酸の一つであり、セリン−糖誘導体の中
には、Tn−抗原やT−抗原として注目をあびているも
のもある。Tn−抗原やT−抗原に対するモノクローナ
ル抗体は、腫瘍の診断および治療の可能性を有するもの
であるから、糖−セリン誘導体を人工抗原としてモノク
ローナル抗体を作成する試みも行われている[R,Ka
iruら: C:arbohyd、 Res、、 69
.79(1979)] 。
度の高いアミノ酸の一つであり、セリン−糖誘導体の中
には、Tn−抗原やT−抗原として注目をあびているも
のもある。Tn−抗原やT−抗原に対するモノクローナ
ル抗体は、腫瘍の診断および治療の可能性を有するもの
であるから、糖−セリン誘導体を人工抗原としてモノク
ローナル抗体を作成する試みも行われている[R,Ka
iruら: C:arbohyd、 Res、、 69
.79(1979)] 。
[発明が解決しようとする問題点1
抗ウイルス剤の開発に際して最も問題とされる点は、そ
れらが一般に強い毒性を有することである。従って、単
に抗ウィルス作用を有するのみならず、毒性の低い化合
物の開発が要望されている。
れらが一般に強い毒性を有することである。従って、単
に抗ウィルス作用を有するのみならず、毒性の低い化合
物の開発が要望されている。
他方、人工抗原としては、有効に抗体を産生出来る物質
であることが要求される。
であることが要求される。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、各種のセリン誘導体を合成し、これらに
ついて検討を重ねた結果、前記式(1)で示されるセリ
ン誘導体が一般に強い抗ウィルス作用を示す一方、その
毒性が比較的弱いものである事実、ならびにそれらのセ
リン誘導体が人工抗原として有効に抗体を産生出来る事
実を見いだし、本発明を完成するに至った。
ついて検討を重ねた結果、前記式(1)で示されるセリ
ン誘導体が一般に強い抗ウィルス作用を示す一方、その
毒性が比較的弱いものである事実、ならびにそれらのセ
リン誘導体が人工抗原として有効に抗体を産生出来る事
実を見いだし、本発明を完成するに至った。
たとえば、標準の抗エイズウイルステストで測定した場
合、次表の式(IA)で示されるシアロシルセリン類お
よび式(IB)で示されるN−アセチルガラクトシルピ
ラノシルセリン類はいずれも陽性を示し、特にR’−H
,R”−NHCIH,3であるシアロシルセリンは顕著
な抗エイズウイルス作用を示す。
合、次表の式(IA)で示されるシアロシルセリン類お
よび式(IB)で示されるN−アセチルガラクトシルピ
ラノシルセリン類はいずれも陽性を示し、特にR’−H
,R”−NHCIH,3であるシアロシルセリンは顕著
な抗エイズウイルス作用を示す。
シアロシルセリン類(IA)
化合物番号
IA−I
IA−2
IA−3
IA−4
υN
I
CH,C0
C,H,、C0
CIIH23CO
3
H
○H
H
H
IA−6
IA−7
IA−8
IA−9
IA−1゜
CHsCo
/!J:>C0
HOCH,C0
C5HyNHCO
NHCIH1s
NHC,H,。
NHC*Hrs
H
NHC,HI3
N−アセチルガラクトシルピラノシルセリン類(I B
) 化合物番号 R’ R” RsI
B −I Cs I(1+ CON HCs H
+ s HIB 2 HNHCaHls H
IB3 HNHCaHls Ga1IB4
CsH++CONHCaHls Ga1Gal−βl
ガラクトシル 本発明の目的物質であるセリン誘導体(I)は種々の方
法でこれを製造することが出来る。すなわち、セリン誘
導体(1)を製造するには、(a)セリンのヒドロキシ
基にシアル酸残基または3位にガラクトース残基を持っ
ていてもよいN−アセチルガラクトサミン残基を導入す
る反応と必要にF+−(h)セ11ンのアミノ2+アル
キルイh−アシル化またはアミド化する反応および/ま
たは(c)セリンのカルボキシル基をアミド化する反応
を適用する必要があるが、これら(a)、(b)および
(C)の各反応はそれぞれ任意の順序で実施されてよい
。
) 化合物番号 R’ R” RsI
B −I Cs I(1+ CON HCs H
+ s HIB 2 HNHCaHls H
IB3 HNHCaHls Ga1IB4
CsH++CONHCaHls Ga1Gal−βl
ガラクトシル 本発明の目的物質であるセリン誘導体(I)は種々の方
法でこれを製造することが出来る。すなわち、セリン誘
導体(1)を製造するには、(a)セリンのヒドロキシ
基にシアル酸残基または3位にガラクトース残基を持っ
ていてもよいN−アセチルガラクトサミン残基を導入す
る反応と必要にF+−(h)セ11ンのアミノ2+アル
キルイh−アシル化またはアミド化する反応および/ま
たは(c)セリンのカルボキシル基をアミド化する反応
を適用する必要があるが、これら(a)、(b)および
(C)の各反応はそれぞれ任意の順序で実施されてよい
。
また、必要に応じセリンに存在する官能基のいずれかを
予め保護しておき、所望の反応が終了してから保護基を
離脱せしめてもよい。以下にセリン誘導体(I)の典型
的な製法を例示する(チャート1参照)。
予め保護しておき、所望の反応が終了してから保護基を
離脱せしめてもよい。以下にセリン誘導体(I)の典型
的な製法を例示する(チャート1参照)。
第1工程
本工程は化合物(A)(セリンのカルボキシル基保護誘
導体)のアミノ基をアシル化して化合物(III)を得
る工程である。
導体)のアミノ基をアシル化して化合物(III)を得
る工程である。
上記工程は、化合物(A)にアシル化剤を反応させるこ
とによって行う。アシル化剤としては、保護されたヒド
ロキシ基を有することもあるカルボン酸(炭素数は通常
12を超えない。)またはその無水物もしくはハライド
が使用される。アシル化剤の具体例としては、酢酸、プ
ロピオン酸、ヘキサン酸、ラウリン酸、0−アセチルグ
リコール酸、安息香酸、p−メチル安息香酸、無水酢酸
、無水プロピオン酸、無水ヘキサン酸、無水ラウリン酸
、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ヘキサノ
イルクロリド、ラウリルクロリドなどが挙げられる。
とによって行う。アシル化剤としては、保護されたヒド
ロキシ基を有することもあるカルボン酸(炭素数は通常
12を超えない。)またはその無水物もしくはハライド
が使用される。アシル化剤の具体例としては、酢酸、プ
ロピオン酸、ヘキサン酸、ラウリン酸、0−アセチルグ
リコール酸、安息香酸、p−メチル安息香酸、無水酢酸
、無水プロピオン酸、無水ヘキサン酸、無水ラウリン酸
、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ヘキサノ
イルクロリド、ラウリルクロリドなどが挙げられる。
反応は不活性溶媒(たとえばクロロホルム、ジクロロメ
タン、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、水)中、必
要に応じ塩基(たとえばピリジン、トリエチルアミン、
4−ジメチルアミノピリジン、炭酸セシウム、酢酸ナト
リウム)の存在下に行えばよい。なお、アシル化剤とし
てカルボン酸を使用する場合には、反応を縮合剤(たと
えば2−クロロ−N−メチルピリジニウムアイオダイド
、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカ
ルボジイミド塩酸塩、トリエチルアミン、ピリジン)の
存在下に行うのが普通である。
タン、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、水)中、必
要に応じ塩基(たとえばピリジン、トリエチルアミン、
4−ジメチルアミノピリジン、炭酸セシウム、酢酸ナト
リウム)の存在下に行えばよい。なお、アシル化剤とし
てカルボン酸を使用する場合には、反応を縮合剤(たと
えば2−クロロ−N−メチルピリジニウムアイオダイド
、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカ
ルボジイミド塩酸塩、トリエチルアミン、ピリジン)の
存在下に行うのが普通である。
反応は冷却下ないし室温で数十分から数時間で行うこと
ができる。
ができる。
第2工程
本工程は化合物(III)のヒドロキシ基にシアル酸残
基を導入して化合物(V)を得る工程である。
基を導入して化合物(V)を得る工程である。
上記工程は、化合物(nI)に糖(シアル酸残基)供与
体の反応させてこれを行う。糖供与体としては、2−ク
ロロシアル酸エステルのヒドロキシル基がアセチル基で
保護されているもの、たとえば5−アセタミド−4,7
,8,9−テトラ−O−アセチル−2−クロO−2,3
,5−トリデオキシ−β−D−グリセローD−ガラクト
ー2−ノ二二ロピラノソン酸メチルエステルあるいはベ
ンジルエステルを用いることができる。また、上記の2
−クロロ体の代わりに、シアル酸の2位に低級アルキル
チオ基(たとえばメチルチオ、エチルチオ)を有する化
合物、たとえば5−アセタミド−4゜7.8.9−テト
ラ−O−アセチル−2−メチルチオまたはエチルチオ−
a−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロビラノ
ソン酸メチルエステルあるいはベンジルエステルを用い
ることもできる。
体の反応させてこれを行う。糖供与体としては、2−ク
ロロシアル酸エステルのヒドロキシル基がアセチル基で
保護されているもの、たとえば5−アセタミド−4,7
,8,9−テトラ−O−アセチル−2−クロO−2,3
,5−トリデオキシ−β−D−グリセローD−ガラクト
ー2−ノ二二ロピラノソン酸メチルエステルあるいはベ
ンジルエステルを用いることができる。また、上記の2
−クロロ体の代わりに、シアル酸の2位に低級アルキル
チオ基(たとえばメチルチオ、エチルチオ)を有する化
合物、たとえば5−アセタミド−4゜7.8.9−テト
ラ−O−アセチル−2−メチルチオまたはエチルチオ−
a−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロビラノ
ソン酸メチルエステルあるいはベンジルエステルを用い
ることもできる。
反応は糖供与体およびプロモーター存在下に行うことが
できる。糖供与体としてハロゲン化物を使用する場合に
は、プロモーターとして酸化銀、過塩素銀、トリフルオ
ロメタンスルホン酸銀、シアン化第二水銀、臭化水銀な
どが用いられ、糖供与体としてアルキルチオ体を使用す
る場合には、プロモーターとしてジメチル(メチルチオ
)スルホニウムトリフレート、トリフルオロメタン酸メ
チルエステル、フェニルセレニウムトリ7レートなどが
用いられる。反応に際しては、さらにモレキュラーシー
ブ(たとえばAW−300)、ドライライトのような脱
水乾燥剤を使用してもよい。
できる。糖供与体としてハロゲン化物を使用する場合に
は、プロモーターとして酸化銀、過塩素銀、トリフルオ
ロメタンスルホン酸銀、シアン化第二水銀、臭化水銀な
どが用いられ、糖供与体としてアルキルチオ体を使用す
る場合には、プロモーターとしてジメチル(メチルチオ
)スルホニウムトリフレート、トリフルオロメタン酸メ
チルエステル、フェニルセレニウムトリ7レートなどが
用いられる。反応に際しては、さらにモレキュラーシー
ブ(たとえばAW−300)、ドライライトのような脱
水乾燥剤を使用してもよい。
使用し得る溶媒としては、具体例としてジクロロメタン
、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エーテル、テトラヒドロ7ラン、
ジオキサン、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリルなどが挙げられる
。
、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エーテル、テトラヒドロ7ラン、
ジオキサン、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリルなどが挙げられる
。
反応は冷却から40°C位まで、数十分から数時間の間
で行うことができる。
で行うことができる。
糖供与体としてイミデートを用いる場合には、反応はル
イス酸(たとえば三フッ化ホウ素エーテラート、トリチ
メルシリルトリフレート)を用いて行う。この際脱水乾
燥剤としてモレキュラーシーブを共存させてもよい。溶
媒、反応時間は前記の場合と同様であってよい。
イス酸(たとえば三フッ化ホウ素エーテラート、トリチ
メルシリルトリフレート)を用いて行う。この際脱水乾
燥剤としてモレキュラーシーブを共存させてもよい。溶
媒、反応時間は前記の場合と同様であってよい。
第3工程
本工程は、化合物(V)のカルボキシル基の保護基や糖
残基のヒドロキシ保護基を脱離させてシアロシルアシル
セリン(Vl)を得る工程である。
残基のヒドロキシ保護基を脱離させてシアロシルアシル
セリン(Vl)を得る工程である。
上記の工程は、脱離させる保護基の性質に応じ、加水分
解や還元のような常法により行うことが出来る。
解や還元のような常法により行うことが出来る。
ヒドロキシ基のアシル保護基あるいはカルボキシル基の
エステル保護基は塩基を用いた加水分解により行うこと
ができる。塩基としてはアルカリ金属またはアルカリ土
類金属水酸化物、有機塩基などを用いることが出来、具
体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸セシウム、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、アンモニア、メチルアミン、トリメチ
ルアミン、ヒドラジン等が例示される。加水分解は、冷
却下ないし室温で、アルコール(たとえばメタノール、
エタノール、プロパノール、インプバノール)、エーテ
ル(たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン)
、水、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドな
どの溶剤中で実施されてよい。反応時間は、通常、数分
から24時間程度である。
エステル保護基は塩基を用いた加水分解により行うこと
ができる。塩基としてはアルカリ金属またはアルカリ土
類金属水酸化物、有機塩基などを用いることが出来、具
体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸セシウム、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、アンモニア、メチルアミン、トリメチ
ルアミン、ヒドラジン等が例示される。加水分解は、冷
却下ないし室温で、アルコール(たとえばメタノール、
エタノール、プロパノール、インプバノール)、エーテ
ル(たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン)
、水、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドな
どの溶剤中で実施されてよい。反応時間は、通常、数分
から24時間程度である。
また、保護基がベンジル基である場合には、これを還元
的に除去することができる。還元はパラジウム炭素や白
金のような金属触媒の存在下、常圧または加圧下(5気
圧程度まで)に水素添加を行う。溶媒としてはアルコー
ル(たとえばエタノール、メタノール、インプロパツー
ル)を用いるのが普通であり、これに酢酸やプロピオン
酸のような有I!酸を添加してもよい。反応は通常数時
間で完結する。
的に除去することができる。還元はパラジウム炭素や白
金のような金属触媒の存在下、常圧または加圧下(5気
圧程度まで)に水素添加を行う。溶媒としてはアルコー
ル(たとえばエタノール、メタノール、インプロパツー
ル)を用いるのが普通であり、これに酢酸やプロピオン
酸のような有I!酸を添加してもよい。反応は通常数時
間で完結する。
第4工程
本工程はセリンのアミノ基およびカルボキシル基保護誘
導体(■)のヒドロキシ基にジアール酸残基を導入して
保護シアロシルセリン化合物(■)を製造する工程であ
る。
導体(■)のヒドロキシ基にジアール酸残基を導入して
保護シアロシルセリン化合物(■)を製造する工程であ
る。
セリンのアミノ基の保護基としては、ベンジルオキシカ
ルボニル、t−ブチルオキシカルボニル、9−フルオレ
ニルメトキシカルボニル、2−ピリジルエトキシカルボ
ニル、アリルオキシカルボニルなどのようなウレタン型
のものを選ぶことができる。また、セリンのカルボキシ
基の保護基としては、ベンジルエステル、アリルエステ
ル、(1゜3−ジチアニル)メチルエステル、ピバロイ
ルエステル、2−ブロムエチルエステル、(2−トリメ
チルシリル)エチルエステルなどのようなエステル型の
ものを選択すればよい。
ルボニル、t−ブチルオキシカルボニル、9−フルオレ
ニルメトキシカルボニル、2−ピリジルエトキシカルボ
ニル、アリルオキシカルボニルなどのようなウレタン型
のものを選ぶことができる。また、セリンのカルボキシ
基の保護基としては、ベンジルエステル、アリルエステ
ル、(1゜3−ジチアニル)メチルエステル、ピバロイ
ルエステル、2−ブロムエチルエステル、(2−トリメ
チルシリル)エチルエステルなどのようなエステル型の
ものを選択すればよい。
N、O−ジ保護セリン(■)と糖(シアル酸残基)供与
体の反応は、第2工程に記載したと同様の条件により実
施することができる。
体の反応は、第2工程に記載したと同様の条件により実
施することができる。
第5工程
本工程は、保護シアロシルセリン化合物(■)のカルボ
キシル基の保護基およびジアール酸残基中のヒドロキシ
保護基を脱離させてアミノ基の保護されたシアロシルセ
リン化合物(]I)を製造する工程であって、これは第
3工程に記載したと同様の条件により実施することがで
きる。
キシル基の保護基およびジアール酸残基中のヒドロキシ
保護基を脱離させてアミノ基の保護されたシアロシルセ
リン化合物(]I)を製造する工程であって、これは第
3工程に記載したと同様の条件により実施することがで
きる。
第6エ程
本工程は、アミノ基の保護されたシアロシルセリン化合
物(Iりのアミノ保護基を除去してシアロシルセリン(
X)を得る工程である。
物(Iりのアミノ保護基を除去してシアロシルセリン(
X)を得る工程である。
アミノ保護基がベンジルオキシカルボニル基である場合
には、水素添加やシリコン誘導体(たとえばトリエチル
シラン、トリメチルシリルアイオダイド)により除去す
ることができる。水素添加の場合には、触媒としてパラ
ジウム炭素のような金属触媒を用い、常圧ないし加圧(
約5気圧)下ニ行う。溶媒としては、アルコール系の溶
媒(たとえばエタノール、メタノール、インプロパツー
ル)を用いるのが普通であるが、この際、有機酸(たと
えば酢酸、プロピオン酸)を添加してもよい。
には、水素添加やシリコン誘導体(たとえばトリエチル
シラン、トリメチルシリルアイオダイド)により除去す
ることができる。水素添加の場合には、触媒としてパラ
ジウム炭素のような金属触媒を用い、常圧ないし加圧(
約5気圧)下ニ行う。溶媒としては、アルコール系の溶
媒(たとえばエタノール、メタノール、インプロパツー
ル)を用いるのが普通であるが、この際、有機酸(たと
えば酢酸、プロピオン酸)を添加してもよい。
シリコン誘導体を用いる場合には、溶媒として双極性非
プロトン溶媒(たとえばアセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド)、ハロゲン化炭化水
素溶媒(たとえばジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素)、エーテル系溶媒(たとえばジエチルエーテル
、テトラヒドロ7ラン、ジオキサン)、芳香族炭化水素
溶媒(たとエバベンゼン、トルエン、クロロベンゼン)
ナトやこれらの混合溶媒が用いられる。
プロトン溶媒(たとえばアセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド)、ハロゲン化炭化水
素溶媒(たとえばジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素)、エーテル系溶媒(たとえばジエチルエーテル
、テトラヒドロ7ラン、ジオキサン)、芳香族炭化水素
溶媒(たとエバベンゼン、トルエン、クロロベンゼン)
ナトやこれらの混合溶媒が用いられる。
反応は冷却ないし用いる溶媒の沸点下に数十分ないし数
時間で進行する。
時間で進行する。
第7エ程
本工程は、アミノ基の保護されたセリン化合物(■′)
のカルボキシル基をアミド化してアミン基の保護された
セリンアミド化合物(n)を得る工程である。
のカルボキシル基をアミド化してアミン基の保護された
セリンアミド化合物(n)を得る工程である。
この工程は、アミノ基が保護されたセリン(アミン基の
保護基は第4工程に記載したアミノ保護基が用いられて
よい。)に対し、中性に近い条件で、分岐鎖をもってい
てもよいアルキルアミン(たとえばメチルアミン、エチ
ルアミン、イソプロピルアミン、ヘキシルアミン、オク
チルアミン)を、縮合剤(たとえば2−エトキシカルボ
ニル−1゜2−ジヒドロキノリン、ジフェニルホスホル
アミド溶媒としてはハロゲン化炭化水素(たとえばジク
ロロメタン、クロロホルム)、双極性非プロトン性溶媒
(たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド)などが用いられ、必要に応じてトリエチルアミン、
ピリジンのような三級アミン塩基を共存させてもよい。
保護基は第4工程に記載したアミノ保護基が用いられて
よい。)に対し、中性に近い条件で、分岐鎖をもってい
てもよいアルキルアミン(たとえばメチルアミン、エチ
ルアミン、イソプロピルアミン、ヘキシルアミン、オク
チルアミン)を、縮合剤(たとえば2−エトキシカルボ
ニル−1゜2−ジヒドロキノリン、ジフェニルホスホル
アミド溶媒としてはハロゲン化炭化水素(たとえばジク
ロロメタン、クロロホルム)、双極性非プロトン性溶媒
(たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド)などが用いられ、必要に応じてトリエチルアミン、
ピリジンのような三級アミン塩基を共存させてもよい。
反応は室温で数十分ないし数時間で進行する。
第8工程
本工程は、アミノ基の保護されたセリンアミド化合物(
n)のヒドロキシ基にジアール酸残基を導入して保護シ
アロシルセリンアミド化合物(XI[)を製造する工程
である。この工程は、第2工程に記載したと同様の条件
で実施することが出来る。
n)のヒドロキシ基にジアール酸残基を導入して保護シ
アロシルセリンアミド化合物(XI[)を製造する工程
である。この工程は、第2工程に記載したと同様の条件
で実施することが出来る。
第9工程
本工程は、保護シアロシルセリンアミド化合物(Il[
)のアミノ保護基を除去してシアロシルセリンアミド化
合物(XI[I)を得る工程である。
)のアミノ保護基を除去してシアロシルセリンアミド化
合物(XI[I)を得る工程である。
この工程は、第6エ程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。
ることが出来る。
第10工程
本工程は、化合物(Xl11)のカルボキシル基の保護
基や糖残基のヒドロキシ保護基を脱離させてシアロシル
セリンアミド(X■)を得る工程である。
基や糖残基のヒドロキシ保護基を脱離させてシアロシル
セリンアミド(X■)を得る工程である。
この工程は、第3工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。
ることが出来る。
第11工程
本工程は、化合物(xm)のアミノ基をアシル化して化
合物(X V)を得る工程である。
合物(X V)を得る工程である。
この工程は、第1工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。
ることが出来る。
第12工程
本工程は、化合物(X V)のカルボキシル基の保護基
や糖残基のヒドロキシ保護基を脱離させて化合物(XV
I)を得る工程である。
や糖残基のヒドロキシ保護基を脱離させて化合物(XV
I)を得る工程である。
この工程は、第3工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。
ることが出来る。
第13工程
本工程は、アミノ基の本されたセリンアミド(■)のヒ
ドロキシ基に2−アジドガラクトサミン酸残基を導入し
て本2−アジドガラクトピラノシルセリンアミド化合物
(X■)を製造する工程である。α−アノマーを得る目
的のためには、糖供与体としてチオグリシドを選ぶこと
ができ、たとえばエチル−3.4.6−1リーO−アセ
チル−2アジド−2−デオキシ−1−チオーβ−D−ガ
ラクトピラノシドを用いる。グリコジル化反応は第2工
程に記載したと同様の条件で実施できる。
ドロキシ基に2−アジドガラクトサミン酸残基を導入し
て本2−アジドガラクトピラノシルセリンアミド化合物
(X■)を製造する工程である。α−アノマーを得る目
的のためには、糖供与体としてチオグリシドを選ぶこと
ができ、たとえばエチル−3.4.6−1リーO−アセ
チル−2アジド−2−デオキシ−1−チオーβ−D−ガ
ラクトピラノシドを用いる。グリコジル化反応は第2工
程に記載したと同様の条件で実施できる。
第14工程
本工程は、アジド糖(X■)を還元し、生皮するアミノ
体を単離精製することなくアシル化してアミド体(Xf
f)を得る工程である。
体を単離精製することなくアシル化してアミド体(Xf
f)を得る工程である。
アジド基の還元剤としては、トリフェニルホスフィン、
トリエチルホスフィン、水素化アルミニウムリチウム、
トリエチルアミン−硫化水素、トリエチルアミン−メル
カプタンなどから選択すればよい。溶媒としてはアルコ
ール(たとえばメタノール、エタノール)、エーテル(
たとエバジエチルエーテル、テトラヒドロフラン)など
を用いることができる。ホスフィン類を用いる還元では
最初に生皮するホスフィンイミンの加水分解のために水
が必要である。反応は室温ないし加熱下数時間で行うこ
とができる。なお、本工程の還元は白金、パラジウム−
炭素などの触媒を用いた接触還元でも行うことができる
。
トリエチルホスフィン、水素化アルミニウムリチウム、
トリエチルアミン−硫化水素、トリエチルアミン−メル
カプタンなどから選択すればよい。溶媒としてはアルコ
ール(たとえばメタノール、エタノール)、エーテル(
たとエバジエチルエーテル、テトラヒドロフラン)など
を用いることができる。ホスフィン類を用いる還元では
最初に生皮するホスフィンイミンの加水分解のために水
が必要である。反応は室温ないし加熱下数時間で行うこ
とができる。なお、本工程の還元は白金、パラジウム−
炭素などの触媒を用いた接触還元でも行うことができる
。
生皮したアミノ体のアシル化は無水酢酸のような無水カ
ルボン酸を用いて行うことができる。溶媒としてはハロ
ゲン化炭化水素(たとえばジクロロメタン、クロロホル
ム)、エーテル(タトエハジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン)などを用いるのが普通であるが、ピリジン
、トリエチルアミンのような塩基を用いてもよい。反応
は室温で数時間ないし数日間で修了する。
ルボン酸を用いて行うことができる。溶媒としてはハロ
ゲン化炭化水素(たとえばジクロロメタン、クロロホル
ム)、エーテル(タトエハジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン)などを用いるのが普通であるが、ピリジン
、トリエチルアミンのような塩基を用いてもよい。反応
は室温で数時間ないし数日間で修了する。
第15工程
本工程は、アミド体(xII)におけるアミノ保護基の
除去とアミノ基のアシル化により化合物(X)を製造す
る工程である。アミノ保護基の除去は第6エ程における
記載と同様に、またアミノ基のアシル化は第1工程に記
載したと同様に実施することができる。
除去とアミノ基のアシル化により化合物(X)を製造す
る工程である。アミノ保護基の除去は第6エ程における
記載と同様に、またアミノ基のアシル化は第1工程に記
載したと同様に実施することができる。
第16エ程
本工程は、化合物(X X)のヒドロキシ保護基を脱離
させて、化合物(xn)を製造する工程である。
させて、化合物(xn)を製造する工程である。
この工程は、第3工程に記載したと同様の条件により実
施することができる。
施することができる。
第17エ程
本工程は、アミド体(Xff)のアミノ保護基とI!F
残基のヒドロキシ保護基を脱離させて、化合物(X川)
を得る工程である。
残基のヒドロキシ保護基を脱離させて、化合物(X川)
を得る工程である。
この工程におけるアミノ保護基の脱離は第6エ程で記載
したと同様の条件で、ヒドロキシ保護基の脱離は第3工
程で記載したと同様の条件で実施できる。
したと同様の条件で、ヒドロキシ保護基の脱離は第3工
程で記載したと同様の条件で実施できる。
第18工程
本工程は、アジド糖(X■)の糖残基におけるヒドロキ
シ保護基を脱離させて化合物(xxm)を得るものであ
る。この工程はM3工程で記載したと同様の条件で実施
できる。
シ保護基を脱離させて化合物(xxm)を得るものであ
る。この工程はM3工程で記載したと同様の条件で実施
できる。
第19工程
本工程は、化合物(XXII[)の構造をベンジリデン
アセタールとして保護して化合物(XXIV)を得る工
程である。
アセタールとして保護して化合物(XXIV)を得る工
程である。
ベンジリデンアセタール化のためには、ベンズアルデヒ
ドやベンズアルデヒドジメチルアセクールを用いて、酸
(たとえばトリフルオロ酢酸、塩化亜鉛、アンバーリス
ト15、カンファースルホン酸)の存在下に実施すれば
よい。溶媒としてはエーテル系溶媒(たとえばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン)、双極性溶媒(たとえ
ばジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルス
ルホキシド)などが使用され、またベンジリデン化試薬
を溶媒として使用してもよい。反応温度は室温ないし加
熱下に行い、数十分ないし数時間で反応は進行する。
ドやベンズアルデヒドジメチルアセクールを用いて、酸
(たとえばトリフルオロ酢酸、塩化亜鉛、アンバーリス
ト15、カンファースルホン酸)の存在下に実施すれば
よい。溶媒としてはエーテル系溶媒(たとえばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン)、双極性溶媒(たとえ
ばジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルス
ルホキシド)などが使用され、またベンジリデン化試薬
を溶媒として使用してもよい。反応温度は室温ないし加
熱下に行い、数十分ないし数時間で反応は進行する。
第20工程
ドロキシル基にガラクトースをβ位となるよう導入して
化合物(XXVI)を得る工程である。
化合物(XXVI)を得る工程である。
β−アノマーを得るためには、糖供与体として2.3.
4.6−チトラーO−アセチルーσ−D−ガラクトピラ
ノシル−トリクロロアセトイミデートあるいは対応する
ハライドを使用する。グリコジル化の条件は第2工程に
記載したと同様であってよい。
4.6−チトラーO−アセチルーσ−D−ガラクトピラ
ノシル−トリクロロアセトイミデートあるいは対応する
ハライドを使用する。グリコジル化の条件は第2工程に
記載したと同様であってよい。
第21工程
本工程は、化合物(XXVT)のベンジリデンアセター
ル基を脱離させてうえで遊離のヒドロキシ基を保護して
化合物(XX■)を得る工程である。
ル基を脱離させてうえで遊離のヒドロキシ基を保護して
化合物(XX■)を得る工程である。
ベンジリデンアセタールの脱離は酸存在下、加水分解に
より行うことができる。raとしてはトリフルオロ酢酸
、カンファースルホン酸などが使用され、また三塩化ホ
ウ素も使用できる。さらにパラジウム−炭素存在下の接
触還元によっても、脱離を遠戚できる。溶媒としてはハ
ロゲン化炭化水ラン)、芳香族炭化水素溶媒(たとえば
ベンゼン、トルエン)などが使用でき、水を共存させて
もよい。反応は冷却下から室温まで数十分から数時間で
終了する。
より行うことができる。raとしてはトリフルオロ酢酸
、カンファースルホン酸などが使用され、また三塩化ホ
ウ素も使用できる。さらにパラジウム−炭素存在下の接
触還元によっても、脱離を遠戚できる。溶媒としてはハ
ロゲン化炭化水ラン)、芳香族炭化水素溶媒(たとえば
ベンゼン、トルエン)などが使用でき、水を共存させて
もよい。反応は冷却下から室温まで数十分から数時間で
終了する。
ヒドロキシ基の保護は自体常套の方法で行えばよい。
第22工程
本工程は、化合物(XX■)のアジド基を還元してアミ
ノ基とし、次いでこれをアシル化することにより化合物
(XX■)を得る工程である。
ノ基とし、次いでこれをアシル化することにより化合物
(XX■)を得る工程である。
この工程は、第14工程に記載したと同様の条件で実施
することが出来る。
することが出来る。
第23工程
本工程は、化合物(XX■)のアミノ保護基の除去とア
ミノ基のアシル化により化合物(XXff)を得る工程
である。
ミノ基のアシル化により化合物(XXff)を得る工程
である。
この工程は、第15工程に記載したと同様の条件で実施
することが出来る。
することが出来る。
第24工程
本工程は、化合物(XXff)の糖残基のヒドロキシ保
護基を脱離させて、化合物(X X X)を得る工程で
ある。
護基を脱離させて、化合物(X X X)を得る工程で
ある。
この工程は、第3工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。
ることが出来る。
第25工程
本工程は、化合物(XX■)のアミン保護基と糖残基の
ヒドロキシ保護基を脱離させて、化合物(XXfl)を
得る工程である。
ヒドロキシ保護基を脱離させて、化合物(XXfl)を
得る工程である。
この工程は、第3工程に記載したと同様の条件で実施す
ることが出来る。
ることが出来る。
[実施例]
以下に実施例を挙げて本発明の目的化合物であるセリン
誘導体(1)の製造法を具体的に説明する(チャート2
参照)。
誘導体(1)の製造法を具体的に説明する(チャート2
参照)。
実施例1
N−アセチル−L−セリン・ベンジルエステル(3a)
の製造ニー ベンジルセリン(lX1.159 ; 5.0ミリモル
)をテトラヒドロ7ラン(40mM)に溶かし、50%
酢酸ナトリウム水溶液(30m12)およびアセチルク
ロリド(0,43+x(2)を加え、室温で4時間撹拌
する。反応混合物にエーテルを加えて抽出する。抽出物
を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去してNアセ
チル−L−セリン・ベンジルエステル(3a0590m
g)を得る。収率50%。m p 75〜78°C0他
のアシル化剤を使用し、上記と同様に反応を行って、第
1表に示すN−アシル−L−セリン・ベンジルエステル
(3b〜3e)ヲ得ル。
の製造ニー ベンジルセリン(lX1.159 ; 5.0ミリモル
)をテトラヒドロ7ラン(40mM)に溶かし、50%
酢酸ナトリウム水溶液(30m12)およびアセチルク
ロリド(0,43+x(2)を加え、室温で4時間撹拌
する。反応混合物にエーテルを加えて抽出する。抽出物
を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去してNアセ
チル−L−セリン・ベンジルエステル(3a0590m
g)を得る。収率50%。m p 75〜78°C0他
のアシル化剤を使用し、上記と同様に反応を行って、第
1表に示すN−アシル−L−セリン・ベンジルエステル
(3b〜3e)ヲ得ル。
実施例2
0−〔メチル(5−アセタミド−4,7,8,9テトラ
−0−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニユロビラノシ
ル)オネート]−N−アセチルーL−セリン・ベンジル
エステル(5a)の製造ニーシアル酸供与体である5−
アセタミド−4,7゜8.9−テトラ−0−アセチル−
2−クロロ−2゜3.5−トリデオキシ−β−D−グリ
セローD−ガラクトー2−ノニュロピラノソン酸メチル
エステル(4)を文献記載の方法[Chem、 Pha
rm、 Bull、。
−0−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニユロビラノシ
ル)オネート]−N−アセチルーL−セリン・ベンジル
エステル(5a)の製造ニーシアル酸供与体である5−
アセタミド−4,7゜8.9−テトラ−0−アセチル−
2−クロロ−2゜3.5−トリデオキシ−β−D−グリ
セローD−ガラクトー2−ノニュロピラノソン酸メチル
エステル(4)を文献記載の方法[Chem、 Pha
rm、 Bull、。
■、 2725(1986)]によって合成する。
N−アセチル−L−セリン・ベンジルエステル(3aX
540+++g; 2.28ミリモル)をジクロロメタ
ン(30−)に溶かし、3Aモレキユラーシーブを加え
、室温で30分撹拌する。この混合物を一30’Oに冷
却し、シアル酸供与体(4X1.4h;2.74ミリモ
ル)および過塩素銀(0,68g)を加え、1時間撹拌
し、終夜放置する。反応混合物をセライト上で濾過し、
濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マ、トゲラフイー(溶離剤:酢酸エチル)で分離し、R
r =0.13 (シリカゲル、酢酸エチル)の溶出分
としてO−[メチル(5−アセタミド〜4゜78.9−
テトラ−○−アセチルー3,5−ジデオキシ−σ(また
はβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピ
ラノシル)オネート1〜N−アセチルーL−セリン・ベ
ンジルエステル(5a)(700mg)を得る。収率4
3%。油状物質(5a)のアノマー比はα/β−l/2
である。
540+++g; 2.28ミリモル)をジクロロメタ
ン(30−)に溶かし、3Aモレキユラーシーブを加え
、室温で30分撹拌する。この混合物を一30’Oに冷
却し、シアル酸供与体(4X1.4h;2.74ミリモ
ル)および過塩素銀(0,68g)を加え、1時間撹拌
し、終夜放置する。反応混合物をセライト上で濾過し、
濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マ、トゲラフイー(溶離剤:酢酸エチル)で分離し、R
r =0.13 (シリカゲル、酢酸エチル)の溶出分
としてO−[メチル(5−アセタミド〜4゜78.9−
テトラ−○−アセチルー3,5−ジデオキシ−σ(また
はβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピ
ラノシル)オネート1〜N−アセチルーL−セリン・ベ
ンジルエステル(5a)(700mg)を得る。収率4
3%。油状物質(5a)のアノマー比はα/β−l/2
である。
他のN−アシル−L−セリン・ベンジルエステル(3b
〜3e)化剤を使用し、上記と同様に反応を行って、第
2表に示す化合物(5b〜5e)を得る。
〜3e)化剤を使用し、上記と同様に反応を行って、第
2表に示す化合物(5b〜5e)を得る。
なお、上記の反応条件の下においては、一般にβ−アノ
マーが主生成物となる。
マーが主生成物となる。
実施例3
0−[メチル(5−アセタミド−3,5−ジデオキシ−
α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノ
ニュロピラノシル)オネート]−N−アセチルーL−セ
リン・ベンジルエステル(6a)の製造ニー 〇−保護シアロシルセリン(5aX700mg; 0.
99ミリモル)をメタノール(3hff)に溶かし、N
−NN−Na0H(4を加え、室温で終夜放置する。こ
の混合物にアンバーライトCG−50を加え、撹拌する
。これを濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をCH
P−20Pカラムクロマトグラフイー(溶離剤: H,
O)で分離し、溶出液を濃縮後、エタノールで生成物を
洗い、○−[メチル(5−アセタミド−3,5−ジデオ
キシ−σ(またはβ)−〇−グリセローD−ガラクトー
2−ノニュロピラノシル)オネート]−N−アセチルー
L−セリンベンジルエステル(6a) (150mg)
を得る。収率28%。m p 196〜206℃(発泡
分解)。
α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノ
ニュロピラノシル)オネート]−N−アセチルーL−セ
リン・ベンジルエステル(6a)の製造ニー 〇−保護シアロシルセリン(5aX700mg; 0.
99ミリモル)をメタノール(3hff)に溶かし、N
−NN−Na0H(4を加え、室温で終夜放置する。こ
の混合物にアンバーライトCG−50を加え、撹拌する
。これを濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をCH
P−20Pカラムクロマトグラフイー(溶離剤: H,
O)で分離し、溶出液を濃縮後、エタノールで生成物を
洗い、○−[メチル(5−アセタミド−3,5−ジデオ
キシ−σ(またはβ)−〇−グリセローD−ガラクトー
2−ノニュロピラノシル)オネート]−N−アセチルー
L−セリンベンジルエステル(6a) (150mg)
を得る。収率28%。m p 196〜206℃(発泡
分解)。
、−瑯a悟、r ロ入rへ 、r−ローn口、9H2O
として 計算値(%) : C40,15、H7,ll、N5.
20実測値(%) : C40,12、H5,84、N
5.02他のo−保護シアロシルセリン(5b〜5e)
を使用し、上記と同様に反応を行って、第3表に示す化
合物(6b〜6e)を得る。
として 計算値(%) : C40,15、H7,ll、N5.
20実測値(%) : C40,12、H5,84、N
5.02他のo−保護シアロシルセリン(5b〜5e)
を使用し、上記と同様に反応を行って、第3表に示す化
合物(6b〜6e)を得る。
第3表“ゝ
a)Iffi績体はLH−20カラムクロマトグラフイ
ーを使用して分離。
ーを使用して分離。
実施例4
0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9テトラ
−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシ
ル)オネート]−N−ベンジルオキシカルボニル−L−
セリン・ベンジルエステル(8)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−L−セリン・ベンジル
エステル(7)を文献記載の方法[J、 Amer。
−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシ
ル)オネート]−N−ベンジルオキシカルボニル−L−
セリン・ベンジルエステル(8)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−L−セリン・ベンジル
エステル(7)を文献記載の方法[J、 Amer。
Chem、 Soc、、 81.2166(1959)
]によって合或する。
]によって合或する。
N−ベンジルオキシカルボニル−L−セリン・ベンジル
エステル(7) (2,81g; toミリモル)をジ
クロロメタン(50m12)に溶かし、3Aモレキユラ
ーシーブを加え、室温で30分撹拌する。この混合物を
一30°Cに冷却し、シアル酸供与体(4) (5,6
19;11ミリモル)、統いて過塩素酸銀(3,22g
)を加え、同温度で3時間撹拌する。反応混合物を濾過
し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル)で分離し、
O−[メチル(5−アセタミド−4゜7.8.9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オネ−)]−]N−ベンジルオキシカルボニルー
Lセリン・ベンジルエステル(8) (1,30g)を
得る。収率17%。油状物質(8)はα、β−アノマー
の混合物である。
エステル(7) (2,81g; toミリモル)をジ
クロロメタン(50m12)に溶かし、3Aモレキユラ
ーシーブを加え、室温で30分撹拌する。この混合物を
一30°Cに冷却し、シアル酸供与体(4) (5,6
19;11ミリモル)、統いて過塩素酸銀(3,22g
)を加え、同温度で3時間撹拌する。反応混合物を濾過
し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル)で分離し、
O−[メチル(5−アセタミド−4゜7.8.9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オネ−)]−]N−ベンジルオキシカルボニルー
Lセリン・ベンジルエステル(8) (1,30g)を
得る。収率17%。油状物質(8)はα、β−アノマー
の混合物である。
実施例5
0−[メチル(5−アセタミド−3,5−ジデオキシ−
α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガラン1−−2−
ノニユロピラノシル)オネー)]−]N−ベンジルオキ
シカルボニルーLセリン(9)の製造: 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−σ(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−7ニユロピラノ
シル)オネート1−N−ベンジルオキシカルボニル−L
−セリン・ベンジルエステル(8)(730mg; 0
.91ミリモル)をメタノール(30+n+2)に溶か
し、N −N ao H(hff)を加え、終夜放置す
る。反応混合物にアンバーライトCG−50を加え、1
5分撹拌する。混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する。
α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガラン1−−2−
ノニユロピラノシル)オネー)]−]N−ベンジルオキ
シカルボニルーLセリン(9)の製造: 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−σ(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−7ニユロピラノ
シル)オネート1−N−ベンジルオキシカルボニル−L
−セリン・ベンジルエステル(8)(730mg; 0
.91ミリモル)をメタノール(30+n+2)に溶か
し、N −N ao H(hff)を加え、終夜放置す
る。反応混合物にアンバーライトCG−50を加え、1
5分撹拌する。混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する。
粗生成物をCHP−20Pカラムクロマトグラフイー(
溶離剤:水)で分離し、○−[メチル(5−アセタミド
−3,5−ジデオキシ−a(まt;はβ)−D−グリセ
ロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシル)オネート
]−N−ベンジルオキシカルボニル− 得る。収率58%。このIR績体をさらに精製すること
なくそのまま次の反応に用いる。
溶離剤:水)で分離し、○−[メチル(5−アセタミド
−3,5−ジデオキシ−a(まt;はβ)−D−グリセ
ロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシル)オネート
]−N−ベンジルオキシカルボニル− 得る。収率58%。このIR績体をさらに精製すること
なくそのまま次の反応に用いる。
実施例6
0−[(5−アセタミド−3.5−ジデオキシ−α(ま
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト2−ノニュロピ
ラノシルM)−2−イル] −L−セリン(10)の製
造ニー 0−[メチル(5−アセタミド−3.5−ジデオキシ−
α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノ
ニュロピラノシル)オネート]−N−ベンジルオキシカ
ルボニル−し−セリン(9) (240rag; 0.
45ミリモル)をメタノール( lomQ.)に溶かし
、10%パラジウム炭素を加えて水素6化を行う。
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト2−ノニュロピ
ラノシルM)−2−イル] −L−セリン(10)の製
造ニー 0−[メチル(5−アセタミド−3.5−ジデオキシ−
α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノ
ニュロピラノシル)オネート]−N−ベンジルオキシカ
ルボニル−し−セリン(9) (240rag; 0.
45ミリモル)をメタノール( lomQ.)に溶かし
、10%パラジウム炭素を加えて水素6化を行う。
反応混合物を終夜放置し、セライト上で濾過し、濾液を
減圧濃縮する。残渣をエタノールで洗い、0−[(5−
アセタミド−3.5−ジデオキシ−σ(またはβ)−D
−グリセロ−D−ガラクト−2ノニユロピラノソンil
)−2−イル1−L−セリン(to) (200,9)
を得る。収率83%。mp200〜210’O(分解)
。
減圧濃縮する。残渣をエタノールで洗い、0−[(5−
アセタミド−3.5−ジデオキシ−σ(またはβ)−D
−グリセロ−D−ガラクト−2ノニユロピラノソンil
)−2−イル1−L−セリン(to) (200,9)
を得る。収率83%。mp200〜210’O(分解)
。
元素分析: Cl 4 H24N 20.・1.5C2
H50H・3−5HzOとして 計算値(%) : C38,63、H7,63、N5.
30実測値(%) : C38,43、H5,71,N
5.OOマススペクトルM H” == 397、(M
+ Na)”=419゜実施例7 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オネート1−N−ベンジルオキシカルボニル−L
−セリン・n−へキシルアミド(12)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニルセリン(6,009;2
5ミリモル)をジメチルホルムアミド(3hI2)に溶
かし、トリエチルアミン(2,539; 25ミリモル
)およびジフェニルホスホリルアジド(7,709;
28ミリモル)、−次いでn−ヘキシルアミン(2,5
3g;25ミリモル)を加え、室温で終夜撹拌する。反
応混合物に酢酸エチルおよび水を加えて抽出する。
H50H・3−5HzOとして 計算値(%) : C38,63、H7,63、N5.
30実測値(%) : C38,43、H5,71,N
5.OOマススペクトルM H” == 397、(M
+ Na)”=419゜実施例7 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オネート1−N−ベンジルオキシカルボニル−L
−セリン・n−へキシルアミド(12)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニルセリン(6,009;2
5ミリモル)をジメチルホルムアミド(3hI2)に溶
かし、トリエチルアミン(2,539; 25ミリモル
)およびジフェニルホスホリルアジド(7,709;
28ミリモル)、−次いでn−ヘキシルアミン(2,5
3g;25ミリモル)を加え、室温で終夜撹拌する。反
応混合物に酢酸エチルおよび水を加えて抽出する。
抽出物を乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をn−ヘキサ
ンで洗い、N−ベンジルオキシ−L−セリン・n−ヘキ
シルアミド(11) (5,36g)を得る。
ンで洗い、N−ベンジルオキシ−L−セリン・n−ヘキ
シルアミド(11) (5,36g)を得る。
収率66L m p 100〜102°C0N−ベン・
ジルオキシ−L〜セリン・n−へキシルアミド(11)
C294m9; 1゜00ミリモル)をジクロロメタ
ン(IonQ)に溶かし、3Aモレキユラーシーブを加
え、室温で30分撹拌する。反応容器を一20°Cに冷
却し、シアル酸供与体(4) (612mg;1.2
0ミリモル)、引き続いて過塩素酸銀(315mg;1
.40ミリモル)を加え、5時間同温度で撹拌する。
ジルオキシ−L〜セリン・n−へキシルアミド(11)
C294m9; 1゜00ミリモル)をジクロロメタ
ン(IonQ)に溶かし、3Aモレキユラーシーブを加
え、室温で30分撹拌する。反応容器を一20°Cに冷
却し、シアル酸供与体(4) (612mg;1.2
0ミリモル)、引き続いて過塩素酸銀(315mg;1
.40ミリモル)を加え、5時間同温度で撹拌する。
反応混合物をセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶離剤ニジ
クロロメタン/メタノール−19/1容量)で分離し、
Rr=0.42 (シリカゲル、上記展開溶媒)の溶出
分としてO−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,
9−テトラ−O−アセチル3.5−ジデオキシ−a(ま
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロ
ピラノシル)オネー)]−]N−ベンジルオキシカルボ
ニルーLセリン・n−へキシルアミド(12) (19
0+ng)を得る。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶離剤ニジ
クロロメタン/メタノール−19/1容量)で分離し、
Rr=0.42 (シリカゲル、上記展開溶媒)の溶出
分としてO−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,
9−テトラ−O−アセチル3.5−ジデオキシ−a(ま
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロ
ピラノシル)オネー)]−]N−ベンジルオキシカルボ
ニルーLセリン・n−へキシルアミド(12) (19
0+ng)を得る。
収率24%。油状物質(12)はβ−アノマーが主成分
である。さらにRf=0.32の溶出分としてa−アノ
マーが得られるが、シアル酸供与体(4)の脱塩化水素
体との分離は困難である。
である。さらにRf=0.32の溶出分としてa−アノ
マーが得られるが、シアル酸供与体(4)の脱塩化水素
体との分離は困難である。
実施例8
0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9テトラ
−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシ
ル)オネート]−N−セリン・nヘキシルアミド(13
)の製造ニー 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−〇−グリセローD−ガラクトー2−ノニュロピラノ
シル)オネート1−N−ベンジルオキシカルボニル−L
−セリン・n−へキシルアミド(12) (2,40g
; 3.01ミリモル)をメタノール(60mQ)に溶
かし、10%パラジウム炭素(240mg)を加え、水
素添加を行う。1時間15分撹拌した後、反応混合物を
セライト上で濾過する。濾液を減圧濃縮し、得られる粗
生成物をそのまま次の反応に供する。ここに得られたO
−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ
−O−アセチル−3゜5−ジデオキシ−a(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシ
ル)オネート]−N−セリン・n−へキシルアミド(1
3)はシリカゲルカラムクロマトグラフィーで不安定で
あり、分子内で脱メタノールしてラクタム誘導体となる
。また、該化合物(13)は溶液中(メタノール)でも
不安定であり、ゆるやかに分子内ラクタム化が進行する
。
−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシ
ル)オネート]−N−セリン・nヘキシルアミド(13
)の製造ニー 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−〇−グリセローD−ガラクトー2−ノニュロピラノ
シル)オネート1−N−ベンジルオキシカルボニル−L
−セリン・n−へキシルアミド(12) (2,40g
; 3.01ミリモル)をメタノール(60mQ)に溶
かし、10%パラジウム炭素(240mg)を加え、水
素添加を行う。1時間15分撹拌した後、反応混合物を
セライト上で濾過する。濾液を減圧濃縮し、得られる粗
生成物をそのまま次の反応に供する。ここに得られたO
−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テトラ
−O−アセチル−3゜5−ジデオキシ−a(またはβ)
−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシ
ル)オネート]−N−セリン・n−へキシルアミド(1
3)はシリカゲルカラムクロマトグラフィーで不安定で
あり、分子内で脱メタノールしてラクタム誘導体となる
。また、該化合物(13)は溶液中(メタノール)でも
不安定であり、ゆるやかに分子内ラクタム化が進行する
。
実施例9
0−[(5−アセタミド−3,5−ジデオキシ−σ(ま
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロ
ピラノシル酸)−2−イル1−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(14)の製造ニー0−[メチル(5−アセタ
ミド−4,7,8,9−テトラ−○−アセチルー3.5
−ジデオキシ−α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガ
ラクト−2−ノニュロピラノシル)オ不−ト]−N−セ
リン・n −ヘキシルアミド(13) (650mg;
1.0ミリモル)をメタノール(30m12)および
N−NaOH(10m+2)に溶かし、終夜放置する。
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロ
ピラノシル酸)−2−イル1−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(14)の製造ニー0−[メチル(5−アセタ
ミド−4,7,8,9−テトラ−○−アセチルー3.5
−ジデオキシ−α(またはβ)−D−グリセロ−D−ガ
ラクト−2−ノニュロピラノシル)オ不−ト]−N−セ
リン・n −ヘキシルアミド(13) (650mg;
1.0ミリモル)をメタノール(30m12)および
N−NaOH(10m+2)に溶かし、終夜放置する。
反応混合物にアンバーリストCG−50を加え、室温で
15分撹拌する。
15分撹拌する。
これをセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮する。
粗生成物をLH−20シリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(溶離剤:水/メタノールー171容量)で分離し
、O−[(5−アセタミド−3,5ジデオキシ−σ(ま
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクトー2−ノニュロ
ビラノソン酸)−2−イル]−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(14X180mg)ヲ得る。収率38%。m
p 182〜192°C0元素分析: CxoH3y
NsOlo ・MeOH−H20として 計算値(%) : C47,63、H8,18、H7,
93実測値(%) : C47,47、H7,22、N
a、26マススペクトル m/ Z =480 (M+
H)”実施例10 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−0−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オネート]−N−アセチルーLセリン・n−へキ
シルアミド(15a)の製造ニー〇−[メチル(5−ア
セタミド−4,7,8,9−テトラ−0−アセチル−3
,5−ジデオキシ−σ(またはβ)−D−グリセロ−D
−ガラクト−2−ノニュロピラノシル)オネート]−N
−セリン・n −へキシルアミド(13) (400m
g; 0.62ミリモル)をテトラヒドロフラン(lO
mQ)に溶かし、酢酸ナトリウム(510mg; 6.
2ミリモル)の水(2mM)溶液、次いでアセチルクロ
リド(73mg; 0.93ミリモル)を加え、室温で
2.5時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロ
ロメタンおよび水を加えて抽出する。抽出物を硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジクロロメ
タン/メタ/−ル=l 4/l容量)で分離し、Rf
= 0.27 (シリカゲル、上記展開溶媒)の溶出針
としてO−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9
−テトラ−○−アセチルー3.5−ジデオキシ−α(ま
たはβ)D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピ
ラノシル)オネート]−N−アセチル−し一セリン・n
−へキシルアミド(15a0370m9)を得る。収率
84%。m p 97〜100℃ 元素分析: C3+l1sNsO+s・0.5H20と
して 計算値(%): C52,24、H7,07、H5,9
0実測値(%) : C52,20、H6,98、Na
、04他のアシル化剤を使用し、上記と同様に反応を行
って、第4表に示す化合物(15b−15c)を得る。
イー(溶離剤:水/メタノールー171容量)で分離し
、O−[(5−アセタミド−3,5ジデオキシ−σ(ま
たはβ)−D−グリセロ−D−ガラクトー2−ノニュロ
ビラノソン酸)−2−イル]−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(14X180mg)ヲ得る。収率38%。m
p 182〜192°C0元素分析: CxoH3y
NsOlo ・MeOH−H20として 計算値(%) : C47,63、H8,18、H7,
93実測値(%) : C47,47、H7,22、N
a、26マススペクトル m/ Z =480 (M+
H)”実施例10 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−0−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オネート]−N−アセチルーLセリン・n−へキ
シルアミド(15a)の製造ニー〇−[メチル(5−ア
セタミド−4,7,8,9−テトラ−0−アセチル−3
,5−ジデオキシ−σ(またはβ)−D−グリセロ−D
−ガラクト−2−ノニュロピラノシル)オネート]−N
−セリン・n −へキシルアミド(13) (400m
g; 0.62ミリモル)をテトラヒドロフラン(lO
mQ)に溶かし、酢酸ナトリウム(510mg; 6.
2ミリモル)の水(2mM)溶液、次いでアセチルクロ
リド(73mg; 0.93ミリモル)を加え、室温で
2.5時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロ
ロメタンおよび水を加えて抽出する。抽出物を硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジクロロメ
タン/メタ/−ル=l 4/l容量)で分離し、Rf
= 0.27 (シリカゲル、上記展開溶媒)の溶出針
としてO−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9
−テトラ−○−アセチルー3.5−ジデオキシ−α(ま
たはβ)D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピ
ラノシル)オネート]−N−アセチル−し一セリン・n
−へキシルアミド(15a0370m9)を得る。収率
84%。m p 97〜100℃ 元素分析: C3+l1sNsO+s・0.5H20と
して 計算値(%): C52,24、H7,07、H5,9
0実測値(%) : C52,20、H6,98、Na
、04他のアシル化剤を使用し、上記と同様に反応を行
って、第4表に示す化合物(15b−15c)を得る。
a)ベンゾイルクロリドを使用。
b)n−プロピルイソシアネートを使用。
実施例11
0−[(5−アセタミド−3,5−ジデオキシ−(また
はβ)−D−グリセロ−〇−ガラクトー2−ノニュロピ
ラノソン#)−2−イル]−N−アセチルーL−セリン
・n−へキシルアミド(16a)の製造ニー 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オ不−1−]−N−アセチルーL−セリン・n−
へキシルアミド(15a) (370mg; 0゜53
ミリモル)をメタノール(15m(2)に溶かし、N−
NaN−Na0H(5を加え、室温で放置する。アンバ
ーライ)CG−50を加え、室温で15分撹拌し、反応
混合物をセライト上で濾過する。濾液を減圧濃縮し、残
渣をLH−20カラムクロマトグラフイー(溶離剤:1
7%水−メタノール)で分離し、O−[(5−アセタミ
ド−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)−D−グリセ
ロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシル酸)−2−
イル]−N−7セチルーL−セリン・n−へキシルアミ
ド(16a)(140mg)を得る。収率48%。m
p 195〜205°C0元素分析:C2□H3I N
30.、−1.5・H20として 計算値(%) : C48,17、H7,72、H7,
66実測値(%) : C48,56、H7,26、H
7,75マススペクトルm/Z=544 (M+Na)
”同様の脱保護条件により、第5表に示す化合物(16
b−16c)を得る。
はβ)−D−グリセロ−〇−ガラクトー2−ノニュロピ
ラノソン#)−2−イル]−N−アセチルーL−セリン
・n−へキシルアミド(16a)の製造ニー 0−[メチル(5−アセタミド−4,7,8,9−テト
ラ−O−アセチル−3,5−ジデオキシ−α(またはβ
)−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノ
シル)オ不−1−]−N−アセチルーL−セリン・n−
へキシルアミド(15a) (370mg; 0゜53
ミリモル)をメタノール(15m(2)に溶かし、N−
NaN−Na0H(5を加え、室温で放置する。アンバ
ーライ)CG−50を加え、室温で15分撹拌し、反応
混合物をセライト上で濾過する。濾液を減圧濃縮し、残
渣をLH−20カラムクロマトグラフイー(溶離剤:1
7%水−メタノール)で分離し、O−[(5−アセタミ
ド−3,5−ジデオキシ−α(またはβ)−D−グリセ
ロ−D−ガラクト−2−ノニュロピラノシル酸)−2−
イル]−N−7セチルーL−セリン・n−へキシルアミ
ド(16a)(140mg)を得る。収率48%。m
p 195〜205°C0元素分析:C2□H3I N
30.、−1.5・H20として 計算値(%) : C48,17、H7,72、H7,
66実測値(%) : C48,56、H7,26、H
7,75マススペクトルm/Z=544 (M+Na)
”同様の脱保護条件により、第5表に示す化合物(16
b−16c)を得る。
第5表
a ) LH−20カラムクロマトグラフイーて分離。
実施例12
pJ−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3,4゜6−
トリー〇−アセチルー2−アジド−2−デオキシ−a−
D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシル
アミド(18)の製造ニーエチル−3,4,6−トリー
〇−アセチルー2−アジド−2−デオキシ−1−チオー
β−D−ガラクトピラノシド(17)を文献記載の方法
[H,Paulsenら: Liebigs Ann、
Chem、、 1988.75]によって合皮する。
トリー〇−アセチルー2−アジド−2−デオキシ−a−
D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシル
アミド(18)の製造ニーエチル−3,4,6−トリー
〇−アセチルー2−アジド−2−デオキシ−1−チオー
β−D−ガラクトピラノシド(17)を文献記載の方法
[H,Paulsenら: Liebigs Ann、
Chem、、 1988.75]によって合皮する。
エチル−3,4,6−1−ソー0−アセチル−2−アジ
ド−2−デオキシ−1−チオーβ−D−ガラクトピラノ
シド(17) (1,6h ; 4.40ミリモル)お
よびN−ベンジルオキシカルボニル−L−セリン・n−
へキシルアミド(11) (1,559; 5.30ミ
リモル)をジクロロメタン(65m(2)およびトルエ
ン(35m(2)に溶かし、3Aモレキユラーシープを
加え、室温で15分撹拌する。反応混合物を5℃に冷却
し、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフルオロ
メタンスルホネート[J、 Chem、 Soc、、
PerkinTrans II 、 1982.156
9に記載された方法により調製する。] (2,279
)を加え、冷却槽を外して2425時間撹拌する。反応
混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮し、得られる粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジク
ロロメタン/酢酸エチル−4/l容量)で分離し、N−
ベンジルオキシカルボニル−0−(3,4,6−トリー
O−アセチルー2−アジド−2−デオキシ−σ−D−ガ
ラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド
(18) (1,08g)を得る。収率39%。mp7
4〜77°C0 元素分析: C2s Hs s N s O、、・0.
1−H20として 計算値(%) : C54,64、H6,51,NIo
、99実測値(%) : C54,34、H6,37、
N11.05実施例13 N−ベンジルオキシカルボニル−0−(3,4゜6−ト
リー〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ
−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へ
キシルアミド(19)の製造ニーN−ベンジルオキシカ
ルボニル−0−(3,4゜6−トリー〇−アセチルー2
−アジド−2−デオキシ−σ−〇−ガラクトピラノシル
)−L−セリン”n−へキシルアミド(18) (48
0mg; 0.フロミリモル)をピリジン(5mOおよ
び水(0,5m(2)に溶かし、水冷下に硫化水素ガス
を2時間導入し、室温で3日間放置する。反応混合物を
減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−水に分配して抽出
する。
ド−2−デオキシ−1−チオーβ−D−ガラクトピラノ
シド(17) (1,6h ; 4.40ミリモル)お
よびN−ベンジルオキシカルボニル−L−セリン・n−
へキシルアミド(11) (1,559; 5.30ミ
リモル)をジクロロメタン(65m(2)およびトルエ
ン(35m(2)に溶かし、3Aモレキユラーシープを
加え、室温で15分撹拌する。反応混合物を5℃に冷却
し、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフルオロ
メタンスルホネート[J、 Chem、 Soc、、
PerkinTrans II 、 1982.156
9に記載された方法により調製する。] (2,279
)を加え、冷却槽を外して2425時間撹拌する。反応
混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮し、得られる粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジク
ロロメタン/酢酸エチル−4/l容量)で分離し、N−
ベンジルオキシカルボニル−0−(3,4,6−トリー
O−アセチルー2−アジド−2−デオキシ−σ−D−ガ
ラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド
(18) (1,08g)を得る。収率39%。mp7
4〜77°C0 元素分析: C2s Hs s N s O、、・0.
1−H20として 計算値(%) : C54,64、H6,51,NIo
、99実測値(%) : C54,34、H6,37、
N11.05実施例13 N−ベンジルオキシカルボニル−0−(3,4゜6−ト
リー〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ
−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へ
キシルアミド(19)の製造ニーN−ベンジルオキシカ
ルボニル−0−(3,4゜6−トリー〇−アセチルー2
−アジド−2−デオキシ−σ−〇−ガラクトピラノシル
)−L−セリン”n−へキシルアミド(18) (48
0mg; 0.フロミリモル)をピリジン(5mOおよ
び水(0,5m(2)に溶かし、水冷下に硫化水素ガス
を2時間導入し、室温で3日間放置する。反応混合物を
減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン−水に分配して抽出
する。
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、得られたアミノ体の
ジクロロメタン溶液を濾過し、濾液にピリジン(0,5
+x(2)および無水酢酸(0,1mff)を加え、終
夜放置する。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチ
ル−水に分配し、有機層を分取し、乾燥する。溶媒を減
圧留去し、粗生成物をエーテルで洗い、これをさらにシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチ
ル)で精製し、N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(
3,4,6−トリー〇〜アセチルー2−アセチルアミノ
−2−デオキシ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−
セリン・n−へキシルアミド(19) (370■)を
得る。
ジクロロメタン溶液を濾過し、濾液にピリジン(0,5
+x(2)および無水酢酸(0,1mff)を加え、終
夜放置する。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチ
ル−水に分配し、有機層を分取し、乾燥する。溶媒を減
圧留去し、粗生成物をエーテルで洗い、これをさらにシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチ
ル)で精製し、N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(
3,4,6−トリー〇〜アセチルー2−アセチルアミノ
−2−デオキシ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−
セリン・n−へキシルアミド(19) (370■)を
得る。
収率75%。m p 135〜138°C0この物質は
、そのアノメリック水素がNMRでδ4.87 (d、
J= 4 Hz)であるところから、σ−アノマーで
あることが理解出来る。
、そのアノメリック水素がNMRでδ4.87 (d、
J= 4 Hz)であるところから、σ−アノマーで
あることが理解出来る。
元素分析: Cs r H43N i 012・0.5
・H20として 計算値(%): C56,52、H6,73、H6,3
8実測値(%) : C56,45、H6,81、H6
,40実施例14 N−(1−ヘキサノイル)−0−(3,4,6−トリー
〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ−α
−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(20)の製造ニーN−ベンジルオキシカルボ
ニル−〇−(3,4゜6−トリー〇−アセチルー2−ア
セチルアミノ−2−デオキシ−a−D−ガラクトピラノ
シル)L−セリン・n−へキシルアミド(19) (4
50m9; 0゜69ミリモル)をメタノール(40m
Q)に溶かし、10%パラジウム炭素を加え、水素ガス
を導入する。
・H20として 計算値(%): C56,52、H6,73、H6,3
8実測値(%) : C56,45、H6,81、H6
,40実施例14 N−(1−ヘキサノイル)−0−(3,4,6−トリー
〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ−α
−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(20)の製造ニーN−ベンジルオキシカルボ
ニル−〇−(3,4゜6−トリー〇−アセチルー2−ア
セチルアミノ−2−デオキシ−a−D−ガラクトピラノ
シル)L−セリン・n−へキシルアミド(19) (4
50m9; 0゜69ミリモル)をメタノール(40m
Q)に溶かし、10%パラジウム炭素を加え、水素ガス
を導入する。
反応混合物をセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮する
。粗製のアミノ体を精製することなくテトラヒドロフラ
ン(lO−)に溶かし、0℃に冷却し、酢酸ナトリウム
(0,609)および水(2−)を加える。次いでn−
ヘキサノイルクロリド(0,149)を加え、室温で2
時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロ
ロメタンおよび飽和重曹水に分配し、抽出する。有機層
を乾燥後、溶媒を減圧留去し、粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル)で分離
し、N−(1−ヘキサノイル)−0−(3,4,6−1
−リー〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキ
シ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(20) (300mg)を得る。
。粗製のアミノ体を精製することなくテトラヒドロフラ
ン(lO−)に溶かし、0℃に冷却し、酢酸ナトリウム
(0,609)および水(2−)を加える。次いでn−
ヘキサノイルクロリド(0,149)を加え、室温で2
時間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロ
ロメタンおよび飽和重曹水に分配し、抽出する。有機層
を乾燥後、溶媒を減圧留去し、粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル)で分離
し、N−(1−ヘキサノイル)−0−(3,4,6−1
−リー〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキ
シ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(20) (300mg)を得る。
収率71%。m p 135〜136°C0元素分析:
C21H47N s O+ +・0.2H,Oとして
計算値(%) : C56,42、H7,74、H6,
81実測値(%) : C56,25、H7,90、H
6,88実施例15 N−(1−ヘキサノイル)−0−(2−アセチルアミノ
−2−デオキシ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−
セリン・n−へキシルアミド(21)の製造ニー N−(1−ヘキサノイル)−0−(3,4,6−トリー
〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ−σ
−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(20) (170mg; 0.28ミリモル
)をメタノール(3−)に溶かし、18%アンモニア−
メタノール溶液5滴を加え、2時間撹拌する。さらに同
溶液10滴を添加して、終夜放置する。反応混合物を減
圧濃縮し、粗生成物をエーテルで洗い、N−(1−ヘキ
サノイル)−〇−(2−アセチルアミノ−2−デオキシ
−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へ
キシルアミド(21) (91mg)を得る。収率67
%。mp258〜261”Oo 元素分析: Cx5HalNsOs’H20として計算
値(%) : C54,63、H8,57、H8,31
実測値(%) : C54,46、H8,56、H8,
25実施例16 0−(2−アセチルアミノ−2−デオキシ−α−D−ガ
ラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド
(22) : N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3,4゜6−ト
リー〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ
−a−D−ガラクトピラノシル)−L−セリフ −n−
ヘキシルアミド(19) (108mg; 0゜17ミ
リモル)をメタノール(2mQ)に溶かし、10%パラ
ジウム炭素存在下に30分水素添加を行う。
C21H47N s O+ +・0.2H,Oとして
計算値(%) : C56,42、H7,74、H6,
81実測値(%) : C56,25、H7,90、H
6,88実施例15 N−(1−ヘキサノイル)−0−(2−アセチルアミノ
−2−デオキシ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−
セリン・n−へキシルアミド(21)の製造ニー N−(1−ヘキサノイル)−0−(3,4,6−トリー
〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ−σ
−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(20) (170mg; 0.28ミリモル
)をメタノール(3−)に溶かし、18%アンモニア−
メタノール溶液5滴を加え、2時間撹拌する。さらに同
溶液10滴を添加して、終夜放置する。反応混合物を減
圧濃縮し、粗生成物をエーテルで洗い、N−(1−ヘキ
サノイル)−〇−(2−アセチルアミノ−2−デオキシ
−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へ
キシルアミド(21) (91mg)を得る。収率67
%。mp258〜261”Oo 元素分析: Cx5HalNsOs’H20として計算
値(%) : C54,63、H8,57、H8,31
実測値(%) : C54,46、H8,56、H8,
25実施例16 0−(2−アセチルアミノ−2−デオキシ−α−D−ガ
ラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド
(22) : N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3,4゜6−ト
リー〇−アセチルー2−アセチルアミノ−2−デオキシ
−a−D−ガラクトピラノシル)−L−セリフ −n−
ヘキシルアミド(19) (108mg; 0゜17ミ
リモル)をメタノール(2mQ)に溶かし、10%パラ
ジウム炭素存在下に30分水素添加を行う。
反応混合物をセライト上で濾過し、濾液を減圧濃縮し、
生成する粗製のアミノ体をメタノールに溶かし、18%
アンモニア−メタノール溶液3滴を加え、終夜放置する
。反応混合物を減圧濃縮し、粗生成物をエタノールおよ
びエーテルで洗い、0(2−アセチルアミノ−2−デオ
キシ−α−Dガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(22) (30u)を得る。収率45
%。m p 157〜162°C0 元素分析: C+ y Hs r N s O7・0.
8H,Oとして計算値(%) : C50,68、H7
,91、N 10.43実測値(%) : C50,9
2、H8,13、N 10.41実施例17 ’pJ−ベンジルオキシカルボニル−〇−(2−7ジド
ー2−デオキシ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−
セリン・n−へキシルアミド(23)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3,4゜6−ト
リーO−アセチルー9−ア・シト−9−、?すキシーa
−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(18) (1,899; 2.97ミリモル
)をメタノール(3に4)に溶かし、1111%アンモ
ニア−メタノール(lTRα)を加え、終夜放置する。
生成する粗製のアミノ体をメタノールに溶かし、18%
アンモニア−メタノール溶液3滴を加え、終夜放置する
。反応混合物を減圧濃縮し、粗生成物をエタノールおよ
びエーテルで洗い、0(2−アセチルアミノ−2−デオ
キシ−α−Dガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(22) (30u)を得る。収率45
%。m p 157〜162°C0 元素分析: C+ y Hs r N s O7・0.
8H,Oとして計算値(%) : C50,68、H7
,91、N 10.43実測値(%) : C50,9
2、H8,13、N 10.41実施例17 ’pJ−ベンジルオキシカルボニル−〇−(2−7ジド
ー2−デオキシ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−
セリン・n−へキシルアミド(23)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3,4゜6−ト
リーO−アセチルー9−ア・シト−9−、?すキシーa
−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシ
ルアミド(18) (1,899; 2.97ミリモル
)をメタノール(3に4)に溶かし、1111%アンモ
ニア−メタノール(lTRα)を加え、終夜放置する。
反応混合物を濾過し、粗生成物をエタノールで洗い、N
−ベンジルオキシカルボニル−〇 −(2−アジド−2
−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリ
ン・n−へキシルアミド(23)(1,45119)を
得る。収率96%。mp182〜184℃。
−ベンジルオキシカルボニル−〇 −(2−アジド−2
−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリ
ン・n−へキシルアミド(23)(1,45119)を
得る。収率96%。mp182〜184℃。
元素分析: C23Hs s N s Oaとして計算
値(%): C54,21,H6,92、N13.74
実測値(%’) : C54,05、H6,76、N1
3.58実施例18 N−ベンジルオキシカルボニル− ジド−4.6.0−ベンジリデン−2−デオキシ−a−
D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシル
アミド(24)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(2−アジド−2
−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリ
ン・n−へキシルアミド(23) (50919 ;
l 、00ミリモル)をアセトニトリル(20μQ)に
溶かし、ベンズアルデヒドジメチルアセクール(457
rRg; 3.00ミリモル)およびアンバーリスト1
5 (40mg)を室温で加え、35分撹拌する。反
応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジクロロ
メタン/酢酸エチル−4/1容量)で分離し、N−ベン
ジルオキシカルボニル−〇−(2−アジド−4.6.0
−ベンジリデン−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラ
ノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド(24)
(310mg)を得る。収率52%。mp177〜18
0°C0 元素分析:C,。H 3 1 N SO2として計算値
(%) : C60.29、H6.58、N11.72
実測値(%) : C60.33、H6.53、N11
.62実施例19 N−ベンジルオキシカルボニル−o− (3−。
値(%): C54,21,H6,92、N13.74
実測値(%’) : C54,05、H6,76、N1
3.58実施例18 N−ベンジルオキシカルボニル− ジド−4.6.0−ベンジリデン−2−デオキシ−a−
D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシル
アミド(24)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(2−アジド−2
−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリ
ン・n−へキシルアミド(23) (50919 ;
l 、00ミリモル)をアセトニトリル(20μQ)に
溶かし、ベンズアルデヒドジメチルアセクール(457
rRg; 3.00ミリモル)およびアンバーリスト1
5 (40mg)を室温で加え、35分撹拌する。反
応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジクロロ
メタン/酢酸エチル−4/1容量)で分離し、N−ベン
ジルオキシカルボニル−〇−(2−アジド−4.6.0
−ベンジリデン−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラ
ノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド(24)
(310mg)を得る。収率52%。mp177〜18
0°C0 元素分析:C,。H 3 1 N SO2として計算値
(%) : C60.29、H6.58、N11.72
実測値(%) : C60.33、H6.53、N11
.62実施例19 N−ベンジルオキシカルボニル−o− (3−。
(2.3.4.6−チトラーOーアセチルーβ−D−ガ
ラクトピラノシル)−2−アジド−4.6.0−ベンジ
リデン−2−デオキシ−a−D−ガラクトピアノシル)
−L−セリン・n−へキシルアミド(26)の製造ニー 2、3.4.6−チトラーOーアセチルーa−D−ガラ
クトピラノシルトリクロロアセトイミゾ−1− (25
)を文献記載の方法[Liebigs Ann. Ch
em.。
ラクトピラノシル)−2−アジド−4.6.0−ベンジ
リデン−2−デオキシ−a−D−ガラクトピアノシル)
−L−セリン・n−へキシルアミド(26)の製造ニー 2、3.4.6−チトラーOーアセチルーa−D−ガラ
クトピラノシルトリクロロアセトイミゾ−1− (25
)を文献記載の方法[Liebigs Ann. Ch
em.。
U迦, 1249]によって合皮する。
N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(2−アジド−4
.6.0−ベンジリデン−2−デオキシ−α−D−ガラ
クトピラノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド(
24) (598m9; 1.00ミリモル)および2
,3,4.6−チトラーOーアセチルーα−D−ガラク
トピラノシルトリクロロアセトイミデート(25) (
740111g; 1.50ミリモル)をジクロロメタ
ン(12+112)に溶かし、3Aモレキユラーシーブ
を加え、0〜5°C″′clO分撹拌する。次いでトリ
メチルシリルトリフレート(18μa)を加え、1時間
撹拌する。さらにトリメチルシリルトリ7レート(20
μQ)を加え、室温で30分撹拌する。反応混合物にト
リエチルアミン3滴と水を加え、抽出する。
.6.0−ベンジリデン−2−デオキシ−α−D−ガラ
クトピラノシル)−L−セリン・n−へキシルアミド(
24) (598m9; 1.00ミリモル)および2
,3,4.6−チトラーOーアセチルーα−D−ガラク
トピラノシルトリクロロアセトイミデート(25) (
740111g; 1.50ミリモル)をジクロロメタ
ン(12+112)に溶かし、3Aモレキユラーシーブ
を加え、0〜5°C″′clO分撹拌する。次いでトリ
メチルシリルトリフレート(18μa)を加え、1時間
撹拌する。さらにトリメチルシリルトリ7レート(20
μQ)を加え、室温で30分撹拌する。反応混合物にト
リエチルアミン3滴と水を加え、抽出する。
媒を減圧留去する。粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶離剤ニジクロロメタン/酢酸エチル−
4/l容量)で分離し、N−ベンジルオキシカルボニル
− 6−テトラ−0−アセチルーβ−D−ガラクトピラノシ
ル)−2−アジド−4.6.0−ベンジリデン−2−デ
オキシ−σ−〇−ガラクトピアノシル)−L−セリン’
n−へキシルアミド(26X480mg)をアモルファ
ス状の固体として得る。収率51%。
トグラフィー(溶離剤ニジクロロメタン/酢酸エチル−
4/l容量)で分離し、N−ベンジルオキシカルボニル
− 6−テトラ−0−アセチルーβ−D−ガラクトピラノシ
ル)−2−アジド−4.6.0−ベンジリデン−2−デ
オキシ−σ−〇−ガラクトピアノシル)−L−セリン’
n−へキシルアミド(26X480mg)をアモルファ
ス状の固体として得る。収率51%。
実施例2O
N−ベンジルオキシカルボニル−〇− (3−0−(2
.3.4.6−チトラーOーアセチルーβ−D−ガラク
トピラノシル)−2−アジド−4.6−ジーO−アセチ
ル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L
−セリン・n−へキシルアミド(27)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇− (3−0−(2
,3,4.6−チトラーOーアセチルーβ−D−ガラク
トピラノシル)−2−アジド−4.6.0トビアノシル
)−L−セリン・n−へキシルアミド(26) (1,
26g; 1.36ミリモル)をジクロロメタン(63
mQ)に溶かし、−5°Cで10%水−トリフルオロ酢
酸(3,b++ff)を加え、室温で4.5時間撹拌し
、終夜放置する。反応混合物に飽和重曹水およびジクロ
ロメタンを加えて分液する。有機層は硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗製の脱ベンジリデン体
をピリジン(10+++(2)に溶かし、無水酢酸(1
m(2)を加え、終夜撹拌する。反応混合物を減圧濃縮
し、飽和重曹水およびジクロロメタンを加え、抽出する
。有機層を乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗生放物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジクロロ
メタン/酢酸エチル−4/l容量)で分離し、N−ベン
ジルオキシカルボニル−〇−(3−0−(2,3,4,
6テトラーO−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル
)−2−アジド−4,6−ジー0−アセチル−2−デオ
キシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n
−ヘキシルアミド(2701,3h)をアモルファス状
の固体として得る。収率98%。
.3.4.6−チトラーOーアセチルーβ−D−ガラク
トピラノシル)−2−アジド−4.6−ジーO−アセチ
ル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L
−セリン・n−へキシルアミド(27)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇− (3−0−(2
,3,4.6−チトラーOーアセチルーβ−D−ガラク
トピラノシル)−2−アジド−4.6.0トビアノシル
)−L−セリン・n−へキシルアミド(26) (1,
26g; 1.36ミリモル)をジクロロメタン(63
mQ)に溶かし、−5°Cで10%水−トリフルオロ酢
酸(3,b++ff)を加え、室温で4.5時間撹拌し
、終夜放置する。反応混合物に飽和重曹水およびジクロ
ロメタンを加えて分液する。有機層は硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗製の脱ベンジリデン体
をピリジン(10+++(2)に溶かし、無水酢酸(1
m(2)を加え、終夜撹拌する。反応混合物を減圧濃縮
し、飽和重曹水およびジクロロメタンを加え、抽出する
。有機層を乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗生放物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤ニジクロロ
メタン/酢酸エチル−4/l容量)で分離し、N−ベン
ジルオキシカルボニル−〇−(3−0−(2,3,4,
6テトラーO−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル
)−2−アジド−4,6−ジー0−アセチル−2−デオ
キシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n
−ヘキシルアミド(2701,3h)をアモルファス状
の固体として得る。収率98%。
実施例21
N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3−0−(2,
3,4,6−チトラーO−アセチル−β−り一ガラクト
ビラノシル)−2−アセチルアミノ−4,6−ジーO−
アセチル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル
)−L−セリン・n−へキシルアミド(28)の製造ニ
ー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3−0(2,3
,4,6−チトラーO−アセチルーβ−D−ガラクトピ
ラノシル)−2−アジド−4,6−ジー0−アセチル−
2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セ
リン・n−へキシルアミド(27) (580+++g
; 0.63ミリモル)をピリジン(611(2)およ
び水(0,5mQ)に溶かし、水冷下硫化水素ガスを1
時間導入する。反応混合物を密閉して終夜放置する。黒
赤色反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタンおよび硫
酸ナトリウムを加える。
3,4,6−チトラーO−アセチル−β−り一ガラクト
ビラノシル)−2−アセチルアミノ−4,6−ジーO−
アセチル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル
)−L−セリン・n−へキシルアミド(28)の製造ニ
ー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3−0(2,3
,4,6−チトラーO−アセチルーβ−D−ガラクトピ
ラノシル)−2−アジド−4,6−ジー0−アセチル−
2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L−セ
リン・n−へキシルアミド(27) (580+++g
; 0.63ミリモル)をピリジン(611(2)およ
び水(0,5mQ)に溶かし、水冷下硫化水素ガスを1
時間導入する。反応混合物を密閉して終夜放置する。黒
赤色反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタンおよび硫
酸ナトリウムを加える。
溶媒を減圧留去し、粗製のアミノ体をピリジン(2iI
2)および無水酢酸(0,hff)に溶かし、終夜放置
する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタンおよび
飽和重曹水を加え、抽出する。有機層を乾燥後、溶媒を
減圧留去し、粗生放物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶離剤ニジクロロメタン/酢酸エチル−1/l
容量、次いで酢酸エチル)で分離し、N−ベンジルオキ
シカルボニル−O−(3−○−(2,3,4,6−チト
ラー○−アセチルーβ−D−ガラクトピラノシル)−2
−アセチルアミノ−4,6−ジー0−アセチル−2−デ
オキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−Lセリン・n
−へキシルアミド(28) (500mg)をアモルフ
ァス状の固体として得る。収率84%。
2)および無水酢酸(0,hff)に溶かし、終夜放置
する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタンおよび
飽和重曹水を加え、抽出する。有機層を乾燥後、溶媒を
減圧留去し、粗生放物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶離剤ニジクロロメタン/酢酸エチル−1/l
容量、次いで酢酸エチル)で分離し、N−ベンジルオキ
シカルボニル−O−(3−○−(2,3,4,6−チト
ラー○−アセチルーβ−D−ガラクトピラノシル)−2
−アセチルアミノ−4,6−ジー0−アセチル−2−デ
オキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−Lセリン・n
−へキシルアミド(28) (500mg)をアモルフ
ァス状の固体として得る。収率84%。
実施例22
N−(1−ヘキサノイル)−〇−(3−0−(2゜3.
4.6−テトラ−0−アセチルーβ−D−ガラクトピラ
ノシル)−2−アセチルアミノ−4,6ジーO−アセチ
ル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L
−セリン・n−ヘキシルアミド(29)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3−0−(2,
3,4,6−チトラーO−アセチルーβ−D−ガラクト
ピラノシル)−2−アセチルアミノ−4,6−ジー0−
アセチル−2−デオキシ−αD−ガラクトピラノシル)
−L−セリン・n−へキシルアミド(28) (500
119; 0.53ミリモル)を酢酸1滴を含むメタノ
ール(35n+Q)に溶かし、10%パラジウム炭素を
加え、2時間室温で水素添加を行う。反応混合物をセラ
イト上で濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗製のアミノ体
をテトラヒドロフラン(lbQ)に溶かし、酢酸ナトリ
ウム(450mg)の水溶液(2+lα)、次いでヘキ
サノイルクロリド(0,111Q)を加え、室温で3時
間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタン
および飽和重曹水を加え、抽出する。抽出液を硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗生放物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル
)で分離し、N−(1−ヘキサノイル)−〇−(3−0
−(2,3,4,6−チトラーO−アセチルーβ−D−
ガラクトピラノシル)−2−アセチルアミノ−4,6−
ジー0−アセチル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピ
ラノシル)−L−セリン・・n−へキシルアミドG29
) (290mg)をアモルファス状の固体として得る
。収率61%。
4.6−テトラ−0−アセチルーβ−D−ガラクトピラ
ノシル)−2−アセチルアミノ−4,6ジーO−アセチ
ル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノシル)−L
−セリン・n−ヘキシルアミド(29)の製造ニー N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3−0−(2,
3,4,6−チトラーO−アセチルーβ−D−ガラクト
ピラノシル)−2−アセチルアミノ−4,6−ジー0−
アセチル−2−デオキシ−αD−ガラクトピラノシル)
−L−セリン・n−へキシルアミド(28) (500
119; 0.53ミリモル)を酢酸1滴を含むメタノ
ール(35n+Q)に溶かし、10%パラジウム炭素を
加え、2時間室温で水素添加を行う。反応混合物をセラ
イト上で濾過し、濾液を減圧濃縮する。粗製のアミノ体
をテトラヒドロフラン(lbQ)に溶かし、酢酸ナトリ
ウム(450mg)の水溶液(2+lα)、次いでヘキ
サノイルクロリド(0,111Q)を加え、室温で3時
間撹拌する。反応混合物を減圧濃縮し、ジクロロメタン
および飽和重曹水を加え、抽出する。抽出液を硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。粗生放物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル
)で分離し、N−(1−ヘキサノイル)−〇−(3−0
−(2,3,4,6−チトラーO−アセチルーβ−D−
ガラクトピラノシル)−2−アセチルアミノ−4,6−
ジー0−アセチル−2−デオキシ−α−D−ガラクトピ
ラノシル)−L−セリン・・n−へキシルアミドG29
) (290mg)をアモルファス状の固体として得る
。収率61%。
実施例23
N−(1−ヘキサノイル)−0−(3−0−β−D−ガ
ラクトピラノシル)−2−アセチルアミノ−2−デオキ
シ−a−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(30)の製造N−(1−ヘキサノイル
)−0−(3−〇−(2゜3.4.6−チトラーO−ア
セチルーβ−D−ガラクトピラノシル)−2−アセチル
アミノ−4,6ジー0−アセチル−2−デオキシ−α−
D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシル
アミド(29) (240119; 0.26ミリモル
)をメタノール(5affi)に溶かし、18%アンモ
ニア−メタノール溶液10滴を加え、室温で終夜放置す
る。析出する生成物を濾過し、メタノールで洗い、N−
(1−ヘキサノイル)−0−(3−0−β−D−ガラク
トピラノシル)−2−アセチルアミノ−2−デオキシ−
α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−ヘキ
シルアミド(30) (120mg)を得る。
ラクトピラノシル)−2−アセチルアミノ−2−デオキ
シ−a−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(30)の製造N−(1−ヘキサノイル
)−0−(3−〇−(2゜3.4.6−チトラーO−ア
セチルーβ−D−ガラクトピラノシル)−2−アセチル
アミノ−4,6ジー0−アセチル−2−デオキシ−α−
D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−へキシル
アミド(29) (240119; 0.26ミリモル
)をメタノール(5affi)に溶かし、18%アンモ
ニア−メタノール溶液10滴を加え、室温で終夜放置す
る。析出する生成物を濾過し、メタノールで洗い、N−
(1−ヘキサノイル)−0−(3−0−β−D−ガラク
トピラノシル)−2−アセチルアミノ−2−デオキシ−
α−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−ヘキ
シルアミド(30) (120mg)を得る。
収率71%。[σ]p +69.8±2.3 (c =
0.475. DMSo)。
0.475. DMSo)。
マススペクトルm/Z=652(M+H)”元素分析:
C21Hs s N s OIs・l/4H20とし
て計算値(%) : C53,08、H8,22、H6
,40実測値(%) : C52,87、H8,28、
H6,61実施例24 o−(3−o−β−D−ガラクトピラノシル)−2−ア
セチルアミノ−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノ
シル)−L−セリン・n−へキシルアミド(31)の製
造: N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3−。
C21Hs s N s OIs・l/4H20とし
て計算値(%) : C53,08、H8,22、H6
,40実測値(%) : C52,87、H8,28、
H6,61実施例24 o−(3−o−β−D−ガラクトピラノシル)−2−ア
セチルアミノ−2−デオキシ−α−D−ガラクトピラノ
シル)−L−セリン・n−へキシルアミド(31)の製
造: N−ベンジルオキシカルボニル−〇−(3−。
−C2,3,4,6−チトラーO−アセチルーβ−D−
ガラクトビラノシル)−2−アセチルアミノ4.6−ジ
ーO−アセチル−2−デオキシ−σD−ガラクトピラノ
シル)−L−セリン・n−へキシルアミド(28) (
210u ; 0−22ミリモル)をメタノール(5−
)に溶かし、10%パラジウム炭素を加え、室温で3時
間水素添加を行う。反応混合物をセライト上で濾過し、
濾液に18%アンモニア−メタノール溶液10滴を加え
、室温で終夜放置する。反応混合物を濾過し、濾液を減
圧濃縮する。
ガラクトビラノシル)−2−アセチルアミノ4.6−ジ
ーO−アセチル−2−デオキシ−σD−ガラクトピラノ
シル)−L−セリン・n−へキシルアミド(28) (
210u ; 0−22ミリモル)をメタノール(5−
)に溶かし、10%パラジウム炭素を加え、室温で3時
間水素添加を行う。反応混合物をセライト上で濾過し、
濾液に18%アンモニア−メタノール溶液10滴を加え
、室温で終夜放置する。反応混合物を濾過し、濾液を減
圧濃縮する。
粗生成物をエーテルで洗い、0−(3−0−β−D−ガ
ラクトピラノシル)−2−アセチルアミノ−2−デオキ
シ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(31)を得る。
ラクトピラノシル)−2−アセチルアミノ−2−デオキ
シ−σ−D−ガラクトピラノシル)−L−セリン・n−
へキシルアミド(31)を得る。
収率24%。m p 154〜160℃。
元素分析:CzsH4sNsot・0.3HzOとして
計算値(%) : C49,42、H7,80、H7,
52実測値(%) : C49,61%H7,64、H
7,13実施PI7 NIIZ 実施例1G 実施例11 実施例12 7 8 実施例13 18 実施例14 実施例15 0 9 1 実施例I6 9 実施例17 8 3 2 3 4 実施例20 実施例21 実施例22 9
計算値(%) : C49,42、H7,80、H7,
52実測値(%) : C49,61%H7,64、H
7,13実施PI7 NIIZ 実施例1G 実施例11 実施例12 7 8 実施例13 18 実施例14 実施例15 0 9 1 実施例I6 9 実施例17 8 3 2 3 4 実施例20 実施例21 実施例22 9
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rはシアル酸残基または3位にガラクトース残
基をもっていてもよいN−アセチルガラクトサミン残基
、R^1は水素、C_1〜C_8アルキル、C_1〜C
_1_2アシル、置換C_1〜C_1_2アシルまたは
N−アルキルカルバモイル、R^2はヒドロキシ、C_
1〜C_5アルコキシ、アミノまたはC_1〜C_8ア
ルキルアミノをそれぞれ表す。) で示される化合物またはその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31409989A JPH03176497A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | セリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31409989A JPH03176497A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | セリン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03176497A true JPH03176497A (ja) | 1991-07-31 |
Family
ID=18049229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31409989A Pending JPH03176497A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | セリン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03176497A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005099338A3 (ja) * | 2003-10-14 | 2005-12-15 | Glycomedics Inc | 新規糖鎖プライマー |
-
1989
- 1989-12-01 JP JP31409989A patent/JPH03176497A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005099338A3 (ja) * | 2003-10-14 | 2005-12-15 | Glycomedics Inc | 新規糖鎖プライマー |
JPWO2005099338A1 (ja) * | 2003-10-14 | 2007-08-16 | 株式会社グライコメディクス | 新規糖鎖プライマー |
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